DE3009929C2 - Korrekturmittel für lithographische Druckformen und dessen Verwendung in einem Verfahren zum Korrigieren von lithographischen Druckformen - Google Patents
Korrekturmittel für lithographische Druckformen und dessen Verwendung in einem Verfahren zum Korrigieren von lithographischen DruckformenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Korrekturmittel für lithographische Druckformen, das ein Lacton mit 4 bis 6
Kohlenstoffatomen enthält, sowie dessen Verwendung in einem Verfahren zum Korrigieren von lithographischen
Druckformen.
Aus der DE-OS 23 64 037 (entsprechend der GIJ-PS 14 08 709) ist ein Korrekturmittel für lithouniiihisiiii.·
Druckformen bekannt, das ein Lacton mit 3 bis 6 Kohlenstoffatomen enthält. Es wird auf eine lithographische
Druckform aufgetragen, deren lichtempfindliche Schicht eine o-Chinondiazidverbindung enthält.
Aus der DE-AS 18 17 416 (entsprechend der GB-PS 12 72 868) ist ein Korrekturmittel für eine photochemisch
hergestellte lithographische Druckform bekannt, das
(1) 20 bis 60 Gew.-% Glykol, Polyglykol.Glykolätheroder Polyglykoläther,
(2) 10 bis 50 Gew.-% eines anderen neutralen organischen Lösungsmittels ais den unter (1) aufgeführten,
(3) 3 bis 25 Gew.-% Wasser,
(4) 0,5 bis 15 Gew.-°/o einer Säure oder einer in wäßriger Lösung sauber reagierenden Substanz und
(5) 5 bis 25 Gew.-% eines Verdickungsmittel
enthält, wobei die unter (1) (2) und (3) aufgeführten Flüssigkeiten in solchen Anteilen gewählt werden, daß sie
miteinander vollständig mischbar sind.
Aus der DE-OS 25 04 130 sind ein Verfahren und ein Entwickler zum Entwickeln einer lichtempfindlichen
Flachdruckplatte bekannt, in denen ein Entwickler verwer.det wird, dessen Komponenten bei Atmosphärendruck
einen Siedepunkt oberhalb 80° C aufweisen.
Die bekannten Korrekturmittel für lithographische Druckformen haben den Nachteil, daß die damit erzielbare
Korrekturgeschwindigkeit unzureichend ist und darüber hinaus greifen die Dämpfe der darin enthaltenen
Lösungsmittel Pinsel und ähnliche Auftragseinrichtur.gen an, die zum Auftragen des Korrekturmittels auf einen
speziellen Tes? des Bildbereiches der lithographischen Druckform verwendet werden. Darüber hinaus bringen
sie Gefahren für die Gesundheit und die u'mweit mit sich.
Aufgabe der Erfindung war es daher, die bekannten Korrekturmittel für lithographische Druckformen so
weiter zu entwickeln, daß sie eine schnelle Entfernung der Teile des Bildbereiches, die entfernt werden sollen,
unter Erzielung einer höheren Randschärfe erlauben, ohne die benachbarten Bildteile in nachteiliger Weise zu
beeinflussen.
Es wurde nun gefunden, daß di;vse Aufgabe erfindungsgemäß gelöst werden kann mit einem Korrekturmittel
für lithographische Druckformen, das enthält
(a) ein Lacton mit 4 bis 6 Kohlenstoffatomen,
das dadurch gekennzeichnet ist, daß es zusätzlich enthält
(b) einen Glykoläther oder ein Keton,
und durch dessen Verwendung in einem Verfahren zum Korrigieren von lithographischen Druckformen, bei
dem das vorgenannte Korrekturmittel auf die unerwünschten Bildbereiche der Druckform aufgebracht wird.
Mit dem erfindungsgemäßen Korrekturmittel ist es möglich, lithographische Druckformen von unerwünschten
Bildteilen schnell und gefahrlos zu befreien unter Erzielung einer hohen Randschärfe, so daß die benachbarten
Bildbereiche, die nicht entfernt werden sollen, nicht in nachteiliger Weise beeinflußt werden.-Jas erfindungsgemäße
Korrekturmittel bietet ferner den Vorteil, daß es ohne Verwendung gesundheitsschädlicher oder
umweltschädlicher Lösungsmittel auskommt.
Das erfindungsgemäße Korrekturmittel kann zusätzlich noch die folgenden Komponenten enthalten:
(c) ein anderes organisches Lösungsmittel als ein Lacton, einen Glykoläther oder ein Keton,
(d) eine saure Verbindung,
(e) ein wasserlösliches hochmolekulares Material,
(f) ein oberflächenaktives Mittel,
(g) Wasser,
(h) ein Färbemittel und/oder
(i) ein Viskositätseinstellungsmittel.
Die Komponenten (a) bis (i) des erfindungsgemäßen Korrekturmittels werden nachfolgend näher erläutert.
Beispiele für die Komponente (a), das Lacton mit 4 bis 6 Kohlenstoffatomen, sind Butyrolacton, Valerolacton
und Hexanolacton. ^-Butyrolacton ist bevorzugt. Diese Lactone können einzeln oder als Gemisch verwendet
werden.
Die als Komponente (b) eingesetzten Glykoläther haben vorzugsweise einen Siedepunkt oberhalb 120 bis
300"C und haben besonders bevorzugt einen Siedepunkt von 140 bis 2500C. Selbstverständlich müssen sie bei
den Temperaturen, bei denen sie verwendet werden, flüssig sein und in den meisten Fällen schmelzen die
nachfolgend aufgeführten Äther bei Temperaturen unterhalb 80C und in praktisch sämtlichen Fällen unterhalb
0"C. Erläuternde Beispiele sind Glykolmonoalkyläther, beispielsweise mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen im Alkylrest,
wie
2-Methoxyäthanol, 2-Äthoxyäthanol, 2-lsopropoxyäthano! und 2-Butylglykol, Glykolmonoaryläther, wie
2-Phenyläthanol, Diglykolmonoalkyläther, beispielsweise mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen im Alkylrest, wie
Diäthylenglykolmonomethyläther, Diäthylenglykolmonoäthyläther, Diäthylenglykolmonoisopropyläther,
Diathylcnglykolmonobutylätherund Diäthylenglykolmonoisobutyläther.Triglykolmonoalkyläther,
beispielsweise mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen im Alkylrest, wieTriäthylenglykolmonomethyläther,
TiiüthylcnglykolmonoäthylätherundTriäthylenglykolmonobutyläther, Äthylenglykoldialkyläther,
beispielsweise mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen im Alkylrest, wie Athylenglykoldimethyläther und
Diäthylenglykoldialkyläther, vorzugsweise mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen im Alkylrest, wie
Diäthylenglykoldimethyläther und Diäthylenglykoldiäthyläther.
Diäthylenglykoldimethyläther und Diäthylenglykoldiäthyläther.
Die als Komponente (b) verwendbaren Ketone haben vorzugsweise gleiche Schmelz- und Siedepunkte, wie
vorstehend angegeben. Erläuternde Beispiele sind
Methylbutylketon, Methylisobutylketon, Äthylbutylketon, Butyron, Methylamylketon, Methylhexylketon.
Valeion, Mesityloxid, Diacetonalkohol,Cyclohexanon,Methylcyclohexanon, Isophoron, Acetylaceton und
Acetonylaccto.n.
Die als Komponente (b) eingesetzten Verbindungen können einzeln oder im Gemisch verwendet werden, wobei
z. B. ein Gemisch aus einem Glykoläther und einem Keton gleichfalls eingeschlossen ist
Von den als Komponente (b) eingesetzten Verbindungen werden solche mit einem Siedepunkt von mindestens
140c C bevorzugt und Glykoläther, die höchstens einen geringen unangenehmen Geruch haben, besonders
bevorzugt eingesetzt.
Das Verhältnis der Komponenten (a) zu (b) kann innerhalb eines breiten Bereiches gewählt werden. Ein
geeignetes Verhältnis, bezogen auf das Gewicht, beträgt 4 :1 bis 1 :5, vorzugsweise 3 :1 bis 4 und insbesondere
2 :1 bis 1 :3. Die Summe der beiden Komponenten beträgt 15 Gew.-% bis 100 Gew.-%, vorzugsweise 30 bis
90 Gew.-°/o und besonders bevorzugt 45 bis 75 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des erfindungsgemäßsn
Korrekturmittels.
Beispiele für organische Lösungsmittel, die als GegebenenfaUs-Komponente (c) außer den Komponenten (a)
und (b) verwendet werden können, sind solche mit einem Siedepunkt im Bereich von 120 bis 400° C, beispielsweise
Toluol, Xylol, Terpentinöl, n-Heptan und Kohlenwasserstofflösungsmittel, vorzugswei·. s Kerosin und Naphtha,
die Erdölfraktionen mit einer Siedetemperatur zwischen ί 20 und 250" C darstellen.
Diese Lösungsmittel können einzeln oder im Genisch verwendet werden. Das organische Lösungsmittel als
Komponente (c) wird in einer Menge von nicht mehr als 20 Gew.-%, vorzugsweise 3 bis 15 Gew.-%, bezogen auf
das Gesamtgewicht des erfindungsgemäßen Korrekturmittels, verwendet Die organischen Lösungsmittel bewirken
die Auflösung der Druckfarbe, wenn das Korrekturmittel auf die mit Druckfarbe überzogene Druckform
aufgebracht wird. Derartige Lösungsmittel liegen bevorzugt in den Korrekturmitteln gemäß der Erfindung vor.
Das Korrekturmittel gemäß der Erfindung zeigt seine volle Wirksamkeit unter sauren Bedingungen, vorzugsweise
bei einem pH-Wert von 1 bis 5 und besonders bevorzugt, bei 1 bis 3. Da das als Komponente (a) in das
Korrekturmittel gemäß der Erfindung einverleibte Lacton in wäßriger Lösung dissoziiert und sauer reagiert,
brauchen zusätzliche saure Substanzen, die nicht nur die allgemein als Säuren bezeichneten Substanzen umfassen,
sondern auch solche Substanzen, die in wäßriger Lösung sauer reagieren, wie sie nachfolgend als Komponente
(d) aufgeführt sind, nicht zwingend in das Lösungsmittel einverleibt zu werden, ausgenommen, um den
vorstehend angegebenen bevorzugten pH-Bereich zu erzielen.
Bevorzugte Beispiele für als Komponente (d) verwendbare saure Substanzen sind Mineralsäuren, wie
Phosphorsäure. Schwefelsäure und Salpetersäure sowie organische Säuren, wie Zitronensäure, Tanninsäure,
Apfelsäure, Essigsäure, Milchsäure, Oxalsäure und p-Toluolsulfonsäurc. Phosphorsäure ist besonders bevorzugt
und sie kann in das Korrekturmittel gemäß der Erfindung in einer Menge von 0,5 bis 20 Gew.-%, stärker
bevorzugt 2 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Mittels, einverleibt werden.
Die Korrekturmittel gemäß der Erfindung können ferner ein wasserlösliches hochmolekulares Material als
Komponente (e) enthalten, um bessere Eigenschaften zu erzielen, damit es sich beispielsweise besser ausbreitet
(gut fließt), wenn es auf eine lithographische Druckform mit einem Pinsel aufgetragen wird, jedoch nicht in die
notwendigen, nicht zu entfernenden Teile des Bildbereiches.
Bevorzugte Beispiele für wasserlösliche hochmolekulare Materialien sind
Polyvinylpyrrolidon, Methylcellulose, Polyvinylmethyläther,
VinylrniMhyläther/Maleirsäureanhydrid-Copolymere, Polyäthylenglykol, Polypropylenglykol,
VinylrniMhyläther/Maleirsäureanhydrid-Copolymere, Polyäthylenglykol, Polypropylenglykol,
Vinylacetat/Maleinsäureanhydrid-CopolymereundOxyäthylen/Oxypropylen-Blockcopolymere.
Besonders bevorzugte wasserlösliche hochmolekulare Materialien sind
Besonders bevorzugte wasserlösliche hochmolekulare Materialien sind
Methylcellulose, Polyäthylenglykol, Polypropylenglykol und Oxyäthylen/Oxypropylen-Blockpolymere.
Diese wasserlöslichen hochmolekularen Materialien können einzeln oder im Gemisch verwendet werden. Sie können in Mengen von 0,5 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise 1 bis 5 Gew.-°/P; bezogen auf das Gesamtgewicht des erfindungsgemäßer Korrekturmittels, verwendet werden.
Diese wasserlöslichen hochmolekularen Materialien können einzeln oder im Gemisch verwendet werden. Sie können in Mengen von 0,5 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise 1 bis 5 Gew.-°/P; bezogen auf das Gesamtgewicht des erfindungsgemäßer Korrekturmittels, verwendet werden.
Das Korrekturmittel gemäß der Erfindung kann gegebenenfalls als Komponente (f) ein oberflächenaktives
Mittel enthalten. Die Komponente (f) ermöglicht, daß die A-ekeren Komponenten des Korrekturmittels gemäß
der Erfindung ausreichend den Bildbereich der lithographischen Druckform, worauf sie aufgetragpn sind,
durchdringen und eine stabile Lösung auf Grund ihrer innigen Vermischung bilden.
Anionische und nicht-ionische oberflächenaktive Mittel werden mit Vorteil als Komponente (f) verwendet.
Erläuternde Beispiele für bevorzugte anionische oberflächenaktive Mittel sind
Salze von Alkylsulfatestern, Alkylbenzolsulfonatsalze, Alkylnaphthalinsulfonatsaize, Salze von
Dialkylsulfosiccinatestern, Salze von Alkylphosphatestern, Naphthalinsulfonsäure/Formalin-Kondensate
und Salze von Polyoxyäthylenalkylsulfatestern.
Dialkylsulfosiccinatestern, Salze von Alkylphosphatestern, Naphthalinsulfonsäure/Formalin-Kondensate
und Salze von Polyoxyäthylenalkylsulfatestern.
Erläuternde Beispiele für bevorzugte nicht-ionische oberflächenaktive Mittel sind
Polyoxyäthylenalkyläther, Polyoxyäthylenalkylphenyläther, Polyoxyäthylen/alipahtische Säure- Ester,
Sorbitan/aliphatische Säure-Ester, Polyoxyäthylensorbitan/aliphatische Säure-Ester, Glycerin/aliphalischc Säure -Ester, Oxyäthylen/Oxypropylen-Blockcopolymere.
Sorbitan/aliphatische Säure-Ester, Polyoxyäthylensorbitan/aliphatische Säure-Ester, Glycerin/aliphalischc Säure -Ester, Oxyäthylen/Oxypropylen-Blockcopolymere.
Hiervon zeigen oberflächenaktive Mittel mit einem HLB-Wert von mindestens 3 hohe Benelzungseigcnschafl
und werden mil besonderem Vorteil verwendet. Diese oberflächenaktiven Mittel können einzeln oder im
Gemisch verwendet werden. Zweckmäßig werden sie in einer Menge von 0,5 bis 20 Gew.-%, vorzugsweise 3 bis
15 Gew.-%, eingesetzt, bezogen auf das Gesamtgewicht des Korrekturmittels gemäß der Erfindung.
Die Korrekturmittel gemäß der Erfindung können ferner Wasser als Komponente (g) enthalten und sie
enthalten dieses bevorzugt. Das Wasser begünstigt die Auflösung des als Komponente (e) verwendeten wasserlöslichen
hochmolekularen Materials, erhöht die Aktivität der als Komponente (d) verwendeten sauren Substanz
oder ist zur Bildung eines stabilen Gemisches der anderen Komponenten wirksam. Das Wasser wird in einer
Menge von 0,5 bis etwa 20 Gew.-%, vorzugsweise 1 bis 10Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des
erfindungsgemäßen Korrekturmittels, eingesetzt.
Gegebenenfalls wird ein Färbungsmittel (h) in das Korrekturmittel gemäß der Erfindung einverleibt, um das
Mittel mit dem gewünschten Farbton und damit visuellem Kontrast auszurüsten, wobei die Farbstoffe unter
einer großen Vielzahl von Farbstoffen ausgewählt werden können. Wirksame und auch bevorzugte Farbstoffe
sind Indikatorfarbstoffe, die tiefblaue, violette und rote Farben liefern. Es ist zu betonen, daß der Zusatz dieser
Färbungsmittel nur gegebenenfalls erfolgt. Falls sie verwendet werden, liegt ihre Menge im Bereich vom 0,001
bis 0,01 Gew.-%, vorzugsweise von 0,004 bis 0,008 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des erfindungsgemäßen
Korrekturmittels.
Das erfindungsgemäße Korrekturmittel kann ferner ein Viskositätseinstellungsmittel als Komponente (i)
enthalten. Die Komponente (i) verleiht dem Korrekturmittel gemäß der Erfindung thixotrope Eigenschaften zur
Erzielung einer besseren Schreibqualität und das erhaltene Korrekturmittel fällt nicht in Tropfen von einem
Pinsel oder einem ähnlichen Autragungsgerät, womit es auf den gewünschten Teil des Bildbereiches einer
lithographischer: Druckplatte aufgebracht wird. Ein Te·' des als Komponente (e) verwendeten wasserlöslichen
hochmolekularen Materials wirkt auch als Komponente (i), jedoch ist es bevorzugt, ein feines Pulver von
Kieselsäure zuzusetzen wegen dessen günstigen Verhaltens als Viskositätseinstellungsmittel. Die Kieselsäure
kann in einer Menge von 1 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise 3 bis 6 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des
erfindungsgemüßen Retuschiermittels, verwendet werden.
Das Korrekturmittel gemäß der Erfindung wird mit besonderem Vorteil zum Entfernen bzw. Ausradieren
eines Teiles des Bildbereiches einer aus einer PS-Platte hergestellten lithographischen Druckform verwendet,
die auf einem Träger eine lichtempfindliche Schicht mit dem Gehalt einer o-Chinondiazidverbindung enthält.
Derartige PS-Platten werden nachfolgend deshalb näher beschrieben.
Beispiele für Träger für die PS-Platte sind
Metalibleche, beispielsweise aus Auluminium unter Einschluß von Aluminiumlegterungen, Zink und Kupfer
sowie Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Celluloseacetatbutyrat,
Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyäthylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat, Polyvinylacetat und andere Kunststoffolien, die mit den vorstehend angegebenen Metaüen beschichtet oder metallisiert sind.
Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyäthylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat, Polyvinylacetat und andere Kunststoffolien, die mit den vorstehend angegebenen Metaüen beschichtet oder metallisiert sind.
Von diesen Trägern werden Aluminiumbleche auf Grund ihrer hohen Dimensionsstabilität und niedrigen Kosten
besonders bevorzugt verwendet. Ein weiteres bevorzugtes Beispiel ist eine Verbundfolie der in der JP-AS
18 327/73 beschriebenen Art. die eine Polyäthylenterephthalatfolie kombiniert mit einem Aluminiumblech aufweist.
Der Träger muß eine hydrophile Oberfläche besitzen. Unter dem hier verwendeten Ausdruck »hydrophile
Oberfläche« ist eine Oberfläche zu verstehen, die mit dem Dämpfungswasser benetzt wird und die Druckfarbe
abweist, wenn die Druckplatte in eine lithographische Druckmaschine zur Ausführung des Drückens unter
Siandardbedingungen eingesetzt wird. Einige Verfahren sind bekannt, um den Träger mit solchen hydrophilen
Oberflächen auszustatten. Träger mit einer Oberfläche aus Metall, insbesondere Aluminium, werden bevorzugt
Oberflächenbehandlungen, wie Körnung, Eintauchen in eine wäßrige Lösung von Natriumsilicat, Kaliumfluorzirconat
oder Phosphat und Anodisierung unterworfen. Das Aluminiumblech kann statt dessen auch gekörnt
und anschließend in wäßriges Natriumsilicat eingetaucht werden, wie in der US-PS 27 14 066 beschrieben, oder
es kann anodisiert und anschließend in ein wäßriges Alkalisilicat eingetaucht werden, wie in der JP-AS 5 125/72
beschrieben.
Beide Aluminiumbleche können erfindungsgemäß mit Vorteil verwendet werden. Die vorstehend abgehandelte
Anodisierung wird in einem Elektrolyten durchgeführt, der aus einer oder mehreren wäßrigen oder nichtwäßrigen
Lösungen von anorganischen Säuren, wie Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure und Borsäure,
oder organischen Säuren, wie Oxalsäure und Sulfaminsäure, oder Salzen hiervon besteht, wobei ein elektrischer
Strom durch eine Aluminiumanode angelegt wird.
Eine weitere wirksame Oberflächenbehandlung besteht in der Elektroabscheidung eines Silicates, wie in der
US-PS 36 58 662 beschrieben.
Ein einer elektrolytischen Körnung, wie in der JP-AS 27 481/71 und in der JP-OS 53 602/72 und 30 503/77
beschrieben, unterworfener Träger mit anschließender Anodisierung, wie vorstehend beschrieben, läßt sich
gleichfalls mit Vorteil verwenden. Die Zwecke dieser Oberflächenbehandlungen sind nicht nur darauf beschränkt,
die Oberfläche des Trägers hydrophil zu machen; sie werden auch ausgeführt, um eine schädliche
Reaktion mit der auf dem Träger anzubringenden lichtempfindlichen Masse zu verhindern oder einen innigen
Kontakt mit der lichtempfindlichen Schicht auszubilden.
Die auf der hydrophilen Oberfläche des Trägers angebrachte lichtempfindliche Schicht enthält eine o-Chinondiazidverbindung,
vorzugsweise eine o-Naphthochinondiazidverb.ndung. Erläuternde Beispiele für o-Naphthochinondiazidverbindungen
sind in den US-PS 30 46 110, 30 46 111, 30 46 115, 30 46 118, 30 46 119, 30 46 120,
30 46 121, 30 46 122, 30 46 123, 3061 430, 31 02 809, 31 06 465, 36 35 709, 36 47 443 und zahlreichen weiteren
Liternturstellen beschrieben. Diese Verbindungen können erfindungsgemäß mit Vorteil eingesetzt werden.
Bevorzugte Beispiele sind o-Naphthochinondiazidsulfonatester oder o-Naphthochinondiazidcarboxylatester von aromatischen
Hydroxylverbindungen und o-Naphthochinondiazisulfonsäureamide oder
o-Naphthochinondiazidcarbonsäureamide von aromatischen Aminoverbindungen.
Hydroxylverbindungen und o-Naphthochinondiazisulfonsäureamide oder
o-Naphthochinondiazidcarbonsäureamide von aromatischen Aminoverbindungen.
Besonders bevorzugt sind ein Pyrogallol/Aceton-Kondensat, welcher mit o-Naphthochinondiazidsulfonsiiuie
verestert ist, wie in der US-PS 36 35 709 beschrieben, ein Polyester mit endständiger Hydroxylgruppe, der mil
o-Naphthochinondiazidsulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidcarbonsäure verestert ist, wie in der US-PS
40 28 111 beschrieben, ein Homopolymeres von p-Hydroxystyrol oder ein Copolymeren hiervon mit einem
weiteren copolymerisierbaren Monomeren, welches mit o-Naphthochinondiazidsulfonsäure oder o-Naphlhochinondiazidcarbonsäure
verestert ist, wie in der GB-PS 14 94 043 beschrieben sowie ein Copolymeres von
p-Aminostyrol und einem weiteren copolymerisierbaren Monomeren, welches einer Amidbildungsreaktion mil
o-Naphthochinondiazidsulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidcarbonsäure unterworfen wurde, wie in der
US-PS37 59 711 beschrieben.
ίο Diese o-Chinondiazidverbinduppen können einzeln verwendet werden, werden jedoch bevorzugt mit einem
alkalilöslichen Harz vermischt und das erhaltene Gemisch wird als lichtempfindliche Schicht aufgetragen.
Vorteilhafte alkalilösliche Harze umfassen phenolische Novolakharze, z. B. Phenol-Formaldehydharze, o-Cresol-Formaldehydharze
und m-Cresol-Formaldehydharze. Besonders bevorzugt können diese phenolischen Harze
in Kombination mit einem Kondensat eines C3_e-alkyl-substituierten Phenols oder Cresols und eines Aldehyds,
beispielsweise eines tert.-Butylphenol-Formaldehydharzes, verwendet werden, wie in der US-PS 41 23 279
angegeben. Diese alkalilöslichen Harze werden in die lichtempfindliche Schicht in einer Menge von 50 bis
85 Gew.-%, vorzugsweise von 60 bis 80 Gew.-%, einverleibt.
Die eine o-Chinondiazidverbindung enthaltende lichtempfindliche Schicht kann weiterhin Farbstoffe, Weichmacher
und andere Zusätze, beispielsweise Komponenten zur Erzielung eines sichtbaren Bildes in den belichteten
Bereichen enthalten.
Der Farbstoff wird verwendet, um einen Kontrast zwischen dem Bildbereich und dem Nicht-Bildbercich
(Oberfläche des Trägers) nach der bildweisen Belichtung und Entwicklung der PS-Platte zu erzielen. Erläuternde
Beispiele für bevorzugte Farbstoffe sind alkohollösliche Farbstoffe, wie C. 1.26 105 (CiI Red R R), C. 1.21 260 (Oil
Scarlet Nr. 308), C. I. 74 350 (Oil Blue), C. I. 52 015 (Methylene Blue) und C. 1. 42 555 (Kristallviolett). Die in die
lichtempfindliche Schicht einzuverleibende Menge des Farbstoffes ist so, daß sie ausreicht, einen klaren Kontrast
zwischen der Farbe der hydrophilen Oberfläche des Trägers, weiche infolge der bildweisen Belichtung und
Entwicklung der lichtempfindlichen Druckplatte freigelegt wird, und der Farbe des Bereiches, wo die lichtempfindliche
Schicht intakt verbleibt, zu ergeben; allgemein wird der Farbstoff in keiner größeren Menge als etwa
7 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Masse, verwendet.
3'· Der Weichmacher ist wirksam, um das gewünschte Ausmaß der Flexibilität für die auf dem Träger aufgebrachte
lichtempfindliche Schicht zu ergeben. Beispiele für wirksame Weichmacher sind
Phthalatester, wie Dimethylphthalat, Diäthylphthalat, Dibutylphthalat, Diisobutylphthalat, Dioctylphthalat,
Octylcaprylphthalat, Dicyclohexylphthalat, Ditridecylphthalat, Butylbenzylphthalat, Diisodecylphthalat und
Diarylphthalat, Glykolester, wie Dimethylglykolphthalat, Äthylphthalyläthylglykolat.
Methylphthalyläthylglycolat, Butylphthalylbutylglycolat und Triäthylenglykoldicaprylat, Phosphatester, wie
Tricresylphosphat und Triphenylphosphat, Ester von aliphatischen zweibasischen Säuren» wie
Diisobutyladipat, Dioctyladipat, Dimethylsebacat, Dibutylsebacat, Dioctylazeiat und Dibutylmaieat und
Polyglycidylmethacrylat.Triäthylcitrat, Glycerintriacetat und Butyllaurat.
Diisobutyladipat, Dioctyladipat, Dimethylsebacat, Dibutylsebacat, Dioctylazeiat und Dibutylmaieat und
Polyglycidylmethacrylat.Triäthylcitrat, Glycerintriacetat und Butyllaurat.
Der Weichmacher wird in die lichtempfindliche Masse in einer Menge von nicht mehr als etwa 5Gcw.-%,
bezogen auf das Gesamtgewicht der Masse, einverleibt
Es wird eine Komponente verwendet, um ein sichtbares Bild zu erhalten, welches nach der bildweisen
Belichtung der lichtempfindlichen Schicht der PS-Platte beobachtbar ist. Beispiele für derartige Materialien sind
pH-Indikatoren der in der GB-PS 10 141 463 beschriebenen Art, die Kombination aus dem o-Naphthochinondiazid-4-sulfonylchlorid
und einem Farbstoff, wie in der US-PS 39 69 118 beschrieben, und photochrome Verbindüngen
der in der JP-AS 6 413/69 beschriebenen Art. Die Empfindlichkeit der lichtempfindlichen Schicht kann
auch durch Zusatz eines cyclischen Säureanhydrids erhöht werden, wie in der US-PS 41 15 128 beschrieben.
Die vorstehend beschriebene, eine o-Chinondiazidverbindung enthaltende lichtempfindliche Schicht wird auf
dem Träger aus einer Lösung in einem geeigneten Lösungsmittel aufgebracht. Beispiele für geeignete Lösungsmittel
sind
Glykoläther, wie Äthylenglykolmonomethyläther, Älhylenglykolmonoäthyläther und
Glykoläther, wie Äthylenglykolmonomethyläther, Älhylenglykolmonoäthyläther und
2-Methoxyäthylacetat, Ketone, wie Aceton, Methy läthylketon und Cyclohexanon und chlorierte
Kohlenwasserstoffe, wie Äthylendichlorid.
Kohlenwasserstoffe, wie Äthylendichlorid.
Die eine o-Chinondiazidverbindung enthaltende lichtempfindliche Schicht wird in typischer Weise auf den
Träger zu einem Überzugsgewicht von etwa 0,5 bis etwa 7 g/m2, vorzugsweise von 13 bis 3 g/m2, aufgetragen.
Die in dieser Weise hergestellte PS-Platte wird unter ein transparentes Original gebracht und bildweise an eine an aktinischer Strahlung reiche Lichtquelle wie eine Kohlenbogenlampe, Quecksilberlampe, Metallhalogenidlampe, Xenonlampe oder Wolframlampe ausgesetzt und der belichtete Bereich wird alkalilöslich. Somit wird der belichtete Bereich mit wäßrigen Alkali zu seiner Auflösung behandelt, wodurch die hydrophile Oberfläche des Trägers freigelegt wird.
Die in dieser Weise hergestellte PS-Platte wird unter ein transparentes Original gebracht und bildweise an eine an aktinischer Strahlung reiche Lichtquelle wie eine Kohlenbogenlampe, Quecksilberlampe, Metallhalogenidlampe, Xenonlampe oder Wolframlampe ausgesetzt und der belichtete Bereich wird alkalilöslich. Somit wird der belichtete Bereich mit wäßrigen Alkali zu seiner Auflösung behandelt, wodurch die hydrophile Oberfläche des Trägers freigelegt wird.
Eine bevorzugte wäßrige alkalische Lösung zur Anwendung als Entwickler enthält ein Silicat in Lösung.
Bevorzugte Silicate sind diejenigen, welche nach Auflösung in Wasser alkalisch reagieren, beispielsweise Alkalisilicate,
wie Natriumsilicat, Kaliumsilicat und Natriumrnetasilicat sowie Ammoniumsilicat. Das Silicat ist im
Entwickler im allgemeinen in einer Menge von 1 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise 1 bis 8 Gew.-% und besonders
bevorzugt 2 bis 6 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, enthalten. Für den Entwickler ist
lediglich erforderlich, daß er alkalisch ist und vorzugsweise hat er einen pH-Wert von 103 bis 13,5 bei 25° C.
Der Entwickler kann ferner ein organisches Lösungsmittel in einer Menge von nicht mehr als 5 Gew.-% des
Gesamtgewichts des Entwicklers enthalten. Beispiele derartiger organischer Lösungsmittel umfassen
Benzylalkohol, 2-Butoxyäthanol,TriäthanoIamin, Diiithanolamin, Monoäthanolamin, Glycerin,
Benzylalkohol, 2-Butoxyäthanol,TriäthanoIamin, Diiithanolamin, Monoäthanolamin, Glycerin,
Älhylcnglykol. Polyäthylcnglykol und Polypropylcnglykol.
Dur Entwickler kann weiterhin ein oberflächenaktives Mittel, vorzugsweise ein anionisches oberflächenaktives
Mittel oder ein amphoteres oberflächenaktives Mittel enthalten.
Falls der Bildbercich der durch bildweise Belichtung und Entwicklung der PS-Platte hergestellten lithographischen
Druckplatte unerwünschte Teile besitzt, kann dieser Teil durch Aufbringung des Korrekturmittels gemäß
der Erfindung entfernt werden. Das Korrekturmittel gemäß der Erfindung wird vorzugsweise auf den unerwünschten
Teil nach gründlichem Waschen der entwickelten lithographischen Druckplatte und nicht direkt nach
der Entwicklung aufgetragen. Das allgemeine Verfahren zur Auftragung des Korrekturmittels gemäß der
Erfindung besteht im Eintauchen eines Malpinsels in das Mittel und der Aufbringungen des Pinsels auf den Teile
des Bildbereiches, der zu entfernen ist. Das aufgebrachte Korrekturmittel wird während eines Zeitraums von 10
Sekunden bis 1 Minute stehengelassen und dann mit Wasser abgewaschen. Dies ermöglicht, daß der behandelte
Teil des Bildbereiches sauber ausradiert wird und der Teil in einen Nicht-Bildbereich umgewandelt wird. Dann
wird die Druckplatte einer üblichen Nachbehandlung, wie Gummierung, unterworfen, bevor sie anschließend für
den lithographischen Druck verwendet wird.
Das Korrekturmittel gemäß der Erfindung kann den gewünschten Teil des Bildbereiches mit sehr rascher
Geschwindigkeit entfernen bzw. ausradieren. Deshalb zeigt es die Vorteile eines abgekürzten Radierverfahrens
und infolgedessen ergibt sich ein wirksames photochemisches Verfahren.
Das Korrekturmittel gemäß der Erfindung hat auch den Vorteil, daß es den gewünschten Teil des Bildbereiches
ohne nachteilige Beeinflussung angrenzender Teile des Bildbereiches ausradiert. Deshalb kann es leicht
exakt die unerwünschten Teile von komplizierten Bildbereichen ausradieren.
Das erfindungsgemäße Korrekturmittel enthält keine toxischen Substanzen wie fluorhaltige Verbindungen.
Deshalb ist es allgemein nicht gesundheitsschädlich.
Das erfindungsgemäße Korrekturmittel wird nachfolgend im einzelnen anhand der Beispiele erläutert, worin
sämtliche Teile und Prozentsätze auf das Gewicht bezogen sind.
Beide Oberflächen einer 3S18H-Aluminiumplatte wurden mit gepulvertem Aluminiumoxid mit einer Feinheit
von 63 μίτι sandgestrahlt und während 60 Sekunden in eine 2%ige wäßrige sekundäre Natriumphosphatlösung
von 70"C eingetaucht. Nach dem Waschen mit Wasser wurde die Platte in eine 70%ige wäßrige Salpetersäure
wahrend 60 Sekunden eingetaucht und erneut mit Wasser gewaschen. Anschließend wurde die Platte während
120 Sekunden in ein Bad aus einer 2%igen, wäßrigen Lösung von Natriumsilicat, die auf 80 bis 85°C erhitzt war,
eingetaucht, so daß eine hydrophile Schicht auf der Oberfläche der Aluminiumplatte gebildet wurde. Nach dem
Waschen mit Wasser und Trocknen wurde eine Sensibilisierlösung mit dem Gehalt von 5 Teilen einer o-Naphthochinondiazidverbindung
(hergestellt nach dem Verfahren von Beispiel 1 der US-PS 36 35 709), 10 Teilen eines
öllöslichen phenolischen Novolakharzes und 0,8 Teilen eines Farbstoffes (C. I. 74 350), gelöst in einem Lösungsmittclgemiseh
aus 100 Teilen Methyläthylketon und 80 Teilen Cyclohexanon, auf die hydrophile Schicht der
Aluminiumplatte mit einem Wirbler aufgetragen und der erhaltene Überzug wurde getrocknet. Das Trockengewicht
der aufgebrachten Schicht betrug 1,5 g/m2.
Die dabei erhaltene lichtempfindliche lithographische Druckplatte wurde bildweise während 70 Sekunden
durch einen Posittvfilm ?;ner Metallhalogenidlampe (2 kW) im Abstand von 70 cm von der Platte ausgesetzt. Die
Platte wurde dann in eine 5°/oige wäßrige Lösung von Natriumsilicat (SiOj/NajO = 1,74) zur Auflösung und
Entfernung des belichteten Bereiches eingetaucht. Nach dem Entwickeln wurde die Platte mit Wasser gewaschen
und getrocknet. Die in dieser Weise hergestellte lithographische Druckplatte hatte das Schnittende des
positiven Filmes als blasses Bild auf der Oberfläche der Platte.
Das Korrekturmittel gemäß der Erfindung wurde in folgender Weise hergestellt: Zunächst wurde ein Gemisch
aus 1,5 Teilen Hydroxypropylmethylcellulose (Methoxygruppen: 28 bis 30%, Hydroxypropoxygruppen: 7
bis 12%, Viskosität einer 2%igen wäßrigen Lösung bei 20°C 40 bis 60 cP) und 5,0 Teilen eines Oxyäthylen/Oxypropylen-Blockcopolymeren
(aufgebaut aus einem Äthylenoxidblock, der an beiden Enden der Kette eines Polypropylenglykols mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von 2000 blockcopolymerisiert war; das
Copolymere hatte ein Molekulargewicht von 10 000 und einen Äthylenoxidgehalt von 80%) in 50,0 Teilen
^-Butyrolacton dispergiert 10 Teile reines Wasser wurden zu der Dispersion zur Auflösung der löslichen Stoffe
zugesetzt, worauf ein Gemisch aus 22 Teilen 2-Methoxyäthanol, 0,5 Teilen Natriumalkylbenzolsulfonat, 7 Teilen
Phosphorsäure (85%) und 0,003 Teile Kristallviolett unter kräftigem Rühren zur Bildung einer homogenen
Lösung zugesetzt wurden. In der Lösung wurden 4,0 Teile pulverförmiges Siliciumdioxid dispergiert. Das
erhaltene viskose Korrekturmittel hatte einen pH-Wert von 1,46 bei 25° C.
Ein Anstrichpinsel wurde in das auf diese Weise hergestellte Korrekturmittel eingetaucht, welches dann auf
die Fläche aufgetragen wurde, wo das Schnittende des Filmes als Bild auf der lithographischen Druckplatte
verblieben war. 30 Minuten später wurde das Mittel mit Wasser mittels Besprühen abgewaschen. Die hydrophile
Schicht wurde in dem radierten Bereich vollständig freigelegt, welcher nicht von den anderen Teilen des
Nicht-Bildbereiches unterschieden werden konnte.
Die auf diese Weise retuschierte Platte wurde mit einer wäßrigen Lösung von Gummi arabicum mit 14= Be
gummiert und auf eine Offsetdruckmaschine zum Druck von 10 000 Abzügen gesetzt. Sämtliche Abzüge waren
schön und hatten keine Flecken im radierten Bereich. Die Ausbreitung des Korrekturmittels gemäß der Erfindung
war minimal, so daß es frei zur Korrektur eines begrenzten Bereiches verwendet werden konnte. Außerdem
bestand Sicherheit in physiologischen Gesichtspunkten und die Auftragung des Mittels erbrachte in keiner
Weise unbequeme Ergebnisse.
Das Verfahren nach Beispiel 1 wurde in den Beispielen 2 bis 9 zur Herstellung von Korrekturmitteln mit den in
den jeweiligen Beispielen angegebenen Zusammensetzungen wiederholt. Das Radieren mit den erhaltenen
Korrekturmitteln in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 ergab gleich gute Ergebnisse.
^-Butyrolacton 2-Methoxyäthanol
Phosphorsäure (85%) Vinylmethyläther/Maleinsäureanhydrid-Copolymeres
(Molverhältnis 1 :1) (Intrinsic-Viskosität 2,6 bis 3,5 als Lösung von
1 gCopolymerem in 100 g Methylethylketon bei 25° C)
Natrifjmalkylbenzolsulfonat
Oxyäthylen/Oxypropylen-Blockcopolymeres(wie in Beispiel 1)
Reines Wasser Kristallviolett Pulverförmiges Siliciumdioxid
Dai erhaltene Korrekturmittel hatte einen pH-Wert von 1,55 bei 250C.
Das erhaltene Korrekturmittel hatte einen pH-Wert von 1,71 bei 25° C.
rf-Valerolacton
Äthylenglykoldimethyläther Erdölfraktion (Siedepunkt 160 bis 1800C,
enthält Alkylbenzole mit Cg bis Ci ι)
Phosphorsäure (85%) Oxäthylen/Oxypropylen-Blockpolymeres (H LB: 12)
Hydroxypropylmethylcellulose (wie in Beispiel 1) Reines Wasser Farbstoff (C. I. Basic Red 2, Nr. 50240)
Pulverförmiges Siliciumdioxid
Das erhaltene Korrekturmittel hatte einen pH-Wert von 1,78 bei 25°C.
/-Buiyrolacton ^-Valerolacton
Äthylenglykoldiäthyläther Xylol!
Phosjphorsäure (85%) Essigsäure Hydroxypropylmethylcellulose (wie in Beispiel 1)
Oxyäthylen/Oxypropylen-Blockpolymeres (HLB: 12) Polyoxyäthylenoleyläther (HLB: 16,2)
Teile
50,0 22,0
7,0
1,5 0,5 5,0 10,0 0,003 ΛΓ\
Teile | |
/-Butyrolacton | 48,8 |
Cyclohexanon | 15,0 |
Xylol | 7.0 |
Phosphorsäure (85°Λ) | 5,0 |
Methylcellulose (Methcxygruppen: 27 bis 32%, | |
Viskosität 550 bis 750 cps als | |
2%ige wäßrige Lösung bei 20°C) | 2,0 |
Oxyäthylen/Oxypropylen-Blockpolymeres(wiein Beispiel 1) | 6,0 |
Natriumlaurylalkoholsulfat | 0,2 |
Wasser | Π.2 |
Farbstoff (C. I. Basic Red 2, Nr. 50240) | 0,005 |
PnivprfnrmioPQ ^iliriiimHinYiH | 5.0 |
Teile 29,5 30,0
10,0 5,0 10,0
1,5
9,0
0,005
5,0
Teile 25,0 16.0 21,0
8,0
4,0
1,0
2,0
7,0
1,0
Reines Wasser Pulverförmiges Siliciumdioxid
Das erhaltene Korrekturmittel hatte einen pH-Wert von 1,03 bei 25° C.
v- Butyrolacton Cyclohexanon Toluol
Xylol
Phosphorsäure (85%) Ameisensäure Hydroxypropylmethyicellulose (wie in Beispiel 3)
Oxyäthylen/Oxypropylen-Biockpolymeres (wie in Beispiel 1)
Oxyäthylen/Oxypropylen-Blockpolymeres (HLB: 16)
Reines Wasser Farbstoff (C 1. Basic Blue 9, Nr. 52015) Pulverförmiges Siliciumdioxid
Das erhaltene Korrekturmittel hatte einen pH-Wert von 1,72 bei 25° C
^-Butyrolacton Diäthylenglykoldimethyläther
Xylol
Phosphorsäure (85%) Schwefelsäure (96%) Oxyäthylen/Oxypropylen-Biockpolymeres(wie in Beispiel 1)
Oxyäthylen/Oxypropylen-BIockpolymeres (HLB: 16,5)
Reines Wasser Farbstoff (C. 1. Basic Red 2, Nr. 50240)
Pulverförmiges Siliciumdioxid
Das erhaltene Korrekturmittel hatte einen pH-Wert von 138 bei 25°C.
;<-ButyroIacton Diäthylenglykoldiäthyläther
Methylisobutylketon Xylol
Natriumpolyoxyäthylenalkylphenyläthersulfat Oxyäthylen/Oxypropylen-Bbckpolymeres(wie in Beispiel 1)
Phosphorsäure (85%) p-Toluolsulfonsäure
Reines Wasser Kristallviolett Pulverförmiges Siliciumdioxid
Das erhaltene Korrekturmittel hatte einen pH-Wert von 1,42 bei 25° C.
/-Butyrolacton Äthylenglykoldimethyläther
Cyclohexanon Erdölfraktion (wie in Beispiel 4) Polyoxyäthylennonylphenyläther (HLB: 7,8)
Polyvinylpyrrolidon K-40 Oxyäthylen/Oxypropylen-Blockpolymeres(HLB: 15,5)
Phosphorsäure (95%) Zitronensäure 10,0 5,0
Teile 41,0 21,0 5,0 5,0 2,5 1,5 2,0 4,0 4,0 9,0 0,007 5,0
Teile 323 24,0 13,7 3.0 1,0 5,0 5,0 11.0 0,005 5,0
Teile 38,0 20,0 6,0 10,0 0.5 6,0 4,0 0,5
10,0 0,004 5,0
Teile 30,0 23,0 10,0 10,0 1,0 1,5 8,0 3,0
0,5
10
15
20 : ·■■
25
30
35
40
45
50
55
60
65
Reines Wasser Farbstoff (C. I. Basic Red 2, Nr. 50240)
Pulverförmiges Siliciumdioxid
8,0
0,005
5,0
Das erhaltene Korrekturmittel hatte einen pH-Wert von 1,47 bei 250C
Beispiele 10 und 11 sowie Vergleichsbeispiele 1 bis 8
Das Verfahren von Beispiel 1 wurde wiederholt und Korrekturmittel der folgenden Zusammensetzungen
hergestellt.
Teile
Lösungsmittel (a) Lösungsmittel (b)
Reines Wasser 10,0
Hydroxypropylmethylcellulose (wie in Beispiel 1) 3,0
Phosphorsäure (85%) 3,0
Oxyäthylen/Oxypropylen-Blockpolymeres (wie in Beispiel 1) 8,0
Pulverförmiges Siliciumdioxid 6,0
siehe nachfolgende Tabelle 1
70,0
Tabelle I | Lösungsmittel (a) | (Teile) | Lösungsmittel (b) | (Teile) |
Versuch Nr. |
^-Butyrolacton | (45) | DiäthylenglykolmonomethyläViier | (25) |
Beispiel 10 | ^-Butyrolacton | (45) | Cyclohexanon | (25) |
25 Beispiel 11 | ^•Butyrolacton | (45) | Dimethylformamid | (25) |
Vergleichsbeispiel 1 | ^Butyrolacton | (45) | Xylol | (25) |
Vergleichsbeispiel 2 | ^-Butyrolacton | (45) | Lösungsmittel-Naphtha | (25) |
Vergleichsbeispiel 3 | /-Butyrolacton | (70) | — | |
Vergleichsbeispiel 4 | — | Diäthylenglykolmonomethyläther | (70) | |
30 Vergleichsbeispiel 5 | Xylol | (25) | Diäthylenglykolmonomethyläther | (45) |
Vergleichsbeispiel 6 | Cyclohexanon | (45) | Diäthylenglykolmonomethyläther | (25) |
Vergleichsbeispiel 7 | — | Cyclohexanon | (70) | |
Vergleichsbeispiel 8 | ||||
Jedes der in den Beispielen 10 und 11 sowie in den Vergleichsbeispielen 1 bis 8 hergestellten Korrekturmittel
wurde zum Ausradieren von unerwünschten Teilen des Bildbereiches einer in der gleichen Weise wie in Beispiel
1 hergestellten lithographischen Druckplatte verwendet. Die Zeit zum Ausradieren und die Schärfe (Fehlen
einer Ausbreitung) der Grenzlinie zwischen dem radierten Bereich und dem nicht-radierten Bereich wurden
geprüft. Die korrigierte Platte wurde in der in Beispiel 1 beschriebenen Weise behandelt und in eine Druckmaschine
zum Druck einer bestimmten Anzahl von Abzügen gegeben. Die Abzüge wurden auf irgendwelche
Flecken in dem radierten Bereich untersucht. Die Ergebnisse dieser Untersuchungen sind in der nachfolgenden
Tabelle II zusammengefaßt.
Tabelle II | Zeit zum Radieren | Schärfe | Flecken | - O |
Versuch | (Sek.) | - O | ||
Nr. | 20-30 | O | O | |
Beispiel 10 | 30 | O | O | |
Beispiel 11 | 20 | X | Δ | |
Vergleichsbeispiel 1 | 30 | O | Δ - | |
Vergleichsbeispiel 2 | 30-40 | O | Δ - | |
Vergleichsbeispiel 3 | 40 | O | O | |
Vergleichsbeispiel 4 | 40 | O | Δ | |
Vergleichsbeispiel 5 | 30-40 | O | Δ | |
Vergleichsbeispiel 6 | 40 | Δ - O | Δ | |
Vergleichsbeispiel 7 | 60 | Δ | Δ | |
Vergleichsbeispiel 8 | ||||
Die in der Tabelle II zur Bewertung der »Schärfe« und der »Flecken« verwendeten Symbole haben die
folgende Bedeutung:
O: Gute Schärfe oder fehlenden Flecken Δ — O: mittlere Schärfe oder annehmbare Flecken
Δ: schlechte Schärfe oder starke Flecken
65 χ : sehr schlechte Schärfe und übermäßige Flecken.
Die Werte in Tabelle Il belegen, daß ein gutes Verhalten lediglich von den Kon'ekturmitteln gezeigt wird,
welche die Kombination von Lacton und Glykoläther oder die Kombination von Lacton und Keton enthalten.
10
Claims (19)
1. Korrekturmittel für lithographische Druckformen, enthaltend
ä (a) ein Lacton mit 4 bis 6 Kohlenstoffatomen,
ä (a) ein Lacton mit 4 bis 6 Kohlenstoffatomen,
dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich
(b) einen Glycolether oder ein Keton
(b) einen Glycolether oder ein Keton
enthält
2. Korrekturmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Lacton aus Butyrolacton, Valerolacton
oder Hexanolacton besteht
3. Korrekturmittel nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Glycoläther aus
Glykolmonoalkyläthern, Diglykolmonoalkyläthern, Triglykolmonoalkyläthern,
Glykolmonoalkyläthern, Diglykolmonoalkyläthern, Triglykolmonoalkyläthern,
Äthylenglykoldialkyläthern oder Diäthylenglykoldialkyläthern
besteht
besteht
4. Korrekturmittel nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Keton aus
Methylbutylketon, Methylisobutylketon, Äthylbutylketon, Butyron, Methylamylketon,
Methylbutylketon, Methylisobutylketon, Äthylbutylketon, Butyron, Methylamylketon,
Methylhexylketon, Valeron, Mesityloxid, Diacetonalkohol, Cyclohexanon, Methylcyclohexanon,
Isophoron, Acetylaceton oder Acetonylaceton
besteht
besteht
5. Korrekturmittel nach den Ansprüchen 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Komponente (b) einen
Siedepunkt von mindestens 1400C hat
6. Korrekturmittel nach der« Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewichtsverhältnis der
Komponente (a) zur Komponente (b) 4 :1 bis 1 :5 beträgt
7. Korrekturmittel nach den Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet daß es zusätzlich ein organisches
Lösungsmittel in einer Menge von nicht mehr als 20 Gevv.-% enthält
8. Korrekturmittel nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet daß das Lösungsmittel aus Toluol, Xylol,
Terpentinöl, n-Heptan, Naphtha oder Erdölfraktionen, die bei Temperaturen von 120 bis 2500C sieden,
besteht.
9. Korrekturmittel nach den Ansprüchen 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Komponenten (a) und(b)
in einer Gesamtmenge von 15 bis 100Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Korrekturmittels,
vorliegen.
10. Korrekturmittel nach den Ansprüchen 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß es einen pH-Wert von 1 bis
5 besitzt.
11. Korrekturmittel nach den Ansprüchen 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich (d) eine saure
Substanz zur Einstellung des pH-Wertes auf 1 bis 3 enthält.
12. Korrekturmittel nach den Ansprüchen 1 bis II, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich (e) ein
wasserlösliches polymeres Material enthält.
13. Korrekturmittel nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das wasserlösliche polymere Material
(e) aus
Polyvinylpyrrolodon. Methylcellulose, Polyvinyimethyläther,
Vinylmethyläther/Maleinsäureanhydrid-Copoymeren, Polyäthylenglykol, Polypropylenglykol,
Vinylacetat/Maleinsäureanhydrid-Copolymeren und/oder
Vinylacetat/Maleinsäureanhydrid-Copolymeren und/oder
Oxyäthylen/Oxypropylen-Blockcopolymeren
besteht.
besteht.
14. Korrekturmittel nach den Ansprüchen 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich (f) ein
oberflächenaktives Mittel enthält.
15. Korrekturmittel nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß das oberflächenaktive Mittel (f) aus
einem anionischen oder nicht-ionischen oberflächenaktiven Mittel besteht.
16. Korrekturmittel nach den Ansprüchen 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich (g) Wasser
enthält.
17. Korrekturmittel nach den Ansprüchen 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich (h) ein
Färbungsmittel enthält.
18. Korrekturmittel nach den Ansprüchen 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich (i) ein
Viskositätseinstellungsmittel enthält.
19. Verfahren zum Korrigieren von lithographischen Druckformen, dadurch gekennzeichnet, daß auf
unerwünschte Bildbereiche der Druckform ein Korrekturmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 18 aufge-
DO bracht wird.
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