DE2426159A1 - Lichtempfindliches kopiermaterial - Google Patents
Lichtempfindliches kopiermaterialInfo
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Description
DIPL-ING. A. GRÜNECKER 8000 München 22
DR.-ING. H. K(NKELDEY MoxMlianstroße 43
Telefon (08 11) 2228 62 (4 lines) DR.-ING. W. STOCKMAIR. Ae. E. ,«ufinstoptechn, Telegramme Monapaf München
PATENTANWÄLTE DR-K, SCHUMANN - D1PL.-1NG. P. JAKOB Telex 05-29380 _
.29. Mai 1974 P 814-3
FUJI ΡΗ0Ϊ0 FILM CO., LTD.
No. 210, Wakanuma, Minami Ashigara-Shi, Kanagawa, Japan
"Lichtempfindliches Kopiermaterial"
Es ist bekannt, daß sich O-Chinondiazide an der Diazogruppe
unter Einwirkung aktiver Strahlung zu carboxylgruppenhaltigen Verbindungen zersetzen. Wird somit eine ein O-Chinondiazid
enthaltende Kopierschicht bildweise belichtet und anschließend mit einem alkalischen Entwickler behandelt, so werden die belichteten
Bereiche entfernt und die nicht-belichteten Bereiche verbleiben als Bild. Demgemäß haben O-Chinondiazide in letzter
Zeit als lichtempfindliche Komponente des sog. Positiv-Positiv-Typs
Interesse erlangt, insbesondere als lichtempfindliches Kopiermaterial für Druckoriginale oder als photobeständige Masse
für die Photoätzung, wie dies z.B. in der US-PS 3 I8I 461 beschrieben
ist.
Diese Massen enthalten im allgemeinen nicht nur ein 0-Chinondiazid
sondern auch ein alkalilösliches Harz, z.B. ein Phenol-Formaldehyd-Harz oder ein Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymerisat,
zur Verstärkung der Bildfestigkeit und zur Verbesserung der filmbildenden Eigenschaften. Vorzugsweise werden sie in
Form einer homogenen Masse angewendet, die weitere Zusatzstoffe, wie Farbstoffe oder Weichmacher, enthalten kann.
Die bekannten, O-Chinondiazide enthaltenden lichtempfindlichen
Materialien besitzen jedoch den Machteil einer erheblichen Dicke.
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So sind z.B. 0,5 bis 10 u erforderlich, um eine ausreichende Bildfestigkeit zu erzielen,und deshalb muß eine große"Menge
0-Chinondiazid verwendet werden. Aus diesem Grund ist die Lichtempfindlichkeit
für Kopierschichten zu gering. Darüber hinaus sollen die Harze zur Verbesserung der Bildfestigkeit mit dem
O-Ghinondiazid mischbar sein, und deshalb ist nur eine begrenzte Auswahl von Materialien geeignet. Die Bildverstärkung kann somit
nicht zufriedenstellend durchgeführt werden.
Es wurde nun gefunden, daß die- vorgenannten Nachteile dadurch
überwunden werden können, daß man ein Trägerelement mit mehreren organischen Überzugsschichten versieht, wovon mindestens eine
Schicht ein 0-Chinondiazid enthält.
Gegenstand der Erfindung ist somit ein lichtempfindliches Kopiermaterial,
das gekennzeichnet ist durch mindestens zwei organische Überzugsschichten auf einem Träger, wobei mindestens eine der
Überzugsschichten eine lichtempfindliche Schicht mit einem O-Chinondiazid
ist, dessen Alkalilöslichkeit unter der Einwirkung aktiver Strahlung erhöht wird. Der Ausdruck "Alkalilöslichkeit" bezeichnet
nicht nur die Löslichkeit in den eigentlichen Alkalien, sondern die Löslichkeit in alkalischem Medium, z.B.such in Aminen.
Die Erfindung wird anhand der Zeichnungen erläutert. Es zeigen
Fig. 1 eine Querschnittsansicht einer Ausführungsform eines
lichtempfindlichen Kopiermaterials der Erfindung,
Fig. 2 eine Querschnittsansicht eines Kopiermaterials in den Hauptstufen der Bilderzeugung und
Fig. 3 eine Querschnittsansicht einer anderen Ausführungsform
eines lichtempfindlichen Kopiermaterials der Erfindung.
Die. Schichtstruktur des lichtempfindlichen Kopiermaterials der Erfindung kann grob in zwei Typen eingeteilt werden. Jede der
Schichtstrukturen und ein Verfahren zur Erzeugung eines Bildes unter Verwendung des lichtempfindlichen Kopiermaterials wird
nachfolgend mit Bezug auf die Zeichnungen erläutert.
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Fig. l(a) ist eine Querschnittsansicht einer ersten Schichtstruktur
des lichtempfindlichen Kopiermaterials der Erfindung, bei dem eine lichtempfindliche organische ijberzugsschicht 2
eines O-Chinondiazids und eine von der Schicht 2 unterschiedliche organische Überzugsschicht 3 in dieser Reihenfolge auf einem
Trägerelement 1 vorgesehen sind. Die vorgenannte organische Überzugsschicht besitzt die Eigenschaft, daß sie in dem nach der Belichtung
verwendeten Entwickler kaum löslich und für den verwendeten Entwickler durchlässig ist. In Pig. Kb) wird das lichtempfindliche
Kopiermaterial von Fig. l(a) hinter einem Original aktiver -Strahlung ausgesetzt, und somit wird der belichtete Bereich
2(a) der organischen Überzugsschicht 2 alkalilöslich gemacht. Wird dieses belichtete lichtempfindliche Kopiermaterial
mit einer alkalischen Lösung behandelt, so durchdringt die alkalische
Lösung die organische Überzugsschicht 33 löst die organische
Überzugsschicht 2(a) auf und wird mit der organischen Überzugsschicht
3(a) vollständig entfernt.Hierdurch wird der Träger 1 freigelegt, und die Erzeugung des Bildes erfolgt wie in
Fig. l(c) dargestellt.
Fig. 2(a) ist eine Querschnittsansicht einer zweiten Schichtstruktur
des lichtempfindlichen Kopiermaterials der Erfindung, bei dem eine organische Überzugsschicht 4 und eine lichtempfindliche
organische Überzugsschicht 5 eines O-Chinondiazids in dieser Reihenfolge auf einem Trägerelement 1 vorgesehen sind. In
diesem Fall wird die organische Überzugsschicht 4 durch den nach der Belichtung angewendeten Entwickler aufgelöst oder gequollen
und rasch abgezogen . ' In Fig. 2(b) wird das lichtempfindliche
Kopiermaterials der Figur 2(a) hinter einem Original aktiver Strahlung ausgesetzt, und somit wird der belichtete Bereich 5a der organischen
Überzugsschicht 5 alkalilöslich gemacht. Wird dieses belichtete lichtempfindliche Kopiermaterial mit einem alkalischen
Entwickler behandelt, so wird die organische überzugsschieht 5a
aufgelöst sowie entfernt, und hierauf wird die untere organische Überzugsschicht 4a ebenfalls entfernt, wobei der Träger 1 auf diese
Weise freigelegt wird. Auf der anderen Seite wird der nichtbelichtete Bereich 5b durch den alkalischen Entwickler nicht ent-
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fernt; die untere organische Überzugsschicht 4b wird vor dem
Entwickler geschützt und verbleibt so wie sie ist, wobei ein Bild, wie in Fig. 2(c) dargestellt, erzeugt wird.
Fig. 3 zeigt eine Querschnittsansicht einer anderen Schichtstruktur
des lichtempfindlichen Kopiermaterials der Erfindung, bei dem eine lichtempfindliche organische Überzugsschicht 6 aus einem
O-Chinondiazid, eine organische Überzugsschicht 7 und eine lichtempfindliche
organische Überzugsschicht 8 aus einem O-Chinondiazid
in dieser Reihenfolge auf einem Träger 1 vorgesehen sind. In dieser Schichtstruktur ist die organische Überzugsschicht 7
für einen alkalischen Entwickler durchlässig oder wird durch einen alkalischen Entwickler aufgelöst oder gequollen.
Erfindungsgemäß können als Träger Folien bzw. Platten aus Metall, z.B. aus Aluminium, Aluminiumlegierungen, Zink oder Kupfer, oder
aus.Kunststoffen, Papier oder sonstigen Werkstoffen, wie Nitrocellulose,
Cellulosediacetat,. Cellulosetriacetat, Cellulosebutyrat, Celluloseacetatbutyrat, Polyäthylenterephthalat, Polystyrol,
Polycarbonat, Polyäthylen, Polypropylen, Papier, Polyäthylenoder Polystyrol-beschichtetes Papier oder Glas, verwendet werden.
Wenn das lichtempfindliche Material der Erfindung in Form einer lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte verwendet wird,
ist die Oberfläche des Trägers vorzugsweise hydrophil. In diesem Fall werden Aluminiumfolien als Träger besonders bevorzugt, die
vorzugsweise durch Sandstrahlen, durch Behandeln mit einem Phosphat oder Kaliumfluorzirkonat oder durch anodische Oxydation,
vorbehandelt werden. Darüber hinaus werden vorzugsweise Aluminiumfolien bzw. -platten, die einer Vorbehandlung mit einer wäßrigen
Lösung von Natriumsilikafc nach dem S,andstrahlen (US-PS 2 714 066),
nach einer anodischen Oxydation
und Aluminiumfolien, die/einer Behandlung mit einer wäßrigen
Lösung eines Alkalimetallsilikats (US-PS 3 l8l 461) unterworfen worden sind, verwendet. Die vorgenannte anodische Oxydation wird
z.B. so durchgeführt, daß man einen elektrischen Strom durch eine als Anode geschaltete Aluminiumfolie in einem Elektrolyt aus
einer oder mehreren wäßrigen oder nicht-wäßrigen Lösung(en) anorganischer
Säuren, wie Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure
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oder Borsäure, oder organischer Säuren, wie Oxalsäure oder SuIfaminsäure,
hindurchschickt.
Auf der anderen Seite können die O-Chinondiazide der Erfindung
aus einer großen Anzahl von Verbindungen verschiedener Strukturen ausgewählt werden, die mindestens eine O-Chinondiazid-Gruppe besitzen,
bei denen die Alkalilöslichkeit unter Bestrahlung mit aktiver Strahlung erhöht wird. Solche ^Chinondiazide
sind im einzelnen in J. Kosar "Light Sensitive Systems", S. 339 bis 352, John Wiley & Sons, Inc. beschrieben. Die dort genannten
Verbindungen sind erfindungsgemäß geeignet. Insbesondere werden O-Chinondiazid-sulfonsäureester und zahlreiche aromatische Polyhydroxy
!verbindungen bevorzugt. Beispiele für aromatische Polyhydroxyverbindungen sind Hydrochinon, Brenzkatechin, 2,2'-Dihydroxybiphenyl,
4,4'-Dihydroxybiphenyl, 4,4'-Dihydroxy-diphenylather,
4,4'-Dihydroxydiphenylsulfid, 4,4'-Dihydroxydiphenylsulfon,
4,4'-Dihydroxydiphenylmethan, Bisphenol A,
1,8-Dihydroxynaphthalin, 2,7-Dihydroxynaphthalin, 1,4-Dihydroxynaphthaiin,
2,3-Dihydroxyhaphthalin, 2,2'-Dihydroxy-l,l'-dinaphthylmethan,
4,4'-Dihydroxybenzophenon, c£,ß-Bis-(4-hydroxyphenyl)-äthan
, 1,4-Dihydroxyantharachinon, 2,7-Dihydroxyfluoren,
Pyrogallol, Methylgallat, 2,2',4,4'-Tetrahydroxybiphenyl
und Tetrahydroxybenzochinon.
Typische Beispiele für O-Chinöndiazid-sulfonsäureester .und aromatische
Polyhydroxyverbindungen sind 2,2'-DihydroxydiphenyIbis-(naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonsäureester),
2,3,4-Trioxybenzophenon-rbis-(naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonsäureester),
2,7-Dihydroxynaphthalin-bis-(naphthochinon-l,2-diazid-5-sulfonsäureester)
und die Ester aus Phenol-Formaldehyd-Harz und Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonsäure.
Der Naphthochinon-1,2-diazid-5-sulfonsäureester des Polyhydroxyphenyls,
erhalten durch Polykondensation von Aceton mit Pyrogallol (US-PS 3 635 709)jwird besonders bevorzugt.
Das O-Chinondiazid der Erfindung wird allein oder im Gemisch
mit einem Harz als eine Schicht auf. eine gewünschte Stelle auf
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einem Träger zur Erzeugung einer lichtempfindlichen organischen Überzugsschicht aufgebracht. Als mit dem O-Chinondiazid zu vermischendes
Harz sind alkalilösliche Harze, wie Phenolharze, Kresolharze, Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymerisate, oder
Schellak geeignet. Da eine dünnere lichtempfindliche organische Überzugsschicht in dem lichtempfindlichen Kopiermaterial der Erfindung
als bei der lichtempfindlichen Schicht der Einzelschicht nach dem Stand der Technik verwendet werden kann, können Harze
verwendet werden, die in alkalischen Lösungen kaum löslich sind und bisher nicht verwendet werden könnten. Beispiele hierfür
sind p-Phenylphenol-Formaldehyd-Harze, p-tert.-Butylphenol-Formaldehyd-Harze
oder Polyvinylbutyral, die erfindungsgemäß
zur Erhöhung der Festigkeit eines Bildbereiches verwendet werden können.
Erfolgt die Verwendung des O-Chinondiazids im Gemisch mit einem
oder mehreren dieser Harze, so ist das O-Chinodiazid vorzugsweise in einer Menge von mindestens etwa 20 Gewichtsprozent vorhanden.
Beträgt der Gehalt an O-Chinondiazid weniger als 20 Gewichtsprozent,
so kann eine ausreichende Empfindlichkeit und Bildschärfe nicht erreicht werden.
Ein Gemisch, das ein für die lichtempfindliche organische Überzugsschicht geeignetes O-Chinodiazid enthält, wird in einem
geeigneten Lösungsmittel gelöst und als Beschichtung aufgetragen. Beispiele für geeignete Lösungsmittel sind Äthylenglykolmonoalkylather,
wie Äthylenglykolmonomethylather oder Äthyleriglykolmonoäthylather,
ihre Essigsäureester, wie Äthylenglykolmonomethy lätheracetat oder Äthylenelykolmonoäthylätheracetat,
Ketone, wie Methyläthylketon, Methylisobutylketon oder Cyclohexanon,
Butylacetat, Dioxan, Pyridin oder Dimethylformamid.
Die sich von der lichtempfindlichen organischen Überzugsschicht unterscheidende organische Überzugsschicht enthält einen
wasserunlöslichen, jedoch in organischen Lösungsmitteln löslichen,
hochmolekularen Stoff mit Filmbildungseigenschaften. In der Schichtstruktur des oben beschriebenen ersten Typs werden
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darüber hinaus die zweite Schicht und ferner die lichtunempfindliche
Schicht nicht leichter in einem Entwickler gelöst als der lichtempfindliche Teil der ersten Schicht und sind vorzugsweise,
für den Entwickler durchlässig. Eine lichtunempfindliche Schicht kann z.B. ein Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymerisat, ein
Styrol-Acrylsäure-Copolymerisat, Polyvinylbutyral, Schellak oder ein lösliches Polyamid enthalten.
In der Schichtstruktur des zweiten Typs wird die untere Schicht,
die von einem Entwickler leicht gelöst wird, durch die obere unbelichtete Schicht geschützt, um ein Bild zu erzeugen. Es ist
somit erforderlich, daß die untere Schicht leicht in einem Entwickler gelöst oder gequollen und abgezogen wird. Für diesen
Zweck sind z.B. Phenol-Formaldehyd-Harze, Kresol-Formaldehyd-Harze,
Polyvinylhydrogenphthalat oder Methacrylsäure-Methylmethacrylat-Copolymen'sate
geeignet. Auf der anderen Seite ist im Fall des dritten Typs, vrie in Figur 3 dargestellt, die Stabilität
des Bildes besser in der Entwicklung als bei dem ersten und zweiten Typ, und es können beliebige für den ersten oder
zweiten Typ geeignete Harze verwendet werden.
Sowohl bei dem ersten als auch bei dem zweiten und dritten Typ kann jede Schicht nicht nur aus einem einzigen Harz bestehen,
sondern man kann auch ein Gemisch aus verschiedenen Harzen verwenden, um die Lösungs- oder Quellungseigenschaften im Hinblick
auf die Entwickler sowie die Überzugseigenschaften zu steuern. Darüber hinaus kann diesen Harzen ein O-Chinondiazid innerhalb
eines Bereiches einverleibt werden, der sie nicht lichtempfindlich macht.
Gegebenenfalls können in dem organischen Überzug verschiedene organische oder anorganische Zusatzstoffe enthalten sein. Zum
Beispiel können Farbstoffe (wie Kristall-Violett oder ölblau (Oil Blue) in einer Menge von etwa 0,5 bis 5 Gewichtsprozent,
oder Pigmente (wie Phthalocyaninlau) in einer Menge von etwa 5
bis 40 Gewichtsprozent dem Überzug zur Färbung, oder Füllstoffe oder Weichmacher (wie Titandioxid oder Ton), jeweils in Mengen
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von etwa 5 bis 30 Gewichtsprozent, zugesetzt werden, um die mechanische Festigkeit des Überzugs zu erhöhen.
Die Löse-, Quell- und Abzieheigenschaften der lichtunempfindlLchen
Schichten des ersten und zweiten Typs bestimmen sich nach Maßgabe der Stärke des für die verwendete lichtempfindliche Schicht
geeigneten Entwicklers. Es ist bekannt, daß die Stärke eines Entwicklers nach Maßgabe der Zusammensetzung der O-Chinondiazidlichtempfindlichen
Schicht differiert. Der geeignete Bereich der Entwicklerstärke, die angewendet werden kann, verbreitert
sich im allgemeinen mit einer Erhöhung im Gehalt der O-Chinondiazid-lichtempfindlichen
Schicht. Die Stärke eines Entwicklers wird zweckmäßig innerhalb dieses Bereiches ausgewählt. Somit
muß die Auswahl eines Harzes für den ersten Typ oder zweiten Typ niehtrauf dem Grad der gewöhnlichen Auflösung oder Quellung
basieren, und, auf der anderen Seite, können Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymerisate
oder Styrol-Acrylsäure-Copolymerisate für jeden Typ durch Auswahl eines lichtempfindlichen Gemisches
verwendet werden.
Die Beschichtung mit den organischen Überzügen gemäß
der Erfindung wird im allgemeinen durch wiederholtes Auftragen der Schichtkomponenten mit anschließendem Trocknen durchgeführt.
Selbstverständlich können jedoch auch andere Beschichtungsmethoden,
wie Gießen, übertragen oder gleichzeitiges Mehrschichtgießen, angewendet werden.
Die Dicke jeder Schicht in dem lichtempfindlichen Kopiermaterial der Erfindung beträgt unabhängig von der Schichtstruktur etwa
2 2
0,01 bis 7,0 g/m , vorzugsweise 0,02 bis 5,0 g/m , jeweils
bezogen auf Peststoffe, und die Dicke einer lichtempfindlichen
organischen Überzugsschicht, die ein O-Chinodiazid enthält, be-
2
trägt vorzugsweise 3,0 g/m oder weniger. Darüber hinaus beträgt die Summe der auf einem Träger vorgesehenen organischen über-
trägt vorzugsweise 3,0 g/m oder weniger. Darüber hinaus beträgt die Summe der auf einem Träger vorgesehenen organischen über-
o
zugsschichten vorzugsweise 7,0 g/m oder weniger.
zugsschichten vorzugsweise 7,0 g/m oder weniger.
Das lichtempfindliche Kopiermaterial der Erfindung wird bild-
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weise mittels aktiver Strahlung belichtet. Hierzu ist z.B. Strahlung von einer Quecksilberlampe, Xenonlampe oder Kohlelichtbogenlampe
geeignet. Anschließend erfolgt die Entwicklung. Belichtungszeit und Belichtungsmenge können variieren; geeignete
Belichtungszeiten sind etwa 5 Sekunden bis 5 Minuten, vorzugsweise
etwa 5 Sekunden bis 1 Minute. Geeignete Entwickler sind Alkalilösungen, die als Entwickler für O-Chinondiazide enthaltende
lichtempfindliche Schichten bekannt sind. Geeignet sind z.B. wäßrige Lösungen von anorganischen Basen, wie Natriumhydroxid,
Kaliumhydroxid, Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Natriumtriphosphat, Kaliumtriphosphat, Natriumcarbonat, oder Kaliumcarbonat,
sowie basische Lösungsmittel, wie Monoäthanolamin,
Diäthanolamin, Propanolamin oder Morpholin. Eine geeignete Entwicklerlösungskonze'ntration
kann von etwa 1 bis 20 Gewichtsprozent, vorzugsweise 3 bis 15 Gewichtsprozent, reichen. Gegebenenfalls
können diesen wäßrigen Lösungen organische Lösungsmittel und/oder Tenside (grenzflächenaktive Stoffe) zugesetzt werden.
Wo die Benetzung und Durchdringung des Entwicklers durch Verwendung
mehrschichtiger organischer Überzüge im Vergleich zu
der Benetzung und Durchdringung einer O-Chinondiazid-lichtemp—
findlichen Schicht allein herabgesetzt wird, ist es von Vorteil, eine geeignete Menge eines organischen Lösungsmittels, wie
n-Propanol, oder ein Tensid, wie Natriumlaurylsulfat, zuzusetzen.
Das lichtempfindliche Kopiermaterial der Erfindung bietet den Vorteil, daß die Festigkeit des Bildes verbessert werden kann,
ohne daß die Dicke der lichtempfindlichen Schicht erhöht wird. Somit läßt sich die Menge an O-Chinondiazid reduzieren, was sich
in einer höheren Empfindlichkeit auswirkt. Da zusätzlich zu einer lichtempfindlichen Schicht eine organische Überzugsschicht
vorgesehen ist, wird darüber hinaus der Auswahlbereich der Harze, die zur Verfestigung des Bildes verwendet werden können, verbreitert.
Nach Maßgabe des Endverwendungszwecks können Harze mit den gewünschten Eigenschaften ausgewählt werden.
Das lichtempfindliche Kopiermaterial der Erfindung ist für die verschiedensten Zwecke anwendbar, z.B. außer der Herstellung von
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Druckplatten, zur Herstellung von Originalen für überkopfprojektoren
und Schilder (z.B. Namens- oder Typenschilder).
Die Beispiele erläutern die Erfindung. Falls nicht anders angegeben,
beziehen sich alle Teile-, Prozent-, Verhältnis- und sonstige Angaben auf das Gewicht.
1 Teil eines Esters von Naphthochinon-l,2-diazid-5-sulfonsäure
und des Polyhydroxyphenyls, erhalten durch Polykondensation von Aceton mit Pyrogallol, wie in Beispiel 1 der US-PS 3 635 709 beschrieben,
wird in 100 Teilen Äthylenglykolmonomethyläther gelöst. Mit dieser Lösung wird eine körnige Aluminiumfolie einer
ρ Dicke von 0,3 mm in einer Menge von 25 ml/m beschichtet. Nach
dem Trocknen besitzt die lichtempfindliche Schicht aus dem
0-Chinondiazid eine Dicke von etwa 0,25 g/m· . Diese lichtempfindliche
Schicht ist kaum löslich in einer Mischlösung aus n-Propanol und Methanol (1:1, bezogen auf das Volumen).
8 Teile eines Styrol-Maleinsäureanhydric'-^oDolymerisats (Molverhältnis
7:3; Halb-Äthylester; Molekulargewicht etwa 100 000)
und 0,05 Teile eines Farbstoffs (Oil Blue, Hersteller Orient Kagaku Co., Ltd.) werden in 100 Teilen der gemischten Alkohollösung
gelöst. Mit der erhaltenen Lösung wird die O-Chinondiazidlichtempfindliche
Schicht so beschichtet, daß man eine Dicke von
ρ
2,0 g/m , bezogen auf Feststoffe, erhält.
2,0 g/m , bezogen auf Feststoffe, erhält.
Die so erhaltene, mehrschichtige lichtempfindliche Platte wird in innige Berührung mit einem transparenten positiven Bild gebracht,
20 Sekunden der Strahlung einer Kohlelichtbogenlampe (45 Ampere, 3 Phasen) aus einer Entfernung van 70 cm ausgesetzt
und mit einer 3-prozentigen wäßrigen Natriumsilikatlösung entwickelt.
Mach der Entfernung der belichteten Bereiche erhält man ein positives Bild, das dem Original entspricht. Es zeigt
sich, aufgrund des Zustands des mit dem Farbstoff gefärbten
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Bildbereichs, daß die laminierte erste Schicht und zweite Schicht in Kombination ein Bild ergeben. Diese Platte wird in herkömmlicher
Weise als Offset-Druckplatte verwendet, wobei man sehr gute Drucke erhält.
Dieses gute Ergebnis wird mit einer Belichtungsmenge von etwa der Hälfte oder weniger derjenigen Menge erhalten, die für herkömmliche,
O-Chinondiazide enthaltende lichtempfindliche Platten erforderlich ist.
Das Verfahren von Beispiel 1 wird wiederholt, wobei jedoch Schellak (Herst. Nippon Schellak Kogyo Co., Ltd.) anstelle des
Styrol-Maleinsäure-Copolymerisats verv/endet wird. Man erhält
eine lichtempfindliche Platte. Bei der Entwicklung dieser Platte mit einer 1-prozentigen wäßrigen Natriumsilikatlösung erhält
man eine ähnlich hohe Empfindlichkeit wie in Beispiel 1. Die
Platte ist zur Verwendung als Offset-Druckplatte geeignet.
Das Verfahren von Beispiel 1 wird wiederholt, wobei jedoch eine transparente Polyäthylenterephthalatfolie mit einer Dicke von
0,1 mm anstelle der körnigen Aluminiumfolie verwendet wird. Man erhält eine laminierte lichtempfindliche Platte. Nach der Entwicklung
erhält man eine transparente Püsfcte mit einem blauen
Bild, die als Original für die Wiedergabe geeignet ist.
Beispiel 1I
Auf einer körnigen Aluminiumfolie (ähnlich Beispiel 1) wird eine erste lichtempfindliche Schicht aus einem Ester von Naphthochinon-l,2-diazid-5-sulfonsäure
mit Polyhydroxyphenyl (Konden-
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sationsprodukt aus Aceton und Pyrogallol) hergestellt. 4 Teile
eines alkohollöslichen Polyamids (Toray Amilan 4000 CM) werden in 100 Teilen einer Mischlösung aus n-Propanol und Methanol
(1 : 1, bezogen auf das Volumen) gelöst. Mit dieser Lösung wird die vorgenannte O-Chinondiazid-lichtempfindliche Schicht in
einer Dicke von etwa 1,0 g/m , bezogen auf Peststoffe, beschichtet.
Nach dem Trocknen wird die so erhaltene lichtempfindliche Platte innig mit einem positiven Bild in Berührung gebracht,
bildweise 20 Sekunden der Strahlung einer Kohlelichtbogenlampe (45 Ampere, 3 Phasen) aus einer Entfernung von 70 cm
ausgesetzt, und dann mit einer wäßrigen Lösung entwickelt, die 3 Prozent Natriumsilikat und 0,8 Prozent Natriumlaurylsulfat
enthält. Das erhaltene Bild besitzt ausgezeichnete Eigenschaften hinsichtlich Gebrauchsfestigkeit und Kratzfestigkeit. Bei Verwendung
dieser Platte als Offset-Druckplatte können 50 000 oder
mehr gute Drucke hergestellt werden.
Bei einem Versuch, das vorgenannte 0-Chinondiazid und das Polyamid
miteinander zu einer einzigen lichtempfindlichen Schicht zu vermischen erhält man ein unbrauchbares Ergebnis, da die
Komponenten nicht miteinander mischbar sind und eine Trübung hervorrufen.
Gemäß Beispiel 4 wird auf einer körnigen Aluminiumfolie eine
erste lichtempfindliche Schicht aus dem O-Chinondiazid in einer
2
Dicke von etwa 0,25 g/cm und eine zweite alkohollösliche PoIyamidschicht in einer Dicke von etwa 1,0 g/m hergestellt. Man erhält auf diese Weise eine mehrschichtige lichtempfindliche Platte, die von Athylenglykolmonomethylather nicht gelöst wird. Anschließend werden 0,5 Teile des in Beispiel 1 verwendeten O-Chinondiazids , 1,5 Teile Phenol-Formaldehyd-Novolakharz und 0,02 Teile eines Farbstoffs (Oil Blue, Herst. Orient Kagaku Co., Ltd.) in 100 Teilen Athylenglykolmonomethylather zur Herstellung einer dritten Beschichtungslösung gelöst, die auf die
Dicke von etwa 0,25 g/cm und eine zweite alkohollösliche PoIyamidschicht in einer Dicke von etwa 1,0 g/m hergestellt. Man erhält auf diese Weise eine mehrschichtige lichtempfindliche Platte, die von Athylenglykolmonomethylather nicht gelöst wird. Anschließend werden 0,5 Teile des in Beispiel 1 verwendeten O-Chinondiazids , 1,5 Teile Phenol-Formaldehyd-Novolakharz und 0,02 Teile eines Farbstoffs (Oil Blue, Herst. Orient Kagaku Co., Ltd.) in 100 Teilen Athylenglykolmonomethylather zur Herstellung einer dritten Beschichtungslösung gelöst, die auf die
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vorgenannte lichtempfindliche Platte mit einer Dicke von 0,5 g/m , bezogen auf Peststoffe, aufgebracht wird. Nach dem
Trocknen wird die erhaltene lichtempfindliche Platte mit dreischichtiger Struktur als Druckplatte gemäß Beispiel 4 verwendet.
Diese- Druckplatte besitzt sowohl ein sehr fest haftendes Bild als auch eine hohe Druckbeständigkeit. Die ölempfindlichkeit des
Bildes ist stärker verbessert als im Fall des Beispiels 4. Man erhält eine Anzahl von Drlucken mit ausreichender Parbdichte mit
Ausnahme einiger Drucke schlechter Qualität zu Beginn des Drückens.
10 Teile eines Methacrylsäure-Methylmethacrylat-Copolymerisats
(Copolymerisations-Molverhältnis 2:8; mittleres Molekulargewicht etwa 70 000) und 0,1 Teile eines Farbstoffs (Oil Pink,
Herst. Orient Kagaku Co., Ltd.) werden in 100 Teilen Ä'thylenglykolmonomethylather
gelöst. Mit dieser Lösung wird eine körni-
2 ge Aluminiumfolie von 0,3 mm Dicke in einer Menge von. 2,0 g/m ,
bezogen auf Feststoffe, beschichtet.- Anschließend wird getrocknet. Hierauf werden 2 Teile eines Esters eines Kresol-Formaldehyd-Novolakharzes
mit Naphthochinon-l,2-diazid-5-sulfonsäure in 100 Teilen Methylenchlorid gelöst. Mit dieser Lösung wird die
vorgenannte Schicht aus dem Methacrylsäure-Methylmethacrylat-
2 Copolymerisat und dem Farbstoff mit einer Dicke von 0,5 g/m ,
bezogen auf Feststoffe, beschichtet. Die nach dem Trocknen erhaltene laminierte lichtempfindliche Platte ist so empfindlich,
daß sich ein Unterschied in der Löslichkeit der oberen Schicht der lichtempfindlichen Platte ergibt, wenn sie fest in Berührung
mit einem positiven Bild gebracht und bildweise nur 15 Sekunden der Strahlung einer Kohlelichtbogenlampe (45 Ampere, 3 Phasen)
aus einer Entfernung von 70 cm ausgesetzt wird. Der belichtete Bereich läßt sich leicht mit einer wäßrigen 3-prozentigen Natriumsilikatlösung
entfernen. Da das Methacrylsäure-Methylmethacrylat-Copolymerisat der ersten Schicht alkalilöslich ist,
geht darüber hinaus die Entwicklung rasch vonstatten,und man
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erhält eine Offset-Druckplatte mit ausgezeichneter Tonwiedergäbe
.
IO Teile eines Phenol-Formaldehyd-Novolakharzes und 0,5 Teile
eines Esters von Naphthochinon-l,2-diazid-5-sulfonsäure mit
Polyhydroxyphenyl (Kondensationsprodukt von Aceton mit Pyro- "
gallol) , wie in Beispiel 1 verwendet, werden in 100 Teilen Äthylenglykolmonomethylätheracetat gelöst. Mit der erhaltenen
Lösung wird eine Aluminiumfolie von 0s3 mm beschichtet, aufgerauht
und einer anodischen Oxydation unterworfen (15 Prozent Schwefelsäure; Stromdichte 1,6 Ampere/dm ; Dauer 2 Minunten).
ρ Hierbei erhält man eine erste Schicht mit 2,1 g/m , bezogen auf
Feststoffe. Anschließend werden 2 Teile des in der ersten Schicht verwendeten Phenol-Formaldehyd-Harzes und 5 Teile
2,2'-Dihydroxydiphenyl-bis-(naphthochinon-l,2-diazid-5-sulfonsäureester)
in 150 Teilen Methylenchlorid gelöst. Mit dieser Lösung wird die vorgenannte erste Schicht mit einer Beschichtung
von 0,5 g/m , bezogen auf Feststoffe, versehen. Anschliessend wird zur Erzeugung eines Bildes gemäß Beispiel 6 weitergearbeitet.
Die so erhaltene laminierte lichtempfindliche Platte besitzt sowohl eine hohe Empfindlichkeit als auch eine
gute Tonwiedergabe und ist hinsichtlich der Entwicklungsstabilität in größerem Ausmaß verbessert. Darüber hinaus ist die Platte
aufgrund ihrer Eigenschaften als Offest-Druckplatte geeignet;
Patentansprüche 409851/0842
Claims (13)
- PatentansprücheLichtempfindliches Kopiermaterial, gekennzeichnet durch mindestens zwei organische Überzugsschichten auf einem Träger, wobei mindestens eine der Überzugsschichten eine lichtempfindliche Schicht mit einem O-Chinondiazid ist, dessen Alkalilöslichkeit unter der Einwirkung aktiver Strahlung erhöht wird.
- 2. Kopiermaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es auf einem Träger in der angegebenen Reihenfolge die lichtempfindliche Schicht mit dem O-Chinondiazid und eine Überzugsschicht aus einem organischen Harz besitzt.
- 3. Kopiermaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es auf einem Träger in der angegebenen Reihenfolge eine Überzugsschicht aus einem organischen Harz und die lichtempfindliche Schicht mit dem O-Chinondiazid besitzt.
- 4. Kopiermaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es auf dem Träger in der angegebenen Reihenfolge eine lichtempfindliche Schicht mit dem O-Chinondiazid, eine Überzugsschicht aus einem organischen Harz und eine zweite lichtempfindliche Schicht mit einem O-Chinondiazid besitzt.
- 5. Kopiermaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger eine Folie oder Platte aus Metall, einem Kunststoff, Papier, einem harzbeschichteten Papier oder Glas ist.
- 6. Kopiermaterial nach Anspruch 5» dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche des Trägers hydrophil ist.
- 7· Kopiermaterial nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger eine Aluminiumfolie oder -platte ist.
- 8. Kopiermaterial nach AnsOruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das O-Chinondiazid ein Ester einer aromatischen Polyhydroxylverbindung mit einer O-Chinondiazid-Sulfonsäure ist-.409851/0842
- 9. Kopiermaterial nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das O-Chinondiazid 2,2'-Dihydroxydiphenyl-bis-Cnaphthochinonl,2-diazid-5-sulfensäureester), 2,3,1l-Trioxybenzophenon-bis-(naphthochinon-l,2-diazid-5-sulfensäureester), 2,7-Dihydroxynaphthalin-bis-(naphthochinon-l,2-diazid-5-sulfonsäureester), der Ester .eines Phenol-Formaldehyd-Harzes mit Naphthochinone-1,2-diazid-5-sulfonsäure oder der Naphthochinon-i,2-diazid-5-sulfonsäureester von PoIyhydroxyphenyl, erhalten durch Kondensation von Aceton mit Pyrogallol, ist.
- 10. Kopiermaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht das O-Chinondiazid und ein organisches Harz enthält.
- 11. Kopiermaterial nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß das organische Harz ein Phenolharz, Kresolharz, ein Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymerisat oder Schellak ist.
- 12. Kopiermaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,daß die Dicke jeder Schicht auf dem Träger etwa 0,01 bis 7>02 'g/m beträgt.
- 13. Kopiermaterial nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet,daß die Gesamtdieke der mindestens zwei Überzugsschichten2
7,0 g/m oder weniger beträgt.409851/0842
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51139402A (en) * | 1975-05-24 | 1976-12-01 | Tokyo Ouka Kougiyou Kk | Positive photooresist composition |
GB2000874B (en) * | 1977-07-12 | 1982-02-17 | Asahi Chemical Ind | Process for producing image and photosensitive element therefor and method of producing printed circuit board |
JPS54116218A (en) * | 1978-03-02 | 1979-09-10 | Oji Paper Co | Photosensitive composition |
US4308368A (en) * | 1979-03-16 | 1981-12-29 | Daicel Chemical Industries Ltd. | Photosensitive compositions with reaction product of novolak co-condensate with o-quinone diazide |
JPS55164647U (de) * | 1979-05-11 | 1980-11-26 | ||
US4332881A (en) * | 1980-07-28 | 1982-06-01 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Resist adhesion in integrated circuit processing |
CA1180931A (en) * | 1980-09-15 | 1985-01-15 | Robert W. Hallman | Bilayer photosensitive imaging article including film-forming bimodal styrene-maleic anhydride copolymer in the image layer |
US4472494A (en) * | 1980-09-15 | 1984-09-18 | Napp Systems (Usa), Inc. | Bilayer photosensitive imaging article |
DE3043967A1 (de) * | 1980-11-21 | 1982-06-24 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
US4431724A (en) * | 1981-01-07 | 1984-02-14 | Ovchinnikov Jury M | Offset printing plate and process for making same |
DE3100856A1 (de) * | 1981-01-14 | 1982-08-12 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-napthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
JPS5858546A (ja) * | 1981-10-02 | 1983-04-07 | Kimoto & Co Ltd | 製版用感光性マスク材料 |
JPS5883849A (ja) * | 1981-11-13 | 1983-05-19 | Toyobo Co Ltd | 金属系画像形成方法 |
JPS58205154A (ja) * | 1982-05-25 | 1983-11-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JPS5917552A (ja) * | 1982-07-21 | 1984-01-28 | Toray Ind Inc | 画像形成用積層体の処理方法 |
US4672020A (en) * | 1982-09-29 | 1987-06-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Multilayer dry-film positive-acting o-quinone diazide photoresist with integral laminable layer, photoresist layer, and strippable carrier layer |
US4504566A (en) * | 1982-11-01 | 1985-03-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Single exposure positive contact multilayer photosolubilizable litho element with two quinone diazide layers |
JPS6032045A (ja) * | 1983-08-01 | 1985-02-19 | Sanyo Kokusaku Pulp Co Ltd | 多色画像形成材料およびその画像形成方法 |
JPS59187340A (ja) * | 1983-08-01 | 1984-10-24 | Kimoto & Co Ltd | 感光性組成物 |
DE3340154A1 (de) * | 1983-11-07 | 1985-05-15 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von bildmaessig strukturierten resistschichten und fuer dieses verfahren geeigneter trockenfilmresist |
US4564575A (en) * | 1984-01-30 | 1986-01-14 | International Business Machines Corporation | Tailoring of novolak and diazoquinone positive resists by acylation of novolak |
DE3433247A1 (de) * | 1984-09-11 | 1986-03-20 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zu seiner herstellung |
US4804614A (en) * | 1984-10-01 | 1989-02-14 | The Aerospace Corporation | Photoresist process of fabricating microelectronic circuits using water processable diazonium compound containing contrast enhancement layer |
US4571374A (en) * | 1984-12-27 | 1986-02-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Multilayer dry-film positive-acting laminable photoresist with two photoresist layers wherein one layer includes thermal adhesive |
US4777111A (en) * | 1985-06-03 | 1988-10-11 | Fairmount Chemical Company, Inc. | Photographic element with diazo contrast enhancement layer and method of producing image in underlying photoresist layer of element |
US4672021A (en) * | 1985-06-03 | 1987-06-09 | Fairmount Chemical Company | Contrast enhancement layer composition with naphthoquinone diazide, indicator dye and polymeric binder |
US4762766A (en) * | 1986-01-14 | 1988-08-09 | Kroy Inc. | Dry transfer film with photosensitized color carrying layer and photosensitized pressure sensitive adhesive layer wherein photosensitizer is o-quinone diazide |
JPH0762761B2 (ja) * | 1986-03-28 | 1995-07-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像形成材料 |
CA1321315C (en) * | 1986-04-11 | 1993-08-17 | Yoichi Mori | Printing plate |
DE3621376A1 (de) * | 1986-06-26 | 1988-01-07 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
US4816380A (en) * | 1986-06-27 | 1989-03-28 | Texas Instruments Incorporated | Water soluble contrast enhancement layer method of forming resist image on semiconductor chip |
JPH07113773B2 (ja) * | 1986-07-04 | 1995-12-06 | 株式会社日立製作所 | パタ−ン形成方法 |
JP2602511B2 (ja) * | 1987-10-30 | 1997-04-23 | 株式会社日立製作所 | パターン形成方法 |
US4835086A (en) * | 1988-02-12 | 1989-05-30 | Hoechst Celanese Corporation | Polysulfone barrier layer for bi-level photoresists |
EP0380676B1 (de) * | 1988-02-17 | 1994-05-04 | Tosoh Corporation | Fotoresist-zusammensetzung |
JP2720224B2 (ja) * | 1990-06-15 | 1998-03-04 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
JPH04299351A (ja) * | 1991-03-28 | 1992-10-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成用感光性積層材料 |
US5326674A (en) * | 1991-04-30 | 1994-07-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for processing photosensitive copying materials |
JP2984713B2 (ja) * | 1991-04-30 | 1999-11-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性複写材料およびその処理方法 |
JP2673610B2 (ja) * | 1991-05-22 | 1997-11-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性複写材料およびその処理方法 |
US5332650A (en) * | 1991-09-06 | 1994-07-26 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Radiation-sensitive composition |
GB2291207B (en) * | 1994-07-14 | 1998-03-25 | Hyundai Electronics Ind | Method for forming resist patterns |
JPH10195568A (ja) * | 1997-01-10 | 1998-07-28 | Konica Corp | 平版印刷版用アルミニウム合金板 |
KR101020164B1 (ko) | 2003-07-17 | 2011-03-08 | 허니웰 인터내셔날 인코포레이티드 | 진보된 마이크로전자적 응용을 위한 평탄화 막, 및 이를제조하기 위한 장치 및 방법 |
KR101146622B1 (ko) * | 2009-08-31 | 2012-05-16 | 금호석유화학 주식회사 | 감광성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 조성물 |
JP6853057B2 (ja) * | 2017-01-31 | 2021-03-31 | 東京応化工業株式会社 | 重合性組成物、硬化膜の製造方法、及び硬化膜 |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2702243A (en) * | 1950-06-17 | 1955-02-15 | Azoplate Corp | Light-sensitive photographic element and process of producing printing plates |
BE507657A (de) * | 1950-12-06 | |||
NL77599C (de) * | 1952-01-05 | 1954-10-15 | ||
NL95407C (de) * | 1954-08-20 | |||
US2993788A (en) * | 1958-06-17 | 1961-07-25 | Gen Aniline & Film Corp | Multicolor reproduction using light sensitive diazo oxides |
NL280795A (de) * | 1958-11-26 | |||
DE1114705C2 (de) * | 1959-04-16 | 1962-04-12 | Kalle Ag | Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen |
GB983366A (en) * | 1960-07-06 | 1965-02-17 | Union Carbide Corp | Photosensitive compositions and their use in photomechanical printing |
NL270834A (de) * | 1960-10-31 | |||
NL280959A (de) * | 1961-07-28 | |||
US3313626A (en) * | 1962-08-01 | 1967-04-11 | Russeli H Whitney | Process of making a lithographic printing plate |
US3515547A (en) * | 1965-09-15 | 1970-06-02 | Eastman Kodak Co | Tri layer photographic film with a vesicular layer and process |
GB1146618A (en) * | 1965-10-11 | 1969-03-26 | Harry Frank Gipe | Method for preparing photo-lithographic plates |
JPS4910841B1 (de) * | 1965-12-18 | 1974-03-13 | ||
US3511658A (en) * | 1966-09-28 | 1970-05-12 | Keuffel & Esser Co | Photographic reproduction materials |
GB1187980A (en) * | 1966-10-28 | 1970-04-15 | Ilford Ltd | Presensitised Lithographic Plates. |
US3635709A (en) * | 1966-12-15 | 1972-01-18 | Polychrome Corp | Light-sensitive lithographic plate |
US3578451A (en) * | 1967-03-29 | 1971-05-11 | Scott Paper Co | Integral negative type positive photolithographic plate |
ZA6806990B (de) * | 1967-12-14 | |||
JPS49441B1 (de) * | 1968-08-14 | 1974-01-08 | ||
US3671236A (en) * | 1968-03-18 | 1972-06-20 | Minnesota Mining & Mfg | Presensitized color-proofing sheet |
US3645732A (en) * | 1969-05-19 | 1972-02-29 | Keuffel & Esser Co | Etching alcohol-soluble nylon with aqueous solutions |
BE757067A (fr) * | 1969-10-03 | 1971-03-16 | Eastman Kodak Co | Procede de fabrication d'objets par voie photographique |
BE755709A (fr) * | 1969-10-29 | 1971-02-15 | Shipley Co | Procede d'application d'une reserve photographique sur un support et produit obtenu |
US3652272A (en) * | 1969-10-31 | 1972-03-28 | Lithoplate Inc | Phenoxy photopolymer having no epoxy groups, and article made therefrom |
US3660097A (en) * | 1969-11-28 | 1972-05-02 | Polychrome Corp | Diazo-polyurethane light-sensitive compositions |
US3759711A (en) * | 1970-09-16 | 1973-09-18 | Eastman Kodak Co | Er compositions and elements nitrogen linked apperding quinone diazide light sensitive vinyl polym |
US3779761A (en) * | 1972-01-17 | 1973-12-18 | Minnesota Mining & Mfg | Presensitized light-sensitive letterpress printing makeready |
US3782939A (en) * | 1972-02-09 | 1974-01-01 | Mining And Mfg Co | Dry positive-acting photoresist |
-
1973
- 1973-05-29 JP JP6007473A patent/JPS5421089B2/ja not_active Expired
-
1974
- 1974-05-28 GB GB2367474A patent/GB1478333A/en not_active Expired
- 1974-05-28 GB GB179277A patent/GB1478334A/en not_active Expired
- 1974-05-29 DE DE19742426159 patent/DE2426159A1/de not_active Ceased
-
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-
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GB1478333A (en) | 1977-06-29 |
JPS5011022A (de) | 1975-02-04 |
US4197128A (en) | 1980-04-08 |
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