DE2914558A1 - Lichtempfindliche lithographische druckplatte - Google Patents

Lichtempfindliche lithographische druckplatte

Info

Publication number
DE2914558A1
DE2914558A1 DE19792914558 DE2914558A DE2914558A1 DE 2914558 A1 DE2914558 A1 DE 2914558A1 DE 19792914558 DE19792914558 DE 19792914558 DE 2914558 A DE2914558 A DE 2914558A DE 2914558 A1 DE2914558 A1 DE 2914558A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
printing plate
lithographic printing
photosensitive
coating
plate according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19792914558
Other languages
English (en)
Inventor
Yonezoo Akaisi
Yuji Matsuoka
Hiroji Tokunaga
Masaru Watanabe
Masakazu Yoneyama
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Publication of DE2914558A1 publication Critical patent/DE2914558A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds
    • G03F7/021Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0212Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

PATEKTAKWXLTE
DR. E. WIPGAND DIPL-ING. W. NICMANN
DR. M. KÖHLER DIPL-ING. C. GERNHARDT 2914558
MDNCHEN HAMBURG TELEFON: 555476 8000 MÖNCHEN 2, TELEGRAMME: KARPATENT .^ MATHILDENSTRASSE 12
W. 434-28/79 - Ko/Ne
Fuji Photo Film Co., Ltd. Minami Ashigara-Shi, Kanagaxfa (Japan)
Lichtempfindliche lithographische Druckplatte
Die Erfindung betrifft eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte, die ein fluorhaltiges oberflächenaktives Mittel enthält, insbesondere eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte mit einer lichtempfindlichen Schicht von einheitlicher Stärke, die durch Auflösung oder Dispergierung einer lichtempfindlichen Masse in einem organischen Lösungsmittel zusammen mit einem fluorhaltigen oberflächenaktiven Mittel, Aufziehen der Masse auf einen Träger und Trocknen derselben erhalten wurde.
Gemäss der Erfindung wird eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte vorgeschlagen, welche einen Träger mit einer lichtempfindlichen Masse umfasst, wobei die lichtempfindliche Masse ein Polymeres mit einem auf
909842/0904
29U558
das Gewicht bezogenen Durchschnitt des Molekulargewichtes von 10 000 oder mehr mit einer Fluoralkylgruppe in der Haupt- oder Seitenkette desselben enthält.
Lichtempfindliche lithographische Druckplatten werden allgemein durch Aufziehen einer lichtempfindlichen, in einem organischen Lösungsmittel gelösten oder dispergierten Hasse auf die Oberfläche eines Trägers, beispielsweise in geeigneter Weise oberflächenbehandeltes Aluminium-, Papier- oder Kunststoffmaterial, und Trocknung desselben erhalten. Es ist absolut notwendig, dass eine einheitliche lichtempfindliche Schicht auf dem Träger beim Aufziehen und Trocknen der lichtempfindlichen Masse erhalten wird, damit das optimale Verhalten der erhaltenen lithographischen Druckplatte erzielt wird.
Es war äusserst schwierig, eine einheitliche lichtempfindliche Schicht beim Trocknen zu erhalten. In der Trocknungsstufe wird hinsichtlich Feuchtigkeit und Temperatur konditionierte Luft gegen die auf dem Träger aufgezogene lichtempfindliche Hasse geblasen, um das organische Lösungsmittel zu entfernen, so dass die lichtempfindliche Schicht gebildet wird. Die Stärke der getrockneten lichtempfindlichen Schicht ist auf Grund der durch den hinsichtlich Feuchtigkeit und Temperatur kondi— tionierten Luftstrom erzeugteuTurbulenz und Störung in der Schicht nicht einheitlich. Diese Ungleichheit ergibt eine Platte von schlechtem Aussehen und, falls sie als Druckplatte verwendet wird, können Fluktuierungen hinsichtlich der Dauerhaftigkeit, der Bildfestigkeit und Empfindlichkeit verursacht werden.
909842/09 04
29U558
Um die vorstehende Schwierigkeit der lichtempfindlichen Schicht zu überwinden, wird sie allgemein während eines langen Zeitraumes getrocknet, während die Geschwindigkeit der Trocknungsluft verringert wird. Auch ein Verfahren unter Anwendung von Trocknungsluft, worin die anfängliche Trocknungstemperatur niedriger ist und die letztere Trocknungstemperatur höher ist, sowie ein Verfahren zur Anwendung eines verhältnismässig hochsiedenden Lösungsmittels als organisches Lösungsmittel zur Auflösung oder Dispergierung der lichtempfindlichen Masse wurden versucht- Jedoch ist es selbst mit diesen Verfahren schwierig, die durch die Trocknungsluft verursachte Ungleichmässigkeit zu verhindern und, falls ein Träger von unbegrenzter Länge gefördert und kontinuierlich bei der Herstellung von lithographischen Druckplatten im Industriemasstab überzogen und getrocknet wird, ist eine grosse, lange und komplizierte Trocknungsausaäistung erforderlich. Die Wahl der Lösungsmittel stellt eine grosse Begrenzung hinsichtlich der lichtempfindlichen Masse selbst dar.
Eine Aufgabe der Erfindung besteht in einer lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte mit einer lichtempfindlichen Schicht von einheitlicher Dicke, welche durch Trocknung einer auf einem Träger aufgezogenen lichtempfindlichen Masse erhalten wurde.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einer lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte mit einer lichtempfindlichen Schicht von einheitlicher Stärke, wobei die auf dem Träger aufgezogene lichtempfindliche Masse innerhalb eines kurzen Zeitraumes getrocknet wird.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einer
909842/090*
lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte mit einer lichtempfindlichen Schicht von einheitlicher Dicke, welche durch Trocknung einer auf einem Träger aufgezogenen lichtempfindlichen Masse unter Anwendung einer einfachen Ausrüstung erhalten wurde.
Bei Untersuchungen zur Lösung der vorstehend aufgeführten Probleme ergaben sich nunmehr lichtempfindliche Massen, bei denen das Problem der .nicht-einheitlichen Dicke gelöst wird, welche in der Trocknungsstufe auftritt, wobei ein fluorhaltiges oberflächenaktives Mittel in der lichtempfindlichen Masse mitverwendet wird.
Die vorliegende Erfindung zeigt die besonders bemerkenswerten Effekte bei der Herstellung von lichtempfindlichen Druckplatten oder sogenannten vorsensibilisierten Platten, indem eine Bahn als Träger gefördert, kontinuierlich eine in einem organischen Lösungsmittel gelöste oder dispergierte lichtempfindliche Masse aufgezogen wird und getrocknet wird.
Die vorstehenden Träger umfassen dimensionsstabile plattenartige Materialien, wie sie üblicherweise als Träger für Druckplatten eingesetzt werden. Derartige Träger umfassen Papier, mit Kunststoffen, beispielsweise Polyäthylen, Polypropylen, Polystyrol und dgl., beschichtetes Papier, Metallplatten oder -bleche, beispielsweise aus AIuninium unter Einschluss von Aluminiumlegierungen, Zink, Eisen, Kupfer und dgl., Kunststoffolien, beispielsweise aus Gellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Cellulosebutyratacetat, Cellulosenitrat, Polyäthylenterephthalat, Polyäthylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat, Polyvinylacetal und dgl-, mit
909842/0904
29U558
den vorstehend angegebenen Metallen beschichtete oder im Vakuum abgeschiedene Papiere oder Kunststoffolien und dgl.
Der Träger wird erforderlichenfalls einer Oberflächenbehandlung, beispielsweise zur Erzielung von hydrophilen Eigenschaften, unterworfen. Verschiedene Behandlungen zur Erzielung der Hydrophilizität können angewandt werden. Beispiele für Kunststoffoberflächen sind sogenannte Oberflächenbehandlungsverfahren, wie chemische Behandlung, Entladungsbehandlung, !Flammbehandlung, Ultraviolettbehandlung, Hochfrequenzbehandlung, Glimmentladungsbehandlung, Aktivplasmabehandlung, Laserbehandlung und dgl., wozu auf die US-Patentschriften 2 764 520, 3 497 407, 3 145 242, 3 376 208, 3 072 483, 3 475 193, 3 360 448 und die britische Patentschrift 788 365 und dgl. verwiesen wird, sowie Verfahren zur Auftragung einer Grundierschicht auf die in dieser Weise behandelte Kunststoffoberfläche.
Die Überzugsverfahren sind gleichfalls gut entwickelt. Es gibt ein Doppelschichtverfahren zum Aufziehen einer hydrophoben Harzschicht, die gut an Kunststoffen haftet und eine gute Haftung zeigt und das anschliessende Aufziehen einer hydrophilen Harzschicht darauf, sowie ein Einzelschichtverfahren des Aufziehens einer Harzschicht, die sowohl hydrophobe als auch hydrophile Gruppen im gleichen Polymeren besitzt.
Im Fall der Anwendung eines Metalles oder eines metallüberzogenen Trägers, insbesondere eines Aluminiumträgers, wird es bevorzugt, eine Körnungsbehandlung auszuführen oder den Träger in eine wässrige Lösung von Natriumsilicat, Kaliumfluorzirconat, Phosphat und dgl. einzutauchen oder
909842/0904
29H558
eine anodische Oxidationsbehandlung durchzuführen. Eine Aluminiumplatte kann auch in eine wässrige Lösung von Natriumsilicat nach der Körnung entsprechend der US-Patentschrift 2 714- 066 oder in eine wässrige Lösung eines Alkalisilicats nach der anodischen Oxidationsbehandlung entsprechend der US-Patentschrift 3 181 461 eingetaucht werden. Diese beiden letzteren Verfahren werden bevorzugt angewandt.
Die vorstehend beschriebene anodische Oxidationsbehandlung wird beispielsweise ausgeführt, indem ein elektrischer Strom durch eine Elektrolytlösung einer wässrigen oder nicht-wässrigen Lösung einer anorganischen Säure, beispielsweise Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure, Borsäure und dgl., oder einer organischen Säure, beispielsweise Oxalsäure, Sulfaminsäure und dgl., oder deren Salzen allein oder in Kombination von zwei oder mehreren Materialien unter Anwendung einer Aluminiumplatte als Anode geführt wird.
Auch die Silicatelektrodenbehandlung entsprechend der US-Patentschrift 3 688 662 ist wirksam.
Diese Behandlungen zur Erzielung eines hydrophilen Charakters werden ausgeführt, um die Oberfläche des Trägers hydrophil zu machen und ausserdem eine schädliche Reaktion mit der darauf aufzubringenden lichtempfindlichen Masse zu verhindern und die Haftung zwischen der lichtempfindlichen Schicht und dem Träger zu verbessern.
Als organische auf den Träger aufzubringende lichtempfindliche Materialien können sämtliche verwendet werden,
909842/0904
29H558
die eine Änderung hinsichtlich der Löslichkeit- oder Quelleigenschaft zwischen einem Zustand vor und dem Zustand nach der Belichtung erleiden. Ganz besonders bevorzugte lichtempfindliche Massen sind die folgenden: Solche, die ein Diazoharz und eine Verbindung von hohem Molekulargewicht, beispielsweise Diazoharz und Schellack enthalten, wozu auf die japanische Patentanmeldung 24 404/72 verwiesen wird, Poly-(hydroxyäthylmethacrylat) und ein Diazoharz, ein Diazoharz und ein lösliches Polyamidharz, wozu auf die US-Patentschrift 3 751 257 verwiesen wird, eine lichtempfindliche Masse aus einem lichtempfindlichen Azidmaterial und einem Epoxyharz, wozu auf die US-Patentschrift 2 852 379 verwiesen wird, ein lichtempfindliches Azidmaterial und ein Diazoharz und dgl.,
lichtempfindliche Materialien, die lichtempfindliche Harze mit einer ungesättigten Doppelbindung innerhalb des Moleküls enthalten und zu einer Dimerisierungsreaktion bei der Aussetzung an aktinischem Licht fähig sind und dabei unlöslich werden, entsprechend beispielsweise Polyvinylcinnaraat, wie die in den britischen Patentschriften 843 545, 966 297 und der US-Patentschrift 2 725 372 beschriebenen Polyvinylcinnamatderivate,
lichtempfindliche Polyester, die durch Kondensation zwischen Bisphenol A und Divanillalcyclohexanon oder zwischen p-Phenylendiathoxyacrylat und 1,4-Di-ß-hydroxyäthoxycyclohexanon erhalten wurden, wie in der canadisehen Patentschrift 696 997 beschrieben,
Diallylphthalat-Präpolymere, wie in der US-Patentschrift 3 462 267 und dgl. beschrieben,
äthylenisch ungesättigte Verbindungen mit mindestens zwei ungesättigten Doppelbindungen innerhalb des Moleküls, die zur Polymerisationsreaktion nach Bestrahlung mit akti-
9098Ä2/09QA
nischem Licht fähig sind, wie ungesättigte Ester eines Polyols, wie in der US-Patentschrift 2 902 365 beschrieben, beispielsweise Äthylen-di(meth)-acrylat, Diäthylenglykoldi(meth)-acrylat, Glycerin-di(meth)acrylat, Glycerintri(meth)acrylat, 1,3-Propylen-di(meth)acrylat, 1,4-Cyclohexandiol-(meth)acrylat), 1,4-Benzoldiol-di(meth)acrylat, Pentaerythrit-tetra(meth)acrylat, 1,3-Propylenglykoldi(meth)acrylat, 1,5-Pentadiol-di(meth)acrylat), Pentaerythrit- tri(meth)acrylat und dgl., Bisacrylate und Bismethacrylate des Polyäthylenglykols mit einem Molekulargewicht von 50 bis 500, ungesättigte Amide, insbesondere a-Methylbenzolcarbonsäureamide, insbesondere α, ^/-Diamine und 4'-Diamine, die durch ein Sauerstoffatom unterbrochen sind, beispielsweise Methylen-bis(meth)acrylamid, Diäthylentriamin-tris(meth)acrylamid und dgl., Divinylsuccinat, Divinyladipat, Divinylphthalat, Divinylterephthalat, Divinylbenzol-1,3-disulfonat, und dgl., und geeignete Binder, wie Polyvinylalkohol oder Cellulosederivate mit Carboxygruppen in der Seitketten, beispielsweise Polyvinylhydrogenphthalat, Carboxymethylcellulose oder Methylmethacrylat/ Methacrylsäure-Copolymere sind wertvoll als lichtempfindliche Massen von negativ arbeitenden Typ, die bei der Einwirkung von aktinischem Licht unlöslich werden,
lichtempfindliche Materialien, die lichtempfindliche o-Diazoxidmaterialien entsprechend den US-Patentschriften 3 635 709, 3 061 430 und 3 061 120 enthalten, Phosphorwolf ramate von Diazoharzen, wie in der japanischen Patent-Veröffentlichung 7663/64 beschrieben, gelbe Prussiate der Diazoharze, wie in der US-Patentschrift 3 113 023 beschrieben, oder Diazoharz und Polyvxnylhydrogenphthalat, wie in der japanischen Patentanmeldung 18 812/65 beschrieben, enthalten und als positiv arbeitende lichtempfindliche Materialien wertvoll sind,
909842/0904
29U558
lichtempfindliche Massen, die ein lineares Polyamid und ein additionspolymerisierbares Monomeres mit ungesättigten Bindungen enthalten, die ebenfalls wertvoll sind.
Als besonders brauchbare lichtempfindliche Massen seien lichtempfindliche Massen aufgeführt, die ein Diazoharz und Sbhella client sprechend der britischen Patentschrift 1 350 enthalten, eine Masse, die ein Diazoharz und ein Hydroxyäthylmethacrylat-Copolymeres entsprechend der US-Patentschrift 4 123 276 enthält , und eine Masse, die Naphthochinondiazidosulfönsäure, verestertes Pyrogallol-Acetonharzprodukt und ein Novolakharz enthält.
Das charakteristische Merkmal der vorliegenden Erfindung liegt in der Einverleibung von fluorhaltigen oberflächenaktiven Mitteln in diese lichtempfindlichen Masse zur Vermeidung der Ungleichmässigkeit in der Stärke der aufgezogenen und getrockneten lichtempfindlichen Schicht. Besonders wirksame fluorhaltige oberflächenaktive Mittel sind Polymere mit einem auf das Gewicht bezogenen durchschnittlichen Molekulargewicht von 10 000 oder mehr, die eine Fluoralkylgruppe in der Seit- oder Hauptkette enthalten.
Beispielsweise können Fluoralkylacrylatpolymere, Fluoralkylmethacrylatpolymere, Copolymere hiervon mit pölymerisierbaren Verbindungen, wie Styrol, Äthylenfluorid/Methylmethacrylat-Copolymere und dgl. verwendet werden. Als Seitketten können Polyäthylenglykol, PoIypropylenglykol und dgl. zusätzlich zu den Fluoralkylgruppen eingeführt sein.
909842/0904
Die am stärksten bevorzugten fluorhaltigen oberflächenaktiven Mittel, die im Rahmen der Erfindung verwendet werden können, sind solche mit einem Durchschnittsmolekulargewicht von 10 000 bis 200 000, vorzugsweise 10 000 bis 100 000, und mit wiederkehrenden Einheiten der folgenden allgemeinen Formel (I) als wesentliche wiederkehrende Einheit :
CJ-O (I)
worin R^ ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, Rf eine Perfluoralkylgruppe mit 3 bis 14 Kohlenstoffatomen und m die Zahlen 0, 1, 2 oder 3 bedeuten.
Erläuternde Beispiele für Perfluoralkylgruppen entsprechend R« sind Perfluorpropylgruppen, Perfluorbutylgruppen, Perfluorhexylgruppen, Perfluorheptylgruppen, Perfluoroctylgruppen, Perfluordecylgruppen und dgl.
Das Polymere mit den wiederkehrenden Einheiten entsprechend der allgemeinen Formel (I) kann auch Comonomereinheiten enthalten, beispielsweise einen Acrylsäureester oder Methacrylsäureester eines Polyols, wie Polyäthylenglykolr, Polypropylenglykol- oder eines Äthylenglykol-Propylenglykol-Blockpolymeren. Diese Polymeren und deren Herstellungsverfahren sind in den TJS-Patentschriften 2 642 416 und 3 102 103 beschrieben, auf die hier besonders Bezug genommen wird.
909842/0904
29H558
Handelsübliche fluorhaltige oberflächenaktive Mittel zur Anwendung im Eahmen der Erfindung werden durch die Handelsprodukte Fluorad FC-4-30 und FC-431 der Minnesota Mining Manufacturing, Megafac C-I7I und FI73 der Dai Nippon Ink & Chemicals, Inc., Asahi Guard AG-710 der Asahi Glass Company, Ltd., und dgl. dargestellt.
Diese fluorhaltigen oberflächenaktiven Mittel werden vorzugsweise in einer Menge von etwa 0,05 bis 7 Gew.%, stärker bevorzugt etwa 0,2 bis 3,0 Gew.%, bezogen auf die lichtempfindliche Masse (Überzugsbestandteile ausschliesslich Lösungsmittel)>verwendet.
Die lichtempfindliche, das fluorhaltige oberflächenaktive Mittel enthaltende Masse wird in einem organischen Lösungsmittel gelöst oder dispergiert, auf einen der vorstehend beschriebenen Träger aufgezogen und getrocknet.
Als verwendbare organische Lösungsmittel werden solche mit einem Siedepunkt von etwa 40° C bis 180° C, insbesondere etwa 60° C bis 150° C, im Hinblick auf ihre Trocknungsvorteile gewählt.
Alkohole, wie Methylalkohol, Äthylalkohol, n- oder iso-Propylalkohol, n- oder iso-Butylalkohl und dgl., Ketone, wie Aceton, Methylethylketon, Methylpropylketon, Methylbutylketon, Methylamylketon, Methylhexylketon, Diäthylketon, Diisobutylketon, Cyclohexanon, Methylcyclohexanon, und dgl., Wasserstoffe, wie Benzol, Toluol, Xylol, Cyclohexan, Methoxybenzol und dgl., Ither, wie Methylcello solve, Äthylcellosolve, Butylcellosolve, Dioxan, Dimethyldioxan, und dgl., Acetate, wie Methylcellosolveacetat, Cellosolve-
9098 U2/0904
29U558
acetat, Äthylacetat, η- oder iso-Propylacetat, n- oder iso-Butylacetat, Äthylbutylacetat, Hexylacetat, und dgl., Halogenide, wie Methylendichlorid, ÄthylendiChlorid, Monochlorbenzol und dgl., Säureamide, wie Dimethylformamid, und dgl., können allein oder in Kombination verwendet werden.
Als Uberzugsverfahren kann das Walzenaufziehen, Eintauchüberziehen, Luftmesseraufziehen, Gravürüberziehen, Gravüroffsetüberziehen, Trichterüberziehen, Blattüberziehen, Abstreifblattüberziehen, Sprühüberziehen und dgl. angewandt werden. Die bevorzugte Überzugsmenge für die licht-
2 p
empfindliche Masse beträgt 10 ml/m bis 100 ml/m .
Die Trocknung wird unter Anwendung von erwäimter Luft bewirkt. Die Lufttemperatur beträgt etwa 30° C bis 200° C, insbesondere etwa 40° C bis 140° C. Die Trocknungstemperatur braucht nicht notwendigerweise bei einem Wert während der Trocknung gehalten werden, sondern kann stufenweise erhöht werden.
In einigen Fällen werden günstige Ergebnisse erhalten, wenn die Feuchtigkeit aus der Trocknungsluft entfernt wird. Die erhitzte Luft wird zu der überzogenen Oberfläche in einer Geschwindigkeit von etwa 0,1 m/sec bis 30 m/sec, insbesondere etwa 0,5 m/sec bis 20 m/sec?zügeführt.
Durch die vorliegende Erfindung wird die Ungleichmässigkeit der Stärke der lichtempfindlichen Schicht, die bei der Trocknung auftrat, vermieden,was dazu dient, das Verhalten als Druckplatte einheitlich zu machen und die Erzielung einer lichtempfindlichen Schicht mit einer einheitlichen Dicke innerhalb eines extrem breiten Bereichs von Trocknungsbedingungen ermöglicht, so dass die Trocknungs-
909842/090A
-Λ5-- .29H558
ausrüstung vereinfacht wird.
Die folgenden Beispiele dienen zur weiteren Erläuterung der Erfindung. Diese Beispiele dienen lediglich zur Erläuterung, ohne die Erfindung zu beschränken. Falls nichts anderes angegeben ist, sind sämtliche Teile, Prozentsätze, Verhältnisse und dgl. in den Beispielen auf das Gewicht bezogen.
Beispiel 1
Ein Aluminiumstreifen von 0,3 mm Dicke und 1000 mm Breite wurde durch eine wässrige 10%ige Trinatriumphosphatlösung bei 80° C während eines Zeitraumes von 1 Minute zur Entfettung geführt, dann einer Körnungsbehandlung unter Anwendung eines Schleifmittels und einer Bürste unterworfen, durch eine wässrige 2,5%ige Natriumsilicatlösung bei 70° C während eines Zeitraumes von 1 Minute geführt, mit Wasser gewaschen, getrocknet und zur Überzugsstufe geführt.
In der Überzugsstufe wurde die folgende Lösung hergestellt!
909842/0904
Teile
Naphthochinon-(1,2-)-diazo-(2)-5-sulfonsäure und verestertes Produkt eines PyroRallol-Acetonharzes (beschrieben in der US-Patentschrift 3 635 709 * Beispiel 1)
Cre so1-Kovo1akharζ
ölblau Hr. 603 (Produkt der Orient Chemical Industries Co., Ltd.)
Fluorhaltiges oberflächenaktives Mittel
Methylglykol
Methyläthylketon
2,6 0,03
Tabelle I 23 23
Die vorstehend aufgeführte Überzugslösung wurde kontinuierlich auf den gekörnten Aluminiumstreifen zu einer
Menge von 30 g/m aufgezogen und durch eine Trocknungszone im Verlauf von 2 Minuten geführt, worin heisse Luft von 100° C zugeführt wurde. Dadurch wurden getrocknete
lichtempfindliche Schichten gebildet.
909842/0904
Tabelle I zugesetzte
Menge
(Teile)
Zustand der
lichtempfindlichen
■ Fluorhaltiges oberflächenaktives
Mittel
0 Schicht
Bezeichnung 0,01 Starke streifen
artige Ungleich-
mässigkeit
ohne (Vergleichs
beispiel)
0,20 einheitlich ohne
Ungleichmässig-
keit
Fluorad FC-430 0,05 geringe Ungleich-
mässigkeit
Asahi Guard AG-710 einheitlich ohne
Ungleichmässig-
keit
Megafac F-I71
Wie sich aus der vorstehenden Tabelle ergibt, wurde durch den Zusatz der fluorhaltigen oberflächenaktiven . Mittel die Einheitlichkeit der Dicke der lichtempfindlichen Schicht stark verbessert.
In Bahnform nach der Trocknung geschnittene lichtempfindliche lithographische Druckplatten zeigten eine einheitliche ausgezeichnete Empfindlichkeit, Dauerhaftigkeit und dgl· als Druckplatten vom Positivtyp·
Beispiel 2
Die folgende Überzugslösung wurde anstelle der in Beispiel 1 beschriebenen hergestellt.
909842/0904
23U558
Teile Teile
2-Hydroxyathylmethacrylat-Copolymeres (beschrieben in TJS-patentschrift 4 123 276, Beispiel 1) 1,75
2-Methoxy-A—hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäuresalz eines Kondensats von p-Diazodiphenylamin
und Formaldehyd 0,2
ölblau Nr. 603 (Produkt der
Orient Chemical Industries Co.,
Ltd.) 0,05
Fluorhaltiges oberflächenaktives Tabelle II
Mittel 24
Methylglykol 24
Methanol
Die vorstehend aufgeführte Überzugslösung wurde kontinuierlich auf den Aluminiumstreifen in einer Menge von g/m aufgezogen und durch eine Trocknungszone geführt, worin heisse Luft von 80° C während 1 Minute zugeführt wurde, dann durch eine Trocknungszone, worin heisse Luft von 100° C während 1 Minute zugeführt wurde. Dabei wurden trockene lichtempfindliche feste Schichten gebildet.
909842/0904
-2SU558
Fluorhaltiges
Mittel
Tabelle II Zustand der
lichtempfindlichen
Probe-
Nr.
Bezeichnung oberflächenaktives Schicht
ohne zugesetzte
Menge
(Teile)
Stark ausgeprägte
Ungleichmä s sigkeit
5 Fluorad FC-4-30 0 Einheitlich ohne
Ungleichmässigkeit
6 Fluorad FC-4-31 0,01 Einheitlich ohne
Ungleichmässigkeit .
7 Megafac F-171 0,02 Einheitlich ohne
Ungleichmässigkeit
8 Megafac F-173 0,05 Einheitlich ohne
Ungleichmässigkeit
9 0,05
Wie vorstehend gezeigt, dient die Zugabe der fluoraaltigen oberflächenaktiven Mittel zur starken Verbesserung der Einheitlichkeit der Dicke der lichtempfindlichen Schicht.
In Platten nach der Trocknung geschnittene lichtempfindliche lithographische Druckplatten zeigten eine einheitliche ausgezeichnete Empfindlichkeit und Dauerhaftigkeit als Druckplatten von Negativtyp.
Die Erfindung wurde vorstehend anhand bevorzugter Ausführungsformen beschrieben, ohne dass sie hierauf begrenzt ist.
309842/030A

Claims (14)

  1. Patentansprüche
    Lichtempfindliche lithographische Druckplatte, bestehend aus einem Träger mit einer darauf befindlichen lichtempfindlichen Masse, dadurch gekennzeichnet, dass die lichtempfindliche Masse ein Polymeres mit einem auf das Gewicht bezogenen durchschnittlichen Molekulargewicht von 10 000 oder mehr mit einer Fluoralkylgruppe in der Seitoder Hauptkette desselben enthält.
  2. 2. Lithographische Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das fluorhaltige oberflächenaktive Mittel in der lichtempfindlichen Masse in einer Menge von etwa 0,05 bis 7 Gew.%, bezogen auf das Gewicht der Masse ausschliesslich des eventuell vorhandenen Lösungsmittels, vorliegt.
  3. 3« Lithographische Druckplatte nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass das fluorhaltige oberflächenaktive Mittel in der lichtempfindlichen Masse in einer Menge von etwa 0,02 bis 3 Gew.%, bezogen auf das Gewicht der lichtempfindlichen Masse ausschliesslich eventuell vorhandenen Lösungsmittels, vorliegt.
  4. 4·. Lithographische Druckplatte nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Träger aus Papier, kunststoffüberzogenem Papier, Metallplatten, Kunststofffolien oder mit Metall überzogenen Papieren oder Kunststoffolien besteht.
  5. 5- Lithographische Druckplatte nach Anspruch 1 bis 4-, dadurch gekennzeichnet, dass der Träger zur Verbesserung
    909842/0904
    29U558
    der Haftung zwischen Träger und lichtempfindlicher Schicht oberflächenbehandelt ist.
  6. 6. Lithographische Druckplatte nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass der Träger aus Aluminium besteht.
  7. 7· Lithographische Druckplatte nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberfläche des Aluminiumträgers gekörnt ist.
  8. 8. Lithographische Druckplatte nach Anspruch 7» dadurch gekennzeichnet, dass der Träger einer anodischen Oxidation unterzogen wurde.
  9. 9· Lithographische Druckplatte nach Anspruch i bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Polymere ein Durchschnittsmolekulargewicht von 10 000 oder mehr besitzt und wiederkehrende Einheiten der folgenden allgemeinen Formel (I)
    2 (I)
    C-O
    m- Hf
    worin R1 ein Vaeserstoff atom oder eine Methylgruppe, Rf eine Ferfluoralkylgruppe mit 3 bis 14 Kohlenstoff atomen und m die Zahlen 0, 1, 2 oder 3 bedeuten, enthält.
  10. 10. Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte mit einer lichtempfindlichen
    909842/090*
    --2Θ -
    29H558
    Schicht von einheitlicher Stärke, dadurch gekennzeichnet, dass ein fluorhaltiges oberflächenaktives Mittel zu der Masse für die lichtempfindliche Schicht zugesetzt wird, die Masse auf einen Träger aufgezogen wird und die Masse getrocknet wird.
  11. 11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Trocknung durch Anwendung eines Stromes aus erhitzter Luft auf den überzogenen Träger durchgeführt wird.
  12. 12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass die erhitzte Luft auf den überzogenen Träger mit einer Geschwindigkeit von etwa 0,1 m/sec bis 30 m/sec gerichtet wird.
  13. 13- Verfahren nach Anspruch 10 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass das Überziehen durch Walzenüberziehen, Eintauchüberziehen, Luftmesserüberziehen, Gravürüberziehen, Gravüroffsetüberziehen, Trichterüberziehen, Blattüberziehen, Drahtblattüberziehen, Sprühüberziehen oder dgl. durchgeführt wird.
  14. 14. Verfahren nach Anspruch 10 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Masse in einer Menge von etwa 10 ml/m bis 100 ml/m aufgezogen wird.
    15· Lithographische Druckplatte nach Anspruch 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass das oberflächenaktive Mittel aus einem Fluoralkylmethacrylatpolymeren, einem Fluoralkylacrylatpolymeren, einem Copolymeren hiervon mit einem hiermit polymerisierbaren Monomeren.oder einem ithylenf luorid/Me thylmethacryl atpolymeren be steht.
    909842/0904
DE19792914558 1978-04-10 1979-04-10 Lichtempfindliche lithographische druckplatte Pending DE2914558A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4200478A JPS54135004A (en) 1978-04-10 1978-04-10 Photosensitive flat printing plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2914558A1 true DE2914558A1 (de) 1979-10-18

Family

ID=12624039

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19792914558 Pending DE2914558A1 (de) 1978-04-10 1979-04-10 Lichtempfindliche lithographische druckplatte

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPS54135004A (de)
DE (1) DE2914558A1 (de)
GB (1) GB2023858A (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0042105A1 (de) * 1980-06-14 1981-12-23 Hoechst Aktiengesellschaft Lichtempfindliches Kopiermaterial und Verfahren zu seiner Herstellung
DE3215112A1 (de) * 1981-04-27 1982-11-11 Konishiroku Photo Industry Co., Ltd., Tokyo Lichtempfindliche lithographische druckplatte
EP0206261A2 (de) * 1985-06-28 1986-12-30 Hoechst Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung einer strahlungsempfindlichen Schicht auf einem Schichtträger

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5660441A (en) * 1979-10-22 1981-05-25 Asahi Chem Ind Co Ltd Photosensitive resin composition improved in water development property and manufacture of photosensitive resin plate using this composition
JPS589146A (ja) * 1981-07-09 1983-01-19 Nippon Paint Co Ltd 水不要平版用版材
JPS58205149A (ja) * 1982-05-26 1983-11-30 Daikin Ind Ltd 溶解速度差現像液の像鮮明性増大剤
JPS5980468A (ja) * 1982-10-29 1984-05-09 Asahi Glass Co Ltd 農園芸用フイルム
JPS59137943A (ja) * 1983-01-28 1984-08-08 W R Gureesu:Kk 感光性樹脂組成物
JPS59142547A (ja) * 1983-02-02 1984-08-15 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 溶解速度差現像液の像鮮明性増大剤
JPS59155836A (ja) * 1983-02-24 1984-09-05 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性組成物
US4526856A (en) * 1983-05-23 1985-07-02 Allied Corporation Low striation positive diazoketone resist composition with cyclic ketone(s) and aliphatic alcohol as solvents
JPS59222843A (ja) * 1983-06-01 1984-12-14 Toray Ind Inc ネガ型湿し水不要平版印刷版の製法
US4661436A (en) * 1983-06-17 1987-04-28 Petrarch System, Inc. Process of forming high contrast resist pattern in positive photoagent material using alkalai developer with fluorocarbon surfactant
JPS61226746A (ja) * 1985-03-30 1986-10-08 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 半導体集積回路製造用のスピンコート用レジスト組成物
JPS61226745A (ja) * 1985-03-30 1986-10-08 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 半導体集積回路製造用のスピンコート用レジスト組成物
JPH081517B2 (ja) * 1985-04-25 1996-01-10 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
US5215857A (en) * 1985-08-07 1993-06-01 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. 1,2-quinonediazide containing radiation-sensitive resin composition utilizing methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate or methyl 3-methoxypropionate as the solvent
US5238774A (en) * 1985-08-07 1993-08-24 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Radiation-sensitive composition containing 1,2-quinonediazide compound, alkali-soluble resin and monooxymonocarboxylic acid ester solvent
JPS62123444A (ja) 1985-08-07 1987-06-04 Japan Synthetic Rubber Co Ltd ポジ型感放射線性樹脂組成物
JPH0721626B2 (ja) * 1985-08-10 1995-03-08 日本合成ゴム株式会社 半導体微細加工用レジスト組成物
JPH083630B2 (ja) * 1986-01-23 1996-01-17 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH06105351B2 (ja) * 1986-03-27 1994-12-21 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH0762761B2 (ja) * 1986-03-28 1995-07-05 富士写真フイルム株式会社 画像形成材料
EP0273026B2 (de) 1986-12-23 2003-08-20 Shipley Company Inc. Lösungsmittel für Photolack-Zusammensetzungen
US5128230A (en) * 1986-12-23 1992-07-07 Shipley Company Inc. Quinone diazide containing photoresist composition utilizing mixed solvent of ethyl lactate, anisole and amyl acetate
JPH06105350B2 (ja) * 1987-07-13 1994-12-21 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用感光性組成物
JP2002072474A (ja) 2000-08-29 2002-03-12 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
EP1235106B1 (de) 2001-02-08 2011-12-07 FUJIFILM Corporation Vorläufer für eine lithographische Druckplatte
US6787286B2 (en) * 2001-03-08 2004-09-07 Shipley Company, L.L.C. Solvents and photoresist compositions for short wavelength imaging
JP2002296774A (ja) 2001-03-30 2002-10-09 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP4141120B2 (ja) * 2001-08-16 2008-08-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版用原版
JP4216494B2 (ja) 2001-09-21 2009-01-28 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0042105A1 (de) * 1980-06-14 1981-12-23 Hoechst Aktiengesellschaft Lichtempfindliches Kopiermaterial und Verfahren zu seiner Herstellung
EP0042105B1 (de) * 1980-06-14 1986-07-30 Hoechst Aktiengesellschaft Lichtempfindliches Kopiermaterial und Verfahren zu seiner Herstellung
DE3215112A1 (de) * 1981-04-27 1982-11-11 Konishiroku Photo Industry Co., Ltd., Tokyo Lichtempfindliche lithographische druckplatte
EP0206261A2 (de) * 1985-06-28 1986-12-30 Hoechst Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung einer strahlungsempfindlichen Schicht auf einem Schichtträger
EP0206261A3 (en) * 1985-06-28 1987-09-02 Hoechst Aktiengesellschaft Photosensitive coating composition and process for producing a photosensitive layer on a support

Also Published As

Publication number Publication date
JPS54135004A (en) 1979-10-19
GB2023858A (en) 1980-01-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2914558A1 (de) Lichtempfindliche lithographische druckplatte
DE2606793C2 (de) Vorsensibilisierte Druckplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE3705342C2 (de) Positiv arbeitendes lichtempfindliches Gemisch
EP0042104B1 (de) Lichtempfindliches Kopiermaterial und Verfahren zu seiner Herstellung
DE3009929C2 (de) Korrekturmittel für lithographische Druckformen und dessen Verwendung in einem Verfahren zum Korrigieren von lithographischen Druckformen
DE2725762C2 (de) Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform
EP0689941B1 (de) Hydrophiliertes Trägermaterial und damit hergestelltes Aufzeichungsmaterial
EP0042105B1 (de) Lichtempfindliches Kopiermaterial und Verfahren zu seiner Herstellung
DE2512933C2 (de) Lichtempfindliche Flachdruckplatte
EP0069318A2 (de) Polyvinylmethylphosphinsäure, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
DE2638710C2 (de) Vorsensibilisierte Druckplatte
DE2519403A1 (de) Traegermaterial und dessen verwendung in einem photographischen aufzeichnungsmaterial
DE3710210A1 (de) Bilderzeugendes material
DE2634412C2 (de) Lithographische Druckplatte
DE2305231C3 (de) Verfahren zur Herstellung einer vorsensibilisierten lithographischen Druckplatte
DE2711239C2 (de)
DE4023268A1 (de) Hydrophile mischpolymere sowie deren verwendung in der reprographie
DE4203208A1 (de) Beschichtungsmittel fuer kunststoffolien
DE3319991C2 (de)
EP0190643A2 (de) Hydrophilierte Trägermaterialien für Offsetdruckplatten, ein Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
DE4023267A1 (de) Platten-, folien- oder bandfoermiges traegermaterial fuer offsetdruckplatten, verfahren zu seiner herstellung und seine verwendung
EP0468310B1 (de) Thermisch vernetzbare hydrophile Mischpolymere sowie deren Verwendung in der Reprographie
EP0468311B1 (de) Hydrophile Mischpolymere sowie deren Verwendung in der Reprographie
DE1522515C2 (de) Verfahren zur Herstellung gedruckter Schaltungen
EP0442386B1 (de) Strahlungsempfindliches Gemisch, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von Reliefaufzeichnungen

Legal Events

Date Code Title Description
OHN Withdrawal