FR2780337A1 - Procede pour la formation d'un substrat d'aluminium pour une plaque lithographique et pour une plaque lithographique presensibilisee - Google Patents

Abstract

Il est proposé un substrat d'aluminium pour une plaque lithographique et pour une plaque lithographique présensibilisée dans lequel, lorsque la plaque lithographique est exposée à la lumière et développée, non seulement une image présentant un bon contraste de dégradé peut être obtenue, mais aussi aucun résidu d'image ne reste dans la zone de non image, ce qui élimine l'encrassement pendant l'impression, la coloration de la zone de non image et les taches de marque d'effacement en forme d'anneau dues à l'utilisation d'un grattoir, et dans lequel, lorsque la plaque lithographique est utilisée pour des besoins d'impression, elle présente une résistance à l'usure de la plaque, une insensibilité à l'encre et une capacité de maintien d'eau excellentes, et ne produit aucune tache d'oxydation (à savoir aucune tache à la reprise de l'impression). Spécifiquement, il est proposé un substrat d'aluminium pour une plaque lithographique qui est formée par dépôt d'un produit particulaire ayant une granulométrie moyenne n'excédant pas 5 m sur une surface dégrossie et anodisée d'un substrat d'aluminium, et par traitement de la surface avec de l'eau chaude et/ ou de l'air chaud. De préférence, le fluide traitant utilisé pour déposer le produit particulaire contient un fluorure métallique. Il est aussi proposé une plaque lithographique présensibilisée qui est formée par application d'une couche photosensible sur le substrat d'aluminium traité de la manière décrite ci-dessus.

Description

Procédé pour la formation d'un substrat d'aluminium pour une plaque

lithographique et pour une plaque lithographique présensibilisée.

CONTEXTE DE L'INVENTION

1. Domaine de l'invention La présente invention concerne des substrats d'aluminium pour des plaques lithographiques et pour des plaques lithographiques présensibilisées. Plus particulièrement, elle concerne un substrat d'aluminium pour une plaque lithographique et pour une plaque lithographique présensibilisée dans lequel la surface d'aluminium est modifiée de façon à présenter une résistance à l'usure de la plaque, une insensibilité à l'encre et une capacité de maintien d'eau excellentes, de façon à éliminer l'encrassement, les taches de marque d'effacement et les

taches lors de la reprise de l'impression et à obtenir un bon contraste de dégradé.

2. Description de la technique apparentée

Une plaque lithographique présensibilisée (appelée "plaque PS" dans la suite) comprenant une plaque d'aluminium revêtue d'une composition photosensible est formée de la manière suivante. La surface d'une plaque d'aluminium est dégrossie par un procédé mécanique, tel que le brossage ou l'abrasion à billes, un procédé électrochimique tel que le décapage électrolytique, ou une combinaison de ceux-ci, de sorte que des aspérités superficielles soient créées. Ensuite, la plaque d'aluminium est décapée avec un solution aqueuse d'un acide ou d'une base, le cas échéant, puis anodisée et/ou rendue hydrophile, le cas échéant. Par la suite, une couche photosensible est appliquée sur la plaque d'aluminium. Habituellement, cette plaque PS est exposée à la lumière à travers un film d'image, développée, (corrigée), et engommée pour former une plaque lithographique. Celle-ci est montée dans une presse d'impression et utilisée pour

des besoins d'impression.

Le dégrossissement de surface et l'anodisation mentionnés ci-dessus sont réalisés afin d'améliorer la résistance à l'usure de la plaque et la capacité de

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maintien d'eau. Dans ce but, il est de pratique courante de former une surface granuleuse en profondeur ou de façon grossière, par exemple par un degré

important de décapage.

Dans un tel cas, toutefois, un résidu comprenant une partie de la couche photosensible peut rester dans la zone de non image (ou sur la surface granuleuse) après le développement, conduisant à un encrassement. En outre, un agent colorant, tel qu'un colorant, peut pénétrer dans les alvéoles du film d'oxydation anodique et entraîner une coloration de la zone de non image. En outre, lorsqu'une partie non souhaitée est effacée par un grattoir ou analogue, il se produit souvent que le solvant ou un autre ingrédient diffusant depuis le grattoir entraîne que le résidu mentionné ci-dessus s'élève et entre en contact avec l'encre, conduisant à

des taches (taches de marque d'effacement).

Afin de surmonter ces inconvénients, divers procédés ont été proposés dans la technique antérieure. Ils englobent, par exemple, un procédé dans lequel un substrat d'aluminium anodisé est trempé dans une solution d'un silicate de métal alcalin, comme décrit dans le brevet américain N 3 181 461; un procédé dans lequel il est recouvert d'une sous-couche de poly(acide vinylphosphonique) hydrophile, comme décrit dans les brevets américains N 3 276 868 et 4 153 461; un procédé dans lequel il est revêtu d'un radical acide phosphorique, comme décrit dans la publication de brevet japonais provisoire N 49-12903/'74; un procédé dans lequel il est recouvert d'une sous-couche de cellulose hydrophile contenant un sel métallique hydrosoluble, comme décrit dans la publication de brevet japonais provisoire N 49-96803/'74; et un procédé dans lequel il est muni d'une couche hydrophile contenant un sel d'acide phophorique, comme décrit

dans la publication de brevet japonais provisoire N 62-19494/'87.

Toutefois, ces procédés ne permettent pas d'éliminer complètement un résidu de la zone de non image. Par conséquent, un tel résidu entraîne immanquablement un encrassement et produit des taches de marque d'effacement,

comme décrit ci-dessus.

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En outre, les procédés mentionnés ci-dessus dans lesquels un substrat d'aluminium anodisé est muni d'une couche hydrophile ou est recouvert d'une sous-couche d'une substance hydrophile sont insatisfaisants en ce qu'ils détériorent l'adhérence d'une composition de sensibilisation et entraînent une réduction notable de la résistance à l'usure de la plaque. La publication de brevet japonais provisoire N 5-50779/'93 décrit un procédé dans lequel les alvéoles d'un film d'oxydation anodique sont remplies de particules minérales contenant un groupe hydroxyle ayant un diamètre ne dépassant pas 1 000 angstrôms (0,1 ym), et un film formé de particules minérales

présent à l'extérieur des alvéoles (à savoir à la surface) est éliminé par dissolution.

Toutefois, selon ce procédé dans lequel des particules minérales ne sont contenues que dans les alvéoles d'un film d'oxydation anodique et un film formé de particules minérales présent à l'extérieur des alvéoles (à savoir à la surface) est éliminé par dissolution, une faible quantité de la couche photosensible collée à la surface du film d'oxydation anodique ne peut par être entièrement éliminée. Par conséquent, il est impossible d'éliminer complètement les taches de marque

d'effacement et la coloration de la zone de non image.

En outre, la publication de brevet japonais provisoire N 4-43359/'92 décrit une plaque lithographique présensibilisée dans laquelle une surface métallique est revêtue d'une composition liquide contenant un polymère minéral obtenu par hydrolyse et par polycondensation d'un composé métallique organique ayant un groupe fonctionnel organique et un groupe sensible à l'hydrolyse et à la polycondensation ultérieure dans un liquide, et est ensuite munie d'une couche de

résine photosensible.

Selon ce procédé, une surface métallique est revêtue d'une composition liquide contenant le polymère minéral mentionné ci-dessus, de sorte que le polymère minéral colle à la surface métallique en même temps qu'il subit une gélification. Toutefois, il est difficile de contrôler la quantité de revêtement, et aucune amélioration des propriétés de glissement de surface et de capacité de

maintien d'eau n'est atteinte.

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De plus, la publication de brevet japonais provisoire N0 2-13956/'90 décrit un procédé dans lequel une plaque d'aluminium est revêtue d'une couche de silice

colloïdale aqueuse.

Dans ce procédé, toutefois, les particules de silice colloïdale aqueuse ont un diamètre de 5 à 30 /m. Ces grosses particules ne permettent pas d'améliorer la capacité de maintien d'eau. Au contraire, l'encre peut pénétrer dans les interstices

entre les particules pendant l'impression et peut produire des taches.

RESUME DE L'INVENTION

Par conséquent, un but de la présente invention est de proposer un substrat d'aluminium pour une plaque lithographique et une parque lithographique présensibiisée dans lequel, lorsque la plaque lithographique est exposée à la lumière et développée, non seulement une image présentant un bon contraste de dégradé peut être obtenue, mais aussi aucun résidu d'image ne reste dans la zone de non image, ce qui élimine l'encrassement pendant l'impression, la coloration de la zone de non image et les taches de marque d'effacement en forme d'anneau dues à l'utilisation d'un grattoir. Un autre but de celle-ci est de proposer un substrat d'aluminium pour une plaque lithographique et une plaque lithographique présensibilisée dans lequel, lorsque la plaque lithographique est utilisée pour des besoins d'impression, elle présente une résistance à l'usure de la plaque, une insensibilité à l'encre et une capacité de maintien d'eau excellentes, et ne produit

aucune taches d'oxydation (à savoir aucune tache à la reprise de l'impression).

Afin d'atteindre les buts ci-dessus, les présents inventeurs ont mené des

recherches poussées et, ils ont ainsi maintenant réalisé la présente invention.

Spécifiquement, la présente invention propose un substrat d'aluminium pour une plaque lithographique qui est formée par dépôt d'un produit particulaire ayant une granulométrie moyenne n'excédant pas 5 pm sur une surface dégrossie et anodisée d'un substrat d'aluminium, et par traitement de la surface avec de l'eau chaude et/ou de l'air chaud. De préférence, le fluide traitant utilisé pour déposer le produit particulaire contient du fluorure métallique. La présente invention propose aussi une plaque lithographique présensibilisée qui est formée par application

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d'une couche photosensible sur le substrat d'aluminium traité de la manière

décrite ci-dessus.

On connaît plusieurs procédés pour traiter un substrat d'aluminium à l'aide d'eau chaude ou analogue. Par exemple, la publication de brevet japonais provisoire N 51-34007/'76 décrit un procédé dans lequel de l'aluminium anodisé est décapé puis traité avec de l'eau chaude ou de la vapeur d'eau, et la publication de brevet japonais provisoire N 28919/'90 décrit un procédé dans lequel de l'aluminium anodisé est exposé à une atmosphère ayant une température de 50 à 300 C et une pression de vapeur d'eau d'au moins 90 torrs. Toutefois, ces deux procédés sont différents du procédé de la présente invention dans lequel une

surface portant un produit particulaire est traitée avec de l'eau chaude.

En outre, le traitement de surface de la présente invention est complètement différent des procédés connus de façon classique de décapage ou collage d'un film d'oxydation anodique, et des procédés connus de façon classique de revêtement d'une sous-couche d'un agent chimique, d'une résine hydrosoluble ou analogue. A savoir, la présente invention concerne un procédé dans lequel la surface d'un substrat d'aluminium est traitée avec un agent traitant spécifique pour entraîner le dépôt du produit de réaction de l'aluminium et de l'agent traitant sur la surface d'aluminium, bien que son procédé de formation soit inconnu. La morphologie de ce produit peut être observée au microscope optique de forte puissance ou au microscope à balayage électronique. Lorsque le produit est observé avec un faible grossissement de 5 000 diamètres ou moins, il apparaît être constitué de particules sphériques et/ou en forme d'écailles. Toutefois, une observation avec un fort grossissement de 10 000 diamètres ou plus révèle qu'une partie des particules est sphérique, une partie est angulaire et une partie possède

une surface fissurée.

Ces particules sont déposées de façon aléatoire ou uniformément sous forme de projections de façon à épouser la configuration de la surface granuleuse ou à recouvrir toutes les surfaces intérieures des petites alvéoles formées par le

polissage électrolytique.

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Lorsqu'une couche photosensible est appliquée sur celle-ci, ces particules pénètrent dans la couche photosensible et améliorent de ce fait la résistance à l'usure de la plaque. Pendant le développement, la couche photosensible est développée uniformément et nettement, probablement parce que la solution de développement pénètre bien dans les interstices entre les particules. Ainsi, non seulement l'image résultante présente un bon contraste de dégradé, mais aussi la

zone de non image ne subit pas d'encrassement dû au résidu de développement.

En outre, même si la zone de non image est maculée par le grattoir, il ne reste pas de résidu qui produit des taches. En outre, étant donné que le produit particulaire recouvre le film d'oxydation anodique et ses alvéoles, le colorant ou la couche photosensible n'est pas adsorbé par le film d'oxydation anodique, et le colorant ou analogue ne pénètre pas dans les alvéoles, ce qui élimine la coloration de la zone

de non image.

Un effet de ce produit particulaire est que, pendant l'impression, l'eau d'humidification pénètre dans les interstices entre les particules et améliore la capacité de maintien d'eau. Il permet de produire une matière imprimée de qualité

élevée à l'aide d'une petite quantité d'eau d'humidification.

En outre, le produit particulaire produit les effets supplémentaires suivants.

Etant donné que la surface recouverte par le produit particulaire est glissante, les morceaux d'éponge produits par le frottement de la surface avec une éponge contenant de l'eau (par exemple pendant l'impression d'épreuves) ne collent pratiquement pas à la surface. En outre, la réflectance de la surface est réduite en raison de la présence des particules. Ceci produit un effet anti-halo et entraîne une

excellente reproductibilité des points sans provoquer de perte de points.

Comme procédé de traitement d'un substrat d'aluminium avec un composé de type fluorure, la publication de brevet japonais provisoire N 4730405/'72 décrit un procédé dans lequel une surface dégrossie d'un métal est traitée avec une

solution aqueuse contenant un fluorure en tant qu'ingrédient principal.

Toutefois, ce procédé est un procédé de traitement d'une surface dégrossie mais pas anodisée d'un métal, et est par conséquent différent du procédé de la

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présente invention dans lequel un produit particulaire est formé et déposé sur le film d'oxydation anodique. Etant donné qu'aucune particule n'est formée dans le procédé du brevet mentionné précédemment, les effets de la présente invention ne

peuvent pas être prévus.

Comme procédé pour déposer des particules sur un substrat d'aluminium, la publication de brevet japonais provisoire N 55-145193/'80 décrit un procédé dans lequel un substrat à base métallique est traité avec de l'hydrogénofluorure d'ammonium ou de l'hydrogénofluorure de sodium pour former des particules, puis est recouvert d'une couche de chrome. Toutefois, ce procédé est un procédé pour lier un dépôt de chrome plus fermement à une base métallique, et est différent du procédé de la présente invention en ce que la surface portant les particules n'est pas directement utilisée comme surface de substrat pour une

plaque d'impression.

De façon classique, afin d'améliorer la capacité de maintien d'eau et la résistance à l'usure de la plaque pendant l'impression, il est de pratique courante de former une surface granuleuse en profondeur et de façon grossière, par exemple par un degré important d'abrasion ou de décapage, et d'éliminer les débris produits pendant ce procédé. Bien que l'on puisse s'attendre à ce que ce procédé produise un certain effet bénéfique, il peut souvent arrivé que, état donné que la surface granuleuse a des bords tranchants, les particules d'encre sont piégées par ceux-ci, ce qui entraîne un noircissement, une mauvaise capacité d'élimination de la couche photosensible pendant le développement et des taches dues à un résidu de développement. En revanche, la présente invention propose un nouveau procédé qui est absolument inconnu dans la technique antérieure et dans lequel un produit formé par un certain traitement de surface reste sur la surface granuleuse et est en outre exposé à de l'eau chaude et/ou à de l'air chaud. Ce produit particulaire se révèle améliorer efficacement l'adhérence de la couche photosensible, donnant une bonne capacité d'élimination de la couche photosensible pendant le développement et améliorant la capacité de maintien d'eau pendant l'impression parce que les particules entraînent une augmentation

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de la surface spécifique et l'eau d'humidification pénètre bien dans les interstices entre les particules. La présente invention a été réalisée sur la base de cette découverte. Par conséquent, si la couverture de ce produit est réduite à moins de 30% de la surface, les effets de la présente invention peuvent être réduits. Il en résulte qu'il peut être difficile d'obtenir un substrat d'aluminium satisfaisant pour une

plaque lithographique.

Lorsque le substrat d'aluminium pour une plaque lithographique selon la présente invention est utilisé pour former une plaque lithographique présensibilisée, on peut obtenir une excellente plaque d'impression qui est caractérisée en ce qu'un bon contraste de dégradé est produit même lorsqu'un nombre accru de copies est imprimé, un encrassement de la zone de non image pendant l'impression et des taches à la reprise de l'impression (taches d'oxydation) ne sont pas observés, une excellente résistance à l'usure de la plaque est atteinte, et des marques d'effacement et des taches autour de celles-ci ne sont

pas produites.

BREVE DESCRIPTION DES DESSINS

La figure 1 est une photographie prise au microscope électronique représentant la surface d'un substrat d'aluminium ayant un film d'oxydation anodique avant le traitement de surface de la présente invention; et la figure 2 est une photographie prise au microscope électronique représentant la surface du substrat d'aluminium ayant subi le traitement de surface

de la présente invention.

DESCRIPTION DETAILLEE DES MODES DE REALISATION PREFERES

Plusieurs modes de réalisation de la présente invention vont être décrits

spécifiquement ci-dessous en ordre prescrit.

La plaque d'aluminium utilisée dans la présente invention est un corps en plaque fait d'aluminium pur essentiellement constitué d'aluminium ou d'un alliage d'aluminium contenant une faible quantité d'atomes étrangers. Ces atomes étrangers englobent le silicium, le fer, le cuivre, le manganèse, le magnésium, le

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nickel, le zinc, le titane et analogues. La composition de la plaque d'aluminium utilisée dans la présente invention n'est pas critique, et toute matière connue de

façon classique et utilisée de façon classique peut être avantageusement utilisée.

L'épaisseur de la plaque d'aluminium utilisée dans la présente invention est de préférence dans la gamme d'environ 0,1 à 0,4 mm. Avant le dégrossissement de surface, la plaque d'aluminium est dégraissée, par exemple, avec un agent tensioactif ou avec une solution aqueuse alcaline afin d'éliminer toute matière huileuse qui adhère à sa surface pendant le laminage. Dans la mise en oeuvre de la présente invention, on peut employer un procédé de dégrossissement de surface mécanique, un procédé de dégrossissement de surface électrochimique, ou une combinaison de ceux-ci. Des exemples spécifiques du procédé de dégrossissement de surface mécanique englobent diverses techniques bien connues, telles que le brossage, l'abrasion à billes, le sablage, le polissage et analogue. Un exemple de procédé de dégrossissage de surface électrochimique comprend l'application d'un courant alternatif ou d'un courant continu à la plaque d'aluminium dans un électrolyte comprenant de

l'acide chlorhydrique ou de l'acide nitrique.

Avant l'anodisation, la plaque d'aluminium dégrossie en surface est de

façon souhaitable soumise à un décapage alcalin, le cas échéant.

Les agents alcalins qui peuvent être utilisés pour le décapage alcalin englobent l'hydroxyde de sodium, l'hydroxyde de potassium, le phosphate de sodium tertiaire, le phosphate de potassium tertiaire, l'aluminate de sodium, le carbonate de sodium, le métasilicate de sodium, l'orthosilicate de sodium, le gluconate de sodium et analogues. N'importe laquelle des diverses solutions de décapage alcalin préparées à l'aide de ces agents alcalins peut être utilisée seule

ou en mélange de deux d'entre elles ou plus.

La concentration de la solution de décapage alcalin est de préférence dans la gamme de 1 à 60% en poids, et la plaque d'aluminium est traitée à une température de solution de 30 à 100 C pendant une durée de 2 à 60 secondes 0lo 2780337 jusqu'à ce que 0,1 à 13 g/m2 de matière soient éliminés par décapage. Le décapage alcalin peut être réalisé, par exemple, par trempage de la plaque d'aluminium dans un bain de la solution de décapage ou par pulvérisation de la solution de décapage sur la plaque d'aluminium avec un pulvérisateur ou une buse. Après le décapage alcalin décrit ci-dessus, la plaque d'aluminium est nettoyée le cas échéant. Ceci peut être réalisé par un traitement avec de l'acide nitrique, de l'acide phosphorique, de l'acide sulfurique, ou un mélange de deux de ces acides ou plus, ou simplement par lavage avec de l'eau ou éventuellement par

i0 lavage avec de l'eau sous haute pression.

Ensuite, la plaque d'aluminium est anodisée. L'électrolyte utilisé dans ce but peut habituellement comprendre de l'acide sulfurique, de l'acide phosphorique, de l'acide oxalique, de l'acide chromique, ou un mélange de ces acides. Les conditions de traitement pour l'anodisation peuvent varier largement

selon le type d'électrolyte utilisé et ne peuvent pas être globalement spécifiées.

Toutefois, il est généralement préférable que la concentration en électrolyte soit dans la gamme de 1 à 50% en poids, que la température de la solution soit dans la gamme de 5 à 45 C, que la densité de courant soit dans la gamme de 1 à 40 A/dm2, que la tension soit dans la gamme de 5 à 50 v et que la durée de traitement

soit dans la gamme de 5 secondes à 10 minutes.

La quantité du film d'oxydation anodique ainsi formé est de préférence d'au moins 0,5 g/m2 et, mieux encore, dans la gamme de 1,0 à 4,0 g/m2. Si la quantité du film d'oxydation anodique est inférieure à 0,5 g/dm2, la surface sera sensible à un endommagement. Pendant l'impression, les parties endommagées tendent à recevoir de l'encre et à produire des taches. En revanche, si la quantité du film d'oxydation anodique est supérieure à 4,0 g/dm2, ceci entraînera de façon indésirable une diminution de la vitesse de développement et une réduction de la sensibilité. tIî 1 2780337 Après un lavage avec de l'eau, la plaque d'aluminium est soumise à un traitement de surface selon la présente invention. Le traitement de surface de la présente invention peut être réalisé à l'aide d'un fluide traitant contenant au moins 1,0% en poids de fluorure métallique, à condition que la concentration en fluorure métallique soit dans une gamme telle qu'elle ne décape pas le film d'oxydation anodique. En outre, si une substance acide est ajoutée en une quantité telle qu'elle ne décape pas le film d'oxydation anodique, la limite inférieure de la concentration en fluorure métallique peut être réduite à environ 0,5% en poids. Ce traitement de surface peut aussi être réalisé après que la plaque d'aluminium soit anodisée et lavée avec de l'eau, et le film d'oxydation anodique résultant est collé par un décapage modéré ou par un autre procédé, ou après que la plaque d'aluminium soit soumise à un post-traitement, tel qu'un traitement à l'acide

phosphorique ou au phosphate ou un traitement au silicate.

Dans la mise en oeuvre de la présente invention, la surface d'aluminium anodisée est d'abord traitée avec une solution aqueuse contenant un fluorure métallique, ou avec à la fois un fluorure métallique et une substance acide. Ainsi, sans décaper le film d'oxydation anodique à un degré substantiel et sans altérer la forme des cellules du film d'oxydation anodique, un produit particulaire ayant une granulométrie moyenne n'excédant pas 5 pm (par exemple un produit de réaction qui semble être constitué de particules sphériques et/ou en forme d'écailles) est déposé de façon aléatoire ou uniformément sous forme de projections de façon à épouser la configuration de la surface granuleuse de la plaque d'aluminium ou à recouvrir toutes les surfaces intérieures des alvéoles formées par le polissage électrolytique. Ensuite, la plaque d'aluminium est traitée avec de l'eau chaude

et/ou de l'air chaud.

Bien que la plupart du produit résultant soit sous forme de particules sphériques et/ou en forme d'écailles, certaines particules peuvent prendre la forme

d'une sphère cassée et peuvent ressembler à des cristaux angulaires.

Le produit est de préférence déposé de façon à recouvrir au moins 30% de la surface anodisée, bien que cette valeur puisse varier selon les conditions de

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traitement. Mieux encore, la couverture du produit est dans la gamme de 40 à %. Si la couverture du produit est inférieure à 30%, l'effet d'amélioration de la capacité de maintien d'eau et de la résistance à l'usure de la plaque n'est pas

nécessairement atteint.

La granulométrie est de préférence d'au plus 5 /m et, mieux encore, dans la gamme de 0,01 à 2 /m. Si elle est inférieure à 0,01 rm, il peut en résulter une réduction de la capacité de maintien d'eau, de la résistance à l'usure de la plaque et des propriétés de glissement superficiel. En revanche, si elle est supérieure à 5 pm, il peut en résulter une réduction de la capacité de maintien d'eau et, pendant l'impression, l'encre peut pénétrer dans les interstices entre les particules, ce qui

produit des taches.

Lorsque la quantité de produit déposée est exprimée sur une base pondérale, elle est de préférence dans la gamme d'environ 0,005 à 2,0 g/m2 et, mieux encore, de 0,01 à 1,5 g/m2. Si la quantité de produit déposée est inférieure à 0,005 g/m2, aucune amélioration de la résistance à l'usure de la plaque, de l'encrassement ou des taches de marque d'effacement ne peut être obtenue. En revanche, si elle est supérieure à 2,0 g/m2, une réduction de la capacité de développement en résultera et, par conséquent, la plaque PS peut ne pas être développée de façion satisfaisante avec une solution de développement usée. On peut déterminer le changement de poids en pesant la plaque d'aluminium avant et

après le traitement et en calculant la différence de poids entre ces deux valeurs.

La réflectance de la surface portant le produit particulaire déposé est réduite d'au plus 25% par rapport à la réflectance de la surface avant le dépôt du produit particulaire. Par conséquent, le halo à la surface est réduit et la dispersion de la lumière pendant l'exposition de la plaque lithographique présensibilisée est empêchée, conduisant à une réduction de la perte de points et à une amélioration

de la reproductibilité des points.

L'aspect de la surface peut être observé au microscope optique de forte

puissance ou au microscope électronique à balayage.

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La figure 1 représente la surface d'un substrat d'aluminium portant un film d'oxydation anodique avant le traitement de surface de la présente invention, et la figure 2 représente la surface du substrat d'aluminium ayant subie le traitement de

surface de la présente invention.

Des exemples spécifiques du fluorure métallique qui est de préférence utilisé pour le traitement de surface de la présente invention et qui ne décape pas le film d'oxydation anodique dans une certaine gamme de concentrations englobent le fluorure de sodium, le fluorure de magnésium, le fluorure de baryum, le fluorure de potassium, le fluorure de chrome, le fluorure de lithium et le fluorure de manganèse. Ces fluorures métalliques peuvent être utilisés seuls ou en mélange de deux d'entre eux ou plus. Parmi ces fluorures métalliques, le fluorure

de sodium et le fluorure de potassium sont particulièrement préférés.

La concentration en fluorure métallique qui ne décape pas le film d'oxydation anodique est avantageusement dans la gamme de 0,5 à 40% en poids et, de préférence, de 1,0 à 30% en poids. Si la concentration enfluorure métallique est inférieure à 0,5% en poids, l'effet souhaité de la présente invention peut ne pas être obtenu parce que les particules ne sont pas facilement formées. Si elle est supérieure à 40% en poids, des effets indésirables peuvent être produits en ce que les particules résultantes ont un diamètre indûment petit, le film d'oxydation anodique tend à être décapé et le fluorure métallique ne se dissout pas facilement. Le fluide traitant contenant le fluorure métallique décrit ci-dessus peut en outre contenir d'autres composés qui n'interfèrent pas avec la formation des particules et qui ne décapent pas le film d'oxydation anodique. Ces composés englobent, par exemple, l'acide sulfurique, l'acide nitrique, l'acide chlorhydrique, l'acide phosphorique et l'acide acétique, ainsi que leur sels d'aluminium, leur sels d'ammonium, leur sels de sodium, leur sels de potassium, leur sels de calcium, leur sels de zinc, leur sels de magnésium et leur sels de lithium. En outre, ils englobent aussi l'acide oxalique, l'acide tannique, l'alun, l'alun de chrome,

l'acide borique, l'anhydride de l'acide chromique et les sels de l'acide chromique.

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Ces composés peuvent être ajoutés seuls ou en mélange de deux d'entre eux ou plus. De plus, on peut utiliser des compositions connues de façon classique sous le nom d'agents de décapage ou d'agents de contre- décapage pour plaques lithographiques. Lorsque les composés mentionnés précédemment sont des acides forts, tels que l'acide sulfurique, l'acide nitrique, l'acide chlorhydrique, l'acide phosphorique et l'acide acétique, ils sont avantageusement ajoutés en une proportion de 0,1 à 1,0% en poids et, de préférence, de 0,2 à 0,6% en poids. Si la proportion est inférieure à 0,1% en poids, aucune amélioration de la capacité de maintien d'eau ne peut être attendue, alors que si elle est supérieure à 1,0% en poids, le film d'oxydation anodique peut être décapé de façon indésirable. Dans le cas des autres composés décrits ci-dessus, ils sont avantageusement ajoutés en une proportion de 0,2 à 50% en poids et, de préférence, de 0,5 à 40% en poids. Si la proportion est inférieure à 0,2% en poids, aucune amélioration de la capacité de maintien d'eau ne peut être attendue, alors que si elle est supérieure à 50% en

poids, la vitesse de développement peut être réduite de façon indésirable.

En plus de ces ingrédients principaux, le fluide traitant peut en outre contenir des silicates métalliques, des agent anti-tartre, des tensioactifs, des solvants organiques, des résines hydrosolubles, des substances émulsifiées insolubles dans l'eau, des colorants ou des pigments antihalo, et analogues, tant qu'ils ne dissolvent pas (décapent) ou n'éliminent pas le produit déposé à la surface. Les procédés de traitement qui peuvent être employés dans la présente

invention englobent le trempage, la pulvérisation, le revêtement et analogues.

La température de traitement est avantageusement dans la gamme de 10 à C et la durée de traitement est avantageusement dans la gamme de 1 à 60 secondes. Le pH est de façon souhaitable dans le domaine de 1,0 à 6,5. Pendant ce traitement, la plaque d'aluminium peut être traitée de la même manière que dans une anodisation, à savoir par passage d'un courant continu ou d'un courant

alternatif à travers cette dernière. Ainsi, la durée de traitement peut être réduite.

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Si la concentration en fluide traitant est accrue ou si la durée de traitement est prolongée, le produit particulaire sphérique ou en forme d'écailles peut être

déposé de manière dense, de façon à former une surface essentiellement plane.

Toutefois, on pense que les effets de la présente invention peuvent être présentés plus complètement lorsque le produit est déposé sous forme de particules plus ou

moins sphériques ou en forme d'écailles.

Dans la mise en oeuvre de la présente invention, le substrat d'aluminium

ayant été traité par le fluide traitant contenant le fluorure métallique décrit ci-

dessus est éventuellement lavé avec de l'eau puis séché par un traitement avec de i0 l'eau chaude, de l'air chaud ou une combinaison d'eau chaude et ensuite d'air chaud, de sorte que le produit particulaire formé sur la surface du film d'oxydation anodique puisse adhérer plus fermement à la surface du film d'oxydation anodique et une amélioration plus importante de la capacité de

maintien d'eau et de la résistance à l'usure de la plaque peut être atteinte.

L'air chaud doit avoir une température d'au moins 50 C. Il est plus

efficace que l'air chaud ait une température de 50 à 180 C.

Si la température de l'eau chaude ou de l'air chaud est inférieure à 50 C, le produit particulaire sur la surface du film d'oxydation anodique tend à être éliminé pendant l'impression d'un grand nombre de copies, conduisant à une mauvaise insensibilité à l'encre et à une mauvaise capacité de maintien d'eau. En outre, il existe une possibilité selon laquelle le produit particulaire dans la zone d'image puisse devenir sensible aux chocs et puisse être facilement éliminé, conduisant à une séparation des parties d'image et à un manque de résistance à

l'usure de la plaque.

D'autre part, si la température de l'air chaud est supérieure à 180 C, le substrat d'aluminium peut être déformé ou allongé, ce qui entraîne une réduction

de la planéité globale.

Le traitement avec l'eau chaude peut être avantageusement réalisé par trempage, versement, chute à partir de buses, pulvérisation, ou analogue. Le

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traitement avec l'air chaud peut être réalisé, par exemple, par soufflage d'air

chaud contre la surface du substrat à l'aide d'une soufflerie.

Le substrat d'aluminium ayant été traité de la manière décrite ci-dessus peut être utilisé directement comme substrat pour une plaque lithographique. Le cas échéant, le substrat d'aluminium peut être soumis à des traitements de surface supplémentaires avant ou après le traitement avec de l'eau chaude et/ou de l'air chaud. Les traitements de surface convenables englobent, par exemple, un traitement avec une solution aqueuse d'un composé choisi parmi l'acide sulfurique, l'acide phosphorique, l'acide nitrique, l'acide borique, l'acide chromique, l'acide silicique, et leur sels d'ammonium et leur sels de métaux alcalins; un traitement avec un tensioactif ou avec un agent anti-goutte; un traitement pour former une sous-couche comprenant un composé hydrosoluble, tel que le poly(acide acrylique), le poly(alcool vinylique), le poly(acide vinylphosphonique), la polyvinylpyrrolidone, la carboxyméthylcellulose ou la dextrine; et le revêtement d'une sous- couche de colorant ou de pigment pour la prévention d'un halo. Dans ce cas également, il n'est pas avantageux d'employer des procédés de traitement et des conditions de traitement qui peuvent entraîner la

dissolution ou l'élimination du produit déposé sur la surface.

En variante, les produits chimiques ou les composés décrits ci-dessus

peuvent être ajoutés à l'eau chaude.

Le substrat d'aluminium ayant été traité comme décrit ci-dessus peut être muni d'une couche photosensible de la manière habituelle pour former une plaque lithographique présensibilisée (plaque PS). Il n'existe aucune limitation particulière quant à la composition photosensible utilisée pour la couche photosensible, et on peut généralement utiliser n'importe quelle composition photosensible bien connue parmi plusieurs. Des exemples utiles de ces dernières englobent une composition photosensible de type positif essentiellement constituée d'un composé diazoture d'o-quinone; une composition photosensible de type négatif essentiellement constituée d'une résine diazoïque; un composé

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photopolymérisable essentiellement constitué d'un monomère contenant une double liaison insaturée; une composition photosensible de type négatif comprenant de l'acide cinnamique ou un composé photoréticulable contenant un groupe diméthylmaléimide; une composition photosensible de type négatif ou positif utilisant un composé d'enregistrement sur le mode thermique ou analogue comme matière photosensible. En outre, comme décrit, par exemple, dans les publications de brevet japonais provisoires N 55-161250/'80 et 4-100052/'92, on peut aussi utiliser une couche photosensible électrophotographique et une couche photosensible constituée d'une couche de centres de développement physique et 0 d'une couche d'émulsion d'halogénure d'argent selon un procédé complexe de

transfert par diffusion d'un sel d'argent.

En outre, en plus de l'utilisation décrite ci-dessus en tant que plaque PS, le substrat d'aluminium mentionné précédemment peut aussi être utilisé comme substrat pour former directement une image sur celui-ci au moyen d'un jet d'encre ou d'une encre durcissable sous l'action de rayons ultraviolets. Parmi les matières photosensibles mentionnées précédemment, un exemple du composé photopolymérisable essentiellement constitué d'un monomère contenant une double liaison insaturée est une composition comprenant un composé insaturé polymérisable par addition ayant un groupe éthylène terminal et un initiateur de photopolymérisation, comme décrit dans le brevet

américain N 2 760 863 et dans la publication de brevet japonais provisoire N 5-

262811/'93. Un exemple de la matière photosensible de type négatif comprenant un composé photoréticulable contenant un groupe diméthylmaléimide est une composition photosensible telle que décrite dans les publications de brevet

japonais provisoires N 52-988/'77 et 62-78544/'87.

Les composés diazoture d'o-quinone qui peuvent être utilisés comme compositions photosensibles de type positif englobent, par exemple, un composé

ester préparé à partir de chlorure de naphtoquinone-1,2-diazoture-5 (ou 4-)-

sulfonyle et d'une résine phénol-formaldéhyde, comme décrit dans le brevet américain N 3 046 120; un composé ester préparé à partir de chlorure de

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naphtoquinone-1,2-diazoture-5 (ou 4-)-sulfonyle et d'une résine pyrogallol-

acetone, comme décrit dans la publication de brevet japonais provisoire N 43-

28403/'68; et un composé ester préparé à partir de 2,3,4trihydroxybenzophénone ou d'un composé polyhydroxylé ayant une masse moléculaire d'au plus 1 000 et de chlorure de naphtoquinone-1,2diazoture-5 (ou 4-)-sulfonyle. Bien que le composé diazoture d'o-quinone puisse être utilisé seul pour former une couche photosensible, il est de préférence utilisé en combinaison avec une résine liante comprenant une résine soluble dans une base. La résine liante peut comprendre une résine de type novolaque, et des exemples de celle-ci

englobent la résine phénol-formaldéhyde, les résines de o-, m- et pcrésol-

formaldéhyde, la résine de m/p-crésol mixte-formaldéhyde, la résine mixte de phénol-crésol (qui peut être du m-, du p- ou du m/p-crésol mixte)-formaldéhyde, et la résine t-butylphénol-formaldéhyde. En outre, on peut aussi utiliser une résine de polyvinylphénol, une résine de polyvinylphénol t-butyl-substitué, un homopolymère de p- isopropénylphénol et ses copolymères avec d'autres monomères, un homopolymère de phénylmaléimide contenant un groupe hydroxyle ou carboxyle et ses copolymères avec d'autres monomères, des résines de polyuréthanes solubles dans une base, des résines de polyamide, des résines de

styrène-anhydride maléique, et analogues.

En plus des composés diazoture d'o-quinone mentionnés précédemment et des résines liantes, les compositions photosensibles de type positif peuvent en outre contenir des additifs, tels que des colorants, des générateurs d'acides photoinduits, des plastifiants, des tensioactifs, des anhydrides d'acides cycliques,

des acides organiques et des sensibilisateurs, le cas échéant.

D'autre part, les compositions photosensibles de type négatif pour des plaques PS englobent les compositions photosensibles contenant une résine diazoïque, les compositions photopolymérisables et les compositions photoréticulables. Parmi celles-ci, les compositions photosensibles contenant une résine diazoïque sont décrites plus spécifiquement ci-dessous en référence à

certains exemples de celles-ci.

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Des exemples de la résine diazoique englobent les sels minéraux de résine

diazoïque solubles dans un solvant organique obtenus par condensation de p-

diazodiphénylamine avec du formaldéhyde ou de l'acétaldéhyde, et par réaction du produit de condensation avec un sel d'acide hexafluorophosphorique ou un sel d'acide tétrafluoroborique; et les sels organiques de résine diazoïque solubles dans un solvant organique obtenus par réaction du produit de condensation

mentionné ci-dessus avec un composé acide sulfonique (par exemple l'acide p-

toluènesulfonique, l'acide dodécylbenzènesulfonique ou un sel de ceux- ci) ou un

composé contenant un groupe hydroxyle (par exemple la 2,4-

dihydroxybenzophénone, l'acide 2-méthoxy-4-hydroxy-5-

benzoylbenzènesulfonique ou un sel de ceux-ci).

D'autres résines diazoïques utilisables englobent les sels de résine diazoiïque obtenus par formation d'un produit de condensation conjointe ayant des motifs structuraux dérivés d'un composé aromatique contenant au moins un groupe organique choisi parmi les groupes carboxyle, acide sulfonique, acide sulfinique et hydroxyle, et un composé diazonium aromatique, et par réaction du produit de condensation conjointe avec un composé minéral ou organique, comme

décrit ci-dessus.

Ces sels de résine diazoïque sont de préférence utilisés en combinaison avec une résine liante comprenant une résine soluble dans une base. Des exemples de la résine liante englobent un copolymère d'un monomère ayant un groupe hydroxyle aliphatique et d'un ou de plusieurs autres monomères, comme décrit

dans la publication de brevet japonais provisoire N 50-118802/'75 ou 54-

88403/'79; un copolymère d'un monomère ayant un groupe hydroxyle aromatique et d'un ou de plusieurs autres monomères, comme décrit dans la

publication de brevet japonais provisoire N 54-98614/'79; un copolymère de p-

isopropénylphénol et d'un ou plusieurs autres monomères; un copolymère de N-

(p-hydroxyphényl)maléimide; et une résine de polyuréthane ayant des groupes

carboxyle et/ou hydroxyle.

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En plus des matières mentionnées précédemment, les compositions photosensibles contenant la résine diazoïque peuvent en outre contenir des additifs, tels que des colorants, des générateurs d'acides photoinduits, des plastifiants, des tensioactifs, des anhydrides d'acides cycliques, des acides organiques, des sensibilisateurs, des conservateurs et des agents de matage, le cas échéant. La plaque PS ainsi obtenue est exposée à un rayonnement actinique provenant d'une source lumineuse, telle qu'une lumière à arc de carbone, une lampe à vapeur de mercure, une lampe à halogénure métallique, une lampe au xénon, une lampe chimique, un laser à l'argon, un laser hélium-cadmium, un laser infrarouge ou un laser semi-conducteur, à travers un film original transparent, puis est développée. Comme développateur et comme solution de redosage pour cette plaque PS, on peut utiliser n'importe quelle solution aqueuse alcaline connue de façon classique parmi plusieurs. Les agents alcalins qui peuvent être utilisés dans ce but englobent, par exemple, l'hydroxyde de sodium, l'hydroxyde de potassium, les silicates de métaux alcalins, l'octanoate de sodium, les alkylamines et l'hydroxyde de tétraméthylammonium. Ces agents alcalins peuvent être utilisés

seuls ou en mélange de deux d'entre eux ou plus.

Afin d'augmenter ou de réduire la capacité de développement et de disperser le résidu de développement, le développateur et la solution de redosage peuvent en outre contenir divers tensioactifs, solvants organiques, agent réducteurs, et analogues, le cas échéant. La plaque PS ainsi développée est traitée ultérieurement avec un fluide de rinçage comprenant de l'eau de lavage, un tensioactif, un acide, etc.; une solution de désensibilisation contenant de la

gomme arabique et un dérivé d'amidon ou de la dextrine; et analogues.

EXEMPLES

La présente invention est expliquée plus spécifiquement en référence aux exemples suivants. Toutefois, ces exemples ne sont pas censés limiter le cadre de l'invention. Exemples 1-3 et exemples comparatifs 1-3

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Après avoir dégraissé complètement les deux faces de plaques d'aluminium d'une épaisseur de 0,24 mm, on granule la surface de chaque plaque d'aluminium au moyen d'une brosse en nylon et d'une suspension aqueuse de poudre de pierre ponce, et on la lave convenablement avec de l'eau. Après avoir décapé la plaque d'aluminium en la trempant dans une solution d'hydroxyde de sodium à 15% en poids à 80 C pendant 10 secondes, on la lave avec de l'eau courante, puis on la soumet un traitement de dégrossissage électrolytique de surface à 200 coulombs/dm2 dans un bain d'acide chlorhydrique iN. Après un lavage avec de l'eau, on décape encore la plaque d'aluminium avec une solution d'hydroxyde de sodium à 15% en poids, on la lave avec de l'eau et on la nettoie

en la trempant dans une solution aqueuse à 20% en poids d'acide sulfurique.

Ensuite, on anodise la plaque d'aluminium dans une solution aqueuse à 15% en poids d'acide sulfurique pour former 2,0 g/m2 d'un film d'oxydation anodique sur celle-ci. Après un lavage avec de l'eau, on traite la plaque d'aluminium de la

façon suivante.

Exemple 1: on trempe la plaque d'aluminium dans une solution de fluorure de sodium à 2% en poids à 50 C pendant 15 secondes, on la trempe dans de l'eau chaude à 90 C pendant 10 secondes, puis on la sèche avec de l'air chaud

à 40 C.

Exemple 2: on trempe la plaque d'aluminium dans une solution de fluorure de sodium à 2% en poids à 50 C pendant 15 secondes, on la lave avec de

l'eau, puis on la sèche avec de l'air chaud à 100 C pendant 10 secondes.

Exemple 3: on trempe la plaque d'aluminium dans une solution de fluorure de sodium à 2% en poids à 50 C pendant 15 secondes, on la trempe dans de l'eau chaude à 90 C pendant 10 secondes, puis on la sèche avec de l'air chaud

à 100 C pendant 10 secondes.

Exemple comparatif 1: on trempe la plaque d'aluminium dans une solution de fluorure de sodium à 2% en poids à 50 C pendant 15 secondes, on la

lave avec de l'eau, puis on la sèche avec de l'air chaud à 40 C.

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Exemple comparatif 2: on lave la plaque d'aluminium avec de l'eau, puis

on la sèche avec de l'air chaud à 100 C.

Exemple comparatif 3: on lave la plaque d'aluminium avec de l'eau, puis

on la sèche avec de l'air chaud à 40 C.

Le produit particulaire formé sur la surface d'aluminium dans les exemples 1-3 a une granulométrie moyenne de 0,12 tm, et sa quantité formée est

de 0,18 g/m2.

Chacune des plaques d'aluminium ainsi traitée est munie d'une couche photosensible par application sur celle-ci d'une solution de sensibilisation (1) ayant la composition suivante en une quantité telle qu'elle donne un poids de film

sec de 2,0 g/m2.

Solution de sensibilisation (1)

Ester préparé à partir de chlorure de naphtoquinone-1,2-diazoture-

-sulfonyle et de 2,3,4-trihydroxybenzophénone 2,5 g Résine mcrésol-formaldéhyde de type novolaque 6,0 g Chlorure de naphtoquinone-1,2-diazoture-4-sulfonyle 0,1 g Huile bleue 613 0,2 g Méthylcellosolve 50 g Ether monométhylique de propylèneglycol 50 g On met en contact chacune des six plaques lithographiques présentibilisées (plaques PS) ainsi obtenues avec un film original et avec une table à paliers sous vide, puis on l'expose à une lumière provenant d'une lampe à halogénure

métallique de 3 kW placée à une distance de 1 m pendant 50 secondes.

Ensuite, on produit une image en trempant les plaques PS dans une solution de développement ayant la composition suivante à 25 C pendant 20 secondes.

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Composition Silicate de sodium norme industrielle japonaise (JIS) N 3 25 g Hydroxyde de potassium 15 g Tensioactif amphotère 1 g Eau 1 kg Après avoir développé les plaques PS de la manière décrite ci-dessus, on évalue leur contraste de dégradé sur la base du nombre de paliers transparents et du nombre de paliers opaques dans la table à paliers. Après un lavage avec de l'eau, on les désensibilise par gommage, puis on les utilise comme plaques d'impression de manière habituelle. Ainsi, on évalue ces plaques d'impression des points de vue de l'encrassement de la zone de non image pendant l'impression, des taches à la reprise de l'impression (à savoir les taches sous forme de points fins qui sont produites lorsque l'impression est reprise après une pause, et qui sont aussi connues sous le nom de "taches d'oxydation"), et de l'usure de plaque. En outre, en utilisant une solution de développement usée comprenant la solution de développement mentionnée précédemment qui a été utilisée pour développer 5 m2/litre de plaques lithographiques présensibilisées, on développe les mêmes plaques lithographiques présensibilisées comme décrit ci-dessus et on les évalue du point de vue des taches de marque d'effacement. Les résultats ainsi obtenus

sont présentés dans le tableau 1.

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Tableau 1

Contraste de dégradé Nb de Nb de Différence de Encras- Taches Taches Résistance paliers paliers dégradé sement d'oxydation de à l'usure de trans- opaques (points/ 100 marque la plaque

parents cm2) d'effa-

cement Exemple 1 6 10 4 O 0 O 90 000 Exemple 2 6 10 4 O 0 O 100 000 Exemple 3 6 10 4 O 0 O 120 000 Ex. comn. 16 10 4 D 15 O 80 000 Ex. com. 2 5 10 5 x 60 X 60 000 Ex. Com. 3 5 10 5 x 85 X 70000 Les modes opératoires pour évaluer les caractéristiques mentionnées

précédemment sont les suivantes.

Evaluation du contraste de dégradé Pour chaque plaque d'impression, on lit le nombre de paliers transparents et le nombre de paliers opaques sur la table à paliers développée. Une différence plus faible entre le nombre de paliers transparents et le nombre de paliers opaques (à savoir un contraste de dégradé plus faible) indique un meilleur contraste de dégradé. Evaluation de l'encrassement Après avoir utilisé chaque plaque d'impression pour imprimer environ 000 copies, on examine visuellement les taches de la partie non image de la

* surface de blanchet et à la surface du papier imprimé.

O: On n'observe aucune tache à la surface du blanchet et à la

surface du papier imprimé.

X: La surface du blanchet porte des taches sombres, mais on

n'observe aucune tache visible à la surface du papier imprimé.

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D: La surface du blanchet porte des taches sombres et on observe des taches sous forme de points fins à la surface du papier imprimé. Taches d'oxydation (ou taches à la reprise de l'impression) Après avoir utilisé chaque plaque d'impression pour imprimer environ 000 copies, on arrête la presse d'impression et on la laisse reposer pendant 1 heure. Lorsque l'on reprend l'impression, on examine les taches sous forme de points fins de la matière imprimée. On évalue l'apparition de taches d'oxydation

sur la base du nombre de ces taches.

Taches de marque d'effacement Après avoir développé chaque plaque PS avec une solution de développement usée pour former une plaque d'impression, on applique un grattoir PS disponible dans le commerce (RP- 1S; fabriqué par Fuji Photo Film Co., Ltd.)

sur les zones d'image et de non image de la plaque d'impression avec une brosse.

Après un lavage avec de l'eau, on applique de l'encre sur la plaque d'impression et on examine les taches de bord dues à l'effacement et les taches dans les régions effacées.

O: On n'observe ni marques d'effacement ni taches.

D: On observe des marques d'effacement, mais elles ne sont pas

tachées par de l'encre.

X: On observe des marques d'effacement, et elles sont tachées par de l'encre. Evaluation de l'usure de plaque On examine chaque plaque d'impression au niveau du nombre minimum de copies à partir duquel les parties opaques de l'image deviennent minces, la plaque d'impression n'est pas correctement encrée et d'une anomalie de densité

apparue au niveau de la matière imprimée.

Exemple 4 et exemples comparatifs 4-5 On soumet des plaques d'aluminium à des traitements de dégrossissage de surface et d'anodisation de la même manière que dans l'exemple 1. Après un

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lavage avec de l'eau, on traite chacune des ces plaques d'aluminium de la manière suivante. Exemple 4: On trempe la plaque d'aluminium dans une solution mixte contenant 2% en poids de fluorure de potassium et 15% en poids de dihydrogénophosphate de sodium à 60 C pendant 10 secondes, on la tempe dans de l'eau chaude à 80 C pendant 5 secondes, on la lave avec de l'eau, on la trempe dans une solution de silicate de sodium à 10% en poids à 70 C pendant 20

secondes, on la lave avec de l'eau, puis on la sèche avec de l'air chaud à 40 C.

Exemple comparatif 4: On trempe la plaque d'aluminium dans une solution mixte contenant 2% en poids de fluorure de potassium et 15% en poids de dihydrogénophosphate de sodium à 60 C pendant 10 secondes, on la lave avec de l'eau, on la trempe dans une solution de silicate de sodium à 10% en poids à C pendant 20 secondes, on la lave avec de l'eau, puis on la sèche avec de l'air

chaud à 40 C.

Exemple comparatif 5: On trempe la plaque d'aluminium dans une solution de silicate de sodium à 10% en poids à 70 C pendant 20 secondes, on la

lave avec de l'eau, puis on la sèche avec de l'air chaud à 40 C.

Le produit particulaire formé sur la surface d'aluminium dans l'exemple 4

a une granulométrie moyenne de 0,20 fim, et sa quantité formée est de 0, 28 g/m2.

Chacune des plaques d'aluminium ainsi traitée est munie d'une couche photosensible par application sur celle-ci d'une solution de sensibilisation (2) ayant la composition suivante en une quantité telle qu'elle donne un poids de film

sec de 1,8 g/m2.

Solution de sensibilisation (2)

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Copolymère de méthacrylate de 2-hydroxy-3-phénoxypropyle, de méthacrylate de 2-hydroxyéthyle, d'acide méthacrylique, de méthacrylate de méthyle et d'acrylonitrile (dans un rapport pondérai de 30:20:5:20:25) 30 g Sel de l'acide 2- méthoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzènesulfonique du produit de condensation 4-diazophénylamine/formaldéhyde 3 g Victoria Pure Blue BOH (fabriqué par Hodogaya Chemical Co., 1 g Ltd.) Acide oxalique 0,3 g Méthylcellosolve 100 g N,N-diméthylformamide 10 g A travers un film négatif et une table à paliers, on expose chacune des plaques lithographiques présentibilisées (plaques PS) ainsi obtenues à une lumière provenant d'une lampe à halogénure métallique de 3 kW placée à une distance de 1 m pendant 50 secondes. Ensuite, on produit une image en trempant les plaques PS dans une solution de développement ayant la composition suivante à 25 C pendant 20 secondes. Composition Silicate de potassium 10 g Phénylglycol 40 g Isopropylnaphtalènesulfonate de potassium 5 g Sulfite de potassium 2 g Eau 900 g Après avoir développé les plaques PS de la manière décrite ci- dessus, on évalue leur contraste de dégradé sur la base du nombre de paliers transparents et du nombre de paliers opaques dans la table à paliers. Après un lavage avec de l'eau, on les désensibilise par gommage, puis on les utilise comme plaques d'impressionde manière habituelle. Ainsi, on évalue ces plaques d'impression des points de

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vue de l'encrassement de la zone de non image, des taches d'oxydation et de

l'usure de plaque. Les résultats ainsi obtenus sont présentés dans le tableau 2.

Les modes opératoires d'évaluation sont les mêmes que ceux décrits pour

le tableau 1.

Tableau 2

Contraste de dé radé Nb de Nb de Différence de Encras- Taches Résistance à paliers paliers dégradé sement d'oxydation l'usure de la trans- opaques (points/ 100 plaque parents cm2) Exemple 4 9 4 5 O 0 100 000 Ex. com. 4 9 4 5 O 10 80 000 Ex. Com. 5 10 3 7 X 30 70 000

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Claims (10)

REVENDICATIONS

1. Procédé pour la formation d'un substrat d'aluminium pour une plaque lithographique qui comprend les étapes consistant à dégrossir une surface d'un substrat d'aluminium, à anodiser la surface du substrat d'aluminium, à déposer un produit particulaire présentant une granulométrie moyenne n'excédant pas 5 Pm sur la surface dégrossie et anodisée du substrat d'aluminium, et à traiter la surface

avec de l'eau chaude et/ou de l'air chaud.

2. Procédé pour la formation d'un substrat d'aluminium pour une plaque lithographique selon la revendication 1, dans lequel un fluide traitant, utilisé pour déposer le produit particulaire ayant une granulométrie moyenne n'excédant pas 5 /m sur la surface dégrossie et anodisée du substrat d'aluminium, contient du

fluorure métallique.

3. Procédé pour la formation d'une plaque lithographique présensibilisée qui comprend l'application d'une couche photosensible sur le substrat d'aluminium pour une plaque lithographique qui a été formée en utilisant un procédé selon la

revendication 1 ou 2.

4. Procédé pour la formation d'un substrat d'aluminium pour une plaque lithographique selon la revendication 1, dans lequel ledit produit particulaire

présente une granulométrie moyenne comprise entre 0,01 et 2 Pm.

5. Procédé pour la formation d'un substrat d'aluminium pour une plaque lithographique selon la revendication 1, dans lequel ledit produit particulaire se

trouve en une quantité comprise entre 0,005 et 2,0 g/m2.

6. Procédé pour la formation d'un substrat d'aluminium pour une plaque lithographique selon la revendication 1, dans lequel ledit produit particulaire est déposé afin de recouvrir au moins 30 % de ladite surface dégrossie et anodisée du

substrat d'aluminium.

7. Procédé pour la formation d'un substrat d'aluminium pour une plaque lithographique selon la revendication 2, dans lequel ledit fluorure métallique est un élément ou plus sélectionné à partir du groupe se composant du fluorure de

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sodium, du fluorure de magnésium, du fluorure de baryum, du fluorure de potassium, du fluorure de chrome, du fluorure de lithium et du fluorure de manganèse.

8. Procédé pour la formation d'un substrat d'aluminium pour une plaque lithographique selon la revendication 2, dans lequel ledit fluide traitant utilisé pour déposer le produit particulaire contient du fluorure métallique ayant une

concentration comprise entre 0,5 et 40 % en poids.

9. Procédé pour la formation d'un substrat d'aluminium pour une plaque lithographique selon la revendication 1, dans lequel ledit produit particulaire est déposé sur la surface dégrossie et anodisée du substrat d'aluminium par trempage, pulvérisation ou revêtement en utilisant un fluide traitant contenant du fluorure métallique.

10. Procédé pour la formation d'un substrat d'aluminium pour une plaque lithographique selon la revendication 1, dans lequel ledit traitement de la surface avec de l'eau chaude et/ou de l'air chaud est réalisé à une température de 50 C ou plus.