DE2606793C2

DE2606793C2 - Vorsensibilisierte Druckplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung

Info

Publication number: DE2606793C2
Application number: DE2606793A
Authority: DE
Inventors: Kazutaka Oda; Yoshio Shizuoka Okishi
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1975-02-19
Filing date: 1976-02-19
Publication date: 1983-10-20
Also published as: FR2301842A1; US4251620A; DE2606793A1; FR2301842B1; GB1542131A; US4288526A; US4216289A

Description

a) mit einer Prägewalze eine Beschichtungslösung aufgenommen wird,

b) mit einer Abstreifvorrichtung überschüssige Beschichtungslösung von der Prägewalze abgestreift wird,

c) die Beschichtungslösung auf eine Beschichtungswalze aus einem elastischen Material mit einem auf deren Oberfläche befindlichen feinen reliefartigen Muster übertragen wird, die sich in der gleichen Richtung und mit gleicher Geschwindigkeit wie die Prägewalze dreht, und

d) die auf die Beschichtungswalze übertragene Beschichtungslösung auf die vorsensibilisierte Seite einer Druckplatte übertragen wird, die sich mit gleicher Geschwindigkeit und in gleicher Richtung wie die Beschichtungswalze bewegt.

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Die Erfindung betrifft eine vorsensibilisierte Druckplatte mit einer mattierten Oberfläche sowie ein Verfahren zu ihrer Herstellung.

Zum Belichten einer lichtempfindlichen Druckplatte durch ein Originalbild werden normalerweise die lichtempfindliche Druckplatte und das Originalbild gemeinsam zwischen eine Gummifolie und ein Druckglas eingeschoben. Der Raum zwischen, der Gummifolie und dem Druckglas wird dann evakuiert, um so das Originalbild mit der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht der Druckplatte in innigen Kontakt zu bringen, oder, um, falls die lichtempfindliche Schicht der Druckplatte mit einer Harzschicht überzogen ist, sie in innigen Kontakt mit der Oberfläche der Harzschicht zu bringen (beide Fälle werden nachstehend der Einfachheit halber als »Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte« bezeichnet). Diese Arbeitsweise wird nachstehend als »Vakuumadhäsionsmethode« bezeichnet

Da konventionelle lichtempfindliche Druckplatten in der Regel glatte Oberflächen aufweisen, wird dann, wenn ein Originalbild unter Anwendung der Vakuumadhäsionsmethode mit der lichtempfindlichen Druckplatte in· innigen Kontakt gebracht wird, die erwünschte Adhäsion schrittweise erreicht, indem von einer Kante des Originalbildes aus die dazwischen befindliche Luft abgesaugt wird. Dabei dauert es außerordentlich lange, bis das Originalbild auf der gesamten Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte vollständig aufliegt Durch diesen hohen Zeitaufwand für die Erzielung einer vollständigen Adhäsion wird die Plattenherstellung umständlich, langwierig und darüber hinaus sehr unwirtschaftlich. Wenn schon bei noch unvollständiger Adhäsion bildmäßig belichtet wird, kann in den Bereichen, in denen die Adhäsion noch unvollständig ist, kein scharfes Bild erzielt werden, so daß auch keine scharfen Drucke erhalten werden können. Man ist daher seit langem bestrebt, den bei Anwendung der Vakuumadhäsionsmethode erforderlichen hohen Zeitaufwand zu vermindern.

Das gleiche gilt nicht nur für die aus der US-PS 31 36 637 bekannte vorsensibilisierte lithographische Druckplatte mit glatter Oberfläche, die aus einem Träger, einer darauf aufgebrachten lichtempfindlichen Diazoharzschicht und einem abriebsbeständigen Überzug aus einem organischen Polymeren besteht, sondern auch für die aus der US-PS 29 92 101 bekannten, für Vervielfältigungszwecke verwendeten Mehrschichten-Farbfilme, deren Oberfläche aufgerauht ist, um einen gleichmäßigen Kontakt zwischen Kopiervorlage und dem zu belichtenden photographischen Aufzeichnungsmaterial zu erzielen.

Aus der DE-OS 24 03 487 ist eine lichtempfindliche Reliefplatte bekannt, bei der die Oberfläche der Druckplatte dadurch mattiert wurde, daß man das lichtempfindliche Material mit einer mattierten oder gekörnten Oberfläche, zum Beispiel einem gekörnten Polyäthylenterephthalatfilm, in solcher Weise in Kontakt bringt, daß das lichtempfindliche Material selbst einen Spiegeleindruck der mattierten oder gekörnten Oberfläche annimmt.

Aus der US-PS 36 15 468 ist es bekannt zur Verbesserung des Kontaktes die Oberfläche der Vorlage zu mattieren. Hierfür ist jedoch ein erheblicher Materialeinsatz notwendig.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine vorsensibilisierte Druckplatte mit einer mattierten Oberfläche zur Verfügung zu stellen, wobei die Mattierung mit einem geringen Materialeinsatz erreicht wird, so daß das die Mattierung bildende Material beim Entwickeln schneller rückstandsfrei entfernt werden kann.

Es wurde nun gefunden, daß diese Aufgabe erfindungsgemäß gelöst werden kann mit einer vorsensibilisierten Druckplatte mit einer mattierten

Oberfläche, die dadurch gekennzeichnet ist, daß die Mattierung durch ein auf der lichtempfindlichen Schicht in Form eines Musters einzelner, punktförmiger Erhebungen aufgebrachtes Polymer hervorgerufen wird.

Die erfindungsgemäße vorsensibilisierte Druckplatte hat gegenüber den vergleichbaren bekannten Druckplatten den Vorteil, daß beim Vervielfältigen die Herstellung eines innigen Kontaktes zwischen dem Originalbild und der Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte bei Anwendung der Vakuumansaugmethode innerhalb eines wesentlich kürzeren Zeitraums erfolgt

Außerdem wird das Kleben der lichtempfindlichen Druckplatten aneinander, wenn sie nebeneinander angeordnet sind, vermieden, wodurch die Handhabung der erfindungsgemäßen Druckplatte wesentlich vereinfacht wird. Die erfindungsgemäße Druckplatte besitzt eine ausgezeichnete Entwickelbarkeit, eine ausgezeichnete Dimensionsbeständigkeit und sie kann als lithographische Druckplatte, Buchdruckplatte, Tiefdruckplatte und dgl. verwendet werden, die auf an sich bekannte Weise entwickelt werden können.

Gemäß einer bevorzugten Ausgestaltung beträgt die Höhe der punktförmigen Erhebungen 2 bis 40 Mikrometer, ihre Breite gemäß einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung 20 bis 10 000 Mikrometer und gemäß einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung sind sie in einem Abstand von 50 bis 100 000 Mikrometer (zwischen benachbart angeordneten punktförmigen Erhebungen) voneinander angeordnet.

Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung beträgt die Oberflächenrauheit der vorsensibilisierten Druckplatte, ausgedrückt durch den weiter unten definierten HcIa-Wert, 0,05 bis 10 Mikrometer.

Bei dem in der erfindungsgemäßen vorsensibilisierten Druckplatte enthaltenen nicht-lichtempfindlichen Polymeren handelt es sich vorzugsweise um Gummiarabikum, Leim, Gelatine, Kasein, Cellulosen, Stärke, Polyvinylalkohol, Polyäthylenoxid, Polyacrylsäure, Po- w lyacrylamid, Polyvinylmethyläther, Epoxyharz, Phenolharz, Polyamide, Polyvinylbutyral oder ein Gemisch aus mindestens zwei dieser Verbindungen. Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung enthält das Polymere mindestens ein Mattierungsmittel.

Die erfindungsgemäße vorsensibilisierte Druckplatte kann nach einem einen weiteren Gegenstand der Erfindung bildenden Verfahren hergestellt werden, das dadurch gekennzeichnet ist, daß mit einer Prägewalze eine Beschichtungslösung aufgenommen wird, daß mit einer Abstreifvorrichtung überschüssige Beschichtungslösung von der Prägewalze abgestreift wird, daß die Beschichtungslösung auf eine Beschichtungswalze aus einem elastischen Material mit einem puf deren Oberfläche befindlichen feinen reliefartigen Muster übertragen wird, die sich in der gleichen Richtung und mit gleicher Geschwindigkeit wie die Prägewalze dreht, und daß die auf die Beschichtungswalze übertragene Beschichtungslösung auf die vorsensibilisierte Seite einer Druckplatte übertragen wird, die sich mit gleicher Geschwindigkeit und in gleicher Richtung wie die Beschichtungswalze bewegt.

Die Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert. Dabei zeigt

F i g. 1 eine erfindungsgemäße lichtempfindliche Druckplatte im Schnitt,

F i g. 2 eine erfindungsgemäße lichtempfindliche Druckplatte nach der Belichtung und Entwicklung im Schnitt,

F i g. 3 eine'weitere Ausführungsform der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Druckplatte im Schnitt,

F i g. 4 eine Ausführungsform der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Druckplatte nach der Belichtung und Entwicklung im Schnitt,

F i g. 5 eine Offset-Prägebeschichtungsvorrichtung,

F i g. 6 eine weitere Beschichtungsvorrichtung, die zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens verwendet werden kann,

Fig.7 den Zustand einer Beschichtungslösung, die sich an einer Beschichtungswalze bei Durchführung des erfindungsgemäßen Beschichtungsverfahrens befindet, und

Fig.8 eine schematische Wiedergabe einer erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Druckplatte mit einer Beschichtung mit einem erfindungsgemäß angewendeten Muster, bei der die verschiedenen Parameter zur Definition der HcIa- Werte verwendet werden.

Aus F i g. 1 ist zu entnehmen, daß bei der Ausführungsform gemäß F i g. 1 die beschichteten und nichtbeschichteten Bereiche unregelmäßig (diskontinuierlich) sind. Die lichtempfindliche Druckplatte gemäß F i g. 1 ist in bezug auf ihre Adhäsionseigenschaft konventionellen lichtempfindlichen Druckplatten deutlich überlegen. Die in F i g. 1 der beiliegenden Zeichnungen schematisch dargestellte Ausführungsform der Beschichtungen wird nachstehend als »Beschichtungen mit unebenen Mustern« bezeichnet.

Die erfindungsgemäßen vorsensibilisierten Druckplatten, auf deren Oberfläche eine erfindungsgemäß angewendete Beschichtung aufgebracht ist, bestehen im wesentlichen aus einem Schichtträger (Träger) und einer oder mehreren lichtempfindlichen Schichten, die auf dem Träger angeordnet sind. Auf der äußersten lichtempfindlichen Schicht befindet sich dann ein Überzug aus einem transparenten, nicht-lichtempfindlichen Polymeren in Form eines regelmäßigen oder unregelmäßigen Musters von punktförmigen Erhebungen, der die lichtempfindliche Schicht an den Stellen mit den punktförmigen Erhebungen abdeckt.

Zu erfindungsgemäß verwendbaren Schichtträgern (Trägern) für die vorsensibilisierte Druckplatte gehören dimensionsbeständige Platten, wie sie üblicherweise als Träger beim Drucken verwendet werden. Zu solchen Trägern zählen Papier, Kunststoff (beispielsweise Polyäthylen, Polypropylen und Polystyrol), laminiertes Papier, Metallplatten, beispielsweise Platten aus Aluminium (einschließlich Aluminiumlegierungen wie Al-Mn, Al-Cu, Al-Mg-Cr, AI-Mg-Cr-Mn, Al-Mg-Mn, Al-Mg-Si, Al-Mg-Cr-Si, Al-Si und Al-Si-Ni-Mg-Cu), Zink, Eisen, Kupfer und ähnliche, Kunststoff-Filme und Folien aus beispielsweise Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosenitrat, Polyäthylenterephthalat, Polyäthylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat, Polyvinylacetal und Polyvinylacetat, wobei die erwähnten Papier- oder Kunststoff-Filme oder -Folien eines der erwähnten Metalle in auflaminiertcr oder aufgedampfter Form enthalten.

Je nach der jeweils gewünschten Druckplatte wird hieraus ein geeigneter Träger ausgewählt. Beispielsweise werden im Fall einer lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte eine Aluminiumplatte, eine Verbindungsplatte gemäß der JP-PA 18 327/1973, bei der eine Aluminiumplatte mit einer Polyäthylenterephthalatfolie verbunden ist, bevorzugt verwendet. Im Fall einer

lichtempfindlichen Buchdruckplatte werden eine PoIyäthylenterephthalatfolie, eine Aluminiumplatte oder eine Eisenplatte bevorzugt verwendet.

Der Schichtträger (Träger) kann bei Bedarf oberflächenbehandelt werden. Im Fall einer lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte wird die Oberfläche des Trägers beispielsweise hydrophil gemacht, wozu verschiedene Verfahren geeignet sind. Im Fall eines Trägers, der eine Kunststoffoberfläche aufweist, sind geeignete Verfahren zur Oberflächenbehandlung beispielsweise eine chemische Behandlung, Entladungsbehandlung, Flammenbehandlung, Behandlung mit ultravioletter Strahlung, Hochfrequenzbehandlung, Glühentladungsbehandlung, aktive Plasmabehandlung, Behandlung mit Laser oder ähnliche, wie in den US-PS 27 64 520, 34 97 407, 3145 242, 33 76 208, 30 72 483, 34 75 193, 33 60 448 und in der GB-PS 7 88 365 beschrieben. Darüber hinaus kann auch ein Verfahren angewendet werden, bei dem eine Vor- oder Grundierungsbeschichtung für die Grundierung eines metallisehen Trägers gemäß US-PS 35 11 661 und 38 60 426 und JP-PA 83 902/73 und 1 02 403/74 auf die Oberfläche aufgetragen wird, nachdem die beschriebene Oberflächenbehandlung durchgeführt worden ist.

Wenn die Träger eine Metall-, insbesondere eine Aluminiumoberfläche aufweisen, sind Oberflächenbehandlungen bevorzugt, wie eine Sandkörnung gemäß US-PS 28 82 154, ein Eintauchen in eine wäßrige Lösung von Natriumsilicat gemäß US-PS 28 82 153, Kaliumfluorzirkonat, Phosphate oder ähnliche, eine anodische Oxidation und dgl. Darüber hinaus können eine Aluminiumplatte, die nach dem Sandstrahlen gemäß US-PS 27 14 006 in eine wäßrige Lösung von Natriumsilicat eingetaucht wird, und eine Aluminiumplatte, die nach anodischer Oxidation gemäß US-PS 31 81 461 in eine wäßrige Lösung eines Alkalimetallsilicats eingetaucht wird, erfindungsgemäß verwendet werden.

Die erwähnte anodische Oxidation wird durchgeführt, indem man durch einen Elektrolyten, der aus einer oder mehreren wäßrigen Lösungen anorganischer Säuren, wie Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure und Borsäure, anorganischen Säuren, wie Oxalsäure und Sulfamidsäure, oder deren Salzen besteht, einen elektrischen Strom leitet, wobei als Anode beispielsweise eine Aluminiumplatte verwendet wird, und wobei ein Gleichstrom mit einer Stromdichte von 1 bis 2 A/dm² und eine Gleichspannung von 10 bis 20 V in einer 10 bis 20%igen wäßrigen Lösung von Schwefelsäure bei 20 bis 30°C angewendet wird. Wirkungsvoll ist auch die elektrolytische Silicatabscheidung gemäß US-PS 36 58 662.

Diese Behandlungen werden zusätzlich zur hydrophilen Umwandlung der Oberfläche des Trägers durchgeführt, um nachteilige Reaktionen zwischen dem Träger und dem darauf angebrachten lichtempfindlichen Material zu verhindern und/oder die Adhäsion zwischen dem Träger und der lichtempfindlichen Schicht zu erhöhen.

Auf den Schichtträger (Träger) kann jedes lichtempfindliche Material aufgebracht werden, sofern es in einem Entwickler vor und nach der Belichtung unterschiedliche Löslichkeiten oder Quelleigenschaften aufweist. Die lichtempfindlichen Materialien, die erfindungsgemäß verwendet werden können, sind identisch mit den üblicherweise verwendeten Materialien; sie können entweder negativ-positive oder positiv-negative lichtempfindliche Materialien sein. Das negativ-positive lichtempfindliche Material wird in den belichteten Bereichen durch Vernetzung gehärtet und bildet bei der Entwicklung ein Bild, während das lichtempfindliche Material von den unbelichteten Bereichen entfernt wird, wie beispielsweise Diazidharze, Diazidharzbindemittel-Gemische, lichtempfindliches Azidmaterial und andere lichtempfindliche Harze. Ein positiv-negatives lichtempfindliches Material wird in den belichteten Bereichen zersetzt und bildet eine alkalilösliche Gruppe. Es wird dann zur Entfernung der belichteten Bereiche entwikkelt und bildet in den unbelichteten Bereichen ein Bild, wie beispielsweise bei lichtempfindlichem o-Diazidoxid-Materiai.

Besonders bevorzugte lichtempfindliche Materialien sind lichtempfindliche Gemische (Zusammensetzungen), bestehend aus oder enthaltend ein Diazoharz und Schellack (JP-OS 24 404/1972), Poly(hydroxyäthylmethacrylat und ein Diazoharz, ein Diazoharz und ein lösliches Polyamidharz (US-PS 37 51 257), ein lichtempfindliches Azidmaterial (GB-PS 10 72 560), ein Diazoharz (US-PS 31 68 401), und ähnliche; lichtempfindliche Harze, die ungesättigte Doppelbindungen im Molekül aufweisen und bei Bestrahlung mit aktiver Strahlung dimerisieren, wobei sie unlöslich werden, wie beispielsweise Polyvinyicinnamat, Polyvinylcinnamatderivate gemäß GB-PS 8 43 545 und 9 66 297 und US-PS 27 25 372; lichtempfindliche Polyester aus der Kondensation von Bisphenol A mit Divanillalcyclohexanon oder aus p-Phenylendiäthoxyacrylat und l,4-Di-/?-hydroxyäthoxycyclohexanon gemäß CA-PS 6 96 372; Prepolymere des Diallylphthalats gemäß US-PS 34 62 267; auf Äthylen basierende Verbindungen mit mindestens zwei ungesättigten Doppelbindungen, die nach Bestrahlung mit aktiver Strahlung polymerisieren, wie ungesättigte Ester der Polyole gemäß der JP-PA 8495/1960, beispielsweise

Äthylendi(meth)acrylat,

Diäthylenglykol,

Di(meth)acrylat,

Glycerindi(meth)acrylat,

Glycerintri(meth)acrylat)

Äthylendimethacrylat,
,3-Propylendi(meth)acrylat,
^-Cyclohexandiolimethjacrylat,
,4-Benzoldioldi(meth)acrylat,

Pentaerythrittetra(meth)acrylat,
,3-Propylenglykoldi(meth)acrylat,
,5-Pentandioldi(meth)acrylat,

Pentaerythrittri(meth)acrylat,

die Bisacrylate und Methacrylate des Polyäthylenglykols mit einem Molekulargewicht von etwa 50 bis etwa 500, ungesättigte Amide, insbesondere Amide von a-Methylencarbonsäuren, «,o-Diaminen und co-Diaminen mit dazwischen angeordnetem Sauerstoff, wie

Methylenbis(meth)acrylamid und

Diäthylentriamintris-(meth)acrylamid;

Divinylsuccinat, Divinyladipat,

■Divinylphthalat und

Divinylbenzol-1,3-disulfonat

Lichtempfindliche Gemische (Zusammensetzungen), welche die erwähnten Stoffe und ein oder mehrere geeignete Bindemittel enthalten, vorzugsweise mit einem Molekulargewicht von mehr als etwa 10 000, wie Polyvinylalkohol, Cellulosederivate, die in einer Seitenkette eine Carboxylgruppe enthalten, wie beispielsweise Polyvinylhydrogenphthalat, Carboxymethylcellulose oder ein Copolymer des Methylacrylats und Methacrylsäure (Methylmethacrylat zu Methacrylsäure-Molverhältnis 9/:10), können wirkungsvoll als lichtempfindliche

Zusammensetzungen im Negativverfahren verwendet werden, wobei sie bei Einwirkung von aktiver Strahlung unlöslich werden.

Lichtempfindliche Gemische (Zusammensetzungen) mit einem Gehalt an lichtempfindlichen Stoffen auf der Basis von o-Diazooxid gemäß US-PS 36 35 709, 30 61430 und 30 61430, Phosphorwolframate eines Diazoharzes (JP-PA 7663/1964), Hexacyanoferrate eines Diazoharzes (US-PS 3113 023) und ein Diazoharz und Polyvinylhydrogenphthalat (JP-PA 18 812/1965) können mit Vorteil als lichtempfindliche Zusammensetzungen im Positivverfahren verwendet werden.

Geeignet sind auch lichtempfindliche Gemische (Zusammensetzungen), die lineare Polyamide und Monomere mit zusätzlichen polymerisierbaren ungesättigten Bindungen gemäß US-PS 30 81 168, 34 86 903, 35 12 971 und 36 15 629 enthalten.

Erfindungsgemäß verwendbare lichtempfindliche Druckplatten bestehen im wesentlichen aus einem Schichtträger (Träger) und einer lichtempfindlichen Schicht, die eine oder mehrere der erwähnten lichtempfindlichen Stoffe auf den Träger aufgebracht enthalten. Die Dicke der lichtempfindlichen Schicht ist beliebig und nur durch die kommerziellen Ausführungsformen beschränkt. Die lichtempfindliche Schicht wird erfindungsgemäß in einer Trockendichte von etwa 0,1 bis etwa 7 g/m², vorzugsweise 0,2 bis 5 g/m², verwendet. Darüber hinaus können Druckplatten, bei denen auf der lichtempfindlichen Schicht eine Harzschicht angeordnet ist, verwendet werden. Es können lichtempfindliche Druckplatten gemäß der JP-PA 11 558/1962 verwendet werden, bei denen auf dem Träger eine lichtempfindliche Schicht und eine hydrophobe, wasserunlösliche und durch Lösungsmittel weichmachbare Harzschicht in dieser Reihenfolge aufgebracht sind (solche Platten besitzen natürlich nicht die erfindungsgemäßen punktförmigen Erhebungen).

Wird eine solche lichtempfindliche Druckplatte durch ein Originalbild mit Licht belichtet, werden die belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht in einem Entwickler unlöslich und gleichzeitig an die Harzschicht gebunden, während die unbelichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht unverändert bleiben und im Entwickler löslich sind. Deshalb werden, wenn die lichtempfindliche Druckplatte entwickelt wird, die unbelichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht durch den Entwickler, der durch die Harzschicht dringt, gelöst und entfernt So wird die Harzschicht in den unbelichteten Bereichen entfernt, wenn die Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte mit so einem Baumwolhuch leicht gerieben wird, das mit dem Entwickler imprägniert ist Die belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht und die Harzschicht verbleiben jedoch auf dem Träger, ohne in irgendeiner Weise von dem Entwickler angegriffen zu werden, so daß eine Druckplatte mit einem fest aufliegenden Bild erhalten werden kann.

Erfindungsgemäß wird die Mattierung in der Weise auf die Oberfläche einer lichtempfindlichen Schicht einer Druckplatte aufgebracht, daß die punktförmigen Erhebungen die folgende Oberflächenkörnung aufweisen: Die Höhe der punktförmigen Erhebungen beträgt vorzugsweise etwa 2 bis etwa 40 Mikrometer, insbesondere 5 bis 20 Mikrometer; ihre Breite beträgt vorzugsweise etwa 20 bis etwa 10 000 Mikrometer, insbesondere 50 bis 5000 Mikrometer; und der Abstand zwischen benachbarten punktförmigen Erhebungen beträgt vorzugsweise etwa 50 bis etwa 100 000 Mikrometer, insbesondere 100 bis 50 000 Mikrometer. Die Oberflächenrauheit, die durch den Wc/a-Wert (Mittellinie der Oberflächenkörnung) ausgedrückt wird, beträgt vorzugsweise etwa 0,05 bis etwa 20 Mikrometer, insbesondere etwa 0,1 bis 10 Mikrometer. Ist die Oberflächenrauheit geringer als etwa 0,05 Mikrometer, wird die angestrebte zeitverkürzende Wirkung der Adhäsion bei der Vakuumadhäsionsmethode vermindert, während, wenn die Oberflächenrauheit mehr als etwa 20 Mikrometer beträgt, die Adhäsion zwischen der vorsensibilisierten Druckplatte und dem Originalbild unvollständig ist und die Schärfe des Bildes vermindert wird. In der Ausführungsform gemäß Fig. 1 sind die Höhe jeder punktförmigen Erhebung und die HcIa-Werte gemessen, bezogen auf die Höhe der Beschichtung von der lichtempfindlichen Schicht aus.

Bezogen auf F i g. 1 sind dort die Höhe, der Abstand und die Breite der punktförmigen Erhebungen beispielhaft angegeben.

Hierbei ist HcIa

L.

HcIa --j- j|/(x))-A₁1 (br,

wobei f(x) die Querschnittsfläche der Körnung der Druckplatte wie in Fig. 9, L die Länge entlang der X-Achse wie in Fig. 9, A₁ der Wert für Y am Punkt der Kreuzung der Y-Achse mit der MitteHinie in Fig. 9 sind, und Air das die Formel

^Λι ■ τ ί ^{f{x) dx}

angegeben werden kann, und dx ist der differenzielle Anstieg entlang der X-Achse (vgl. Hyomen Arasa Sokuteiki NDC 532.8 (Measure of Surface Coarseness) Kojyo Sokuteiki Koza 12, Nikkan Kogyo Shinbunsha).

Es ist offensichtlich, daß, obgleich die obigen Formeln iür die Ausführungsform gemäß Fig. 1 angegeben wurden, die HcIa- Parameter für andere Ausführungsformen in gleicher Weise berechnet werden können. Auf die Oberfläche einer vorsensibilisierten Druckplatte kann jede Beschichtungslösung aufgebracht werden, vorausgesetzt, sie übt keinen schädlichen physikalischen oder chemischen Einfluß auf die lichtempfindliche Zusammensetzung, die die lichtempfindliche Schicht bildet, aus, kann während der Entwicklung leicht wieder entfernt werden und reagiert nicht mit dem verwendeten Entwickler.

Danach können Lösungen verwendet werden, die hergestellt werden, indem man Gummiarabicum, Leim, Gelatine, Kasein, Cellulosen, beispielsweise Natriumcellulosexanthat, Methylcellulose, Athylcellulose, Hydroxyäthylcellulose, Hydroxypropylmethylcellulose, Carboxymethylcellulose und ähnliche, Stärke, beispielsweise lösliche Stärke, modifizierte Stärke, wie beispielsweise enzymmodifizierte Stärke und ähnliche; Harze, wie beispielswtise Polyvinylalkohol, Polyäthylenoxid, Polyacrylsäure, Polyacrylamid, Polyvinylmethyläther, ein Epoxyharz, wie beispielsweise das Reaktionsprodukt aus Bisphenol A und Epichlorhydrin, ein Phenolharz (besonders bevorzugt ist ein Phenolharz vom Novolak-Typ, d. h. ein Phenolharz aus der Reaktion von 1 Mol Phenol (beispielsweise Phenol, Kresol, Resorcinol, usw.) mit weniger als 1 Mol Formaldehyd durch Säurekondensation), ein Polyamid (Polyamide, die in Alkoholen

mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, wie Methanol, Äthanol, Isopropanol, Butanol, tert-Butanol, Amylalkohol, Hexanol und ähnliche, löslich sind, sind bevorzugt), Polyvinylbutyral und ähnliche in geeigneten Lösungsmitteln, wie beispielsweise Tetrachlorkohlenstoff und Benzol. Alkohole werden nicht verwendet, weil sie die lichtempfindliche Schicht auflösen. Diese Harze können auch in Kombination miteinander verwendet werden.

Diese Beschichtungslösungen können konventionelle Mattierungsmittel enthalten. Zu solchen Mattierungsmitteln zählen Siliciumdioxid, Zinkoxid, Titanoxid, Zirkonium, Glasperlen, Aluminiumoxid bzw. Kieselsäuren, Stärke, Polymerpartikel, beispielsweise Polymethylmethacrylat, Polystyrol, Phenolharze, beispielsweise ein Phenolharz vom Novolak-Typ und ähnliche, und Mattierungsmittel gemäß US-PS 27 01245 und 29 92 101. Diese Mattierungsmittel können allein oder in Kombination miteinander verwendet werden. Da jedoch die Oberflächenkörnung der Beschichtung in der beschriebenen Weise begrenzt ist, beträgt der Partikeldurchmesser des Mattierungsmittels etwa 3 bis etwa 30 Mikrometer, insbesondere etwa 6 bis etwa 20 Mikrometer.

Werden Mattierungsmittel verwendet, so werden sie in geeigneter Weise in Mengen von etwa 0,05 bis etwa 2 Gew.-Teilen, vorzugsweise 0,3 bis 2 Gew.-Teilen, je Gewichtsteil des Bindemittels oder der Bindemittel in der Beschichtungslösung verwendet. Das Mattierungsmittel wird normalerweise in die Beschichtung eingebracht, indem das Mattierungsmittel in einer Lösung des Harzes, das als Bindemittel für das Mattierungsmittel ausgewählt wird, in einem Lösungsmittel dispergiert wird, wonach die gebildete Dispersion auf die Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte aufgebracht wird.

Das Lösungsmittel wird aus solchen Lösungsmitteln ausgewählt, die schlechte Lösungsmittel für das Mattierungsmittel und gute Lösungsmittel für das Harz sind, in dem das Mattierungsmittel dispergiert werden soll und welche die Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte praktisch nicht lösen. Ein solches Lösungsmittel kann ieicht ausgewählt werden, wenn die Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte, das Mattierungsmittel und das Harz bestimmt sind.

Als Verfahren zur Aufbringung einer Beschichtung mit einem unebenen Muster durch Aufbringen einer Beschichtungslösung auf die Oberfläche einer lichtempfindlichen Druckplatte wird nachstehend ein Offset-Prägebeschichtungsverfahren zur Ausbildung einer Schicht mit unebenem Muster gemäß der Erfindung unter Verwendung einer Offset-Prägebeschichtungsvorrichturig, wie sie in F ä g. 5 schematisch dargestellt ist näher beschrieben.

Bei dem Offset-Prägebeschichtungsverfahren wird die Beschichtungslösung in der Beschichtungslösungswanne 4 in der Weise durch die Prägewalze 1 entnommen, daß die Beschichtungslösung sich auf der Oberfläche der Prägewalze 1 befindet und die Hauptmenge der Beschichtungslösung, die entnommen wurde, mittels der Klinge 6 abgestrichen wird. Die Beschichtungslösung 5 wird dann nur in den konkaven Zellen der Prägewalze 1 zurückgehalten und auf die Oberfläche einer Beschichtungswalze 7 am Berührungspunkt zwischen der Prägewalze 1 und der Beschichtungswalze 7, die eine weiche Oberfläche hat, übertragen. In einem solchen Fall ist das Übertragungsverhältnis normalerweise etwa 30 bis etwa 50%. Da die Beschichtungswalze 7 im allgemeinen aus Gummi besteht und am Berührungspunkt zwischen der Beschichtungswalze 7 und der Prägewalze 1 unter einem bestimmten Druck fest aufliegt, wird auf der Oberfläche der Beschichtungswalze 7 eine Beschichtung mit dem gleichen unebenen Muster wie auf der Oberfläche der Prägewalze 1 ausgebildet. Die Beschichtungslösung 5, die auf die Oberfläche der Beschichtungswalze 7 übertragen wird, wird dann weiter auf die Bahn 3 übertragen. Da jedoch die Bahn 3 gegen die Beschichtungswalze 7 durch die Gegenwalze 2 (normalerweise ebenfalls aus Gummi) in dem Bereich, in dem die Beschichtungslösung auf die Bahn 3 übertragen wird, gedrückt wird, und die Oberfläche der Beschichtungswalze 7 glatt ist, wird das unebene Muster der Beschichtungslösung 5, das auf der Oberfläche der Beschichtungswalze 7 ausgebildet ist, im wesentlichen vernichtet, wenn die Beschichtungslösung in Richtung auf die Breite der Bahn 3 verteilt wird. Auf diese Weise kann eine Beschichtung mit einem unebenen Muster auf der Bahn 3 nicht hergestellt werden. Im allgemeinen kann keine Beschichtung mit unebenem Muster durch Anwendung des Offset-Prägebeschichtungsverfahrens gebildet werden.

Bestimmte Beschichtungslösungen haben jedoch eine Viskosität von einigen 10 000 P, wie beispielsweise Druckertinte für Offsetdruck, die nicht über die Breite der Bahn 3 während der Übertragung verteilt werden, weil sie ein geringes Fließverhalten besitzen, so daß gelegentlich eine Beschichtung mit einem unebenen Muster gebildet werden kann. Da jedoch die Viskosität der Beschichtungslösung für die Beschichtung auf der Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatten gemäß der Erfindung normalerweise etwa 1 bis etwa 20 000 cP, vorzugsweise 5 bis lOOOOcP beträgt, ist es unmöglich, eine Beschichtung mit einem unebenen Muster durch das Offset-Prägebeschichtungsverfahren zu erhalten.

Es wurde nun gefunden, daß eine Beschichtung mit dem gewünschten unebenen Muster auf der Oberfläche einer lichtempfindlichen Druckplatte in der im folgenden beschriebenen Weise ausgebildet werden kann. Hierbei wird erfindungsgemäß eine Beschichtungslösung mit einer Prägewalze aufgenommen, überschüssige Beschichtungslösung mit einer Abstreifvorrichtung von der Prägewalze abgestreift, Beschichtungslösung auf

■»5 eine Beschichtungswalze aus einem elastischen Material mit einem auf deren Oberfläche befindlichen feinen reliefartigen Muster übertragen, die sich in der gleichen Richtung und mit gleicher Geschwindigkeit wie die Prägewalze dreht, und auf die Beschichtungswalze übertragene Beschichtungslösung auf die vorsensibilisierte Seite einer Druckplatte übertragen, die sich mit gleicher Geschwindigkeit und in gleicher Richtung wie die Beschichtungswalze bewegt

Wie ausgeführt, sollte das Beschichtungswalzenmaterial elastisch sein. Bevorzugt sind solche Stoffe, die eine Härte von weniger als etwa 80° gemäß der Härtemessung mit der federartigen Meßvorrichtung gemäß den »Japanese Industrial Standard« (JISK 6301-1971, mit Meßvorrichtung) besitzen.

Die auf der Oberfläche der Beschichtungsrolle eingeprägten unebenen Muster können sehr zahlreich und sehr unterschiedlich sein.

Alle Muster, die eine unebene Oberfläche aufweisen, können verwendet werden; die verwendeten Muster sind nicht auf gleichmäßige oder sich wiederholende Muster beschränkt; erfmdungsgemäß sind diese jedoch bevorzugt
Alle verschiedenartigen Muster, die im allgemeinen

als Oberflächenmuster auf der Prägewalze verwendbar sind, können verwendet werden, vorausgesetzt, daß sie einzelne punktförmige Erhebungen mit bestimmter Regelmäßigkeit sind. Die Größe der Oberflächenmuster der Beschichtungswalze muß größer als die auf der Prägewalze sein. Im allgemeinen beträgt die Tiefe des unebenen Musters auf der Oberfläche der Prägewalze etwa 595 bis etwa 74 Mikrometer, wohingegen das Oberflächenmuster auf der Beschichtungswalze etwa 2 mm bis etwa 250 Mikrometer beträgt. Die Größe des unebenen Musters der Prägewalze übt einen starken Einfluß auf die Beschichtungsmenge aus, diejenige der beschichtungswalze bestimmt das Muster der Beschichtung. Im allgemeinen wird eine gute Beschichtung erhalten, wenn das Verhältnis von der Größe (Tiefe) des Musters auf der Beschichtungswalze zu derjenigen des Musters auf der Prägewalze weniger als 2 beträgt.

Der Klemmdruck zwischen der Prägewalze und der Beschichtungswalze beträgt normalerweise etwa 10 bis etwa 200 kg/m, vorzugsweise 100 bis 200 kg/m und der zwischen der Beschichtungswalze und der Gegenwalze beträgt etwa 1 bis etwa 20 kg/m, vorzugsweise 1 bis 10 kg/m.

Das erfindungsgemäße Beschichtungsverfahren wird im folgenden unter Bezug auf die Figuren näher erläutert.

F i g. 6 zeigt schematisch eine Beschichtungsvorrichtung, die für eine erfindungsgemäße Verfahrensausführung verwendbar ist.

Die Beschichtungslösung 5 haftet auf der Oberfläche der Prägewalze 1 und wird aus der Beschichtungslösungswanne 4 entnommen. Die mitgeführte Beschichtungslösung 5 wird durch die Klinge 6 zum Großteil abgestriffen und in der Beschichtungslösungswanne zurückgewonnen. Die Klinge 6 wird auf die Prägewalze 1 mittels eines nicht abgebildeten Luftzylinders aufgepreßt. Dieser Druck beträgt normalerweise etwa 50 bis etwa 100 kg/m, vorzugsweise 100 bis 150 kg/m. Nach Abstreifen durch die Klinge befindet sich die Beschichtungslösung lediglich in den konkaven Zellen der Prägewalze 1. Die Beschichtungslösung 5, die auf der Oberfläche der Prägewalze 1 zurückgehalten wird, wird mit der Beschichtungswalze 8 in Berührung gebracht, die in der gleichen Richtung und mit der gleichen Geschwindigkeit wie die Prägewalze 1 dreht und das unebene Muster auf der Oberfläche trägt, und wird auf diese übertragen. Das Übertragungsverhältnis von der Prägewalze 1 auf die Beschichtungswalze 8 beträgt normalerweise etwa 30 bis etwa 50%. Das unebene Muster wird auf die Oberfläche der Beschichtungswalze 8 eingeprägt; und die übertragene Beschichtungslösung wird im oberen Bereich der konvexen Einprägung gemäß F i g. 7 zurückgehalten, wobei F i g. 7 eine schematische Darstellung der Beschichtungslösung 5, die auf die Oberfläche der Beschichtungswalze 8 übertragen wurde, ist Die Geschwindigkeiten der Bahn, der Beschichtungswalze und der Prägewalze sind gleich, im allgemeinen etwa 10 bis etwa 200 m/Min.; sind sie nicht gleich, wird die Oberfläche der Beschichtungswalze deformiert, weil sie aus Gummi besteht Da das Oberflächenmuster der Beschichtungswalze 8 im Vergleich zu dem der Prägewalze 1 groß ist, wird die Beschichtungslösung im wesentlichen gleichförmig auf die gewünschten Bereiche der Oberfläche der Beschichtungswalze 8 übertragen. Die Beschichtungswalze 8 tritt dann mit der Bahn 3 in Berührung, und die Beschichtungslösung 5, die auf der Oberfläche der Beschichtungswalze zurückgehalten wird, wird auf die Bahn 3 übertragen, wobei die Beschichtung gebildet wird. In diesem Fall ist das Übertragungsverhältnis normalerweise etwa 20 bis etwa 50%. Die Bahn 3 bewegt sich in gleicher Richtung wie die Rotationsrichtung der Beschichtungswalze 8 und wird auf die Beschichtungswalze 8 durch die Gegenwalze 2 aus Metall oder Gummi, und die eine glatte Oberfläche besitzt, aufgepreßt. Da die Beschichtungslösung auf der Oberfläche der Beschichtungswalze 8 wie beschrieben,

ίο an der Kante der konvexen Bereiche zurückgehalten wird, wird eine Beschichtung mit unebenem Muster auf der Bahn 3 wie beim Prägebeschichten gebildet. Da die Beschichtungsrolle 8 wie beschrieben, aus elastischem Gummi ist, ist die lichtempfindliche Schicht frei von jeglichen Mängeln, selbst dann, wenn die Beschichtungslösung auf die lichtempfindliche Schicht der lichtempfindlichen Druckplatte gemäß der Erfindung aufgeschichtet wird.
Selbst wenn die Beschichtungslösung 5 auf der Oberfläche der Prägewalze durch die Klinge 6 mangelhaft abgestrichen wird und sich deshalb ein dünner Film an Beschichtungslösung 5 auf der Oberfläche der Prägewalze 1 ausbildet, wird die übertragene Beschichtungslösung dennoch an der Kante der konvexen Bereiche der Beschichtungswalze 8 so lange zurückgehalten, bis die Beschichtungslösung in solchen Mengen von der Prägewalze 1 auf die Beschichtungswalze 8 übertragen wird, daß das unebene Muster auf der Oberfläche der Beschichtungswalze 8 nicht verlorengeht, wobei eine Beschichtung mit dem gleichen unebenen Muster wie dem auf der Beschichtungswalze 8 auf der Bahn 3 gebildet wird. Das bedeutet, daß die Prägewalze 1 nur als ein sogenannter Aufträger (Applikator) fungiert. Da es ausreicht, nur die Menge der auf der Oberfläche der Prägewalze 1 aufzubringenden Menge an Beschichtungslösung zu messen, und da es nicht notwendig ist die Beschichtungslösung nur in den konkaven Zellen wie beim Prägebeschichten zurückzuhalten, ist es nicht unbedingt notwendig, daß die Klinge 6 auf die Prägewalze 1 unter hohem Druck gepreßt wird, wie es beim Prägebeschichten notwendig ist so daß die Bedingungen für das Abstreichen oder Abkratzen sehr milde im Vergleich zum Prägebeschichten sind. Deshalb kann die Klinge 6 aus Polytetrafluoräthylen, Polyäthylen oder ähnlichen, ebenso wie aus rostfreiem Stahl bestehen; es besteht nicht die Gefahr einer unebenen Beschichtung, die durch Abrieb der Klinge 6 verursacht wird. Die Verwendung der Prägewalze 1 als Aufträgerwalze ermöglicht zum einen, die Genauigkeit der Aufbringung der Beschichtungslösung auf die Beschichtungswalze 8 zu erhöhen und zum anderen, selbst wenn die Beschichtungslösung Mattieningspartikel enthält, ist es möglich, die Beschichtungslösung auf die Beschichtungswalze 8 ohne Zerstörung oder Zerbrechen der Mattierungspartikel zu übertragen.

Erfindungsgemäß beträgt die Menge an auf die Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte geschichteter Beschichtungslösung etwa 0,05 bis etwa 2 g/m², vorzugsweise 0,08 bis 1 g/m², Trockengewicht nach Trocknung. Wird der untere Wert unterschritten, ist die Vakuumadhäsion nicht ausreichend, wird die Menge überschritten, wird die Trocknungszeit unnötigerweise erhöht und sind gegebenenfalls große Apparaturen und Vorrichtungen notwendig.

Da die Bildung der unebenen Muster gemäß F i g. 1 im wesentlichen nicht nur von der Beschichtungsmenge sondern auch den Dhvsikalischen Kipensrhaftpn rW

Beschichtungslösung wie der Oberflächenspannung abhängt, ist es schwierig, allgemein festzuhalten, welche Bedingungen notwendig sind, die obigen Strukturen zu erzielen. Im allgemeinen wird die Beschichtungslösung mit Erhöhen der Oberflächenspannung in geringeren Mengen auf die Beschichtungswalze (die elastische Walze) übertragen, während andererseits mit niedrigerer Oberflächenspannung der Beschichtungslösung relativ größere Mengen der Beschichtungslösung auf der Beschichtungswalze verteilt werden. Offensichtlich hängt die Wirkung der Oberflächenspannung der Beschichtungslösung auf die Übertragung von der Viskosität der Beschichtungslösung ab. Im allgemeinen jedoch, wenn die Beschichtungsmenge unterhalb etwa 0,6 g/m² ist, wird häufig das unebene Muster gemäß is F i g. 1 erreicht

Da gsmäß der Erfindung jedoch die Beschichtungsmenge leicht durch den Druck der Klinge geregelt werden kann, kann in einfacher Weise ein unebenes Muster gemäß F i g. 1 erhalten werden.

Zur erfindungsgemäßen Herstellung der Beschichtung kann auch selbstverständlich derart verfahren werden, daß die Beschichtungslösung auf die Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte zur Bildung der Beschichtung aufgetragen wird, die dann mechanisch gekörnt wird, um die erfindungsgemäße Beschichtung zu erhalten.

Wird ein Verfahren angewendet, bei dem eine Beschichtung, die durch einen Entwickler entfernbar ist, wie zuvor beschrieben, auf der Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte ausgebildet wird, und wird die auf diese Weise ausgebildete Beschichtung mit einem Blatt mit weicher Oberfläche, wie Papier, Stoff, einem Kunststoff-Film oder ähnlichem, das auf der Oberfläche feine Partikel höherer Härte als der der Beschichtung aufweist, mit einer Druckwalze zur Mattierung der Oberfläche der Beschichtung behandelt, werden ebenfalls die erfindungsgemäßen Druckplatten erhalten. Darüber hinaus kann eine Druckwalze mit der erwünschten Körnung an der Oberfläche über die Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte gerollt werden.

Die Beschichtung auf der Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte wird, wie zuvor beschrieben, im Entwickler gelöst und von der nichtempfindlichen Schicht entfernt oder abgeschält. In jedem Fall hat, da die Beschichtung zum Zeitpunkt der Entwicklung entfernt ist, die Beschichtung keinen Einfluß auf die Druckplatte, wenn sie zum Drucken verwendet wird.

Fig.2 gibt einen Querschnitt einer lichtempfindlichen Druckplatte gemäß F i g. 1 wieder, nachdem sie belichtet und entwickelt ist, wobei nur das Bild auf dem Träger verblieben ist, während die Beschichtung vollständig entfernt ist. In F i g. 3 ist schematisch ein Querschnitt einer anderen erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Druckplatte wiedergegeben, in der eine Harzschicht, durch die der Entwickler durchtritt und die nicht durch den Entwickler gelöst wird, auf der lichtempfindlichen Schicht ausgebildet ist, und die eine Beschichtung mit einem feinen Muster aufweist, in dem beschichtete und unbeschichtete Bereiche existieren, und die auf der Harzschicht wie beschrieben, ausgebildet ist.

Fig.4 zeigt schematisch einen Querschnitt einer lichtempfindlichen Druckplatte gemäß F i g. 3 nach Belichtung und Entwicklung, bei der alle beschichteten Bereiche und unbeschichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht und die darauf befindliche Harzschicht alleine als Bild verbleiben, während die erfindungsgemäße Beschichtung vollständig entfernt ist Diese Erfindung kann auf nega-posi- oder posi-negalichtempfindliches Material angewendet werden, da die lichtempfindliche Schicht in den belichteten Bereichen oder unbelichteten Bereichen mit der darauf angeordneten Harzschicht verbleiben kann, um ein Bild zu bilden, während der Rest vollständig entfernt wird

Aus diesen Erläuterungen geht offensichtlich hervor, daß erfindungsgemäß durch eine Beschichtung mit einem feinen unebenen Muster aus beschichteten und unbeschichteten Bereichen auf der Oberfläche einer lichtempfindlichen Druckplatte ermöglicht wird, ein Originalbild in innigen Kontakt mit der lichtempfindlichen Druckplatte nach der Vakuumadhäsionsmethode zu bringen, wobei die hierfür notwendige Zeit kurz ist und wobei die für den Adhäsionsschritt notwendige Zeit erheblich vermindert wird, wobei die Bildung von verschwommenen Bildern durch mangelhafte Adhäsion vermieden und die Wirksamkeit im Druckschritt erheblich erhöht werden kann.

Natürlich ist die Erfindung nicht nur auf bahnförmige oder gewebeförmige Träger beschränkt; ebenso können blattförmige Träger, die in erwünschter Weise dimensioniert sind, ve, wendet werden.

Die Erfindung wird anhand der folgenden Beispiele näher erläutert Alle Prozentangaben beziehen sich auf das Gewicht, sofern nichts anderes angegeben wird.

Beispiel 1

Eine 150 mm breite und 180 Mikrometer dicke Aluminiumbahn wurde gereinigt, indem sie in eine 10%ige Lösung Natriumtriphosphat 3 Minuten bei 8O⁰C eingetaucht, mit Wasser gewaschen und 1 Minute bei 25° C in 70%ige Salpetersäure eingetaucht wurde. Nach dem Waschen wurde die Aluminiumplatte 3 Minuten in eine 2%ige Lösung von Kaliumfluorozirkonat in Wasser bei 8O⁰C eingetaucht, mit Wasser gewaschen und getrocknet. Auf dieser Aluminiumplatte befand sich die Beschichtungslösung der Zusammensetzung gemäß Tabelle 1, die dann getrocknet wurde, um eine lichtempfindliche Schicht zu ergeben. Die Beschichtungsmenge betrug 0,5 g/m² (Trockengewicht) nach dem Trocknen. Auf diese lichtempfindliche Schicht wurde eine Beschichtungslösung der Zusammensetzung und mit den physikalischen Eigenschaften gemäß Tabelle 2 durch eine Beschichtungsvorrichtung gemäß Fig.6 mit einer Beschichtungsgeschwindigkeit von 20 m/Min aufgeschichtet, so daß sich eine Beschichtungsmenge im trockenen Zustand von 0,15 g/m² ergab. Auf diese Weise wurde eine Beschichtung mit einem Querschnitt gemäß Fig. 1 erhalten. In diesem Beispiel, wie in allen Beispielen, sofern nicht anders angegeben wird, wurde die Beschichtung so ausgebildet, daß sie die Charakteristika gemäß Beispiel 3 aufwies, d. h., daß die Höhe der beschichteten Bereiche 5 Mikrometer, der Durchmesser der beschichteten Bereiche 22 Mikrometer, der Abstand zwischen den beschichteten Bereichen 100 Mikrometer betrug, und daß die Form der beschichteten Bereiche zylindrisch war.

Eine Prägewalze aus Metall mit einem Durchmesser von 200 mm und einem pyramidenförmigen unebenem Muster gemäß F i g. 8 (115 Mikrometer), deren Oberfläche mit einer harten Chromplattierung versehen war, eine Beschichtungswalze aus Silicongummi mit einer Härte von 70° und einem Durchmesser von 200 mm und einem pyramidenförmigen Muster (250 Mikrometer) und eine Gegenwalze aus Metall mit einem Durchmes-

ser von 100 mm wurden hierbei verwendet Der Druck der Stahlklinge auf die Prägewalze betrug 100 kg/m, und der KJemmdruck zwischen der Prägewalze und der Beschichtungswalze und zwischen der Beschichtungswalze und der Gegenwalze wurden auf 80 kg/m bzw. 10 kg/m eingestellt Nach dem Trocknen wurde die Bahn in der gewünschten Länge zerschnitten.

Tabelle 1

2-Diazo-l-naphthol-5-sulfonsäureester des Polyhydroxyphenyls (gemäß US-PS 36 35 709)
Cyciohexan

Tabelle 2

Gummiarabikum

Siliciumdioxid

(6 bis 7 Mikrometer)

Wasser

Viskosität

spezifisches Gewicht

Gewichtsteile aufgeschichtet, die die folgende Zusammensetzung besaß, die dann getrocknet wurde und die lichtempfindliche Schicht bildete. Die Beschichtungsmenge betrug 500 mg/m², Trockengewicht nach Trocknung.

2-Diazo-1 -naphthol-5-sulfonsäureester von Polyhydroxypheny!

(gemäß US-PS 36 35 709) 5 g

Cyciohexan 80 g

5 80

Gewichtsteile 5

93

200cps(25°C) 1,0(25⁰C) Auf diese lichtempfindliche Schicht wurde eine Lösung der folgenden Zusammensetzung in Mengen von 03 g/m² (Trockengewicht nach Trocknung) aufgeschichtet und getrocknet

15

Wasser

Hydroxypropylmethylcellulose, (Hydroxypropoxylierung;
7-12Mol.-%,

Methoxylierung: 28 - 30 Mol.-%] SiO₂, (mittlerer
Partikeldurchmesser: 2,7 μπι)

100g

5g 2g

Natürlich kann auf eine Aluminiumbahn erfindungsgemäß die Beschichtung aufgeschichtet und getrocknet werden. Normalerweise wird die derart erhaltene Bahn in mehrere Platten mit den gewünschten Dimensionen zerschnitten. In den folgenden Beispielen, in denen eine Vielzahl Proben beschrieben werden, wurde in dieser Weise verfahren (siehe beispielsweise Beispiel 3).

Beispiel 2

Auf eine Aluminiumplatte (100 mm χ 100 mm χ 24 mm), die die gleiche lichtempfindliche Schicht wie in Beispiel 1 in gleicher Dicke aufweist, wurde eine Beschichtung der Zusammensetzung und mit den physikalischen Eigenschaften gemäß Tabelle 2 mit der gleichen Vorrichtung wie in Beispiel 1 aufgetragen (in allen folgenden Beispielen, sofern nichts anderes angegeben wird, wird die gleiche Vorrichtung verwendet).

Beschichtungsmenge, Beschichtungsgeschwindigkeit und Vorrichtung entsprachen denen in Beispiel 3.

Nach Beschichtung und Trocknung wurden die in den Beispielen 1 und 2 erhaltenen Beschichtungen geprüft, und es wurde gefunden, daß die Beschichtungen die gleichen unebenen Muster aufwiesen, wie die Oberflächenmuster der Beschichtungsrolle, und daß die lichtempfindliche Schicht unbeschädigt war.

Die Zeit, die notwendig war, diese lichtempfindlichen Druckplatten in innigen Kontakt mit einem Originalbild nach der Vakuumadhäsionsmethode zu bringen, wurde auf '/3 bis ¹A des Wertes reduziert, der mit lichtempfindlichen Druckplatten benötigt wird, wenn sie diese unebenen Muster nicht aufweisen.

Beispiel 3

Eine 0,3 mm dicke Aluminiumplatte wurde gereinigt, indem sie 3 Minuten in eine 10%ige Lösung Natriumtriphosphat in Wasser bei 80° C eingetaucht, mit Wasser gewaschen und dann 1 Minute in 70%ige Salpetersäure bei 25° C eingetaucht wurde. Nach dem Waschen wurde die Aluminiumplatte 3 Minuten in eine 2%ige Lösung von Kaliumfluorozirkonat in Wasser bei 8O⁰C eingetaucht, mit Wasser gewaschen und getrocknet. Auf diese Aluminiumplatte wurde eine Lösung Eine Beschichtung wurde derart hergestellt, daß die Höhe der beschichteten Bereiche 5 Mikrometer, der Durchmesser der beschichteten Bereiche 20 Mikrometer; der Abstand zwischen beschichteten Bereichen 100 Mikrometer betrug und die Form der beschichteten Bereiche zylindrisch war.

Die notwendige Zeit, die lichtempfindliche Druckplatte in innigen Kontakt mit einem Orginalbild nach der Vakuumadhäsionsmethode zu bringen, betrug 15 bis 20 Sekunden; wenn diese Beschichtung nicht ausgebildet wird, beträgt die Zeit 60 Sekunden oder mehr. Hierdurch wird deutlich, daß die Verwendung der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Druckplatte ganz merklich die Zeit vermindert, die benötigt wird, um die Platte in innigen Kontakt mit einem Originalbild zu bringen.

Eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte wurde 2 Minuten dem Licht einer 35-Ampere-Kohlenbogenlampe in einer Entfernung von 70 cm ausgesetzt und entwickelt, indem sie 1 Minute bei 25° C in eine 5%ige Lösung Natriumtriphosphat in Wasser eingetaucht wurde und indem die Oberfläche vorsichtig mit absorbierender Baumwolle abgerieben wurde (Entwicklungsmethoden beispielsweise gemäß US-PS 36 35 709 sind ebenfalls geeignet).

Die Schicht aus Hydroxypropylmethylcellulose wurde vollständig gelöst und von der Gesamtoberfläche der Platte entfernt, und darüber hinaus wurden die belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht entfernt, wobei ein positives Bild, das dem Originalbild entsprach, erhalten wurde. Die Druckplatte zeigte gleichermaßen gute Druckeigenschaften, d. h., daß kein Einfluß der Beschichtung auf die Druckeigenschaften der lichtempfindlichen Druckplatte festgestellt wurde.

Beispiel 4

Die Verfahrensweise gemäß Beispiel 3 wurde mit dem Unterschied wiederholt, daß eine Lösung der folgenden Zusammensetzung in trockener Beschichtungsmenge von 0,15 g/m² auf die lichtempfindliche Schicht aufgebracht und zur Bildung der Beschichtung getrocknet wurde.

	Wasser	26	06 793	18
17	MethylceUulose		Polymethylmethacrylatharz
Meihoxylierung:	100 g	(aus pulverisiertem handels
27,5-31,5 Mol-%		üblichem Harz hergestellt)
SiO₂;		mittlere Partikelgröße
mittlerer Partikeldurchmesser:	5g	5 30 Mikrometer; mittleres
10 Mikrometer		Molekulargewicht: 10 000)

2g

Die Beschichtung wurde derart hergestellt, daß die Höhe der beschichteten Bereiche 20 Mikrometer, der Durchmesser der beschichteten Bereiche 1000 Mikrometer, der Abstand zwischen den beschichteten Bereichen 10 000 Mikrometer betrug und die Form der beschichteten Bereiche zylindrisch war.

Die notwendige Zeit, diese lichtempfindlichen Druckplatten in innigen Kontakt mit einem Originalbild nach der Vakuumadhäsionsmethode zu bringen, betrug 20 bis 30 Sekunden.

Aus dieser lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte wurde gemäß Beispiel 3 eine Druckplatte hergestellt und deren Druckeigenschaften gemessen. Es wurden die gleichen Ergebnisse wie in Beispiel 3 erhalten.

Beispiel 5

Die Verfahrensweise gemäß Beispiel 3 wurde mit dem Unterschied wiederholt, daß eine Lösung der folgenden Zusammensetzung auf eine lichtempfindliche Schicht in einer Trockenbeschichtungsmenge von 030 g/m² aufgeschichtet und zur Bildung der Beschichtung getrocknet wurde.

Wasser 100 g

Polyvinylalkohol (mittleres Molekulargewicht: 15 000) 25 g Pulveriges Phenolharz

(vom Novolak-Typ; mittleres

Molekulargewicht: 3000 - 8000;

mittlere Partikelgröße: 20 Mikrometer) 5 g

Die Beschichtung wurde derart hergestellt, daß die Höhe und der Durchmesser der beschichteten Bereiche 30 bzw. 500 Mikrometer, der Abstand zwischen den beschichteten Bereichen 2000 Mikrometer betrug und die Form der beschichteten Bereiche zylindrisch war.

Die Zeit, die benötigt wurde, um diese lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten in innigen Kontakt mit einem Originalbild nach der Vakuumadhäsionsmethode zu bringen, betrug 8 bis 10 Sekunden.

Von dieser lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte wurde eine Druckplatte gemäß Beispiel 3 hergestellt und deren Druckeigenschaften gemessen. Es wurden die gleichen Ergebnisse wie in Beispiel 3 erzielt.

Die Beschichtung wurde derart hergestellt, daß die Höhe und der Durchmesser der beschichteten Bereiche ίο 40 Mikrometer bzw. 300 Mikrometer, die Entfernung zwischen den beschichteten Bereichen 3000 Mikrometer betrug und daß die Form der beschichteten Bereiche zylindrisch war.

Die Zeit, die benötigt wurde, um diese lichtempfindliehe lithographische Druckplatte nach der Vakuumadhä sionsmethode in innigen Kontakt mit einem Originalbild zu bringen, betrug 10 bis 12 Sekunden.

Aus dieser lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte wurde eine Druckplatte gemäß Beispiel 3

hergestellt und deren Druckeigenschaften gemessen. Es wurden die gleichen Ergebnisse wie in Beispiel 3

erreicht

Beispiel 7

Eine 0,3 mm dicke Aluminiumplatte wurde entfettet, indem sie bei 80° C 1 Minute in eine 10%ige Lösung von Natriumtriphosphat in Wasser eingetaucht wurde; nach dem Waschen mit Wasser wurde sie in üblicher Weise mit Sand gekörnt, indem sie mit einer Nylonbürste gebürstet wurde, während eine Lösung, die aus einer Dispersion von Bimsstein in Wasser hergestellt wurde, darüberfloß. Nach Waschen mit Wasser wurde die Aluminiumplatte 3 Minuten bei 75°C in eine 5%ige Lösung von JIS Nr. 3 Natriumsilicat (SiO₂/Na₂O (molares Verhältnis) = 3,1 bis 3,3) in Wasser eingetaucht. Die Aluminiumplatte wurde dann mit Wasser gewaschen und getrocknet. Dann wurde auf die Aluminiumplatte eine Lösung der folgenden Zusammensetzung in einer Trockengewichtsmenge von 1 g/m² geschichtet und zur Bildung einer lichtempfindlichen Schicht getrocknet.

Schellack 10 g

Polyvinylacetat (mittleres Molekulargewicht:

60 000 bis 100 000) Ig

Kondensationsprodukt von Hexa-

fluorphosphat von 4-Diazo-

4'-methoxyphenylamin und so Formaldehyd (ca. äquimolar;

Kondensationsgrad ca.

3-6 Verhältnis) 3 g

Methylenblau 03 ί

Methanol 200 g

Furfurylalkohol 50 g Beispiel 6

Die Verfahrensweise gemäß Beispiel 3 wurde mit dem Unterschied wiederholt, daß eine Lösung der folgenden Zusammensetzung auf eine lichtempfindliche Schicht in einer Trockenbeschichtungsmenge von 0,05 g/m² aufgebracht und zur Bildung der Beschichtung getrocknet wurde.

Wasser 100 g

Polyvinylpyrrolidon (mittleres Molekulargewicht: 60 000) 20 g

Auf diese lichtempfindliche Schicht wurde dann eine Lösung der folgenden Zusammensetzung in einer Trockengewichtsmenge von 0,05 g/m² geschichtet, die dann getrocknet wurde.

Wasser enzymmodifizierte Stärke

100g 10g

Die Beschichtung wurde derart hergestellt, daß die Höhe und der Durchmesser der beschichteten Bereiche 3 Mikrometer bzw. 50 Mikrometer, die Entfernung zwischen den beschichteten Bereichen 500 Mikrometer

betrug, und die beschichteten Bereiche zylindrische Form aufwiesen.

Die Zeit, die benötigt wurde, um diese lichtempfindliche lithographische Druckplatte in innigen Kontakt mit einem Originalbild nach der Vakuumadhäsionsmethode zu bringen, betrug 30 bis 40 Sekundea Wenn eine solche Beschichtung jedoch nicht ausgebildet wurde, betrug die Zeit 60 Sekunden oder mehr. Die lichtempfindliche lithographische Druckplatte wurde in innigem Kontakt mit dem Originalbild mit Licht aus einer 30-Ampere-Kohlebogenlampe bei einer Entfernung von 70 cm und einer Dauer von 2 Minuten belichtet Die Platte wurde dann entwickelt, indem sie eine Minute bei 20° C in einen Entwickler der folgenden Zusammensetzung eingetaucht und mit einem weichen Tuch abgerieben wurde. Die Beschichtung war völlig entfernt und, darüber hinaus, waren die unbelichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht ebenfalls vollständig entfernt Auf diese Weise wurde eine Druckplatte erhalten. Zwischen einer Druckplatte aus einer lichtempfindlichen Druckplatte ohne Beschichtung und dieser Druckplatte bestand hinsichtlich der Wirksamkeit keinerlei Unterschied.

Methanol

Wasser

Natriumhydroxid

10g

80 g

Ig

25

Beispiel 8

Auf die Aluminiumplatte gemäß Beispiel 3, die einer Oberflächenbehandlung gemäß Beispiel 1 ausgesetzt wurde, wurde eine Lösung in einer Trockengewichtsmenge von 0,12 g/m² der folgenden Zusammensetzung aufgetragen und zur Bildung einer lichtempfindlichen Schicht getrocknet.

p-Toluolsulfonat des Kondensationsprodukts von p-Diazodiphenylamin
und Formaldehyd 1 g

Äthylendichlorid (ca. äquimolares Verhältnis; Kondensationsgrad
ca.3-6) 100 g

Methanol 100 g

Auf diese lichtempfindliche Schicht wurde eine Lösung der folgenden Zusammensetzung aufgetragen:

Polyvinylfo-Tnal (mittleres
Molekulargewicht ca. 100 000)
Phthalocyaninblau
Äthylendichlorid
Monochlorbenzol

4g

Ig

500 g

20 g

50 schichtung und der lichtempfindlichen Schicht nach Trocknung betrug 0,31 g/m². Auf diese Schicht wurde eine Lösung der folgenden Zusammensetzung aufgetragen und getrocknet:

Wasser	100g
Hydroxypropylmethylcellulose
(wie in Beispiel 3)	15g
SiO₂, mittlere Partikelgröße
7 Mikrometer;	5g

Das Gesamtgewicht der zuvor hergestellten Bein diesem Fall betrugen Höhe und Durchmesser der beschichteten Bereiche 10 Mikrometer bzw. 4000 Mikrometer, der Abstand zwischen den beschichteten Bereichen 30 000 Mikrometer, und die beschichteten Bereiche besaßen zylindrische Form, und die Beschichtungsmenge als Trockengewicht betrug 0,15 g/m².

Die auf diese Weise erhaltene lichtempfindliche lithographische Druckplatte konnte nach der Vakuumadhäsionsmethode in 20 bis 30 Sekunden in innigen Kontakt mit einem Originalbild gebracht werden. Andererseits dauerte es 60 bis 70 Sekunden, wenn eine lichtempfindliche Druckplatte verwendet wurde, die nicht erfindungsgemäß beschichtet war.

Die lichtempfindliche Druckplatte, die in innigen Kontakt mit dem Originalbild gebracht worden war, wurde eine Minute mit Licht einer 35-Ampere-Kohlenbogenlampe in einer Entfernung von 70 cm belichtet und dann entwickelt, indem sie 1 Minute bei 20° C in einen Entwickler eingetaucht wurde, der aus Isopropylalkohol/Wasser im Volumenverhältnis von 2 :1 bestand, und indem die Oberfläche behutsam mit absorbierender Baumwolle abgerieben wurde. Die Beschichtung wurde von der gesamten Platte entfernt, ebenso wie die unbelichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht und die darauf befindliche Polyvinylformalschicht. Andererseits verblieben die belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht und die darauf befindliche Polyvinylformalschicht ohne Beschädigung auf der Platte.

Diese Druckplatte ergab 50 000 und mehr Druckblätter guter Qualität; sie zeigte gleiche Eigenschaften und Verhalten wie die Druckplatte, die aus einer lichtempfindlichen Druckplatte ohne erfindungsgemäße Beschichtung hergestellt wurde.

Beispiel 9

Zu 53 g (0,5 Mol) Diäthylenglykol wurden 197 g (1,05 Mol) Xylylendiisocyanat zugegeben, die dann 2 Stunden bei 8O⁰C bei Normaldruck miteinander umgesetzt wurden. Zu der gebildeten Mischung wurden 390 g (1,0 Mol) Hydroxyäthyltetrahydrophthalylacrylat (OH-Wert 146; mittleres Molekulargewicht 39¹O) entsprechend der Formel

CH₂=CHCOOCh₂CH₂O-

O O

C —OCH₂CH₂O--H

1,4

und 0,30 g 2,6-Di-tert-butylkresol als Polymerisationsinhibitor zugegeben, die dann bei Normaldruck 8 Stunden bei 8O⁰C miteinander umgesetzt wurden, während Luft durchgeblasen wurde, um eine Divinylurethanverbindung herzustellen, die einen verbleibenden Isocyanatwert von 4,8 besaß.

Diese Divinylurethanverbindung in Mengen von 60 Teilen, 40 Teile CelluloseacetathvdroeenDhthalat

(Phthalsäuregehalt 32 Gew.-%), 1 Teil Benzoinäthyläther als Sensibilisator, 0,05 Teile 4,4-Thiobis(3-methyl-6-tert.-butylphenol) als Inhibitor für Wärmepolymerisation und 0,025 Teile Methylenblau wurden in 40 Teilen Aceton und 30 Teilen Methanol als Lösungmittel gelöst; die gebildete Lösung wurde bei 40" C einen Tag und eine Nacht stehengelassen, um Entschäumung zu bewirken. Die derart entschäumte Lösung wurde auf eine 0,3 mm starke sandgekörnte Aluminiumplatte aufgebracht und zur Bildung einer lichtempfindlichen Schicht mit einer ι ο Filmdicke von 0,6 mm getrocknet. Auf diese lichtempfindliche Schicht wurde eine Lösung der folgenden Zusammensetzung und in einer Trockengewichtsmenge von 1,5 g/m³ autgebracht und getrocknet.

15

Wasser	100g
Polyvinylpyrrolidon
(mittleres Molekulargewicht:
10 000-100 000)	15g

20

In diesem Fall betrugen Höhe und Durchmesser der beschichteten Bereiche 3 Mikrometer bzw. 100 Mikrometer, der Abstand zwischen den beschichteten Bereichen 1000 Mikrometer, und die beschichteten Bereiche besaßen zylindrische Gestalt, während die Beschichtungsmenge (Trockengewicht) 0,08 g/m² betrug.

Diese lichtempfindliche lithographische Druckplatte konnte nach der Vakuumadhäsionsmethode in 30 bis 40 Sekunden in innigen Kontakt mit einem Originalbild gebracht werden. Diese lichtempfindliche lithographische Druckplatte in Kontakt mit dem Originalbild wurde mit einem Prnter, in dem 20-Watt-chemische Lampen in 6-cm-Intervallen angeordnet waren, 10 Minuten belichtet. Die Druckplatte wurde entwickelt, indem sie 1 bis 3 Minuten bei 30⁰C in einen Entwickler der folgenden Zusammensetzung eingetaucht wurde, und indem anschließend die Oberfläche behutsam mit adsorbierender Baumwolle abgerieben wurde.

40

Isopropanol 0,5 g Natriumhydroxid 0,2 g

Wasser 100 g

Die Beschichtung wurde von der gesamten Platte entfernt; darüber hinaus wurden die unbelichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht entfernt. Auf diese Weise wurde eine Druckplatte guter Qualität erhalten. Erfindungsgemäß werden deshalb die folgenden neuen Wirkungen erreicht:

1) Da eine Beschichtung, die ein unebenes Muster aufweist, auf der Oberfläche einer lichtempfindlichen Druckplatte ausgebildet werden kann, ist es möglich, nach der Vakuumadhäsionsmethode in kurzer Zeit ein Originalbild mit einer lichtempfindlichen Druckplatte in innigen Kontakt zu bringen, wobei die für den Adhäsionsschritt notwendige Zeit erheblich vermindert wird, während gleichzeitig die Bildung verschwommener Bilder wegen unvollständiger Adhäsion vermieden wird.

2) Da die Beschichtung mit dem unebenen Muster auf der Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte aufgebracht wird, bleibt die lichtempfindliche Schicht unbeschädigt, wenn lichtempfindliche Druckplatten übereinandergelegt werden; darüber hinaus tritt das Problem nicht auf, daß, wenn lichtempfindliche Druckplatten in nahen Kontakt miteinander geraten, diese nur schwer zu handhaben sind.

3) Da die Beschichtung auf der Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte mittels einer Beschichtungswalze aus elastischem Gummi und mit einem darauf befindlichen unebenem Muster hergestellt wird, wird die lichtempfindliche Schicht nicht beschädigt.

3) Da die Prägewalze als Auftragungswalze verwendet wird, und die Beschichtungslösung einmal auf die Beschichtungswalze mit dem unebenem Muster auf der Oberfläche durch die Prägewalze übertragen und dann auf einen Träger übertragen wird, ist et möglich, eine Beschichtung mit den gleichen unebenen Mustern wie die Oberflächenmuster der Beschichtungswalze auf dem Träger zu erzeugen ohne daß schwierige Bedingungen beim Abstreifer mittels einer Klinge an der Prägerolle einzuhalter sind.

Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

Claims

Patentansprüche:

1. Vorsensibilisierte Druckplatte mit einer mattierten Oberfläche, dadurch gekennzeichnet, daß die Mattierung durch ein auf der lichtempfindlichen Schicht in Form eines Musters einzelner, punktförmiger Erhebungen aufgebrachtes Polymer hervorgerufen wird.

2. Vorsensibilisierte Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Erhebungen 2 bis 40 Mikrometer hoch sind.

3. Vorsensibilisierte Druckplatte nach Anspruch 1 und/oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Breite der Erhebungen 20 bis 10 000 Mikrometer beträgt

4. Vorsensibilisierte Druckplatte nach den Ansprüchen \ bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand zwischen benachbart liegenden Erhebungen 50 bis 100 000 Mikrometer beträgt

5. Vorsensibilisierte Druckplatte nach den An-Sprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet daß deren Oberflächenrauheit, ausgedrückt durch den HcIa-Wert, 0,05 bis 20 Mikrometer beträgt

6. Vorsensibilisierte Druckplatte nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet daß das nicht-lichtempfindliche Polymer Gummiarabikum, Leim, Gelatine, Kasein, Cellulose, Stärke, Polyvinylalkohol, Polyäthylenoxid, Polyacrylsäure, Polyacrylamid, Polyvinylmethyläther, Epoxyharz, Phenolharz, Polyamide, Polyvinylbutyral oder ein Gemisch aus mindestens zwei dieser Verbindungen ist

7. Vorsensibilisierte Druckplatte nach Anspruch 1 und/oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß das nicht-lichtempfindliche Polymer mindestens ein Mattierungsmittel enthält.

8. Verfahren zur Herstellung einer vorsensibilisierten Druckplatte nach den Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß