DE2507548A1 - Lichtempfindliche lithographische druckplatte - Google Patents

Lichtempfindliche lithographische druckplatte

Info

Publication number
DE2507548A1
DE2507548A1 DE19752507548 DE2507548A DE2507548A1 DE 2507548 A1 DE2507548 A1 DE 2507548A1 DE 19752507548 DE19752507548 DE 19752507548 DE 2507548 A DE2507548 A DE 2507548A DE 2507548 A1 DE2507548 A1 DE 2507548A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
printing plate
lithographic printing
group
photosensitive
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19752507548
Other languages
English (en)
Other versions
DE2507548C2 (de
Inventor
Masayuki Iwasaki
Hiroshi Misu
Shizuo Miyano
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Publication of DE2507548A1 publication Critical patent/DE2507548A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2507548C2 publication Critical patent/DE2507548C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F112/00Homopolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
    • C08F112/02Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
    • C08F112/04Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
    • C08F112/14Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by hetero atoms or groups containing heteroatoms
    • C08F112/22Oxygen
    • C08F112/24Phenols or alcohols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F8/00Chemical modification by after-treatment
    • C08F8/30Introducing nitrogen atoms or nitrogen-containing groups

Description

21. Februar 1975 P 8937
Fuji Photo Film Co., Ltd.
No. 210, Nakanuma, Minami Ashigara-Shi, Kanagawa, Japan
Lichtempfindliche lithographische Druckplatte
Die Erfindung betrifft eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte; sie betrifft insbesondere eine lithographische Druckplatte mit einer lichtempfindlichen Schicht aus einem neuen und verbesserten Diazooxid-Harz.
Es ist bekannt, ein lichtempfindliches Diazooxid bei der Herstellung von Photokopien oder Photoresistmaterialien sowie bei der Herstellung eines lichtempfindlichen Materials für lithographische Druckplatten zu verwenden. Bei diesen Verfahren tritt als Folge der Belichtung aufgrund der Eigenschaften des lichtempfindlichen Diazooxids ein Löslichkeitsunterschied zwischen den belichteten Flächen und den nicht-belichteten Flächen
509836/0710
telefon (o«9)aaaa es telex οβ-α·3·ο Telegramme monapat
25Ü7548::
auf und durch Behandeln der belichteten Schicht eines solchen Materials mit einem geeigneten Lösungsmittel bleibt der gewünschte Bildteil auf dem Träger zurück, während die unerwünschten Bildteile von dem Träger herunter gewaschen werden. Diese Verfahren sind beispielsweise in den US-Patentschriften 3 046 121, 3046 122 und 3 046 123 näher beschrieben. In disen Patentschriften wird ein Ester oder Säureamid von Benzoldiazooxid oder Naphthalindiazooxid als lichtempfindliches Material für die lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten verwendet. Es sind auch bereits verschiedene andere Materialien für diesen Zweck vorgeschlagen worden.
Bei fast allen diesen Verbindungen handelt es sich jedoch um solche mit einem niedrigen Molekulargewicht und wenn eine solche Verbindung einzeln für eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte verwendet wird, tritt eine Kristallisation auf, was dazu führt, daß ein schlechter Film dieser Verbindung erhalten wird, so daß das erzeugte Bild eine geringe mechanische Festigkeit aufweist. Dadurch wird die Herstellung von vielen zufriedenstellenden Kopien oder Abzügen erschwert. Das oben genannte lichtempfindliche Material wird daher häufig gemeinsam mit einem alkalilöslichen Harzbindemittel oder in Form einer Verbindung verwendet, die durch Umsetzung desselben mit einem alkalilöslichen Harzmaterial hergestellt worden ist.
Solche Polymerisate sind in der US-Patentschrift 3 046 120, in der britischen Patentschrift 1 113 759 und in der US-Patentanmeldung Nr. 684 636 beschrieben. Bei den darin beschriebenen
. . ' ' OBIQINAL INSPECTED ."
509836/0710
Verbindungen handelt es sich hauptsächlich um Polymerisate, wie z. B. Phenolharze und Aminostyrolharze. Obgleich diese
Verbindungen eine gute Empfindlichkeit aufweisen können und einen ausreichenden Löslichkeitsunterschied zwischen den belichteten Flächen und den nicht-belichteten Flächen ergeben können, haben sie jedoch den Nachteil, daß die aus diesen Verbindungen bestehenden aufgebrachten Schichten spröde sind und eine vergleichsweise geringe Flexibilität aufweisen.
Ziel der vorliegenden Erfindung ist es daher, eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte mit einer Schicht aus einem Diazooxid-Harz anzugeben, welches die vorstehend geschilderten Nachteile nicht aufweist. Ziel der Erfindung ist es insbesondere, eine stabile, lichtempfindliche, lithographische Druckplatte mit einer Schicht aus einem lichtempfindlichen Diazooxid-Harz anzugeben, bei dem es sich um ein Polymerisat handelt, in dem eine Diazooxid-Verbindung, welche die lichtempfindliche Gruppe darstellt, als Seitenkette an die Hauptkette eines Homopolymerisats oder Mischpolymerisats von Hydroxystyrol gebunden ist. Ziel der Erfindung ist es ferner, eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte mit einer lichtempfindlichen Schicht anzugeben, bei der in einem /Entwickler ein großer Löslichkeitsunterschied zwischen den belichteten Teilen und den unbelichtete Teilen derselben auftritt. Ziel der Erfindung ist es schließlich, eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte mit einer langen Drucklebensdauer und einer hohen Empfindlichkeit anzugeber
509836/0710
Nach ismfangreiehen Untersuchungen wurde nun gefunden, daß diese Ziele, erfindungsgemäß erreicht werden können, wenn die lichtempfindliche Schicht der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte aus einem bestimmten lichtempfindlichen Diazooxid-Harz besteht.
Gegenstand der Erfindung ist eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte, die gekennzeichnet ist durch einen Träger und eine darauf aufgebrachte Schicht aus einem lichtempfindlichen Diazooxid-Harz, das eine Hydroxystyroleinheit und eine eine über das Sauerstoffatom des Hydroxystyrole gebundene o-Chlnondlazid-Gruppe enthaltende Hydroxystyroleinheit erfr' hält.
Gemäß einer bevorzugten Ausgestaltung betrifft die vorliegende Erfindung eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte, die gekennzeichnet 1st durch einen Träger und eine darauf aufgebrachte Schicht aus einer lichtempfindlichen Masse, die enthält bzw. besteht aus einem lichtempfindlichen Diazooxid-Harz und einem alkali lös liehen Harz, wobei das lichtempfindliche . Diazooxid-Harz eine Hydroxystyroleinheit und eine eine über das Sauerstoffatom des Hydroxystyrole gebundene o-Ghinondiazid-Gruppe enthaltende Hydroxystyroleinheit enthält.
Weitere Ziele, Merkmale und Forteile der Erfindung gehen aus der folgenden Beschreibung in Verbindung mit den beiliegenden Zeichnungen hervor. Dabei zeigen:
50 9 836/0710
*j — -
Fig. 1 eine schematische Querschnittsansicht einer Ausfüh- * rungsform der erfindungsgetnäßen lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte;
Fig. 2 eine Querschnittsansicht der in Fig. 1 dargestellten lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte nach der Belichtung und
Fig. 3 eine· Querschnittsansicht der in der Fig. 2 dargestellten lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte nach der Entwicklung.
Die den Gegenstand der vorliegenden Erfindung bildende lithographische Druckplatte besteht allgemein aus einem Träger mit einer hydrophilen Oberfläche und einer darauf aufgebrachten lichtempfindlichen Schicht, die hauptsächlich aus einem spezifischen lichtempfindlichen Diazooxid-Harz besteht.
Bei dem erfindungsgemäß verwendeten Träger handelt es sich um einen dimensionsbeständigen Träger, wie z. B. eine Folie oder Platte, und erfindungsgemäß können verschiedene Arten von Trägern verwendet werden,wie sie bister für Druckplatten verwendet worden sind. Beispiele für geeignete Träger sind Papier, ein mit einem Polymerisat (z. B. Polyäthylen, Polypropylen, Polystyrol und dgl.) beschichtetes Papier, eine Platte oder Folie aus einem Metall, wie Aluminium,einer Aluminiumlegierung, Zink, Kupfer und dgl., ein Film aus einem Polymerisat, wie Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Cellulose-
509836/0710 OfiiGlNAL
2SO75AB
butyrat, Gelluloseacetatbutyrat, Cellulosenitrat, Polyäthylenterephthalat, Polyäthylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycar-
i-
bonat, Polyvinylacetal und dgl., ein Papier oder ein Polymerisatfilm mit einem in Form einer Schicht aufgebrachten oder im Vakuum aufgedampften Metall, wie es vorstehend angegeben ist.
Unter diesen Trägern ist ein Alumirffumtrager, der dimensionsbeständig und billig ist,besonders bevorzugt. Als Träger bevorzugt ist außerdem eine Verbundfolie aus einem Polyäthylenterephthalatfilm und einer damit verbundenen Aluminiumfolie.
Insbesondere die Oberfläche des Trägers muß hydrophil sein und es sind verschiedene Verfahren bekannt, um die Oberfläche hydrophil zu machen. So kann beispielsweise bei einem Träger mit einer Polymerisatoberfläche eine Oberflächenbehandlung, beispielsweise eine Behandlung mit Chemikalien, eine Koronaentladungsbehandlung, eine Flammenbehandlung, eine Behandlung mit ultravioletten Strahlen, eine Hochfrequenzwellenbehandlung, eine KlimraenfLadungsbehandlung, eine Laserbehandlung und dgl. , wie in den US-Patentschriften 2 764 520, 3 497 407, 3 145 242, 3 376 208, 3 072 483, 3 475 193 und 3 360 448 und in der britischen Patentschrift 788 365 beschrieben, angewendet werden und es kann ein Verfahren angewendet werden, bei dem die Oberfläche der oben genannten Oberflächenbehandlung unterzogen wird und dann eine Haftschicht (Substrierschicht) auf die behandelte Oberfläche der Polymerisatschicht aufgebracht wird. Eine geeignete Haftschicht^umfaßt das Aufbringen einer l~gew.%igen wässrigen Acrylsäurelösung oder das Aufbringen eines Polyvinylalkohol
509836/0710 _ V' ν
OBiGiNALJHSPEOTED u; V": J
in Form einer Schicht auf eine aufgerauhte (gekörnte) Aluminiumplatte, die dann nach dem Waschen einen hydrophilen Überzug ergibt. Dann wird darauf eine Diaz oharz schicht aufgebracht. Beispiele für geeigenete Haftschichten and in der britischen Patentschrift 918 599 und in der US-Patentschrift 3 064 562 angegeben.
Es wurden bereits verschiedene Versuche unternommeii, -am auf der Polymerisatoberfläche eine Haftschicht zu erzeugen. So hat man beispielsweise ein Doppelschichtenverfahren, bei dem eine hydrophobe Harz schicht, die gut an der Polymerisatoberfläche haftet und eine gute Löslichkeit aufweist, auf die Polymerisatoberfläche als erste Schicht aufgebracht wird, und bei dem dann eine hydrophile Schicht als zweite Schicht aufgebracht wird, sowie ein Einschichtenverfahren angewendet, bei dem eine Schicht aus einem Polymerisat mit einer hydrophoben Gruppe und einer hydrophilen Gruppe in dem gleichen Molekül auf der Polymerisatoberfläche gebildet wird.
Auch im Falle eines Trägers mit einer metallischen Oberfläche, insbesondere einer Aluminiumoberfläche, hat man die Oberfläche der metallischen Schicht .,und die des Trägers vorzugsweise einer Aufrauhungsbehandlung, einer Behandlung durch Eintauchen in eine wässrige Lösung von Natriumsilicat, Kaliumfluorzirkonat, einem Phosphat und dgl. oder einer anodischen Oxydationsbehandlung unterzogen. Auch eine aufgerauhte (gekörnte) und in eine wässrige Natriums il icatlö sung eingetauchte Aluminiumplatte, wie sie in der US-Patentschrift 2 714 066 beschrieben
509836/0710 original inspected
25075A8
ist, und eine einer anodischen Oxidationsbehandlung unterzogene und anschließend in eine wässrige Lösung eines Alkalimetallsilicats eingetauchte Aluminiumplatte, wie sie in der US-Patentschrift 3 181 461 beschrieben ist, kann erfindungsgemäß verwendet werden. Die vorstehend beschriebene anodische Oxydationsbehandlung kann in der Weise durchgeführt werden, daß man die Aluminiumplatte in einen Elektrolyten einer wässrigen Lösung oder einer nicht-wässrigen Lösung einer anorganischen Säure wie Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure, Borsäure und dgl., einer organischen Säure, wie Oxalsäure, Sulfaminsäure und dgl.» oder einem Salz davon oder einer Kombination dieser Lösungen einführt und unter Verwendung der Aluminiumplatte als Anode einen elektrischen Strom fließen läßt. Darüber hinaus kann die in der US-Patentschrift 3 658 662 beschriebene elektrische Abscheidung von Silicat auf wirksame Weise zur Durchführung einer Oberflächenbehandlung einer Aluminiumschicht oder einer Aluminiumfolie verwendet v/erden.
Die vorstehend beschriebene Oberflächenbehandlung wird neben dem Hydrophilmachen der Oberfläche eines Trägers angewendet, um das Auftreten von schädlichen Reaktionen mit der aufgebrachten lichtempfindlichen Masse zu verhindern und um die Haftung zwischen der Trägeroberfläche und der darauf aufgebrachten lichtempfindlichen Schicht zu verbessern. Insbesondere dann, wenn Aluminium als Träger verwendet wird, hat seine Oberfläche ausreichend gute hydrophile Eigenschaften, so daß die Behandlung zum Hydrophilmachen der Oberfläche nicht erforderlich ist,und daher wird die vorstehend beschriebene Oberflächenbehandlung auf die Oberfläche des Aluminiumträgers
509836/071 0
hauptsächlich deshalb angewendet, um das Auftreten irgendwelcher schädlicher Reaktionen mit der lichtempfindlichen Masse zu verhindern und die Haftung zwischen der Trägeröberflache und der darauf aufgebrachten lichtempfindlichen Schicht zu verbessern.
Das erfindungsgemäß verwendete lichtempfindliche Diazooxid-Harz enthält mindestens eine Hydroxystyrοleinheit und eine eine über das Sauerstoffatom des Hydroxystyrols gebundene o-Chinondiazid-Gruppe enthaltende Hydroxystyroleinheit. Beispiele für ein solches Harz sind solche, welche Struktureinheiten der nachfolgend angegebenen allgemeinen Formeln I und II enthalten:
CH0 - CH -) (r~ CH0 - CH
ZX Z1
t ■ t
O OH
X ι
R,
COPY
509836/0710
- ίο -
CH0 -
CH ·}—
ι .Χ
CH0 - CH
-f CH0 - CH
£■ ι
CH0 . CH-OH
f -
OH
II
worin bedeuten:
X eine verbindende Gruppe, z. B. eine Sulfonylgruppe 0 0
It ■■-_-· Il
—f S ■)— oder eine Carbonyl gruppe —(— C —)— und dgl. ;
R^ eine aromatische o-Chinondiazid-Gruppe, wie z. B. 1,2-Benzochinondiazid, 1,2-Naphthochinondiazid, 3,3',4,4'-Biphenyl-bis-chinondiazid, 2,3-Phenanthrenchinondiazid und dgl., wobei die o-Chinondiazid-Gruppe an dem aromatischen Kern einen Substituenten,z. B. eine Alkylgruppe (z. B. eine solche mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, wie eine Methyl-, Äthyl-, Propyl-, Butyl-, Amyl-, Hexyl-, Heptyl-, Octyl-Gruppe und dgl.) oder eine Alkoxygruppe (z. B. eine solche mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, wie exneMethoxy-, Äthoxy-, Propoxy-, Butoxy-, Amyloxy-,
Hexyloxy-, Heptyloxy, Octyloxy-Gruppe und dgl.) aufweisen kann;
509836/0710
IL· eine Alkylgruppe (ζ. B. eine solche mit 1 bis 4 Kohlen-■ stoff atomen), eine Arylgruppe (z. B. eine Phenyl-, Tolyl-, XyIyI-, Naphthyl-Gruppe und dgl.) oder eine substituierte Arylgruppe, wobei R„ außerdem eine durch eine Alkyl-oder ' Arylgruppe substituierte Chinondiazidgruppe enthalten kann, wenn die Lichtzersetzung des Chinondiazids durch einen solchen Substituenteri_ nicht beeinflußt wird.
Die Struktureinheiten der allgemeinen Formel I enthaltende Verbindung wird nachfolgend kurz als "Verbindung der allgemeinen Formel I" bezeichnet, während die Struktureinheiten der allgemeinen Formel II enthaltende Verbindung nachfolgend kurz als " Verbindung der allgemeinen Formel II" bezeichnet wird.
Das Molekulargewicht der Verbindung der allgemeinen Formel I kann . im Bereich von etwa 1000 bis etwa 300 000, vorzugsweise von 3000 bis 100 000, liegenj χ und y bedeuten jeweils die Molanteile (Molverhältnisse) der angegebenen Komponenten und das Verhältnis x/x+y beträgt etwa 0,05 bis etwa 0,5, vorzugsweise 0,1 bis 0,4.
Die Verbindung Tier allgemeinen Formel I kann beispielsweise unter Anwendung der folgenden Polymerisationsreaktion hergestellt werden:
Poly(p-hydroxystyrol), welches die Hauptkette des Polymerisats bildet, und ein Säurehalogenid eines Diazooxids, das damit umgesetzt werden soll, wie z. B. Chinondiazidosulfonylchlorid,
509836/0710 copy
Chinondiazidocarbony!chlorid und dgl., werden in einem "gemeinsamen Lösungsmittel, wie Dioxan, Tetrahydrofuran, Aceton und dgl. ,einheitlich gelöst und dann wird die Reaktion unter Zugabe von beispielsweise Natriumcarbonat, Natriumbicarbonat, Kaliumcarbonat, Kaliumbicarbonat, Pyridin und dgl. zu der Lösung als .Base, in· einer Menge, die im allgemeinen äquivalent zu der Menge des Chinondiazidosäurehalogenids ist, allgemein bei etwa 10 bis etwa 80, vorzugsweise bei 20 bis 40 C durchgeführt. Ein geeignetes Molverhältnis von Säurehaiοgenid zu Poly(phydroxystyrol) beträgt etwa 0,1 bis etwa 1, vorzugsweise 0,2 bis 0,8 Äquivalente pro Hydroxylgruppenäquivalent. Dann wird nach dem Reinigen der so erhaltenen Reaktionsmischung unter Anwendung eines ümkristallisationsverfahrens das erfindungsgemäße lichtempfindliche Diazooxid-Harz erhalten. Das Poly(phydroxystyrol) kann nach den Angaben in "J. Poly. Sei." A-I, 2, 2175 bis 2184 (1969)» und ibid., ]_, 2405 bis 2410 (1969), hergestellt werden. · . -.
Das Molekulargewicht der Verbindung der allgemeinen Formel II kann · im Bereich von etwa 1000 bis etwa 300 000, vorzugsweise von 3000 bis 100 000, liegen, x, y und ζ stehen ebenfalls jeweils für den Molanteil (das Mo!verhältnis) der. angegebenen Komponenten und das Verhältnis x/x+y+z beträgt · etwa 0,05 bis etwa 0,5 während das Verhältnis y/x+y+z etwa 0,05 bis etwa 0,2 beträgt. *
Die Verbindung der allgemeinen Formel II kann auf folgende .Weise hergestellt^ werden:
COPY
509836/0710 . ·■:■ ■'
Das PolyCp-hydroxystyrol), das auch bei der Herstellung der Verbindung der allgemeinen Formel I als Ausgangsmaterial verwendet wird, wird zuerst mit einem Glycid yläther, wie Phenylglycidyläther, in einem Lösungsmittel, wie Aceton, Tetrahydrofuran, Methyläthylketon, Dioxan und dgl., vorzugsweise in Methyläthylketon, in Gegenwart von Triäthylamin, 1,4-Diazäbicyclo[2,2,2]-octan und dgl., in einer Menge von etwa 0,005 bis etwa 0,1, vorzugsweise von 0,01 bis 0,2 g pro g Poly(p-hydroxystyrol) beispielsweise bei etwa -10 bis etwa 80,vorzugsweise bei 20 bis 40 C, besonders bevorzugt bei der Rückflußtemperatur, umgesetzt unter Bildung des Polymerisats, das Struktureinheiten der allgemeinen Formel enthält
-£- CH - CH
£ CH -
OH
CH-)--y
III
CH-CH t
OH
.-O-TS
worin χ und y die oben angegebenen Bedeutungen haben.
Dann wird durch Umsetzung des so gebildeten Polymerisats der allgemeinen Formel III mit dem Säurehaiοgenid eines DiazoOxids, wie es auch bei der Herstellung der allgemeinen Formel I verwendet worden ist, unter den oben angegebenen Bedingungen die
5 0 9 8 3 6/0710
C0PY"
Verbindung der allgemeinen Formel II erhalten.· Als Ausgangs- ·" material können in den vorstehend beschriebenen Verfahren auch alkyl substituier1 te Glycidyläther und alkylsubstituierte Phenylglycidyläther", in denen der Alkylrest 1 bis 4 Kohlenstoffatom^ aufweist, verwendet werden.
In den vorstehend beschriebenen Verfahren zur Herstellung des erfindungsgemäß verwendeten lichtempfindlichen Diazooxid-Harzes "wird Polyhydroxystyrol als Ausgangsmaterial verwendet, anstelle einer solchen Verbindung kann aber auch ein Mischpolymerisat von Hydroxystyrol und einem Monomeren, das keine Gruppe enthält, mit welcher das o-Chinondiazid und das Lichtzersetzungsprodukt davon reagiert, als .Ausgangsmaterial verwendet werden. Beispiele für ein solches mischpolymerisierbares Comonomeres für das Mischpolymerisat sind Phthalsäureanhydrid, Styrol, Acrylnitril, ein Acrylsäureester und ein Methacrylsäureester.
Die erfindungsgemäß verwendete lichtempfindliche Diazooxid-Verbindung kann einzeln in Form einer lichtempfindlichen Schicht der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte verwendet werden, vorzugsweise wird die Verbindung jedoch zusammen mit einem in einer alkalischen Lösung löslichen Harz als Bindemittel dafür verwendet. Bevorzugte Beispiele für ein solches alkalilösliches Harz sind Phenol-Formaldhyd-Harze, Kresolharze, Styrol/Maleinsäureanhydrid-Mischpolymerisate und Schellack. Ein geeigneter Molekulargewichtsbereich kann bei den Phenol-Formaldehyd-Harzen und den Kresolharzen innerhalb des Bereiches von etwa 2000 bis etwa 50000, vorzugsweise von 4000 bis 10000, liegen und bei dem Styrol/Maleinsäureanhydrid-Misch-
509836/0710 copy
polymerisat kann er innerhalb des Bereiches von etwa 5000 bis etwa 20000, vorzugsweise von 8000 bis 14000, liegen. Ein solches Harz ist in einer alkalischen Lösung löslich, weist ein. hohes Haftvermögen an dem Träger auf. und ergibt die · gewünschten Effekte in bezug auf die DruckMügkeit. Beispiele für solche Harze sind in "Synthetic Resins in Coating", H. P. Preuss Noyes Development Corp., Pearl River, New York/USA, 0-965), beschrieben. · - ' "
Bei Verwendung der Mischung aus der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Diaz ο oxid-Verbindung und dem in einer alkalischen Lösung löslichen Bindemittelharz beträgt der geeignete Mengenanteil des lichtempfindlichen Diazooxids mehr als etwa 20 Gew.%. Wenn der Mengenanteil des lichtempfindlichen Diazooxids weniger als etwa 20 Gew.% der Mischung beträgt, treten Schwierigkeiten bei der Entwicklung auf, so daß unbefriedigende Bilder erzeugt und daher keine guten Abzüge erhalten werden. ...
Ferner kann die Druckplatte durch Einarbeiten der verschiedenen nachfolgend angegebenen Zusätze in die lichtempfindliche Schicht der erfindungsgemäßen lithographischen Druckplatte mit' den gewünschten spezifischen Eigenschaften versehen werden. So kann beispielsweise zur Erzielung sichtbarer Bilder nach dem Belichten und Entwickeln der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte ein Farbstoff in die lichtempfindliche Schicht der Druckplatte eingearbeitet werden. Zu geeigneten Beispielen für geeignete Farbstoffe, die für diesen Zweck verwendet werden*können, gehören C. I. 26 105 (Oil Red RR), C. I. 21 260 (Oil Scarlet
50S836/0710
COPY
Nr. 308), C. I. 74 350 (Oil Blue), C. I. 52 015 (Methyl Blue), C. 1.42 555 (Crystal Violet) und dgl. Ein solcher Farbstoff kann in einer solchen Menge in die lichtempfindliche Schicht eingearbeitet werden, die einen ausreichend deutlichen Kontrast zwischen der Farbe der hydrophilen Oberfläche des Trägers nach dem Belichten und Entwickeln der lichtempfindlichen Schicht der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte und der Farbe der übrigen Teile der lichtempfindlichen Schicht ergibt, und im allgemeinen ist es zweckmäßig, den Farbstoff in einer Menge von weniger als etwa 7 Gew.%, bezogen auf die Gesamtmenge der lichtempfindlichen BeSchichtungsmasse (Zusammensetzung), die zur Herstellung der lichtempfindlichen Schicht verwendet wird, einzuarbeiten.
Auch kann die lichtempfindliche Be Schichtungsmas se einen Weichmacher enthalten, um der auf den Träger aufgebrachten lichtempfindlichen Schicht die gewünschte Biegsamkeit (Flexibilität) zu verleihen. Beispiele für wirksame Weichmacher, die für diesen Zweck verwendet werden können, sind Phthalsäureester, wie Dime thylphthalat, Diäthylphthalat, Dibutylphthalat, Diisobutylphthalat, Dioctylphthalat, Octylcaprylphthalat, Dicyclohexylphthalt, Ditridecylphthalat, Butylbenzylphthalat, Diisodecylphthalat, Diarylphthalat und dgl.; Glykolester, wie Dimethylglykolphthalat, Äthylphthalyläthylglykolat, Methylphthalyläthylglykolat, Butylphthalylbutylglykolat, Triäthylenglykoldicaprylsäureester und dgl.; Phosphorsäureester, wie Trikresylphosphat, Triphenylphosphat und dgl.; aliphatische Dicarbonsäureester, wie Diisobutyladipat, Dioctyladipat, Dimethylsebacat, Dioctyl-
509836/0710
azelat, Dibutylmaleat und dgl.; Polyglycidylinethacrylat, Zxtronensäuretriäthylester, Glycerintriacetylester und
fr
Butyllaurat.
Der Weichmacher wird in einer Menge von weniger als etwa 5 Gew.%, bezogen auf die Gesamtmenge der lichtempfindlichen Beschichtungsmasse, verwendet.
Zur Herstellung sofort sichtbarer Bilder nach dem Belichten der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte können auch die folgenden Spiropyranverbindungen, die beim Belichten verfärbt werden, . in die lichtempfindlichen Beschichtungsmassen eingearbeitet werden, wie in der britischen Patentschrift 1 154 716 beschrieben. Zu geeigneten Beispielen gehören 6-Nitrobenzoindolinospiropyran, 1,3,3-Trimethylindolino-8'-methoxy-6'-nitrobenzospiropyran, 6'-Nitro-l,3,3-trimethylindolinobenzospiropyran, 1,3,3-Trimethylindolinobenzospiropyran, 1,3,3-Trimethylindolino-ß-naphthospiropyran, Xantho-ßbenzospiropyran, 6'-Nitro-1,3,3-trimethylspiro(indolin&2,21-2'H-chromen) , 6' ,S'-Dichlor-l^^-trimethylspiroCindolino^^1-2'H-chromen) und dgl. Eine geeignete Menge der Spiropyranverbinv. dung beträgt etwa 2 bis etwa 20 Gew. -%,bezogen auf die Gesamtmenge der lichtempfindlichen Beschichtungsmasse.
Die die erfindungsgemäß verwendete Diazooxid-Verbindung gegebenenfalls zusammen mit den oben angegebenen Zusätzen enthaltende lichtempfindliche Beschichtungsmasse wird in Form einer Lösung oder in Form einer Dispersion in einem geeigneten
509836/0710 original inspected
Lösungsmittel in Form einer Schicht auf einen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche aufgebracht. Beispiele für Lösungsmittel, die für diesen Zweck verwendet werden können, sind organische Lösungsmittel, wie Ketone, ζ. Β. Methylethylketon, Aceton, Methylispbutylketon und dgl. ; Äthylenglykplrionoaikyläther, wie Athylenglykolme thy lather, Ä thy 1 eng lykolmonoä thy 1-äther und dgl. ; Äther, wie Dioxan, Tetrahydrofuran und dgl. ; und eine Mischung davon, wie z. B. eine Äthylendichlorid/Methylcellosolveacetat-Mischung. Wenn die lichtempfindliche Beschichtungsmasse als Lösung in Form einer Schicht aufgebracht wird, beträgt die Konzentration der Masse (Zusammensetzung) in der Lösung vorzugsweise etwa 1 bis etwa 50, insbesondere 4 bis 20 Gew.%.
Die Beschichtungsmasse kann unter Anwendung üblicher Verfahren, beispielsweise durch Tauchbeschichten, Beschichten mittels eines Luftmessers, Tropfenbeschichten, Vorhangbeschichten oder auch durch Extrusionsbeschichten unter Verwendung eines Trichters, wie in der US-Patentschrift 2 681 294 beschrieben, in Form einer Schicht aufgebracht werden.
Die Menge der auf einen Träger aufgebrachten lichtempfindlichen
Schicht liegt im allgemeinen im Bereich von etwa
2
0,1 bis etwa 5 g/m , die zur Erzielung von etwa 10 bis etwa 10 000 guten Abzügen (Kopien) geeignete Menge der lichtempfindlichen Schicht liegt jedoch im Bereich von etwa 1,0
bis etwa 3,5 g/m . Wenn jedoch bei der Herstellung der Druckplatte oder beim Drucken besonders vorsichtig gearbeitet wird,
können mit einer BeSchichtungsmenge von nur etwa 1 g/m
509836/0710
etwa 5000 gute Abzüge (Kopien) erhalten werden. Wenn eine längere Drucklebensdauer erforderlich ist, wird die Beschichtungsmasse vorzugsweise in einer Menge von etwa 3,5 g/m aufgebracht. In diesem Falle ist bei der bildmäßigen Belichtung der lichtempfindlichen Schicht eine beträchtliche Belichtungsmenge erforderlich.
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche lithographische Druckplatte wird mit aktivem Licht, zum Beispiel dem Licht aus einer Kohlebogenlampe, einer Quecksilberlampe, einer Xenonlampe, einer Wolframlampe und dgl., belichtet und dann werden die belichteten Teile der lichtempfindlichen Schicht durch Entwickeln der Platte mit einem Entwickler entfernt, wodurch die hydrophile Oberfläche des Trägers an den entfernten Teilen freigelegt wird.
Zu geeigneten Entwicklern für die erfindungsgemäße lichtempfindliche lithographische Druckplatte gehören übliche alkalische Lösungen, wie sie bisher als Entwickler für eine lichtempfindliche Schicht verwendet worden sind, die eine lichtempfindliche Diazooxid-Verbindung enthält oder daraus besteht. Solche alkalischen Lösungen können zweckmäßig einen pH-Wert von etwa 9,5 bis etwa 12 aufweisen. So kann beispielsweise eine wässrige Lösung eines Alkali,z.B.vonNatriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natriumsilicat, Kaliumsilicat, tertiärem Natriumphosphat, primärem Natriumphosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat und dgl.joder eine wässrige Lösung eines basischen Lösungsmittels, wie Äthanolamin,verwendet werden. Die vorstehend angegebenen wässrigen alka-
509836/0710
Iisehen Lösungen können einzeln oder in Form einer Mischung davon verwendet werden. Außerdem können die wässrigen alkalischen Lösungen gewünschtenfalls noch bestimmte organische Lösungsmittel, wie Benzylalkohol, 2-Butoxyäthanol, 2-Methoxyäthanol, n-Propanol und dgl., in einer Menge von weniger als etwa 10 Gew.%, vorzugsweise von etwa 1 bis etwa 2 Gew.%, enthalten. Durch Verwendung einer geringen Menge des oben angegebenen organischen Lösungsmittels kann die Empfindlichkeit der Entwicklung merklich erhöht werden.
Außerdem kann der Entwickler gewünschtenfalls ein Netzmittel (z.B. ein oberflächenaktives Mittel) enthalten. Zu Beispielen für bevorzugte Netzmittel gehören Verbindungen mit mehr als 6 Kohlenstoffatomen, von denen jede eine hydrophile Gruppe, z. B. eine Hydroxy-, Carboxyl-, Natriumcarboxylat-, SuIfο-, Natriumsulfonat- und Alkylenoxygruppe enthält. Solche Netzmittel sind als anionische und nicht-ionische oberflächenaktive Mittel bekannt. Beispiele für anionische oberflächenaktive Mittel, die als Netzmittel in dem Entwickler verwendet werden können, sind Schwefelsäureester eines langkettigen Alkohols (z.B. eines solchen mit etwa 8 bis etwa 22 Kohlenstoffatomen) und Phosphorsäureester eines aliphatischen Alkohols, Sulfonate von dibasischen aliphatischen Säureestern, aliphatisch^ Aminosulfonate und dgl.
Beispiele für nicht-ionische oberflächenaktive Mittel sind Polyoxyäthylenalkylather, Polyoxyäthylenalkylester, Sorbitanalkylester, Polyoxypropylenäther, Polyoxyäthylenäther und dgl.
509836/0710
Spezifische Beispiele für solche oberflächenaktive Mittel sind in "Kaimen Kasseizai Binran (Handbook of Surface Active Agents)11, publiziert von Sangyo Tosho K. K., 1961, beschrieben.
Spezifische bevorzugte Netzmittel, die erfindungsgemäß verwendet werden, sind Duponol ME (Handelsbezeichnung für das Natriumsalz von Laurylalkoholsulfat der Firma E. I. du Pont de Nemours & Co.), Monogen Y-IOO (Handelsbezeichnung für das Natriumlaurylsulfat der Firma Daiichi Kogyo Seiyaku K. K.), das Natriumsalz des Octylalkoholschwefelsäureesters, das Ammoniumsalz des Laurylalkoholschwefelsäureesters, das Natriumsalz des XylenoIschwefelsäureester s, Duponol LS (Handelsbezeichnung für das Natriumsalz des Oleylalkoholschwefelsäureesters der Firma E. I. du Pont de Nemours & Co.), das Mononatriumsalz von N,N-Dihydroxyäthylglycin und dgl. Unter diesen Verbindungen ist das Na-SaIzdesLauylalkoholschwefelsäureesters am meisten bevorzugt. Diese oberflächenaktivenMittel können einzeln oder in Form einer Kombination aus zwei oder mehr Verbindungen verwendet werden. Auch die Menge des oberflächenaktiven Mittels kann variieren, im allgemeinen wird jedoch das oberflächenaktive Mittel in einer Menge von etwa 0,005 bis etwa 30, vorzugsweise von 0,5 bis 10, insbesondere von 4 bis 8 Gew.%, bezogen auf das Gewicht des Entwicklers, verwendet.
Die Entwicklung wird in der Weise durchgeführt, daß man die bildmäßig belichtete lichtempfindliche Schicht der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte auf die oben angegebene Weise mit dem Entwickler in Kontakt bringt. Der Kontakt kann nach verschiedenen Methoden, beispielsweise
509836/0710
durch Eintauchen, Aufsprühen und dgL, hergestellt werden.
Nachdem die lichtempfindliche Schicht und der Entwickler 60 bis 180 Sekunden lang miteinander in Kontakt gebracht worden sind, wird die Oberfläche der Druckplatte unter Verwendung einer geeigneten Bürste, eines absorbierenden Baumwollgewebes und dgl. sanft gerieben, wodurch nur die belichteten Teile der lichtempfindlichen Schicht entfernt werden. Um die Entwicklung wirksamer durchzuführen, wird die belichtete Oberfläche vorzugsweise bei einer Temperatur oberhalb etwa Raumtemperatur (etwa 20 bis etwa 30C), z. B. bei etwa 40 bis etwa 50 C,mit einem Entwickler behandelt.
Nachfolgend wird die Erfindung noch unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert.
Bei der in der Fig. 1 dargestellten Ausführungsform der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte besteht die auf einen Träger 1, beispielsweise einen Aluminiumträger, mit einer hydrophilen Oberfläche aufgebrachte lichtempfindliche Schicht 2 hauptsächlich aus der neuen erfindungs gemäß en D.iazooxid-Verbindung.
Durch bildmäßiges Belichten der in der Fig. 1 dargestellten lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte werden die belichteten Teile 2a in einer alkalischen Lösung löslich, wie es in Fig.2 dargestellt ist.
509836/0710
Der Zustand der bildmäßig belichteten, lichtempfindlichen Schicht nach der Entwicklungist in der Fig. 3 in Form einer Querschnittsansicht dargestellt. Wie die Fig. 3 zeigt, sind die belichteten Teile 2a der lichtempfindlichen Schicht 2 entfernt worden und die hydrophile Oberfläche des Trägers 1 ist freigelegt worden. Die freiliegende Oberfläche des Trägers ist hydrophil und oleophob. Andererseits verbleiben die nichtbelichteten Teile 2b der lichtempfindlichen Schicht 2 nach dem Entwickeln auf dem Träger und ihre Oberfläche ist oleophil und hydrophob. Auf diese Weise wird eine Druckplatte erhalten.
Erfindungsgemäß wird unter Verwendung der neuen lichtempfindlichen Diazooxid-Verbindung eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte mit eLner hohen Empfindlichkeit und ausgezeichneten Druckeigenschaften erhalten. Die erfindungsgemäße lithographische Druckplatte ist außerdem in Bezug auf ihr Farbaufnahmevermögen verbessert und die Kontrolle (Regulierung) der Vorratslösung beim Drucken wird ganz einfach, wenn eine Druckplatte verwendet wird, die aus der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte hergestellt ist. Darüberhinaus ist die erfindungsgemäße lithographische Druckplatte zeitbeständig. Bei Verwendung der erfindungsgemäßen lithographischen Druckplatte erhält man ausgezeichnete Abzüge (Kopien).
Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele näher erläutert, ohne jedoch darauf beschränkt zu sein. Die darin angegebenen Teile, Prozentsätze, Verhältnisse und dgl. beziehen sich, wenn nichts anderes angegeben ist, auf das Gewicht.
50 9836/0710 original inspected
Synthesebeispiel 1
27 g Naphthochinon-l,2-diazido-5-sulfonylchlorid und 12 g R)ly(p-hydroxystyrol) mit einem mittleren Molekulargewicht von 4770 wurden bei Raumtemperatur in 100 ml Tetrahydrofuran gelöst·. Unter Rühren der Lösung wurden 40 g einer wässrigen^lS gew.%igen Natriumcarbonatlösung über einen Zeitraum von 45 Minuten bei 30 C zu der Lösung zugetropft. Nach dem Abdestillierendes überschüssigen Tetrahydrofurans unter vermindertem Druck wurden 100 ml der Reaktionsmischung zu etwa 1 Liter Wasser zugegeben, dann wurde stark gerührt, wobei ein gelber Niederschlag auftrat. Der Niederschlag wurde durch Filtrieren abgetrennt, mehrmals mit Wasser gewaschen und bei Raumtemperatur unter vermindertem Druck getrocknet, wobei man 21 g eines lichtempfindlichen Diazooxidhar2es erhielt.
Synthesebeispiel 2
18 g Ibly(p-hydroxystyrol), 1 ml Triäthylamin und 2,3 g Phenylglycidylather wurden in 120 ml Methyläthyiketon 8,5 Stunden lang durch Kochen unter Rückfluß miteinander umgesetzt. Danach wurde das Methyläthyiketon unter vermindertem Druck abdestilliert, der erhaltene Feststoff wurde abgetrennt und in etwa 100 ml Äthanol gelöst. Dann wurde die Lösung zu etwa 750 ml Wasser zugegeben, wobei ein Niederschlag entstand. Der Niederschlag wurde durch Filtrieren abgetrennt und unter vermindertem Druck getrocknet, wobei 17 g eines Harzes erhalten
509836/0710
wurden. 15 g dieses Harzes wurden mit 27 g Naphthochinon-1,2-diazido -5-sulfonylchlorid auf die im Synthesebeispiel 1 angegebene Weise umgesetzt, wobei 22 g eines lichtempfindlichen Diazooxid-Harzes erhalten wurden.
Beispiel 1
1 Gew.-Teil des in dem obigen Synthesebeispiell hergestellten lichtempfindlichen Diazooxid-Harzes, 2 Gew.-Teile eines Phenolharzes vom Novolak-Typ [ein unter sauren Bedingungen hergestelltes Phenol-Forraaldehyd(Molverhältnis l:0,8)-Kondensationsprodukt mit einem Molekulargewicht von etwa 1200 bis etwa 1500] und 0,02 Gew.-Teile eine Farbstoffes (Oil Blue) wurden in 30 Gew.-Teileneiner Lösungsmittelmischung aus 12 Gew.-Teilen Äthylendichlorid und 18 Gew.-Teilen Methylcello solveacetat gleichmäßig gelöst. Die auf diese Weise her-i gestellte Beschichtungsmasse wurde in Form einer Schicht auf eine Aluminiumplätte einer Dicke von 0,24 mm, deren Oberfläche aufgerauht (gekörnt) wurden war, unter Verwendung einer Rotationsbeschichtungsvorrichtung aufgebracht und ge-
2 trocknet. Die BeSchichtungsmenge betrug 3,1 g/m , bezogen auf das Trockengewicht.
Die so erhaltene lichtempfindliche lithogaphisdie Druckplatte wurde durch ein transparentes positives Bild mit einem Plano-PS-Light (3,5 Ampere, unter Verwendung einer Metallhalogenidlampe) der Firma Fuji Photo Film Co., Ltd., in einem Abstand von 1 m von der Lichtquelle 40 Sekunden.lang belichtet und
509836/0710 OftiöiNÄL INSPECTED
:■■'■; ti
danach wurde die belichtete Platte eine Minute lang bei 25 C in einen 5 Gew.% wasserfreies Natriumsilicat enthaltenden Entwickler eingetaucht, wobei die Oberfläche der lithograph schenßrtickplatte schwach gerieben wurde, so daß die belichteten Teile entfernt wurden und ein positives Bild des Originals erhalten wurde.
Wenn die so erhaltene Druckplatte auf einer Rotationsdruckvorrichtung befestigt und zum Drucken verwendet wurde, wurden 50 000 gute Abzüge (Kopien) erhalten.
Beispiel 2
3 Gew.-Teile des in dem Synthesebeispiel 1 hergestellten lichtempfindlichen Diäzooxid-Harzesfund 0,02 Gew.-Teile eines Farbstoffes (Oil Blue) wurden in 30 Gew.-Teilen einer Lösungsmittelmischung aus 12 Gew.-Teilen Äthylendichlorid und 18 Gew.-Teilen Methylcellosolveacetat gleichmaßig gelöst. Die Beschichtungstnasse wurde in Form einer Schicht auf eine 0,3 mm dicke Aluminiumplatte, die vorher aufgerauht (ge-" körnt) worden war,unter Verwendung einer Rotationsbeschichtungsvorrichtung aufgebracht. In diesem Falle betrug die Beschich-
2
tungsmenge 2,6 g/m , bezogen auf das Trockengewicht.
Die so erhaltene lichtempfindliche lithographische Drud<platte wurde durch ein transparentes positives Bild mit einem Plano-PS-Light der Firma Fuji Photo Film Co., Ltd. , als Lichtquelle 3 Minuten lang in einem Abstand von 1 m von der Lichtquelle wie in Beispiel 1 belichtet und nach 1-minütigem Eintauchen
509836/0710 Cä«mal ϊ^sotsp
der belichteten Platte in einen 5 Gew.% wasserfreies Natriumsilicat enthaltenden Entwickler von 25 C wurde die Oberfläche der Platte schwach gerieben, wodurch die belichteten Teile entfernt wurden und eine' gute Druckplatte erhalten wurde.
Wenn die Druckplatte auf einer Rotationsdruckvorrichtung befestigt und zum Drucken verwendet wurde, wurden 45 000 gute Abzüge (Kopien) erhalten.
Beispiel 3
1 Gew.-Teil des in Beispiel 2 hergestellten lichtempfindlichen Diazooxid-Harzes, 2 Gew.-Teile eines Phenolharzes vom Novolak-Typ und 0,02 Gew.-Teile eines Farbstoffes (Oil Blue) wurden in 30 Gew.-Teileneiner Lösungsmittelmischung aus 12 Gew.-TeilenÄthylendichlorid und 18 Gew.-Teilen Methylcell osolveacetat gleichmäßig gelöst. Die dabei erhaltene Beschichtungsmasse wurde in Form einer Schicht auf eine 0,3 mm dicke Aluminiumplatte, deren Oberfläche aufgerauht (gekörnt) worden war, unter Verwendung einer Rotationsbeschichtungsvorricfrtung aufgebracht und getrocknet. Die Beschichtui
Trockengewicht.
2 Die BeSchichtungsmenge betrug 2,4 g/m , bezogen auf das
Die lichtempfindliche lithographische Druckplatte wurde durch ein transparentes positives Bild mit der in Beispiel 1 beschriebenen Lichtquelle in einem Abstand von 1 m von der Lichtquelle
509836/0710
40 Sekunden lang belichtet und nachIrminütigern Eintauchen der belichteten Platte in einen Entwickler aus 15 Gew.-Teilen ButyIceHosolve, 1 Gew.-Teil primärem Natriumphosphat, 7,5 Gew.-Teilen tertiärem Natriumphosphat, 10 Gew.-Teilen Polyvinylpyrrolidon K-15 (der Firma General Aniline and Film Corp.) 2 Gew.-Teilen Monogen Y-100 (Handelsbezeichnung für ein Produkt der Firma Daiichi Kogyo Seiyaku K.K.) und 200 Gew.-Teilen Wasser wurde die Oberfläche der Platte schwach gerieben unter Bildung einer Druckplatte mit einem ausge-.zeichneten positiven Bild. Wenn die auf diese Weise erhaltene Druckplatte zum Drucken auf einer Rotationsdruckvorrichtung verwendet wurde, wurden 50 000 gute Abzüge (Kopien) erhalten.
Beispiel 4
3 Gew.-Teile des in Beispiel 2 hergestellten lichtempfindlichen Diazooxid-Harzes und 0,02 Gew.-Teile eines Farbstoffes (Oil Blue) wurden in 30 Gew.-Teilen einer Lösungsmittelmischung aus 12 Gew.-Teilen Äthylendichlorid und 18 Gew.-Teilen Methylcellosolveacetat gelöst und die BeSchichtungsmasse wurde in Form einer Schicht auf eine Aluminiumplatte, deren Oberfläche aufgerauht (gekörnt) worden war, aufgebracht unter Verwendung einer Rotationsbeschichtungsvorrichtung, so daß die Beschich-
tungsmenge, bezogen auf das Trockengewicht, 2,3 g/m betrug.
Die lichtempfindliche lithographische Druckplatte wurde durch ein transparentes positives Bild mit ' einem Plano-PS-Light der Firma Fuji-Photo Film Co. in einem Abstand von 1 m von der
509836/0710
Lichtquelle 3 Minuten lang belichtet und nach einminütigem Eintauchen der belichteten Platte in eine Entwicklerlösung mit der gleichen Zusammensetzung wie in Beispiel 3 wurde die Platte schwach gerieben zur Erzielung einer Druckplatte mit einem guten positiven Bild.
Wenn die so erhaltene Druckplatte zum Drucken auf einer Rotationsdruckvorrichtung verwendet wurde, wurden 50 000 gute Abzüge (Kopien) erhalten.
Die Erfindung wurde zwar vorstehend unter Bezugnahme auf bevorzugte Ausführungsformen näher erläutert, es ist für den Fachmann jedoch selbstverständlich, daß sie darauf keineswegs beschränkt ist, sondern daß diese in vielerlei Hinsicht abgeändert und modifiziert werden können, ohne, daß dadurch der Rahmen der vorliegenden Erfindung verlassen wird.
Patentansprüche:
509836/0710

Claims (15)

  1. - 30 -
    Patentansprüche
    Lichtempfindliche lithographische Druckplatte, gekennzeichnet durch einen Träger und eine darauf aufgebrachte lichtempfindliche Schicht aus(mit) einem lichtempfindlichen Diazooxid-Harz, das eine Hydroxystyrolein heit und eine eine über das Sauerstoffatom des Hydroxystyrols gebundene o-Chinondiazid-Gruppe enthaltende Hydroxystyroleinheit enthält.
  2. 2. Lithographische Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem lichtempfindlichen Diazooxid-Harz um eine Verbindung handelt, die eine Struktureinheit der folgenden allgemeinen Formel enthält
    (D
    worin bedeuten:
    X eine Sulfonylgruppe oder eine Carbonylgruppe, R1 eine aromatische o-Chinondiazid-Gruppe, wobei die
    aromatische Gruppe der o-Chinon-diazid-Gruppe unsubsti tuiert oder durch eine Alkyl- oder Alkoxygruppe substi-
    509836/0710
    "-' 31 -
    tuiert sein kann, und
    χ und y jeweils die Molverhältnisse der angegebenen Komponenten, wobei χ/ χ + y im Bereich von etwa 0,05 bis 0,5 liegt.
  3. 3. Lithographische Druckplatte nachAnspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem lichtempfindlichen Diazöoxid-Harz um eine Verbindung handelt, die eine Struktureinheit der allgemeinen Formel enthält
    -f- CH2 - CH^-f- CH2 - CH^ e CH2 - CH
    I I I
    0 0 OH
    I I
    X CH0
    I X *·
    R1 CH- OH
    J- j Δ
    worin bedeuten:
    X eine Sulfonylgruppe oder eine Carbonyl gruppe,
    R eine aromatische o-Chinondiazid-Gruppe, wobei der aromatische Ring der o-Chinondiazid-Gruppe unsubstituiert oder durch eine Alkyl- oder Alkoxygruppe substituiert sein kann,
    R_ eine Alkylgruppe, eine Aryl gruppe oder eine durch eine Chinondiazid-Gruppe substituierte Alkyl- oder Agigruppe,und
    x, y und χ jeweils die Molverhältnisse der angegebenen Komponenten, wobei x/x+y+z im Bereich von etwa 0,05 bis 0,5 und y/x+y+z im Bereich von 0,05 bis 0,2 liegen.
    5 09836/0710
  4. 4. Lithographische Druckplatte nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei der aromatischen o-Chinon-
    diazid-Gruppe um eine 1,2-Benzochinondiazid-, 1,2-Naphthochinondiazid-, 3,3',4,4'-Biphenyl-bis-chinondiazid- oder 2,3-Phenanthrenchinondiazid-Gruppe handelt.
  5. 5. Lithographische Druckplatte nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,' daß es sich bei der aromatischen o-Chinondiazid-Gruppe um eine 1,2-Benzochino.ndiazid-, 1,2-Naphthochinondiazid-, 3,3' ^^'-Biphenyl-bis-chinondiazid- oder 2,3-Phenanthrenchinondiazid-Gruppe handelt.
  6. 6. Lithographische Druckplatte nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die die Struktureinheit der Formel I enthaltende Verbindung ein Molekulargewicht im Bereich von etwa 1000 bis etwa 300 000 aufweist.
  7. 7. Lithographische Druckplatte nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die die Struktureinheit der Formel II enthaltende Verbindung ein Molekulargewicht im Bereich von etwa 1000 bis etwa 300 000 aufweist.
  8. '8. ' Lithographische Druckplatte nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis x/x+y im Bereich von 0,1 bis 0,4 liegt.
  9. 9. Lithographische Druckplatte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfin« liehe Schicht als Bindemittel ein in einer alkalischen Lösung lösliches Harz enthält.
    509836/0710
  10. 10. Lithographische Druckplatte nach Anspruch 9., dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem in einer alkalischen Lösung löslichen Harz um ein Phenol-Formaldehyd-Harz, ein Kresolharz, ein Styrol/Maleinsäureanhydrid-Mischpolymerisat oder Schellack handelt.
  11. .111 „ Lithographische Druckplatte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß sie das lichtempfindliche Diazooxid-Harz in einer Menge'von mehr als etwa 20 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Mischung aus dem lichtempfindlichen Diazooxid-Harz und dem in einer alkalischen Lösung löslichen Bindemittelharz, enthält.
  12. 12. Lithographische Druckplatte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht mindestens einen Farbstoff, einen Weichmacher und/oder eine Spiropyranverbindung enthält.
  13. 13. Lithographische Druckplatte nach mindestens einem det Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Träger einen Aluminiumträger aufweist.
  14. 14.· Lithographische Druckplatte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht in einer
    Menge von etwa 0,1 bis etwa 5 g/m auf den Träger aufgebracht ist.
  15. 15. Verwendung der lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 14- in "einem
    509836/0710
    Verfahren zur Herstellung von Bildern, bei dem die lichtempfindliche lithographische Druckplatte mit aktinischer Strahlung belichtet und danach in einer alkalischen Entwicklerlösung entwickelt wird.
    Copy
    509836/0710
DE2507548A 1974-02-21 1975-02-21 Vorsensibilisierte lithographische Druckplatte und deren Verwendung zur Erzeugung von Bildern Expired DE2507548C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP49020925A JPS5236043B2 (de) 1974-02-21 1974-02-21

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2507548A1 true DE2507548A1 (de) 1975-09-04
DE2507548C2 DE2507548C2 (de) 1984-10-11

Family

ID=12040784

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2507548A Expired DE2507548C2 (de) 1974-02-21 1975-02-21 Vorsensibilisierte lithographische Druckplatte und deren Verwendung zur Erzeugung von Bildern

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JPS5236043B2 (de)
CA (1) CA1061156A (de)
DE (1) DE2507548C2 (de)
FR (1) FR2262329B1 (de)
GB (1) GB1494043A (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4828958A (en) * 1986-03-28 1989-05-09 Kabushiki Kaisha Toshiba Photosensitive composition and method of forming a resist pattern with copolymer of polyvinyl phenol
US5166033A (en) * 1989-10-02 1992-11-24 Nippon Zeon Co., Ltd. Positive resist composition containing quinone diazide sulfonate ester of vinylphenol compounds or isopropenylphenol compounds

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4439516A (en) * 1982-03-15 1984-03-27 Shipley Company Inc. High temperature positive diazo photoresist processing using polyvinyl phenol
JPS58205147A (ja) * 1982-05-25 1983-11-30 Sumitomo Chem Co Ltd ポジ型フオトレジスト組成物
FR2648468B1 (fr) * 1989-05-30 1992-12-04 Commissariat Energie Atomique Composition de resine sensible aux rayonnements uv et aux electrons
DE4106356A1 (de) * 1991-02-28 1992-09-03 Hoechst Ag Strahlungsempfindliche polymere mit naphthochinon-2-diazid-4-sulfonyl-gruppen und deren verwendung in einem positiv arbeitenden aufzeichnungsmaterial
JP3290316B2 (ja) 1994-11-18 2002-06-10 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP3506295B2 (ja) 1995-12-22 2004-03-15 富士写真フイルム株式会社 ポジ型感光性平版印刷版
KR100363695B1 (ko) * 1998-12-31 2003-04-11 주식회사 하이닉스반도체 유기난반사방지중합체및그의제조방법
US6528228B2 (en) 1999-12-22 2003-03-04 Kodak Polychrome Graphics, Llc Chemical resistant underlayer for positive-working printing plates
EP1884372B1 (de) 2006-08-03 2009-10-21 Agfa Graphics N.V. Flachdruckplattenträger
DE602007006822D1 (de) 2007-11-30 2010-07-08 Agfa Graphics Nv Verfahren zur Behandlung einer Lithografiedruckplatte
ES2430562T3 (es) 2008-03-04 2013-11-21 Agfa Graphics N.V. Método para la fabricación de un soporte de una plancha de impresión litográfica
ES2365885T3 (es) 2008-03-31 2011-10-13 Agfa Graphics N.V. Un método para tratar una plancha de impresión litográfica.
EP3032334B1 (de) 2014-12-08 2017-10-18 Agfa Graphics Nv System zur Reduzierung von Ablationsrückständen
EP3430474A1 (de) 2016-03-16 2019-01-23 Agfa Nv Verfahren und vorrichtung zur verarbeitung einer lithografiedruckplatte
EP3637188A1 (de) 2018-10-08 2020-04-15 Agfa Nv Sprudelnder entwicklervorläufer zur verarbeitung eines lithografischen druckplattenvorläufers
CN112650023B (zh) * 2020-12-23 2023-07-14 上海彤程电子材料有限公司 一种高分辨率光刻胶组合物及其应用

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2322230A1 (de) * 1972-05-05 1973-11-22 Oce Van Der Grinten Nv Lichtempfindliche praeparate

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2322230A1 (de) * 1972-05-05 1973-11-22 Oce Van Der Grinten Nv Lichtempfindliche praeparate

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4828958A (en) * 1986-03-28 1989-05-09 Kabushiki Kaisha Toshiba Photosensitive composition and method of forming a resist pattern with copolymer of polyvinyl phenol
US5166033A (en) * 1989-10-02 1992-11-24 Nippon Zeon Co., Ltd. Positive resist composition containing quinone diazide sulfonate ester of vinylphenol compounds or isopropenylphenol compounds

Also Published As

Publication number Publication date
CA1061156A (en) 1979-08-28
FR2262329B1 (de) 1977-04-15
JPS5236043B2 (de) 1977-09-13
FR2262329A1 (de) 1975-09-19
JPS50113305A (de) 1975-09-05
DE2507548C2 (de) 1984-10-11
GB1494043A (en) 1977-12-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2657922C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE2512933C2 (de) Lichtempfindliche Flachdruckplatte
DE2507548A1 (de) Lichtempfindliche lithographische druckplatte
DE2306248C3 (de) Durch Belichten löslich werdendes StofFgemisch und lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
EP0048876B1 (de) Lichthärtbares Gemisch und damit hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial
EP0006626B1 (de) Strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern
DE3120052A1 (de) Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes kopiermaterial
DE2024243A1 (de)
EP0135026B1 (de) Lichthärtbares Gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
DE2426159A1 (de) Lichtempfindliches kopiermaterial
DE2363806A1 (de) Photopolymerisierbare kopiermasse
DE1079949B (de) Lichtempfindliche Kopierschicht
DE3544165A1 (de) Photosolubilisierbare zusammensetzung
DE3123752C2 (de)
DE2507386A1 (de) Verfahren zur herstellung eines traegers fuer druckplatten
DE1597614A1 (de) Lichtempfindliche Kopierschicht
EP0003804A1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch, das einen Monoazofarbstoff enthält
EP0244748B1 (de) Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
DE2708264A1 (de) Material zur ausbildung eines metallbildes
DE1447024C3 (de) Verfahren zur Herstellung eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials und dessen Verwendung
DE2843069A1 (de) Offsetdruckplatte mit verbessertem farbkontrast zwischen den bild- und den nichtbildbereichen
EP0244749B1 (de) Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
EP0019896B1 (de) Farbprüffolie
EP0265375B1 (de) Photoresist-Zusammensetzungen
DE2461515A1 (de) Lichtempfindliche planographische druckplatte

Legal Events

Date Code Title Description
OI Miscellaneous see part 1
OD Request for examination
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee