DE19929716B4 - Verfahren zur Vorbereitung eines Aluminiumsubstrats für eine lithographische Druckplatte sowie für die Herstellung einer vorsensibilisierten lithographischen Druckplatte - Google Patents
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Classifications
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- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
Abstract
Verfahren
zur Vorbereitung eines Aluminiumsubstrats für eine lithographische Platte
mit folgenden Verfahrensschritten:
a) Aufrauhen der Oberfläche eines Aluminiumsubstrats,
b) Anodisieren,
c) Behandeln mit einer Lösung enthaltend Natriumfluorid, Magnesiumfluorid, Bariumfluorid, Kaliumfluorid, Chromfluorid, Lithiumfluorid oder Manganfluorid unter Bildung eines Partikelprodukts auf der Oberfläche mit einem durchschnittlichen Teilchendurchmesser von höchstens 5 μm und
d) Behandeln der Oberfläche mit Warmwasser und/oder Warmluft.
a) Aufrauhen der Oberfläche eines Aluminiumsubstrats,
b) Anodisieren,
c) Behandeln mit einer Lösung enthaltend Natriumfluorid, Magnesiumfluorid, Bariumfluorid, Kaliumfluorid, Chromfluorid, Lithiumfluorid oder Manganfluorid unter Bildung eines Partikelprodukts auf der Oberfläche mit einem durchschnittlichen Teilchendurchmesser von höchstens 5 μm und
d) Behandeln der Oberfläche mit Warmwasser und/oder Warmluft.
Description
- Hintergrund der Erfindung
- Gebiet der Erfindung
- Die vorliegende Erfindung betrifft Aluminiumsubstrate für lithographische Druckplatten und vorsensibilisierte lithographische Druckplatten. Genauer ausgedrückt betrifft sie ein Aluminiumsubstrat für eine lithographische Druckplatte und eine vorsensibilisierte lithographische Druckplatte, wobei die Aluminiumoberfläche derart modifiziert ist, daß sie eine ausgezeichnete Plattenverschleißfestigkeit, sehr gute farbabweisende Eigenschaften sowie ein hervorragendes Wasseraufnahmevermögen aufweist, so daß Tonen, Korrekturmittelrückstände und Punktbildung bei der Wiederaufnahme des Drucks vermieden werden und eine gute Gradation erzielt wird.
- Eine vorsensibilisierte lithographische Druckplatte (im folgenden als "VS-Platte" bezeichnet), die aus einer Aluminiumplatte mit einer lichtempfindlichen Beschichtung besteht, wird folgendermaßen hergestellt. Die Oberfläche einer Aluminiumplatte wird mittels eines mechanischen Verfahrens wie Bürsten oder Kugelabrieb, durch ein elektrochemisches Verfahren wie elektrolytisches Ätzen oder durch eine Kombination von beiden aufgerauht, so daß Unregelmäßigkeiten in der Oberfläche entstehen.
- Danach wird die Aluminiumplatte wahlweise mit einer wäßrigen Lösung einer Säure oder Lauge geätzt und anschließend, je nach Bedarf, anodisiert und/oder hydrophil gemacht. Daraufhin wird eine lichtempfindliche Schicht auf die Aluminiumplatte aufgetragen.
- Üblicherweise wird diese VS-Platte durch einen lithographischen Film hindurch belichtet, entwickelt, (korrigiert) und gummiert, so daß eine lithographische Platte entsteht. Diese wird in einer Druckmaschine installiert und dient zum Drucken.
- Das obengenannte Aufrauhen und Anodisieren der Oberfläche wird durchgeführt, um die Plattenverschleißfestigkeit und das Wasseraufnahmevermögen zu verbessern. Zu diesem Zweck wurde herkömmlicherweise eine tief- oder grobkörnige Oberfläche geschaffen, zum Beispiel durch eine ziemlich starke Ätzung.
- In diesem Fall bleibt jedoch nach der Entwicklung möglicherweise ein Rückstand, der einen Teil der lichtempfindlichen Schicht enthält, in der bildfreien Fläche (der gekörnten Oberfläche) zurück, was zum Tonen führt. Darüber hinaus könnte eine färbende Substanz wie Farbe in die Vertiefungen des anodischen Oxydationsfilms eindringen und eine Färbung der bildfreien Fläche verursachen. Wenn eine unerwünschte Stelle mit einem Korrekturmittel oder ähnlichem entfernt wird, kommt es häufig vor, daß das Lösungsmittel oder ein anderer Zusatzstoff, die aus dem Korrekturgerät austreten, bewirken, daß der oben erwähnte Rückstand anschwillt und Farbe aufnimmt, was zur Fleckenbildung führt (Korrekturmittelrückstände).
- Um diese Nachteile auszuschalten, sind bisher unterschiedliche Verfahren vorgeschlagen worden. Dazu zählen beispielsweise ein Verfahren, bei dem ein anodisiertes Aluminiumsubstrat in eine Lösung eines Alkalimetallsilicats getaucht wird, wie es in der US-Patentschrift Nr. 3.181.461 beschrieben wird; ein Verfahren, bei dem es mit hydrophiler Polyvinylphosphonsäure grundiert wird, wie in den US-Patentschriften Nr. 3.276.868 und 4.153.461 beschrieben wird; ein Verfahren, bei dem es mit einem Phosphorsäurerest beschichtet, wird, wie in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 49-12903 (1974) offenbart wird; ein Verfahren, bei dem es mit hydrophiler Cellulose grundiert wird, die ein wasserlösliches Metallsalz enthält, wie in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 49-96803 (1974) offenbart wird, sowie ein Verfahren, bei dem es mit einer hydrophilen Schicht versehen wird, die ein Phosphorsäuresalz enthält, wie in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 62-19494 (1987) offenbart wird.
- Allerdings gelingt es mit diesen Verfahren nicht, einen Rückstand vollständig aus der bildfreien Fläche zu entfernen. Folglich verursacht der Rückstand unvermeidlicherweise ein Tonen und erzeugt Korrekturmittelrückstände, wie sie oben beschrieben wurden.
- Außerdem führen die genannten Verfahren, bei denen ein anodisiertes Aluminiumsubstrat mit einer hydrophilen Schicht versehen oder mit einer hydrophilen Substanz grundiert wird, insofern zu keinem befriedigenden Ergebnis, als sie das Anhaften eines lichtempfindlichen Gemischs behindern und eine beträchtliche Verringerung der Plattenverschleißfestigkeit verursachen.
- Die vorläufige japanische Patentveröffentlichung Nr. 5-50779 (1993) offenbart ein Verfahren, bei dem die Vertiefungen eines anodischen Oxydationsfilms mit hydroxylhaltigen anorganischen Partikeln, deren Durchmesser höchstens 0,1 μm beträgt, ausgefüllt werden und ein Film aus anorganischen Partikeln, der sich außerhalb der Vertiefungen (d. h. auf der Oberfläche) befindet, durch Auflösung entfernt wird.
- Jedoch kann mit diesem Verfahren, bei dem anorganische Partikeln nur in den Vertiefungen eines anodischen Oxydationsfilms enthalten sind und ein sich außerhalb der Vertiefungen (d. h. auf der Oberfläche) befindlicher Film aus anorganischen Partikeln mittels Auflösung entfernt wird, ein geringer Teil der an der Oberfläche des anodischen Oxydationsfilms haftenden lichtempfindlichen Schicht nicht vollständig entfernt werden. Demzufolge ist es nicht möglich, Korrekturmittelrückstände sowie Färbung der bildfreien Fläche vollständig zu vermeiden.
- Weiterhin offenbart die vorläufige japanische Patentveröffentlichung Nr. 4-43359 (1992) eine vorsensibilisierte lithographische Platte, bei der eine Metalloberfläche mit einem flüssigen Gemisch beschichtet wird, das ein anorganisches Polymer enthält, welches durch Hydrolyse und Polykondensation einer organischen Metallverbindung gewonnen wird, die über eine organische funktionelle Gruppe sowie eine Gruppe verfügt, die in einer Flüssigkeit Hydrolyse und anschließende Polykondensation durchläuft, und die anschließend mit einer lichtempfindlichen Harzschicht versehen wird.
- Nach diesem Verfahren wird eine Metalloberfläche mit einem flüssigen Gemisch beschichtet, die das obengenannte anorganische Polymer enthält, so daß das anorganische Polymer zum Haften an der Metalloberfläche gebracht wird, während es geliert. Allerdings erweist es sich als schwierig, die Menge der Beschichtung zu kontrollieren, so daß keine Verbesserung der Oberflächengleiteigenschaften sowie des Wasseraufnahmevermögens erzielt wird.
- Darüber hinaus offenbart die vorläufige japanische Patentveröffentlichung Nr. 2-13956 (1990) ein Verfahren, bei dem auf eine Aluminiumplatte eine Schicht wäßrigen kolloiden Siliciumdioxids aufgetragen wird.
- Bei diesem Verfahren haben die Partikeln des wäßrigen kolloiden Siliciumsdioxids jedoch einen Durchmesser von 5 bis 30 μm. Derartig große Partikeln können das Wasseraufnahmevermögen nicht verbessern. Im Gegenteil, die Farbe könnte während des Druckens in die Zwischenräume zwischen den Partikeln eindringen und Flecken erzeugen.
- Zusammenfassung der Erfindung
- Demzufolge besteht ein Ziel der vorliegenden Erfindung darin, ein Aluminiumsubstrat für eine lithographische Platte und eine vorsensibilisierte lithographische Platte zur Verfügung zu stellen, mit dem sich, wenn die lithographische Platte belichtet und entwickelt wird, nicht nur ein Bild mit guter Gradation erzielen läßt, sondern beidem auch kein Bildrückstand in der bildfreien Fläche verbleibt, so daß ein Tonen während des Druckens, eine Färbung der bildfreien Fläche sowie ringförmige Korrekturmittelrückstände aufgrund der Verwendung eines Korrekturmittels vermieden werden. Ein weiteres Ziel besteht darin, ein Aluminiumsubstrat für eine lithographische Platte und eine vorsensibilisierte lithographische Platte zur Verfügung zu stellen, mit dem beim Einsatz der lithographische Platte für Druckzwecke diese eine ausgezeichnete Plattenverschleißfestigkeit, hervorragende farbabweisende Eigenschaften sowie ein gutes Wasseraufnahmevermögen aufweist und keine Oxydationsflecke (d. h. keine Punkte bei Wiederaufnahme des Druckes) erzeugt. Um die genannten Ziele zu erreichen, haben die Autoren umfangreiche Untersuchungen durchgeführt und als Ergebnis die vorliegende Erfindung ausgearbeitet.
- Insbesondere stellt die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur Vorbereitung eines Aluminiumsubstrats für eine lithographische Platte bereit, bei dem die Oberfläche eines Aluminiumsubstrats aufgerauht wird und anschließend anodisiert wird, dann mit einer Lösung, welche Natriumfluorid, Magnesiumfluorid, Bariumfluorid, Kaliumfluorid, Chromfluorid, Lithiumfluorid oder Manganfluorid enthält, unter Bildung eines Partikelprodukts mit einem durchschnittlichen Teilchendurchmesser von höchstens 5 μm und abschließend mit Warmwasser und/oder Warmluft behandelt wird. Vorzugsweise wird dabei nach den Verfahrensschritten a) bis d) eine lichtempfindliche Schicht zur Vorsensibilisierung der lithographischen Platte aufgebracht.
- Unterschiedliche Verfahren zur Behandlung eines Aluminiumsubstrats mit Warmwasser oder ähnlichem sind bekannt. Zum Beispiel offenbart die vorläufige japanische Patentveröffentlichung Nr. 51-34007 (1976) ein Verfahren, bei dem anodisiertes Aluminium geätzt und anschließend mit Warmwasser oder heißem Wasserdampf behandelt wird, und die vorläufige japanische Patentveröffentlichung Nr. 2-8919 (1990) offenbart ein Verfahren, bei dem anodisiertes Aluminium einer Atmosphäre mit einer Temperatur von 50 bis 300°C sowie einem Wasserdampfdruck von mindestens 12 kPa ausgesetzt wird. Dennoch unterscheiden sich beide Verfahren von der vorliegenden Erfindung, bei der eine Oberfläche mit einem darauf gebildeten Partikelprodukt mit Warmwasser behandelt wird.
- Darüber hinaus unterscheidet sich die Oberflächenbehandlung gemäß der vorliegenden Erfindung grundsätzlich von herkömmlich bekannten Verfahren zur Ätzung oder Versiegelung eines anodischen Oxydationsfilms sowie von herkömmlich bekannten Verfahren, bei denen eine Grundierung mit einem chemischen Wirkstoff, einem wasserlöslichen Harz oder ähnlichem vorgenommen wird. Das bedeutet, daß die vorliegende Erfindung ein Verfahren betrifft, bei dem die Oberfläche eines Aluminiumsubstrats mit einem spezifischen Wirkstoff behandelt wird, um das Reaktionsprodukt aus Aluminium und dem Behandlungswirkstoff dazu zu veranlassen, sich auf der Aluminiumoberfläche abzusetzen, wobei der Prozeß seiner Entstehung jedoch unbekannt ist. Die Form dieses Produkts läßt sich mit einem optischen Hochleistungsmikroskop oder einem Rasterelektronenmikroskop erkennen. Wird das Produkt mit einer niedrigen, höchstens 5000fachen Vergrößerung betrachtet, scheint es aus kugelförmigen oder schuppigen Partikeln zu bestehen. Eine Betrachtung mit einer hohen, mindestens 10000fachen Vergrößerung jedoch zeigt, daß einige der Partikeln kugelförmig sind, einige sind eckig und einige weisen eine rissige Oberfläche auf.
- Diese Partikeln sind ungeordnet oder gleichförmig in Form von Vorsprüngen abgelagert, weil sie sich der Struktur der gekörnten Oberfläche anpassen, oder sie bedecken die gesamten Innenflächen der kleinen Vertiefungen, die durch das elektrolytische Polieren entstanden sind.
- Wird eine lichtempfindliche Schicht darauf aufgetragen, dringen diese Partikeln in die lichtempfindliche Schicht ein und verbessern dadurch die Plattenverschleißfestigkeit. Beim Entwickeln wird die lichtempfindliche Schicht gleichmäßig und klar entwickelt, vermutlich weil die Entwicklerlösung sich gut in den Zwischenräumen zwischen den Partikeln verteilt. Auf diese Weise verfügt das entstandene Bild über eine gute Gradation, und die bildfreie Fläche wird nicht durch ein Tonen aufgrund von Entwicklerrückständen beeinträchtigt. Selbst wenn die bildfreie Fläche mit einem Korrekturmittel eingestrichen wird, gibt es trotzdem keinen Rückstand, der aufquillt und Flecken hervorruft. Außerdem wird die Farbe oder die lichtempfindliche Schicht, da dieses Partikelprodukt den anodischen Oxydationsfilm und dessen Vertiefungen abdeckt, nicht von dem anodischen Oxydationsfilm aufgesaugt, und die Farbe oder ähnliches wird daran gehindert, in die Vertiefungen einzudringen, so daß eine Verfärbung der bildfreien Fläche ausgeschlossen wird.
- Eine Wirkung dieses Partikelprodukts besteht darin, daß während des Druckens Feuchtwasser in die Zwischenräume zwischen den Partikeln eindringt und das Wasseraufnahme vermögen verbessert. Dadurch wird es möglich, bei geringem Verbrauch von Feuchtwasser Drucke von hoher Qualität zu erzielen.
- Darüber hinaus wirkt das Partikelprodukt zusätzlich in folgender Weise. Da die mit dem Partikelprodukt bedeckte Oberfläche glatt ist, bleiben Schwammstückchen, die durch das Reiben der Oberfläche mit einem wassergetränkten Schwamm (beispielsweise während des Fahnendrucks) entstehen, kaum an der Oberfläche haften. Außerdem wird durch das Vorhandensein der Partikeln der Reflexionsgrad der Fläche verringert. Das bewirkt eine Schleierfreiheit und sorgt für eine ausgezeichnete Punktreproduzierbarkeit ohne Punktverlust.
- Als Verfahren zur Behandlung eines Aluminiumsubstrats mit einer Fluoridverbindung offenbart die vorläufige japanische Patentveröffentlichung Nr. 47-30405 (1972) ein Verfahren, bei dem die aufgerauhte Oberfläche eines Metalls mit einer wäßrigen Lösung behandelt wird, die ein Fluorid als Hauptbestandteil enthält.
- Dieses Verfahren jedoch eignet sich für eine aufgerauhte, aber nicht anodisierte Metalloberfläche und unterscheidet sich dadurch vom erfindungsgemäßen Verfahren, bei dem ein Partikelprodukt erzeugt und auf den anodischen Oxydationsfilm aufgetragen wird. Da bei dem Verfahren des zuvor erwähnten Patentdokuments keine Partikeln gebildet werden, ist die Wirkung der vorliegenden Erfindung nicht zu erwarten.
- Als Verfahren zur Aufbringung von Partikeln auf einem Aluminiumsubstrat offenbart die vorläufige japanische Patentveröffentlichung Nr. 55-145193 (1980) ein Verfahren, bei dem Substrat auf Metallbasis zur Partikelbildung mit Ammoniumhydrogenfluorid oder Natriumhydrogenfluorid bearbeitet wird und anschließend eine Chromschicht aufgebracht wird. Dieses Verfahren jedoch eignet sich zur stärkeren Haftung einer Chromablagerung an einer Metallbasis und unterscheidet sich vom erfindungsgemäßen Verfahren dadurch, daß die mit Partikeln beschichtete Oberfläche nicht unmittelbar als Substratfläche für eine Druckplatte eingesetzt wird.
- Um das Wasseraufnahmevermögen und die Plattenverschleißfestigkeit während des Drucks zu verbessern, ist es herkömmlicherweise üblich, eine tief- oder grobkörnige Oberfläche zu erzeugen, beispielsweise durch eine starke Stufe von Abrieb oder Ätzung, und die bei diesem Prozeß entstehenden Abriebteilchen zu entfernen. Obwohl von diesem Verfahren eine gewisse vorteilhafte Wirkung erwartet werden kann, kann es häufig dazu kommen, daß durch die scharfen Kanten der gekörnten Oberfläche Farbpartikel festgehalten werden und zu einem Nachdunkeln, zu einer schlechten Ablösbarkeit der lichtempfindlichen Schicht beim Entwickeln sowie zur Fleckenbildung aufgrund von Entwicklerrückständen führen. Demgegenüber stellt die vorliegende Erfindung ein neues Verfahren zur Verfügung, das bisher im Fach völlig unbekannt war und bei dem durch eine bestimmte Oberflächenbehandlung ein Produkt gebildet wird, das auf der gekörnten Oberfläche verbleibt und anschließend Warmwasser und/oder Warmluft ausgesetzt wird. Dieses Partikelprodukt hat sich bei der Verstärkung des Haftvermögens der lichtempfindlichen Schicht, beim Erzielen einer guten Ablösbarkeit der lichtempfindlichen Schicht beim Entwickeln sowie bei der Verbesserung des Wasseraufnahmevermögens beim Drucken als wirksam erwiesen, weil die Partikeln zu einer Vergrößerung der Oberfläche führen und das Feuchtwasser gut in die Zwischenräume zwischen den Partikeln dringt. Auf der Grundlage dieser Erkenntnis wurde die vorliegende Erfindung ausgearbeitet.
- Wird der mit diesem Produkt bedeckte Bereich auf weniger als 30% der Oberfläche reduziert, kann es demzufolge zu einer Abschwächung der erfindungsgemäßen Wirkungen kommen, so daß es schwierig werden kann, ein zufriedenstellendes Aluminiumsubstrat für eine lithographische Platte zu erzielen.
- Wird das erfindungsgemäße Aluminiumsubstrat für eine lithographische Platte zur Herstellung einer vorsensibilisierten lithographischen Platte eingesetzt, kann eine ausgezeichnete Druckplatte hergestellt werden, die dadurch gekennzeichnet ist, daß ein Bild mit einer guten Gradation erzeugt wird, selbst wenn eine hohe Anzahl von Exemplaren gedruckt wird, daß weder ein Tonen der bildfreien Fläche während des Druckens noch eine Punktbildung bei der Wiederaufnahme des Drucks (Oxydationsflecke) zu verzeichnen sind, daß eine ausgezeichnete Plattenverschleißfestigkeit erreicht wird und daß weder Korrekturmittelrückstände noch Flecken um diese herum erzeugt werden.
- Kurze Beschreibung der Abbildungen
- Bei
1 handelt es sich um eine elektronenmikroskopische Aufnahme der Oberfläche eines Aluminiumsubstrats, das vor der erfindungsgemäßen Oberflächenbehandlung einen anodischen Oxydationsfilm aufweist; und - bei
2 handelt es sich um eine elektronenmikroskopische Aufnahme der Oberfläche des Aluminiumsubstrats, das der erfindungsgemäßen Oberflächenbehandlung ausgesetzt wurde. - Ausführliche Beschreibung der bevorzugten Ausführungen
- Im folgenden werden mehrere erfindungsgemäße Ausführungen in gegebener Reihenfolge ausführlich beschrieben.
- Bei der erfindungsgemäß eingesetzten Aluminiumplatte handelt es sich um einen plattenförmigen Körper aus reinem Aluminium, der im wesentlichem aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung besteht, die einen geringen Anteil an Fremdatomen enthält. Zu diesen Fremdatomen zählen Silicium, Eisen, Kupfer, Mangan, Magnesium, Nickel, Zink, Titanium und ähnliches. Die Zusammensetzung der erfindungsgemäß verwendeten Aluminiumplatte ist nicht kritisch, und alle herkömmlicherweise bekannten und herkömmlicherweise eingesetzten Werkstoffe können zweckmäßig genutzt werden. Die Dicke der erfindungsgemäß eingesetzten Aluminiumplatte liegt vorzugsweise im Bereich von etwa 0,1 bis 0,4 mm.
- Vor dem Aufrauhen der Oberfläche wird die Aluminiumplatte entfettet, beispielsweise mit einer oberflächenaktiven Substanz oder einer wäßrigen Alkalilösung, um die Ölbestandteile, die beim Walzen an der Oberfläche haftengeblieben sind, zu entfernen.
- Bei der Anwendung der vorliegenden Erfindung kann zum Aufrauhen der Oberfläche ein mechanisches Verfahren, ein elektrochemisches Verfahren oder eine Kombination aus beiden angewendet werden. Spezifische Beispiele für mechanische Verfahren zur Oberflächenaufrauhung umfassen verschiedene wohlbekannte Techniken wie Bürsten, Kugelabrieb, Sandstrahlen, Schleifen und ähnliches. Ein Beispiel für das elektrochemische Verfahren zur Oberflächenaufrauhung besteht im Anlegen eines Wechselstroms oder Gleichstroms an die Aluminiumplatte, die sich in einem Elektrolyt befindet, der Chlorwasserstoffsäure oder Salpetersäure enthält.
- Vor dem Anodisieren wird die Aluminiumplatte mit der aufgerauhten Oberfläche vorzugsweise einer Laugenätzung unterzogen.
- Zu den für die Laugenätzung einsetzbaren alkalischen Wirkstoffen gehören Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natriumtertiärphosphat, Kaliumtertiärphosphat, Natriumaluminat, Natriumcarbonat, Natriummetasilicat, Natriumorthosilicat, Natriumgluconat und ähnliches. Alle alkalischen Ätzlösungen, die unter Verwendung einer oder mehrerer dieser alkalischen Substanzen hergestellt werden, lassen sich einsetzen.
- Die Konzentration der alkalischen Ätzlösung liegt vorzugsweise im Bereich von 1 bis 60 Masse%, und die Aluminiumplatte wird bei einer Lösungstemperatur von 30 bis 100°C 2 bis 60 Sekunden lang behandelt, bis 0,1 bis 13 g/m2 des Werkstoffs weggeätzt sind. Die Laugenätzung kann durchgeführt werden, indem beispielsweise die Aluminiumplatte in ein Bad der Ätzlösung getaucht wird oder indem die Ätzlösung mit einem Zerstäuber oder einer Düse über die Aluminiumplatte gesprüht wird.
- Nach der oben beschriebenen Laugenätzung wird die Aluminiumplatte nötigenfalls entflockt. Das kann durch Behandlung mit Salpetersäure, Phosphorsäure, Schwefelsäure oder einem Gemisch aus zwei oder mehreren dieser Säuren geschehen oder einfach durch Waschen mit Wasser oder wahlweise durch Hochdruckwasserreinigung.
- Anschließend wird die Aluminiumplatte anodisiert. Der für diesen Zweck eingesetzte Elektrolyt enthält üblicherweise Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure oder ein Gemisch aus diesen Säuren.
- Die Behandlungsbedingungen beim Anodisieren können je nach Art des Elektrolyts stark variieren und lassen sich nicht zusammenfassend spezifizieren. Dennoch sollte im allgemeinen die Elektrolytkonzentration vorzugsweise im Bereich von 1 bis 50 Masse%, die Lösungstemperatur im Bereich von 5 bis 45°C, die Stromdichte im Bereich von 1 bis 40 A/dm2, die Spannung im Bereich von 5 bis 50 V und die Behandlungsdauer im Bereich von 5 Sekunden bis 10 Minuten liegen.
- Die Menge des auf diese Weise erzeugten anodischen Oxydationsfilms beträgt vorzugsweise nicht weniger als 0,5 g/m2 und liegt besser noch in einem Bereich von 1,0 bis 4,0 g/m2. Beträgt die Menge des anodischen Oxydationsfilms weniger als 0,5 g/m2, kann die Oberfläche leicht beschädigt werden. Beim Drucken nehmen beschädigte Stellen leicht Farbe auf und erzeugen Flecken. Liegt dagegen die Menge des anodischen Oxydationsfilms über 4,0 g/m2, führt das zu einer unerwünschten Verminderung der Entwicklungsgeschwindigkeit sowie zu einer Verringerung der Empfindlichkeit.
- Nach dem Waschen mit Wasser wird die Aluminiumplatte einer Oberflächenbehandlung nach der vorliegenden Erfindung unterzogen. Die erfindungsgemäße Oberflächenbehandlung kann mittels einer Behandlungsflüssigkeit erfolgen, die mindestens 1,0 Masse% Metallfluorid enthält, wobei zu beachten ist, daß die Konzentration des Metallfluorids in einem Bereich liegt, bei dem der anodische Oxydationsfilm nicht angeätzt wird. Darüber hinaus kann, wenn eine saure Substanz in einer Menge zugegeben wird, die den anodischen Oxydationsfilm nicht anätzt, die untere Grenze der Konzentration auf etwa 0,5 Masse% gesenkt werden. Die genannte Oberflächenbehandlung kann auch vorgenommen werden, nachdem die Aluminiumplatte anodisiert und mit Wasser gewaschen worden ist und der entstandene anodische Oxydationsfilm durch mildes Ätzen oder ein anderes Verfahren versiegelt wurde, oder nachdem die Aluminiumplatte einer Nachbehandlung mit Phosphorsäure, Phosphat oder Silicat unterzogen worden ist.
- Bei der Anwendung der vorliegenden Erfindung wird die anodisierte Aluminiumoberfläche zunächst mit einer wäßrigen Lösung, die ein Metallfluorid oder sowohl ein Metallfluorid als auch eine saure Substanz enthält, behandelt. Auf diese Weise wird, ohne daß der anodische Oxydationsfilm in wesentlichem Maße angeätzt und ohne daß die Form der Zellen des anodischen Oxydationsfilms verändert wird, ein Partikelprodukt mit einem durchschnittlichen Teilchendurchmesser von höchstens 5 μm (d. h. ein Reaktionsprodukt, das scheinbar aus kugelförmigen und/oder schuppigen Teilchen besteht) ungeordnet oder gleichmäßig aufgebracht, und zwar in Form von Vorsprüngen, so daß es sich der Struktur der gekörnten Oberfläche der Aluminiumplatte anpaßt oder die gesamte Innenfläche der beim elektrolytischen Polieren entstandenen Vertiefungen bedeckt. Anschließend wird die Aluminiumplatte mit Warmwasser und/oder Warmluft behandelt.
- Obwohl der überwiegende Teil des Produkts aus kugelförmigen und/oder schuppigen Partikeln besteht, können einige Partikeln die Form einer zerbrochenen Kugel aufweisen oder wie eckige Kristalle aussehen.
- Das Produkt wird vorzugsweise so aufgebracht, daß es mindestens 30% der anodisierten Oberfläche bedeckt, wobei dieser Wert entsprechend der Behandlungsbedingungen variieren kann. Mehr vorzuziehen ist, wenn die mit dem Produkt bedeckte Fläche im Bereich von 40 bis 100% liegt. Sind weniger als 30% der Fläche mit dem Produkt bedeckt, kann es dazu kommen, daß keine Verbesserung des Wasseraufnahmevermögens und der Plattenverschleißfestigkeit bewirkt wird.
- Der Teilchendurchmesser beträgt vorzugsweise höchstens 5 μm und liegt besser noch im Bereich von 0,01 bis 2 μm. Wenn er unter 0,01 μm liegt, kann es zu einer Verminderung des Wasseraufnahmevermögens, der Plattenverschleißfestigkeit sowie der Oberflächengleiteigenschaften kommen. Andererseits kann es bei einem Durchmesser von mehr als 5 μm zu einer Verminderung des Wasseraufnahmevermögens kommen, und beim Drucken dringt möglicherweise Farbe in die Zwischenräume zwischen den Partikeln und erzeugt Flecken.
- Wird die Menge des aufgebrachten Produkts in Form der Masse ausgedrückt, liegt sie vorzugsweise im Bereich von 0,005 bis 2,0 g/m2, besser noch vorzugsweise zwischen 0,01 und 1,5 g/m2. Liegt die Menge des aufgetragenen Produkts unter 0,005 g/m2, wird möglicherweise keine Verbesserung in bezug auf die Plattenverschleißfestigkeit, das Tonen oder die Korrekturmittelrückstände erzielt. Ist sie andererseits größer 2,0 g/m2, kann es zu einer verminderten Entwicklungsfähigkeit kommen, und die VS-Platte wird aus diesem Grund möglicherweise mit einer gebrauchten Entwicklerlösung nicht zufriedenstellend entwickelt. Die Veränderung der Masse läßt sich bestimmen, indem die Aluminiumplatte vor und nach der Behandlung gewogen wird und der Masseunterschied berechnet wird.
- Der Reflexionsgrad der Oberfläche, auf der sich das obengenannte Partikelprodukt befindet, wird um fast 25% gegenüber dem Reflexionsgrad der Oberfläche vor dem Auftragen des Partikelprodukts reduziert. Dadurch wird die Schleierbildung an der Oberfläche verringert, und eine Lichtstreuung während der Belichtung der vorsensibilisierten lithographischen Platte wird unterdrückt, was zu einer Reduzierung der Punktverluste sowie einer Verbesserung der Punktreproduzierbarkeit führt.
- Das Erscheinungsbild der Oberfläche kann mit einem optischen Hochleistungsmikroskop oder einem Rasterelektronenmikroskop betrachtet werden.
-
1 zeigt die Oberfläche eines Aluminiumsubstrats mit einem anodischen Oxydationsfilm vor der erfindungsgemäßen Oberflächenbehandlung, und2 zeigt die Oberfläche des Aluminiumsubstrats, nachdem es der erfindungsgemäßen Oberflächenbehandlung unterzogen wurde. - Spezifische Beispiele für das Metallfluorid, das vorzugsweise für die erfindungsgemäße Oberflächenbehandlung eingesetzt wird und das in einem bestimmten Bereich seiner Konzentration den anodischen Oxydationsfilm nicht anätzt, sind Natriumfluorid, Magnesiumfluorid, Bariumfluorid, Kaliumfluorid, Chromfluorid, Lithiumfluorid und Manganfluorid. Diese Metallfluoride können einzeln oder als Gemisch von zwei und mehr eingesetzt werden. Von diesen Metallfluoriden sind Natriumfluorid und Kaliumfluorid besonders vorzuziehen.
- Die Metallfluoridkonzentration, die den anodischen Oxydationsfilm nicht anätzt, bewegt sich günstigerweise im Bereich von 0,5 bis 40 Masse% und vorzugsweise zwischen 1,0 und 30 Masse%. Liegt die Metallfluoridkonzentration unter 0,5 Masse%, kann es passieren, daß die gewünschte Wirkung der vorliegenden Erfindung nicht erzielt wird, weil sich die Partikeln nicht so gut ausbilden. Liegt sie über 40 Masse%, können unerwünschte Wirkungen hervorgerufen werden, weil die gebildeten Partikeln einen unangemessen kleinen Durchmesser aufweisen, der anodische Oxydationsfilm leicht angeätzt wird und sich das Metallfluorid nicht gut auflöst.
- Die das oben beschriebene Metallfluorid enthaltende Behandlungsflüssigkeit kann auch andere Verbindungen enthalten, die weder die Partikelbildung beeinträchtigen noch den anodischen Oxydationsfilm anätzen. Zu diesen Verbindungen zählen beispielsweise Schwefelsäure, Salpetersäure, Chlorwasserstoffsäure, Phosphorsäure und Essigsäure sowie ihre Aluminiumsalze, Ammoniumsalze, Natriumsalze, Kaliumsalze, Calciumsalze, Zinksalze, Magnesiumsalze und Lithiumsalze. Außerdem gehören dazu Oxalsäure, Gerbsäure, Alaun, Chromalaun, Borsäure, Chromsäureanhydrid sowie Chromsäuresalze. Diese Verbindungen können einzeln oder zu zweit oder mehreren zugegeben werden. Ferner können Substanzen verwendet werden, die herkömmlicherweise als Ätzmittel oder Gegenätzmittel für lithographische Platten bekannt sind.
- Wenn es sich bei den genannten Verbindungen um starke Säuren wie Schwefelsäure, Salpetersäure, Chlorwasserstoffsäure, Phosphorsäure und Essigsäure handelt, werden sie günstigerweise in einer Menge von 0,1 bis 1,0 Masse% und vorzugsweise von 0,2 bis 0,6 Masse% zugegeben. Liegt die Menge unter 0,1 Masse%, darf keine Verbesserung des Wasseraufnahmevermögens erwartet werden. Ist sie jedoch höher als 1,0 Masse%, kann der anodische Oxydationsfilm in unerwünschter Weise angeätzt werden. Was die anderen oben erwähnten Verbindungen anbetrifft, werden sie günstigerweise in einer Menge von 0,2 bis 50 Masse% und vorzugsweise von 0,5 bis 40 Masse% zugegeben. Beträgt die Menge weniger als 0,2 Masse%, darf keine Verbesserung des Wasseraufnahmevermögens erwartet werden. Liegt sie jedoch über 50 Masse%, kann die Entwicklungsgeschwindigkeit in unerwünschter Weise reduziert werden.
- Zusätzlich zu diesen Hauptbestandteilen kann die Behandlungsflüssigkeit außerdem Metallsilicate, Kesselsteinlösemittel, oberflächenaktive Wirkstoffe, organische Lösungsmittel, wasserlösliche Harze, emulgierte wasserunlösliche Substanzen, Farben oder Pigmente mit Lichthofschutz und ähnliches enthalten, sofern sie das auf die Oberfläche aufgebrachte Produkt nicht auflösen (anätzen) oder entfernen.
- Die erfindungsgemäß angewendeten Behandlungsverfahren umfassen Eintauchen, Besprühen, Beschichten und ähnliches.
- Die Behandlungstemperatur liegt günstigerweise im Bereich von 10 bis 80°C und die Behandlungsdauer günstigerweise im Bereich von 1 bis 60 Sekunden. Der pH-Wert liegt wünschenswerterweise im Bereich von 1,0 bis 6,5. Bei dieser Behandlung kann die Aluminiumplatte in der gleichen Weise wie beim Anodisieren behandelt werden, d. h., indem ein Gleichstrom oder ein Wechselstrom durch sie geleitet wird. Auf diese Weise kann die Behandlungsdauer gekürzt werden.
- Wird die Konzentration der Behandlungsflüssigkeit erhöht oder die Behandlungsdauer verlängert, kann es dazu kommen, daß das kugelförmige oder schuppige Partikelprodukt so dicht aufgetragen wird, daß es eine im wesentlichen ebene Oberfläche bildet. Es wird jedoch angenommen, daß sich die erfindungsgemäßen Wirkungen besser zeigen, wenn das Produkt in der Form mehr oder weniger kugelförmiger oder schuppiger Partikeln aufgebracht wird.
- Bei der Anwendung der vorliegenden Erfindung wird das Aluminiumsubstrat, das mit der Behandlungsflüssigkeit, die die obengenannten Metallfluoride enthält, behandelt worden ist, wahlweise mit Wasser gewaschen und anschließend durch eine Behandlung mit Warmwasser, Warmluft oder einer Kombination aus Warmwasser und darauffolgender Warmluft getrocknet, damit das auf dem anodischen Oxydationsfilm gebildete Partikelprodukt fester an dem anodischen Oxydationsfilm haften und eine weitere Verbesserung des Wasseraufnahmevermögens und der Plattenverschleißfestigkeit erzielt werden kann.
- Die Warmluft muß mindestens eine Temperatur von 50°C haben. Eine höhere Wirksamkeit ist zu erreichen, wenn die Warmluft eine Temperatur von 50 bis 180°C aufweist.
- Liegt die Temperatur des Warmwassers oder der Warmluft unter 50°C, könnte sich das Partikelprodukt auf der Oberfläche des anodischen Oxydationsfilms beim Drucken einer hohen Anzahl von Exemplaren leicht ablösen, was zur Beeinträchtigung von Farbabweisungseigenschaften und Wasseraufnahmevermögen führt. Außerdem besteht die Möglichkeit, daß das Partikelprodukt unter der Bildfläche gegenüber Erschütterungen empfindlich wird und sich leicht ablöst, was zur Abtrennung der Bildbestandteile und zu mangelhafter Plattenverschleißfestigkeit führt.
- Beträgt andererseits die Temperatur der Warmluft mehr als 180°C, könnte das Aluminiumsubstrat verbogen oder gedehnt werden, was die Gesamtebenheit einschränkt.
- Die Behandlung mit Warmwasser erfolgt günstigerweise durch Eintauchen, Begießen, Betropfen aus Düsen, Besprühen oder ähnliches. Die Behandlung mit Warmluft wird beispielsweise vorgenommen, indem erwärmte Luft mittels eines Gebläses auf die Substratoberfläche geblasen wird.
- Das auf die oben beschriebene Weise behandelte Aluminiumsubstrat läßt sich unmittelbar als Substrat für eine lithographische Platte einsetzen. Falls gewünscht, kann das Aluminiumsubstrat vor oder nach der Behandlung mit Warmwasser und/oder Warmluft zusätzlichen Oberflächenbehandlungsverfahren unterzogen werden.
- Geeignete Oberflächenbehandlungsverfahren umfassen beispielsweise die Behandlung mit einer wäßrigen Lösung einer Verbindung, die unter Schwefelsäure, Phosphorsäure, Salpetersäure, Borsäure, Chromsäure, Kieselsäure sowie ihren Ammoniumsalzen und Alkalimetallsalzen ausgewählt wird; die Behandlung mit einem oberflächenaktiven Stoff oder einem Antitropfmittel; die Behandlung zur Erzeugung einer Grundierung, die eine wasserlösliche Verbindung wie Polyacrylsäure, Polyvinylalkohol, Polyvinylphosphonsäure, Polyvinylpyrrolidon, Carboxymethylcellulose oder Dextrin enthält, sowie die Vorbeschichtung mit einer Farbe oder einem Pigment, um eine Schleierbildung zu verhindern. In diesem Fall erweist es sich außerdem als ungünstig, Behandlungsverfahren und Behandlungsbedingungen einzusetzen, die eine Auflösung oder Entfernung des auf die Oberfläche aufgebrachten Produkts bewirken.
- Alternativ können die obengenannten Chemikalien oder Verbindungen auch dem Warmwasser zugegeben werden.
- Das in der oben beschriebenen Weise behandelte Aluminiumsubstrat kann auf die übliche Art mit einer lichtempfindlichen Schicht versehen werden, so daß eine vorsensibilisierte lithographische Platte (VS-Platte) entsteht. Dem für die lichtempfindliche Schicht eingesetzten lichtempfindlichen Gemisch sind keine besonderen Einschränkungen auferlegt, und es kann im allgemeinen jedes von verschiedenen bekannten lichtempfindlichen Gemischen verwendet werden. Geeignete Beispiele dafür sind ein lichtempfindliches Gemisch vom Positivtyp, das im wesentlichen aus einer o-Chinondiazidverbindung besteht; ein lichtempfindliches Gemisch vom Negativtyp, das im wesentlichen aus einem Diazoharz besteht; eine fotopolymerisierbare Verbindung, die im wesentlichen aus einem ungesättigten Monomer mit Doppelbindung besteht; ein lichtempfindliches Gemisch vom Negativtyp, das Zimtsäure enthält, oder eine lichtvernetzbare Verbindung, die eine Dimethylmaleimidgruppe enthält, sowie ein lichtempfindliches Gemisch vom Negativ- oder Positivtyp, das als lichtempfindlichen Stoff eine Verbindung zur Wärmeaufzeichnung oder ähnliches nutzt. Wie beispielsweise in den vorläufigen japanischen Patentveröffentlichungen Nr. 55-161250 (1980) und 4-100052 (1992) beschrieben wird, können außerdem auch eine elektrofotografische lichtempfindliche Schicht sowie eine lichtempfindliche Schicht eingesetzt werden, die entsprechend einem komplizierten Silbersalzdiffusionsübertragungsverfahren aus einer physikalisch entwickelnden Mittelschicht und einer Halogensilberemulsionsschicht besteht.
- Zusätzlich zu der oben beschriebenen Verwendung als VS-Platte kann das genannte Aluminiumsubstrat weiterhin als Substrat zur Erzeugung eines unmittelbar darauf befindlichen Bildes mittels Ink jet oder Ultravioletthärtungsfarbe eingesetzt werden.
- Unter den obengenannten lichtempfindlichen Substanzen gilt als Beispiel für eine fotopolymerisierbare Verbindung, die im wesentlichen aus einem ungesättigten Monomer mit Doppelbindung besteht, ein Gemisch, das eine additionspolymerisierbare ungesättigte Verbindung mit einer Ethylenendgruppe sowie einen Fotopolymerisationsinitiator enthält, wie es in der US-Patentschrift Nr. 2.760.863 und in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 5-262811 (1993) beschrieben wird. Ein Beispiel für die lichtempfindlichen Substanz vom Negativtyp, die eine eine Dimethylmaleimidgruppe enthaltende lichtvernetzbare Verbindung beinhaltet, stellt ein lichtempfindliches Gemisch dar, wie es in den vorläufigen japanischen Patentveröffentlichungen Nr. 52-988 (1977) und 62-78544 (1987) beschrieben wird.
- Die o-Chinondiazidverbindungen, die sich als lichtempfindliche Gemische vom Positivtyp einsetzen lassen, umfassen beispielsweise eine Esterverbindung, die aus Naphthochinon-1,2-diazid-5 (oder 4)-sulfonsäurechlorid und Phenolformaldehydharz präpariert wird, wie es in der US-Patentschrift Nr. 3.046.120 beschrieben wird; eine Esterverbindung, die aus Naphthochinon-1,2-diazid-5 (oder 4)-sulfonsäurechlorid und Pyrogallolacetonharz präpariert wird, wie es in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 43-28403 (1968) beschrieben wird; sowie eine Esterverbindung, die aus 2,3,4-Trihydroxybenzophenon oder einer Polyhydroxyverbindung mit einer relativen Molekülmasse von maximal 1.000 und Naphthochinon-1,2-diazid-5 (oder 4)-sulfonsäurechlorid präpariert wird.
- Obwohl die o-Chinondiazidverbindung auch allein zur Bildung einer lichtempfindlichen Schicht verwendet werden kann, wird sie vorzugsweise zusammen mit einem Bindeharz eingesetzt, das ein alkalilösliches Harz enthält. Das Bindeharz kann ein Novolakharz enthalten, und Beispiele dafür umfassen Phenolformaldehydharz, o-, m- und p-Cresolformaldehydharze, m/p-Mischcresolformaldehydharz, gemischtes Phenol-/Cresol-(das m-, p- oder m/p-Mischcresol sein kann) -formaldehydharz sowie t-Butylphenolformaldehydharz. Außerdem können Polyvinylphenolharz, t-Butyl-substituiertes Polyvinylphenolharz, p-Isopropenylphenolhomopolymer und seine Copolymere mit anderen Monomeren, Hydroxyl- oder Carboxyl-haltiges Phenylmaleimidhomopolymer und seine Copolymere mit anderen Monomeren, alkalilösliche Polyurethanharze, Polyamidharze, Styrenmaleinsäureanhydridharze und ähnliches eingesetzt werden.
- Zusätzlich zu den obengenannten o-Chinondiazidverbindungen und Bindeharzen kann das lichtempfindliche Gemisch vom Positivtyp nötigenfalls weitere Zusatzstoffe wie Farben, fotoinduzierte Säuregeneratoren, Weichmacher, oberflächenaktive Substanzen, cyclische Säureanhydride, organische Säuren und Sensibilisatoren enthalten.
- Demgegenüber können die lichtempfindlichen Gemische vom Negativtyp für VS-Platten lichtempfindliche Gemische, die ein Diazoharz enthalten, fotopolymerisierbare Gemische und lichtvernetzbare Gemische umfassen. Unter diesen wird das ein Diazoharz enthaltende lichtempfindliche Gemisch nachfolgend anhand von Beispielen ausführlicher beschrieben.
- Beispiele für das Diazoharz umfassen anorganische Diazoharzsalze, die in organischen Lösungsmitteln löslich sind und die gewonnen werden; indem p-Diazodiphenylamin mit Formaldehyd oder Acetaldehyd kondensiert und das Kondensationsprodukt mit einem Hexafluorophosphorsäuresalz oder einem Tetrafluoroborsäuresalz umgesetzt wird; und organische Diazoharzsalze, die in organischen Lösungsmitteln löslich sind und die gewonnen werden, indem das obengenannte Kondensationsprodukt mit einer Sulfonsäureverbindung (z. B. p-Toluensulfonsäure, Dodecylbenzensulfonsäure oder einem ihrer Salze) oder einer Verbindung mit Hydroxylgruppe (z. B. 2,4-Dihydroxybenzophenon, 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzensulfonsäure oder einem ihrer Salze) umgesetzt wird.
- Weitere geeignete Diazoharze umfassen Diazoharzsalze, die durch Herstellung eines Mischkondensationsprodukts gewonnen werden, das über strukturelle Einheiten verfügt, die aus einer aromatischen Verbindung mit mindestens einer organischen Gruppe, welche unter Carboxyl-, Sulfonsäure-, Sulfinsäure- und Hydroxylgruppen ausgewählt wird, und einer aromatischen Diazoniumverbindung abgeleitet wird, sowie durch die oben beschriebene Umsetzung des Mischkondensationsprodukts mit einer anorganischen oder organischen Verbindung.
- Diese Diazoharzsalze werden vorzugsweise zusammen mit einem Bindeharz eingesetzt, das ein alkalilösliches Harz enthält. Beispiele für das Bindeharz umfassen ein Copolymer eines Monomers mit einer aliphatischen Hydroxylgruppe sowie eines oder mehrerer anderer Monomere, wie es in den vorläufigen japanischen Patentveröffentlichungen Nr. 50-118802 (1975) oder 54-88403 (1979) beschrieben wird; ein Copolymer eines Monomers mit einer aromatischen Hydroxylgruppe sowie eines oder mehrerer anderer Monomere, wie es in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 54-98614 (1979) beschrieben wird; ein Copolymer von p-Isopropenylphenol sowie eines oder mehrerer anderer Monomere; ein N-(p-Hydroxyphenyl)maleimidcopolymer sowie ein Polyurethanharz mit Carboxyl- und/oder Hydroxylgruppen.
- Zusätzlich zu den genannten Stoffen können die Diazoharz-haltigen lichtempfindlichen Gemische nötigenfalls Zusatzstoffe wie Farben, fotoinduzierte Säuregeneratoren, Weichmacher, oberflächenaktive Stoffe, cyclische Säureanhydride, organische Säuren, Sensibilisatoren, Konservierungsstoffe und Mattierungsstoffe enthalten.
- Die auf diese Weise hergestellte VS-Platte wird durch einen transparenten Originalfilm hindurch einer fotochemisch wirksamen Bestrahlung aus einer Lichtquelle wie einer Kohlelichtbogenlampe, Quecksilberdampflampe, Metallhalogenidlampe, Xenonlampe, chemischen Lampe, einem Argonlaser, Helium-Cadmiumlaser, Infrarotlaser oder Halbleiterlaser ausgesetzt und anschließend entwickelt. Als Entwickler und Regenerator für die genannte VS-Platte kann jede der verschiedenen, herkömmlich bekannten wäßrigen Alkalilösungen eingesetzt werden. Zu den für diesen Zweck geeigneten alkalischen Substanzen gehören beispielsweise Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Alkalimetallsilicate, Natriumoctanoat, Alkylamine und Tetramethylammoniumhydroxid. Diese alkalischen Substanzen können einzeln oder unter Zugabe von zwei oder mehreren eingesetzt werden.
- Um die Entwicklungsfähigkeit zu steigern oder zu vermindern und um den Entwicklerrückstand abzulösen, können der Entwickler und der Regenerator, falls erforderlich, weiterhin verschiedene oberflächenaktive Stoffe, organische Lösungsmittel, Reduktionsmittel und ähnliches enthalten. Die auf diese Weise entwickelte VS-Platte wird mit einer Spülflüssigkeit, die Waschwasser, eine oberflächenaktive Substanz, eine Säure usw. umfaßt; einer Desensibilisierungslösung, die Gummiarabikum und ein Stärkederivat oder Dextrin enthält, nachbehandelt.
- Unter Bezugnahme auf die folgenden Beispiele wird die vorliegende Erfindung ausführlicher erläutert. Diese Beispiele sind jedoch nicht so aufzufassen, daß sie den Schutzumfang der Erfindung einschränken.
- Beispiele 1 bis 3 und Vergleichsbeispiele 1 bis 3
- Nachdem beide Seiten von 0,24 mm dicken Aluminiumplatten sorgfältig entfettet worden waren, wurde die Oberfläche aller Aluminiumplatten mittels einer Nylonbürste und einer wäßrigen Bimssteinpulversuspension körniggemacht und reichlich mit Wasser gewaschen. Nachdem die Aluminiumplatte durch 10 Sekunden langes Eintauchen in eine Lösung mit 15 Masse% Natriumhydroxid und einer Temperatur von 80°C geätzt worden war, wurde sie unter fließendem Wasser gewaschen und anschließend in einem 1N-Chlorwasserstoffsäurebad einer elektrolytischen Oberflächenaufrauhungsbehandlung bei 200 Coulomb/dm2 unterzogen. Nach einem Waschen mit Wasser wurde die Aluminiumplatte erneut mit einer Lösung mit 15 Masse% Natriumhydroxid geätzt, mit Wasser gewaschen und durch Eintauchen in eine wäßrige Lösung mit 20 Masse% Schwefelsäure entflockt. Daraufhin wurde die Aluminiumplatte in einer wäßrigen Lösung mit 15 Mass% Schwefelsäure anodisiert, so daß sich auf ihr ein anodischer Oxydationsfilm von 2,0 g/m2 bildete. Nach einem Waschen mit Wasser wurde die Aluminiumplatte folgendermaßen behandelt.
- Beispiel 1: Die Aluminiumplatte wurde bei 50°C 15 Sekunden lang in eine Lösung mit 2 Masse% Natriumfluorid getaucht, 10 Sekunden lang in Warmwasser mit einer Temperatur von 90°C getaucht und anschließend bei 40°C in Warmluft getrocknet.
- Beispiel 2: Die Aluminiumplatte wurde 15 Sekunden lang in eine Lösung mit 2 Masse% Natriumfluorid und einer Temperatur von 50°C getaucht, mit Wasser gewaschen und anschließend 10 Sekunden lang bei 100°C in Warmluft getrocknet.
- Beispiel 3: Die Aluminiumplatte wurde 15 Sekunden lang in eine Lösung mit 2 Masse% Natriumfluorid und einer Temperatur von 50°C getaucht, 10 Sekunden lang in Warmwasser mit einer Temperatur von 90°C getaucht und anschließend 10 Sekunden lang bei 100°C in Warmluft getrocknet.
- Vergleichsbeispiel 1: Die Aluminiumplatte wurde 15 Sekunden lang in eine Lösung mit 2 Masse% Natriumfluorid und einer Temperatur von 50°C getaucht, mit Wasser gewaschen und anschließend bei 40°C in Warmluft getrocknet.
- Vergleichsbeispiel 2: Die Aluminiumplatte wurde mit Wasser gewaschen und anschließend bei 100°C in Warmluft getrocknet.
- Vergleichsbeispiel 3: Die Aluminiumplatte wurde mit Wasser gewaschen und anschließend bei 40°C in Warmluft getrocknet.
- Das Partikelprodukt, das bei den Beispielen 1 bis 3 auf der Aluminiumoberfläche gebildet wurde, wies einen durchschnittlichen Teilchendurchmesser von 0,12 μm auf, und seine Menge betrug 0,18 g/m2.
- Alle auf diese Weise behandelten Aluminiumplatten wurden mit einer lichtempfindlichen Schicht versehen, indem sie mit einer Sensibilisierungslösung (1) folgender Zusammensetzung in einer solchen Menge beschichtet wurden, daß sich ein trockener Film mit einer Masse von 2,0 g/m2 bildete. Sensibilisierungslösung (1)
Ester, präpariert aus Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonsäurechlorid und 2,3,4-Trihydroxybenzophenon 2,5 g m-Cresolformaldehyd-Novolakharz 6,0 g Naphthochinon-1,2-diazid-4-sulfonsäurechlorid 0,1 g Oil Blue 613 0,2 g Methylcellosolve 50 g Propylenglykolmonomethylether 50 g - Jede der sechs auf diese Weise hergestellten vorsensibilisierten lithographischen Platten (VS-Platten) wurde unter Vakuum mit einem Originalfilm und einer Abstufungsmeßtafel zusammengebracht und anschließend 50 Sekunden lang mit einer 3-kW-Metallhalogenidlampe aus einer Entfernung von 1 m belichtet.
- Danach wurde ein Bild erzeugt, indem die VS-Platte 20 Sekunden lang bei 25°C in eine Entwicklerlösung der folgenden Zusammensetzung getaucht wurde. Zusammensetzung
Natriumsilicat nach Japanese Industrial Standard (JIS) Nr. 3 25 g Kaliumhydroxid 15 g amphotere oberflächenaktive Substanz 1 g Wasser 1 kg - Nachdem die VS-Platten in der oben beschriebenen Weise entwickelt worden waren, wurde ihre Gradation aufgrund der Anzahl der klaren Streifen und der geschwärzten Streifen auf der Meßtafel bewertet. Nach Waschen mit Wasser wurden sie durch Gummieren desensibilisiert und dann in der üblichen Weise als Druckplatten verwendet. Dabei wurden die genannten Druckplatten anhand des Tonens der bildfreien Fläche beim Drucken, der Flecken bei der Wiederaufnahme des Drucks (d. h. der Flecken in Form kleiner Punkte, die erzeugt werden, wenn der Druck nach einer Pause wieder aufgenommen wird, und die auch als "Oxydationsflecke" bekannt sind) sowie des Plattenverschleißes beurteilt. Darüber hinaus wurden unter Verwendung einer gebrauchten Entwicklerlösung, die die obengenannte Entwicklerlösung enthielt und zur Entwicklung von 5 m2/Liter vorsensibilisierter lithographischer Platten verwendet wurde, dieselben vorsensibiliserten lithographischen Platten wie oben entwickelt und anhand der Korrekturmittelrückstände bewertet. Die dabei gewonnenen Ergebnisse sind in Tabelle 1 dargestellt.
- Tabelle 1
- Die zuvor genannten Eigenschaften wurden folgendermaßen bewertet.
- Bewertung der Gradation
- Bei jeder Druckplatte wurde die Anzahl der klaren Streifen sowie die Anzahl der geschwärzten Streifen von der entwickelten Abstufungsmeßtafel abgelesen. Eine kleinere Differenz zwischen der Anzahl der klaren Streifen und der Anzahl der geschwärzten Streifen (d. h. eine geringere Gradation) bedeutet eine bessere Gradation.
- Bewertung des Tonens
- Nachdem mit jeder Druckplatte etwa 20.000 Exemplare gedruckt worden waren, wurden der bildfreie Anteil der Gummituchfläche sowie die bedruckte Papierfläche visuell auf Flecken hin untersucht.
- :
- Es waren keine Flecken in der Gummituchfläche und der bedruckten Papierfläche zu erkennen.
- Δ:
- Die Gummituchfläche war dunkel verfärbt, aber in der bedruckten Papierfläche waren keine bemerkbaren Flecke zu verzeichnen.
- X:
- Die Gummituchfläche war schwarz gefärbt, und Flecken in Form kleiner Punkte waren in der bedruckten Papierfläche zu erkennen.
- Oxydationsflecke (oder Flecken bei Wiederaufnahme des Drucks)
- Nachdem mit jeder Druckplatte etwa 15.000 Exemplare gedruckt worden waren, wurde die Druckpresse angehalten und 1 Stunde lang stehengelassen. Als der Druck wieder aufgenommen wurde, wurden die Drucke auf Flecken in Form kleiner Punkte hin untersucht. Das Auftreten von Oxydationsflecken wurde anhand der Anzahl dieser Flecke bewertet.
- Korrekturmittelrückstände
- Nachdem jede VS-Platte mit einer gebrauchten Entwicklerlösung entwickelt worden war, um eine Druckplatte herzustellen, wurde ein handelsübliches VS-Korrekturmittel (RP-1S; hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) mittels eines Pinsels auf das Bild sowie auf die bildfreien Flächen aufgetragen. Nach Waschen mit Wasser wurde die Druckplatte mit Farbe versehen und auf durch das Korrigieren erzeugte Hofflecken sowie auf Flecken in den korrigierten Bereichen hin untersucht.
- :
- Weder Korrekturmittelrückstände noch Flecken wurden beobachtet.
- Δ:
- Korrekturmittelrückstände waren zu verzeichnen, jedoch waren sie frei von Farbe.
- X:
- Korrekturmittelrückstände mit Farbe waren zu verzeichnen.
- Bewertung des Plattenverschleißes
- Jede Druckplatte wurde daraufhin untersucht, bei welcher Mindestanzahl von Druckexemplaren die festen Bestandteile des Bildes ausdünnten, die Druckplatte nicht mehr richtig mit Farbe versehen war und Unregelmäßigkeiten in der Dichte der Drucke auftraten.
- Beispiel 4 und Vergleichsbeispiele 4 bis 5
- Aluminiumplatten wurden auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 einer Behandlung durch Oberflächenaufrauhung und Anodisieren unterzogen. Nach Waschen mit Wasser wurde jede dieser Aluminiumplatten folgendermaßen behandelt.
- Beispiel 4: Die Aluminiumplatte wurde bei 60°C 10 Sekunden lang in eine Mischlösung mit 2 Masse% Kaliumfluorid und 15 Masse% Natriumdihydrogenphosphat getaucht, bei 80°C 5 Sekunden lang in Warmwasser getaucht, mit Wasser gewaschen, bei 70°C 20 Sekunden lang in eine Lösung mit 10 Masse% Natriumsilicat getaucht, mit Wasser gewaschen und anschließend mit Warmluft bei 40°C getrocknet.
- Vergleichsbeispiel 4: Die Aluminiumplatte wurde bei 60°C 10 Sekunden lang in eine Mischlösung mit 2 Masse% Kaliumfluorid und 15 Masse% Natriumdihydrogenphosphat getaucht, mit Wasser gewaschen, bei 70°C 20 Sekunden lang in eine Lösung mit 10 Masse% Natriumsilicat getaucht, mit Wasser gewaschen und anschließend bei 40°C mit Warmluft getrocknet.
- Vergleichsbeispiel 5: Die Aluminiumplatte wurde bei 70°C 20 Sekunden lang in eine Lösung mit 10 Masse% Natriumsilicat getaucht, mit Wasser gewaschen und anschließend bei 40°C mit Warmluft getrocknet.
- Das Partikelprodukt, das in Beispiel 4 auf der Aluminiumoberfläche gebildet wurde, wies einen durchschnittlichen Teilchendurchmesser von 0,20 μm auf, und seine Menge betrug 0,28 g/m2.
- Jede der auf diese Weise behandelten Aluminiumplatten wurde mit einer lichtempfindlichen Schicht versehen, indem mit einer Sensibilisierungslösung (2) der folgenden Zusammensetzung in einer solchen Menge beschichtet wurde, daß sich ein trockener Film mit einer Masse von 1,8 g/m2 ergab. Sensibilisierungslösung (2)
Copolymer von 2-Hydroxy-3-phenoxypropylmethacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat, Methacrylsäure, Methylmethacrylat und Acrylonitril (in einem Masseverhältnis von 30:20:5:20:25) 30 g 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzophenonsulfonsäuresalz eines Kondensationsprodukts von 4-Diazophenylamin/Formaldehyd 3 g Victoria Pure Blue BOH (hergestellt von Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 1 g Oxalsäure 0,3 g Methylcellosolve 100 g N,N-Dimethylformamid 10 g - Durch einen Negativfilm und eine Abstufungsmeßtafel wurde jede der auf diese Weise gewonnenen vorsensibilisierten lithographischen Platten (VS-Platten) aus einer Entfernung von 1 m 50 Sekunden lang dem Licht einer 3-kW-Metallhalogenidlampe ausgesetzt.
- Danach wurde ein Bild erzeugt, indem die VS-Platten bei 25°C 20 Sekunden lang in eine Entwicklerlösung der folgenden Zusammensetzung getaucht wurden. Zusammensetzung
Kaliumtrioxosilicat 10 g Phenylglycol 40 g Kaliumisopropylnaphthalensulfonat 5 g Kaliumsulfit 2 g Wasser 900 g - Nachdem die VS-Platten in der oben beschriebenen Weise entwickelt worden waren, wurde ihre Gradation aufgrund der Anzahl der klaren Streifen und der geschwärzten Streifen auf der Meßtafel bewertet. Nach Waschen mit Wasser wurden sie durch Gummieren desensibilisiert und dann in der üblichen Weise als Druckplatten verwendet. Dabei wurden die genannten Druckplatten anhand des Tonens der bildfreien Fläche, der Oxydationsflecken sowie des Plattenverschleißes bewertet. Die dabei gewonnenen Ergebnisse sind in Tabelle 2 dargestellt.
- Bei den für die Bewertung eingesetzten Kriterien handelt es sich um dieselben wie bei Tabelle 1.
- Tabelle 2
Claims (2)
- Verfahren zur Vorbereitung eines Aluminiumsubstrats für eine lithographische Platte mit folgenden Verfahrensschritten: a) Aufrauhen der Oberfläche eines Aluminiumsubstrats, b) Anodisieren, c) Behandeln mit einer Lösung enthaltend Natriumfluorid, Magnesiumfluorid, Bariumfluorid, Kaliumfluorid, Chromfluorid, Lithiumfluorid oder Manganfluorid unter Bildung eines Partikelprodukts auf der Oberfläche mit einem durchschnittlichen Teilchendurchmesser von höchstens 5 μm und d) Behandeln der Oberfläche mit Warmwasser und/oder Warmluft.
- Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass nach den Verfahrensschritten a) bis d) eine lichtempfindliche Schicht zur Vorsensibilisierung der lithographischen Platte aufgebracht wird.
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