JP2673610B2 - 感光性複写材料およびその処理方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はポジ型感光性複写材料お
よびその処理方法に関するものであり、さらに詳しくは
多層構成のポジ型感光性複写材料に関するものである。
また現像液の使用量が少なく環境保全に適した感光性複
写材料の処理方法に関するものである。

【０００２】

【従来技術およびその問題点】ｏ−キノンジアジド化合
物を感光性成分として含む感光性複写材料として、感光
性平版印刷版、感光性レジスト材料および感光性プルー
フ材料などが知られている。中でも、従来より広く使用
されているポジ型感光性平版印刷版は、支持体としての
アルミニウム板上にｏ−キノンジアジド化合物からなる
感光層を設けたものである。ｏ−キノンジアジド化合物
は紫外線露光によりカルボン酸に変化することが知られ
ており、従って、これをアルカリ水溶液で現像すると当
該感光層の露光部のみが除去されて支持体表面が露出す
る。上記のアルミニウム板は通常ブラシグレイン法やボ
ールグレイン法のごとき機械的な方法や電解グレイン法
のごとき電気化学的方法あるいは両者を組合せた方法な
どの粗面化処理に付され、その表面が梨地状にされたの
ち、酸またはアルカリ等の水溶液によりエッチングさ
れ、さらに陽極酸化処理を経たのち平版印刷版用支持体
とされ、この支持体上に感光層が設けられて感光性平版
印刷版（いわゆるＰＳ版）とされる。このＰＳ版は、通
常、像露光、現像、修正、ガム引き工程を施して平版印
刷版とされ、これを印刷機に取り付けて印刷する。

【０００３】かかるポジ型感光性平版印刷版の現像液と
して使用されるアルカリ水溶液は、種々のものが知られ
ているが、最も好ましいものはケイ酸ナトリウム、ケイ
酸カリウム等のケイ酸塩の水溶液である。その理由はケ
イ酸塩の成分である酸化ケイ素SiO₂とアルカリ金属酸化
物M₂O の比率（一般に〔SiO₂〕／〔M₂O 〕のモル比で表
す）と濃度によってある程度現像性の調節が可能とされ
るためである。

【０００４】これらのケイ酸塩は上述のポジ型感光性平
版印刷版だけでなく、特公昭５６−１４９７０号公報記
載のｏ−キノンジアジド感光層を用いた反転型ネガ型感
光性平版印刷版およびジメチルマレイミド基を側鎖に含
む樹脂を光架橋剤とする感光層を用いたネガ型感光性平
版印刷版の現像液としても好ましく用いられている。上
述のように、これらの感光性複写材料の通常の現像は、
非画像部に当たる感光層を現像液で溶出して支持体を露
出することからなっている。従って、現像液中に溶出し
た感光層成分の濃度は徐々に高くなり、その結果、カス
・ヘドロの発生や現像液の処理能力（溶出能力）の低下
をきたすようになる。

【０００５】また、近年、製版・印刷業界では製版作業
の合理化および標準化のため、感光性平版印刷版用の自
動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一
般に感光性平版印刷版を搬送する装置と、現像液槽およ
びスプレー装置からなり、露光済みの感光性平版印刷版
を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた現像液をス
プレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。
また、最近は現像液が満たされた現像処理槽中に液中ガ
イドロールなどによって感光性平版印刷版を浸漬搬送さ
せて現像処理する方法も知られている。

【０００６】かかる自動現像機を用いて、ポジ型感光性
平版印刷版を現像する方法においても、より多量の感光
性平版印刷版を処理すると、現像タンクの底に、酸化ケ
イ素に起因する水不溶性のカス・ヘドロが生じ、更に
は、スプレーパイプ、ノズルが詰まるなどの問題があっ
た。また自動現像機の停止時の乾燥や液ハネなどによ
り、現像浴周辺に水不溶性のシリカとして析出し様々な
問題を引き起こす原因ともなっていた。

【０００７】これらの欠点を改良するための技術とし
て、特開昭５４−６２００４号および特公昭５７−７４
２７号公報に開示されているように現像補充液の添加に
より処理能力を維持し、且つ、カス・ヘドロの発生を抑
制する技術がある。これによって、不溶物の発生は削減
できたが、補充量が多く、さらに廃液が多く排出される
という欠点があった。この欠点を改良するための技術と
して、特開平２−３０６５号公報に開示されている技術
があるが、ランニングコストや廃液量の削減になお強い
要求がある。さらに、この種の現像液を廃棄の際、中和
処理すると酸化珪素がゲル状に析出し環境汚染の原因と
もなり問題であった。特に地球規模で環境保全が論議さ
れる今日、産業廃棄物の低減はより求められる状況にあ
る。

【０００８】従ってこれまでにも、何回か、酸化珪素を
含有しない現像液の検討がなされてきた。しかしなが
ら、酸化珪素のない現像液によって現像して得られた平
版印刷版はカス・ヘドロ、中和時のゲルの発生を抑制す
ることはできるが、その平版印刷版の非画像部には感光
層中に含まれる物質が不可逆的に吸着し、非画像部を汚
染するため、いわゆる残色が生じたり、修正工程で画像
部と非画像部の識別が困難であったり、修正跡が明瞭に
残り不均一な版面となり、その程度がひどくなると汚れ
となるため印刷版として使用できなくなるという問題が
あった。

【０００９】これを改善するために、従来は、陽極酸化
処理したアルミニウム支持体表面を、米国特許第3,181,
461 号明細書などに開示されているようなアルカリ金属
シリケート処理（例えば珪酸ナトリウム水溶液）、ある
いは、特公昭３６−２２０６３号などに開示されている
ような弗化ジルコン酸処理、あるいは、米国特許第3,27
6,868 号明細書などに開示されているポリビニルホスホ
ン酸処理などにより親水化する方法が用いられてきた。
しかしながらこれらの方法では、非画像部の残色、ある
いは上述した汚れ性は良化するものの感光性組成物と支
持体との密着が充分でないため印刷枚数は、数百枚程度
にしかならなかった。

【００１０】また、その他に、陽極酸化処理したアルミ
ニウム支持体上に、特開昭６０−１４９４９１号公報に
開示されているアミノ酸およびその塩類（Ｎａ塩、Ｋ塩
等のアルカリ金属塩、アンモニウム塩、塩酸塩、蓚酸
塩、酢酸塩、りん酸塩等）、特開昭６０−２３２９９８
号公報に開示されている水酸基を有するアミン類および
その塩類（塩酸塩、蓚酸塩、りん酸塩等）、特開昭６３
−１６５１８３号公報に開示されているアミノ基及びホ
スホン酸基を有する化合物又はその塩を下塗りする方法
などが提供されている。

【００１１】しかしながらこれらの方法では、非画像部
の残色の低減は必ずしも充分でなく、上述の汚れも、現
像液が疲労してくると特にひどく発生したりした。ま
た、アルカリ金属シリケートなどの親水化処理ほどでは
ないものの、耐刷性能は下塗りのない場合よりは、劣化
し、充分ではなかった。これとは別に特公昭５４−２１
０８９号、同３７−１１５５８号公報には、ｏ−キノン
ジアジド化合物や感光性ジアゾ樹脂からなる感光層の上
に現像液に難溶性の有機被覆層を設けた多層型の感光性
複写材料が開示されている。このような感光性複写材料
は現像液に溶出する成分が少なく、従って、処理による
現像液の疲労が少なく好ましい。しかしながら、現像液
中で掻き取られた有機被覆層の膨潤したカスが複写材料
の上に再付着したり、現像液中に堆積し、長期間の安定
処理は不可能であった。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、産業廃棄物を減らせることのできる改良された感光
性複写材料および処理方法を提供することである。本発
明の別の目的は、長期間、多量の感光性複写材料を処理
しても不溶物が生成せず、安定して処理することのでき
る改良された感光性複写材料および処理方法を提供する
ことである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく、鋭意検討を重ねた結果本発明を完成する
に至った。本発明は、陽極酸化処理し、その後に親水化
処理を施したアルミニウム板上に、有機下塗層を設けそ
の上に順に活性光線の照射によってアルカリ水可溶性
が増大する感光性の第１有機被覆層および皮膜形成能
を有し、水不溶性の高分子化合物を含む第２有機被覆層
を設けたことを特徴とする感光性複写材料を提供するも
のである。

【００１４】本発明はさらに、上記感光性複写材料を画
像露光した後、上記水不溶性の第２有機被覆層に浸透す
るがこれを溶解しない現像液に浸漬した後、該現像液
中、又は続く水洗工程で非画像部の有機被覆層を除去す
ることを特徴とする感光性複写材料の処理方法を提供す
るものである。以下、本発明について詳しく説明する。

【００１５】支持体 本発明において用いられるアルミニウム板は、純アルミ
ニウムや、アルミニウムを主成分とし、微量の異原子を
含むアルミニウム合金等の板状体である。この異原子に
は、珪素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、
亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中
の異原子の含有量は高々１０重量％以下である。本発明
に好適なアルミニウムは純アルミニウムであるが、完全
に純粋なアルミニウムは、精練技術上製造が困難である
ので、できるだけ異原子の含有量の低いものがよい。
又、上述した程度の含有率のアルミニウム合金であれ
ば、本発明に適用しうる素材ということができる。この
ように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成
が特定されるものではなく従来公知、公用の素材のもの
を適宜利用することができる。本発明に用いられるアル
ミニウム板の厚さは、およそ0.１mm〜0.５mm程度であ
る。

【００１６】アルミニウム板を粗面化処理するに先立
ち、所望により、表面の圧延油を除去するための、例え
ば界面活性剤又はアルカリ性水溶液による脱脂処理が行
なわれる。なお本発明の感光性平版印刷版は、片面のみ
使用できるものであっても、両面とも同様な処理によっ
て使用できるものであってもよい。両面でも同様なた
め、以下は、片面の場合について説明する。まず、アル
ミニウム板は、粗面化処理されるが粗面化処理方法とし
ては、機械的に表面を粗面化する方法、電気化学的に表
面を溶解する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方
法がある。機械的に表面を粗面化する方法としては、ボ
ール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨
法等と称せられる公知の方法を用いることができる。ま
た電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中
で交流又は直流により行なう方法がある。また、特開昭
５４−６３９０２号公報に開示されているように両者を
組合せた方法も利用することが出来る。

【００１７】このように粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理
される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電
解質としては多孔質酸化皮膜を形成するものならばいか
なるものでも使用することができ、一般には硫酸、燐
酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられ、
それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決め
られる。

【００１８】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解
質の濃度が１〜８０重量％溶液、液温は、５〜７０℃、
電流密度５〜６０Ａ／dm² 、電圧１〜１００Ｖ、電解時
間１０秒〜５０分の範囲にあれば適当である。陽極酸化
皮膜の量は1.０ｇ／m²以上が好適であるが、より好まし
くは、2.０〜6.０ｇ／m²の範囲である。陽極酸化皮膜が
1.０ｇより少ないと耐刷性が不十分であったり、平版印
刷版の非画像部に傷がつき易くなって、印刷時に、傷の
部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易く
なる。

【００１９】上述の処理を施した後に用いられる親水化
処理としては、従来より知られている、親水化処理が用
いられる。このような親水化処理としては、米国特許第
2,714,066 号、第3,181,461 号、第3,280,734 号、第3,
902,734 号に開示されているようなアルカリ金属シリケ
ート（例えばケイ酸ナトリウム水溶液）法がある。この
方法においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶液中で浸
漬処理されるかまたは電解処理される。あるいは、特公
昭３６−２２０６３号公報に開示されている弗化ジルコ
ン酸カリウム及び米国特許第3,276,868 号、第4,153,46
1 号、第4,689,272 号に開示されている様なポリビニル
ホスホン酸で処理する方法などが用いられる。これらの
中で特に好ましい親水化処理はアルカリ金属シリケート
処理である。

【００２０】有機下塗層 これらの親水化処理を施した後に、アルミニウム板に後
述する種々の方法で下記の有機下塗層を設ける。本発明
の有機下塗層に用いられる化合物は例えば、カルボキシ
メチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、グリ
シンやβ−アラニンなどのアミノ酸類およびトリエタノ
ールアミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミ
ンの塩酸塩、フェニルホスホン酸などの有機ホスホン
酸、ナフチルリン酸などの有機リン酸、フェニルホスフ
ィン酸などの有機ホスフィン酸などから選ばれるが二種
以上混合して用いてもよい。これらのうち好ましくは有
機ホスホン酸、有機リン酸、有機ホスフィン酸などの有
機リン化合物が用いられる。これら有機リン化合物は以
下の様にあらわすことができる。

【００２１】本発明に用いられる有機リン化合物は、
(I) R¹−(PO(OH)₂) _n で表わされる置換または無置換の
脂肪族化合物または芳香族化合物（ｎは１または２）、
および（II）R¹−(PO(OH)(R²)) _nで表わされる置換また
は無置換の脂肪族化合物または芳香族化合物（ｎは１ま
たは２を示す。ｎが１のとき、Ｒ¹ 、Ｒ² は置換、又は
無置換のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１４のも
の）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１４のも
の）、アリーロキシ基（好ましくは炭素数６〜１０のも
の）、アリール基（好ましくは炭素数６〜１０のも
の）、アシル基（好ましくは炭素数１〜１４のもの）、
アシロキシ基（好ましくは炭素数１〜１４のもの）であ
る。ｎが２のときＲ¹ はアルキレン基（好ましくは炭素
数１〜１４のもの）またはアリーレン基（好ましくは炭
素数６〜１０のもの）を表し、Ｒ² は前記定義のとおり
であり、置換基としてはアルキル基（但し、アリール残
基に対する置換基に限る）、アリール基（但し、アルキ
ル残基に対する置換基に限る）、アルコキシ基、アシル
基、アシロキシ基、アリーロキシ基、ビニル基、ヒドロ
キシル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、ハロ
ゲンから選ばれた少くとも１種が挙げられる）からなる
化合物群より選ばれた少くとも１種の化合物である。

【００２２】アリーロキシ基としては、フェノキシ基、
ｐ−クロロフェノキシ基、ｐ−メチルフェノキシ基、ピ
リジニル基、アリール基としては、フェニル基、ｏ−ト
リル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェ
ニル基、アシル基としては、ホルミル基、アセチル基、
プロピオニル基、ベンゾイル基、アシロキシ基として
は、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ピバロイル
オキシ基などが挙げられる。（I)及び（II）の化合物
は、塩の形で用いてもよい。塩としては、カリウム、ナ
トリウム、リチウム等のアルカリ金属塩の他に、カルシ
ウム、コバルト、鉄、ニッケル、マンガン、マグネシウ
ム、バリウム、銅などの塩が挙げられる。

【００２３】以下に具体例を示す。式（Ｉ）の化合物の
例とは、フェニルホスホン酸、フェニルリン酸、ナフチ
ルホスホン酸、ナフチルリン酸、グリセロホスホン酸、
グリセロリン酸、ｐ−ニトロフェニルホスホン酸、ｐ−
ニトロフェニルリン酸、ｐ−メトキシフェニルホスホン
酸、ｐ−メトキシフェニルリン酸、ｐ−ヒドロキシフェ
ニルホスホン酸、ｐ−ヒドロキシフェニルリン酸、ｐ−
トリルホスホン酸、ｐ−トリルリン酸、ｐ−アセチルフ
ェニルホスホン酸、ｐ−アセチルフェニルリン酸、ｐ−
シアノフェニルホスホン酸、ｐ−シアノフェニルリン
酸、ｍ−クロルフェニルホスホン酸、ｍ−クロルフェニ
ルリン酸、メチルホスホン酸、メチレンジホスホン酸、
エチルホスホン酸、エチレンジホスホン酸、２−カルボ
キシエチルホスホン酸、フォスフォノアセティックアシ
ッド、２−フェニルエチルホスホン酸、２−ヒドロキシ
エチルホスホン酸、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジ
ホスホン酸、アミノヘキシルリン酸、２−メトキシエチ
ルホスホン酸、２−アセチルエチルホスホン酸、グリシ
ン−Ｎ，Ｎ−ビス（メチレンフォスフォン酸）、ホスホ
セリン、ホスホスレオニン、リン酸ピリドキサールなど
が挙げられる。

【００２４】式（II) の化合物の例としては、フェニル
ホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、ジフェニルホス
フィン酸、ジメチルホスフィン酸、ｐ−ニトロフェニル
ホスフィン酸、ｐ−メトキシフェニルホスフィン酸、ｐ
−ヒドロキシフェニルホスフィン酸、ｐ−トリルホスフ
ィン酸、ｐ−アセチルフェニルホスフィン酸、ビスニト
ロフェニルリン酸、リン酸ジオクチル、リン酸ジイソプ
ロピル、リン酸ジブチルエステル、リン酸ジメチルエス
テル、リン酸ジエチルエステル、リン酸ジ−２−エチル
ヘキシルエステル、リン酸ジフェニルエステル、メチル
ホスフィン酸、エチルホスフィン酸、ジエチルホスフィ
ン酸、２−カルボキシエチルホスフィン酸、２−フェニ
ルエチルホスフィン酸、２−ヒドロキシエチルホスフィ
ン酸、２−メトキシエチルホスフィン酸、２−アセチル
エチルホスフィン酸などが挙げられる。

【００２５】これらの化合物は２種以上併用してもよ
い。これらの中で特に好ましい化合物としては、フェニ
ルホスホン酸、フェニルリン酸、ナフチルホスホン酸、
ナフチルリン酸、フェニルホスフィン酸、ジフェニルホ
スフィン酸、ナフチルホスフィン酸が挙げられる。本発
明における有機下塗層は、次のような方法で設けること
ができる。すなわち、水又はメタノール、エタノールな
どの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の化合物
を溶解させた溶液を塗布、乾燥して有機層を設ける方法
と、水又はメタノール、エタノールなどの有機溶剤もし
くはそれらの混合溶剤に、上記の化合物を溶解させた溶
液に、上述の親水化処理を施したアルミニウム板を浸漬
して化合物を吸着させ、しかる後、水などによって、洗
浄、乾燥して有機層を設ける方法である。前者の方法で
は、上記のような化合物を0.００５〜１０重量％の濃度
で溶解した塗布液を種々の方法で塗布できる。例えばバ
ーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布等のいずれの方法を用いてもよい。また、本発明の化
合物を溶解した溶液に浸漬後、水などによって洗浄する
方法では、溶液の濃度は0.０１〜２０重量％、好ましく
は0.０５〜５重量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、
好ましくは２５〜５０℃であり、浸漬時間は、0.１秒〜
２０分、好ましくは２秒〜１分である。

【００２６】有機下塗層の乾燥後の被覆量は、２mg／m²
〜２００mg／m²が適当であり、好ましくは５mg／m²〜１
００mg／m²、さらに好ましくは１０mg／m²〜６０mg／m²
である。上記の被覆量が２mg／m²より少ないと非画像部
の残色の低減効果及び耐刷性能が充分でない。また、２
００mg／m²より多くなると、非画像部の残色低減効果は
あるものの耐刷性能が充分なものが得られない。

【００２７】本発明の有機下塗層を設ける際に使用する
溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウ
ム等の塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によ
りpHを調節し、pH１〜１２の範囲で使用することもでき
る。また、感光性平版印刷版の調子再現性改良のため、
黄色染料を添加することもできる。また本発明の有機下
塗層には公知の例えばカルボキシメチルセルロース、デ
キストリン、アラビアゴム、２−アミノエチルホスホン
酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、グリシンやβ
−アラニンなどのアミノ酸類、トリエタノールアミンの
塩酸塩等のヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等を混
合させることができる。本発明の有機下塗層は、上記式
（Ｉ）及び／又は（II）の化合物を少なくとも３０重量
％含むことが望ましく、より好ましくは８０重量％以
上、最も好ましくは１００重量％である。

【００２８】このようにして得られた有機下塗層で被覆
されたアルミニウム支持体上に設けられる感光層は基本
的には特公昭５４−２１０８９号公報に開示されている
ような、少なくとも二層の有機被覆層を有し、該層の少
なくとも一層は、活性光線の照射により現像液への溶解
性が増大する感光層からなる。バックコート層 本発明の感光性平版印刷版の支持体の裏面には、アルミ
ニウムの陽極酸化皮膜の溶出を抑えるため、および重ね
た場合の感光層の傷付きを防ぐための有機高分子化合物
からなる被覆層（以後この被覆層をバックコート層と称
す）が設けられてもよい。バックコート層の素材として
は、アルカリ性の現像液に不溶の有機高分子化合物が用
いられ、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリブタジエン、ナイロン、ポリウレタン、ポリ
ウレア、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリカーボネー
ト、エポキシ樹脂、アルキルフェノールのアルデヒド縮
合樹脂、アセタール樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリスチレン、アクリル系樹脂およびこれら
の共重合樹脂等が適している。

【００２９】バックコート層にはこれらの有機高分子化
合物の他に、可とう性を持たせたり、すべり性を調整す
る目的で可塑剤や界面活性剤やその他の添加物を必要に
より添加できる。可塑剤は、バックコート層に用いる樹
脂に対して約３０重量％まで含有させられる。本発明の
バックコート層には更に界面活性剤が、スベリ性、塗布
面状、支持体との密着等を向上させる目的で加えられ
る。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオ
ン系、ノニオン系および両性界面活性剤が挙げられる。

【００３０】本発明で用いられるバックコート層の厚さ
は基本的には現像時アルミニウムの陽極酸化皮膜の溶出
を抑えられる厚さがあればよく、0.０１〜５０μm の範
囲が好ましく、より好ましくは0.０５〜１０μm が好ま
しい。バックコート層をアルミニウム支持体の裏面に被
覆する方法としては種々の方法が適用できる。例えば適
当な溶媒の溶液にして、または乳化分散液にして塗布、
乾燥する方法、例えば予めフィルム状に成形したものを
接着剤や熱でアルミニウム支持体に貼り合わせる方法お
よび溶融押し出し機で溶融皮膜を形成し、支持体に貼り
合わせる方法等が挙げられるが、上記の塗布量を確保す
る上で最も好ましいのは溶液にして塗布、乾燥する方法
である。

【００３１】第１有機被覆層 このようにして得られた有機層で被覆された親水化処理
アルミニウム支持体上には、まず活性光線の照射によっ
てアルカリ水可溶性が増大する感光性の第１有機被覆層
が設けられる。このような感光性有機層としては、ｏ−
キノンジアジド化合物を主成分とするポジ型感光性組成
物の層が挙げられる。

【００３２】ｏ−ナフトキノンジアジド化合物として
は、特公昭４３−２８４０３号公報に記載されている
１，２−ジアゾナフトキノンスルホン酸とピロガロール
・アセトン樹脂とのエステルが好ましい。その他の好適
なオルトキノンジアジド化合物としては例えば、米国特
許第3,046,120 号および同第3,188,210 号明細書に記載
されている１，２−ジアゾナフトキノン−５−スルホン
酸とフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルが
あり、特開平２−９６１６３号公報、特開平２−９６１
６５号公報および特開平２−９６７６１号公報に記載さ
れている１，２−ジアゾナフトキノン−４−スルホン酸
とフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルがあ
る。その他の有用なｏ−ナフトキノンジアジド化合物と
しては、数多くの特許等で公知のものが挙げられる。例
えば、特開昭４７−５３０３号、同４８−６３８０２
号、同４８−６３８０３号、同４８−９６５７５号、同
４９−３８７０１号、同４８−１３３５４号、特公昭３
７−１８０１５号、同４１−１１２２２号、同４５−９
６１０号、同４９−１７４８１号公報、米国特許第2,79
7,213 号、同第3,454,400 号、同第3,544,323 号、同第
3,573,917 号、同第3,674,495 号、同第3,785,825 号、
英国特許第1,227,602 号、同第1,251,345 号、同第1,26
7,005 号、同第1,329,888 号、同第1,330,932 号、ドイ
ツ特許第854,890 号などの各明細書中に記載されている
ものを挙げることができる。

【００３３】本発明において特に好ましい、ｏ−ナフト
キノンジアジド化合物は、分子量1,０００以下のポリヒ
ドロキシ化合物と１，２−ジアゾナフトキノンスルホン
酸との反応により得られる化合物である。このような化
合物の具体例は、特開昭５１−１３９４０２号、同５８
−１５０９４８号、同５８−２０３４３４号、同５９−
１６５０５３号、同６０−１２１４４５号、同６０−１
３４２３５号、同６０−１６３０４３号、同６１−１１
８７４４号、同６２−１０６４５号、同６２−１０６４
６号、同６２−１５３９５０号、同６２−１７８５６２
号、同６４−７６０４７号、米国特許第3,102,809 号、
同第3,126,281 号、同第3,130,047 号、同第3,148,983
号、同第3,184,310 号、同第3,188,210 号、同第4,639,
406 号などの各公報または明細書に記載されているもの
を挙げることができる。

【００３４】これらのｏ−ナフトキノンジアジド化合物
を合成する際は、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシル
基に対して１，２−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロ
リドを0.２〜1.２当量反応させることが好ましく、0.３
〜1.０当量反応させることが更に好ましい。１，２−ジ
アゾナフトキノンスルホン酸クロリドとしては、１，２
−ジアゾナフトキノン−５−スルホン酸クロリドまた
は、１，２−ジアゾナフトキノン−４−スルホン酸クロ
リドを用いることができる。

【００３５】また、得られるｏ−ナフトキノンジアジド
化合物は、１，２−ジアゾナフトキノンスルホン酸エス
テル基の位置および導入量の種々異なるものの混合物と
なるが、ヒドロキシル基の全てが１，２−ジアゾナフト
キノンスルホン酸エステル化された化合物が、この混合
物中に占める割合（完全にエステル化された化合物の含
有率）は５モル％以上であることが好ましく、更に好ま
しくは２０〜９９モル％である。

【００３６】第１有機被覆層を構成する固型分の総重量
に対する、これらのポジ型に作用する感光性化合物の量
は通常１０〜５０重量％が適当であるが、本発明におい
ては感光性化合物を第１有機被覆層に高密度で存在させ
ることが、その層を薄層化でき、現像液への溶出物を減
らす上で好ましい。従って、好ましいｏ−キノンジアジ
ド化合物の添加量は２０重量％〜１００重量％であり、
より好ましくは３０重量％〜１００重量％である。

【００３７】本発明において使用される感光性の第１有
機被覆層の主成分としては、ｏ−キノンジアジド以外の
好ましい例として、例えば特公昭５６−２６９６号に記
載されているオルトニトロカルビノールエステル基を有
するポリマー化合物や、光分解により酸を発生する化合
物と、酸により解離する−Ｃ−Ｏ−Ｃ基又は−Ｃ−Ｏ−
Si基を有する化合物との組合せ系も挙げることができ
る。例えば光分解により酸を発生する化合物とアセター
ル又はＯ，Ｎ−アセタール化合物との組合せ（特開昭４
８−８９００３号）、オルトエステル又はアミドアセタ
ール化合物との組合せ（特開昭５１−１２０７１４
号）、主鎖にアセタール又はケタール基を有するポリマ
ーとの組合せ（特開昭５３−１３３４２９号）、エノー
ルエーテル化合物との組合せ（特開昭５５−１２９９５
号）、Ｎ−アシルイミノ炭素化合物との組合せ（特開昭
５５−１２６２３６号）、主鎖にオルトエステル基を有
するポリマーとの組合せ（特開昭５６−１７３４５
号）、シリルエステル化合物との組合せ（特開昭６０−
１０２４７号）及びシリルエーテル化合物との組合せ
（特開昭６０−３７５４９号、特開昭６０−１２１４４
６号）などが挙げられる。これらの化合物又は組合せを
用いるときも、その使用量は前述のｏ−キノンジアジド
化合物のときと同様である。

【００３８】バインダー ｏ−キノンジアジド化合物等の感光性化合物は単独でも
感光層を構成することができるが、アルカリ水に可溶な
樹脂を結合剤（バインダー）として併用することが好ま
しい。この様なアルカリ水に可溶な樹脂としては、ノボ
ラック型の樹脂があり、例えばフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂、ｏ−、ｍ−およびｐ−クレゾールホルムアル
デヒド樹脂、ｍ／ｐ−混合クレゾールホルムアルデヒド
樹脂、フェノール／クレゾール（ｏ−、ｍ−、ｐ−、ｍ
／ｐ−およびｏ／ｍ−混合のいずれでもよい）混合ホル
ムアルデヒド樹脂などが挙げられる。

【００３９】また、フェノール変性キシレン樹脂、ポリ
ヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレ
ン、特開昭５１−３４７１１号公報に開示されているよ
うなフェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂も用
いることができる。その他の好適なバインダーとして以
下(1) 〜(13)に示すモノマーをその構成単位とする通常
１万〜２０万の分子量を持つ共重合体を挙げることがで
きる。 (1) 芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メタクリ
ルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エス
テル類およびヒドロキシスチレン類、例えばＮ−（４−
ヒドロキシフェニル）アクリルアミドまたはＮ−（４−
ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｏ−、ｍ−お
よびｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−、ｍ−およびｐ−ヒ
ドロキシフェニルアクリレートまたはメタクリレート、
(2) 脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類および
メタクリル酸エステル類、例えば、２−ヒドロキシエチ
ルアクリレートまたは２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、(3) アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン
酸、イタコン酸などの不飽和カルボン酸、(4) アクリル
酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、ア
クリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシ
ル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸オクチル、
アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸
−２−クロロエチル、アクリル酸４−ヒドロキシブチ
ル、グリシジルアクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチ
ルアクリレートなどの（置換）アクリル酸エステル、
(5) メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタク
リル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ア
ミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキ
シル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸フェニル、
メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−クロロエチ
ル、メタクリル酸−４−ヒドロキシブチル、グリシジル
メタクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレ
ートなどの（置換）メタクリル酸エステル、(6) アクリ
ルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリル
アミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−エチル
アクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド、Ｎ−ヘ
キシルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミ
ド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘ
キシルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリ
ルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ
−フェニルアクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルア
ミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルメタ
クリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ
−ニトロフェニルメタクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−
フェニルアクリルアミドおよびＮ−エチル−Ｎ−フェニ
ルメタクリルアミドなどのアクリルアミドもしくはメタ
クリルアミド、(7) エチルビニルエーテル、２−クロロ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなど
のビニルエーテル類、(8) ビニルアセテート、ビニルク
ロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニルな
どのビニルエステル類、(9) スチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレンなどのスチレン類、(10) メ
チルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニ
ルケトン、フェニルビニルケトンなどのビニルケトン
類、(11) エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタ
ジエン、イソプレンなどのオレフィン類、(12) Ｎ−ビ
ニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビニル
ピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリルな
ど、(13) Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェニル）アク
リルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェニル）ア
クリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）
アクリルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノスルホニル）
ナフチル〕アクリルアミド、Ｎ−（２−アミノスルホニ
ルエチル）アクリルアミドなどのアクリルアミド類、Ｎ
−（ｏ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェニル）メタクリル
アミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタク
リルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノスルホニル）ナフ
チル〕メタクリルアミド、Ｎ−（２−アミノスルホニル
エチル）メタクリルアミドなどのメタクリルアミド類、
また、ｏ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｍ
−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｐ−アミノ
スルホニルフェニルアクリレート、１−（３−アミノス
ルホニルフェニルナフチル）アクリレートなどのアクリ
ル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド、ｏ−アミ
ノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−アミノスル
ホニルフェニルメタクリレート、ｐ−アミノスルホニル
フェニルメタクリレート、１−（３−アミノスルホニル
フェニルナフチル）メタクリレートなどのメタクリル酸
エステル類などの不飽和スルホンアミド。

【００４０】更に、上記モノマーと共重合し得るモノマ
ーを共重合させてもよい。また、上記モノマーの共重合
によって得られる共重合体を例えば、グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレートなどによって修飾し
たものも含まれるがこれらに限られるものではない。上
記共重合体には（３）に掲げた不飽和カルボン酸を含有
することが好ましく、その共重合体の好ましい酸価は０
〜１０meq ／ｇ、より好ましくは0.５〜５meq ／ｇであ
る。

【００４１】上記共重合体の好ましい分子量は１万〜１
０万である。また、上記共重合体には必要に応じて、ポ
リビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミ
ド樹脂およびエポキシ樹脂を添加してもよい。このよう
なアルカリ水可溶性の高分子化合物は１種類あるいは２
種類以上組み合わせることができ、全感光性組成物の８
０重量％以下の添加量で用いられる。

【００４２】本発明の感光性組成物中には、感度を高め
るために環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を添
加することが好ましい。環状酸無水物としては米国特許
第4,115,128 号明細書に記載されている無水フタル酸、
テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル
酸、３，６−エンドオキシ−Δ⁴ −テトラヒドロ無水フ
タル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、
クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、
無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。

【００４３】フェノール類としては、ビスフェノール
Ａ、ｐ−ニトロフェノール、ｐ−エトキシフェノール、
２，４，４′−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，
３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒドロキ
シベンゾフェノン、４，４′，４″−トリヒドロキシ−
トリフェニルメタン、４，４′，３″，４″−テトラヒ
ドロキシ−３，５，３′，５′−テトラメチルトリフェ
ニルメタンなどが挙げられる。

【００４４】更に、有機酸類としては、特開昭６０−８
８９４２号、特開平２−９６７５５号公報などに記載さ
れている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫
酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカルボン
酸類などがあり、具体的には、ｐ−トルエンスルホン
酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルフ
ィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホ
スフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息
香酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、
３，４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル
酸、１，４−シクロヘキセン−２，２−ジカルボン酸、
エルカ酸、ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコルビ
ン酸などが挙げられる。

【００４５】上記の環状酸無水物類、フェノール類およ
び有機酸類の感光性組成物中に占める割合は、0.０５〜
１５重量％が好ましく、より好ましくは0.１〜５重量％
である。また、本発明の感光性組成物中には、現像条件
に対する処理の安定性（いわゆる現像ラチチュード）を
広げるため、特開昭６２−２５１７４０号公報や特願平
２−１８１２４８号明細書に記載されているような非イ
オン界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号公報、特
願平２−１１５９９２号明細書に記載されているような
両性界面活性剤を添加することができる。

【００４６】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどが挙げら
れる。両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ
（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチル
グリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル
−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやＮ
−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商品名
アモーゲンＫ、第一工業（株）製）およびアルキルイミ
ダゾリン系（例えば、商品名レボン１５、三洋化成
（株）製）などが挙げられる。

【００４７】上記非イオン界面活性剤および両性界面活
性剤の感光性組成物中に占める割合は、0.０５〜１５重
量％が好ましく、より好ましくは0.１〜５重量％であ
る。本発明の感光性組成物中には、露光後直ちに可視像
を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や
顔料を加えることができる。焼き出し剤としては、露光
によって酸を放出する化合物（光酸放出剤）と塩を形成
し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができ
る。具体的には、特開昭５０−３６２０９号、同５３−
８１２８号の各公報に記載されているｏ−ナフトキノン
ジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染
料の組合せや、特開昭５３−３６２２３号、同５４−７
４７２８号、同６０−３６２６号、同６１−１４３７４
８号、同６１−１５１６４４号および同６３−５８４４
０号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と
塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かか
るトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合
物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性
に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。

【００４８】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料も用いることができる。塩形成性
有機染料も含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料を挙げることができる。具体的には、オイルイエ
ロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク
＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、
オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブ
ラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上、オリエ
ント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、ク
リスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイ
オレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ロ
ーダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリー
ン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１
５）などを挙げることができる。また、特開昭６２−２
９３２４７号公報に記載されている染料は特に好まし
い。

【００４９】これらの焼き出し剤や染料は後述の第２有
機被覆層に、あるいは第１及び第２両層に添加されてい
てもよい。本発明における感光性組成物は、上記各成分
を溶解する溶媒に溶かして支持体のアルミニウム板上に
塗布される。ここで使用される溶媒としては、特開昭６
２−２５１７３９号公報に記載されているような有機溶
剤が単独あるいは混合して用いられる。

【００５０】本発明の感光性組成物は、0.２〜２０重量
％の固形分濃度で溶解、分散され、支持体上に塗布・乾
燥される。支持体上に塗設される感光性組成物の層（感
光層）の塗布量は用途により異なるが、一般的には、乾
燥後の重量にして0.０３〜2.０ｇ／m²が好ましい。より
好ましくは0.２〜1.５ｇ／m²である。塗布量が小さくな
るにつれて、現像液に溶出する量は少なくなるが、後述
の第２有機被覆層が支持体から除去しにくくなる。逆に
塗布量が大きくなるにつれ、第２有機被覆層は除去しや
すくなるが、現像液への溶出量が大きくなり、現像液の
疲労を促進してしまう。

【００５１】本発明の感光性組成物中には、塗布面質を
向上するための界面活性剤、例えば、特開昭６２−１７
０９５０号公報に記載されているようなフッ素系界面活
性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全感
光性組成物の0.００１〜1.０重量％であり、更に好まし
くは0.００５〜0.５重量％である。第２有機被覆層 本発明の感光性複写材料は上述の感光性の第１有機被覆
層の上に現像液難溶性で、且つ現像液浸透性の有機被覆
層が設けられたものである。この第２有機被覆層は、皮
膜形成能を有する水不溶性の高分子化合物を水に乳化分
散したエマルジョンを塗布、乾燥することによって形成
されていてもよい。このようにして得られた第２有機被
覆層の皮膜は、強靱で耐摩耗性があり、印刷インキを受
容し易い疎水性表面を有することが好ましい。

【００５２】該エマルジョンとしては親油性樹脂のラテ
ックスが利用できる。本発明に有用なラテックスは、下
記Ａ群から選ばれたモノマーの単一重合体又は下記Ａ群
から選ばれた２以上のモノマーの共重合体、或いはＡ群
及びＢ群より選ばれたそれぞれ少なくとも一種のモノマ
ーの共重合によって得られるポリマーラテックス、或い
はそれらにＣ群の少なくとも一種のモノマーを組合せた
ポリマーラテックスである。 Ａ群：下記一般式で表わされるモノマー ＣＨＸ＝ＣＹＺ 〔式中、 Ｘ：水素原子、メチル基又は -COOR¹ 基 Ｙ：水素原子、メチル基又は-(CH₂)_n COOR² ハロゲン、
ニトリル、 Ｚ：アリール基、 -COOR³ 、 -OR³ 、 -O-COR³、 -CONR
²R³ 、ハロゲン、ニトリル Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ ：これらは同じでも異っていてもよ
く、脂肪族基または芳香族基 ｎ：０〜３の整数〕 Ｂ群：遊離のカルボン酸基、スルホン酸基、もしくはリ
ン酸基またはその塩を少くとも一つ有するエチレン系モ
ノマー。

【００５３】該カルボン酸のヒドロキシアルキルエステ
ル或いはアミド。 Ｃ群：ジビニル系モノマー。 Ａ群の一般式中、Ｒ¹ 〜Ｒ³ で代表される基のうち、脂
肪族基は直接または分岐アルキル基（環状のものも含
む）および置換アルキル基を含む。アルキル基の炭素数
としては、１〜１２が好ましい。

【００５４】置換アルキル基の置換基としては、アリー
ル基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アシ
ル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニ
ルオキシ基、アミノ基（置換アミノ基も含み、置換基と
してはアルキル基、アリール基など。置換基の数は１〜
２である）、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ヘテロ環残
基（ヘテロ原子としては、例えば酸素原子、窒素原子、
硫黄原子など。環の員数としては５〜６が好ましく、ま
た環は不飽和でも飽和でもよい。ヘテロ環には更に芳香
環が縮合していてもよい。）などを挙げることができ
る。

【００５５】また、Ｒ¹ 〜Ｒ³ で代表される基のうち、
アリール基は、もちろん置換されたフェニル基やナフチ
ル基を含み、置換基としては、置換アルキル基に関して
先に挙げた置換基の他にアルキル基などを挙げることが
できる。Ａ群のモノマーとしてはたとえばアクリル酸エ
ステル、メタクリル酸エステル、クロトン酸エステル、
ビニルエステル、マレイン酸ジエステル、フマル酸ジエ
ステル、イタコン酸ジエステル、スチレン類などの単官
能モノマーがあげられる。

【００５６】更に、具体的なモノマーとしては、例えば
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピ
ルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチ
ルアクリレート、イソブチルアクリレート、 sec−ブチ
ルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシルアクリ
レート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクチルア
クリレート、tert−オクチルアクリレート、２−フェノ
キシエチルアクリレート、２−クロロエチルアクリレー
ト、２−ブロモエチルアクリレート、４−クロロブチル
アクリレート、シアノエチルアクリレート、２−アセト
キシエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリ
レート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアク
リレート、２−クロロシクロヘキシルアクリレート、シ
クロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、
テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリ
レート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、２，２
−ジメチル−３−ヒドロキシプロピルアクリレート、２
−メトキシエチルアクリレート、３−メトキシブチルア
クリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２− i
so−プロポキシエチルアクリレート、２−ブトキシエチ
ルアクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチル
アクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルア
クリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアク
リレート（付加モル数ｎ＝９）、１−ブロモ−２−メト
キシエチルアクリレート、１，１−ジクロロ−２−エト
キシエチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチ
ルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソ
プロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、
イソブチルメタクリレート、 sec−ブチルメタクリレー
ト、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、
シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレー
ト、クロロベンジルメタクリレート、オクチルメタクリ
レート、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアミノエチルメタク
リレート、２−（３−フェニルプロピルオキシ）エチル
メタクリレート、ジメチルアミノフェノキシエチルメタ
クリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロ
フルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、
クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、２
−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシプ
ロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリ
レート、トリエチレングリコールモノメタクリレート、
ジプロピレングリコールモノメタクリレート、２−メト
キシエチルメタクリレート、３−メトキシブチルメタク
リレート、２−アセトキシエチルメタクリレート、アセ
トアセトキシエチルメタクリレート、２−エトキシエチ
ルメタクリレート、２− iso−プロポキシエチルメタク
リレート、２−ブトキシエチルメタクリレート、２−
（２−メトキシエトキシ）エチルメタクリレート、２−
（２−エトキシエトキシ）エチルメタクリレート、２−
（２−ブトキシエトキシ）エチルメタクリレート、ω−
メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（付加
モル数ｎ＝６）、ビニルアセテート、ビニルプロピオネ
ート、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニ
ルジメチルプロピオネート、ビニルエチルブチレート、
ビニルバレレート、ビニルカプロエート、ビニルクロル
アセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキ
シアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフェ
ニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラク
テート、ビニル−β−フェニルブチレート、ビニルシク
ロヘキシルカルボキシレート、安息香酸ビニル、サリチ
ル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル、テトラクロル安息
香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル、スチレン、メチルスチ
レン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチル
スチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、
ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルス
チレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメ
チルスチレン、トリフルオルメチルスチレン、エトキシ
メチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシ
スチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメト
キシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ト
リクロルスチレン、テトラクロルスチレン、ペンタクロ
ルスチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨー
ドスチレン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレ
ン、２−ブロム−４−トリフルオルメチルスチレン、４
−フルオル−３−トリフルオルメチルスチレン、ビニル
安息香酸メチルエステル、クロトン酸ブチル、クロトン
酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネート、イタコン酸
ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチル、
マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸
ジブチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジヘキシル、フ
マル酸ジブチルメチルアクリルアミド、エチルアクリル
アミド、プロピルアクリルアミド、イソプロピルアクリ
ルアミド、ブチルアクリルアミド、tert−ブチルアクリ
ルアミド、ヘプチルアクリルアミド、tert−オクチルア
クリルアミド、シクロヘキシルアクリルアミド、ベンジ
ルアクリルアミド、ヒドロキシメチルアクリルアミド、
メトキシエチルアクリルアミド、ジメチルアミノエチル
アクリルアミド、ヒドロキシエチルアクリルアミド、フ
ェニルアクリルアミド、ヒドロキシフェニルアクリルア
ミド、トリルアクリルアミド、ナフチルアクリルアミ
ド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミ
ド、ジブチルアクリルアミド、ジイソブチルアクリルア
ミド、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−オキソブチル）ア
クリルアミド、メチルベンジルアクリルアミド、ベンジ
ルオキシエチルアクリルアミド、β−シアノエチルアク
リルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチル−Ｎ
−アクリロイルピペラジン、Ｎ−アクリロイルピペリジ
ン、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−ヒドロキシブチル）
アクリルアミド、Ｎ−β−モルホリノエチルアクリルア
ミド、Ｎ−アクリロイルヘキサメチレンイミン、Ｎ−ヒ
ドロキシエチル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−２−
アセトアミドエチル−Ｎ−アセチルアクリルアミド、メ
チルメタクリルアミド、tert−ブチルメタクリルアミ
ド、tert−オクチルメタクリルアミド、ベンジルメタク
リルアミド、シクロヘキシルメタクリルアミド、フェニ
ルメタクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、ジエ
チルメタクリルアミド、ジプロピルメタクリルアミド、
ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−
メチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−エチル−
Ｎ−フェニルメタクリルアミド、メタクリルヒドラジン
など；アリル化合物：たとえば、酢酸アリル、カプロン
酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パル
ミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリ
ル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル、アリルオキシエタ
ノール、アリルブチルエーテル、アリルフェニルエーテ
ルなど；ビニルエーテル類：たとえば、メチルビニルエ
ーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテ
ル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、
エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニル
エーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチ
ルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロ
ピルビニルエーテル、２−エチルブチルビニルエーテ
ル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリ
コールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエ
ーテルなど；ビニルケトン類：例えば、メチルビニルケ
トン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケ
トンなど；オレフィン類：例えば、ジシクロペンタジエ
ン、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテ
ン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘ
プテン、１−オクテン、１−デセン、５−メチル−１−
ノネン、５，５−ジメチル−１−オクテン、４−メチル
−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ペンテン、５
−メチル−１−ヘキセン、４−メチル−１−ヘプテン、
５−メチル−１−ヘプテン、４，４−ジメチル−１−ヘ
キセン、５，５，６−トリメチル−１−ヘプテン、１−
ドデセンおよび１−オクタデセンなどの無置換炭化水
素、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等のジエン
化合物；ビニル異節環化合物（複素原子としては例えば
窒素原子、酸素原子、硫黄原子など、また異節環の員数
としては例えば５〜６で、この環には更に芳香環が結合
していてもよい。）：たとえば、Ｎ−ビニルオキサゾリ
ドン、ビニルピリジン、ビニルピコリン、Ｎ−ビニルイ
ミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール、Ｎ
−ビニルトリアゾール、Ｎ−ビニル−３，５−ジメチル
トリアゾール、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−
３，５−ジメチルピラゾール、Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、ビニルチオフエン、Ｎ−ビニルサクシンイミド、Ｎ
−ビニルグルタルイミド、Ｎ−ビニルアジピミド、Ｎ−
ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルピペリドン、Ｎ−ビニル
−ε−カプロラクタム、Ｎ−ビニル−２−ピリドン、な
ど；不飽和ニトリル類；例えばアクリロニトリル、メタ
クリロニトリルなど、ハロゲン化ビニル化合物；塩化ビ
ニル、塩化ビニリデン、臭化ビニル、沃化ビニルなど。

【００５７】Ｂ群のモノマーの具体例としては、たとえ
ば次の様な単官能モノマーがあげられる。アクリル酸、
メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、イタコン酸モ
ノアルキル（例えばイタコン酸モノメチル、イタコン酸
モノエチル、イタコン酸モノブチルなど）、マレイン酸
モノアルキル（例えばマレイン酸モノメチル、マレイン
酸モノエチル、マレイン酸モノブチル、マレイン酸モノ
オクチルなど）、シトラコン酸、スチレンスルホン酸、
ビニルベンジルスルホン酸、ビニルスルホン酸、アクリ
ロイルオキシアルキルスルホン酸、（例えば、アクリロ
イルオキシメチルスルホン酸、アクリロイルオキシエチ
ルスルホン酸、アクリロイルオキシプロピルスルホン
酸、アクリロイルオキシブチルスルホン酸など）、メタ
クリロイルオキシアルキルスルホン酸（例えばメタクリ
ロイルオキシメチルスルホン酸、メタクリロイルオキシ
エチルスルホン酸、メタクリロイルオキシプロピルスル
ホン酸、メタクリロイルオキシブチルスルホン酸な
ど）、アクリルアミドアルキルスルホン酸（例えば２−
アクリルアミド−２−メチルエタンスルホン酸、２−ア
クリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−ア
クリルアミド−２−メチルブタンスルホン酸など）、メ
タクリルアミドアルキルスルホン酸（例えば２−メタク
リルアミド−２−メチルエタンスルホン酸、２−メタク
リルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−メタ
クリルアミド−２−メチルブタンスルホン酸など）、ア
クリロイルオキシアルキルホスフェート（例えばアクリ
ロイルオキシエチルホスフェート、３−アクリロイルオ
キシプロピルホスフェート、など）、メタクリロイルオ
キシアルキルホスフェート（例えばメタクリロイルオキ
シエチルホスフェート、３−メタクリロイルオキシプロ
ピルホスフェートなど）など。

【００５８】また、前記の酸モノマー中のアルキル基と
しては、例えば炭素数１〜８程度のものである。これら
の酸はアルカリ金属イオン（好ましくはＮａ⁺ 、Ｋ⁺ ）
又はアンモニウムイオンの塩であってもよい。Ｃ群のモ
ノマーの具体例としては、ポリオールの不飽和エステル
特にα−メチレンカルボン酸のようなエステル、例え
ば、エチレンジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メ
タ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレ
ート、１，３−プロピレンジ（メタ）アクリレート、
１，４−シクロヘキサンジオール（メタ）アクリレー
ト、１，４−ベンゼンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、１，３−プロピレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト。不飽和アミド、特にα−メチレンカルボン酸のアミ
ド及び特にα，ω−ジアミン及び酸素が中間に介在する
ω−ジアミンのもの、例えばメチレンビス（メタ）アク
リルアミド、エチレンビス（メタ）アクリルアミド、
１，６−ヘキサメチレンビス（メタ）アクリルアミド及
びジエチレントリアミントリス（メタ）アクリルアミ
ド、ジビニルサクシネート、ジビニルアジペート、ジビ
ニルフタレート、ジビニルテレフタレート、ジビニルベ
ンゼン−１，３−ジスルホネート及びジビニルブタン−
１，４−ジスルホネートのようなビニルエステル、ソル
ブアルデヒドすなわち２，４−ヘキサジエナールのよう
な不飽和アルデヒド。

【００５９】（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル
アミドのような中性のα−メチレンカルボン酸ポリエス
テル、ポリアミド及び（または）第１及び第２アミノア
ルコール、アミノポリオールまたはポリアミノアルコー
ルまたはポリオールのエステルアミド及び前記アルコー
ルの類似誘導体、例えばβ−メタクリルアミドエチル
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（β−ヒドロキシエチ
ル）−β−（メタアクリルアミド）エチルアクリレー
ト、Ｎ，Ｎ−ビス（β−メタクリルオキシエチル）アク
リルアミド、その他、ジビニルベンゼンやキシリレンジ
イソシアネートとヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
トからのウレタン化合物、例えば下記の化学構造を有す
るようなウレタン化合物

【００６０】

【化１】

【００６１】のようなイソシアネートとヒドロキシアル
キル化合物からのウレタン化合物等が有用である。な
お、上記において、「（メタ）アクリレート」とは「ア
クリレート」および「メタクリレート」の両者を意味
し、「（メタ）アクリルアミド」も同様の事を意味す
る。ここで使用できるラテックス重合体は例えばプレパ
ラティブ メソッド オブ ポリマー ケミストリー
インターサイエンス パブリシャーズ(Preparative Met
hods of Polymer Chemistry, Interscience Publisher
s) 発行の２１６及び２３８ページに記載されている乳
化重合法に従って合成することができる。一つの例とし
ては次のとおりである。１リットルの三ツ口フラスコに
４２０mlの蒸留水を採り、メタ重亜硫酸カリウム0.２２
５ｇを添加し、攪拌して溶解したあと窒素パージし、ア
クリロニトリル３3.３７ｇ、塩化ビニリデン１４5.３
ｇ、アクリル酸１4.１ｇ及びトリトン７７０（界面活性
剤）１4.１ｇを添加し、過硫酸カリウム0.４５ｇを加え
て、３０℃の温度下に１５０rpm の回転数で攪拌を行な
って反応させた。

【００６２】ラテックスの調製に於いて乳化重合法が利
用できない樹脂、例えばホルマール樹脂又はブチラール
樹脂のようなアセタール樹脂、酢酸セルロース、プロピ
オン酸セルロース、酪酸セルロース、クロトン酸セルロ
ースなどのセルロースエステル、該エステル化合物とフ
タール酸、コハク酸、セバチン酸、マレイン酸等のジカ
ルボン酸との共エステル化合物、メチルセルロース、エ
チルセルロース、プロピルセルロース、ブチルセルロー
ス、アリルセルロース、ベンジルセルロース、シルロヘ
キシルセルロース、シアノエチルセルロースなどのセル
ロースエーテル化合物、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リウレタン、ポリウレア、ポリイミドなどの縮合重合に
より生成する高分子化合物等も本発明に使用し得る親油
性樹脂として有用である。該化合物は特開昭５２−３６
５３号公報に開示されている方法によりエマルジョンを
調製することができる。

【００６３】前記の共重合ラテックスに於けるＡ群、Ｂ
群、Ｃ群の比率はラテックスから塗布された第２有機被
覆層の現像性、インキ受容性、耐刷性などの性能を勘案
して適宜に選択することができる。Ａ群のモノマー成分
は主として親油性と耐摩耗性を司どる。従って、好まし
いＡ群モノマー成分の量は、対ラテックスポリマー固形
分で、２０〜１００重量％が好ましく、特に６０〜１０
０重量％が好適である。

【００６４】Ｂ群モノマー成分の量はラテックスポリマ
ー固形分の０〜２５重量％が好ましく、特に０〜１０重
量％が好適である。Ｃ群モノマー成分は０〜８０重量％
が好ましく、特に０〜４０重量％が好適である。また市
販のラテックス液も利用することができる。例えばポリ
アクリル酸エステル共重合体のエマルジョン；商品名、
ジュリマーＥＴ−４１０、ジュリマーＳＥＫ−３０１、
ジュリマーＳＥＫ−１０１、ジュリマーＦＣ−３０、ジ
ュリマーＦＣ−６０、ジュリマーＦＣ−８０、ジュリマ
ーＳＥ−５１０１、ジュリマーＳＥ−５１０２、ジュリ
マーＳＥ−５１０３、ジュリマーＳＥ−５３０１、ジュ
リマーＳＥ−３６１、ジュリマーＳＥ−３６３、ジュリ
マーＳＥ−３６５、ジュリマーＳＥ−６３０２、ジュリ
マーＳＥ−６３１１、ジュリマーＳＥ−６３１２（以上
日本純薬（株）製）、Nipol LX８１１、Nipol LX８１
４、Nipol LX８４１、Nipol LX８５１、Nipol LX８５
２、Nipol LX８５４、Nipol LX８５６、Nipol LX８６
０、Nipol LX８７４（以上日本ゼオン（株）製）、プラ
イマルＡＣ−２２、プライマルＡＣ−３３、プライマル
ＡＣ−３４４４、プライマルＡＣ−５５、プライマルＡ
Ｃ−６１、プライマルＡＣ−３８２、プライマルＡＳＥ
−６０、プライマルＡＳＥ−７５、プライマルＡＳＥ−
１０８、プライマルＢ−１５、プライマルＢ−４１、プ
ライマルＢ−７４、プライマルＢ−３３６、プライマル
Ｂ−５０５、プライマルＢ−８３２、プライマルＢ−９
２４、プライマルＣ−７２、プライマルＥ−３２、プラ
イマルＥ−３５８、プライマルＨＡ−８、プライマルＨ
Ａ−１６、プライマルＨＡ−２４、プライマルＩ−９
４、プライマルＬＣ−４０、プライマルＬＴ−７６、プ
ライマルＬＴ−８７、プライマルＭＣ−４５３０、プラ
イマルＮ−５８０、プライマルＰ−６Ｎ、プライマルＰ
−１０６０、プライマルＳ−１、プライマルＴＲ−４
９、プライマル８５０、以上日本アクリル化学（株）
製、アクリロニトリル・ブタジエン系ラテックス；Nipo
l １５５１、Nipol １５６１、Nipol １５６２、Nipol
１５７１、Nipol １５７７、Nipol LX５１１、Nipol LX
５１３、Nipol LX５３１、Nipol LX５３１Ｂ、以上日本
ゼオン（株）製、スチレン・ブタジエン系ラテックス；
Nipol LX１１１、Nipol ４８５０、Nipol ４８５０Ａ、
Nipol LX１１０、Nipol LX１１９、Nipol LX２０４、Ni
polLX２０６、Nipol LX２０９、Nipol ２５０７、Nipol
LX３０３、Nipol ２５１８ＦＳ、Nipol LX４１５Ａ、N
ipol LX４２６、Nipol LX４３０、Nipol LX４３２Ａ、N
ipol LX４３３、Nipol LX４７２、Nipol ２５７０Ｘ
５、Nipol LX４０７ＢＰ、Nipol LX４０７Ｃ、Nipol LX
４０７Ｆ、Nipol LX４０７Ｇ、以上日本ゼオン（株）
製、塩化ビニル系ラテックス；Geon１５０Ｘ１５、Geon
３５１、Geon５７６、以上日本ゼオン（株）製、ウレタ
ン樹脂エマルジョン；VONDIC １０４１ＮＳ、VONDIC
１０５０Ｂ−ＮＳ、VONDIC １２３０ＮＳ、VONDIC １
２５０、VONDIC １３１０ＮＳＣ、VONDIC １３２０Ｎ
ＳＣ、VONDIC １５１０、VONDIC １６１０ＮＳ、VOND
IC １５１２ＮＳＣ、VONDIC １６４０、VONDIC１６６
０ＮＳ、VONDIC １６７０ＮＳ、VONDIC １９３０Ａ−
ＮＳ、VONDIC １９８０ＮＳ、VONDIC １２０５、VOND
IC ２２２０、VONDIC ２２３０、以上大日本インキ化
学（株）製、アロン ネオタンＵＥ−１１０１、アロン
ネオタンＵＥ−１２００、アロン ネオタンＵＥ−１
３００、アロン ネオタンＵＥ−１４０２、アロン ネ
オタンＵＥ−２１０３、アロン ネオタンＵＥ−２２０
０、アロン ネオタンＵＥ−２６００、アロン ネオタ
ンＵＥ−２９００、アロン ネオタンＵＥ−５４０４、
アロン ネオタンＵＥ−５６００、以上東亜合成化学工
業（株）製、コロイド分散型ウレタン樹脂；HYDRAN Ｈ
Ｗ−３０１、HYDRAN ＨＷ−３１０、HYDRAN ＨＷ−３
１１、HYDRAN ＨＷ−３１２Ｂ、HYDRAN ＨＷ−３３
３、HYDRAN ＨＷ−３４０、HYDRAN ＨＷ−３５０、HY
DRANＨＷ−１１１、HYDRANＨＷ−１４０、HYDRAN ＨＷ
−９１０、HYDRAN ＨＷ−９２０、HYDRAN ＨＷ−９３
０、HYDRAN ＨＷ−９４０、HYDRAN ＨＷ−９５０、HY
DRAN ＨＷ−９６０、以上大日本インキ化学工業（株）
製などを挙げることができる。ただし市販のラテックス
を使用する場合は使われている乳化安定剤の種類等によ
り性能が左右されることを考慮する必要がある。

【００６５】乳化重合法に依らない方法で調製したラテ
ックスを含めて第２有機被覆層を形成するポリマーはポ
リマーの主鎖又は側鎖にヒドロキシル、アミノ、アミ
ド、イミノ、イミド、ニトリロ、カルボキシル、スルホ
ニル、スルホンオキシ、イソシアネート、ウレタン、ア
ゾイミド、アゾ、ヒドラジノ、カルバミド、カルバミ
ル、エポキシ、メルカプト、チオ及びスルホンアミド基
から選択される少なくとも１種の基を含むものが好まし
い。エマルジョン中の親油製樹脂の粒子径は特に制限は
ないが一般に約0.０３〜１０μの範囲内に分布を持つも
のが使えるが、好ましくは0.０５〜５μｍ程度である。
エマルジョン粒子を形成するポリマーは高分子量のもの
からオリゴマー程度のもの、分子量で約２０００から約
２０００００位のものまで使うことができるしそれ等の
混合系でもよい。又、粒子を形成するポリマーは、それ
自身架橋されていてもよいし、活性光線又は熱によって
硬化する性質を有するものであってもよい。

【００６６】また、このようなエマルジョンを用いて形
成された第２有機被覆層には現像液浸透促進剤として前
述のようなｏ−キノンジアジド化合物を水に乳化分散し
た状態で加えることができるが、この添加量が多過ぎる
と現像液への溶出成分が増えるので本発明の目的にそぐ
わない。従って、ｏ−キノンジアジド化合物の添加量は
２０％以下が好ましい。

【００６７】また本発明の感光性複写材料の第２有機被
覆層はエマルジョン以外に、皮膜形成能を有する水不溶
性で有機溶媒可溶性の高分子化合物の有機溶剤溶液を塗
設、乾燥することによって形成されてもよい。本発明に
有用な上記高分子化合物は下記Ａ群から選ばれたモノマ
ーの単一重合体又は下記Ａ群から選ばれた２以上のモノ
マーの共重合体、或いはＡ群及びＢ群より選ばれたそれ
ぞれ少なくとも一種のモノマーの共重合によって得られ
る高分子化合物、或いはそれらにＣ群の少なくとも一種
のモノマーを組合せた高分子化合物である。 Ａ群：下記一般式で表わされるモノマー ＣＨＸ＝ＣＹＺ 〔式中、 Ｘ：水素原子、メチル基又は -COOR¹ 基 Ｙ：水素原子、メチル基又は-(CH₂)_n COOR² ハロゲン、
ニトリル、 Ｚ：アリール基、 -COOR³ 、 -OR³ 、 -O-COR³、 -CONR
²R³ 、ハロゲン、ニトリル Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ ：これらは同じでも異っていてもよ
く、脂肪族基または芳香族基 ｎ：０〜３の整数〕 Ｂ群：遊離のカルボン酸基、スルホン酸基、もしくはリ
ン酸基またはその塩を少くとも一つ有するエチレン系モ
ノマー。

【００６８】該カルボン酸のヒドロキシアルキルエステ
ル或いはアミド。 Ｃ群：ジビニル系モノマー。 Ａ群の一般式中、Ｒ¹ 〜Ｒ³ で代表される基のうち、脂
肪族基は直接または分岐アルキル基（環状のものも含
む）および置換アルキル基を含む。アルキル基の炭素数
としては、１〜１２が好ましい。

【００６９】置換アルキル基の置換基としては、アリー
ル基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アシ
ル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニ
ルオキシ基、アミノ基（置換アミノ基も含み、置換基と
してはアルキル基、アリール基など。置換基の数は１〜
２である）、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ヘテロ環残
基（ヘテロ原子としては、例えば酸素原子、窒素原子、
硫黄原子など。環の員数としては５〜６が好ましく、ま
た環は不飽和でも飽和でもよい。ヘテロ環には更に芳香
環が縮合していてもよい。）などを挙げることができ
る。

【００７０】また、Ｒ¹ 〜Ｒ³ で代表される基のうち、
アリール基は、もちろん置換されたフェニル基やナフチ
ル基を含み、置換基としては、置換アルキル基に関して
先に挙げた置換基の他にアルキル基などを挙げることが
できる。Ａ群のモノマーとしてはたとえばアクリル酸エ
ステル、メタクリル酸エステル、クロトン酸エステル、
ビニルエステル、マレイン酸ジエステル、フマル酸ジエ
ステル、イタコン酸ジエステル、スチレン類などの単官
能モノマーがあげられる。

【００７１】更に、具体的なモノマーとしては、例えば
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピ
ルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチ
ルアクリレート、イソブチルアクリレート、 sec−ブチ
ルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシルアクリ
レート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクチルア
クリレート、tert−オクチルアクリレート、２−フェノ
キシエチルアクリレート、２−クロロエチルアクリレー
ト、２−ブロモエチルアクリレート、４−クロロブチル
アクリレート、シアノエチルアクリレート、２−アセト
キシエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリ
レート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアク
リレート、２−クロロシクロヘキシルアクリレート、シ
クロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、
テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリ
レート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、２，２
−ジメチル−３−ヒドロキシプロピルアクリレート、２
−メトキシエチルアクリレート、３−メトキシブチルア
クリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２− i
so−プロポキシエチルアクリレート、２−ブトキシエチ
ルアクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチル
アクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルア
クリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアク
リレート（付加モル数ｎ＝９）、１−ブロモ−２−メト
キシエチルアクリレート、１，１−ジクロロ−２−エト
キシエチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチ
ルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソ
プロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、
イソブチルメタクリレート、 sec−ブチルメタクリレー
ト、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、
シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレー
ト、クロロベンジルメタクリレート、オクチルメタクリ
レート、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアミノエチルメタク
リレート、２−（３−フェニルプロピルオキシ）エチル
メタクリレート、ジメチルアミノフェノキシエチルメタ
クリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロ
フルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、
クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、２
−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシプ
ロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリ
レート、トリエチレングリコールモノメタクリレート、
ジプロピレングリコールモノメタクリレート、２−メト
キシエチルメタクリレート、３−メトキシブチルメタク
リレート、２−アセトキシエチルメタクリレート、アセ
トアセトキシエチルメタクリレート、２−エトキシエチ
ルメタクリレート、２− iso−プロポキシエチルメタク
リレート、２−ブトキシエチルメタクリレート、２−
（２−メトキシエトキシ）エチルメタクリレート、２−
（２−エトキシエトキシ）エチルメタクリレート、２−
（２−ブトキシエトキシ）エチルメタクリレート、ω−
メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（付加
モル数ｎ＝６）、ビニルアセテート、ビニルプロピオネ
ート、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニ
ルジメチルプロピオネート、ビニルエチルブチレート、
ビニルバレレート、ビニルカプロエート、ビニルクロル
アセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキ
シアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフェ
ニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラク
テート、ビニル−β−フェニルブチレート、ビニルシク
ロヘキシルカルボキシレート、安息香酸ビニル、サリチ
ル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル、テトラクロル安息
香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル、スチレン、メチルスチ
レン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチル
スチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、
ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルス
チレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメ
チルスチレン、トリフルオルメチルスチレン、エトキシ
メチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシ
スチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメト
キシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ト
リクロルスチレン、テトラクロルスチレン、ペンタクロ
ルスチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨー
ドスチレン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレ
ン、２−ブロム−４−トリフルオルメチルスチレン、４
−フルオル−３−トリフルオルメチルスチレン、ビニル
安息香酸メチルエステル、クロトン酸ブチル、クロトン
酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネート、イタコン酸
ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチル、
マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸
ジブチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジヘキシル、フ
マル酸ジブチルメチルアクリルアミド、エチルアクリル
アミド、プロピルアクリルアミド、イソプロピルアクリ
ルアミド、ブチルアクリルアミド、tert−ブチルアクリ
ルアミド、ヘプチルアクリルアミド、tert−オクチルア
クリルアミド、シクロヘキシルアクリルアミド、ベンジ
ルアクリルアミド、ヒドロキシメチルアクリルアミド、
メトキシエチルアクリルアミド、ジメチルアミノエチル
アクリルアミド、ヒドロキシエチルアクリルアミド、フ
ェニルアクリルアミド、ヒドロキシフェニルアクリルア
ミド、トリルアクリルアミド、ナフチルアクリルアミ
ド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミ
ド、ジブチルアクリルアミド、ジイソブチルアクリルア
ミド、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−オキソブチル）ア
クリルアミド、メチルベンジルアクリルアミド、ベンジ
ルオキシエチルアクリルアミド、β−シアノエチルアク
リルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチル−Ｎ
−アクリロイルピペラジン、Ｎ−アクリロイルピペリジ
ン、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−ヒドロキシブチル）
アクリルアミド、Ｎ−β−モルホリノエチルアクリルア
ミド、Ｎ−アクリロイルヘキサメチレンイミン、Ｎ−ヒ
ドロキシエチル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−２−
アセトアミドエチル−Ｎ−アセチルアクリルアミド、メ
チルメタクリルアミド、tert−ブチルメタクリルアミ
ド、tert−オクチルメタクリルアミド、ベンジルメタク
リルアミド、シクロヘキシルメタクリルアミド、フェニ
ルメタクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、ジエ
チルメタクリルアミド、ジプロピルメタクリルアミド、
ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−
メチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−エチル−
Ｎ−フェニルメタクリルアミド、メタクリルヒドラジン
など；アリル化合物：たとえば、酢酸アリル、カプロン
酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パル
ミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリ
ル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル、アリルオキシエタ
ノール、アリルブチルエーテル、アリルフェニルエーテ
ルなど；ビニルエーテル類：たとえば、メチルビニルエ
ーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテ
ル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、
エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニル
エーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチ
ルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロ
ピルビニルエーテル、２−エチルブチルビニルエーテ
ル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリ
コールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエ
ーテルなど；ビニルケトン類：例えば、メチルビニルケ
トン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケ
トンなど；オレフィン類：例えば、ジシクロペンタジエ
ン、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテ
ン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘ
プテン、１−オクテン、１−デセン、５−メチル−１−
ノネン、５，５−ジメチル−１−オクテン、４−メチル
−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ペンテン、５
−メチル−１−ヘキセン、４−メチル−１−ヘプテン、
５−メチル−１−ヘプテン、４，４−ジメチル−１−ヘ
キセン、５，５，６−トリメチル−１−ヘプテン、１−
ドデセンおよび１−オクタデセンなどの無置換炭化水
素、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等のジエン
化合物；ビニル異節環化合物（複素原子としては例えば
窒素原子、酸素原子、硫黄原子など、また異節環の員数
としては例えば５〜６で、この環には更に芳香環が結合
していてもよい。）：たとえば、Ｎ−ビニルオキサゾリ
ドン、ビニルピリジン、ビニルピコリン、Ｎ−ビニルイ
ミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール、Ｎ
−ビニルトリアゾール、Ｎ−ビニル−３，５−ジメチル
トリアゾール、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−
３，５−ジメチルピラゾール、Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、ビニルチオフエン、Ｎ−ビニルサクシンイミド、Ｎ
−ビニルグルタルイミド、Ｎ−ビニルアジピミド、Ｎ−
ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルピペリドン、Ｎ−ビニル
−ε−カプロラクタム、Ｎ−ビニル−２−ピリドン、な
ど；不飽和ニトリル類；例えばアクリロニトリル、メタ
クリロニトリルなど、ハロゲン化ビニル化合物；塩化ビ
ニル、塩化ビニリデン、臭化ビニル、沃化ビニルなど。

【００７２】Ｂ群のモノマーの具体例としては、たとえ
ば次の様な単官能モノマーがあげられる。アクリル酸、
メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、イタコン酸モ
ノアルキル（例えばイタコン酸モノメチル、イタコン酸
モノエチル、イタコン酸モノブチルなど）、マレイン酸
モノアルキル（例えばマレイン酸モノメチル、マレイン
酸モノエチル、マレイン酸モノブチル、マレイン酸モノ
オクチルなど）、シトラコン酸、スチレンスルホン酸、
ビニルベンジルスルホン酸、ビニルスルホン酸、アクリ
ロイルオキシアルキルスルホン酸、（例えば、アクリロ
イルオキシメチルスルホン酸、アクリロイルオキシエチ
ルスルホン酸、アクリロイルオキシプロピルスルホン
酸、アクリロイルオキシブチルスルホン酸など）、メタ
クリロイルオキシアルキルスルホン酸（例えばメタクリ
ロイルオキシメチルスルホン酸、メタクリロイルオキシ
エチルスルホン酸、メタクリロイルオキシプロピルスル
ホン酸、メタクリロイルオキシブチルスルホン酸な
ど）、アクリルアミドアルキルスルホン酸（例えば２−
アクリルアミド−２−メチルエタンスルホン酸、２−ア
クリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−ア
クリルアミド−２−メチルブタンスルホン酸など）、メ
タクリルアミドアルキルスルホン酸（例えば２−メタク
リルアミド−２−メチルエタンスルホン酸、２−メタク
リルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−メタ
クリルアミド−２−メチルブタンスルホン酸など）、ア
クリロイルオキシアルキルホスフェート（例えばアクリ
ロイルオキシエチルホスフェート、３−アクリロイルオ
キシプロピルホスフェート、など）、メタクリロイルオ
キシアルキルホスフェート（例えばメタクリロイルオキ
シエチルホスフェート、３−メタクリロイルオキシプロ
ピルホスフェートなど）など。

【００７３】また、前記の酸モノマー中のアルキル基と
しては、例えば炭素数１〜８程度のものである。これら
の酸はアルカリ金属イオン（好ましくはＮａ⁺ 、Ｋ⁺ ）
又はアンモニウムイオンの塩であってもよい。Ｃ群のモ
ノマーの具体例としては、ポリオールの不飽和エステル
特にα−メチレンカルボン酸のようなエステル、例え
ば、エチレンジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メ
タ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレ
ート、１，３−プロピレンジ（メタ）アクリレート、
１，４−シクロヘキサンジオール（メタ）アクリレー
ト、１，４−ベンゼンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、１，３−プロピレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト。不飽和アミド、特にα−メチレンカルボン酸のアミ
ド及び特にα，ω−ジアミン及び酸素が中間に介在する
ω−ジアミンのもの、例えばメチレンビス（メタ）アク
リルアミド、エチレンビス（メタ）アクリルアミド、
１，６−ヘキサメチレンビス（メタ）アクリルアミド及
びジエチレントリアミントリス（メタ）アクリルアミ
ド、ジビニルサクシネート、ジビニルアジペート、ジビ
ニルフタレート、ジビニルテレフタレート、ジビニルベ
ンゼン−１，３−ジスルホネート及びジビニルブタン−
１，４−ジスルホネートのようなビニルエステル、ソル
ブアルデヒドすなわち２，４−ヘキサジエナールのよう
な不飽和アルデヒド。

【００７４】（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル
アミドのような中性のα−メチレンカルボン酸ポリエス
テル、ポリアミド及び（または）第１及び第２アミノア
ルコール、アミノポリオールまたはポリアミノアルコー
ルまたはポリオールのエステルアミド及び前記アルコー
ルの類似誘導体、例えばβ−メタクリルアミドエチル
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（β−ヒドロキシエチ
ル）−β−（メタアクリルアミド）エチルアクリレー
ト、Ｎ，Ｎ−ビス（β−メタクリルオキシエチル）アク
リルアミド、その他、ジビニルベンゼンやキシリレンジ
イソシアネートとヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
トからのウレタン化合物、例えば下記の化学構造を有す
るようなウレタン化合物

【００７５】

【化２】

【００７６】のようなイソシアネートとヒドロキシアル
キル化合物からのウレタン化合物等が有用である。な
お、上記において、「（メタ）アクリレート」とは「ア
クリレート」および「メタクリレート」の両者を意味
し、「（メタ）アクリルアミド」も同様の事を意味す
る。前記の高分子化合物におけるＡ群、Ｂ群、Ｃ群の比
率は塗布された有機被覆層の現像性、インキ受容性、耐
刷性などの性能を勘案して適宜に選択することができ
る。Ａ群のモノマー成分は主として親油性と耐摩耗性を
司どる。従って、好ましいＡ群モノマー成分の量は、対
高分子化合物固形分で、２０〜１００重量％が好まし
く、特に６０〜１００重量％が好適である。

【００７７】Ｂ群モノマー成分の量は該高分子化合物固
形分の０〜２５重量％が好ましく、特に０〜１０重量％
が好適である。Ｃ群モノマー成分は０〜８０重量％が好
ましく、特に０〜４０重量％が好適である。以上の共重
合型高分子化合物の他にも例えばホルマール樹脂又はブ
チラール樹脂のようなアセタール樹脂、酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、クロト
ン酸セルロースなどのセルロースエステル、該エステル
化合物とフタール酸、コハク酸、セバチン酸、マレイン
酸等のジカルボン酸との共エステル化合物、メチルセル
ロース、エチルセルロース、プロピルセルロース、ブチ
ルセルロース、アリルセルロース、ベンジルセルロー
ス、シルロヘキシルセルロース、シアノエチルセルロー
スなどのセルロースエーテル化合物、ポリエステル、ポ
リアミド、ポリウレタン、ポリウレア、ポリイミド、エ
ポキシ樹脂、アルキルフェノールのアルデヒド縮合樹脂
およびセラックなどが挙げられる。これらの高分子化合
物はその主鎖又は側鎖にヒドロキシル、アミノ、アミ
ド、イミノ、イミド、ニトリロ、カルボキシル、スルホ
ニル、スルホンオキシ、イソシアネート、ウレタン、ア
ゾイミド、アゾ、ヒドラジノ、カルバミド、カルバミ
ル、エポキシ、メルカプト、チオ及びスルホンアミド基
から選択される少なくとも１種の基を含むものが好まし
い。

【００７８】本発明に用いられる高分子化合物の分子量
は、オリゴマー程度のものから高分子量のものまで、分
子量で約２０００〜約２０００００のものまで使うこと
ができる。また、上記のような皮膜形成能を有する水不
溶性で有機溶媒可溶性高分子化合物の有機溶剤溶液から
設けられる第２有機被覆層には前述のようなｏ−キノン
ジアジド化合物を現像液浸透促進剤として加えることが
できるが、この添加量が多過ぎると現像液への溶出成分
が増えるので本発明の目的にそぐわない。従って、ｏ−
キノンジアジド化合物の添加量は２０％以下が好まし
い。

【００７９】これらの高分子ラテックスまたは高分子化
合物は単独で用いられてもよいが、互いに異なる複数の
ものを混合することによって、第２有機被覆層の現像液
に対する浸透性や膨潤性を調整したり、皮膜性を調整す
ることができる。これまでに記した第２有機被覆層の現
像液に対する溶解性の難易とは、現像液の強度に対する
相対的なものである。周知のごとくｏ−キノンジアジド
感光層はその組成により現像剤の強度が異なり、感光層
に適合した強度の現像液を選ぶことが可能である。従っ
て、第２有機被覆層に用い得る高分子化合物は一般的な
溶解性、膨潤性の難易をもっては限定しがたく、選択さ
れた第１有機被覆層の成分および現像液の成分に従っ
て、第２有機被覆層の高分子化合物も好適に選択され
る。

【００８０】更に、該第２有機被覆層には、有機、無機
の各種添加物を所望により添加することができる。例え
ば、画像着色剤としての染料や顔料、焼き出し剤、被覆
の物理的強度を向上させるための二酸化珪素（シリ
カ）、二酸化チタンやクレーのような充填剤あるいは現
像促進のための可塑剤や、先に感光層のところで述べた
酸無水物、有機酸類およびフェノール類などを加えるこ
とができる。

【００８１】更に、安定化剤、界面活性剤、可塑剤など
も適宜添加できる。特に、塗布面質を向上するための界
面活性剤、例えば、特開昭６２−１７０９５０号公報に
記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加してお
くことが好ましい。この好ましい添加量は、第２有機被
覆層の全重量に対して0.００１〜1.０重量％であり、更
に好ましくは0.００５〜0.５重量％である。

【００８２】該添加成分は、第２有機被覆層が高分子ラ
テックス溶液から塗設される場合、エマルジョンの粒子
中に含まれてもよく、粒子外に含まれていてもよい。ま
た該添加成分は第２有機被覆層が有機溶剤溶液から塗布
される場合には、有機溶剤に溶解させるか分散させた状
態で塗布できる。該第２有機被覆層は、ラテックス溶液
状態または有機溶剤溶液状態からの塗布、流延、転写あ
るいは同時多層塗布などの塗設技術をもって感光性の第
１有機被覆層の上に設けられ、乾燥される。ここで第２
有機被覆層を有機溶剤溶液状態から塗設する場合の溶媒
としては、特開昭６２−２５１７３９号公報に記載され
ているような有機溶剤が用いられるが、このうちｏ−キ
ノンジアジド化合物の貧溶媒であるアルコールや炭化水
素などが特に有用である。

【００８３】別に、溶融ラミネーション法やフィルム熱
融着などの方法も用いられる。該第２有機被覆層の好ま
しい塗布量は乾燥後の重量にして0.１〜5.０ｇ／m²であ
り、より好ましくは0.３〜3.０ｇ／m²である。この範囲
よりも第２有機被覆層の塗布量が小さいと、感光性複写
材料の画像の強度が劣り、また、この範囲よりも大きい
と現像液の浸透に時間がかかり好ましい画像が得られな
い。

【００８４】マット層 上記のようにして設けられた第２有機被覆層の表面に
は、真空焼き枠を用いた密着露光の際の真空引きの時間
を短縮し、且つ焼きボケを防ぐため、マット層を設ける
ことが好ましい。具体的には、特開昭５０−１２５８０
５号、特公昭５７−６５８２号、同６１−２８９８６号
の各公報に記載されているようなマット層を設ける方
法、特公昭６２−６２３３７号公報に記載されているよ
うな固体粉末を熱融着させる方法などが挙げられる。

【００８５】活性光線 かくして得られた感光性複写材料は透明原画を通してカ
ーボンアーク灯、水銀灯、メタルハライドランプ、キセ
ノンランブ、タングステンランプなどを光源とする活性
光線により露光された後、現像処理される。現像液 かかる感光性複写材料の現像液としては従来より知られ
ている有機、無機のアルカリ水溶液が使用できる。例え
ば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、第３リン酸ナ
トリウム、第３リン酸カリウム、第３リン酸アンモニウ
ム、第２リン酸ナトリウム、第２リン酸カリウム、第２
リン酸アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ
酸カリウム、ホウ酸アンモニウムなどが挙げられる。ア
ルカリ金属水酸化物としては、水酸化カリウム、水酸化
ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化アンモニウムが挙
げられる。

【００８６】特に好ましいものとしては、重炭酸塩、炭
酸塩、炭酸水素塩などが挙げられる。これらは、単独ま
たは混合して用いられる。本発明の現像液に使用される
有機アルカリ剤としては、モノメチルアミン、ジメチル
アミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミ
ン、ジイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエ
タノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノール
アミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノ
ールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリ
ジンなどのような化合物が挙げられる。このうち特にモ
ノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノ
ールアミンなどが好ましく、無機アルカリ金属塩などと
組み合せて使用してもよい。

【００８７】これらの塩基性化合物の水溶液中の濃度
は、0.０５重量％〜１０重量％が好ましい。これらは、
より好ましくはpH１１未満であれば製版作業時、取り扱
いも容易で、さらに中和処理も簡単である。本発明に用
いられる現像液および補充液には、必要に応じて種々界
面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤
としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および
両性界面活性剤が挙げられる。

【００８８】界面活性剤の好ましい例としては、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
スチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
オキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪
酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、
ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレ
ングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部
分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル
類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン
脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、
Ｎ，Ｎ−ビス−２−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリ
オキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン
脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非
イオン性界面活性剤、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、
ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン
酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼ
ンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩
類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルス
ルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェ
ニルエーテル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリン
ナトリウム塩、Ｎ−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二
ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂
肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫
酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル
硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫
酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニル
エーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステ
ル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
リン酸エステル塩類、スチレン／無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、オレフィン／無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン
縮合物類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩
類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアル
キルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などの
カチオン性界面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノ
カルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル
類、イミダゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられ
る。以上挙げた界面活性剤の中でポリオキシエチレンと
あるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレ
ン、ポリオキシブチレンなどのポリオキシアルキレンに
読み替えることもでき、それらの界面活性剤もまた包含
される。

【００８９】更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフ
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニ
オン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、
パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などの
カチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイ
ド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パ
ーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマ
ー、パーフルオロアルキル基、親水性および親油性基含
有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基
含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。

【００９０】上記の界面活性剤は、単独もしくは２種以
上を組み合わせて使用することができ、現像液中に0.０
０１〜１０重量％、より好ましくは0.０１〜５重量％の
範囲で添加される。有機溶剤としては、水に対する溶解
度が約１０重量％以下のものが適しており、好ましくは
５重量％以下のものから選ばれる。例えば、１−フェニ
ルエタノール、２−フェニルエタノール、３−フェニル
−１−プロパノール、４−フェニル−１−ブタノール、
４−フェニル−２−ブタノール、２−フェニル−１−ブ
タノール、２−フェノキシエタノール、２−ベンジルオ
キシエタノール、ｏ−メトキシベンジルアルコール、ｍ
−メトキシベンジルアルコール、ｐ−メトキシベンジル
アルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノー
ル、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシクロ
ヘキサノールおよび４−メチルシクロヘキサノール、Ｎ
−フェニルエタノールアミンおよびＮ−フェニルジエタ
ノールアミンなどを挙げることができる。有機溶剤の含
有量は使用液の総重量に対して0.１〜５重量％である。
その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係があり、
有機溶剤の量が増すにつれ、界面活性剤の量は増加させ
ることが好ましい。これは界面活性剤の量が少なく、有
機溶剤の量を多く用いると有機溶剤が完全に溶解せず、
従って、良好な現像性の確保が期待できなくなるからで
ある。

【００９１】本発明に用いられる現像液および補充液に
は更に還元剤が加えられる。これは印刷版の汚れを防止
するものであり、特に感光性ジアゾニウム塩化合物を含
むネガ型感光性平版印刷版を現像する際に有効である。
好ましい有機還元剤としては、チオサリチル機、ハイド
ロキノン、メトール、メトキシキノン、レゾルシン、２
−メチルレゾルシンなどのフェノール化合物、フェニレ
ンジアミン、フェニルヒドラジンなどのアミン化合物が
挙げられる。更に好ましい無機の還元剤としては、亜硫
酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水素酸、亜リン
酸二水素酸、チオ硫酸および亜ジチオン酸などの無機酸
のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩などを挙
げることができる。これらの還元剤のうち汚れ防止効果
が特に優れているのは亜硫酸塩である。これらの還元剤
は使用時の現像液に対して好ましくは、0.０５〜５重量
％の範囲で含有される。

【００９２】本発明で用いられる現像液および補充液に
は更に有機カルボン酸を加えることもできる。好ましい
有機カルボン酸は炭素原子数６〜２０の脂肪族カルボン
酸および芳香族カルボン酸である。脂肪族カルボン酸の
具体的な例としては、カプロン酸、エナンチル酸、カプ
リル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸およ
びステアリン酸などがあり、特に好ましいのは炭素数８
〜１２のアルカン酸である。また炭素鎖中に二重結合を
有する不飽和脂肪酸でも、枝分かれした炭素鎖のもので
もよい。

【００９３】芳香族カルボン酸としてはベンゼン環、ナ
フタレン酸、アントラセン環などにカルボキシル基が置
換された化合物で、具体的には、ｏ−クロロ安息香酸、
ｐ−クロロ安息香酸、ｏ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−ヒ
ドロキシ安息香酸、ｏ−アミノ安息香酸、ｐ−アミノ安
息香酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、２，５−ジヒ
ドロキシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、
２，３−ジヒドロキシ安息香酸、３，５−ジヒドロキシ
安息香酸、浸食子酸、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ
酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ
−１−ナフトエ酸、１−ナフトエ酸、２−ナフトエ酸な
どがあるがヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。

【００９４】上記脂肪族および芳香族カルボン酸は水溶
性を高めるためにナトリウム塩やカリウム塩またはアン
モニウム塩として用いるのが好ましい。本発明で用いる
現像液の有機カルボン酸の含有量は格別な制限はない
が、0.１重量％より低いと効果が十分でなく、また１０
重量％以上ではそれ以上の効果の改善が計れないばかり
か、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げることがあ
る。従って、好ましい添加量は使用時の現像液に対して
0.１〜１０重量％であり、より好ましくは0.５〜４重量
％である。

【００９５】本発明に用いられる現像液および補充液に
は、更に必要に応じて、消泡剤および硬水軟化剤などを
含有させることもできる。硬水軟化剤としては例えば、
ポリリン酸およびそのナトリウム塩、カリウム塩および
アンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチ
レントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘ
キサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢
酸、ニトリロトリ酢酸、１，２−ジアミノシクロヘキサ
ンテトラ酢酸および１，３−ジアミノ−２−プロパノー
ルテトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸およびそれら
のナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、ア
ミノトリ（メチレンホスホン酸）、エチレンジアミンテ
トラ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペ
ンタ（メチレンホスホン酸）、トリエチレンテトラミン
ヘキサ（メチレンホスホン酸）、ヒドロキシエチルエチ
レンジアミントリ（メチレンホスホン酸）および１−ヒ
ドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸やそれらのナト
リウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩を挙げるこ
とができる。

【００９６】このような硬水軟化剤はそのキレート化力
と使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値
が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像
液に0.０１〜５重量％、より好ましくは0.０１〜0.５重
量％の範囲である。この範囲より少ない添加量では所期
の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲より多い
場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでてくる。

【００９７】本発明の現像液および補充液の残余の成分
は水であるが、更に必要に応じて当業界で知られた種々
の添加剤を含有させることができる。本発明に用いる現
像液及び補充液は、第２有機被覆層がアルカリ水を浸透
し易いか否かなどの種々の要因によって、上述の添加剤
の量が決められる。本発明の現像液および補充液は使用
時よりも水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使
用時に水で希釈するようにしておくことが運搬上有利で
ある。この場合の濃縮度は各成分が分離や析出を起こさ
ない程度が適当である。

【００９８】現像処理 本発明の感光性複写材料の処理方法は、露光された感光
性複写材料を上述の現像液に浸漬した後、非画像部の有
機被覆層をブラシなどで脱膜除去する工程からなる。こ
の脱膜工程は現像液中で行われてもよいが、特に、該現
像液に浸漬した後、水洗工程で非画像部の有機被覆層を
除去することが、現像液の疲労を減少でき、補充量、即
ち廃液量が減らせるので好ましい。本発明の処理方法
は、現像液を満たした皿に該感光性複写材料を浸漬する
ことからなる、いわゆる皿現にも適用できるが、本発明
の効果を十分に引き出すには、自動現像機による処理が
最も好適である。

【００９９】該自動現像機処理において、露光済みの感
光性複写材料を現像液に浸漬する方法としては、該感光
性複写材料を水平搬送する装置と、現像液槽およびスプ
レー装置からなる自動現像機において、水平に搬送しな
がら、ポンプで汲み上げた現像液をスプレーノズルから
吹き付けて現像液の薄膜を該複写材料上に形成させるの
が一般的である。また、現像液が満たされた現像処理槽
中に液中ガイドロールなどによって該感光性複写材料を
浸漬搬送させて現像処理する方法も好適に適用できる。

【０１００】本発明による現像処理は、現像液が該第２
有機被覆層に浸透し、感光層に達して、非画像部となる
べき部分の第１有機被覆層を溶解するのに十分な時間と
温度（現像液温度）を必要とする。この現像条件は感光
性複写材料の現像し易さと、現像液の強さによって決め
られるが、好ましい現像時間は３〜９０秒であり、より
好ましくは５〜３０秒である。また、現像温度は１０〜
５０℃が好ましく、より好ましくは２０〜４０℃であ
る。この範囲よりも短時間、低温側では、現像が不十分
になり易く、また長時間および高温条件では、第２有機
被覆層の一部の現像液への溶出がみられ本発明の目的に
そぐわない。

【０１０１】現像液に浸漬された感光性複写材料は、一
対のローラーなどで現像液を除かれた後、続く水洗部に
搬送される。水洗部は水を供給するスプレーノズル、非
画像部の有機被覆層を物理的に除去する回転ブラシなど
の脱膜装置、除去された有機被覆層のカスを回収するフ
ィルターおよび余剰の水を系外に放出するオーバーフロ
ーからなる。

【０１０２】新鮮水の供給量は、水洗部に持ち込まれた
現像液をそのまま放出しても環境汚染の問題を生じない
濃度まで希釈できる量が望ましく、その量は毎分５〜３
０リットルが好ましい。この場合、一度使用した水洗水
を溜めて置き、それを予備水洗に用いるのが、水洗効率
および節水上好ましい。有機被覆層の除去は、回転、摺
動する筒状ブラシ、左右に摺動する平面ブラシ、水平に
前後左右に動く平面ブラシなどの各種ブラシによる方法
や圧搾空気、高圧水を吹き付ける方法などが用いられ
る。

【０１０３】有機被覆層のカスの回収は水の循環系に装
着されたフィルターによって行われる。以上のような処
理によって複写材料が得られるが、これが平版印刷版で
あった場合、更に通常用いられている保護ガム液を塗布
することによって、傷や周辺の汚染物から保護すること
ができる。

【０１０４】

【発明の効果】現像液に難溶性の第２有機被覆層を感光
性複写材料の主成分とし、且つ、該第２有機被覆層を現
像液中に脱膜することなく、続く水洗部で除去すること
により、現像液の処理能力は、著しく向上する。従って
多数枚の処理においても補充液の量は複写材料が持ち出
す分を補填する程度で済み、廃液量が著しく減少でき
る。また析出物、ヘドロの発生がなく、廃液の中和処理
も容易である。

【０１０５】さらに、現像性も良好で、得られた平版印
刷版の耐刷性、非画像部の汚れ性にも優れている。ま
た、水洗部では掻き取られた有機被覆層のカスはフィル
ターで回収されるので、後処理も容易である。水洗水の
公害性も低く、処理無しあるいは簡単な後処理で放出で
きる。

【０１０６】

【実施例】以下本発明を実施例により具体的に説明す
る。なお、実施例中の「％」は、特に指定のない限り
「重量％」を示すものとする。 ＜実施例１〜５、比較例１〜３＞厚さ0.１５mmの２Ｓ材
アルミニウム板を８０℃に保たれた第三リン酸ナトリウ
ムの１０％水溶液に３０秒間浸漬して脱脂し、パミスス
ラリーをアルミニウム板上に流しながらナイロンブラッ
シで砂目立て後、６０℃のアルミン酸ナトリウム水溶液
中で１０秒間エッチングし、引続き硫酸水素ナトリウム
３％水溶液で洗浄した。このアルミニウム板を２０％硫
酸中で電流密度２Ａ／dm² において２分間陽極酸化し、
その後、７０℃の2.５％ケイ酸ナトリウム水溶液で１分
間処理し、アルミニウム板支持体Ａを作製した。このよ
うに処理された基板Ａの表面に、下記組成の下塗り液
（Ｉ）を塗布し９０℃１分間乾燥した。乾燥後の被覆量
は２０mg／m²であった（実施例１）。

【０１０７】（Ｉ） フェニルリン酸 0.１ｇ メタノール ９５ｇ 水 ５ｇ 同様にして下塗り液（Ｉ）のフェニルリン酸の代りに、
フェニルホスホン酸（実施例２）、ナフチルリン酸（実
施例３）、フェニルホスフィン酸（実施例４）、ジフェ
ニルホスフィン酸（実施例５）を用いた下塗り液を２０
mg／m²となるように基板Ａに塗布した支持体を作製し
た。

【０１０８】一方比較のために下塗り液を塗布してない
支持体（比較例１）を作製した。またさらに比較のため
に、支持体Ａで陽極酸化処理までしたものに（Ｉ）液を
塗布した支持体（比較例２）も作製した。また（Ｉ）液
を塗布しない支持体も使用した（比較例３）。米国特許
第3,635,709 号明細書の実施例１に記載されているアセ
トンとピロガロールの縮重合により得られるポリヒドロ
キシ化合物のナフトキノン−１，２−ジアジド−５−ス
ルホン酸エステル３重量部とノボラック型フェノールホ
ルムアルデヒド樹脂１重量部を２０重量部の酢酸−２−
メトキシエチルと２０重量部のメチルエチルケトンに溶
解して感光液を調製し乾燥重量にして約0.４ｇ／m²にな
るように実施例１〜５、比較例１〜３の支持体上に塗
布、乾燥した。

【０１０９】次に、ポリアクリル酸エステル共重合体の
ラテックス（商品名、ジュリマーＳＥＫ１０１、固形分
濃度４０％、日本純薬（株）製）２０重量部を水９０重
量部で希釈し、更に、染料（商品名、ビクトリアピュア
ブルーＢＯＨ、保土谷化学（株）製）0.０５重量部を溶
解し、上記ｏ−キノンジアジド感光層のうえに乾燥重量
にして2.０ｇ／m²になるように塗布、乾燥し二層塗布型
感光性平版印刷版を得た（Ａ群とする）このようにして
得られたＡ群の二層塗布ポジ型感光性平版印刷版にポジ
画像原稿フイルムを密着させて、３kwメタルハライドラ
ンプを光源とするプリンター（商品名、アイロータリー
プリンターＰ−３１１Ｘ、アイグラフィックス（株）
製）で４０秒間露光を行った。

【０１１０】別に、版材を自動搬送する装置および液面
に空気遮断板をもち、後半に液中回転ブラシを設けた浸
漬型現像部とそれに続く水洗部を有する自動現像機を準
備し、その現像槽に、 原液（１：４に水で希釈して使用する） 水 ７５重量部 炭酸水素カリウム 3.５重量部 炭酸カリウム ７重量部 ペレックスＮＢＬ（花王アトラス（株）製） ２０重量部 フェニルセロソルブ ２重量部 から成る現像液を仕込み、３０℃に保温した。

【０１１１】次いで、前述の露光済みの感光性平版印刷
版を２５秒間該現像液に浸漬するような速度で搬送し
た。該感光性平版印刷版の露光部は現像槽中で有機被覆
層が回転摺動ブラシによって掻き取られ、基板のアルミ
ニウム表面が露出した。このようにして得られた平版印
刷版の表面に保護ガム液（商品名、ＧＵ−７、富士写真
フイルム（株）製）の２倍希釈液を塗布した後、オフセ
ット印刷機にかけて印刷した。この時の修正跡汚れと、
非画像部の残色の結果と、耐刷力の結果を表１に示し
た。表１の結果から、本発明による感光性平版印刷版
は、比較例に比べて、残色、汚れ、耐刷力のいずれも充
分な性能であることがわかる。

【０１１２】一方、同様の現像処理を、版材によって消
費される現像液活性度の減少分を補充液（上記現像液と
同一組成）で補いながら多数枚の感光性平版印刷版を用
いて行った。その結果、補充量は僅か約３０cc／m²で済
み、この感光材料と処理方法による現像液の疲労が少な
いことが認められた。

【０１１３】この時、複写材料による現像液の持ち出し
量は約１０cc／m²であったので、約２０cc／m²のオーバ
ーフロー廃液を生じた。 〔表１〕 Ａ群−現像液中脱膜 ─────────────────────────────────── 支 持 体 印刷時 残色^*1 耐刷力 陽極 親水 下塗り の修正 （枚数） 酸化 化処 跡汚れ 処理 理 ─────────────────────────────────── 実施例１ あり あり フェニルリン酸 なし 0.01 10万 〃 ２ あり あり フェニルホスホン酸 なし 0.02 10万 〃 ３ あり あり ナフチルリン酸 なし 0.01 10万 〃 ４ あり あり フェニルホスフィン酸 なし 0.02 10万 Ａ群 〃 ５ あり あり ジフェニル ホスフィン酸 なし 0.01 10万 ──────────────────────────────── 比較例１ あり あり なし ややあり 0.04 1万以下 〃 ２ あり なし フェニルリン酸 あり 0.07 8万 〃 ３ あり なし なし あり（地汚）0.15 12万 ─────────────────────────────────── ＊１）現像後の非画像部の濃度と塗布前の支持体の濃度
の差（△Ｄ）で表示した。 ＜実施例６〜１０、比較例４〜６＞版材を自動搬送する
装置および液面に空気遮断板をもつ浸漬型現像部とそれ
に続く水洗脱膜部を有する自動現像機を準備し、その現
像槽に、実施例１〜５、比較例１〜３と同じ現像液を仕
込み、３０℃に保温した。

【０１１４】次いで、Ａ群の露光済みの感光性平版印刷
版を２５秒間該現像液に浸漬するような速度で搬送し
た。該感光性平版印刷版の露光部は現像槽中では現像液
の浸透がみられたが、有機被覆層が溶出することはなか
った。有機被覆層は続く水洗部で、回転摺動ブラシによ
って掻き取られ、基板のアルミニウム表面が露出した。
このようにして得られた平版印刷版の表面に保護ガム液
（商品名、ＧＵ−７、富士写真フィルム（株）製）の２
倍稀釈液を塗布した後、オフセット印刷機にかけて印刷
した。この時の修正跡汚れと、非画像部の残色の結果
と、耐刷力の結果を表２に示した。表２の結果から、本
発明による感光性平版印刷版は、比較例に比べて、残
色、汚れ、耐刷力のいずれも充分な性能であることがわ
かる。

【０１１５】一方、同様の現像処理を、版材によって持
ち出される現像液の減少分を実施例１〜５、比較例１〜
３の補充液で補いながら多数枚の感光性平版印刷版を用
いて行った。その結果、補充量はいずれも僅か約１０cc
／m²で済み、この感光材料と処理方法による現像液の疲
労が著しく少ないことが認められた他、長期間、多量の
処理でも現像槽中にカス・ヘドロの発生はみられなかっ
た。

【０１１６】また、水洗部においても、掻き取られた有
機被覆層のカスは処理中の印刷版に付着することなく、
徐々に循環系に装着されたフィルターによって回収され
た。 〔表２〕 Ａ群−水洗水中脱膜 ─────────────────────────────────── 支 持 体 印刷時 残色^*1 耐刷力 陽極 親水 下塗り の修正 （枚数） 酸化 化処 跡汚れ 処理 理 ─────────────────────────────────── 実施例６ あり あり フェニルリン酸 なし 0.01 10万 〃 ７ あり あり フェニルホスホン酸 なし 0.02 10万 〃 ８ あり あり ナフチルリン酸 なし 0.01 10万 〃 ９ あり あり フェニルホスフィン酸 なし 0.02 10万 Ａ群 〃 10 あり あり ジフェニル ホスフィン酸 なし 0.01 10万 ──────────────────────────────── 比較例４ あり あり なし ややあり 0.04 1万以下 〃 ５ あり なし フェニルリン酸 あり 0.07 8万 〃 ６ あり なし なし あり（地汚）0.15 12万 ─────────────────────────────────── ＊１）現像後の非画像部の濃度と塗布前の支持体の濃度
の差（△Ｄ）で表示した。 ＜実施例１１〜１５、比較例７〜９＞まず混合比１：１
（重量比）のｎ−プロピルアルコールとメチルアルコー
ルの混合液を準備し、この混合液に実施例１〜５、比較
例１〜３において使用したｏ−キノンジアジド感光層が
難溶であることを確認した。このアルコール混合液１０
０重量部にスチレン−無水マレイン酸共重合体ハーフエ
ステル（商品名、スチライトＨＳ、大同工業（株）製）
８重量部、染料（商品名、オイルブルー＃６０３、オリ
エント化学（株）製）、0.０５重量部を溶解し、上記ｏ
−キノンジアジド感光層の上に乾燥重量にして2.０ｇ／
m²になるように塗布、乾燥し二層塗布型感光性平版印刷
版を得た（Ｂ群とする）このようにして得られたＢ群の
二層塗布ポジ型感光性平版印刷版にポジ画像原稿フイル
ムを密着させて、３kwメタルハライドランプを光源とす
るプリンター（商品名、アイロータリープリンターＰ−
３１１Ｘ、アイグラフィックス（株）製）で４０秒間露
光を行った。

【０１１７】別に、版材を自動搬送する装置および液面
に空気遮断板をもち、後半に液中回転ブラシを設けた浸
漬型現像部とそれに続く水洗部を有する自動現像機を準
備し、その現像槽に、 原液（１：４に水で希釈して使用する） 水 ７５重量部 炭酸水素カリウム 3.５重量部 炭酸カリウム ７重量部 ペレックスＮＢＬ（花王アトラス（株）製） ２０重量部 フェニルセロソルブ ２重量部 からなる現像液を仕込み、３０℃に保温した。

【０１１８】次いで、前述の露光済みの感光性平版印刷
版を２５秒間該現像液に浸漬するような速度で搬送し
た。該感光性平版印刷版の露光部は現像槽中で有機被覆
層が回転摺動ブラシによって掻き取られ、基板のアルミ
ニウム表面が露出した。このようにして得られた平版印
刷版の表面に保護ガム液（商品名、ＧＵ−７、富士写真
フイルム（株）製）の２倍希釈液を塗布した後、オフセ
ット印刷機にかけて印刷した。この時の修正跡汚れと、
非画像部の残色の結果と、耐刷力の結果を表３に示し
た。表３の結果から、本発明による感光性平版印刷版
は、比較例に比べて、残色、汚れ、耐刷力のいずれも充
分な性能であることがわかる。

【０１１９】一方、同様の現像処理を、版材によって消
費される現像液活性度の減少分を補充液（上記現像液と
同一組成）で補いながら多数枚の感光性平版印刷版を用
いて行った。その結果、補充量は僅か約３０cc／m²で済
み、この感光材料と処理方法による現像液の疲労が少な
いことが認められた。

【０１２０】この時、複写材料による現像液の持ち出し
量は約１０cc／m²であったので、約２０cc／m²のオーバ
ーフロー廃液を生じた。 〔表３〕 Ｂ群−現像液中脱膜 ─────────────────────────────────── 支 持 体 印刷時 残色^*1 耐刷力 陽極 親水 下塗り の修正 （枚数） 酸化 化処 跡汚れ 処理 理 ─────────────────────────────────── 実施例11 あり あり フェニルリン酸 なし 0.01 10万 〃 12 あり あり フェニルホスホン酸 なし 0.02 10万 〃 13 あり あり ナフチルリン酸 なし 0.01 10万 〃 14 あり あり フェニルホスフィン酸 なし 0.02 10万 Ｂ群 〃 15 あり あり ジフェニル ホスフィン酸 なし 0.01 10万 ──────────────────────────────── 比較例７ あり あり なし ややあり 0.04 1万以下 〃 ８ あり なし フェニルリン酸 あり 0.07 8万 〃 ９ あり なし なし あり（地汚）0.15 12万 ─────────────────────────────────── ＊１）現像後の非画像部の濃度と塗布前の支持体の濃度
の差（△Ｄ）で表示した。 ＜実施例１６〜２０、比較例１０〜１２＞版材を自動搬
送する装置および液面に空気遮断板をもつ浸漬型現像部
とそれに続く回転揺動ブラシを設置した水洗脱膜部を有
する自動現像機を準備し、その現像槽に、実施例１〜
５、比較例１〜３と同じ現像液を仕込み、３０℃に保温
した。

【０１２１】次いで、Ｂ群の露光済みの感光性平版印刷
版を２５秒間該現像液に浸漬するような速度で搬送し
た。該感光性平版印刷版の露光部は現像槽中では現像液
の浸透がみられたが、有機被覆層が溶出することはなか
った。有機被覆層は続く水洗部で、回転摺動ブラシによ
って掻き取られ、基板のアルミニウム表面が露出した。
このようにして得られた平版印刷版の表面に保護ガム液
（商品名、ＧＵ−７、富士写真フィルム（株）製）の２
倍稀釈液を塗布した後、オフセット印刷機にかけて印刷
した。この時の修正跡汚れと、非画像部の残色の結果
と、耐刷力の結果を表４に示した。表４の結果から、本
発明による感光性平版印刷版は、比較例に比べて、残
色、汚れ、耐刷力のいずれも充分な性能であることがわ
かる。

【０１２２】一方、同様の現像処理を、版材によって持
ち出される現像液の減少分を実施例１〜５、比較例１〜
３の補充液で補いながら多数枚の感光性平版印刷版を用
いて行った。その結果、補充量はいずれも僅か約１０cc
／m²で済み、この感光材料と処理方法による現像液の疲
労が著しく少ないことが認められた他、長期間、多量の
処理でも現像槽中にカス・ヘドロの発生はみられなかっ
た。

【０１２３】また、水洗部においても、掻き取られた有
機被覆層のカスは処理中の印刷版に付着することなく、
徐々に循環系に装着されたフィルターによって回収され
た。 〔表４〕 Ｂ群−水洗水中脱膜 ─────────────────────────────────── 支 持 体 印刷時 残色^*1 耐刷力 陽極 親水 下塗り の修正 （枚数） 酸化 化処 跡汚れ 処理 理 ─────────────────────────────────── 実施例16 あり あり フェニルリン酸 なし 0.01 10万 〃 17 あり あり フェニルホスホン酸 なし 0.02 10万 〃 18 あり あり ナフチルリン酸 なし 0.01 10万 〃 19 あり あり フェニルホスフィン酸 なし 0.02 10万 Ｂ群 〃 20 あり あり ジフェニル ホスフィン酸 なし 0.01 10万 ──────────────────────────────── 比較例10 あり あり なし ややあり 0.04 1万以下 〃 11 あり なし フェニルリン酸 あり 0.07 8万 〃 12 あり なし なし あり（地汚）0.15 12万 ─────────────────────────────────── ＊１）現像後の非画像部の濃度と塗布前の支持体の濃度
の差（△Ｄ）で表示した。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭50−11022（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−165183（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−34558（ＪＰ，Ａ) 特公 昭38−8907（ＪＰ，Ｂ１) 特公 昭54−21089（ＪＰ，Ｂ２)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 陽極酸化処理し、その後に親水化処理を
   施したアルミニウム板上に有機下塗層を設け、その上に
   順に、活性光線の照射によってアルカリ水可溶性が増
   大する感光性の第１有機被覆層および皮膜形成能を有
   する水不溶性の高分子化合物を水に乳化分散させたエマ
   ルジョンを塗布、乾燥することによって形成された第２
   有機被覆層を設けたことを特徴とする感光性複写材料。
2. 【請求項２】 請求項（１）記載の感光性複写材料を画
   像露光した後、現像する処理方法において、上記水不溶
   性の第２有機被覆層に浸透するがこれを溶解しない現像
   液に浸漬した後、該現像液中、又は続く水洗工程で非画
   像部の有機被覆層を除去することを特徴とする感光性複
   写材料の処理方法。