JPH0550779A - 平版印刷版用支持体及びその製造方法 - Google Patents
平版印刷版用支持体及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH0550779A JPH0550779A JP21504891A JP21504891A JPH0550779A JP H0550779 A JPH0550779 A JP H0550779A JP 21504891 A JP21504891 A JP 21504891A JP 21504891 A JP21504891 A JP 21504891A JP H0550779 A JPH0550779 A JP H0550779A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- inorganic particles
- pores
- water
- printing plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 陽極酸化皮膜の孔中に水酸基を持つ無機粒子
を含有することを特徴とする平版印刷版用アルミニウム
支持体及び有機金属化合物あるいは無機金属化合物を液
中で加水分解及び重縮合させて得られる無機粒子を陽極
酸化皮膜上に施こし、陽極酸化皮膜の孔中に無機粒子を
含有させることを特徴とする平版印刷版用支持体の製造
方法。 【効果】 非画像部が傷つきにくく、摩耗しにくく、汚
れにくい。耐刷力が高い。
を含有することを特徴とする平版印刷版用アルミニウム
支持体及び有機金属化合物あるいは無機金属化合物を液
中で加水分解及び重縮合させて得られる無機粒子を陽極
酸化皮膜上に施こし、陽極酸化皮膜の孔中に無機粒子を
含有させることを特徴とする平版印刷版用支持体の製造
方法。 【効果】 非画像部が傷つきにくく、摩耗しにくく、汚
れにくい。耐刷力が高い。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、平版印刷版用アルミニ
ウムまたはその合金支持体に関するものであり、特に陽
極酸化皮膜を改質し、非画像部の汚れにくさ、傷つきに
くさ、消耗しにくさ、耐刷力に優れた平版印刷版用支持
体並びにその製造方法に関するものである。
ウムまたはその合金支持体に関するものであり、特に陽
極酸化皮膜を改質し、非画像部の汚れにくさ、傷つきに
くさ、消耗しにくさ、耐刷力に優れた平版印刷版用支持
体並びにその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、アルミニウム板上に感光性組成物
を薄層状に塗布した感光性平版印刷版（ＰＳ版）がある
が、上記のアルミニウム板は通常ブラシグレイン法やボ
ールグレイン法の如き機械的な方法や電解グレイン法の
如き電気化学的方法あるいは両者を組み合わせた方法な
どの粗面化処理に付され、その表面が梨地状にされた
後、酸またはアルカリ等の水溶液によりエッチングさ
れ、さらに陽極酸化処理を得たのち所望により親水化処
理が施されて、この支持体上に感光層が設けられてＰＳ
版とされる。このＰＳ版は通常、像露光、現像、修正、
ガム引き工程を施して平版印刷版とされ、これを印刷機
に取り付けて印刷する。
を薄層状に塗布した感光性平版印刷版（ＰＳ版）がある
が、上記のアルミニウム板は通常ブラシグレイン法やボ
ールグレイン法の如き機械的な方法や電解グレイン法の
如き電気化学的方法あるいは両者を組み合わせた方法な
どの粗面化処理に付され、その表面が梨地状にされた
後、酸またはアルカリ等の水溶液によりエッチングさ
れ、さらに陽極酸化処理を得たのち所望により親水化処
理が施されて、この支持体上に感光層が設けられてＰＳ
版とされる。このＰＳ版は通常、像露光、現像、修正、
ガム引き工程を施して平版印刷版とされ、これを印刷機
に取り付けて印刷する。
【０００３】しかしながら、従来より知られている平版
印刷版用支持体にポジ作用の感光層を設けたポジ型ＰＳ
版を像露光、現像して得られた平版印刷版の非画像部に
は、感光層中に含まれる物質が不可逆的に吸着し、非画
像部を汚染するため、修正工程で画像部と非画像部の識
別が困難であったり、修正跡が明瞭に残り、不均一な版
面となり、その程度がひどくなると汚れとなる為、印刷
版として使用できなくなるという問題点があった。
印刷版用支持体にポジ作用の感光層を設けたポジ型ＰＳ
版を像露光、現像して得られた平版印刷版の非画像部に
は、感光層中に含まれる物質が不可逆的に吸着し、非画
像部を汚染するため、修正工程で画像部と非画像部の識
別が困難であったり、修正跡が明瞭に残り、不均一な版
面となり、その程度がひどくなると汚れとなる為、印刷
版として使用できなくなるという問題点があった。
【０００４】また、特公昭４６−３５６８５号公報には
陽極酸化されたアルミニウム版をポリビニルホスホン酸
で処理することが提案されているが、この処理を施して
も、上述した非画像部の汚染は充分には防止できなかっ
た。また、従来の平版印刷版は、非画像部に付着したイ
ンキが迅速に除去されないために、汚れを生じるという
問題点があった。そして従来の平版印刷版の非画像部の
傷つき難さを向上させるために陽極酸化皮膜の厚さを増
やすと非画像部の汚染がますますひどくなり、この汚染
は上記の方法では十分に防止できないという欠点もあっ
た。
陽極酸化されたアルミニウム版をポリビニルホスホン酸
で処理することが提案されているが、この処理を施して
も、上述した非画像部の汚染は充分には防止できなかっ
た。また、従来の平版印刷版は、非画像部に付着したイ
ンキが迅速に除去されないために、汚れを生じるという
問題点があった。そして従来の平版印刷版の非画像部の
傷つき難さを向上させるために陽極酸化皮膜の厚さを増
やすと非画像部の汚染がますますひどくなり、この汚染
は上記の方法では十分に防止できないという欠点もあっ
た。
【０００５】電気化学的処理によって非画像部の汚染を
防止する方法として、アルミニウム支持体表面に特開昭
５３−２１０３号公報に記載のバリア型陽極酸化処理及
び多孔性陽極酸化皮膜形成後、バリア型陽極酸化処理す
る方法が知られている。また、そのほかに多孔性陽極酸
化処理後、ホウ酸等のオキソ酸イオン存在下、１００Ｖ
以下で再陽極酸化処理する方法が特開昭５８−１５３６
９９号公報に開示されている。
防止する方法として、アルミニウム支持体表面に特開昭
５３−２１０３号公報に記載のバリア型陽極酸化処理及
び多孔性陽極酸化皮膜形成後、バリア型陽極酸化処理す
る方法が知られている。また、そのほかに多孔性陽極酸
化処理後、ホウ酸等のオキソ酸イオン存在下、１００Ｖ
以下で再陽極酸化処理する方法が特開昭５８−１５３６
９９号公報に開示されている。
【０００６】しかし、これらの方法ではバリア型陽極酸
化処理や再陽極酸化処理の電圧が１００Ｖ以下であり、
多孔性陽極酸化皮膜を封孔するのに充分な電圧がかかっ
ておらず、したがって、非画像部の汚染防止効果が不十
分であった。また多孔性陽極酸化皮膜が比較的薄い場合
には、これらの方法で封孔できるが皮膜が薄いと機械的
強度が弱く、非画像部に傷がつきやすいという欠点もあ
った。さらに砂目立てした表面にバリア型陽極酸化処理
を行うと、耐刷力が低下するという欠点もあった。また
厚い皮膜（１ｇ／ｍ2 以上）を充分に封孔して使用する
ためには、非常に高い電圧が必要である。ところが高い
電圧で封孔処理を行うと皮膜が絶縁破壊を起こしてしま
うという欠点があり、この方法に代わる厚い皮膜を処理
する方法が望まれていた。
化処理や再陽極酸化処理の電圧が１００Ｖ以下であり、
多孔性陽極酸化皮膜を封孔するのに充分な電圧がかかっ
ておらず、したがって、非画像部の汚染防止効果が不十
分であった。また多孔性陽極酸化皮膜が比較的薄い場合
には、これらの方法で封孔できるが皮膜が薄いと機械的
強度が弱く、非画像部に傷がつきやすいという欠点もあ
った。さらに砂目立てした表面にバリア型陽極酸化処理
を行うと、耐刷力が低下するという欠点もあった。また
厚い皮膜（１ｇ／ｍ2 以上）を充分に封孔して使用する
ためには、非常に高い電圧が必要である。ところが高い
電圧で封孔処理を行うと皮膜が絶縁破壊を起こしてしま
うという欠点があり、この方法に代わる厚い皮膜を処理
する方法が望まれていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】したがって本発明の目
的は、非画像部に汚染を生じ難く、非画像部が傷つきに
くく、摩耗しにくく、汚れにくく、水とインキのバラン
スがとり易く、優れた性能を有し、しかも耐刷力の高い
平版印刷版用支持体及びその製造方法を提供することに
ある。
的は、非画像部に汚染を生じ難く、非画像部が傷つきに
くく、摩耗しにくく、汚れにくく、水とインキのバラン
スがとり易く、優れた性能を有し、しかも耐刷力の高い
平版印刷版用支持体及びその製造方法を提供することに
ある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成すべく鋭意検討した結果、本発明を為すに到っ
たものであり、本発明は、陽極酸化皮膜の孔中に水酸基
を持つ無機粒子を有することを特徴とする平版印刷版用
アルミニウム支持体である。以下本発明について順を追
って説明する。
的を達成すべく鋭意検討した結果、本発明を為すに到っ
たものであり、本発明は、陽極酸化皮膜の孔中に水酸基
を持つ無機粒子を有することを特徴とする平版印刷版用
アルミニウム支持体である。以下本発明について順を追
って説明する。
【０００９】＜アルミニウム板＞本発明に於て用いられ
るアルミニウム板は、純アルミニウムやアルミニウムを
主成分とし、微量の異原子を含むアルミニウム合金など
の板状体である。このような異原子には珪素、鉄、マン
ガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニ
ッケル、チタンなどがある。これらの異原子の含有率は
一般的には１０重量％以下である。本発明の支持体に好
適なアルミニウムは純アルミニウムであるが、完全に純
粋なアルミニウムは、製錬技術上製造が困難であるの
で、できるだけ異原子を含まないものがよい。このよう
に本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特
定されるものでなく従来公知、公用の素材のものを適宜
利用することができる。本発明に用いられるアルミニウ
ム板の厚さは0.１−0.５mm程度が適当である。
るアルミニウム板は、純アルミニウムやアルミニウムを
主成分とし、微量の異原子を含むアルミニウム合金など
の板状体である。このような異原子には珪素、鉄、マン
ガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニ
ッケル、チタンなどがある。これらの異原子の含有率は
一般的には１０重量％以下である。本発明の支持体に好
適なアルミニウムは純アルミニウムであるが、完全に純
粋なアルミニウムは、製錬技術上製造が困難であるの
で、できるだけ異原子を含まないものがよい。このよう
に本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特
定されるものでなく従来公知、公用の素材のものを適宜
利用することができる。本発明に用いられるアルミニウ
ム板の厚さは0.１−0.５mm程度が適当である。
【００１０】＜粗面化処理＞アルミニウム板を陽極酸化
する方法するに先立ち、表面の圧延油を除去するため
の、例えば界面活性剤またはアルカリ性水溶液による脱
脂処理、及び砂目立て処理が所望により行われる。砂目
立て処理方法には、機械的に表面を粗面化する方法、電
気化学的に表面を選択溶解する方法がある。機械的に表
面を粗面化する方法としては、ボール研磨法、ブラシ研
磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法と称される公知の方
法を用いることができる。また電気化学的な粗面化法と
しては塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により
行う方法がある。また特開昭５８−６３９０２号公報に
開示されているように両者を組み合わせた方法も利用す
ることができる。
する方法するに先立ち、表面の圧延油を除去するため
の、例えば界面活性剤またはアルカリ性水溶液による脱
脂処理、及び砂目立て処理が所望により行われる。砂目
立て処理方法には、機械的に表面を粗面化する方法、電
気化学的に表面を選択溶解する方法がある。機械的に表
面を粗面化する方法としては、ボール研磨法、ブラシ研
磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法と称される公知の方
法を用いることができる。また電気化学的な粗面化法と
しては塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により
行う方法がある。また特開昭５８−６３９０２号公報に
開示されているように両者を組み合わせた方法も利用す
ることができる。
【００１１】＜多孔性陽極酸化皮膜＞アルミニウム版の
多孔性陽極酸化処理に用いられる電解質としては多孔性
酸化皮膜を形成するものならば如何なるものでも使用す
ることができ、一般的には硫酸、燐酸、蓚酸、クロム
酸、あるいはそれらの混酸または水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムあるいはそれらの混合液やフッ化アンモニ
ウム添加浴等が用いられ、その濃度は電解質の種類によ
って適宜決められる。多孔性陽極酸化の処理条件は用い
る電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが、
一般的には電解質の濃度は１−８０重量％、液温は５−
８０℃、電流密度は１−８０Ａ／dm2 、電圧は１−１５
０Ｖ、電解時間は５秒−２０分の範囲が適当である。多
孔性陽極酸化皮膜の量は0.１−１０ｇ／ｍ2 が好適であ
るが、より好ましくは１−６ｇ／m2の範囲である。
多孔性陽極酸化処理に用いられる電解質としては多孔性
酸化皮膜を形成するものならば如何なるものでも使用す
ることができ、一般的には硫酸、燐酸、蓚酸、クロム
酸、あるいはそれらの混酸または水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムあるいはそれらの混合液やフッ化アンモニ
ウム添加浴等が用いられ、その濃度は電解質の種類によ
って適宜決められる。多孔性陽極酸化の処理条件は用い
る電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが、
一般的には電解質の濃度は１−８０重量％、液温は５−
８０℃、電流密度は１−８０Ａ／dm2 、電圧は１−１５
０Ｖ、電解時間は５秒−２０分の範囲が適当である。多
孔性陽極酸化皮膜の量は0.１−１０ｇ／ｍ2 が好適であ
るが、より好ましくは１−６ｇ／m2の範囲である。
【００１２】本発明で特に好ましい陽極酸化皮膜は、硫
酸を電解質として直流で形成されたものである。この陽
極酸化に用いる硫酸電解液は、硫酸濃度が５０〜３００
ｇ／リットルであり、かつ、Al3-イオンとして、３〜１
５ｇ／リットルを含むことが好ましい。また、２０〜７
０℃の温度で陽極酸化を行うことが好ましく、電流密度
は３〜２０Ａ／dm2 が好ましく、電解時間は、所望の厚
みの酸化皮膜を得るため、５秒〜３００秒が好ましい。
酸を電解質として直流で形成されたものである。この陽
極酸化に用いる硫酸電解液は、硫酸濃度が５０〜３００
ｇ／リットルであり、かつ、Al3-イオンとして、３〜１
５ｇ／リットルを含むことが好ましい。また、２０〜７
０℃の温度で陽極酸化を行うことが好ましく、電流密度
は３〜２０Ａ／dm2 が好ましく、電解時間は、所望の厚
みの酸化皮膜を得るため、５秒〜３００秒が好ましい。
【００１３】＜充填処理＞このようにして作成したアル
ミニウム板の陽極酸化皮膜の孔中に、水酸基を持つ無機
粒子が充填される。充填率は１０％以上が適当であり、
２５％以上が好ましい。本発明で使用する水酸基を持つ
無機粒子はゾル−ゲル法を利用して合成したものを使用
するのが好ましいので、以下、この方法を詳しく説明す
る。
ミニウム板の陽極酸化皮膜の孔中に、水酸基を持つ無機
粒子が充填される。充填率は１０％以上が適当であり、
２５％以上が好ましい。本発明で使用する水酸基を持つ
無機粒子はゾル−ゲル法を利用して合成したものを使用
するのが好ましいので、以下、この方法を詳しく説明す
る。
【００１４】ゾル−ゲル法は、金属アルコキシドなどの
金属原料を水および有機溶媒中に溶解し、酸、又はアル
カリなどの触媒、添加剤（多座配位子）を添加して加水
分解、重縮合反応を起こさせて金属化合物のゾルを形成
し、これを熱処理してゲルとする反応であるが、このゾ
ル−ゲル反応の途中の段階で得られる金属化合物のゾル
が本発明で使用される水酸基を有する無機粒子として好
ましい。この金属化合物のゾルの粒径は陽極酸化皮膜の
孔径より小さければよい。一般的には１０００オングス
トローム以下であり、好ましくは１０−５００オングス
トローム、特に好ましくは２０−２００オングストロー
ムである。
金属原料を水および有機溶媒中に溶解し、酸、又はアル
カリなどの触媒、添加剤（多座配位子）を添加して加水
分解、重縮合反応を起こさせて金属化合物のゾルを形成
し、これを熱処理してゲルとする反応であるが、このゾ
ル−ゲル反応の途中の段階で得られる金属化合物のゾル
が本発明で使用される水酸基を有する無機粒子として好
ましい。この金属化合物のゾルの粒径は陽極酸化皮膜の
孔径より小さければよい。一般的には１０００オングス
トローム以下であり、好ましくは１０−５００オングス
トローム、特に好ましくは２０−２００オングストロー
ムである。
【００１５】このような粒径に調節する最も簡便な方法
は、加水分解、重縮合反応時の反応温度と反応時間を制
御することである。一般に反応温度は１０℃〜８０℃の
範囲から、また時間は１０分間から５時間の範囲から選
ばれるが、反応温度が低いほど、また反応時間が短かい
ほど、粒径は小さくなる。ここで用いる金属原料とし
て、例えば、金属アルコキシド、金属アセチルアセトネ
ート、金属酢酸塩、金属シュウ酸塩、金属硝酸塩、金属
硫酸塩、金属炭酸塩、オキシ塩化物、塩化物を用いるこ
とができる。
は、加水分解、重縮合反応時の反応温度と反応時間を制
御することである。一般に反応温度は１０℃〜８０℃の
範囲から、また時間は１０分間から５時間の範囲から選
ばれるが、反応温度が低いほど、また反応時間が短かい
ほど、粒径は小さくなる。ここで用いる金属原料とし
て、例えば、金属アルコキシド、金属アセチルアセトネ
ート、金属酢酸塩、金属シュウ酸塩、金属硝酸塩、金属
硫酸塩、金属炭酸塩、オキシ塩化物、塩化物を用いるこ
とができる。
【００１６】金属アルコキシドの例としては、LiOCH3,
NaOCH3, B(OCH3)3, Al(OC3H7 i)3,Al(OCH3)3, Al(OC2H5)
3, Al(OC4H9)3, Si(OCH3)4, Si(OC2H5)4,Si(OC3H7 i)4,S
i(OC4H9 t)4,Ca(OCH3)2, Ti(OCH3)4,Ti(OC2H5)4, Ti(OC3
H7 i)4,Ti(OC4H9)4,V(OC2H5)3, Cu(OCH3)2, Sr(OC
2H5)2, Ba(OC2H5)2, Zn(OC2H5)2, Ga(OC2H5)3,Y(OC
4H9)3, Ge(OC2H5)4, Pb(OC4H9)4, Sb(OC2H5)5, Ta(OC3H
7)5, W(OC2H5)6,La(OC3H7)3, Nd(OC2H5)3, P(OCH3)3,
Zr(OCH3)4, Zr(OC2H5)4, Zr(OC3H7)4,Zr(OC4H9)4, La[A
l(OC3H7 i)4]3, Mg[Al(OC3H7)4]2, Mg[Al(OC
4H9 sec)4]2,Ni[Al(OC3H7)4]2, (C3H7O)2Zr[Al(OC3H7)4]
2, Ba[Zr2(OC2H5)9]2 などが含まれる。
NaOCH3, B(OCH3)3, Al(OC3H7 i)3,Al(OCH3)3, Al(OC2H5)
3, Al(OC4H9)3, Si(OCH3)4, Si(OC2H5)4,Si(OC3H7 i)4,S
i(OC4H9 t)4,Ca(OCH3)2, Ti(OCH3)4,Ti(OC2H5)4, Ti(OC3
H7 i)4,Ti(OC4H9)4,V(OC2H5)3, Cu(OCH3)2, Sr(OC
2H5)2, Ba(OC2H5)2, Zn(OC2H5)2, Ga(OC2H5)3,Y(OC
4H9)3, Ge(OC2H5)4, Pb(OC4H9)4, Sb(OC2H5)5, Ta(OC3H
7)5, W(OC2H5)6,La(OC3H7)3, Nd(OC2H5)3, P(OCH3)3,
Zr(OCH3)4, Zr(OC2H5)4, Zr(OC3H7)4,Zr(OC4H9)4, La[A
l(OC3H7 i)4]3, Mg[Al(OC3H7)4]2, Mg[Al(OC
4H9 sec)4]2,Ni[Al(OC3H7)4]2, (C3H7O)2Zr[Al(OC3H7)4]
2, Ba[Zr2(OC2H5)9]2 などが含まれる。
【００１７】金属アセチルアセトネートの例としては、
Ir(CH3COCH(OCH3),Mn(CH3COCHCH3)2Zn(CH3COCHCOCH3)2,
Al(CH3COCHCOCH3)3,Cu(CH3COCHCOCH3)2,Cr(CH3COCHCOCH
3)3,Ce(CH3COCHCOCH3)3 などがある。金属酢酸塩の例と
しては、Zn(CH3COO)2・2H2O, Cd(CH3COO)2・2H2O,CH3COO
K, Ca(CH3COO)2・H2O, CH3COOAg, Cr(CH3COO)3, Co(CH
3COO)2・4H2O,Sr(CH3COO)2, Y2H2O・, CH3COOCs, Ce(CH
3COO)3・H2O, Cu(CH3COO)2,Cu(CH3COO)2・ H2O, CH3COON
a, CH3COONa・3H2O, Mg(CH3COO)2・4H2O,Mn(CH3COO)2・4
H2O, Mn(CH3COO)3・2H2O, CH3COOLi, CH3COOLi・2H2O
などがある。
Ir(CH3COCH(OCH3),Mn(CH3COCHCH3)2Zn(CH3COCHCOCH3)2,
Al(CH3COCHCOCH3)3,Cu(CH3COCHCOCH3)2,Cr(CH3COCHCOCH
3)3,Ce(CH3COCHCOCH3)3 などがある。金属酢酸塩の例と
しては、Zn(CH3COO)2・2H2O, Cd(CH3COO)2・2H2O,CH3COO
K, Ca(CH3COO)2・H2O, CH3COOAg, Cr(CH3COO)3, Co(CH
3COO)2・4H2O,Sr(CH3COO)2, Y2H2O・, CH3COOCs, Ce(CH
3COO)3・H2O, Cu(CH3COO)2,Cu(CH3COO)2・ H2O, CH3COON
a, CH3COONa・3H2O, Mg(CH3COO)2・4H2O,Mn(CH3COO)2・4
H2O, Mn(CH3COO)3・2H2O, CH3COOLi, CH3COOLi・2H2O
などがある。
【００１８】金属シュウ酸塩の例としては、KOCOCOOK・
H2O, SnC2O4, K2TiO(C2O4)2・2H2O,FeC2O4・2H2O, BaC2O
4・H2O など。金属硝酸塩の例としては、Zn(NO3)2・6H2
O, Al(NO3)3・9H2O, Y(NO3)3・6H2O,Ca(NO3)2・4H2O, Cr
(NO3)3・9H2O, Co(NO3)2・6H2O, ZrO(NO3)2・2H2O,Fe(NO
3)3・9H2O, Ni(NO3)2・6H2O, Nd(NO3)3・6H2O, Ba(NO3)
2,Mg(NO3)2・6H2O,Mn(NO3)2・6H2O, La(NO3)3・6H2O, Li
NO3 などがある。
H2O, SnC2O4, K2TiO(C2O4)2・2H2O,FeC2O4・2H2O, BaC2O
4・H2O など。金属硝酸塩の例としては、Zn(NO3)2・6H2
O, Al(NO3)3・9H2O, Y(NO3)3・6H2O,Ca(NO3)2・4H2O, Cr
(NO3)3・9H2O, Co(NO3)2・6H2O, ZrO(NO3)2・2H2O,Fe(NO
3)3・9H2O, Ni(NO3)2・6H2O, Nd(NO3)3・6H2O, Ba(NO3)
2,Mg(NO3)2・6H2O,Mn(NO3)2・6H2O, La(NO3)3・6H2O, Li
NO3 などがある。
【００１９】金属硫酸塩の例としてAl2(SO4)3, (NH4)Al
(SO4)2, KAl(SO4)2, CsAl(SO4)2,TlAl(SO4)2, NaAl(S
O4)2, Sb2(SO4)3, Y2(SO4)3, K3Y(SO4)3, In2(SO4)
3,CaSO4, Na2Ca(SO4)2, CrSO4, CoSO4, KHSO4, NaHSO
4, Ba(HSO4)2, Mg(HSO4)2,LiHSO4, FeSO4, (NH4)2Fe(S
O4)2, Cu2SO4, CuSO4, NiSO4, VSO4, BaSO4,MgS
O4, MnSO4, La2(SO4)3, Li2SO4などがある。
(SO4)2, KAl(SO4)2, CsAl(SO4)2,TlAl(SO4)2, NaAl(S
O4)2, Sb2(SO4)3, Y2(SO4)3, K3Y(SO4)3, In2(SO4)
3,CaSO4, Na2Ca(SO4)2, CrSO4, CoSO4, KHSO4, NaHSO
4, Ba(HSO4)2, Mg(HSO4)2,LiHSO4, FeSO4, (NH4)2Fe(S
O4)2, Cu2SO4, CuSO4, NiSO4, VSO4, BaSO4,MgS
O4, MnSO4, La2(SO4)3, Li2SO4などがある。
【００２０】金属炭酸塩の例として ZnCO3, Y2(CO3)3,
In2(CO3)3, CaCO3, CrCO3, CoCO3,Co2(CO3)3, Ca(HC
O3)2, KCoH(CO3)2, Ni(HCO3)2, Mg(HCO3)2, LiHCO3, Sr
CO3,FeCO3, Cu2CO3, NiCO3, BaCO3, BaCO3, MgCO3,
(NH4)2CO3・ MgCO3, CaCO3・MgCO3, MnCO3, La2(C
O3)3, Li2CO3などがある。オキシ塩化物の例として、Sb
OCl, CrO2Cl2, Si2OCl6,ZrOCl2, WOCl4, FeOCl,CuCl2・
2CuO・4H2O, CuCl2・Cu(OH)2NbOCl3, VOCl, BiOCl, M
oCl, POCl3 などがある。
In2(CO3)3, CaCO3, CrCO3, CoCO3,Co2(CO3)3, Ca(HC
O3)2, KCoH(CO3)2, Ni(HCO3)2, Mg(HCO3)2, LiHCO3, Sr
CO3,FeCO3, Cu2CO3, NiCO3, BaCO3, BaCO3, MgCO3,
(NH4)2CO3・ MgCO3, CaCO3・MgCO3, MnCO3, La2(C
O3)3, Li2CO3などがある。オキシ塩化物の例として、Sb
OCl, CrO2Cl2, Si2OCl6,ZrOCl2, WOCl4, FeOCl,CuCl2・
2CuO・4H2O, CuCl2・Cu(OH)2NbOCl3, VOCl, BiOCl, M
oCl, POCl3 などがある。
【００２１】塩化物の例として、ZnCl2, AlCl3, SbCl
3, CaCl2, CrCl2, SiCl4, CoCl2,ZrCl2, SrCl2, WC
l4, TaCl5, TiCl4, FeCl2, Cu2Cl2, CuCl2, NbCl
5,BaCl, BiCl, MgCl2, MnCl2, MoCl2, LaCl3, Li
Clなどがある。他方、触媒として一般的な酸・アルカリ
なら何でも良い。好ましくは、硫酸・塩酸・硝酸・水酸
化ナトリウム・水酸化カリウムなどがある。
3, CaCl2, CrCl2, SiCl4, CoCl2,ZrCl2, SrCl2, WC
l4, TaCl5, TiCl4, FeCl2, Cu2Cl2, CuCl2, NbCl
5,BaCl, BiCl, MgCl2, MnCl2, MoCl2, LaCl3, Li
Clなどがある。他方、触媒として一般的な酸・アルカリ
なら何でも良い。好ましくは、硫酸・塩酸・硝酸・水酸
化ナトリウム・水酸化カリウムなどがある。
【００２２】添加剤にはエチレングリコール、プロピレ
ングリコール、ブタンジオール、ヘキシレングリコー
ル、アセチルアセトン・エタノールアミン、ジエタノー
ルアミントリエタノールアミン、シュウ酸、酒石酸、ク
エン酸、トリポリリン酸、ピロリン酸、テトラメタリン
酸、亜リン酸、次リン酸、メタ亜リン酸など多座配位子
を有するものなら何でも良く、加水分解、重縮合反応の
際に形成される金属の水酸化物などが沈降するのを防止
する作用を有する。
ングリコール、ブタンジオール、ヘキシレングリコー
ル、アセチルアセトン・エタノールアミン、ジエタノー
ルアミントリエタノールアミン、シュウ酸、酒石酸、ク
エン酸、トリポリリン酸、ピロリン酸、テトラメタリン
酸、亜リン酸、次リン酸、メタ亜リン酸など多座配位子
を有するものなら何でも良く、加水分解、重縮合反応の
際に形成される金属の水酸化物などが沈降するのを防止
する作用を有する。
【００２３】溶媒は金属原料を溶解させるためのもので
あって、溶剤として機能するものであれば特に限定する
ものではなく、何を用いても良い。具体例として、メタ
ノール、エタノール等の低級アルコール、アセトン、メ
チルエチルケトン、ジエチルケトン等のケトン類が挙げ
られる。以上のようにして得られた水酸基を有する無機
粒子を陽極酸化皮膜の孔中に充填する方法としては、次
のものものがある。
あって、溶剤として機能するものであれば特に限定する
ものではなく、何を用いても良い。具体例として、メタ
ノール、エタノール等の低級アルコール、アセトン、メ
チルエチルケトン、ジエチルケトン等のケトン類が挙げ
られる。以上のようにして得られた水酸基を有する無機
粒子を陽極酸化皮膜の孔中に充填する方法としては、次
のものものがある。
【００２４】(1) 粒径を充分に制御した水酸基を有する
無機粒子を含有する溶液中に陽極酸化処理を施したアル
ミニウム板を浸漬することにより、陽極酸化皮膜の孔中
に水酸基を有する無機粒子を充てんする。浸漬条件とし
ては、浸漬時間１０秒−２時間、浸漬温度１０℃−９０
℃。好ましくは浸漬時間３０秒−３０分、浸漬温度２０
℃−６０℃。
無機粒子を含有する溶液中に陽極酸化処理を施したアル
ミニウム板を浸漬することにより、陽極酸化皮膜の孔中
に水酸基を有する無機粒子を充てんする。浸漬条件とし
ては、浸漬時間１０秒−２時間、浸漬温度１０℃−９０
℃。好ましくは浸漬時間３０秒−３０分、浸漬温度２０
℃−６０℃。
【００２５】又は陽極酸化皮膜上に水酸基を有する無機
粒子を陽極酸化皮膜上に塗布することにより陽極酸化皮
膜の孔中に充てんする。塗布方式としては、バーコー
ト、ホイラー塗布、カーテン塗布などの方式を用いるこ
とができる。こゝで形成した水酸基を有する無機粒子中
には、有機金属化合物を用いた場合には、有機金属化合
物中の加水分解されていないアルキル基、触媒として用
いた酸、又はアルカリ、溶媒等が残留した状態で存在し
ている。この残留物が多量に存在していると印刷時に汚
れにつながるので好ましくない。残留アルキル基を１０
％以下にすることが重要である。また、水酸基を有する
無機粒子を含有する溶液中への陽極酸化したアルミニウ
ム板の浸漬処理、あるいは水酸基を有する無機粒子を含
有する溶液を陽極酸化したアルミニウム板上への塗布処
理だけでは、陽極酸化皮膜の孔中に、堅固に充てんする
ことはできない。従って、陽極酸化皮膜の孔中への充て
ん処理後に、印刷時の汚れを向上する為に、水酸基を含
有する無機粒子中の残留物（アルキル基、触媒、溶媒）
を除去する為、及び陽極酸化皮膜の孔中に堅固に充てん
する為に熱処理を施す。熱処理条件は大気中、或いは減
圧雰囲気下において、温度１０℃−５００℃で１０秒−
２時間、望ましくは温度１０℃−３００℃で１０秒−３
０分が適当である。
粒子を陽極酸化皮膜上に塗布することにより陽極酸化皮
膜の孔中に充てんする。塗布方式としては、バーコー
ト、ホイラー塗布、カーテン塗布などの方式を用いるこ
とができる。こゝで形成した水酸基を有する無機粒子中
には、有機金属化合物を用いた場合には、有機金属化合
物中の加水分解されていないアルキル基、触媒として用
いた酸、又はアルカリ、溶媒等が残留した状態で存在し
ている。この残留物が多量に存在していると印刷時に汚
れにつながるので好ましくない。残留アルキル基を１０
％以下にすることが重要である。また、水酸基を有する
無機粒子を含有する溶液中への陽極酸化したアルミニウ
ム板の浸漬処理、あるいは水酸基を有する無機粒子を含
有する溶液を陽極酸化したアルミニウム板上への塗布処
理だけでは、陽極酸化皮膜の孔中に、堅固に充てんする
ことはできない。従って、陽極酸化皮膜の孔中への充て
ん処理後に、印刷時の汚れを向上する為に、水酸基を含
有する無機粒子中の残留物（アルキル基、触媒、溶媒）
を除去する為、及び陽極酸化皮膜の孔中に堅固に充てん
する為に熱処理を施す。熱処理条件は大気中、或いは減
圧雰囲気下において、温度１０℃−５００℃で１０秒−
２時間、望ましくは温度１０℃−３００℃で１０秒−３
０分が適当である。
【００２６】その後、浸漬処理あるいは塗布処理後に
は、陽極酸化皮膜の孔中だけでなく、陽極酸化皮膜の孔
外（表面）にも水酸基を有する無機粒子から形成した膜
が付着している。この膜は硬度が十分でないこと及び感
光層と陽極酸化皮膜とのＷＢＬ（Weak Baundary Layer)
として作用するので必要に応じて、酸・アルカリ等に浸
漬する化学的処理を施して、陽極酸化皮膜の孔外（表
面）の水酸基を有する無機粒子から形成した膜を溶解・
除去した後、水洗処理を行う。溶解・除去に用いる酸・
アルカリは水酸基を有する無機粒子から形成した膜を溶
解できるものであれば何を用いてもよい。例えば硫酸、
硝酸、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素カリウムなど使用される。濃度は１−８０
重量％、液温は１−８０℃、浸漬時間１０秒−１時間が
好ましい。この条件では陽極酸化皮膜の孔中に充てんさ
れた水酸基を有する無機粒子はほとんど除去されない。
又、水酸基を有する無機粒子の形成を陽極酸化皮膜の孔
中で行うこともできる。
は、陽極酸化皮膜の孔中だけでなく、陽極酸化皮膜の孔
外（表面）にも水酸基を有する無機粒子から形成した膜
が付着している。この膜は硬度が十分でないこと及び感
光層と陽極酸化皮膜とのＷＢＬ（Weak Baundary Layer)
として作用するので必要に応じて、酸・アルカリ等に浸
漬する化学的処理を施して、陽極酸化皮膜の孔外（表
面）の水酸基を有する無機粒子から形成した膜を溶解・
除去した後、水洗処理を行う。溶解・除去に用いる酸・
アルカリは水酸基を有する無機粒子から形成した膜を溶
解できるものであれば何を用いてもよい。例えば硫酸、
硝酸、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素カリウムなど使用される。濃度は１−８０
重量％、液温は１−８０℃、浸漬時間１０秒−１時間が
好ましい。この条件では陽極酸化皮膜の孔中に充てんさ
れた水酸基を有する無機粒子はほとんど除去されない。
又、水酸基を有する無機粒子の形成を陽極酸化皮膜の孔
中で行うこともできる。
【００２７】(2) 水酸基を有する無機粒子を含む溶液中
で陽極酸化されたアルミニウム板を１方の電極として電
解を行う事により充てんする。このばあい溶液中での無
機粒子の安定性を良くするために処理液中にクロム酸、
燐酸、硫酸、硝酸等の無機塩、酢酸、マレイン酸等の有
機酸あるいは界面活性剤を添加することができる。電解
条件は使用する無機粒子の種類によって異なるが、電流
密度は0.５−１００A/dm2 、処理温度は５−９０℃、処
理時間は１秒−１時間である。電解により充てんした
後、必要に応じて(1) と同様にして加熱処理し酸・アル
カリへの浸漬処理を施してもよい。 ＜親水層＞このような親水性化合物を陽極酸化皮膜の孔
内に充填したアルミニウム表面に、特開昭６０−１４９
４９１号公報、特開昭６０−２３２９９８号公報、特開
昭６２−１９４９４号公報に記載されているような親水
層を設けることができる。
で陽極酸化されたアルミニウム板を１方の電極として電
解を行う事により充てんする。このばあい溶液中での無
機粒子の安定性を良くするために処理液中にクロム酸、
燐酸、硫酸、硝酸等の無機塩、酢酸、マレイン酸等の有
機酸あるいは界面活性剤を添加することができる。電解
条件は使用する無機粒子の種類によって異なるが、電流
密度は0.５−１００A/dm2 、処理温度は５−９０℃、処
理時間は１秒−１時間である。電解により充てんした
後、必要に応じて(1) と同様にして加熱処理し酸・アル
カリへの浸漬処理を施してもよい。 ＜親水層＞このような親水性化合物を陽極酸化皮膜の孔
内に充填したアルミニウム表面に、特開昭６０−１４９
４９１号公報、特開昭６０−２３２９９８号公報、特開
昭６２−１９４９４号公報に記載されているような親水
層を設けることができる。
【００２８】また、この親水層を設ける前または後に、
米国特許第3,１８1,４６１号に記載されているように、
アルカリ金属シリケート（珪酸ソーダ、珪酸カリウム）
の水溶液で処理することもできる。 ＜感光層＞このようにして得られた平版印刷版用支持体
の上に従来より知られている感光層を設けて、感光性平
版印刷版を得ることができる。これを製版処理して得た
平版印刷版は優れた性能を有している。以下、感光性組
成物の代表的なものについて述べる。
米国特許第3,１８1,４６１号に記載されているように、
アルカリ金属シリケート（珪酸ソーダ、珪酸カリウム）
の水溶液で処理することもできる。 ＜感光層＞このようにして得られた平版印刷版用支持体
の上に従来より知られている感光層を設けて、感光性平
版印刷版を得ることができる。これを製版処理して得た
平版印刷版は優れた性能を有している。以下、感光性組
成物の代表的なものについて述べる。
【００２９】(1) ｏ−キノンジアジド化合物からなる感
光性組成物。 ポジ作用感光性ジアゾ化合物としては、特公昭４３−２
８４０３号公報に記載されているベンゾキノン−１，２
−ジアジドスルホン酸クロリドとポリヒドロキシフェニ
ルとのエステルまたはナフトキノン−１，２−ジアジド
スルホン酸クロリドとピリガロール−アセトン樹脂きの
エステルが最も望ましい。その他の好適なｏ−キノンジ
アジド化合物としては、米国特許第3,０４6,１２０号及
び第3,１８8,２１０号の各明細書中に記載されているベ
ンゾキノン−１，２−ジアジドスルホン酸クロリドまた
はナフトキノン−１，２−ジアジドスルホン酸クロリド
とフェノールホルムアルデヒド樹脂とのエステルがあ
る。
光性組成物。 ポジ作用感光性ジアゾ化合物としては、特公昭４３−２
８４０３号公報に記載されているベンゾキノン−１，２
−ジアジドスルホン酸クロリドとポリヒドロキシフェニ
ルとのエステルまたはナフトキノン−１，２−ジアジド
スルホン酸クロリドとピリガロール−アセトン樹脂きの
エステルが最も望ましい。その他の好適なｏ−キノンジ
アジド化合物としては、米国特許第3,０４6,１２０号及
び第3,１８8,２１０号の各明細書中に記載されているベ
ンゾキノン−１，２−ジアジドスルホン酸クロリドまた
はナフトキノン−１，２−ジアジドスルホン酸クロリド
とフェノールホルムアルデヒド樹脂とのエステルがあ
る。
【００３０】ｏ−キノンジアジド化合物は単独で感光層
を構成するが、アルカリ水に可溶な樹脂を結合剤（バイ
ンダー）として併用してもよい。このアルカリ水に可溶
性の樹脂としてはノボラック樹脂があり、例えばフェノ
ールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂、ｐ−ｔ−ブチルホルムアルデヒド樹脂、フェノ
ール変性キシレン樹脂、フェノール変性メシチレン樹脂
などがある。その他の有用なアルカリ水可溶性樹脂とし
てポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化アクリル酸
と他のビニル化合物とのコポリマーをあげることができ
る。ｏ−キノンジアジド化合物からなる感光層及びその
現像液の更なる詳細は米国特許第4,２５9,４３４号に記
載されている。
を構成するが、アルカリ水に可溶な樹脂を結合剤（バイ
ンダー）として併用してもよい。このアルカリ水に可溶
性の樹脂としてはノボラック樹脂があり、例えばフェノ
ールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂、ｐ−ｔ−ブチルホルムアルデヒド樹脂、フェノ
ール変性キシレン樹脂、フェノール変性メシチレン樹脂
などがある。その他の有用なアルカリ水可溶性樹脂とし
てポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化アクリル酸
と他のビニル化合物とのコポリマーをあげることができ
る。ｏ−キノンジアジド化合物からなる感光層及びその
現像液の更なる詳細は米国特許第4,２５9,４３４号に記
載されている。
【００３１】(2) ジアゾ樹脂とバインダーとからなる感
光性組成物 ネガ作用感光性ジアゾ化合物としては米国特許第2,０６
3,６３１号及び同2,６６7,４１５号の各明細書に開示さ
れているジアゾニウム塩とアルドールやアセタールのよ
うな反応性カルボニル基を含有する有機縮合剤との反応
生成物であるジフェニルアミン−ｐ−ジアゾニウム塩と
ホルムアルデヒドとの縮合生成物（感光性ジアゾ樹脂）
が好適に用いられる。その他の有用な縮合ジアゾ化合物
は米国特許第3,６７9,４１９号、特開昭６０−８０９１
号、特開昭５９−７８３４０号、特開昭５６−１２１０
３１号、特開昭６１−９１６５４号、特開昭５９−７８
３４０号、特開昭６２−５９９４８号、英国特許第1,３
１2,９２５号、同第1,３１2,９２６号の各明細書に開示
されている。これらの型の感光性ジアゾ化合物は、通常
水溶性無機塩の形で得られ、従って水溶液から塗布する
ことができる。またこれらの水溶性ジアゾ化合物を英国
特許第1,２８0,８８５号明細書に開示された方法により
１個またはそれ以上のフェノール性水酸基、スルホン酸
基またはその両者を有する芳香族または脂肪族化合物と
反応させ、その反応生成物である実質的に水不溶性の感
光性ジアゾ樹脂を使用することもできる。
光性組成物 ネガ作用感光性ジアゾ化合物としては米国特許第2,０６
3,６３１号及び同2,６６7,４１５号の各明細書に開示さ
れているジアゾニウム塩とアルドールやアセタールのよ
うな反応性カルボニル基を含有する有機縮合剤との反応
生成物であるジフェニルアミン−ｐ−ジアゾニウム塩と
ホルムアルデヒドとの縮合生成物（感光性ジアゾ樹脂）
が好適に用いられる。その他の有用な縮合ジアゾ化合物
は米国特許第3,６７9,４１９号、特開昭６０−８０９１
号、特開昭５９−７８３４０号、特開昭５６−１２１０
３１号、特開昭６１−９１６５４号、特開昭５９−７８
３４０号、特開昭６２−５９９４８号、英国特許第1,３
１2,９２５号、同第1,３１2,９２６号の各明細書に開示
されている。これらの型の感光性ジアゾ化合物は、通常
水溶性無機塩の形で得られ、従って水溶液から塗布する
ことができる。またこれらの水溶性ジアゾ化合物を英国
特許第1,２８0,８８５号明細書に開示された方法により
１個またはそれ以上のフェノール性水酸基、スルホン酸
基またはその両者を有する芳香族または脂肪族化合物と
反応させ、その反応生成物である実質的に水不溶性の感
光性ジアゾ樹脂を使用することもできる。
【００３２】また、特開昭５６−１２１０３１号公報に
記載されているようにヘキサフルオロほう酸塩との反応
生成物として使用することもできる。そのほか、英国特
許第1,３１2,９２５号明細書に記載されているジアゾ樹
脂も好ましい。このようなジアゾ樹脂は、バインダーと
共に用いられる。好ましいバインダーは酸価１０−２０
０を有する有機高分子重合体であり、具体例としては、
アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸またはマレイン
酸を必須の重合成分として含む、例えば米国特許第4,１
２3,２７６号に記載されているような２−ヒドロキシエ
チルアクリレートまたは２−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、またはメタクリロニトリル、アクリル酸または
メタクリル酸及び必要に応じてさらに他の共重合しうる
モノマーとの３元または４元共重合体、特開昭５３−１
２０９０３号公報に記載されているような末端がヒドロ
キシ基であり、かつジカルボン酸エステル残基を含む基
でエステル化されたアクリル酸またはメタクリル酸、及
び必要に応じてさらに他の共重合しうるモノマーとの共
重合体、特開昭５４−９８６１４号公報に記載されてい
るような芳香族性水酸基を末端に有する単量体（例えば
Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドな
ど）、アクリル酸またはメタクリル酸、及びさらに必要
に応じて他の共重合可能なモノマーの少なくとも１種と
の共重合体、特開昭５６−４１４４号公報に記載されて
いるようなアルキルアクリレートまたはメタクリレー
ト、アクリロニトリルまたはメタクリロニトリル、及び
不飽和カルボン酸よりなる共重合体が含まれる。また酸
性ポリマービニルアルコール誘導体、酸性セルロース誘
導体も有用である。更にまた、特開昭６０−１８２４３
７号、同６１−２８１２３６号の各公報に記載されてい
るような、カルボキシル基を有するポリビニルブチラー
ル樹脂や英国特許第2,１８5,１２０号明細書に記載され
ているようなカルボキシル基を有するポリウレタン樹脂
も好ましい一例である。
記載されているようにヘキサフルオロほう酸塩との反応
生成物として使用することもできる。そのほか、英国特
許第1,３１2,９２５号明細書に記載されているジアゾ樹
脂も好ましい。このようなジアゾ樹脂は、バインダーと
共に用いられる。好ましいバインダーは酸価１０−２０
０を有する有機高分子重合体であり、具体例としては、
アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸またはマレイン
酸を必須の重合成分として含む、例えば米国特許第4,１
２3,２７６号に記載されているような２−ヒドロキシエ
チルアクリレートまたは２−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、またはメタクリロニトリル、アクリル酸または
メタクリル酸及び必要に応じてさらに他の共重合しうる
モノマーとの３元または４元共重合体、特開昭５３−１
２０９０３号公報に記載されているような末端がヒドロ
キシ基であり、かつジカルボン酸エステル残基を含む基
でエステル化されたアクリル酸またはメタクリル酸、及
び必要に応じてさらに他の共重合しうるモノマーとの共
重合体、特開昭５４−９８６１４号公報に記載されてい
るような芳香族性水酸基を末端に有する単量体（例えば
Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドな
ど）、アクリル酸またはメタクリル酸、及びさらに必要
に応じて他の共重合可能なモノマーの少なくとも１種と
の共重合体、特開昭５６−４１４４号公報に記載されて
いるようなアルキルアクリレートまたはメタクリレー
ト、アクリロニトリルまたはメタクリロニトリル、及び
不飽和カルボン酸よりなる共重合体が含まれる。また酸
性ポリマービニルアルコール誘導体、酸性セルロース誘
導体も有用である。更にまた、特開昭６０−１８２４３
７号、同６１−２８１２３６号の各公報に記載されてい
るような、カルボキシル基を有するポリビニルブチラー
ル樹脂や英国特許第2,１８5,１２０号明細書に記載され
ているようなカルボキシル基を有するポリウレタン樹脂
も好ましい一例である。
【００３３】(3) 重合体の主鎖または側鎖に−ＣＨ＝Ｃ
Ｈ−Ｃ＝Ｏ基を含む高分子化合物からなる組成物 重合体の主鎖または側鎖に感光性基として−ＣＨ＝ＣＨ
−Ｃ＝Ｏ基を含むポリエステル類、ポリアミド類、ポリ
カーボネート類の様な感光性重合体を主成分とするもの
（例えば、米国特許第3,０３0,２０８号、同第3,７０7,
３７３号及び同第3,４５3,２３７号の各明細書に記載さ
れているような化合物）、シンナミリデンマロン酸等の
２−プロペニリデンマロン酸化合物及び感光性ポリエス
テル類を主成分としたもの（例えば、米国特許第2,９５
6,８７８号及び同第3,１７3,７８７号の各明細書に記載
されているような感光性重合体）、ポリビニルアルコー
ル、澱粉、セルロース及びその類似物のような水酸基含
有重合体のケイ皮酸エステル類（例えば、米国特許第2,
６９0,９６６号、同第2,７５2,３７２号、同第2,７３2,
３０１号等の明細書に記載されているような感光性重合
体）等が包含される。これらの組成物中には他に増感
剤、安定化剤、可塑剤、顔料や染料等を含ませることが
できる。
Ｈ−Ｃ＝Ｏ基を含む高分子化合物からなる組成物 重合体の主鎖または側鎖に感光性基として−ＣＨ＝ＣＨ
−Ｃ＝Ｏ基を含むポリエステル類、ポリアミド類、ポリ
カーボネート類の様な感光性重合体を主成分とするもの
（例えば、米国特許第3,０３0,２０８号、同第3,７０7,
３７３号及び同第3,４５3,２３７号の各明細書に記載さ
れているような化合物）、シンナミリデンマロン酸等の
２−プロペニリデンマロン酸化合物及び感光性ポリエス
テル類を主成分としたもの（例えば、米国特許第2,９５
6,８７８号及び同第3,１７3,７８７号の各明細書に記載
されているような感光性重合体）、ポリビニルアルコー
ル、澱粉、セルロース及びその類似物のような水酸基含
有重合体のケイ皮酸エステル類（例えば、米国特許第2,
６９0,９６６号、同第2,７５2,３７２号、同第2,７３2,
３０１号等の明細書に記載されているような感光性重合
体）等が包含される。これらの組成物中には他に増感
剤、安定化剤、可塑剤、顔料や染料等を含ませることが
できる。
【００３４】(4) 活性光線の照射により重合反応を起こ
す共重合体組成物 例えば米国特許第2,７６0,８６３号及び同第3,０６0,０
２３号明細書に記載の２個またはそれ以上の末端エチレ
ン基を有する付加重合性不飽和化合物と光重合開始剤よ
りなる組成物がある。上記活性光線の照射により二量化
する化合物及び重合反応する化合物にはさらにバインダ
ーとして樹脂、増感剤、熱重合防止剤、色素、可塑剤な
どを含有させることができる。
す共重合体組成物 例えば米国特許第2,７６0,８６３号及び同第3,０６0,０
２３号明細書に記載の２個またはそれ以上の末端エチレ
ン基を有する付加重合性不飽和化合物と光重合開始剤よ
りなる組成物がある。上記活性光線の照射により二量化
する化合物及び重合反応する化合物にはさらにバインダ
ーとして樹脂、増感剤、熱重合防止剤、色素、可塑剤な
どを含有させることができる。
【００３５】(5) 電子写真感光層 電子写真感光層は、主として光導電性化合物とバインダ
ーからなるが、感度向上、所望の感光波長域を得る等の
目的の為に、必要に応じて、公知の顔料、染料、化学増
感剤、そのほかの添加剤を使用することができ、感光層
は単層あるいは電荷発生と電荷輸送の機能を分離した複
数の層から構成することができる。公知の電子写真プロ
セスにより感光層上にトナー画像を形成し、これをレジ
スト層として、非画像部をデコーティングすることによ
り、平版印刷版を得ることができる。例えば、特公昭３
７−１７１６２号、同３８−６９６１号、特開昭５６−
１０７２４６号、同６０−２５４１４２号、特公昭５９
−３６２５９号、同５９−２５２１７号、特開昭５６−
１４６１４５号、同６２−１９４２５７号、同５７−１
４７６５６号、同５８−１００８６２号、同５７−１６
１８６３号を始めとして多数の刊行物に記載されてお
り、これらはいずれも使用することができる。
ーからなるが、感度向上、所望の感光波長域を得る等の
目的の為に、必要に応じて、公知の顔料、染料、化学増
感剤、そのほかの添加剤を使用することができ、感光層
は単層あるいは電荷発生と電荷輸送の機能を分離した複
数の層から構成することができる。公知の電子写真プロ
セスにより感光層上にトナー画像を形成し、これをレジ
スト層として、非画像部をデコーティングすることによ
り、平版印刷版を得ることができる。例えば、特公昭３
７−１７１６２号、同３８−６９６１号、特開昭５６−
１０７２４６号、同６０−２５４１４２号、特公昭５９
−３６２５９号、同５９−２５２１７号、特開昭５６−
１４６１４５号、同６２−１９４２５７号、同５７−１
４７６５６号、同５８−１００８６２号、同５７−１６
１８６３号を始めとして多数の刊行物に記載されてお
り、これらはいずれも使用することができる。
【００３６】上記感光性組成物は通常、水、有機溶剤、
またはこれらの混合物の溶液として、本発明による支持
体上に塗布し、乾燥されて感光性平版印刷版が作成され
る。感光性組成物の塗布量は、一般的に約0.１−約5.０
ｇ／ｍ2 が適当であり、約0.５−約3.０ｇ／ｍ2 がより
好ましい。かくして得られる感光性平版印刷版はカーボ
ンアーク灯、キセノン灯、水銀灯、タングステン灯、メ
タルハライドランプなどのような活性光線を含む光源に
より画像露光し、現像して平版印刷版が得られる。
またはこれらの混合物の溶液として、本発明による支持
体上に塗布し、乾燥されて感光性平版印刷版が作成され
る。感光性組成物の塗布量は、一般的に約0.１−約5.０
ｇ／ｍ2 が適当であり、約0.５−約3.０ｇ／ｍ2 がより
好ましい。かくして得られる感光性平版印刷版はカーボ
ンアーク灯、キセノン灯、水銀灯、タングステン灯、メ
タルハライドランプなどのような活性光線を含む光源に
より画像露光し、現像して平版印刷版が得られる。
【００３７】
【発明の効果】本発明の支持体を使用した感光性平版印
刷版を露光、現像して得られる平版印刷版はネガ型、ポ
ジ型のいずれの場合でも非画像部の汚染がなく、修正工
程で画像部の識別が容易である。また修正跡が生じるこ
とがなく、従って修正跡による印刷物の汚れが発生せ
ず、非画像部の傷つき難さ、耐摩耗性、汚れにくさに優
れている。しかも耐刷力が高い。また現像後に感光層が
残存しないので、水とインキのバランスがとりやすいな
どの特徴を有している。
刷版を露光、現像して得られる平版印刷版はネガ型、ポ
ジ型のいずれの場合でも非画像部の汚染がなく、修正工
程で画像部の識別が容易である。また修正跡が生じるこ
とがなく、従って修正跡による印刷物の汚れが発生せ
ず、非画像部の傷つき難さ、耐摩耗性、汚れにくさに優
れている。しかも耐刷力が高い。また現像後に感光層が
残存しないので、水とインキのバランスがとりやすいな
どの特徴を有している。
【００３８】
【実施例】以下本発明を実施例により、具体的に説明す
る。なお実施例中の（％）は、特に指定のない限り（重
量％）を示すものとする。 実施例１ ＪＩＳ１０５０アルミニウムシートをパミスー水懸濁液
を研磨剤として、回転ナイロンブラシで表面を砂目立て
した。この時の表面粗さ（中心線平均粗さ）は0.５μで
あった。水洗後、７０℃の１０％水酸化ナトリウム水溶
液中に浸漬してアルミニウムの溶解量が６ｇ／ｍ2 にな
るようにエッチングした。水洗後、３０％硝酸水溶液中
に１分間浸漬して中和し、充分水洗した。その後に、0.
７％硝酸水溶液中で、陽極時電圧６ボルトの矩形波交番
波形を用いて（特公昭５８−５７９５号公報実施例に記
載されている電源波形）２０秒間電解粗面化を行い、２
０％硫酸の５０℃溶液中に浸漬して表面を洗浄した後、
水洗した。
る。なお実施例中の（％）は、特に指定のない限り（重
量％）を示すものとする。 実施例１ ＪＩＳ１０５０アルミニウムシートをパミスー水懸濁液
を研磨剤として、回転ナイロンブラシで表面を砂目立て
した。この時の表面粗さ（中心線平均粗さ）は0.５μで
あった。水洗後、７０℃の１０％水酸化ナトリウム水溶
液中に浸漬してアルミニウムの溶解量が６ｇ／ｍ2 にな
るようにエッチングした。水洗後、３０％硝酸水溶液中
に１分間浸漬して中和し、充分水洗した。その後に、0.
７％硝酸水溶液中で、陽極時電圧６ボルトの矩形波交番
波形を用いて（特公昭５８−５７９５号公報実施例に記
載されている電源波形）２０秒間電解粗面化を行い、２
０％硫酸の５０℃溶液中に浸漬して表面を洗浄した後、
水洗した。
【００３９】さらに５％リン酸水溶液中で直流を用いて
多孔性陽極酸化処理を行い基板１を準備した。この時の
陽極酸化皮膜重量は４ｇ／ｍ2 であった。次に下記に示
す水酸基を有する無機粒子Ａを合成した。Ａはアルミニ
ウムトリイソプロポキシド：トルエン：アセチルアセト
ンを重量比２：３９：１に調整し、室温で１時間スター
ラーで攪拌して反応させ、水酸基を有する無機粒子の粒
子径を約５０オングストローム以下に制御した。この溶
液を基板１に回転塗布法により陽極酸化皮膜表面に塗布
し、無機粒子を孔中に充填した。その後、温度１００℃
で１０分間熱処理を施し、ゾルをゲルに変えた。その
後、４０℃の１mol%炭酸水素カリウム水溶液に３分間浸
漬して、陽極酸化皮膜上にある余分なゲル膜を除去し、
水洗して基板２を準備した。基板１及び２に下記組成の
感光液を乾燥後の塗布重量が2.０ｇ／m2となるように塗
布して感光層を設けた。
多孔性陽極酸化処理を行い基板１を準備した。この時の
陽極酸化皮膜重量は４ｇ／ｍ2 であった。次に下記に示
す水酸基を有する無機粒子Ａを合成した。Ａはアルミニ
ウムトリイソプロポキシド：トルエン：アセチルアセト
ンを重量比２：３９：１に調整し、室温で１時間スター
ラーで攪拌して反応させ、水酸基を有する無機粒子の粒
子径を約５０オングストローム以下に制御した。この溶
液を基板１に回転塗布法により陽極酸化皮膜表面に塗布
し、無機粒子を孔中に充填した。その後、温度１００℃
で１０分間熱処理を施し、ゾルをゲルに変えた。その
後、４０℃の１mol%炭酸水素カリウム水溶液に３分間浸
漬して、陽極酸化皮膜上にある余分なゲル膜を除去し、
水洗して基板２を準備した。基板１及び２に下記組成の
感光液を乾燥後の塗布重量が2.０ｇ／m2となるように塗
布して感光層を設けた。
【００４０】組成 ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロ
ライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化合
物（米国特許第3,６３5,７０９号明細書実施例１記載の
もの） 0.７５ｇ クレゾールノボラック樹脂 2.００ｇ オイルブルー＃６０３ 0.０４ｇ エチレンジクロライド １６ｇ ２−メトキシエチルアセテート １２ｇ このようにしてつくられた感光性平版印刷版を、真空焼
枠中で、透明ポジティブフィルムを通して１ｍの距離か
ら３kWのメタルハライドランプにより、５０秒間露光を
行なった後、ＳｉＯ2/Ｎa2Ｏのモル比が1.７４の珪酸ナ
トリウムの5.２６％水溶液（pH＝１2.７）で現像した。
現像後、ハイデルベルグ社製印刷機SOR-KZにて印刷した
ところ、双方の印刷プレートは、１０万枚の良好な印刷
物を与えた。しかし無機粒子を陽極酸化皮膜の孔中に含
有しないプレートは非画像部の汚染が激しく６００nmで
の吸光度が0.０８あり、検版性や水とインキのバランス
がとりにくく印刷適性が劣っていた。これに対して、水
酸基を有する無機粒子を陽極酸化皮膜の孔中に含有する
プレートには全く非画像部の汚染は生じなかった。 実施例２ ＪＩＳ１０５０アルミニウムシートをパミスー水懸濁液
を研磨剤として、回転ナイロンブラシで表面を砂目立て
した。この時の表面粗さ（中心線平均粗さ）は0.５μで
あった。水洗後、７０℃の１０％水酸化ナトリウム水溶
液中に浸漬してアルミニウムの溶解量が６ｇ／ｍ2 にな
るようにエッチングした。水洗後、３０％硝酸水溶液中
に１分間浸漬して中和し、充分水洗した。その後に、0.
７％硝酸水溶液中で、陽極時電圧６ボルトの矩形波交番
波形を用いて（特開昭５８−５７９５号公報実施例に記
載されている電源波形）２０秒間電解粗面化を行い、２
０％硫酸の５０℃溶液中に浸漬して表面を洗浄した後、
水洗した。さらに２０％硫酸水溶液中で直流を用いて多
孔性陽極酸化処理を行い、基板３を準備した。この時の
陽極酸化皮膜重量は４ｇ／ｍ2 であった。実施例１と同
様にして、下記に示す水酸基を有する無機粒子Ｂを合成
した。Ｂはエチルシリケート：エタノール：水：硝酸を
重量比１０：７３：２：0.１に調整し、室温で４時間ス
ターラーで攪拌して反応させることにより形成し、無機
粒子の粒子径を約３０オングストローム以下に制御した
ものである。この溶液を基板３上に回転塗布法により陽
極酸化皮膜表面に塗布し、無機粒子を孔中に充填した。
１００℃、１０分熱処理することによりゾルをゲルに変
えた後、４０℃の１mol%炭酸水素カリウム水溶液に６０
分間浸漬して陽極酸化皮膜上にあるゲル膜を溶解し、水
洗し、基板４を準備した。このように孔中に無機粒子を
含むものと含まないものについて下記組成の感光液を乾
燥後の塗布重量が2.０ｇ／ｍ2 となるように塗布して感
光層を設けた。
ライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化合
物（米国特許第3,６３5,７０９号明細書実施例１記載の
もの） 0.７５ｇ クレゾールノボラック樹脂 2.００ｇ オイルブルー＃６０３ 0.０４ｇ エチレンジクロライド １６ｇ ２−メトキシエチルアセテート １２ｇ このようにしてつくられた感光性平版印刷版を、真空焼
枠中で、透明ポジティブフィルムを通して１ｍの距離か
ら３kWのメタルハライドランプにより、５０秒間露光を
行なった後、ＳｉＯ2/Ｎa2Ｏのモル比が1.７４の珪酸ナ
トリウムの5.２６％水溶液（pH＝１2.７）で現像した。
現像後、ハイデルベルグ社製印刷機SOR-KZにて印刷した
ところ、双方の印刷プレートは、１０万枚の良好な印刷
物を与えた。しかし無機粒子を陽極酸化皮膜の孔中に含
有しないプレートは非画像部の汚染が激しく６００nmで
の吸光度が0.０８あり、検版性や水とインキのバランス
がとりにくく印刷適性が劣っていた。これに対して、水
酸基を有する無機粒子を陽極酸化皮膜の孔中に含有する
プレートには全く非画像部の汚染は生じなかった。 実施例２ ＪＩＳ１０５０アルミニウムシートをパミスー水懸濁液
を研磨剤として、回転ナイロンブラシで表面を砂目立て
した。この時の表面粗さ（中心線平均粗さ）は0.５μで
あった。水洗後、７０℃の１０％水酸化ナトリウム水溶
液中に浸漬してアルミニウムの溶解量が６ｇ／ｍ2 にな
るようにエッチングした。水洗後、３０％硝酸水溶液中
に１分間浸漬して中和し、充分水洗した。その後に、0.
７％硝酸水溶液中で、陽極時電圧６ボルトの矩形波交番
波形を用いて（特開昭５８−５７９５号公報実施例に記
載されている電源波形）２０秒間電解粗面化を行い、２
０％硫酸の５０℃溶液中に浸漬して表面を洗浄した後、
水洗した。さらに２０％硫酸水溶液中で直流を用いて多
孔性陽極酸化処理を行い、基板３を準備した。この時の
陽極酸化皮膜重量は４ｇ／ｍ2 であった。実施例１と同
様にして、下記に示す水酸基を有する無機粒子Ｂを合成
した。Ｂはエチルシリケート：エタノール：水：硝酸を
重量比１０：７３：２：0.１に調整し、室温で４時間ス
ターラーで攪拌して反応させることにより形成し、無機
粒子の粒子径を約３０オングストローム以下に制御した
ものである。この溶液を基板３上に回転塗布法により陽
極酸化皮膜表面に塗布し、無機粒子を孔中に充填した。
１００℃、１０分熱処理することによりゾルをゲルに変
えた後、４０℃の１mol%炭酸水素カリウム水溶液に６０
分間浸漬して陽極酸化皮膜上にあるゲル膜を溶解し、水
洗し、基板４を準備した。このように孔中に無機粒子を
含むものと含まないものについて下記組成の感光液を乾
燥後の塗布重量が2.０ｇ／ｍ2 となるように塗布して感
光層を設けた。
【００４１】組成 ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロ
ライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化合
物（米国特許第3,６３5,７０９号明細書実施例１記載の
もの） 0.７５ｇ クレゾールノボラック樹脂 2.００ｇ オイルブルー＃６０３ 0.０４ｇ エチレンジクロライド １６ｇ ２−メトキシエチルアセテート １２ｇ このようにしてつくられた感光性平版印刷版を、真空焼
枠中で、透明ポジティブフィルムを通して１ｍの距離か
ら３kWのメタルハライドランプにより、５０秒間露光を
行なった後、ＳｉＯ2/Ｎa2Ｏのモル比が1.７４の珪酸ナ
トリウム5.２６％水溶液（pH＝１2.７）で現像した。現
像後、ハイデルベルグ社製印刷機SOR-KZにて印刷したと
ころ、双方の印刷プレートは、１０万枚の良好な印刷物
を与えた。しかし、無機粒子を陽極酸化皮膜の孔中に含
有しないプレートは非画像部の汚染が激しく６００nmで
の吸光度が0.０８あり、検版性や水とインキのバランス
がとり難く、印刷適性が劣っていた。これに対して陽極
酸化皮膜の孔中に無機粒子を含有するプレートには全く
非画像部の汚染を生じなかった。 実施例３ ＪＩＳ１０５０アルミニウムシートをパミスー水懸濁液
を研磨剤として、回転ナイロンブラシで表面を砂目立て
した。この時の表面粗さ（中心線平均粗さ）は0.５μで
あった。水洗後、７０℃の１０％水酸化ナトリウム水溶
液中に浸漬してアルミニウムの溶解量が６ｇ／ｍ2 にな
るようにエッチングした。水洗後、３％硝酸水溶液中に
１分間浸漬して中和し、充分水洗した。その後に、0.７
％硝酸水溶液中で陽極時電圧６ボルトの矩形波交番波形
を用いて（特開昭５８−５７９５号公報実施例に記載さ
れている電源波形）２０秒間電解粗面化を行ない、５０
℃の２０％硫酸中に浸漬して表面を洗浄した後、水洗し
た。さらに２０％硫酸水溶液中で直流を用いて多孔性陽
極酸化処理を行い、基板５を準備した。この時の陽極酸
化皮膜重量は2.５ｇ／ｍ2 であった。この後基板５を３
号ケイ酸ソーダ2.５wt% 、７０℃、１４秒浸漬後水洗
し、基板６とした。実施例２と同様にして、次に示す水
酸基を有する無機粒子Ｂを合成した。Ｂはエチルシリケ
ート：エタノール：水：硝酸を重量比１０：７３：２：
0.１に調整し、室温で４時間反応させることにより形成
し、無機粒子の粒子径を約３０オングストロームに制御
したものである。この溶液を基板５上に回転塗布法によ
り陽極酸化皮膜表面に塗布し、無機粒子を孔中に充填し
た。１００℃、１０分熱処理することによりゾルをゲル
に変えた後、４０℃の１mol%炭酸水素カリウム水溶液に
６０分間浸漬して陽極酸化皮膜上にあるゲル膜を溶解
し、水洗し、基板７を準備した。このように孔中に無機
粒子を含むものと含まないものについて下記組成の感光
液を乾燥後の塗布重量が2.０ｇ／m2となるように塗布し
て感光層を設けた。
ライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化合
物（米国特許第3,６３5,７０９号明細書実施例１記載の
もの） 0.７５ｇ クレゾールノボラック樹脂 2.００ｇ オイルブルー＃６０３ 0.０４ｇ エチレンジクロライド １６ｇ ２−メトキシエチルアセテート １２ｇ このようにしてつくられた感光性平版印刷版を、真空焼
枠中で、透明ポジティブフィルムを通して１ｍの距離か
ら３kWのメタルハライドランプにより、５０秒間露光を
行なった後、ＳｉＯ2/Ｎa2Ｏのモル比が1.７４の珪酸ナ
トリウム5.２６％水溶液（pH＝１2.７）で現像した。現
像後、ハイデルベルグ社製印刷機SOR-KZにて印刷したと
ころ、双方の印刷プレートは、１０万枚の良好な印刷物
を与えた。しかし、無機粒子を陽極酸化皮膜の孔中に含
有しないプレートは非画像部の汚染が激しく６００nmで
の吸光度が0.０８あり、検版性や水とインキのバランス
がとり難く、印刷適性が劣っていた。これに対して陽極
酸化皮膜の孔中に無機粒子を含有するプレートには全く
非画像部の汚染を生じなかった。 実施例３ ＪＩＳ１０５０アルミニウムシートをパミスー水懸濁液
を研磨剤として、回転ナイロンブラシで表面を砂目立て
した。この時の表面粗さ（中心線平均粗さ）は0.５μで
あった。水洗後、７０℃の１０％水酸化ナトリウム水溶
液中に浸漬してアルミニウムの溶解量が６ｇ／ｍ2 にな
るようにエッチングした。水洗後、３％硝酸水溶液中に
１分間浸漬して中和し、充分水洗した。その後に、0.７
％硝酸水溶液中で陽極時電圧６ボルトの矩形波交番波形
を用いて（特開昭５８−５７９５号公報実施例に記載さ
れている電源波形）２０秒間電解粗面化を行ない、５０
℃の２０％硫酸中に浸漬して表面を洗浄した後、水洗し
た。さらに２０％硫酸水溶液中で直流を用いて多孔性陽
極酸化処理を行い、基板５を準備した。この時の陽極酸
化皮膜重量は2.５ｇ／ｍ2 であった。この後基板５を３
号ケイ酸ソーダ2.５wt% 、７０℃、１４秒浸漬後水洗
し、基板６とした。実施例２と同様にして、次に示す水
酸基を有する無機粒子Ｂを合成した。Ｂはエチルシリケ
ート：エタノール：水：硝酸を重量比１０：７３：２：
0.１に調整し、室温で４時間反応させることにより形成
し、無機粒子の粒子径を約３０オングストロームに制御
したものである。この溶液を基板５上に回転塗布法によ
り陽極酸化皮膜表面に塗布し、無機粒子を孔中に充填し
た。１００℃、１０分熱処理することによりゾルをゲル
に変えた後、４０℃の１mol%炭酸水素カリウム水溶液に
６０分間浸漬して陽極酸化皮膜上にあるゲル膜を溶解
し、水洗し、基板７を準備した。このように孔中に無機
粒子を含むものと含まないものについて下記組成の感光
液を乾燥後の塗布重量が2.０ｇ／m2となるように塗布し
て感光層を設けた。
【００４２】 ネガ感光層処方 親油性高分子化合物 （２−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体） 5.０ ｇ ジアゾ樹脂 （ｐ−ジアゾジフェニルアミンとｐ−ホルムアルデヒド 0.５ ｇ との縮合物） ビクトリアピュアブルーＢＯＨ 0.１５ｇ ジピコリン酸 0.１５ｇ 亜リン酸 0.１ ｇ 水 5.０ ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ４5.０ ｇ メチルエチルケトン ５0.０ ｇ 無機粒子を陽極酸化皮膜の孔中に含有しないプレート
は、非画像部の汚れが激しく、検版性や水とインキのバ
ランスがとり難く印刷しにくかった。しかしながら、陽
極酸化皮膜の孔中に無機粒子を含有するプレートには全
く非画像部の汚染を生じなかった。
は、非画像部の汚れが激しく、検版性や水とインキのバ
ランスがとり難く印刷しにくかった。しかしながら、陽
極酸化皮膜の孔中に無機粒子を含有するプレートには全
く非画像部の汚染を生じなかった。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成３年１０月８日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２７】（２）水酸基を有する無機粒子を含む溶液
中で陽極酸化されたアルミニウム板を一方の電極として
電解を行う事により充てんする。このばあい溶液中での
無機粒子の安定性を良くするために処理液中にクロム
酸、燐酸、硫酸、硝酸等の無機塩、酢酸、マレイン酸等
の有機酸あるいは界面活性剤を添加することができる。
電解条件は使用する無機粒子の種類によって異なるが、
電流密度は０．５−１００Ａ／ｄｍ２、処理温度は５−
９０℃、処理時間は１秒−１時間である。電解により充
てんした後、必要に応じて（１）と同様にして加熱処理
し酸・アルカリへの浸漬処理を施してもよい。 ＜親水層＞このような親水性化合物を陽極酸化皮膜の孔
内に充填したアルミニウム表面に、特開昭６０−１４９
４９１号公報、特開昭６０−２３２９９８号公報、特開
昭６２−１９４９４号公報に記載されているような親水
層を設けることができる。
中で陽極酸化されたアルミニウム板を一方の電極として
電解を行う事により充てんする。このばあい溶液中での
無機粒子の安定性を良くするために処理液中にクロム
酸、燐酸、硫酸、硝酸等の無機塩、酢酸、マレイン酸等
の有機酸あるいは界面活性剤を添加することができる。
電解条件は使用する無機粒子の種類によって異なるが、
電流密度は０．５−１００Ａ／ｄｍ２、処理温度は５−
９０℃、処理時間は１秒−１時間である。電解により充
てんした後、必要に応じて（１）と同様にして加熱処理
し酸・アルカリへの浸漬処理を施してもよい。 ＜親水層＞このような親水性化合物を陽極酸化皮膜の孔
内に充填したアルミニウム表面に、特開昭６０−１４９
４９１号公報、特開昭６０−２３２９９８号公報、特開
昭６２−１９４９４号公報に記載されているような親水
層を設けることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２８】また、この親水層を設ける前または後に、
米国特許第３，１８１，４６１号に記載されているよう
に、アルカリ金属シリケート（珪酸ソーダ、珪酸カリウ
ム）の水溶液で処理することもできる。またポリビニル
ホスホン酸で処理することもできる。 ＜感光層＞このようにして得られた平版印刷版用支持体
の上に従来より知られている感光層を設けて、感光性平
版印刷版を得ることができる。これを製版処理して得た
平版印刷版は優れた性能を有している。以下、感光性組
成物の代表的なものについて述べる。
米国特許第３，１８１，４６１号に記載されているよう
に、アルカリ金属シリケート（珪酸ソーダ、珪酸カリウ
ム）の水溶液で処理することもできる。またポリビニル
ホスホン酸で処理することもできる。 ＜感光層＞このようにして得られた平版印刷版用支持体
の上に従来より知られている感光層を設けて、感光性平
版印刷版を得ることができる。これを製版処理して得た
平版印刷版は優れた性能を有している。以下、感光性組
成物の代表的なものについて述べる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２９】（１）ｏ−キノンジアジド化合物からなる
感光性組成物。 ポジ作用感光性ジアゾ化合物としては、特公昭４３−２
８４０３号公報に記載されているベンゾキノン−１，２
−ジアジドスルホン酸クロリドとポリヒドロキシフェニ
ルとのエステルまたはナフトキノン−１，２−ジアジド
スルホン酸クロリドとピリガロール−アセトン樹脂との
エステルが最も望ましい。その他の好適なｏ−キノンジ
アジド化合物としては、米国特許第３，０４６，１２０
号及び第３，１８８，２１０号の各明細書中に記載され
ているベンゾキノン−１，２−ジアジドスルホン酸クロ
リドまたはナフトキノン−１，２−ジアジドスルホン酸
クロリドとフェノールホルムアルデヒド樹脂とのエステ
ルがある。
感光性組成物。 ポジ作用感光性ジアゾ化合物としては、特公昭４３−２
８４０３号公報に記載されているベンゾキノン−１，２
−ジアジドスルホン酸クロリドとポリヒドロキシフェニ
ルとのエステルまたはナフトキノン−１，２−ジアジド
スルホン酸クロリドとピリガロール−アセトン樹脂との
エステルが最も望ましい。その他の好適なｏ−キノンジ
アジド化合物としては、米国特許第３，０４６，１２０
号及び第３，１８８，２１０号の各明細書中に記載され
ているベンゾキノン−１，２−ジアジドスルホン酸クロ
リドまたはナフトキノン−１，２−ジアジドスルホン酸
クロリドとフェノールホルムアルデヒド樹脂とのエステ
ルがある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３９】さらに５％リン酸水溶液中で直流を用いて
多孔性陽極酸化処理を行い基板１を準備した。この時の
陽極酸化皮膜重量は４ｇ／ｍ２であった。次に下記に示
す水酸基を有する無機粒子Ａを合成した。Ａはアルミニ
ウムトリイソプロポキシド：トルエン：アセチルアセト
ンを重量比２：３９：１に調整し、室温で１時間スター
ラーで攪拌して反応させ、水酸基を有する無機粒子の粒
子径を約５０オングストローム以下に制御した。この溶
液を基板１に回転塗布法により陽極酸化皮膜表面に塗布
し、無機粒子を孔中に充填した。その後、温度１００℃
で１０分間熱処理を施し、無機粒子を孔中に固着した。
その後、４０℃の１ｍｏｌ％炭酸水素カリウム水溶液に
３分間浸漬して、陽極酸化皮膜上にある余分な無機粒子
から形成した膜を除去し、水洗して基板２を準備した。
基板１及び２に下記組成の感光液を乾燥後の塗布重量が
２．０ｇ／ｍ２となるように塗布して感光層を設けた。
多孔性陽極酸化処理を行い基板１を準備した。この時の
陽極酸化皮膜重量は４ｇ／ｍ２であった。次に下記に示
す水酸基を有する無機粒子Ａを合成した。Ａはアルミニ
ウムトリイソプロポキシド：トルエン：アセチルアセト
ンを重量比２：３９：１に調整し、室温で１時間スター
ラーで攪拌して反応させ、水酸基を有する無機粒子の粒
子径を約５０オングストローム以下に制御した。この溶
液を基板１に回転塗布法により陽極酸化皮膜表面に塗布
し、無機粒子を孔中に充填した。その後、温度１００℃
で１０分間熱処理を施し、無機粒子を孔中に固着した。
その後、４０℃の１ｍｏｌ％炭酸水素カリウム水溶液に
３分間浸漬して、陽極酸化皮膜上にある余分な無機粒子
から形成した膜を除去し、水洗して基板２を準備した。
基板１及び２に下記組成の感光液を乾燥後の塗布重量が
２．０ｇ／ｍ２となるように塗布して感光層を設けた。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４０】組成 ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロ
ライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化合
物（米国特許第３，６３５，７０９号明細書実施例１記
載のもの） ０．７５ｇ クレゾールノボラック樹脂 ２．００ｇ オイルブルー＃６０３ ０．０４ｇ エチレンジクロライド １６ｇ ２−メトキシエチルアセテート １２ｇ このようにしてつくられた感光性平版印刷版を、真空焼
枠中で、透明ポジティブフィルムを通して１ｍの距離か
ら３ｋＷのメタルハライドランプにより、５０秒間露光
を行なった後、ＳｉＯ２／Ｎａ２Ｏのモル比が１．７４
の珪酸ナトリウムの５．２６％水溶液（ｐＨ＝１２．
７）で現像した。現像後、ハイデルベルグ社製印刷機Ｓ
０Ｒ−ＫＺにて印刷したところ、双方の印刷プレート
は、１０万枚の良好な印刷物を与えた。しかし無機粒子
を陽極酸化皮膜の孔中に含有しないプレートは非画像部
の汚染が激しく６００ｎｍでの吸光度が０．０８あり、
検版性や水とインキのバランスがとりにくく印刷適性が
劣っていた。これに対して、水酸基を有する無機粒子を
陽極酸化皮膜の孔中に含有するプレートには全く非画像
部の汚染は生じなかった。 実施例２ ＪＩＳ１０５０アルミニウムシートをパミスー水懸濁液
を研磨剤として、回転ナイロンブラシで表面を砂目立て
した。この時の表面粗さ（中心線平均粗さ）は０．５μ
であった。水洗後、７０℃の１０％水酸化ナトリウム水
溶液中に浸漬してアルミニウムの溶解量が６ｇ／ｍ２に
なるようにエッチングした。水洗後、３０％硝酸水溶液
中に１分間浸漬して中和し、充分水洗した。その後に、
０．７％硝酸水溶液中で、陽極時電圧６ボルトの矩形波
交番波形を用いて（特開昭５８−５７９５号公報実施例
に記載されている電源波形）２０秒間電解粗面化を行
い、２０％硫酸の５０℃溶液中に浸漬して表面を洗浄し
た後、水洗した。さらに２０％硫酸水溶液中で直流を用
いて多孔性陽極酸化処理を行い、基板３を準備した。こ
の時の陽極酸化皮膜重量は４ｇ／ｍ２であった。実施例
１と同様にして、下記に示す水酸基を有する無機粒子Ｂ
を合成した。Ｂはエチルシリケート：エタノール：水：
硝酸を重量比１０：７３：２：０．１に調整し、室温で
４時間スターラーで攪拌して反応させることにより形成
し、無機粒子の粒子径を約３０オングストローム以下に
制御したものである。この溶液を基板３上に回転塗布法
により陽極酸化皮膜表面に塗布し、無機粒子を孔中に充
填した。１００℃、１０分熱処理することにより無機粒
子を孔中に固着した後、４０℃の１ｍｏｌ％炭酸水素カ
リウム水溶液に６０分間浸漬して陽極酸化皮膜上にある
ゲル膜を溶解し、水洗し、基板４を準備した。このよう
に孔中に無機粒子を含むものと含まないものについて下
記組成の感光液を乾燥後の塗布重量が２．０ｇ／ｍ２と
なるように塗布して感光層を設けた。
ライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化合
物（米国特許第３，６３５，７０９号明細書実施例１記
載のもの） ０．７５ｇ クレゾールノボラック樹脂 ２．００ｇ オイルブルー＃６０３ ０．０４ｇ エチレンジクロライド １６ｇ ２−メトキシエチルアセテート １２ｇ このようにしてつくられた感光性平版印刷版を、真空焼
枠中で、透明ポジティブフィルムを通して１ｍの距離か
ら３ｋＷのメタルハライドランプにより、５０秒間露光
を行なった後、ＳｉＯ２／Ｎａ２Ｏのモル比が１．７４
の珪酸ナトリウムの５．２６％水溶液（ｐＨ＝１２．
７）で現像した。現像後、ハイデルベルグ社製印刷機Ｓ
０Ｒ−ＫＺにて印刷したところ、双方の印刷プレート
は、１０万枚の良好な印刷物を与えた。しかし無機粒子
を陽極酸化皮膜の孔中に含有しないプレートは非画像部
の汚染が激しく６００ｎｍでの吸光度が０．０８あり、
検版性や水とインキのバランスがとりにくく印刷適性が
劣っていた。これに対して、水酸基を有する無機粒子を
陽極酸化皮膜の孔中に含有するプレートには全く非画像
部の汚染は生じなかった。 実施例２ ＪＩＳ１０５０アルミニウムシートをパミスー水懸濁液
を研磨剤として、回転ナイロンブラシで表面を砂目立て
した。この時の表面粗さ（中心線平均粗さ）は０．５μ
であった。水洗後、７０℃の１０％水酸化ナトリウム水
溶液中に浸漬してアルミニウムの溶解量が６ｇ／ｍ２に
なるようにエッチングした。水洗後、３０％硝酸水溶液
中に１分間浸漬して中和し、充分水洗した。その後に、
０．７％硝酸水溶液中で、陽極時電圧６ボルトの矩形波
交番波形を用いて（特開昭５８−５７９５号公報実施例
に記載されている電源波形）２０秒間電解粗面化を行
い、２０％硫酸の５０℃溶液中に浸漬して表面を洗浄し
た後、水洗した。さらに２０％硫酸水溶液中で直流を用
いて多孔性陽極酸化処理を行い、基板３を準備した。こ
の時の陽極酸化皮膜重量は４ｇ／ｍ２であった。実施例
１と同様にして、下記に示す水酸基を有する無機粒子Ｂ
を合成した。Ｂはエチルシリケート：エタノール：水：
硝酸を重量比１０：７３：２：０．１に調整し、室温で
４時間スターラーで攪拌して反応させることにより形成
し、無機粒子の粒子径を約３０オングストローム以下に
制御したものである。この溶液を基板３上に回転塗布法
により陽極酸化皮膜表面に塗布し、無機粒子を孔中に充
填した。１００℃、１０分熱処理することにより無機粒
子を孔中に固着した後、４０℃の１ｍｏｌ％炭酸水素カ
リウム水溶液に６０分間浸漬して陽極酸化皮膜上にある
ゲル膜を溶解し、水洗し、基板４を準備した。このよう
に孔中に無機粒子を含むものと含まないものについて下
記組成の感光液を乾燥後の塗布重量が２．０ｇ／ｍ２と
なるように塗布して感光層を設けた。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４１】組成 ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロ
ライドとピロガロールーアセトン樹脂とのエステル化合
物（米国特許第３，６３５，７０９号明細書実施例１記
載のもの） ０．７５ｇ クレゾールノボラック樹脂 ２．００ｇ オイルブルー＃６０３ ０．０４ｇ エチレンジクロライド １６ｇ ２−メトキシエチルアセテート １２ｇ このようにしてつくられた感光性平版印刷版を、真空焼
枠中で、透明ポジティブフィルムを通して１ｍの距離か
ら３ｋＷのメタルハライドランプにより、５０秒間露光
を行なった後、ＳｉＯ２／Ｎａ２Ｏのモル比が１．７４
の珪酸ナトリウム５．２６％水溶液（ｐＨ＝１２．７）
で現像した。現像後、ハイデルベルグ社製印刷機Ｓ０Ｒ
−ＫＺにて印刷したところ、双方の印刷プレートは、１
０万枚の良好な印刷物を与えた。しかし、無機粒子を陽
極酸化皮膜の孔中に含有しないプレートは非画像部の汚
染が激しく６００ｎｍでの吸光度が０．０８あり、検版
性や水とインキのバランスがとり難く、印刷適性が劣っ
ていた。これに対して陽極酸化皮膜の孔中に無機粒子を
含有するプレートには全く非画像部の汚染を生じなかっ
た。 実施例３ ＪＩＳ１０５０アルミニウムシートをパミスー水懸濁液
を研磨剤として、回転ナイロンブラシで表面を砂目立て
した。この時の表面粗さ（中心線平均粗さ）は０．５μ
であった。水洗後、７０℃の１０％水酸化ナトリウム水
溶液中に浸漬してアルミニウムの溶解量が６ｇ／ｍ２に
なるようにエッチングした。水洗後、３％硝酸水溶液中
に１分間浸漬して中和し、充分水洗した。その後に、
０．７％硝酸水溶液中で陽極時電圧６ボルトの矩形波交
番波形を用いて（特開昭５８−５７９５号公報実施例に
記載されている電源波形）２０秒間電解粗面化を行な
い、５０℃の２０％硫酸中に浸漬して表面を洗浄した
後、水洗した。さらに２０％硫酸水溶液中で直流を用い
て多孔性陽極酸化処理を行い、基板５を準備した。この
時の陽極酸化皮膜重量は２．５ｇ／ｍ２であった。この
後基板５を３号ケイ酸ソーダ２．５ｗｔ％、７０℃、１
４秒浸漬後水洗し、基板６とした。実施例２と同様にし
て、次に示す水酸基を有する無機粒子Ｂを合成した。Ｂ
はエチルシリケート：エタノール：水：硝酸を重量比１
０：７３：２：０．１に調整し、室温で４時間反応させ
ることにより形成し、無機粒子の粒子径を約３０オング
ストロームに制御したものである。この溶液を基板５上
に回転塗布法により陽極酸化皮膜表面に塗布し、無機粒
子を孔中に充填した。１００℃、１０分間熱処理するこ
とにより無機粒子を孔中に固着した後、４０℃の１ｍｏ
ｌ％炭酸水素カリウム水溶液に６０分間浸漬して陽極酸
化皮膜上にある無機粒子から形成した膜を溶解し、水洗
し、基板７を準備した。このように孔中に無機粒子を含
むものと含まないものについて下記組成の感光液を乾燥
後の塗布重量が２．０ｇ／ｍ２となるように塗布して感
光層を設けた。
ライドとピロガロールーアセトン樹脂とのエステル化合
物（米国特許第３，６３５，７０９号明細書実施例１記
載のもの） ０．７５ｇ クレゾールノボラック樹脂 ２．００ｇ オイルブルー＃６０３ ０．０４ｇ エチレンジクロライド １６ｇ ２−メトキシエチルアセテート １２ｇ このようにしてつくられた感光性平版印刷版を、真空焼
枠中で、透明ポジティブフィルムを通して１ｍの距離か
ら３ｋＷのメタルハライドランプにより、５０秒間露光
を行なった後、ＳｉＯ２／Ｎａ２Ｏのモル比が１．７４
の珪酸ナトリウム５．２６％水溶液（ｐＨ＝１２．７）
で現像した。現像後、ハイデルベルグ社製印刷機Ｓ０Ｒ
−ＫＺにて印刷したところ、双方の印刷プレートは、１
０万枚の良好な印刷物を与えた。しかし、無機粒子を陽
極酸化皮膜の孔中に含有しないプレートは非画像部の汚
染が激しく６００ｎｍでの吸光度が０．０８あり、検版
性や水とインキのバランスがとり難く、印刷適性が劣っ
ていた。これに対して陽極酸化皮膜の孔中に無機粒子を
含有するプレートには全く非画像部の汚染を生じなかっ
た。 実施例３ ＪＩＳ１０５０アルミニウムシートをパミスー水懸濁液
を研磨剤として、回転ナイロンブラシで表面を砂目立て
した。この時の表面粗さ（中心線平均粗さ）は０．５μ
であった。水洗後、７０℃の１０％水酸化ナトリウム水
溶液中に浸漬してアルミニウムの溶解量が６ｇ／ｍ２に
なるようにエッチングした。水洗後、３％硝酸水溶液中
に１分間浸漬して中和し、充分水洗した。その後に、
０．７％硝酸水溶液中で陽極時電圧６ボルトの矩形波交
番波形を用いて（特開昭５８−５７９５号公報実施例に
記載されている電源波形）２０秒間電解粗面化を行な
い、５０℃の２０％硫酸中に浸漬して表面を洗浄した
後、水洗した。さらに２０％硫酸水溶液中で直流を用い
て多孔性陽極酸化処理を行い、基板５を準備した。この
時の陽極酸化皮膜重量は２．５ｇ／ｍ２であった。この
後基板５を３号ケイ酸ソーダ２．５ｗｔ％、７０℃、１
４秒浸漬後水洗し、基板６とした。実施例２と同様にし
て、次に示す水酸基を有する無機粒子Ｂを合成した。Ｂ
はエチルシリケート：エタノール：水：硝酸を重量比１
０：７３：２：０．１に調整し、室温で４時間反応させ
ることにより形成し、無機粒子の粒子径を約３０オング
ストロームに制御したものである。この溶液を基板５上
に回転塗布法により陽極酸化皮膜表面に塗布し、無機粒
子を孔中に充填した。１００℃、１０分間熱処理するこ
とにより無機粒子を孔中に固着した後、４０℃の１ｍｏ
ｌ％炭酸水素カリウム水溶液に６０分間浸漬して陽極酸
化皮膜上にある無機粒子から形成した膜を溶解し、水洗
し、基板７を準備した。このように孔中に無機粒子を含
むものと含まないものについて下記組成の感光液を乾燥
後の塗布重量が２．０ｇ／ｍ２となるように塗布して感
光層を設けた。
Claims (2)
- 【請求項１】 陽極酸化皮膜の孔中に水酸基を持つ無機
粒子を含有することを特徴とする平版印刷版用アルミニ
ウム支持体。 - 【請求項２】 有機金属化合物あるいは無機金属化合物
を液中で加水分解及び重縮合させて得られる無機粒子を
陽極酸化皮膜上に施こし、陽極酸化皮膜の孔中に無機粒
子を含有させることを特徴とする平版印刷版用アルミニ
ウム支持体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3215048A JP2775534B2 (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3215048A JP2775534B2 (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0550779A true JPH0550779A (ja) | 1993-03-02 |
| JP2775534B2 JP2775534B2 (ja) | 1998-07-16 |
Family
ID=16665899
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3215048A Expired - Fee Related JP2775534B2 (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2775534B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001305772A (ja) * | 2000-04-18 | 2001-11-02 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子デバイス、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置 |
| EP1619023A2 (en) | 2004-07-20 | 2006-01-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
| EP1637324A2 (en) | 2004-08-26 | 2006-03-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Color image-forming material and lithographic printing plate precursor |
| EP1669195A1 (en) | 2004-12-13 | 2006-06-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing method |
| DE19929716B4 (de) * | 1998-06-29 | 2006-07-06 | Okamoto Chemical Industry Co. Ltd. | Verfahren zur Vorbereitung eines Aluminiumsubstrats für eine lithographische Druckplatte sowie für die Herstellung einer vorsensibilisierten lithographischen Druckplatte |
| EP1972438A1 (en) | 2007-03-20 | 2008-09-24 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
| US7613386B2 (en) | 2001-03-21 | 2009-11-03 | Ricoh Company, Ltd. | Waterproof case for portable device |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0225399A (ja) * | 1988-07-14 | 1990-01-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
-
1991
- 1991-08-27 JP JP3215048A patent/JP2775534B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0225399A (ja) * | 1988-07-14 | 1990-01-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19929716B4 (de) * | 1998-06-29 | 2006-07-06 | Okamoto Chemical Industry Co. Ltd. | Verfahren zur Vorbereitung eines Aluminiumsubstrats für eine lithographische Druckplatte sowie für die Herstellung einer vorsensibilisierten lithographischen Druckplatte |
| JP2001305772A (ja) * | 2000-04-18 | 2001-11-02 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子デバイス、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置 |
| US7613386B2 (en) | 2001-03-21 | 2009-11-03 | Ricoh Company, Ltd. | Waterproof case for portable device |
| EP1619023A2 (en) | 2004-07-20 | 2006-01-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
| EP1637324A2 (en) | 2004-08-26 | 2006-03-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Color image-forming material and lithographic printing plate precursor |
| EP1669195A1 (en) | 2004-12-13 | 2006-06-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing method |
| EP1972438A1 (en) | 2007-03-20 | 2008-09-24 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2775534B2 (ja) | 1998-07-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4427765A (en) | Hydrophilic coating of salt-type phosphorus or sulfur polymer on aluminum support materials for offset printing plates and process for manufacture and use with light sensitive layer thereon | |
| JPH0694234B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH0532238B2 (ja) | ||
| JPH07119151B2 (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
| JP3442875B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPS6219494A (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
| JP2775534B2 (ja) | 平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JPH03261592A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH05278362A (ja) | 感光性平版印刷版の製造方法 | |
| JPH062436B2 (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
| JP4527509B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体および平版印刷版用原版 | |
| JPH0714670B2 (ja) | 感光性平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JPH062435B2 (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
| JPH0513078B2 (ja) | ||
| JPS6362795A (ja) | 平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JPH0534158B2 (ja) | ||
| JPH062434B2 (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
| JPS59214651A (ja) | 感光性平版印刷版を用いた製版方法 | |
| JP2000089466A (ja) | 感光性平版印刷版用支持体の製造方法及び平版印刷版用支持体並びに感光性平版印刷版 | |
| JP3787435B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体及び感光性平版印刷版の製造方法 | |
| JPH11301135A (ja) | 感光性平版印刷版の製造方法 | |
| JP2983511B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体、その製造方法及び感光性平版印刷版 | |
| JP2000081704A (ja) | 感光性平版印刷版用支持体の製造方法及び平版印刷版用支持体 | |
| JPH0225399A (ja) | 平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JPH01316290A (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080501 Year of fee payment: 10 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090501 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090501 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100501 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 13 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110501 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |