EP0089510B1 - Aluminiummaterial mit einer hydrophilen Oberflächenbeschichtung, ein Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung als Träger für Offsetdruckplatten - Google Patents

Aluminiummaterial mit einer hydrophilen Oberflächenbeschichtung, ein Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung als Träger für Offsetdruckplatten Download PDF

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EP0089510B1
EP0089510B1 EP83101813A EP83101813A EP0089510B1 EP 0089510 B1 EP0089510 B1 EP 0089510B1 EP 83101813 A EP83101813 A EP 83101813A EP 83101813 A EP83101813 A EP 83101813A EP 0089510 B1 EP0089510 B1 EP 0089510B1
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EP
European Patent Office
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acid
aqueous solution
salts
salt
solution
Prior art date
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EP83101813A
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EP0089510A1 (de
Inventor
John E. Walls
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CNA Holdings LLC
Original Assignee
American Hoechst Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by American Hoechst Corp filed Critical American Hoechst Corp
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Application granted granted Critical
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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/03Chemical or electrical pretreatment
    • B41N3/038Treatment with a chromium compound, a silicon compound, a phophorus compound or a compound of a metal of group IVB; Hydrophilic coatings obtained by hydrolysis of organometallic compounds

Definitions

  • the invention relates to a plate, film or tape-shaped material made of roughened aluminum or one of its alloys with a hydrophilic surface coating based on at least one compound having at least one ionogenic group. It also relates to a process for the production of this material and its use in the production of offset printing plates bearing a radiation-sensitive layer.
  • the basic procedure is to provide the surface of the metal carrier with a coating before the application of the radiation-sensitive coating composition, which then results in the image areas of the printing surface of the printing form after exposure and development the later non-image areas of the printing form) are hydrophilized and, on the other hand, there is a good interaction both with the metal support and with the image areas.
  • EP-A 0 048 909 and EP-A 0 050 216 [prior art according to Article 54 (3) EPC], methods for the anodic oxidation of plate, foil or strip material made of aluminum or its alloys are known, which are described in an aqueous, preferably polybasic organic acids or esters of polybasic inorganic acids with free acid groups containing electrolytes.
  • the polybasic organic acids are polymers such as polyvinylphosphonic acid, polybenzenesulfonic acid or polyacrylic acid.
  • Esters include, for example, phytic acid, dodecyl-naphthalene-disulfonic acid or ethylenediaminetetraacetic acid to monomeric polybasic organic acids.
  • the process products are preferably used as carrier material in the production of offset printing plates bearing a radiation-sensitive layer.
  • silicates both electrochemically and thermally is a process for the production of «ceramic-like», non-porous, hydrophilic layers on aluminum, which is particularly suitable for substrates that are sensitive to radiation to be coated by the consumer and, to a lesser extent, for offset printing plates that are sensitive to industrial radiation is.
  • the clearest advantages of the silicating process are the rapid freewheeling of the printing forms due to the “ceramic-like” nature of their surface and the storage stability over long periods without loss of hydrophilicity before the radiation-sensitive coating is applied.
  • the alkaline nature of the sodium silicate used storage problems can occur with plates that are already sensitive to radiation, this also applies if they are rinsed off well before applying a radiation-sensitive coating.
  • Treatments with organic acids such as polyvinylphosphonic acid have the advantage that they produce an acidic surface which is particularly well tolerated with negative-working radiation-sensitive layers containing diazonium compounds. Both thermal and electrochemical processes result in better adhesion between the roughened aluminum surface and the applied radiation-sensitive layer and thus lead to better printing behavior.
  • This advantageous effect of the organic acid may be due to the fact that it chemically interacts with the aluminum and with the molecules of the radiation-sensitive coating, with a certain probability through covalent bonding in the former and ionic bonding in the latter, which also excellent Storage-ready radiation-sensitive pre-coated printing plates result.
  • the surfaces hydrophilized with these acids also have some disadvantages.
  • the prepared surface must not be stored for too long between the time of manufacture and the time of the radiation-sensitive coating, that the hydrophilicity is sometimes not as good as that of silicate-coated plates and that the printing formes do not always have the ability to run freely and stay clean in the non-image areas, especially if the printing machine is switched off for a longer period during the printing process.
  • the salts according to b) are prepared from aqueous solutions of the acids or acidic esters by titration with an aqueous alkali or ammonium hydroxide solution until an alkaline pH is reached.
  • the coating applied to the material can serve, for example, as a corrosion-resistant surface, as a dielectric, as a barrier layer or, in particular, as a hydrophilizing intermediate layer in the production of offset printing plates from a support and a radiation-sensitive coating. It has been shown that the treatment of at least one surface of an aluminum material of the type described above with the mixture forming a “ceramic-like” layer according to this invention gives the surface favorable properties which, in its overall structure, are particularly suitable for use as supports for offset printing plates, but also make it suitable as part of capacitors.
  • the production of the material according to the invention is based on aluminum or its alloys, including, for example, those with a content of more than 98.5% of Al and proportions of Si, Fe, Ti, Cu and Zn.
  • the materials are still roughened mechanically (e.g. by brushing and / or with abrasive treatments), chemically (e.g. by etching agents) and / or electrochemically (e.g. by AC treatment in aqueous acid or salt solutions).
  • This roughening stage can also be followed by an anodic oxidation, for example in order to improve the abrasion and adhesion properties of the surface.
  • the acids or acidic esters suitable according to the invention preferably include the polymeric compounds such as polyvinylphosphonic acid, polyvinylsulfonic acid, hydrolyzed copolymers of methyl vinyl ether and maleic anhydride, polybenzene phosphonic acid (condensation product from benzenephosphonic acid and formaldehyde), polystyrene sulfonic acid, polydiisopropylbenzenesulfonic acid and condensation product from diisulfonic acid , Polyacrylic acid or polymethacrylic acid, but also monomeric compounds such as phytic acid, 2-ethylhexanephosphonic acid, mellitic acid or pyromellitic acid.
  • polymeric compounds such as polyvinylphosphonic acid, polyvinylsulfonic acid, hydrolyzed copolymers of methyl vinyl ether and maleic anhydride, polybenzene phosphonic acid (condensation product from benzenephosphonic acid and formaldehy
  • Suitable hydroxides include potassium, lithium, sodium and ammonium hydroxide. It is preferably titrated until a pH of at least 8.0, in particular from about 8.0 to 10.5, is reached. It is also important that the acid is selected and the titration is carried out up to a pH such that the titration product is obtained as an aqueous solution and no precipitate forms when this product is mixed with the silicates and / or borates to be used in the coating solution becomes.
  • the titration product will then be there mixed with compatible silicates and borates so that an aqueous solution results.
  • the silicates can be sodium, potassium and lithium salts, which are most suitable if they have a SiO z : Na 2 O ratio of at least 1: 1, in particular at least 2: 1 and preferably at least 2.5: 1 , exhibit.
  • Sodium silicate, sodium fluoroborate and sodium metaborate are most suitable for offset printing plate supports. If you only want to achieve improved corrosion resistance, other suitable compounds are ammonium pentaborate, potassium and sodium tetraborate. In general, sodium, lithium, potassium and ammonium tetra and pentaborates are preferred for the borates.
  • the starting base for component b) or a) is an aqueous solution of the acid or of the acidic ester at a concentration of 1 to 80 g / l, in particular from 5 to 40 g / l and preferably from 10 to 20 g / l.
  • the solution of the acid or of the acidic ester is titrated with an aqueous alkali or ammonium hydroxide solution to an alkaline pH, preferably to a pH of 8.0 to 10.5.
  • the titration product is then admixed with the silicate or borate in a proportion of 5 to 120 g / l, in particular 15 to 80 g / l and preferably 40 to 70 g / l.
  • an aqueous polyvinylphosphonic acid solution in a concentration of 10 g / l is titrated with an aqueous ammonium hydroxide solution to a pH of 9.5 and mixed with 70 g / l of solid sodium silicate, in which the ratio SiO z : Na 2 0 is approximately 2.5: 1.
  • the aluminum material described above is then treated continuously or discontinuously with the coating solution prepared in this way in a belt system.
  • This treatment can be chemical (i.e. non-electrochemical) or electrochemical, with the electrochemical treatment providing the preferred surface.
  • the aluminum plate can either be sprayed with the coating solution or immersed in it, while the solution is at a temperature of 60 to 100 ° C., in particular 75 to 100 ° C. and preferably 85 to 100 ° C. is held.
  • the treatment should last at least 20 seconds, with a treatment duration beyond 60 seconds no further significant improvement in the surface is found.
  • the aluminum is immersed as an anode in a bath from the coating solution.
  • the temperature of the solution is kept above its solidification point and is generally 5 to 90 ° C., in particular 10 to 60 ° C. and preferably 20 to 40 ° C.
  • the cathode made of lead for example, is immersed in the solution so that it is at a distance of 2 to 75 cm from the anode.
  • the cathode / anode distance is in particular 5 to 25 cm, preferably 10 to 15 cm.
  • Direct current or pulsating current is applied, which can have a voltage of 1 to 120 V or higher as long as no arcing occurs.
  • the voltage is preferably 10 to 90 V, in particular 20 to 30 V; the current density is generally between 3 and 30 A / dm 2 .
  • the best surface is obtained when acidic, ie with a dilute aqueous solution of an acid such as phosphoric acid or sulfuric acid, is rinsed in order to re-form the acid form from the salts. But even without this transformation, ie by rinsing with water alone, the surface fulfills its purpose.
  • the aluminum surface thus hydrophilized and provided with an intermediate layer is coated on one or both sides with a radiation-sensitive composition suitable for offset printing.
  • the printing plate is irradiated by a photographic original, developed and used as a printing form on a printing press for producing numerous prints from an original.
  • the usual radiation-sensitive reproduction layers which are suitable for offset printing purposes and which react to actinic light and UV light or other radiation sources when irradiated can be used to good effect for the practice of this invention.
  • the radiation-sensitive reproduction layer can also contain resinous binders such as polyvinyl formal resins or phenol / cresol formaldehyde resins. Further constituents can be the surfactants, UV absorbers, dyes and fillers known to the person skilled in the art.
  • the rate of dissolution of the layer in sec in a saturated aqueous SnC1 2 solution is a measure of the alkali resistance and density of a layer on aluminum.
  • the layer is more alkali-resistant the longer it takes to dissolve it.
  • the layer thicknesses should be roughly comparable, since of course they also represent a parameter for the dissolution rate.
  • a drop of a solution of a saturated aqueous SnC1 2 solution is brought onto the surface to be examined and the period of time until the appearance of metallic tin is determined, which can be recognized by a dark color.
  • the layer weight of the intermediate layer produced according to the invention can be determined quantitatively by stripping in an aqueous chromic acid / phosphoric acid standard solution (1.95% Cr0 3 , 3.41% H 3 P0 4 - 85%) at approx. 82 ° C. in 15 minutes .
  • a coating of a layer weight of 350 mg is applied / m 2 generated.
  • the plate is rinsed well and patted dry. With the surface produced in this way, the SnCi z takes 101 seconds until it has completely migrated through the electrochemically produced surface coating.
  • the plate is dyed dry, after which the printing ink can be easily removed from the surface by rinsing it gently with water. Plates produced in the same way are aged at room temperature, and after 7 days one of these plates is dyed dry, after which the ink can be removed again. After 10 days of aging, on the other hand, it is more difficult to remove the ink, and after 14 days the ink cannot be removed at all.
  • One of the non-aged plates is coated with a negative working radiation sensitive solution which contains a pigment, about 7.5 parts by weight of a polyvinyl formal resin and about 2.5 parts by weight of a polycondensation product made of 3-methoxy-diphenylamine.
  • a negative working radiation sensitive solution which contains a pigment, about 7.5 parts by weight of a polyvinyl formal resin and about 2.5 parts by weight of a polycondensation product made of 3-methoxy-diphenylamine.
  • a negative working radiation sensitive solution which contains a pigment, about 7.5 parts by weight of a polyvinyl formal resin and about 2.5 parts by weight of a polycondensation product made of 3-methoxy-diphenylamine.
  • the fountain solution supply is interrupted several times during the operation of the printing press, so that the printing ink is rolled up over the entire surface of the plate.
  • the dampening roller is then switched on again and observed how quickly and completely the printing ink disappears from the plate background.
  • the color is easy to remove on the first try, but takes longer on the second try, but is successful.
  • On the third try the plate tones and it is no longer possible to print properly.
  • the background In order to be able to continue printing with good quality, the background must first be cleaned with a cleaning liquid.
  • Another plate sample is provided with the radiation-sensitive coating 48 hours after the surface coating has been produced. The plate is divided into individual subsamples, all of which are aged at 100 ° C., samples being taken and evaluated every 30 minutes. This process product still proves to be useful up to an aging period of about 4.5 hours.
  • Comparative example V2 is carried out as described in comparative example V1, but instead of an electrochemical treatment, an immersion treatment is carried out in an aqueous PVPS solution.
  • Comparative example V3 is carried out as described in comparative example V2, but an aqueous sodium silicate solution is used.
  • Comparative example V4 is carried out as described in comparative example V1, but an aqueous sodium silicate solution is used.
  • Comparative example V5 is carried out as described in comparative example V1 1, but an aqueous solution of the titration product of PVPS and ammonium hydroxide is used.
  • Examples 1, 3, 4, 7 and 9 are carried out according to the details of comparative example V1 1, but a solution with a content according to the invention is used as the electrolyte (see table).
  • Examples 2 and 5 are carried out as described in Comparative Example V2, but a solution with a content according to the invention is used in the immersion bath (see table).
  • Example 6 is carried out according to the details of comparative example V1, but the process is carried out at a temperature below the range claimed according to the invention.
  • Example 8 is carried out as described in Example 5, but the surface is treated electrochemically.
  • the coated plate has a good number of copies and a good aging behavior; in these comparative examples, only polyvinylphosphonic acid is contained in the hydrophilizing treatment solution. Plates with good aging behavior of the not yet radiation-sensitive coated carrier and good behavior in the toning test repeated at regular intervals, which indicates a high hydrophilicity of the carrier, can be found in Comparative Examples V3 and V4, in which an aqueous sodium silicate solution is used.
  • the conditions of comparative example V1 are reproduced in comparative example V5, but the pH is adjusted to 9.5 with an aqueous ammonium hydroxide solution.
  • Example 7 a solution according to the invention is used for the electrochemical process, so that a direct comparison with comparative examples V1 and V4 is possible. It is shown that all of the results of Example 7 which are relevant to the field of offset printing are better than in the comparison.
  • a solution of the same content is used at different temperatures in order to demonstrate the importance of higher temperatures for the immersion process and lower temperatures for the electrochemical process variant. Although the results of these tests are generally acceptable to good, the electrochemical process variant is significantly better if it is carried out at lower temperatures, while the immersion process gives better results.
  • Examples 1 to 4 and 9 illustrate further embodiment variants of the invention, in which work is carried out either electrochemically or in the immersion process.

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Description

  • Die Erfindung betrifft ein platten-, folien- oder bandförmiges Material aus aufgerauhtem Aluminium oder einer seiner Legierungen mit einer hydrophilen Oberflächenbeschichtung auf der Basis von mindestens einer, mindestens eine ionogene Gruppe aufweisenden Verbindung. Ausserdem betrifft sie ein Verfahren zur Herstellung dieses Materials und dessen Verwendung bei der Herstellung von eine strahlungsempfindliche Schicht tragenden Offsetdruckplatten.
  • Bei der Herstellung von strahlungsempfindlich zu beschichtenden Offsetdruckplattenträgern aus Metall hat es in der Praxis oftmals als vorteilhaft erwiesen, die Oberfläche der Trägerplatte mit einer Substanz zu behandeln, die eine schützende und hydrophilierende Zwischenschicht bildet und so der fertigen Druckplatte günstige Eigenschaften verleiht. Nach dem Stand der Technik wird grundsätzlich so vorgegangen, dass die Oberfläche des Metallträgers vor dem Auftragen der strahlungsempfindliche Beschichtungsmasse, die dann nach dem Belichten und Entwickeln die Bildstellen der druckenden Fläche der Druckform ergibt, mit einer Beschichtung versehen wird, die einerseits den Träger (d.h. die späteren Nichtbildstellen der Druckform) hydrophiliert und andererseits sowohl mit dem Metallträger als auch mit den Bildstellen eine gute Wechselwirkung eingeht.
  • Aus den EP-A 0 048 909 und EP-A 0 050 216 [Stand der Technik gemäss Artikel 54(3) EPÜ] sind Verfahren zur anodischen Oxidation von platten-, folien- oder bandförmigem Material aus Aluminium oder seinen Legierungen bekannt, die in einem wässrigen, bevorzugt mehrbasische organische Säuren oder Ester von mehrbasischen anorganischen Säuren mit freie Säuregruppen enthaltenden Elektrolyten durchgeführt werden. Insbesondere sind die mehrbasischen organischen Säuren Polymere wie Polyvinylphosphonsäure, Polybenzolsulfonsäure oder Polyacrylsäure. Zu den Estern gehört beispielsweise Phytinsäure, zu monomeren mehrbasischen organischen Säuren Dodecyl-naphthalin-disulfonsäure oder Ethylendiamintetraessigsäure. Die Verfahrensprodukte finden bevorzugt Verwendung als Trägermaterial bei der Herstellung von eine strahlungsempfindliche Schicht tragenden Offsetdruckplatten.
  • Druckplatten-Trägermaterialien werden gemäss der DE-B 14 71 707 (= US-A 3 181 461) so hergestellt, dass anodisch erzeugte Aluminiumoxidschichten noch mit Füllstoffen wie Silikaten, Bichromaten, Oxalaten oder Farbstoffen in wässriger Lösung nachbehandelt werden. In der DE-C 16 21 478 (= US-A 4 153 461) wird für das gleiche Anwendungsgebiet Polyvinylphosphonsäure in wässriger Lösung eingesetzt. Eine elektrochemische Silikatisierung von bereits anodisch oxidierten Druckplattenträgern aus Aluminium unter anodischen Bedingungen wird in der DE-A 25 32 769 (= US-A 3 902 976) beschrieben.
  • Die vorher beschriebenen Verfahren sind auch bekannt für eine Behandlung von nicht anodisch oxidiertem Aluminium, für eine Silikatisierung aus der DE-C 907 147 (= US-A 2 714 066), für eine Polyvinylphosphonsäurebehandlung aus der DE-C 11 34 093 (= US-A 3 220 832) und für eine elektrochemische Silikatisierung aus der DE-C 2000227 (= US-A 3 658 662).
  • Ein chemisch aufgerauhter Aluminiumträger für Druckplatten wird gemäss der DE-B 11 18 009 (= US-A 2 922 715) zuerst thermisch mit einer wässrigen Natriumsilikatlösung behandelt und danach in einer wässrigen Citronen- oder Weinsäurelösung gehärtet.
  • Aus der US-A 3 030 210 ist eine hydrophile Schicht auf Aluminiumträgern von Druckplatten bekannt, die durch thermische Behandlung von Aluminium mit einer wässrigen Lösung eines Gehalts an a) Alkali- oder Erdalkaliphosphaten mit glasartiger Schichtstruktur, b) Alkalisilikaten und c) Alkali- oder Erdalkaliboraten, -phosphomolybdaten oder -silicomolybdaten erzeugt wird.
  • Das Aufbringen von Silikaten sowohl auf elektrochemischem als auch auf thermischem Wege ist ein Verfahren zur Herstellung von «keramikartigen», nicht-porösen, hydrophilen Schichten auf Aluminium, das insbesondere für vom Verbraucher strahlungsempfindlich zu beschichtende Trägermaterialien und in geringerem Masse für grosstechnisch strahlungsempfindlich vorbeschichtete Offsetdruckplatten geeignet ist. Die deutlichsten Vorteile beim Silikatisierungsverfahren sind das rasche Freilaufen der Druckformen aufgrund der «keramikartigen» Beschaffenheit ihrer Oberfläche und die Lagerbeständigkeit über längere Zeiträume ohne Verlust an Hydrophilie vor dem Aufbringen der strahlungsempfindlichen Beschichtung. Wegen der alkalischen Natur des verwendeten Natriumsilikats können jedoch bei bereits strahlungsempfindlich vorbeschichteten Platten Lagerprobleme auftreten, dies gilt auch dann, wenn diese vor dem Aufbringen einer strahlungsempfindlichen Beschichtung gut abgespült werden. Aber auch das Spülen ist ein kritischer Punkt, insbesondere nach der thermischen Silikatisierung, da dabei grosse Mengen an Wasser benötigt werden. Die elektrochemische Silikatisierung ist etwas weniger problematisch, da bei diesem Verfahren schwachsauer gespült werden kann. Grundsätzlich darf die Natriumsilikat-Lösung selbst nicht sauer gestellt werden, weil sich dabei sonst ein unlöslicher Kieselsäure-Niederschlag bilden würde.
  • Behandlungen mit organischen Säuren wie Polyvinylphosphonsäure haben den Vorteil, dass sie eine saure Oberfläche erzeugen, die insbesondere mit Diazoniumverbindungen enthaltenden negativ-arbeitenden strahlungsempfindlichen Schichten gut verträglich ist. Sowohl thermische als auch elektrochemische Verfahren bewirken eine bessere Haftung zwischen der aufgerauhten Aluminiumoberfläche und der aufgetragenen strahlungsempfindlichen Schicht und führen so zu einem besseren Druckverhalten. Diese vorteilhafte Wirkung der organischen Säure liegt möglicherweise daran, dass sie eine chemische Wechselwirkung mit dem Aluminium und mit den Molekülen der strahlungsempfindlichen Beschichtung eingehen, und zwar - mit einer gewissen Wahrscheinlichkeit - durch kovalente Bindung im erstgenannten und ionische Bindung im letztgenannten Fall, wodurch sich auch ausgezeichnet lagerfähige strahlungsempfindlich vorbeschichtete Druckplatten ergeben. Jedoch weisen die mit diesen Säuren hydrophilierten Oberflächen auch einige Nachteile auf. Dazu zählen beispielsweise, dass die vorbereitete Oberfläche zwischen dem Zeitpunkt der Herstellung und dem Zeitpunkt der strahlungsempfindlichen Beschichtung nicht zu lange lagern darf, dass die Hydrophilie manchmal nicht so gut wie bei silikatisierten Platten ist und dass die Druckformen nicht immer die Fähigkeit besitzen, sauber freizulaufen und in den Nichtbildstellen auch sauber zu bleiben, insbesondere wenn die Druckmaschine während des Druckvorgangs über einen längeren Zeitraum abgeschaltet wird.
  • Aufgabe der Erfindung ist es, ein Material und ein Verfahren vorzuschlagen, mit deren Hilfe die genannten Vorteile der Behandlungen sowohl mit organischen Säuren als auch mit «keramikartige» Schichten .bildenden Verbindungen im wesentlichen erreicht und die nach einer getrennten Behandlung mit diesen Varianten auftretenden unerwünschten Eigenschaften weitestgehend unterdrückt werden.
  • Die Erfindung geht aus von dem bekannten platten-, folien- oder bandförmigen Material aus chemisch, mechanisch und/oder elektrochemisch aufgerauhtem und gegebenenfalls anodisch oxidiertem Aluminium oder einer seiner Legierungen mit einer ein-oder beidseitig aufgebrachten hydrophilen Oberflächenbeschichtung auf der Basis von mindestens einer, mindestens eine ionogene funktionelle Gruppe aufweisenden chemischen Verbindung. Das erfindungsgemässe Material ist dann dadurch gekennzeichnet, dass die hydrophile Oberflächenbeschichtung ein Gemisch aus
    • a) mindestens einem Salz mit einem Silikat-, Fluoroborat-, Tetraborat- oder Pentaborat-Anion und einem einwertigen Kation, und
    • b) mindestens einem in wässriger Lösung alkalisch reagierenden Alkali- oder Ammoniumsalz einer Sulfon-, Phosphon- oder mindestens dreibasischen Carbonsäure oder eines noch mindestens eine saure funktionelle Gruppe aufweisenden Phosphorsäureesters, das in wässriger Lösung mit dem Salz aus a) keinen unlöslichen Niederschlag bildet,

    enthält und gegebenenfalls noch einem sauren Nachspülschritt unterzogen wird.
  • In einer bevorzugten Ausführungsform werden die Salze nach b) aus wässrigen Lösungen der Säuren oder sauren Ester durch Titration mit einer wässrigen Alkali- oder Ammoniumhydroxidlösung bis zum Erreichen eines alkalischen pH-Werts hergestellt.
  • Die auf das Material aufgebrachte Beschichtung kann beispielsweise als korrosionsbeständige Oberfläche, als Dielektrikum, als Sperrschicht oder insbesondere als hydrophilierende Zwischenschicht bei der Herstellung von Offsetdruckplatten aus einem Träger und einer strahlungsempfindlichen Beschichtung dienen. Es hat sich gezeigt, dass die Behandlung von mindestens einer Oberfläche eines Aluminiummaterials der oben beschriebenen Art mit dem eine «keramikartige» Schicht bildenden Gemisch nach dieser Erfindung der Oberfläche günstige Eigenschaften verleiht, die sie in ihrer Gesamtstruktur insbesondere für die Anwendung als Träger von Offsetdruckplatten, aber auch als ein Teil von Kondensatoren geeignet machen.
  • Bei der Herstellung des erfindungsgemässen Materials wird von Aluminium oder seinen Legierungen ausgegangen, wozu beispielsweise solche mit einem Gehalt von mehr als 98, 5% an AI und Anteilen an Si, Fe, Ti, Cu und Zn zählen. Die Materialien werden noch mechanisch (z.B. durch Bürsten und/oder mit Schleifmittelbehandlungen), chemisch (z.B. durch Ätzmittel) und/oder elektrochemisch (z.B. durch Wechselstrombehandlung in wässrigen Säure- oder Salzlösungen) aufgerauht. Dieser Aufrauhstufe kann sich auch noch eine anodische Oxidation anschliessen, um beispielsweise die Abriebs- und die Haftungseigenschaften der Oberfläche zu verbessern.
  • Das Verfahren zur Herstellung des erfindungsgemässen Materials verläuft so, dass zur Oberflächenbeschichtung
    • a) eine alkalisch reagierende wässrige Lösung aus mindestens einem Alkali- oder Ammoniumsalz einer Sulfon-, Phosphon- oder mindestens dreibasischen Carbonsäure oder eines noch mindestens eine saure funktionelle Gruppe aufweisenden Phosphonsäureesters hergestellt,
    • b) zu dieser Lösung mindestens ein Salz mit einem Silikat-, Fluoroborat-, Tetraborat- oder Pentaborat-Anion und einem einwertigen Kation, gegebenenfalls in wässriger Lösung, ohne Bildung eines unlöslichen Niederschlags zugemischt,
    • c) die Lösung enthaltend das Gemisch aus c) und d) mit mindestens einer Oberfläche des Materials aus Aluminium oder einer seiner Legierungen in Wechselwirkung gebracht und gegebenenfalls
    • d) die Oberflächenbeschichtung noch mit einer sauren wässrigen Lösung gespült wird.
  • Zu den erfindungsgemäss geeigneten Säuren oder sauren Estern zählen bevorzugt die polymeren Verbindungen wie Polyvinylphosphonsäure, Polyvinylsulfonsäure, hydrolysierte Copolymere aus Methylvinylether und Maleinsäureanhydrid, Polybenzolphosphonsäure (Kondensationsprodukt aus Benzolphosphonsäure und Formaldehyd), Polystyrolsulfonsäure, Poly-diisopropyl-benzolsulfonsäure (Kondensationsprodukt aus Diisopropyl-benzolsulfonsäure und Formaldehyd), Polyacrylsäure oder Polymethacrylsäure, aber auch monomere Verbindungen wie Phytinsäure, 2-Ethylhexanphosphonsäure, Mellithsäure oder Pyromellithsäure.
  • Diese werden in wässriger Lösung mit einer wässrigen Lösung eines Alkali- oder Ammoniumhydroxids bis zu einem pH-Wert im Alkalischen titriert; zu geeigneten Hydroxiden zählen Kalium-, Lithium-, Natrium- und Ammoniumhydroxid. Es wird vorzugsweise so lange titriert, bis ein pH-Wert von mindestens 8,0 , insbesondere von etwa 8,0 bis 10,5, erreicht ist. Ferner ist wichtig, dass die Säure so ausgewählt und die Titration bis auf einen solchenpH-Wert geführt wird, dass das Titrationsprodukt als wässrige Lösung anfällt und sich kein Niederschlag bildet, wenn dieses Produkt mit den in der Beschichtungslösung zu verwendenden Silikaten und/oder Boraten versetzt wird.
  • Dem Titrationsprodukt werden anschliessend damit verträgliche Silikate und Borate zugemischt, so dass sich eine wässrige Lösung ergibt. Die Silikate können dabei Natrium-, Kalium- und Lithiumsalze sein, die am besten geeignet sind, wenn sie ein Verhältnis SiOz : Na20 von mindestens 1 : 1, insbesondere von mindestens 2 : 1 und bevorzugt von mindestens 2,5: 1, aufweisen. Für Offsetdruckplattenträger sind Natriumsilikat, Natriumfluoroborat und Natriummetaborat am zweckmässigsten. Will man lediglich eine verbesserte Korrosionsbeständigkeit erreichen, so sind weitere geeignete Verbindungen Ammoniumpentaborat, Kalium- und Natriumtetraborat. Im allgemeinen werden bei den Boraten Natrium-, Lithium-, Kalium- und Ammoniumtetra-und -pentaborate bevorzugt.
  • In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist die Ausgangsbasis für die Komponente b) bzw. a) eine wässrige Lösung der Säure oder des sauren Esters einer Konzentration von 1 bis 80 g/I, insbesondere von 5 bis 40 g/I und bevorzugt von 10 bis 20 g/I. Die Lösung der Säure oder des sauren Esters wird mit einer wässrigen Alkali- oder Ammoniumhydroxidlösung auf einen pH-Wert im Alkalischen, bevorzugt auf einen pH-Wert von 8,0 bis 10,5 titriert. Diesem Titrationsprodukt wird anschliessend das Silikat oder Borat im Anteil von 5 bis 120 g/I, insbesondere von 15 bis 80 g/I und bevorzugt von 40 bis 70 g/I beigemischt. Beispielsweise wird eine wässrige Polyvinylphosphonsäure-Lösung in einer Konzentration von 10 g/I mit einer wässrigen Ammoniumhydroxid- Lösung auf einen pH-Wert von 9,5 titriert und mit 70 g/I an festem Natriumsilikat versetzt, bei dem das Verhältnis SiOz : Na20 etwa 2,5 : 1 beträgt.
  • Mitderso hergestellten Beschichtungslösung wird dann das oben beschriebene Aluminiummaterial kontinuierlich in einer Bandanlage oderdiskontinuierlich behandelt. Diese Behandlung kann auf chemischem (d.h. nicht-elektrochemischem) oder elektrochemischem Wege erfolgen, wobei die elektrochemische Behandlung die bevorzugte Oberfläche ergibt. Wird ein chemisches Beschichtungsverfahren gewählt, so kann die Aluminiumplatte entweder mit der Beschichtungslösung besprüht oder in diese eingetaucht werden, während die Lösung auf einer Temperatur von 60 bis 100°C, insbesondere von 75 bis 100°C und bevorzugt von 85 bis 100°C, gehalten wird. Die Behandlung soll mindestens 20 sec dauern, bei einer Behandlungsdauer über 60 sec hinaus wird keine wesentliche weitere Verbesserung der Oberfläche mehr festgestellt.
  • Beim elektrochemischen Auftragsverfahren wird das Aluminium als Anode in ein Bad aus der Beschichtungslösung eingetaucht. Die Temperatur der Lösung wird über deren Erstarrungspunkt gehalten und beträgt im allgemeinen 5 bis 90°C, insbesondere 10 bis 60°C und bevorzugt 20 bis 40°C. Die Kathode aus beispielsweise Blei wird so in die Lösung eingetaucht, dass sie einen Abstand von 2 bis 75 cm zur Anode hat. Der Abstand Kathode/Anode beträgt insbesondere 5 bis 25 cm, bevorzugt 10 bis 15 cm. Es wird Gleichstrom oder pulsierender Strom angelegt, der eine Spannung von 1 bis 120 V oder höher haben kann, solange es nicht zur Lichtbogenbildung kommt. Vorzugsweise liegt die Spannung bei 10 bis 90 V, insbesondere bei 20 bis 30 V; die Stromdichte liegt im allgemeinen zwischen 3 und 30 A/ dm2. Die beste Oberfläche erhält man, wenn sauer, d.h. mit verdünnter wässriger Lösung einer Säure wie Phosphorsäure oder Schwefelsäure nachgespült wird, um auf diese Weise aus den Salzen wieder die Säureform zu bilden. Doch auch ohne diese Umwandlung, d.h. durch Spülung mit Wasser allein, erfüllt die Oberfläche ihren Zweck.
  • Bei der Herstellung von Offsetdruckplatten wird die so hydrophilierte und mit einer Zwischenschicht versehene Aluminiumoberfläche mit einer für den Offsetdruck geeigneten strahlungsempfindlichen Masse ein- oder beidseitig beschichtet. Die Druckplatte wird durch eine photographische Vorlage bestrahlt, entwickelt und als Druckform auf einer Druckmaschine zur Herstellung zahlreicher Drucke von einer Vorlage eingesetzt. Für die praktische Durchführung dieser Erfindung können mit gutem Erfolg die üblichen strahlungsempfindlichen Reproduktionsschichten verwendet werden, die sich für Offsetdruckzwecke eignen und bei Bestrahlung mit aktinischem Licht und UV-Licht oder anderen Bestrahlungsquellen reagieren. Das können negativ- oder positiv-arbeitende Reproduktionsschichten sein, wobei negativ-arbeitende strahlungsempfindliche Schichten, beispielsweise Diazoniumsalze und photopolymerisierbare Verbindungen, und positiv-arbeitende strahlungsempfindliche Schichten, beispielsweise aromatische o-Chinondiazidverbindungen wie die o-Benzochinondiazide und o-Naphthochinondiazide, enthalten. Die strahlungsempfindliche Reproduktionsschicht kann ferner harzartige Bindemittel wie Polyvinylformal-Harze oder Phenol/Kresol-Formaldehyd-Harze enthalten. Weitere Bestandteile können die dem Fachmann bekannten Tenside, UV-Absorber, Farbstoffe und Füllmittel sein.
  • Es hat sich gezeigt, dass die nach dieser Erfindung herstellbaren Trägermaterialien auf dem Offsetdruckplatten-Anwendungsgebiet im Hinblick auf das trockene und nasse Einfärben, die Bildhaftung, die Lagerbeständigkeit der noch nicht strahlungsempfindlich beschichteten Oberfläche, den Kontaktwinkel eines auf die Oberfläche aufgebrachten Flüssigkeitstropfens und die Beständigkeit gegenüber SnC12 eine wesentliche Verbesserung im Vergleich zu einer Oberfläche aufweisen, die mit den jeweils allein eingesetzten Einzelkomponenten hergestellt werden.
  • In der vorstehenden Beschreibung und den nachfolgenden Beispielen bedeuten %-Angaben, wenn nichts anderes bemerkt wird, immer Gew.-%. Gew.-Teile stehen zu Vol.-Teilen im Verhältnis von g zu cm3.ln übrigen werden u.a. folgende Methoden zur Parameterbestimmung in den Beispielen angewandt:
    • Die Prüfung der Hydrophilie der erfindungsgemäss hergestellten Trägermaterialien wird anhand von Randwinkelmessungen gegenüber einem aufgesetzten Wassertropfen durchgeführt, dabei wird der Winkel bestimmt zwischen derTrägeroberfläche und einer durch den Berührungspunkt des Tropfens gelegten Tangente, er liegt im allgemeinen zwischen 0 und 90°. Die Benetzung ist umso besser, je kleiner der Winkel ist.
    SnC12-Test (nach US-A 3 902 976, Spalte 5, Zeilen 35 bis 48):
  • Als Mass für die Alkaliresistenz und Dichte einer Schicht auf Aluminium gilt die Auflösegeschwindigkeit der Schicht in sec in einer gesättigten wässrigen SnC12-Lösung. Die Schicht ist umso alkalibeständiger je länger sie zur Auflösung braucht. Die Schichtdicken sollten in etwa vergleichbar sein, da sie natürlich auch einen Parameter für die Auflösungsgeschwindigkeit darstellen. Man bringt einen Tropfen einer Lösung aus einer gesättigten wässrigen SnC12-Lösung auf die zu untersuchende Oberfläche und bestimmt die Zeitspanne bis zum Auftreten von metallischem Zinn, was an einer Dunkelfärbung zu erkennen ist.
  • Das Schichtgewicht der erfindungsgemäss erzeugten Zwischenschicht kann quantitativ durch Entschichten in einer wässrigen Chromsäure/Phosphorsäure-Standardlösung (1,95% Cr03, 3,41 % H3P04 - 85%ig) bei ca. 82°C in 15 min ermittelt werden.
  • Vergleichsbeispiel V1
  • Mehrere Platten der Aluminiumlegierung «3003» werden mit einem handelsüblichen alkalischen Entfettungsmittel behandelt und dann in einer 1,0 n wässrigen NaOH-Lösung bei Raumtemperatur während 20 sec angeätzt. Die so vorbereitete Aluminiumplatte wird gründlich mit Wasser abgespült und sofort in eine elektrisch isolierte Wanne mit einem Gehalt an einer 1 %igen wässrigen Lösung von Polyvinylphosphonsäure (PVPS) eingetaucht. Zu beiden Seiten des Aluminiums wird je eine Bleielektrode mit den gleichen Abmessungen wie die Aluminiumplatte angeordnet, wobei jede dieser Elektroden einen Abstand von 10 cm vom Aluminium hat. Es wird Gleichstrom angelegt, und es werden das Aluminium als Anode und die Bleielektroden als Kathoden geschaltet, die Badtemperatur wird auf 25°C gehalten, und beim Einschalten des Stroms beträgt die Gleichspannung 30 V. Mit 1280 Coulomb wird eine Beschichtung eines Schichtgewichts von 350 mg/m2 erzeugt. Die Platte wird gut abgespült und trockengetupft. Bei der so hergestellten Oberfläche benötigt das SnCiz 101 sec bis es die elektrochemisch erzeugte Oberflächenbeschichtung vollständig durchwandert hat. Zur Ermittlung des hydrophilen Verhaltens wird die Platte trocken eingefärbt, wonach sich die Druckfarbe durch leichtes Abspülen mit Wasser ohne weiteres wieder von der Oberfläche entfernen lässt. In gleicher Weise hergestellte Platten werden bei Raumtemperatur gealtert, und nach 7 Tagen wird eine dieser Platten trocken eingefärbt, wonach sich die Druckfarbe erneut abnehmen lässt. Nach 10 Tagen Alterung ist es dagegen schwieriger, die Farbe zu entfernen, und nach 14 Tagen lässt sich die Druckfarbe überhaupt nicht mehr ablösen.
  • Eine der nicht-gealterten Platten wird mit einer negativ-arbeitenden strahlungsempfindlichen Lösung beschichtet, die ein Pigment, etwa 7,5 Gew.-Teile eines Polyvinylformal-Harzes und etwa 2,5 Gew.-Teile eines Polykondensationsprodukts aus 3-Methoxy-diphenylamin-4-diazoniumsalz und 4,4'--Bismethoxy-methyl-diphenylether, ausgefällt als Mesitylensulfonat, in etwa 90 Vol.-Teilen eines Lösemittelgemisches aus Ethylenglykolmonomethylether/Essigsäurebutylester enthält. Nach dem Trocknen und Belichten durch eine Vorlage wird mit einem wässrigalkoholischen Entwickler behandelt. Von der Druckform lassen sich auf einer Bogendruckmaschine 70.000 einwandfreie Drucke herstellen. Während des Betriebs der Druckmaschine wird mehrmals die Feuchtwasserzufuhr unterbrochen, so dass die Druckfarbe vollflächig auf die Platte aufgerollt wird. Die Feuchtwalze wird dann wieder angestellt und beobachtet, wie rasch und vollständig die Druckfarbe vom Plattenhintergrund verschwindet. Beim ersten Versuch lässt sich die Farbe gut entfernen, beim zweiten Versuch dauert dieser Vorgang länger, ist jedoch erfolgreich. Beim dritten Versuch tont die Platte, und es kann kein einwandfreier Druck mehr hergestellt werden. Um mit guter Qualität weiterdrucken zu können, muss der Hintergrund dann zuerst mit einer Reinigungsflüssigkeit gesäubert werden. Eine weitere Plattenprobe wird 48 Stunden nach der Herstellung der Oberflächenbeschichtung mit der strahlungsempfindlichen Beschichtung versehen. Die Platte wird in einzelne Teilproben aufgeteilt, die alle bei 100°C gealtert werden, wobei alle 30 min Muster entnommen und ausgewertet werden. Bis zu einer Alterungsdauer von etwa 4,5 h erweist sich dieses Verfahrensprodukt noch als brauchbar.
  • Beispiele 1 bis 9 und Vergleichsbeispiele V2 bis V5
  • Die folgenden Beispiele und Vergleichsbeispiele, in denen die im Vergleichsbeispiel V 1 und der Beschreibung angegeben Prüfmethoden angewendet werden, veranschaulichen die erfindungsgemässen Verfahrensvarianten und vergleichen die dabei erzielten Ergebnisse mit den Ergebnissen bei bekannten Verfahren (Vergleichsversuche). Vergleichsbeispiel V2 wird nach den Angaben des Vergleichsbeispiels V1 durchgeführt, es wird jedoch anstelle einer elektrochemischen Behandlung eine Tauchbehandlung in einer wässrigen PVPS-Lösung durchgeführt. Vergleichsbeispiel V3 wird nach den Angaben des Vergleichsbeispiels V2 durchgeführt, es wird jedoch eine wässrige Natriumsilikatlösung eingesetzt. Vergleichsbeispiel V4 wird nach den Angaben des Vergleichsbeispiels V1 durchgeführt, es wird jedoch eine wässrige Natriumsilikatlösung eingesetzt. Vergleichsbeispiel V5 wird nach den Angaben des Vergleichsbeispiels V1 1 durchgeführt, es wird jedoch eine wässrige Lösung aus dem Titrationsprodukt von PVPS und Ammoniumhydroxid verwendet. Die Beispiele 1, 3, 4, 7 und 9 werden nach den Angaben des Vergleichsbeispiels V1 1 durchgeführt, es wird jedoch als Elektrolyt jeweils eine Lösung mit einem Gehalt gemäss der Erfindung eingesetzt (siehe Tabelle). Die Beispiele 2 und 5 werden nach den Angaben des Vergleichsbeispiels V2 durchgeführt, es wird jedoch im Tauchbad jeweils eine Lösung mit einem Gehalt gemäss der Erfindung eingesetzt (siehe Tabelle). Das Beispiel 6 wird nach den Angaben des Vergleichsbeispiels V1 durchgeführt, es wird jedoch mit einer Temperatur unterhalb des erfindungsgemäss beanspruchten Bereichs gearbeitet. Das Beispiel 8 wird nach den Angaben des Beispiels 5 durchgeführt, die Oberfläche wird aber elektrochemisch behandelt.
  • In den Vergleichsbeispielen V1 und V2 hat die beschichtete Platte eine gute Auflagenhöhe und ein gutes Alterungsverhalten; in diesen Vergleichsbeispielen ist nur Polyvinylphosphonsäure in der hydrophilierenden Behandlungslösung enthalten. Platten mit gutem Alterungsverhalten des noch nicht strahlungsempfindlich beschichteten Trägers und gutem Verhalten bei dem in regelmässigen Abständen wiederholten Tonungstest, was auf eine hohe Hydrophilie des Trägers hinweist, sind in den Vergleichsbeispielen V3 und V4 zu finden, in denen eine wässrige Natriumsilikatlösung verwendet wird. Als Indiz dafür, dass die Veränderung des pH-Werts nicht der entscheidende Parameter im erfindungsgemässen Verfahren ist, werden die Bedingungen des Vergleichsbeispiels V1 im Vergleichsbeispiel V5 nachgestellt, der pH-Wert wird jedoch mit einer wässrigen Ammoniumhydroxid-Lösung auf 9,5 eingestellt. Die so hergestellte Oberfläche ist für das Anwendungsgebiet Offsetdruck nicht brauchbar. Im Beispiel 7 wird eine erfindungsgemässe Lösung für das elektrochemische Verfahren verwendet, so dass ein unmittelbarer Vergleich mit den Vergleichsbeispielen V1 und V4 möglich ist. Dabei zeigt sich, dass alle für das Gebiet des Offsetdrucks relevanten Ergebnisse des Beispiels 7 besser als im Vergleich sind. Die Verwendung dieser Lösung in einem thermischen Tauchbad, wie im Beispiel 5 durchgeführt, bringt eine Verbesserung gegenüber den Vergleichsbeispielen V2 und V3. In den Beispielen 5 bis 8 wird eine Lösung gleichartigen Gehalts bei unterschiedlichen Temperaturen angewendet, um die Bedeutung höherer Temperaturen für das Tauchverfahren und niedrigerer Temperaturen für die elektrochemische Verfahrensvariante nachzuweisen. Obwohl die Ergebnisse dieser Versuche insgesamt annehmbar bis gut sind, ist die elektrochemische Verfahrensvariante deutlich besser, wenn sie bei niedrigeren Temperaturen durchgeführt wird, während das Tauchverfahren bei höheren Temperaturen bessere Ergebnisse liefert. Die Beispiele 1 bis 4 und 9 veranschaulichen weitere Ausführungsvarianten der Erfindung, bei denen entweder elektrochemisch oder im Tauchverfahren gearbeitet wird.
    Figure imgb0001
    Figure imgb0002

Claims (16)

1. Platten-, folien- oder bandförmiges Material aus chemisch, mechanisch und/oder elektrochemisch aufgerauhtem Aluminium oder seiner Legierungen mit einer ein- oder beidseitig aufgebrachten hydrophilen Oberflächenbeschichtung auf der Basis von mindestens einer, mindestens eine ionogene funktionelle Gruppe aufweisenden chemischen Verbindung, dadurch gekennzeichnet, dass die hydrophile Oberflächenbeschichtung ein Gemisch aus
a) mindestens einem Salz mit einem Silikat-, Fluoroborat-, Tetraborat- oder Pentaborat-Anion und einem einwertigen Kation, und
b) mindestens einem in wässriger Lösung alkalisch reagierenden Alkali- oder Ammoniumsalz einer Sulfon-, Phosphon- oder mindestens dreibasischen Carbonsäure oder eines noch mindestens eine saure funktionelle Gruppe aufweisenden Phosphorsäureesters, das in wässriger Lösung mit dem Salz aus a) keinen unlöslichen Niederschlag bildet,

enthält.
2. Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass es anodisch oxidiert ist.
3. Material nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass es einem sauren Nachspülschritt unterzogen ist.
4. Material nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Salze nach b) aus wässrigen Lösungen der Säuren oder sauren Ester durch Titration mit einer wässrigen Alkali- oder Ammoniumhydroxidlösung bis zum Erreichen eines alkalischen pH-Werts hergestellt werden.
5. Material nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die wässrigen Lösungen 1 bis 80 g/I an Säuren oder sauren Estern enthalten und der pH-Wert bei 8,0 bis 10,5 liegt.
6. Material nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Salze nach b) Natrium-, Lithium-, Kalium- oder Ammoniumsalze der polymeren Verbindungen Polyvinylphosphonsäure, Polyvinylsulfonsäure, hydrolysiertes Copolymer aus Methylenvinylether und Maleinsäureanhydrid, Polybenzolphosphonsäure, Polystyrolsulfonsäure, Poly-diisopropylbenzolsulfonsäure, Polyacrylsäure oder Polymethacrylsäure sind.
7. Material nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Salze nach b) Natrium-, Lithium-, Kalium- oder Ammoniumsalze der monomeren Verbindungen Phytinsäure, 2-Ethyl--hexanphosphonsäure, Mellithsäure oder Pyromellithsäure sind.
8. Material nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Salze nach a) Natrium-, Kalium- oder Lithiumsilikate, Ammoniumpentaborat, Kaliumtetraborat oder Natriumfluoroborat sind.
9. Verfahren zur Herstellung eines Materials nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass zur Oberflächenbeschichtung
a) eine alkalisch reagierende wässrige Lösung aus mindestens einem Alkali- oder Ammoniumsalz einer Sulfon-, Phosphon- oder mindestens dreibasischen Carbonsäure oder eines noch mindestens eine saure funktionelle Gruppe aufweisenden Phosphonsäureesters hergestellt,
b) zu dieser Lösung mindestens ein Salz mit einem Silikat-, Fluoroborat-, Tetraborat- oder Pentaborat-Anion und einem einwertigen Kation ohne Bildung eines unlöslichen Niederschlags zugemischt,
c) die Lösung enthaltend das Gemisch aus a) und b) mit mindestens einer Oberfläche des Materials aus Aluminium oder einer seiner Legierungen in Wechselwirkung gebracht wird.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass das Salz gemäss Schritt b) in wässriger Lösung zugemischt wird.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberflächenbeschichtung zusätzlich noch mit einer sauren wässrigen Lösung gespült wird.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Salze nach b) in wässriger Lösung eines Gehalts von 5 bis 120 g/I eingesetzt werden.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Stufe c) während mindestens 20 sec bei einer Temperatur von 60 bis 100°C durch Tauchen durchgeführt wird.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Stufe c) während mindestens 5 sec bei einer Temperatur von 5 bis 90°C elektrochemisch durchgeführt wird.
15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass ein Gleichstrom einer Stromdichte von 3 bis 30 A/dm2 eingesetzt wird.
16. Verwendung des Materials nach einem der Ansprüche 1 bis 8 als Trägermaterial bei der Herstellung von eine strahlungsempfindliche Schicht tragenden Offsetdruckplatten.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024025330A1 (ko) * 2022-07-26 2024-02-01 삼성전자 주식회사 알루미늄 합금의 표면 처리 방법 및 이에 따른 알루미늄 합금

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3126636A1 (de) 1981-07-06 1983-01-27 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Hydrophilierte traegermaterialien fuer offsetdruckplatten, ein verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
US4467028A (en) * 1982-07-12 1984-08-21 Polychrome Corporation Acid interlayered planographic printing plate
DE3406101A1 (de) * 1984-02-21 1985-08-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur zweistufigen hydrophilierenden nachbehandlung von aluminiumoxidschichten mit waessrigen loesungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplattentraegern
US4568630A (en) * 1984-08-24 1986-02-04 Polychrome Corporation Method for preparing and using an anodized aluminum photo-lithographic printing plate
JPS6163497A (ja) * 1984-09-06 1986-04-01 Kobe Steel Ltd 印刷版用アルミニウム合金材
US4687729A (en) * 1985-10-25 1987-08-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Lithographic plate
DE3628720A1 (de) * 1986-08-23 1988-02-25 Hoechst Ag Vorsensibilisierte druckplatte und verfahren zur herstellung einer druckform fuer den wasserlosen flachdruck
DE3628719A1 (de) * 1986-08-23 1988-02-25 Hoechst Ag Vorsensibilisierte druckplatte und verfahren zur herstellung einer druckform fuer den wasserlosen flachdruck
DE3636129A1 (de) * 1986-10-23 1988-05-05 Man Technologie Gmbh Druckform fuer den flachdruck
DE3717653A1 (de) * 1987-05-26 1988-12-08 Hoechst Ag Verfahren zur selektiven additivkorrektur von fehlstellen in kopierschichten
DE3717652A1 (de) * 1987-05-26 1988-12-08 Hoechst Ag Einstufiges elektrochemisches bilderzeugungsverfahren fuer reproduktionsschichten
US5286573A (en) * 1990-12-03 1994-02-15 Fritz Prinz Method and support structures for creation of objects by layer deposition
US5254430A (en) * 1991-01-31 1993-10-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Presensitized plate having anodized aluminum substrate, hydrophilic layer containing phosphonic or phosphinic compound and photosensitive layer containing O-quinone diazide compound
ES2036127B1 (es) * 1991-05-16 1994-02-01 Sers S A Plancha para la impresion y procedimiento para su fabricacion.
JP2944296B2 (ja) 1992-04-06 1999-08-30 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版の製造方法
US5368974A (en) * 1993-05-25 1994-11-29 Eastman Kodak Company Lithographic printing plates having a hydrophilic barrier layer comprised of a copolymer of vinylphosphonic acid and acrylamide overlying an aluminum support
CA2172734A1 (en) * 1993-09-29 1995-04-06 Allen W. Loveland Process for improving the hydrophilicity of the substrate for a lithographic printing plate by treatment with polyvinyl phosphonic acid
EP0721397B1 (de) * 1993-09-29 1998-10-21 Bayer Corporation Verfahren zur herstellung lithographischer druckfarben
US5514478A (en) * 1993-09-29 1996-05-07 Alcan International Limited Nonabrasive, corrosion resistant, hydrophilic coatings for aluminum surfaces, methods of application, and articles coated therewith
DE4423140A1 (de) * 1994-07-01 1996-01-04 Hoechst Ag Hydrophiliertes Trägermaterial und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
US6358616B1 (en) 2000-02-18 2002-03-19 Dancor, Inc. Protective coating for metals
US20070179073A1 (en) * 2005-11-09 2007-08-02 Smith Kim R Detergent composition for removing polymerized food soils and method for cleaning polymerized food soils
CN105369318A (zh) * 2015-12-10 2016-03-02 苏州市嘉明机械制造有限公司 一种高强度绝缘镜板的制备工艺

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE540601A (de) * 1950-12-06
US2922715A (en) * 1956-03-26 1960-01-26 Polychrome Corp Presensitized printing plate and method for preparing same
NL254170A (de) * 1958-12-29
US3030210A (en) * 1959-02-12 1962-04-17 Gen Aniline & Film Corp Treatment of metal surfaces for the manufacture of lithographic plates
US3160506A (en) * 1962-10-19 1964-12-08 Polychrome Corp Planographic printing plate and method for preparing same
US3307951A (en) * 1963-02-01 1967-03-07 Lithoplate Inc Lithographic plate
DE1546786C3 (de) * 1965-06-03 1973-12-13 Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich Verfahren und Material zur Her stellung von Flachdruckplatten
ZA6807938B (de) * 1967-12-04
US3658662A (en) * 1969-01-21 1972-04-25 Durolith Corp Corrosion resistant metallic plates particularly useful as support members for photo-lithographic plates and the like
JPS5140537B2 (de) * 1971-09-07 1976-11-04
US3756826A (en) * 1971-11-15 1973-09-04 Aluminium Co Ating thereto treatment of aluminum preparatory to application of photosensitive co
US4148649A (en) * 1977-02-09 1979-04-10 Polychrome Corporation Method for producing lithographic printing plates

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024025330A1 (ko) * 2022-07-26 2024-02-01 삼성전자 주식회사 알루미늄 합금의 표면 처리 방법 및 이에 따른 알루미늄 합금

Also Published As

Publication number Publication date
JPS58171574A (ja) 1983-10-08
DE3361946D1 (en) 1986-03-13
CA1196840A (en) 1985-11-19
EP0089510A1 (de) 1983-09-28
US4376814A (en) 1983-03-15

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