DE19929716A1 - Verfahren zur Vorbereitung eines Aluminiumsubstrats für eine lithographische Druckplatte sowie für die Herstellung einer vorsensibilisierten lithographischen Druckplatte - Google Patents
Verfahren zur Vorbereitung eines Aluminiumsubstrats für eine lithographische Druckplatte sowie für die Herstellung einer vorsensibilisierten lithographischen DruckplatteInfo
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Abstract
Zur Verfügung gestellt wird ein Aluminiumsubstrat für eine lithographische Platte sowie eine vorsensibilisierte lithographische Platte, bei der bei Belichtung und Entwicklung der lithographischen Platte nicht nur ein Bild mit einer guten Gradation hergestellt werden kann, sondern bei der auch kein Bildrückstand in der bildfreien Fläche zurückbleibt, so daß ein Tonen beim Druck, ein Einfärben der bildfreien Fläche sowie die Bildung von ringförmigen Korrekturrückständen aufgrund der Verwendung eines Korrekturmittels vermieden werden, und bei dem beim Einsatz der lithographischen Platte für Druckzwecke diese eine ausgezeichnete Plattenverschleißfestigkeit, hervorragende farbabweisende Eigenschaften sowie ein gutes Wasseraufnahmevermögen aufweist und keine Oxydationsflecken (d. h. keine Flecken bei der Wiederaufnahme des Drucks) erzeugt. Insbesondere wird ein Aluminiumsubstrat für eine lithographische Platte zur Verfügung gestellt, das durch Auftragen eines Partikelprodukts mit einem durchschnittlichen Teilchendurchmesser von höchstens 5 mum auf eine aufgerauhte und anodisierte Oberfläche eines Aluminiumsubstrats und Behandlung der Oberfläche mit Warmwasser und/oder Warmluft vorbereitet wird. Vorzugsweise enthält die Behandlungsflüssigkeit, die zum Auftragen des Partikelprodukts eingesetzt wird, Metallfluoride. Außerdem wird eine vorsensibilisierte lithographische Platte zur Verfügung gestellt, die durch Aufbringen einer lichtempfindlichen Schicht auf das in der oben ...
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft Aluminiumsubstrate für lithographische Druckplatten und
vorsensibilisierte lithographische Druckplatten. Genauer ausgedrückt betrifft sie ein
Aluminiumsubstrat für eine lithographische Druckplatte und eine vorsensibilisierte lithogra
phische Druckplatte, wobei die Aluminiumoberfläche derart modifiziert ist, daß sie eine
ausgezeichnete Plattenverschleißfestigkeit, sehr gute farbabweisende Eigenschaften sowie
ein hervorragendes Wasseraufnahmevermögen aufweist, so daß Tonen, Korrekturmittel
rückstände und Punktbildung bei der Wiederaufnahme des Drucks vermieden werden und
eine gute Gradation erzielt wird.
Eine vorsensibilisierte lithographische Druckplatte (im folgenden als "VS-Platte" bezeichnet),
die aus einer Aluminiumplatte mit einer lichtempfindlichen Beschichtung besteht, wird
folgendermaßen hergestellt. Die Oberfläche einer Aluminiumplatte wird mittels eines
mechanischen Verfahrens wie Bürsten oder Kugelabriebs, durch ein elektrochemisches
Verfahren wie elektrolytisches Ätzen oder durch eine Kombination von beiden aufgerauht, so
daß Unregelmäßigkeiten in der Oberfläche entstehen.
Danach wird die Aluminiumplatte wahlweise mit einer wäßrigen Lösung einer Säure oder
Lauge geätzt und anschließend, je nach Bedarf, anodisiert und/oder hydrophil gemacht.
Daraufhin wird eine lichtempfindliche Schicht auf die Aluminiumplatte aufgetragen.
Üblicherweise wird diese VS-Platte durch einen lithographischen Film hindurch belichtet,
entwickelt, (korrigiert) und gummiert, so daß eine lithographische Platte entsteht. Diese wird
in einer Druckmaschine installiert und dient zum Drucken.
Das obengenannte Aufrauhen und Anodisieren der Oberfläche wird durchgeführt, um die
Plattenverschleißfestigkeit und das Wasseraufnahmevermögen zu verbessern. Zu diesem
Zweck wurde herkömmlicherweise eine tief- oder grobkörnige Oberfläche geschaffen, zum
Beispiel durch eine ziemlich starke Ätzung.
In diesem Fall bleibt jedoch nach der Entwicklung möglicherweise ein Rückstand, der einen
Teil der lichtempfindlichen Schicht enthält, in der bildfreien Fläche (der gekörnten Ober
fläche) zurück, was zum Tonen führt. Darüber hinaus könnte eine färbende Substanz wie
Farbe in die Vertiefungen des anodischen Oxydationsfilms eindringen und eine Färbung der
bildfreien Fläche verursachen. Wenn eine unerwünschte Stelle mit einem Korrekturmittel
oder ähnlichem entfernt wird, kommt es häufig vor, daß das Lösungsmittel oder ein anderer
Zusatzstoff, die aus dem Korrekturgerät austreten, bewirken, daß der oben erwähnte
Rückstand anschwillt und Farbe aufnimmt, was zur Fleckenbildung führt
(Korrekturmittelrückstände).
Um diese Nachteile auszuschalten, sind bisher unterschiedliche Verfahren vorgeschlagen
worden. Dazu zählen beispielsweise ein Verfahren, bei dem ein anodisiertes Aluminium
substrat in eine Lösung eines Alkalimetallsilicats getaucht wird, wie es in der US-Patent
schrift Nr. 3.181.461 beschrieben wird; ein Verfahren, bei dem es mit hydrophiler Polyvinyl
phosphonsäure grundiert wird, wie in den US-Patentschriften Nr. 3.276.868 und 4.153.461
beschrieben wird; ein Verfahren, bei dem es mit einem Phosphorsäurerest beschichtet, wird,
wie in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 49-12903 (1974) offenbart
wird; ein Verfahren, bei dem es mit hydrophiler Cellulose grundiert wird, die ein wasser
lösliches Metallsalz enthält, wie in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr.
49-96803 (1974) offenbart wird, sowie ein Verfahren, bei dem es mit einer hydrophilen
Schicht versehen wird, die ein Phosphorsäuresalz enthält, wie in der vorläufigen japanischen
Patentveröffentlichung Nr. 62-19494 (1987) offenbart wird.
Allerdings gelingt es mit diesen Verfahren nicht, einen Rückstand vollständig aus der
bildfreien Fläche zu entfernen. Folglich verursacht der Rückstand unvermeidlicherweise ein
Tonen und erzeugt Korrekturmittelrückstände, wie sie oben beschrieben wurden.
Außerdem führen die genannten Verfahren, bei denen ein anodisiertes Aluminiumsubstrat
mit einer hydrophilen Schicht versehen oder mit einer hydrophilen Substanz grundiert wird,
insofern zu keinem befriedigenden Ergebnis, als sie das Anhaften eines lichtempfindlichen
Gemischs behindern und eine beträchtliche Verringerung der Plattenverschleißfestigkeit
verursachen.
Die vorläufige japanische Patentveröffentlichung Nr. 5-50779 (1993) offenbart ein Verfahren,
bei dem die Vertiefungen eines anodischen Oxydationsfilms mit hydroxylhaltigen
anorganischen Partikeln, deren Durchmesser höchstens 1,000 Angström (0,1 µm) beträgt,
ausgefüllt werden und ein Film aus anorganischen Partikeln, der sich außerhalb der
Vertiefungen (d. h. auf der Oberfläche) befindet, durch Auflösung entfernt wird.
Jedoch kann mit diesem Verfahren, bei dem anorganische Partikeln nur in den Vertiefungen
eines anodischen Oxydationsfilms enthalten sind und ein sich außerhalb der Vertiefungen
(d. h. auf der Oberfläche) befindlicher Film aus anorganischen Partikeln mittels Auflösung
entfernt wird, ein geringer Teil der an der Oberfläche des anodischen Oxydationsfilms
haftenden lichtempfindlichen Schicht nicht vollständig entfernt werden. Demzufolge ist es
nicht möglich, Korrekturmittelrückstände sowie Färbung der bildfreien Fläche vollständig zu
vermeiden.
Weiterhin offenbart die vorläufige japanische Patentveröffentlichung Nr. 4-43359 (1992) eine
vorsensibilisierte lithographische Platte, bei der eine Metalloberfläche mit einem flüssigen
Gemisch beschichtet wird, das ein anorganisches Polymer enthält, welches durch Hydrolyse
und Polykondensation einer organischen Metallverbindung gewonnen wird, die über eine
organische funktionelle Gruppe sowie eine Gruppe verfügt, die in einer Flüssigkeit Hydrolyse
und anschließende Polykondensation durchläuft, und die anschließend mit einer
lichtempfindlichen Harzschicht versehen wird.
Nach diesem Verfahren wird eine Metalloberfläche mit einem flüssigen Gemisch beschichtet,
die das obengenannte anorganische Polymer enthält, so daß das anorganische Polymer
zum Haften an der Metalloberfläche gebracht wird, während es geliert. Allerdings erweist es
sich als schwierig, die Menge der Beschichtung zu kontrollieren, so daß keine Verbesserung
der Oberflächengleiteigenschaften sowie des Wasseraufnahmevermögens erzielt wird.
Darüber hinaus offenbart die vorläufige japanische Patentveröffentlichung Nr. 2-13956
(1990) ein Verfahren, bei dem auf eine Aluminiumplatte eine Schicht wäßrigen kolloiden
Siliciumdioxids aufgetragen wird.
Bei diesem Verfahren haben die Partikeln des wäßrigen kolloiden Siliciumsdioxids jedoch
einen Durchmesser von 5 bis 30 µm. Derartig große Partikeln können das Wasserauf
nahmevermögen nicht verbessern. Im Gegenteil, die Farbe könnte während des Druckens in
die Zwischenräume zwischen den Partikeln eindringen und Flecken erzeugen.
Demzufolge besteht ein Ziel der vorliegenden Erfindung darin, ein Aluminiumsubstrat für
eine lithographische Platte und eine vorsensibilisierte lithographische Platte zur Verfügung
zu stellen, mit dem sich, wenn die lithographische Platte belichtet und entwickelt wird, nicht
nur ein Bild mit guter Gradation erzielen läßt, sondern bei dem auch kein Bildrückstand in
der bildfreien Fläche verbleibt, so daß ein Tonen während des Druckens, eine Färbung der
bildfreien Fläche sowie ringförmige Korrekturmittelrückstände aufgrund der Verwendung
eines Korrekturmittels vermieden werden. Ein weiteres Ziel besteht darin, ein Aluminium
substrat für eine lithographische Platte und eine vorsensibilisierte lithographische Platte zur
Verfügung zu stellen, mit dem beim Einsatz der lithographische Platte für Druckzwecke
diese eine ausgezeichnete Plattenverschleißfestigkeit, hervorragende farbabweisende
Eigenschaften sowie ein gutes Wasseraufnahmevermögen aufweist und keine Oxydations
flecke (d. h. keine Punkte bei Wiederaufnahme des Druckes) erzeugt.
Um die genannten Ziele zu erreichen, haben die Autoren umfangreiche Untersuchungen
durchgeführt und als Ergebnis die vorliegende Erfindung ausgearbeitet. Insbesondere stellt
die vorliegende Erfindung ein Aluminiumsubstrat für eine lithographische Platte bereit, zu
dessen Vorbereitung ein Partikelprodukt mit einem durchschnittlichen Teilchendurchmesser
von höchstens 5 µm auf eine aufgerauhte und anodisierte Aluminiumsubstratoberfläche
aufgetragen wird und die Oberfläche mit Warmwasser und/oder Warmluft behandelt wird.
Vorzugsweise enthält die zur Aufbringung des Partikelprodukts verwendete Behandlungs
flüssigkeit ein Metallfluorid. Die vorliegende Erfindung stellt weiterhin eine vorsensibilisierte
lithographische Platte zur Verfügung, die hergestellt wird, indem eine lichtempfindliche
Schicht auf das in der oben beschriebenen Weise behandelte Aluminiumsubstrat
aufgetragen wird.
Unterschiedliche Verfahren zur Behandlung eines Aluminiumsubstrats mit Warmwasser oder
ähnlichem sind bekannt. Zum Beispiel offenbart die vorläufige japanische Patentveröffent
lichung Nr. 51-34007 (1976) ein Verfahren, bei dem anodisiertes Aluminium geätzt und
anschließend mit Warmwasser oder heißem Wasserdampf behandelt wird, und die
vorläufige japanische Patentveröffentlichung Nr. 2-8919 (1990) offenbart ein Verfahren, bei
dem anodisiertes Aluminium einer Atmosphäre mit einer Temperatur von 50 bis 300°C
sowie einem Wasserdampfdruck von mindestens 90 Torr ausgesetzt wird. Dennoch
unterscheiden sich beide Verfahren von der vorliegenden Erfindung, bei der eine Oberfläche
mit einem darauf gebildeten Partikelprodukt mit Warmwasser behandelt wird.
Darüber hinaus unterscheidet sich die Oberflächenbehandlung gemäß der vorliegenden
Erfindung grundsätzlich von herkömmlich bekannten Verfahren zur Ätzung oder
Versiegelung eines anodischen Oxydationsfilms sowie von herkömmlich bekannten
Verfahren, bei denen eine Grundierung mit einem chemischen Wirkstoff, einem
wasserlöslichen Harz oder ähnlichem vorgenommen wird. Das bedeutet, daß die
vorliegende Erfindung ein Verfahren betrifft, bei dem die Oberfläche eines Aluminium
substrats mit einem spezifischen Wirkstoff behandelt wird, um das Reaktionsprodukt aus
Aluminium und dem Behandlungswirkstoff dazu zu veranlassen, sich auf der Aluminium
oberfläche abzusetzen, wobei der Prozeß seiner Entstehung jedoch unbekannt ist. Die Form
dieses Produkts läßt sich mit einem optischen Hochleistungsmikroskop oder einem
Rasterelektronenmikroskop erkennen. Wird das Produkt mit einer niedrigen, höchstens
5000fachen Vergrößerung betrachtet, scheint es aus kugelförmigen oder schuppigen
Partikeln zu bestehen. Eine Betrachtung mit einer hohen, mindestens 10000fachen
Vergrößerung jedoch zeigt, daß einige der Partikeln kugelförmig sind, einige sind eckig und
einige weisen eine rissige Oberfläche auf.
Diese Partikeln sind ungeordnet oder gleichförmig in Form von Vorsprüngen abgelagert, weil
sie sich der Struktur der gekörnten Oberfläche anpassen, oder sie bedecken die gesamten
Innenflächen der kleinen Vertiefungen, die durch das elektrolytische Polieren entstanden
sind.
Wird eine lichtempfindliche Schicht darauf aufgetragen, dringen diese Partikeln in die
lichtempfindliche Schicht ein und verbessern dadurch die Plattenverschleißfestigkeit. Beim
Entwickeln wird die lichtempfindliche Schicht gleichmäßig und klar entwickelt, vermutlich weil
die Entwicklerlösung sich gut in den Zwischenräumen zwischen den Partikeln verteilt. Auf
diese Weise verfügt das entstandene Bild über eine gute Gradation, und die bildfreie Fläche
wird nicht durch ein Tonen aufgrund von Entwicklerrückständen beeinträchtigt. Selbst wenn
die bildfreie Fläche mit einem Korrekturmittel eingestrichen wird, gibt es trotzdem keinen
Rückstand, der aufquillt und Flecken hervorruft. Außerdem wird die Farbe oder die
lichtempfindliche Schicht, da dieses Partikelprodukt den anodischen Oxydationsfilm und
dessen Vertiefungen abdeckt, nicht von dem anodischen Oxydationsfilm aufgesaugt, und die
Farbe oder ähnliches wird daran gehindert, in die Vertiefungen einzudringen, so daß eine
Verfärbung der bildfreien Fläche ausgeschlossen wird.
Eine Wirkung dieses Partikelprodukts besteht darin, daß während des Druckens Feucht
wasser in die Zwischenräume zwischen den Partikeln eindringt und das Wasseraufnahme
vermögen verbessert. Dadurch wird es möglich, bei geringem Verbrauch von Feuchtwasser
Drucke von hoher Qualität zu erzielen.
Darüber hinaus wirkt das Partikelprodukt zusätzlich in folgender Weise. Da die mit dem
Partikelprodukt bedeckte Oberfläche glatt ist, bleiben Schwammstückchen, die durch das
Reiben der Oberfläche mit einem wassergetränkten Schwamm (beispielsweise während des
Fahnendrucks) entstehen, kaum an der Oberfläche haften. Außerdem wird durch das
Vorhandensein der Partikeln der Reflexionsgrad der Fläche verringert. Das bewirkt eine
Schleierfreiheit und sorgt für eine ausgezeichnete Punktreproduzierbarkeit ohne
Punktverlust.
Als Verfahren zur Behandlung eines Aluminiumsubstrats mit einer Fluoridverbindung
offenbart die vorläufige japanische Patentveröffentlichung Nr. 47-30405 (1972) ein
Verfahren, bei dem die aufgerauhte Oberfläche eines Metalls mit einer wäßrigen Lösung
behandelt wird, die ein Fluorid als Hauptbestandteil enthält.
Dieses Verfahren jedoch eignet sich für eine aufgerauhte, aber nicht anodisierte Metall
oberfläche und unterscheidet sich dadurch vom erfindungsgemäßen Verfahren, bei dem ein
Partikelprodukt erzeugt und auf den anodischen Oxydationsfilm aufgetragen wird. Da bei
dem Verfahrendes zuvor erwähnten Patentdokuments keine Partikeln gebildet werden, ist
die Wirkung der vorliegenden Erfindung nicht zu erwarten.
Als Verfahren zur Aufbringung von Partikeln auf einem Aluminiumsubstrat offenbart die
vorläufige japanische Patentveröffentlichung Nr. 55-145193 (1980) ein Verfahren, bei dem
Substrat auf Metallbasis zur Partikelbildung mit Ammoniumhydrogenfluorid oder Natrium
hydrogenfluorid bearbeitet wird und anschließend eine Chromiumschicht aufgebracht wird.
Dieses Verfahren jedoch eignet sich zur stärkeren Haftung einer Chromiumablagerung an
einer Metallbasis und unterscheidet sich vom erfindungsgemäßen Verfahren dadurch, daß
die mit Partikeln beschichtete Oberfläche nicht unmittelbar als Substratfläche für eine
Druckplatte eingesetzt wird.
Um das Wasseraufnahmevermögen und die Plattenverschleißfestigkeit während des Drucks
zu verbessern, ist es herkömmlicherweise üblich, eine tief- oder grobkörnige Oberfläche zu
erzeugen, beispielsweise durch eine starke Stufe von Abrieb oder Ätzung, und die bei
diesem Prozeß entstehenden Abriebteilchen zu entfernen. Obwohl von diesem Verfahren
eine gewisse vorteilhafte Wirkung erwartet werden kann, kann es häufig dazu kommen, daß
durch die scharfen Kanten der gekörnten Oberfläche Farbpartikeln festgehalten werden und
zu einem Nachdunkeln, zu einer schlechten Ablösbarkeit der lichtempfindlichen Schicht beim
Entwickeln sowie zur Fleckenbildung aufgrund von Entwicklerrückständen führen.
Demgegenüber stellt die vorliegende Erfindung ein neues Verfahren zur Verfügung, das
bisher im Fach völlig unbekannt war und bei dem durch eine bestimmte Oberflächenbe
handlung ein Produkt gebildet wird, das auf der gekörnten Oberfläche verbleibt und
anschließend Warmwasser und/oder Warmluft ausgesetzt wird. Dieses Partikelprodukt hat
sich bei der Verstärkung des Haftvermögens der lichtempfindlichen Schicht, beim Erzielen
einer guten Ablösbarkeit der lichtempfindlichen Schicht beim Entwickeln sowie bei der
Verbesserung des Wasseraufnahmevermögens beim Drucken als wirksam erwiesen, weil
die Partikeln zu einer Vergrößerung der Oberfläche führen und das Feuchtwasser gut in die
Zwischenräume zwischen den Partikeln dringt. Auf der Grundlage dieser Erkenntnis wurde
die vorliegende Erfindung ausgearbeitet.
Wird der mit diesem Produkt bedeckte Bereich auf weniger als 30% der Oberfläche
reduziert, kann es demzufolge zu einer Abschwächung der erfindungsgemäßen Wirkungen
kommen, so daß es schwierig werden kann, ein zufriedenstellendes Aluminiumsubstrat für
eine lithographische Platte zu erzielen.
Wird das erfindungsgemäße Aluminiumsubstrat für eine lithographische Platte zur Herstel
lung einer vorsensibilisierten lithographischen Platte eingesetzt, kann eine ausgezeichnete
Druckplatte hergestellt werden, die dadurch gekennzeichnet ist, daß ein Bild mit einer guten
Gradation erzeugt wird, selbst wenn eine hohe Anzahl von Exemplaren gedruckt wird, daß
weder ein Tonen der bildfreien Fläche während des Druckens noch eine Punktbildung bei
der Wiederaufnahme des Drucks (Oxydationsflecke) zu verzeichnen sind, daß eine
ausgezeichnete Plattenverschleißfestigkeit erreicht wird und daß weder Korrekturmittel
rückstände noch Flecken um diese herum erzeugt werden.
Bei Fig. 1 handelt es sich um eine elektronenmikroskopische Aufnahme der Oberfläche
eines Aluminiumsubstrats, das vor der erfindungsgemäßen Oberflächenbehandlung einen
anodischen Oxydationsfilm aufweist; und
bei Fig. 2 handelt es sich um eine elektronenmikroskopische Aufnahme der Oberfläche des
Aluminiumsubstrats, das der erfindungsgemäßen Oberflächenbehandlung ausgesetzt
wurde.
Im folgenden werden mehrere erfindungsgemäße Ausführungen in gegebener Reihenfolge
ausführlich beschrieben.
Bei der erfindungsgemäß eingesetzten Aluminiumplatte handelt es sich um einen platten
förmigen Körper aus reinem Aluminium, der im wesentlichem aus Aluminium oder einer
Aluminiumlegierung besteht, die einen geringen Anteil an Fremdatomen enthält. Zu diesen
Fremdatomen zählen. Silicium, Eisen, Kupfer, Mangan, Magnesium, Nickel, Zink, Titanium
und ähnliches. Die Zusammensetzung der erfindungsgemäß verwendeten Aluminiumplatte
ist nicht kritisch, und alle herkömmlicherweise bekannten und herkömmlicherweise einge
setzten Werkstoffe können zweckmäßig genutzt werden. Die Dicke der erfindungsgemäß
eingesetzten Aluminiumplatte liegt vorzugsweise im Bereich von etwa 0,1 bis 0,4 mm.
Vor dem Aufrauhen der Oberfläche wird die Aluminiumplatte entfettet, beispielsweise mit
einer oberflächenaktiven Substanz oder einer wäßrigen Alkalilösung, um die Ölbestandteile,
die beim Walzen an der Oberfläche haftengeblieben sind, zu entfernen.
Bei der Anwendung der vorliegenden Erfindung kann zum Aufrauhen der Oberfläche ein
mechanisches Verfahren, ein elektrochemisches Verfahren oder eine Kombination aus
beiden angewendet werden. Spezifische Beispiele für mechanische Verfahren zur
Oberflächenaufrauhung umfassen verschiedene wohlbekannte Techniken wie Bürsten,
Kugelabrieb, Sandstrahlen, Schleifen und ähnliches. Ein Beispiel für das elektrochemische
Verfahren zur Oberflächenaufrauhung besteht im Anlegen eines Wechselstroms oder
Gleichstroms an die Aluminiumplatte, die sich in einem Elektrolyt befindet, der
Chlorwasserstoffsäure oder Salpetersäure enthält.
Vor dem Anodisieren wird die Aluminiumplatte mit der aufgerauhten Oberfläche vorzugs
weise einer Laugenätzung unterzogen.
Zu den für die Laugenätzung einsetzbaren alkalischen Wirkstoffen gehören
Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natriumtertiärphosphat, Kaliumtertiärphosphat,
Natriumaluminat, Natriumcarbonat, Natriummetasilicat, Natriumorthosilicat, Natriumgluconat
und ähnliches. Alle alkalischen Ätzlösungen, die unter Verwendung einer oder mehrerer
dieser alkalischen Substanzen hergestellt werden, lassen sich einsetzen.
Die Konzentration der alkalischen Ätzlösung liegt vorzugsweise im Bereich von 1 bis
60 Masse%, und die Aluminiumplatte wird bei einer Lösungstemperatur von 30 bis 100°C
2 bis 60 Sekunden lang behandelt, bis 0,1 bis 13 g/m2 des Werkstoffs weggeätzt sind. Die
Laugenätzung kann durchgeführt werden, indem beispielsweise die Aluminiumplatte in ein
Bad der Ätzlösung getaucht wird oder indem die Ätzlösung mit einem Zerstäuber oder einer
Düse über die Aluminiumplatte gesprüht wird.
Nach der oben beschriebenen Laugenätzung wird die Aluminiumplatte nötigenfalls entflockt.
Das kann durch Behandlung mit Salpetersäure, Phosphorsäure, Schwefelsäure oder einem
Gemisch aus zwei oder mehreren dieser Säuren geschehen oder einfach durch Waschen
mit Wasser oder wahlweise durch Hochdruckwasserreinigung.
Anschließend wird die Aluminiumplatte anodisiert. Der für diesen Zweck eingesetzte
Elektrolyt enthält üblicherweise Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure
oder ein Gemisch aus diesen Säuren.
Die Behandlungsbedingungen beim Anodisieren können je nach Art des Elektrolyts stark
variieren und lassen sich nicht zusammenfassend spezifizieren. Dennoch sollte im
allgemeinen die Elektrolytkonzentration vorzugsweise im Bereich von 1 bis 50 Masse%, die
Lösungstemperatur im Bereich von 5 bis 45°C, die Stromdichte im Bereich von 1 bis
40 A/dm2, die Spannung im Bereich von 5 bis 50 V und die Behandlungsdauer im Bereich
von 5 Sekunden bis 10 Minuten liegen.
Die Menge des auf diese Weise erzeugten anodischen Oxydationsfilms beträgt vorzugs
weise nicht weniger als 0,5 g/m und liegt besser noch in einem Bereich von 1,0 bis 4,0
g/m2. Beträgt die Menge des anodischen Oxydationsfilms weniger als 0,5 g/m2, kann die
Oberfläche leicht beschädigt werden. Beim Drucken nehmen beschädigte Stellen leicht
Farbe auf und erzeugen Flecken. Liegt dagegen die Menge des anodischen Oxydationsfilms
über 4,0 g/m2, führt das zu einer unerwünschten Verminderung der Entwicklungs
geschwindigkeit sowie zu einer Verringerung der Empfindlichkeit.
Nach dem Waschen mit Wasser wird die Aluminiumplatte einer Oberflächenbehandlung
nach der vorliegenden Erfindung unterzogen. Die erfindungsgemäße Oberflächen
behandlung kann mittels einer Behandlungsflüssigkeit erfolgen, die mindestens 1,0 Masse%
Metallfluorid enthält, wobei zu beachten ist, daß die Konzentration des Metallfluorids in
einem Bereich liegt, bei dem der anodische Oxydationsfilm nicht angeätzt wird. Darüber
hinaus kann, wenn eine saure Substanz in einer Menge zugegeben wird, die den
anodischen Oxydationsfilm nicht anätzt, die untere Grenze der Konzentration auf etwa 0,5
Masse% gesenkt werden. Die genannte Oberflächenbehandlung kann auch vorgenommen
werden, nachdem die Aluminiumplatte anodisiert und mit Wasser gewaschen worden ist und
der entstandene anodische Oxydationsfilm durch mildes Ätzen oder ein anderes Verfahren
versiegelt wurde, oder nachdem die Aluminiumplatte einer Nachbehandlung mit
Phosphorsäure, Phosphat oder Silicat unterzogen worden ist.
Bei der Anwendung der vorliegenden Erfindung wird die anodisierte Aluminiumoberfläche
zunächst mit einer wäßrigen Lösung, die ein Metallfluorid oder sowohl ein Metallfluorid als
auch eine saure Substanz enthält, behandelt. Auf diese Weise wird, ohne daß der anodische
Oxydationsfilm in wesentlichem Maße angeätzt und ohne daß die Form der Zellen des
anodischen Oxydationsfilms verändert wird, ein Partikelprodukt mit einem durchschnittlichen
Teilchendurchmesser von höchstens 5 µm (d. h. ein Reaktionsprodukt, das scheinbar aus
kugelförmigen und/oder schuppigen Teilchen besteht) ungeordnet oder gleichmäßig
aufgebracht, und zwar in Form von Vorsprüngen, so daß es sich der Struktur der gekörnten
Oberfläche der Aluminiumplatte anpaßt oder die gesamte Innenfläche der beim
elektrolytischen Polieren entstandenen Vertiefungen bedeckt. Anschließend wird die
Aluminiumplatte mit Warmwasser und/oder Warmluft behandelt.
Obwohl der überwiegende Teil des Produkts aus kugelförmigen und/oder schuppigen
Partikeln besteht, können einige Partikeln die Form einer zerbrochenen Kugel aufweisen
oder wie eckige Kristalle aussehen.
Das Produkt wird vorzugsweise so aufgebracht, daß es mindestens 30% der anodisierten
Oberfläche bedeckt, wobei dieser Wert entsprechend der Behandlungsbedingungen
variieren kann. Mehr vorzuziehen ist, wenn die mit dem Produkt bedeckte Fläche im Bereich
von 40 bis 100% liegt. Sind weniger als 30% der Fläche mit dem Produkt bedeckt, kann es
dazu kommen, daß keine Verbesserung des Wasseraufnahmevermögens und der
Plattenverschleißfestigkeit bewirkt wird.
Der Teilchendurchmesser beträgt vorzugsweise höchstens 5 µm und liegt besser noch im
Bereich von 0,01 bis 2 µm. Wenn er unter 0,01 µm liegt, kann es zu einer Verminderung des
Wasseraufnahmevermögens, der Plattenverschleißfestigkeit sowie der Oberflächen
gleiteigenschaften kommen. Andererseits kann es bei einem Durchmesser von mehr als
5 µm zu einer Verminderung des Wasseraufnahmevermögens kommen, und beim Drucken
dringt möglicherweise Farbe in die Zwischenräume zwischen den Partikeln und erzeugt
Flecken.
Wird die Menge des aufgebrachten Produkts in Form der Masse ausgedrückt, liegt sie
vorzugsweise im Bereich von 0,005 bis 2,0 g/m2, besser noch vorzugsweise zwischen 0,01
und 1,5 g/m2. Liegt die Menge des aufgetragenen Produkts unter 0,005 g/m2, wird
möglicherweise keine Verbesserung in bezug auf die Plattenverschleißfestigkeit, das Tonen
oder die Korrekturmittelrückstände erzielt. Ist sie andererseits größer 2,0 g/m2, kann es zu
einer verminderten Entwicklungsfähigkeit kommen, und die VS-Platte wird aus diesem
Grund möglicherweise, mit einer gebrauchten Entwicklerlösung nicht zufriedenstellend
entwickelt. Die Veränderung der Masse läßt sich bestimmen, indem die Aluminiumplatte vor
und nach der Behandlung gewogen wird und der Masseunterschied berechnet wird.
Der Reflexionsgrad der Oberfläche, auf der sich das obengenannte Partikelprodukt befindet,
wird um fast 25% gegenüber dem Reflexionsgrad der Oberfläche vor dem Auftragen des
Partikelprodukts reduziert. Dadurch wird die Schleierbildung an der Oberfläche verringert,
und eine Lichtstreuung während der Belichtung der vorsensibilisierten lithographischen
Platte wird unterdrückt, was zu einer Reduzierung der Punktverluste sowie einer
Verbesserung der Punktreproduzierbarkeit führt.
Das Erscheinungsbild der Oberfläche kann mit einem optischen Hochleistungsmikroskop
oder einem Rasterelektronenmikroskop betrachtet werden.
Fig. 1 zeigt die Oberfläche eines Aluminiumsubstrats mit einem anodischen Oxydationsfilm
vor der erfindungsgemäßen Oberflächenbehandlung, und Fig. 2 zeigt die Oberfläche des
Aluminiumsubstrats, nachdem es der erfindungsgemäßen Oberflächenbehandlung
unterzogen wurde.
Spezifische Beispiele für das Metallfluorid, das vorzugsweise für die erfindungsgemäße
Oberflächenbehandlung eingesetzt wird und das in einem bestimmten Bereich seiner
Konzentration den anodischen Oxydationsfilm nicht anätzt, sind Natriumfluorid,
Magnesiumfluorid, Bariumfluorid, Kaliumfluorid, Chromiumfluorid, Lithiumfluorid und
Manganfluorid. Diese Metallfluoride können einzeln oder als Gemisch von zwei und mehr
eingesetzt werden. Von diesen Metallfluoriden sind Natriumfluorid und Kaliumfluorid
besonders vorzuziehen.
Die Metallfluoridkonzentration, die den anodischen Oxydationsfilm nicht anätzt, bewegt sich
günstigerweise im Bereich von 0,5 bis 40 Masse% und vorzugsweise zwischen 1,0 und
30 Masse%. Liegt die Metallfluoridkonzentration unter 0,5 Masse%, kann es passieren, daß
die gewünschte Wirkung der vorliegenden Erfindung nicht erzielt wird, weil sich die Partikeln
nicht so gut ausbilden. Liegt sie über 40 Masse%, können unerwünschte Wirkungen
hervorgerufen werden, weil die gebildeten Partikeln einen unangemessen kleinen
Durchmesser aufweisen, der anodische Oxydationsfilm leicht angeätzt wird und sich das
Metallfluorid nicht gut auflöst.
Die das oben beschriebene Metallfluorid enthaltende Behandlungsflüssigkeit kann auch
andere Verbindungen enthalten, die weder die Partikelbildung beeinträchtigen noch den
anodischen Oxydationsfilm anätzen. Zu diesen Verbindungen zählen beispielsweise
Schwefelsäure, Salpetersäure, Chlorwasserstoffsäure, Phosphorsäure und Essigsäure
sowie ihre Aluminiumsalze, Ammoniumsalze, Natriumsalze, Kaliumsalze, Calciumsalze,
Zinksalze, Magnesiumsalze und Lithiumsalze. Außerdem gehören dazu Oxalsäure,
Gerbsäure, Alaun, Chromalaun, Borsäure, Chromsäureanhydrid sowie Chromsäuresalze.
Diese Verbindungen können einzeln oder zu zweit oder mehreren zugegeben werden.
Ferner können Substanzen verwendet werden, die herkömmlicherweise als Ätzmittel oder
Gegenätzmittel für lithographische Platten bekannt sind.
Wenn es sich bei den genannten Verbindungen um starke Säuren wie Schwefelsäure,
Salpetersäure, Chlorwasserstoffsäure, Phosphorsäure und Essigsäure handelt, werden sie
günstigerweise in einer Menge von 0,1 bis 1,0 Masse% und vorzugsweise von 0,2 bis
0,6 Masse% zugegeben. Liegt die Menge unter 0,1 Masse%, darf keine Verbesserung des
Wasseraufnahmevermögens erwartet werden. Ist sie jedoch höher als 1,0 Masse%, kann
der anodische Oxydationsfilm in unerwünschter Weise angeätzt werden. Was die anderen
oben erwähnten Verbindungen anbetrifft, werden sie günstigerweise in einer Menge von
0,2 bis 50 Masse% und vorzugsweise von 0,5 bis 40 Masse% zugegeben. Beträgt die
Menge weniger als 0,2 Masse%, darf keine Verbesserung des Wasseraufnahmevermögens
erwartet werden. Liegt sie jedoch über 50 Masse%, kann die Entwicklungsgeschwindigkeit in
unerwünschter Weise reduziert werden.
Zusätzlich zu diesen Hauptbestandteilen kann die Behandlungsflüssigkeit außerdem
Metallsilicate, Kesselsteinlösemittel, oberflächenaktive Wirkstoffe, organische Lösungsmittel,
wasserlösliche Harze, emulgierte wasserunlösliche Substanzen, Farben oder Pigmente mit
Lichthofschutz und ähnliches enthalten, sofern sie das auf die Oberfläche aufgebrachte
Produkt nicht auflösen (anätzen) oder entfernen.
Die erfindungsgemäß angewendeten Behandlungsverfahren umfassen Eintauchen,
Besprühen, Beschichten und ähnliches.
Die Behandlungstemperatur liegt günstigerweise im Bereich von 10 bis 80°C und die
Behandlungsdauer günstigerweise im Bereich von 1 bis 60 Sekunden. Der pH-Wert liegt
wünschenswerterweise im Bereich von 1,0 bis 6,5. Bei dieser Behandlung kann die
Aluminiumplatte in der gleichen Weise wie beim Anodisieren behandelt werden, d. h., indem
ein Gleichstrom oder ein Wechselstrom durch sie geleitet wird. Auf diese Weise kann die
Behandlungsdauer gekürzt werden.
Wird die Konzentration der Behandlungsflüssigkeit erhöht oder, die Behandlungsdauer
verlängert, kann es dazu kommen, daß das kugelförmige oder schuppige Partikelprodukt so
dicht aufgetragen wird, daß es eine im wesentlichen ebene Oberfläche bildet. Es wird jedoch
angenommen, daß sich die erfindungsgemäßen Wirkungen besser zeigen, wenn das
Produkt in der Form mehr oder weniger kugelförmiger oder schuppiger Partikeln aufgebracht
wird.
Bei der Anwendung der vorliegenden Erfindung wird das Aluminiumsubstrat, das mit der
Behandlungsflüssigkeit, die die obengenannten Metallfluoride enthält, behandelt worden ist,
wahlweise mit Wasser gewaschen und anschließend durch eine Behandlung mit Warm
wasser, Warmluft oder einer Kombination aus Warmwasser und darauffolgender Warmluft
getrocknet, damit das auf dem anodischen Oxydationsfilm gebildete Partikelprodukt fester
an dem anodischen Oxydationsfilm haften und eine weitere Verbesserung des Wasser
aufnahmevermögens und der Plattenverschleißfestigkeit erzielt werden kann.
Die Warmluft muß mindestens eine Temperatur von 50°C haben. Eine höhere Wirksamkeit
ist zu erreichen, wenn die Warmluft eine Temperatur von 50 bis 180°C aufweist.
Liegt die Temperatur des Warmwassers oder der Warmluft unter 50°C, könnte sich das
Partikelprodukt auf der Oberfläche des anodischen Oxydationsfilms beim Drucken einer
hohen Anzahl von Exemplaren leicht ablösen, was zur Beeinträchtigung von Farbab
weisungseigenschaften und Wasseraufnahmevermögen führt. Außerdem besteht die
Möglichkeit, daß das Partikelprodukt unter der Bildfläche gegenüber Erschütterungen
empfindlich wird und sich leicht ablöst, was zur Abtrennung der Bildbestandteile und zu
mangelhafter Plattenverschleißfestigkeit führt.
Beträgt andererseits die Temperatur der Warmluft mehr als 180°C, könnte das
Aluminiumsubstrat verbogen oder gedehnt werden, was die Gesamtebenheit einschränkt.
Die Behandlung mit Warmwasser erfolgt günstigerweise durch Eintauchen, Begießen,
Betropfen aus Düsen, Besprühen oder ähnliches. Die Behandlung mit Warmluft wird
beispielsweise vorgenommen, indem erwärmte Luft mittels eines Gebläses auf die
Substratoberfläche geblasen wird.
Das auf die oben beschriebene Weise behandelte Aluminiumsubstrat läßt sich unmittelbar
als Substrat für eine lithographische Platte einsetzen. Falls gewünscht, kann das
Aluminiumsubstrat vor oder nach der Behandlung mit Warmwasser und/oder Warmluft
zusätzlichen Oberflächenbehandlungsverfahren unterzogen werden.
Geeignete Oberflächenbehandlungsverfahren umfassen beispielsweise die Behandlung mit
einer wäßrigen Lösung einer Verbindung, die unter Schwefelsäure, Phosphorsäure,
Salpetersäure, Borsäure, Chromsäure, Kieselsäure sowie ihren Ammoniumsalzen und
Alkalimetallsalzen ausgewählt wird; die Behandlung mit einem oberflächenaktiven Stoff oder
einem Antitropfmittel; die Behandlung zur Erzeugung einer Grundierung, die eine wasser
lösliche Verbindung wie Polyacrylsäure, Polyvinylalkohol, Polyvinylphosphonsäure,
Polyvinylpyrrolidon, Carboxymethylcellulose oder Dextrin enthält, sowie die Vorbeschichtung
mit einer Farbe oder einem Pigment, um eine Schleierbildung zu verhindern. In diesem Fall
erweist es sich außerdem als ungünstig, Behandlungsverfahren und Behandlungs
bedingungen einzusetzen, die eine Auflösung oder Entfernung des auf die Oberfläche
aufgebrachten Produkts bewirken.
Alternativ können die obengenannten Chemikalien oder Verbindungen auch dem Warm
wasser zugegeben werden.
Das in der oben beschriebenen Weise behandelte Aluminiumsubstrat kann auf die übliche
Art mit einer lichtempfindlichen Schicht versehen werden, so daß eine vorsensibilisierte
lithographische Platte (VS-Platte) entsteht. Dem für die lichtempfindliche Schicht
eingesetzten lichtempfindlichen Gemisch sind keine besonderen Einschränkungen auferlegt,
und es kann im allgemeinen jedes von verschiedenen bekannten lichtempfindlichen
Gemischen verwendet werden. Geeignete Beispiele dafür sind ein lichtempfindliches
Gemisch vom Positivtyp, das im wesentlichen aus einer o-Chinondiazidverbindung besteht;
ein lichtempfindliches Gemisch vom Negativtyp, das im wesentlichen aus einem Diazoharz
besteht; eine fotopolymerisierbare Verbindung, die im wesentlichen aus einem ungesättigten
Monomer mit Doppelbindung besteht; ein lichtempfindliches Gemisch vom Negativtyp, das
Zimtsäure enthält, oder eine lichtvernetzbare Verbindung, die eine Dimethylmaleimidgruppe
enthält, sowie ein lichtempfindliches Gemisch vom Negativ- oder Positivtyp, das als
lichtempfindlichen Stoff eine Verbindung zur Wärmeaufzeichnung oder ähnliches nutzt. Wie
beispielsweise in den vorläufigen japanischen Patentveröffentlichungen Nr. 55-161250
(1980) und 4-100052 (1992) beschrieben wird, können außerdem auch eine elektro
fotografische lichtempfindliche Schicht sowie eine lichtempfindliche Schicht eingesetzt
werden, die entsprechend einem komplizierten Silbersalzdiffusionsübertragungsverfahren
aus einer physikalisch entwickelnden Mittelschicht und einer Halogensilberemulsionsschicht
besteht.
Zusätzlich zu der oben beschriebenen Verwendung als VS-Platte kann das genannte
Aluminiumsubstrat weiterhin als Substrat zur Erzeugung eines unmittelbar darauf
befindlichen Bildes mittels Ink jet oder Ultravioletthärtungsfarbe eingesetzt werden.
Unter den obengenannten lichtempfindlichen Substanzen gilt als Beispiel für eine
fotopolymerisierbare Verbindung, die im wesentlichen aus einem ungesättigten Monomer mit
Doppelbindung besteht, ein Gemisch, das eine additionspolymerisierbare ungesättigte
Verbindung mit einer Ethylenendgruppe sowie einen Fotopolymerisationsinitiator enthält, wie
es in der US-Patentschrift Nr. 2.760.863 und in der vorläufigen japanischen Patent
veröffentlichung Nr. 5-262811 (1993) beschrieben wird. Ein Beispiel für die lichtempfind
lichen Substanz vom Negativtyp, die eine eine Dimethylmaleimidgruppe enthaltende
lichtvernetzbare Verbindung beinhaltet, stellt ein lichtempfindliches Gemisch dar, wie es in
den vorläufigen japanischen Patentveröffentlichungen Nr. 52-988 (1977) und 62-78544
(1987) beschrieben wird.
Die o-Chinondiazidverbindungen, die sich als lichtempfindliche Gemische vom Positivtyp
einsetzen lassen, umfassen beispielsweise eine Esterverbindung, die aus Naphthochinon-
1,2-diazid-5 (oder 4)-sulfonsäurechlorid und Phenolformaldehydharz präpariert wird, wie es
in der US-Patentschrift Nr. 3.046.120 beschrieben wird; eine Esterverbindung, die aus
Naphthochinon-1,2-diazid-5 (oder 4)-sulfonsäurechlorid und Pyrogallolacetonharz präpariert
wird, wie es in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 43-28403 (1968)
beschrieben wird; sowie eine Esterverbindung, die aus 2,3,4-Trihydroxybenzophenon oder
einer Polyhydroxyverbindung mit einer relativen Molekülmasse von maximal 1.000 und
Naphthochinon-1,2-diazid-5 (oder 4)-sulfonsäurechlorid präpariert wird.
Obwohl die o-Chinondiazidverbindung auch allein zur Bildung einer lichtempfindlichen
Schicht verwendet werden kann, wird sie vorzugsweise zusammen mit einem Bindeharz
eingesetzt, das ein alkalilösliches Harz enthält. Das Bindeharz kann ein Novolakharz
enthalten, und Beispiele dafür umfassen Phenolformaldehydharz, o-, m- und
p-Cresolformaldehydharze, m/p-Mischcresolformaldehydharz, gemischtes Phenol-/Cresol-
(das m-, p- oder m/p-Mischcresol sein kann) -formaldehydharz sowie t-Butylphenolform
aldehydharz. Außerdem können Polyvinylphenolharz, t-Butyl-substituiertes Polyvinyl
phenolharz, p-Isopropenylphenolhomopolymer und seine Copolymere mit anderen
Monomeren, Hydroxyl- oder Carboxyl-haltiges Phenylmaleimidhomopolymer und seine
Copolymere mit anderen Monomeren, alkalilösliche Polyurethanharze, Polyamidharze,
Styrenmaleinsäureanhydridharze und ähnliches eingesetzt werden.
Zusätzlich zu den obengenannten o-Chinondiazidverbindungen und Bindeharzen kann das
lichtempfindliche Gemisch vom Positivtyp nötigenfalls weitere Zusatzstoffe wie Farben,
fotoinduzierte Säuregeneratoren, Weichmacher, oberflächenaktive Substanzen, cyclische
Säureanhydride, organische Säuren und Sensibilisatoren enthalten.
Demgegenüber können die lichtempfindlichen Gemische vom Negativtyp für VS-Platten
lichtempfindliche Gemische, die ein Diazoharz enthalten, fotopolymerisierbare Gemische
und lichtvernetzbare Gemische umfassen. Unter diesen wird das ein Diazoharz enthaltende
lichtempfindliche Gemisch nachfolgend anhand von Beispielen ausführlicher beschrieben.
Beispiele für das Diazoharz umfassen anorganische Diazoharzsalze, die in organischen
Lösungsmitteln löslich sind und die gewonnen werden, indem p-Diazodiphenylamin mit
Formaldehyd oder Acetaldehyd kondensiert und das Kondensationsprodukt mit einem
Hexafluorophosphorsäuresalz oder einem Tetrafluoroborsäuresalz umgesetzt wird; und
organische Diazoharzsalze, die in organischen Lösungsmitteln löslich sind und die
gewonnen werden, indem das obengenannte Kondensationsprodukt mit einer Sulfonsäure
verbindung (z. B. p-Toluensulfonsäure, Dodecylbenzensulfonsäure oder einem ihrer Salze)
oder einer Verbindung mit Hydroxylgruppe (z. B. 2,4-Dihydroxybenzophenon, 2-Methoxy-4-
hydroxy-5-benzoylbenzensulfonsäure oder einem ihrer Salze) umgesetzt wird.
Weitere geeignete Diazoharze umfassen Diazoharzsalze, die durch Herstellung eines
Mischkondensationsprodukts gewonnen werden, das über strukturelle Einheiten verfügt, die
aus einer aromatischen Verbindung mit mindestens einer organischen Gruppe, welche unter
Carboxyl-, Sulfonsäure-, Sulfinsäure- und Hydroxylgruppen ausgewählt wird, und einer
aromatischen Diazoniumverbindung abgeleitet wird, sowie durch die oben beschriebene
Umsetzung des Mischkondensationsprodukts mit einer anorganischen oder organischen
Verbindung.
Diese Diazoharzsalze werden vorzugsweise zusammen mit einem Bindeharz eingesetzt, das
ein alkalilösliches Harz enthält. Beispiele für das Bindeharz umfassen ein Copolymer eines
Monomers mit einer aliphatischen Hydroxylgruppe sowie eines oder mehrerer anderer
Monomere, wie es in den vorläufigen japanischen Patentveröffentlichungen Nr. 50-118802
(1975) oder 54-88403 (1979) beschrieben wird; ein Copolymer eines Monomers mit einer
aromatischen Hydroxylgruppe sowie eines oder mehrerer anderer Monomere, wie es in der
vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 54-98614 (1979) beschrieben wird; ein
Copolymer von p-Isopropenylphenol sowie eines oder mehrerer anderer Monomere; ein
N-(p-Hydroxyphenyl)maleimidcopolymer sowie ein Polyurethanharz mit Carboxyl- und/oder
Hydroxylgruppen.
Zusätzlich zu den genannten Stoffen können die Diazoharz-haltigen lichtempfindlichen
Gemische nötigenfalls Zusatzstoffe wie Farben, fotoinduzierte Säuregeneratoren,
Weichmacher, oberflächenaktive Stoffe, cyclische Säureanhydride, organische Säuren,
Sensibilisatoren, Konservierungsstoffe und Mattierungsstoffe enthalten.
Die auf diese Weise hergestellte VS-Platte wird durch einen transparenten Originalfilm
hindurch einer fotochemisch wirksamen Bestrahlung aus einer Lichtquelle wie einer
Kohlelichtbogenlampe, Quecksilberdampflampe, Metallhalogenidlampe, Xenonlampe,
chemischen Lampe, einem Argonlaser, Helium-Cadmiumlaser, Infrarotlaser oder
Halbleiterlaser ausgesetzt und anschließend entwickelt. Als Entwickler und Regenerator für
die genannte VS-Platte kann jede der verschiedenen, herkömmlich bekannten wäßrigen
Alkalilösungen eingesetzt werden. Zu den für diesen Zweck geeigneten alkalischen
Substanzen gehören beispielsweise Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Alkalimetallsilicate,
Natriumoctanoat, Alkylamine und Tetramethylammoniumhydroxid. Diese alkalischen
Substanzen können einzeln oder unter Zugabe von zwei oder mehreren eingesetzt werden.
Um die Entwicklungsfähigkeit zu steigern oder zu vermindern und um den Entwickler
rückstand abzulösen, können der Entwickler und der Regenerator, falls erforderlich,
weiterhin verschiedene oberflächenaktive Stoffe, organische Lösungsmittel,
Reduktionsmittel und ähnliches enthalten. Die auf diese Weise entwickelte VS-Platte wird
mit einer Spülflüssigkeit, die Waschwasser, eine oberflächenaktive Substanz, eine Säure
usw. umfaßt; einer Desensibilisierungslösung, die Gummiarabikum und ein Stärkederivat
oder Dextrin enthält, nachbehandelt.
Unter Bezugnahme auf die folgenden Beispiele wird die vorliegende Erfindung ausführlicher
erläutert. Diese Beispiele sind jedoch nicht so aufzufassen, daß sie den Schutzumfang der
Erfindung einschränken.
Nachdem beide Seiten von 0,24 mm dicken Aluminiumplatten sorgfältig entfettet worden
waren, wurde die Oberfläche aller Aluminiumplatten mittels einer Nylonbürste und einer
wäßrigen Bimssteinpulversuspension körnig gemacht und reichlich mit Wasser gewaschen.
Nachdem die Aluminiumplatte durch 10 Sekunden langes Eintauchen in eine Lösung mit
15 Masse% Natriumhydroxid und einer Temperatur von 80°C geätzt worden war, wurde sie
unter fließendem Wasser gewaschen und anschließend in einem 1 N-Chlorwasserstoff
säurebad einer elektrolytischen Oberflächenaufrauhungsbehandlung bei 200 Coulomb/dm2
unterzogen. Nach einem Waschen mit Wasser wurde die Aluminiumplatte erneut mit einer
Lösung mit 15 Masse% Natriumhodroxid geätzt, mit Wasser gewaschen und durch
Eintauchen in eine wäßrige Lösung mit 20 Masse% Schwefelsäure entflockt. Daraufhin
wurde die Aluminiumplatte in einer wäßrigen Lösung mit 15 Masse% Schwefelsäure
anodisiert, so daß sich auf ihr ein anodischer Oxydationsfilm von 2,0 g/m2 bildete. Nach
einem Waschen mit Wasser wurde die Aluminiumplatte folgendermaßen behandelt.
Die Aluminiumplatte wurde bei 50°C 15 Sekunden lang in eine Lösung mit
2 Masse% Natriumfluorid getaucht, 10 Sekunden lang in Warmwasser mit einer Temperatur
von 90°C getaucht und anschließend bei 40°C in Warmluft getrocknet.
Die Aluminiumplatte wurde 15 Sekunden lang in eine Lösung mit 2 Masse%
Natriumfluorid und einer Temperatur von 50°C getaucht, mit Wasser gewaschen und
anschließend 10 Sekunden lang bei 100°C in Warmluft getrocknet.
Die Aluminiumplatte wurde 15 Sekunden lang in eine Lösung mit 2 Masse%
Natriumfluorid und einer Temperatur von 50°C getaucht, 10 Sekunden lang in Warmwasser
mit einer Temperatur von 90°C getaucht und anschließend 10 Sekunden lang bei 100°C in
Warmluft getrocknet.
Die Aluminiumplatte wurde 15 Sekunden lang in eine Lösung mit
2 Masse% Natriumfluorid und einer Temperatur von 50°C getaucht, mit Wasser gewaschen
und anschließend bei 40°C in Warmluft getrocknet.
Die Aluminiumplatte wurde mit Wasser gewaschen und anschließend
bei 100°C in Warmluft getrocknet.
Die Aluminiumplatte wurde mit Wasser gewaschen und anschließend
bei 40°C in Warmluft getrocknet.
Das Partikelprodukt, das bei den Beispielen 1 bis 3 auf der Aluminiumoberfläche gebildet
wurde, wies einen durchschnittlichen Teilchendurchmesser von 0,12 µm auf, und seine
Menge betrug 0,18 g/m2.
Alle auf diese Weise behandelten Aluminiumplatten wurden mit einer lichtempfindlichen
Schicht versehen, indem sie mit einer Sensibilisierungslösung (1) folgender Zusammen
setzung in einer solchen Menge beschichtet wurden, daß sich ein trockener Film mit einer
Masse von 2,0 g/m bildete.
Ester, präpariert aus Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonsäurechlorid und 2,3,4-Trihydroxybenzophenon | 2,5 g |
m-Cresolformaldehyd-Novolakharz | 6,0 g |
Naphthochinon-1,2-diazid-4-sulfonsäurechlorid | 0,1 g |
Oil Blue 613 | 0,2 g |
Methylcellosolve | 50 g |
Propylenglykolmonomethylether | 50 g |
Jede der sechs auf diese Weise hergestellten vorsensibilisierten lithographischen Platten
(VS-Platten) wurde unter Vakuum mit einem Originalfilm und einer Abstufungsmeßtafel
zusammengebracht und anschließend 50 Sekunden lang mit einer 3-kW-Metallhalo
genidlampe aus einer Entfernung von 1 m belichtet.
Danach wurde ein Bild erzeugt, indem die VS-Platte 20 Sekunden lang bei 25°C in eine
Entwicklerlösung der folgenden Zusammensetzung getaucht wurde.
Natriumsilicat nach Japanese Industrial Standard (JIS) Nr. 3 | 25 g |
Kaliumhydroxid | 15 g |
amphotere oberflächenaktive Substanz | 1 g |
Wasser | 1 kg |
Nachdem die VS-Platten in der oben beschriebenen Weise entwickelt worden waren, wurde
ihre Gradation aufgrund der Anzahl der klaren Streifen und der geschwärzten Streifen auf
der Meßtafel bewertet. Nach Waschen mit Wasser wurden sie durch Gummieren desensi
bilisiert und dann in der üblichen Weise als Druckplatten verwendet. Dabei wurden die
genannten Druckplatten anhand des Tonens der bildfreien Fläche beim Drucken, der
Flecken bei der Wiederaufnahme des Drucks (d. h. der Flecken in Form kleiner Punkte, die
erzeugt werden, wenn der Druck nach einer Pause wieder aufgenommen wird, und die auch
als "Oxydationsflecke" bekannt sind) sowie des Plattenverschleißes beurteilt. Darüber
hinaus wurden unter Verwendung einer gebrauchten Entwicklerlösung, die die oben
genannte Entwicklerlösung enthielt und zur Entwicklung von 5 m2/Liter vorsensibilisierter
lithographischer Platten verwendet wurde, dieselben vorsensibiliserten lithographischen
Platten wie oben entwickelt und anhand der Korrekturmittelrückstände bewertet. Die dabei
gewonnenen Ergebnisse sind in Tabelle 1 dargestellt.
Die zuvor genannten Eigenschaften wurden folgendermaßen bewertet.
Bei jeder Druckplatte wurde die Anzahl der klaren Streifen sowie die Anzahl der
geschwärzten Streifen von der entwickelten Abstufungsmeßtafel abgelesen. Eine kleinere
Differenz zwischen der Anzahl der klaren Streifen und der Anzahl der geschwärzten Streifen
(d. h. eine geringere Gradation) bedeutet eine bessere Gradation.
Nachdem mit jeder Druckplatte etwa 20.000 Exemplare gedruckt worden waren, wurden der
bildfreie Anteil der Gummituchfläche sowie die bedruckte Papierfläche visuell auf Flecken
hin untersucht.
: Es waren keine Flecken in der Gummituchfläche und der bedruckten Papierfläche zu erkennen.
Δ: Die Gummituchfläche war dunkel verfärbt, aber in der bedruckten Papier fläche waren keine bemerkbaren Flecke zu verzeichnen.
X: Die Gummituchfläche war schwarz gefärbt, und Flecken in Form kleiner Punkte waren in der bedruckten Papierfläche zu erkennen.
: Es waren keine Flecken in der Gummituchfläche und der bedruckten Papierfläche zu erkennen.
Δ: Die Gummituchfläche war dunkel verfärbt, aber in der bedruckten Papier fläche waren keine bemerkbaren Flecke zu verzeichnen.
X: Die Gummituchfläche war schwarz gefärbt, und Flecken in Form kleiner Punkte waren in der bedruckten Papierfläche zu erkennen.
Nachdem mit jeder Druckplatte etwa 15.000 Exemplare gedruckt worden waren, wurde die
Druckpresse angehalten und 1 Stunde lang stehengelassen. Als der Druck wieder
aufgenommen wurde, wurden die Drucke auf Flecken in Form kleiner Punkte hin untersucht.
Das Auftreten von Oxydationsflecken wurde anhand der Anzahl dieser Flecke bewertet.
Nachdem jede VS-Platte mit einer gebrauchten Entwicklerlösung entwickelt worden war, um
eine Druckplatte herzustellen, wurde ein handelsübliches VS-Korrekturmittel (RP-1S;
hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) mittels eines Pinsels auf das Bild sowie auf die
bildfreien Flächen aufgetragen. Nach Waschen mit Wasser wurde die Druckplatte mit Farbe
versehen und auf durch das Korrigieren erzeugte Hofflecken sowie auf Flecken in den
korrigierten Bereichen hin untersucht.
: Weder Korrekturmittelrückstände noch Flecken wurden beobachtet.
Δ: Korrekturmittelrückstände waren zu verzeichnen, jedoch waren sie frei von Farbe.
X: Korrekturmittelrückstände mit Farbe waren zu verzeichnen.
: Weder Korrekturmittelrückstände noch Flecken wurden beobachtet.
Δ: Korrekturmittelrückstände waren zu verzeichnen, jedoch waren sie frei von Farbe.
X: Korrekturmittelrückstände mit Farbe waren zu verzeichnen.
Jede Druckplatte wurde daraufhin untersucht, bei welcher Mindestanzahl von Druck
exemplaren die festen Bestandteile des Bildes ausdünnten, die Druckplatte nicht mehr
richtig mit Farbe versehen war und Unregelmäßigkeiten in der Dichte der Drucke auftraten.
Aluminiumplatten wurden auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 einer Behandlung durch
Oberflächenaufrauhung und Anodisieren unterzogen. Nach Waschen mit Wasser wurde
jede dieser Aluminiumplatten folgendermaßen behandelt.
Die Aluminiumplatte wurde bei 60°C 10 Sekunden lang in eine Mischlösung mit
2 Masse% Kaliumfluorid und 15 Masse% Natriumdihydrogenphosphat getaucht, bei 80°C
5 Sekunden lang in Warmwasser getaucht, mit Wasser gewaschen, bei 70°C 20 Sekunden
lang in eine Lösung mit 10 Masse% Natriumsilicat getaucht, mit Wasser gewaschen und
anschließend mit Warmluft bei 40°C getrocknet.
Die Aluminiumplatte wurde bei 60°C 10 Sekunden lang in eine
Mischlösung mit 2 Masse% Kaliumfluorid und 15 Masse% Natriumdihydrogenphosphat
getaucht, mit Wasser gewaschen, bei 70°C 20 Sekunden lang in eine Lösung mit
10 Masse% Natriumsilicat getaucht, mit Wasser gewaschen und anschließend bei 40°C mit
Warmluft getrocknet.
Die Aluminiumplatte wurde bei 70°C 20 Sekunden lang in eine Lösung
mit 10 Masse% Natriumsilicat getaucht, mit Wasser gewaschen und anschließend bei 40°C
mit Warmluft getrocknet.
Das Partikelprodukt, das in Beispiel 4 auf der Aluminiumoberfläche gebildet wurde, wies
einen durchschnittlichen Teilchendurchmesser von 0,20 µm auf, und seine Menge betrug
0,28 g/m2.
Jede der auf diese Weise behandelten Aluminiumplatten wurde mit einer lichtempfindlichen
Schicht versehen, indem mit einer Sensibilisierungslösung (2) der folgenden Zusammen
setzung in einer solchen Menge beschichtet wurde, daß sich ein trockener Film mit einer
Masse von 1,8 g/m2 ergab.
Copolymer von 2-Hydroxy-3-phenoxypropylmethacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat, Methacrylsäure, Methylmethacrylat und Acrylonitril (in einem Masseverhältnis von 30 : 20 : 5 : 20 : 25) | 30 g |
2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzophenonsulfonsäuresalz eines Kondensationsprodukts von 4-Diazophenylamin/Formaldehyd | 3 g |
Victoria Pure Blue BOH (hergestellt von Hodogaya Chemical Co., Ltd.) | 1 g |
Oxalsäure | 0,3 g |
Methylcellosolve | 100 g |
N,N-Dimethylformamid | 10 g |
Durch einen Negativfilm und eine Abstufungsmeßtafel wurde jede der auf diese Weise
gewonnenen vorsensibilisierten lithographischen Platten (VS-Platten) aus einer Entfernung
von 1 m 50 Sekunden lang dem Licht einer 3-kW-Metallhalogenidlampe ausgesetzt.
Danach wurde ein Bild erzeugt, indem die VS-Platten bei 25°C 20 Sekunden lang in eine
Entwicklerlösung der folgenden Zusammensetzung getaucht wurden.
Kaliumtrioxosilicat | 10 g |
Phenylglycol | 40 g |
Kaliumisopropylnaphthalensulfonat | 5 g |
Kaliumsulfit | 2 g |
Wasser | 900 g |
Nachdem die VS-Platten in der oben beschriebenen Weise entwickelt worden waren, wurde
ihre Gradation aufgrund der Anzahl der klaren Streifen und der geschwärzten Streifen auf
der Meßtafel bewertet. Nach Waschen mit Wasser wurden sie durch Gummieren desensi
bilisiert und dann in der üblichen Weise als Druckplatten verwendet. Dabei wurden die
genannten Druckplatten anhand des Tonens der bildfreien Fläche, der Oxydationsflecken
sowie des Plattenverschleißes bewertet. Die dabei gewonnenen Ergebnisse sind in Tabelle
2 dargestellt.
Bei den für die Bewertung eingesetzten Kriterien handelt es sich um dieselben wie bei
Tabelle 1.
Claims (3)
1. Verfahren zur Vorbereitung eines Aluminiumsubstrats für eine lithographische
Platte, das folgende Schritte umfaßt: Aufrauhen einer Oberfläche eines Aluminium
substrats, Anodisieren der Oberfläche des Aluminiumsubstrats, Auftragen eines
Partikelprodukts mit einem durchschnittlichen Teilchendurchmesser von höchstens
5 µm auf die aufgerauhte und anodisierte Oberfläche des Aluminiumsubstrats und
Behandlung der Oberfläche mit Warmwasser und/oder Warmluft.
2. Verfahren zur Vorbereitung eines Aluminiumsubstrats für eine lithographische
Platte nach Anspruch 1, bei dem eine Behandlungsflüssigkeit für das Auftragendes
Partikelprodukts mit einem durchschnittlichen Teilchendurchmesser von höchstens
5 µm auf die aufgerauhte und anodisierte Oberfläche des Aluminiumsubstrats ein
Metallfluorid enthält.
3. Verfahren zur Erzeugung einer vorsensibilisierten lithographischen Platte, das
die Aufbringung einer lichtempfindlichen Schicht auf ein durch Anwendung eines
Verfahrens nach den Ansprüchen 1 oder 2 vorbereitetes Aluminiumsubstrat für eine
lithographischen Platte umfaßt.
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