JPH04344648A - 感光性複写材料およびその処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はポジ型感光性複写材料お
よびその処理方法に関するものであり、さらに詳しくは
多層構成のポジ型感光性複写材料に関するものである。 また現像液の使用量が少なく環境保全に適した感光性複
写材料の処理方法に関するものである。

【０００２】

【従来技術およびその問題点】ｏ−キノンジアジド化合
物を感光性成分として含む感光性複写材料として、感光
性平版印刷版、感光性レジスト材料および感光性プルー
フ材料などが知られている。中でも、従来より広く使用
されているポジ型感光性平版印刷版は、支持体としての
アルミニウム板上にｏ−キノンジアジド化合物からなる
感光層を設けたものである。ｏ−キノンジアジド化合物
は紫外線露光によりカルボン酸に変化することが知られ
ており、従って、これをアルカリ水溶液で現像すると当
該感光層の露光部のみが除去されて支持体表面が露出す
る。上記のアルミニウム板は通常ブラシグレイン法やボ
ールグレイン法のごとき機械的な方法や電解グレイン法
のごとき電気化学的方法あるいは両者を組合せた方法な
どの粗面化処理に付され、その表面が梨地状にされたの
ち、酸またはアルカリ等の水溶液によりエッチングされ
、さらに陽極酸化処理を経たのち平版印刷版用支持体と
され、この支持体上に感光層が設けられて感光性平版印
刷版（いわゆるＰＳ版）とされる。このＰＳ版は、通常
、像露光、現像、修正、ガム引き工程を施して平版印刷
版とされ、これを印刷機に取り付けて印刷する。

【０００３】かかるポジ型感光性平版印刷版の現像液と
して使用されるアルカリ水溶液は、種々のものが知られ
ているが、最も好ましいものはケイ酸ナトリウム、ケイ
酸カリウム等のケイ酸塩の水溶液である。その理由はケ
イ酸塩の成分である酸化ケイ素ＳｉＯ２とアルカリ金属
酸化物Ｍ２Ｏ　の比率（一般に〔ＳｉＯ２〕／〔Ｍ２Ｏ
　〕のモル比で表す）と濃度によってある程度現像性の
調節が可能とされるためである。

【０００４】これらのケイ酸塩は上述のポジ型感光性平
版印刷版だけでなく、特公昭５６−１４９７０号公報記
載のｏ−キノンジアジド感光層を用いた反転型ネガ型感
光性平版印刷版およびジメチルマレイミド基を側鎖に含
む樹脂を光架橋剤とする感光層を用いたネガ型感光性平
版印刷版の現像液としても好ましく用いられている。上
述のように、これらの感光性複写材料の通常の現像は、
非画像部に当たる感光層を現像液で溶出して支持体を露
出することからなっている。従って、現像液中に溶出し
た感光層成分の濃度は徐々に高くなり、その結果、カス
・ヘドロの発生や現像液の処理能力（溶出能力）の低下
をきたすようになる。

【０００５】また、近年、製版・印刷業界では製版作業
の合理化および標準化のため、感光性平版印刷版用の自
動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一
般に感光性平版印刷版を搬送する装置と、現像液槽およ
びスプレー装置からなり、露光済みの感光性平版印刷版
を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた現像液をス
プレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。 また、最近は現像液が満たされた現像処理槽中に液中ガ
イドロールなどによって感光性平版印刷版を浸漬搬送さ
せて現像処理する方法も知られている。

【０００６】かかる自動現像機を用いて、ポジ型感光性
平版印刷版を現像する方法においても、より多量の感光
性平版印刷版を処理すると、現像タンクの底に、酸化ケ
イ素に起因する水不溶性のカス・ヘドロが生じ、更には
、スプレーパイプ、ノズルが詰まるなどの問題があった
。また自動現像機の停止時の乾燥や液ハネなどにより、
現像浴周辺に水不溶性のシリカとして析出し様々な問題
を引き起こす原因ともなっていた。

【０００７】これらの欠点を改良するための技術として
、特開昭５４−６２００４号および特公昭５７−７４２
７号公報に開示されているように現像補充液の添加によ
り処理能力を維持し、且つ、カス・ヘドロの発生を抑制
する技術がある。これによって、不溶物の発生は削減で
きたが、補充量が多く、さらに廃液が多く排出されると
いう欠点があった。この欠点を改良するための技術とし
て、特開平２−３０６５号公報に開示されている技術が
あるが、ランニングコストや廃液量の削減になお強い要
求がある。さらに、この種の現像液を廃棄の際、中和処
理すると酸化珪素がゲル状に析出し環境汚染の原因とも
なり問題であった。特に地球規模で環境保全が論議され
る今日、産業廃棄物の低減はより求められる状況にある
。

【０００８】従ってこれまでにも、何回か、酸化珪素を
含有しない現像液の検討がなされてきた。しかしながら
、酸化珪素のない現像液によって現像して得られた平版
印刷版はカス・ヘドロ、中和時のゲルの発生を抑制する
ことはできるが、その平版印刷版の非画像部には感光層
中に含まれる物質が不可逆的に吸着し、非画像部を汚染
するため、いわゆる残色が生じたり、修正工程で画像部
と非画像部の識別が困難であったり、修正跡が明瞭に残
り不均一な版面となり、その程度がひどくなると汚れと
なるため印刷版として使用できなくなるという問題があ
った。

【０００９】これを改善するために、従来は、陽極酸化
処理したアルミニウム支持体表面を、米国特許第３，１
８１，４６１　号明細書などに開示されているようなア
ルカリ金属シリケート処理（例えば珪酸ナトリウム水溶
液）、あるいは、特公昭３６−２２０６３号などに開示
されているような弗化ジルコン酸処理、あるいは、米国
特許第３，２７６，８６８　号明細書などに開示されて
いるポリビニルホスホン酸処理などにより親水化する方
法が用いられてきた。 しかしながらこれらの方法では、非画像部の残色、ある
いは上述した汚れ性は良化するものの感光性組成物と支
持体との密着が充分でないため印刷枚数は、数百枚程度
にしかならなかった。

【００１０】また、その他に、陽極酸化処理したアルミ
ニウム支持体上に、特開昭６０−１４９４９１号公報に
開示されているアミノ酸およびその塩類（Ｎａ塩、Ｋ塩
等のアルカリ金属塩、アンモニウム塩、塩酸塩、蓚酸塩
、酢酸塩、りん酸塩等）、特開昭６０−２３２９９８号
公報に開示されている水酸基を有するアミン類およびそ
の塩類（塩酸塩、蓚酸塩、りん酸塩等）、特開昭６３−
１６５１８３号公報に開示されているアミノ基及びホス
ホン酸基を有する化合物又はその塩を下塗りする方法な
どが提供されている。

【００１１】しかしながらこれらの方法では、非画像部
の残色の低減は必ずしも充分でなく、上述の汚れも、現
像液が疲労してくると特にひどく発生したりした。また
、アルカリ金属シリケートなどの親水化処理ほどではな
いものの、耐刷性能は下塗りのない場合よりは、劣化し
、充分ではなかった。これとは別に特公昭５４−２１０
８９号、同３７−１１５５８号公報には、ｏ−キノンジ
アジド化合物や感光性ジアゾ樹脂からなる感光層の上に
現像液に難溶性の有機被覆層を設けた多層型の感光性複
写材料が開示されている。このような感光性複写材料は
現像液に溶出する成分が少なく、従って、処理による現
像液の疲労が少なく好ましい。しかしながら、現像液中
で掻き取られた有機被覆層の膨潤したカスが複写材料の
上に再付着したり、現像液中に堆積し、長期間の安定処
理は不可能であった。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、産業廃棄物を減らせることのできる改良された感光
性複写材料および処理方法を提供することである。本発
明の別の目的は、長期間、多量の感光性複写材料を処理
しても不溶物が生成せず、安定して処理することのでき
る改良された感光性複写材料および処理方法を提供する
ことである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく、鋭意検討を重ねた結果本発明を完成する
に至った。本発明は、陽極酸化処理し、その後に親水化
処理を施したアルミニウム板上に、有機下塗層を設けそ
の上に順に■活性光線の照射によってアルカリ水可溶性
が増大する感光性の第１有機被覆層および■皮膜形成能
を有し、水不溶性の高分子化合物を含む第２有機被覆層
を設けたことを特徴とする感光性複写材料を提供するも
のである。

【００１４】本発明はさらに、上記感光性複写材料を画
像露光した後、上記水不溶性の第２有機被覆層に浸透す
るがこれを溶解しない現像液に浸漬した後、該現像液中
、又は続く水洗工程で非画像部の有機被覆層を除去する
ことを特徴とする感光性複写材料の処理方法を提供する
ものである。以下、本発明について詳しく説明する。

【００１５】支持体 本発明において用いられるアルミニウム板は、純アルミ
ニウムや、アルミニウムを主成分とし、微量の異原子を
含むアルミニウム合金等の板状体である。この異原子に
は、珪素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、
亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中
の異原子の含有量は高々１０重量％以下である。本発明
に好適なアルミニウムは純アルミニウムであるが、完全
に純粋なアルミニウムは、精練技術上製造が困難である
ので、できるだけ異原子の含有量の低いものがよい。 又、上述した程度の含有率のアルミニウム合金であれば
、本発明に適用しうる素材ということができる。このよ
うに本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が
特定されるものではなく従来公知、公用の素材のものを
適宜利用することができる。本発明に用いられるアルミ
ニウム板の厚さは、およそ０．１ｍｍ〜０．５ｍｍ程度
である。

【００１６】アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち
、所望により、表面の圧延油を除去するための、例えば
界面活性剤又はアルカリ性水溶液による脱脂処理が行な
われる。なお本発明の感光性平版印刷版は、片面のみ使
用できるものであっても、両面とも同様な処理によって
使用できるものであってもよい。両面でも同様なため、
以下は、片面の場合について説明する。まず、アルミニ
ウム板は、粗面化処理されるが粗面化処理方法としては
、機械的に表面を粗面化する方法、電気化学的に表面を
溶解する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法が
ある。機械的に表面を粗面化する方法としては、ボール
研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等
と称せられる公知の方法を用いることができる。また電
気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交
流又は直流により行なう方法がある。また、特開昭５４
−６３９０２号公報に開示されているように両者を組合
せた方法も利用することが出来る。

【００１７】このように粗面化されたアルミニウム板は
、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理さ
れる。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解
質としては多孔質酸化皮膜を形成するものならばいかな
るものでも使用することができ、一般には硫酸、燐酸、
蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられ、それ
らの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められ
る。

【００１８】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解
質の濃度が１〜８０重量％溶液、液温は、５〜７０℃、
電流密度５〜６０Ａ／ｄｍ２　、電圧１〜１００Ｖ、電
解時間１０秒〜５０分の範囲にあれば適当である。陽極
酸化皮膜の量は１．０ｇ／ｍ２以上が好適であるが、よ
り好ましくは、２．０〜６．０ｇ／ｍ２の範囲である。 陽極酸化皮膜が１．０ｇより少ないと耐刷性が不十分で
あったり、平版印刷版の非画像部に傷がつき易くなって
、印刷時に、傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷
汚れ」が生じ易くなる。

【００１９】上述の処理を施した後に用いられる親水化
処理としては、従来より知られている、親水化処理が用
いられる。このような親水化処理としては、米国特許第
２，７１４，０６６　号、第３，１８１，４６１　号、
第３，２８０，７３４　号、第３，９０２，７３４　号
に開示されているようなアルカリ金属シリケート（例え
ばケイ酸ナトリウム水溶液）法がある。この方法におい
ては、支持体が珪酸ナトリウム水溶液中で浸漬処理され
るかまたは電解処理される。あるいは、特公昭３６−２
２０６３号公報に開示されている弗化ジルコン酸カリウ
ム及び米国特許第３，２７６，８６８　号、第４，１５
３，４６１　号、第４，６８９，２７２　号に開示され
ている様なポリビニルホスホン酸で処理する方法などが
用いられる。これらの中で特に好ましい親水化処理はア
ルカリ金属シリケート処理である。

【００２０】有機下塗層 これらの親水化処理を施した後に、アルミニウム板に後
述する種々の方法で下記の有機下塗層を設ける。本発明
の有機下塗層に用いられる化合物は例えば、カルボキシ
メチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、グリ
シンやβ−アラニンなどのアミノ酸類およびトリエタノ
ールアミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミ
ンの塩酸塩、フェニルホスホン酸などの有機ホスホン酸
、ナフチルリン酸などの有機リン酸、フェニルホスフィ
ン酸などの有機ホスフィン酸などから選ばれるが二種以
上混合して用いてもよい。これらのうち好ましくは有機
ホスホン酸、有機リン酸、有機ホスフィン酸などの有機
リン化合物が用いられる。これら有機リン化合物は以下
の様にあらわすことができる。

【００２１】本発明に用いられる有機リン化合物は、（
Ｉ）　Ｒ１−（ＰＯ（ＯＨ）２）　ｎ　で表わされる置
換または無置換の脂肪族化合物または芳香族化合物（ｎ
は１または２）、および（ＩＩ）Ｒ１−（ＰＯ（ＯＨ）
（Ｒ２））　ｎで表わされる置換または無置換の脂肪族
化合物または芳香族化合物（ｎは１または２を示す。ｎ
が１のとき、Ｒ１　、Ｒ２　は置換、又は無置換のアル
キル基（好ましくは炭素数１〜１４のもの）、アルコキ
シ基（好ましくは炭素数１〜１４のもの）、アリーロキ
シ基（好ましくは炭素数６〜１０のもの）、アリール基
（好ましくは炭素数６〜１０のもの）、アシル基（好ま
しくは炭素数１〜１４のもの）、アシロキシ基（好まし
くは炭素数１〜１４のもの）である。ｎが２のときＲ１
　はアルキレン基（好ましくは炭素数１〜１４のもの）
またはアリーレン基（好ましくは炭素数６〜１０のもの
）を表し、Ｒ２　は前記定義のとおりであり、置換基と
してはアルキル基（但し、アリール残基に対する置換基
に限る）、アリール基（但し、アルキル残基に対する置
換基に限る）、アルコキシ基、アシル基、アシロキシ基
、アリーロキシ基、ビニル基、ヒドロキシル基、カルボ
キシル基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンから選ばれた
少くとも１種が挙げられる）からなる化合物群より選ば
れた少くとも１種の化合物である。

【００２２】アリーロキシ基としては、フェノキシ基、
ｐ−クロロフェノキシ基、ｐ−メチルフェノキシ基、ピ
リジニル基、アリール基としては、フェニル基、ｏ−ト
リル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェ
ニル基、アシル基としては、ホルミル基、アセチル基、
プロピオニル基、ベンゾイル基、アシロキシ基としては
、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ピバロイルオ
キシ基などが挙げられる。（Ｉ）及び（ＩＩ）の化合物
は、塩の形で用いてもよい。塩としては、カリウム、ナ
トリウム、リチウム等のアルカリ金属塩の他に、カルシ
ウム、コバルト、鉄、ニッケル、マンガン、マグネシウ
ム、バリウム、銅などの塩が挙げられる。

【００２３】以下に具体例を示す。式（Ｉ）の化合物の
例とは、フェニルホスホン酸、フェニルリン酸、ナフチ
ルホスホン酸、ナフチルリン酸、グリセロホスホン酸、
グリセロリン酸、ｐ−ニトロフェニルホスホン酸、ｐ−
ニトロフェニルリン酸、ｐ−メトキシフェニルホスホン
酸、ｐ−メトキシフェニルリン酸、ｐ−ヒドロキシフェ
ニルホスホン酸、ｐ−ヒドロキシフェニルリン酸、ｐ−
トリルホスホン酸、ｐ−トリルリン酸、ｐ−アセチルフ
ェニルホスホン酸、ｐ−アセチルフェニルリン酸、ｐ−
シアノフェニルホスホン酸、ｐ−シアノフェニルリン酸
、ｍ−クロルフェニルホスホン酸、ｍ−クロルフェニル
リン酸、メチルホスホン酸、メチレンジホスホン酸、エ
チルホスホン酸、エチレンジホスホン酸、２−カルボキ
シエチルホスホン酸、フォスフォノアセティックアシッ
ド、２−フェニルエチルホスホン酸、２−ヒドロキシエ
チルホスホン酸、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホ
スホン酸、アミノヘキシルリン酸、２−メトキシエチル
ホスホン酸、２−アセチルエチルホスホン酸、グリシン
−Ｎ，Ｎ−ビス（メチレンフォスフォン酸）、ホスホセ
リン、ホスホスレオニン、リン酸ピリドキサールなどが
挙げられる。

【００２４】式（ＩＩ）　の化合物の例としては、フェ
ニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、ジフェニル
ホスフィン酸、ジメチルホスフィン酸、ｐ−ニトロフェ
ニルホスフィン酸、ｐ−メトキシフェニルホスフィン酸
、ｐ−ヒドロキシフェニルホスフィン酸、ｐ−トリルホ
スフィン酸、ｐ−アセチルフェニルホスフィン酸、ビス
ニトロフェニルリン酸、リン酸ジオクチル、リン酸ジイ
ソプロピル、リン酸ジブチルエステル、リン酸ジメチル
エステル、リン酸ジエチルエステル、リン酸ジ−２−エ
チルヘキシルエステル、リン酸ジフェニルエステル、メ
チルホスフィン酸、エチルホスフィン酸、ジエチルホス
フィン酸、２−カルボキシエチルホスフィン酸、２−フ
ェニルエチルホスフィン酸、２−ヒドロキシエチルホス
フィン酸、２−メトキシエチルホスフィン酸、２−アセ
チルエチルホスフィン酸などが挙げられる。

【００２５】これらの化合物は２種以上併用してもよい
。これらの中で特に好ましい化合物としては、フェニル
ホスホン酸、フェニルリン酸、ナフチルホスホン酸、ナ
フチルリン酸、フェニルホスフィン酸、ジフェニルホス
フィン酸、ナフチルホスフィン酸が挙げられる。本発明
における有機下塗層は、次のような方法で設けることが
できる。すなわち、水又はメタノール、エタノールなど
の有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の化合物を
溶解させた溶液を塗布、乾燥して有機層を設ける方法と
、水又はメタノール、エタノールなどの有機溶剤もしく
はそれらの混合溶剤に、上記の化合物を溶解させた溶液
に、上述の親水化処理を施したアルミニウム板を浸漬し
て化合物を吸着させ、しかる後、水などによって、洗浄
、乾燥して有機層を設ける方法である。前者の方法では
、上記のような化合物を０．００５〜１０重量％の濃度
で溶解した塗布液を種々の方法で塗布できる。例えばバ
ーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布等のいずれの方法を用いてもよい。また、本発明の化
合物を溶解した溶液に浸漬後、水などによって洗浄する
方法では、溶液の濃度は０．０１〜２０重量％、好まし
くは０．０５〜５重量％であり、浸漬温度は２０〜９０
℃、好ましくは２５〜５０℃であり、浸漬時間は、０．
１秒〜２０分、好ましくは２秒〜１分である。

【００２６】有機下塗層の乾燥後の被覆量は、２ｍｇ／
ｍ２〜２００ｍｇ／ｍ２が適当であり、好ましくは５ｍ
ｇ／ｍ２〜１００ｍｇ／ｍ２、さらに好ましくは１０ｍ
ｇ／ｍ２〜６０ｍｇ／ｍ２である。上記の被覆量が２ｍ
ｇ／ｍ２より少ないと非画像部の残色の低減効果及び耐
刷性能が充分でない。また、２００ｍｇ／ｍ２より多く
なると、非画像部の残色低減効果はあるものの耐刷性能
が充分なものが得られない。

【００２７】本発明の有機下塗層を設ける際に使用する
溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウ
ム等の塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によ
りｐＨを調節し、ｐＨ１〜１２の範囲で使用することも
できる。また、感光性平版印刷版の調子再現性改良のた
め、黄色染料を添加することもできる。また本発明の有
機下塗層には公知の例えばカルボキシメチルセルロース
、デキストリン、アラビアゴム、２−アミノエチルホス
ホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、グリシン
やβ−アラニンなどのアミノ酸類、トリエタノールアミ
ンの塩酸塩等のヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等
を混合させることができる。本発明の有機下塗層は、上
記式（Ｉ）及び／又は（ＩＩ）の化合物を少なくとも３
０重量％含むことが望ましく、より好ましくは８０重量
％以上、最も好ましくは１００重量％である。

【００２８】このようにして得られた有機下塗層で被覆
されたアルミニウム支持体上に設けられる感光層は基本
的には特公昭５４−２１０８９号公報に開示されている
ような、少なくとも二層の有機被覆層を有し、該層の少
なくとも一層は、活性光線の照射により現像液への溶解
性が増大する感光層からなる。 バックコート層 本発明の感光性平版印刷版の支持体の裏面には、アルミ
ニウムの陽極酸化皮膜の溶出を抑えるため、および重ね
た場合の感光層の傷付きを防ぐための有機高分子化合物
からなる被覆層（以後この被覆層をバックコート層と称
す）が設けられてもよい。バックコート層の素材として
は、アルカリ性の現像液に不溶の有機高分子化合物が用
いられ、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリブタジエン、ナイロン、ポリウレタン、ポリ
ウレア、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリカーボネー
ト、エポキシ樹脂、アルキルフェノールのアルデヒド縮
合樹脂、アセタール樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリスチレン、アクリル系樹脂およびこれら
の共重合樹脂等が適している。

【００２９】バックコート層にはこれらの有機高分子化
合物の他に、可とう性を持たせたり、すべり性を調整す
る目的で可塑剤や界面活性剤やその他の添加物を必要に
より添加できる。可塑剤は、バックコート層に用いる樹
脂に対して約３０重量％まで含有させられる。本発明の
バックコート層には更に界面活性剤が、スベリ性、塗布
面状、支持体との密着等を向上させる目的で加えられる
。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン
系、ノニオン系および両性界面活性剤が挙げられる。

【００３０】本発明で用いられるバックコート層の厚さ
は基本的には現像時アルミニウムの陽極酸化皮膜の溶出
を抑えられる厚さがあればよく、０．０１〜５０μｍ　
の範囲が好ましく、より好ましくは０．０５〜１０μｍ
　が好ましい。バックコート層をアルミニウム支持体の
裏面に被覆する方法としては種々の方法が適用できる。 例えば適当な溶媒の溶液にして、または乳化分散液にし
て塗布、乾燥する方法、例えば予めフィルム状に成形し
たものを接着剤や熱でアルミニウム支持体に貼り合わせ
る方法および溶融押し出し機で溶融皮膜を形成し、支持
体に貼り合わせる方法等が挙げられるが、上記の塗布量
を確保する上で最も好ましいのは溶液にして塗布、乾燥
する方法である。

【００３１】第１有機被覆層 このようにして得られた有機層で被覆された親水化処理
アルミニウム支持体上には、まず活性光線の照射によっ
てアルカリ水可溶性が増大する感光性の第１有機被覆層
が設けられる。このような感光性有機層としては、ｏ−
キノンジアジド化合物を主成分とするポジ型感光性組成
物の層が挙げられる。

【００３２】ｏ−ナフトキノンジアジド化合物としては
、特公昭４３−２８４０３号公報に記載されている１，
２−ジアゾナフトキノンスルホン酸とピロガロール・ア
セトン樹脂とのエステルが好ましい。その他の好適なオ
ルトキノンジアジド化合物としては例えば、米国特許第
３，０４６，１２０　号および同第３，１８８，２１０
　号明細書に記載されている１，２−ジアゾナフトキノ
ン−５−スルホン酸とフェノール−ホルムアルデヒド樹
脂とのエステルがあり、特開平２−９６１６３号公報、
特開平２−９６１６５号公報および特開平２−９６７６
１号公報に記載されている１，２−ジアゾナフトキノン
−４−スルホン酸とフェノール−ホルムアルデヒド樹脂
とのエステルがある。その他の有用なｏ−ナフトキノン
ジアジド化合物としては、数多くの特許等で公知のもの
が挙げられる。例えば、特開昭４７−５３０３号、同４
８−６３８０２号、同４８−６３８０３号、同４８−９
６５７５号、同４９−３８７０１号、同４８−１３３５
４号、特公昭３７−１８０１５号、同４１−１１２２２
号、同４５−９６１０号、同４９−１７４８１号公報、
米国特許第２，７９７，２１３　号、同第３，４５４，
４００　号、同第３，５４４，３２３　号、同第３，５
７３，９１７　号、同第３，６７４，４９５　号、同第
３，７８５，８２５　号、英国特許第１，２２７，６０
２　号、同第１，２５１，３４５　号、同第１，２６７
，００５　号、同第１，３２９，８８８　号、同第１，
３３０，９３２　号、ドイツ特許第８５４，８９０　号
などの各明細書中に記載されているものを挙げることが
できる。

【００３３】本発明において特に好ましい、ｏ−ナフト
キノンジアジド化合物は、分子量１，０００以下のポリ
ヒドロキシ化合物と１，２−ジアゾナフトキノンスルホ
ン酸との反応により得られる化合物である。このような
化合物の具体例は、特開昭５１−１３９４０２号、同５
８−１５０９４８号、同５８−２０３４３４号、同５９
−１６５０５３号、同６０−１２１４４５号、同６０−
１３４２３５号、同６０−１６３０４３号、同６１−１
１８７４４号、同６２−１０６４５号、同６２−１０６
４６号、同６２−１５３９５０号、同６２−１７８５６
２号、同６４−７６０４７号、米国特許第３，１０２，
８０９　号、同第３，１２６，２８１　号、同第３，１
３０，０４７　号、同第３，１４８，９８３　号、同第
３，１８４，３１０　号、同第３，１８８，２１０　号
、同第４，６３９，４０６　号などの各公報または明細
書に記載されているものを挙げることができる。

【００３４】これらのｏ−ナフトキノンジアジド化合物
を合成する際は、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシル
基に対して１，２−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロ
リドを０．２〜１．２当量反応させることが好ましく、
０．３〜１．０当量反応させることが更に好ましい。１
，２−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロリドとしては
、１，２−ジアゾナフトキノン−５−スルホン酸クロリ
ドまたは、１，２−ジアゾナフトキノン−４−スルホン
酸クロリドを用いることができる。

【００３５】また、得られるｏ−ナフトキノンジアジド
化合物は、１，２−ジアゾナフトキノンスルホン酸エス
テル基の位置および導入量の種々異なるものの混合物と
なるが、ヒドロキシル基の全てが１，２−ジアゾナフト
キノンスルホン酸エステル化された化合物が、この混合
物中に占める割合（完全にエステル化された化合物の含
有率）は５モル％以上であることが好ましく、更に好ま
しくは２０〜９９モル％である。

【００３６】第１有機被覆層を構成する固型分の総重量
に対する、これらのポジ型に作用する感光性化合物の量
は通常１０〜５０重量％が適当であるが、本発明におい
ては感光性化合物を第１有機被覆層に高密度で存在させ
ることが、その層を薄層化でき、現像液への溶出物を減
らす上で好ましい。従って、好ましいｏ−キノンジアジ
ド化合物の添加量は２０重量％〜１００重量％であり、
より好ましくは３０重量％〜１００重量％である。

【００３７】本発明において使用される感光性の第１有
機被覆層の主成分としては、ｏ−キノンジアジド以外の
好ましい例として、例えば特公昭５６−２６９６号に記
載されているオルトニトロカルビノールエステル基を有
するポリマー化合物や、光分解により酸を発生する化合
物と、酸により解離する−Ｃ−Ｏ−Ｃ基又は−Ｃ−Ｏ−
Ｓｉ基を有する化合物との組合せ系も挙げることができ
る。例えば光分解により酸を発生する化合物とアセター
ル又はＯ，Ｎ−アセタール化合物との組合せ（特開昭４
８−８９００３号）、オルトエステル又はアミドアセタ
ール化合物との組合せ（特開昭５１−１２０７１４号）
、主鎖にアセタール又はケタール基を有するポリマーと
の組合せ（特開昭５３−１３３４２９号）、エノールエ
ーテル化合物との組合せ（特開昭５５−１２９９５号）
、Ｎ−アシルイミノ炭素化合物との組合せ（特開昭５５
−１２６２３６号）、主鎖にオルトエステル基を有する
ポリマーとの組合せ（特開昭５６−１７３４５号）、シ
リルエステル化合物との組合せ（特開昭６０−１０２４
７号）及びシリルエーテル化合物との組合せ（特開昭６
０−３７５４９号、特開昭６０−１２１４４６号）など
が挙げられる。これらの化合物又は組合せを用いるとき
も、その使用量は前述のｏ−キノンジアジド化合物のと
きと同様である。

【００３８】バインダー ｏ−キノンジアジド化合物等の感光性化合物は単独でも
感光層を構成することができるが、アルカリ水に可溶な
樹脂を結合剤（バインダー）として併用することが好ま
しい。この様なアルカリ水に可溶な樹脂としては、ノボ
ラック型の樹脂があり、例えばフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂、ｏ−、ｍ−およびｐ−クレゾールホルムアル
デヒド樹脂、ｍ／ｐ−混合クレゾールホルムアルデヒド
樹脂、フェノール／クレゾール（ｏ−、ｍ−、ｐ−、ｍ
／ｐ−およびｏ／ｍ−混合のいずれでもよい）混合ホル
ムアルデヒド樹脂などが挙げられる。

【００３９】また、フェノール変性キシレン樹脂、ポリ
ヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレ
ン、特開昭５１−３４７１１号公報に開示されているよ
うなフェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂も用
いることができる。その他の好適なバインダーとして以
下（１）　〜（１３）に示すモノマーをその構成単位と
する通常１万〜２０万の分子量を持つ共重合体を挙げる
ことができる。 （１）　芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メタ
クリルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸
エステル類およびヒドロキシスチレン類、例えばＮ−（
４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミドまたはＮ−（
４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｏ−、ｍ
−およびｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−、ｍ−およびｐ
−ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメタクリレー
ト、（２）　脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル
類およびメタクリル酸エステル類、例えば、２−ヒドロ
キシエチルアクリレートまたは２−ヒドロキシエチルメ
タクリレート、（３）　アクリル酸、メタクリル酸、無
水マレイン酸、イタコン酸などの不飽和カルボン酸、（
４）　アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリ
ル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジ
ル、アクリル酸−２−クロロエチル、アクリル酸４−ヒ
ドロキシブチル、グリシジルアクリレート、Ｎ−ジメチ
ルアミノエチルアクリレートなどの（置換）アクリル酸
エステル、（５）　メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、
メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリ
ル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリ
ル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−
２−クロロエチル、メタクリル酸−４−ヒドロキシブチ
ル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエ
チルメタクリレートなどの（置換）メタクリル酸エステ
ル、（６）　アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−
メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリル
アミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−エチルメタク
リルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシ
ルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミ
ド、Ｎ−シクロヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロ
キシエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタ
クリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−フェ
ニルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、
Ｎ−ベンジルメタクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルア
クリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルメタクリルアミド、
Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミドおよびＮ−エ
チル−Ｎ−フェニルメタクリルアミドなどのアクリルア
ミドもしくはメタクリルアミド、（７）　エチルビニル
エーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキ
シエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブ
チルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニ
ルビニルエーテルなどのビニルエーテル類、（８）　ビ
ニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチ
レート、安息香酸ビニルなどのビニルエステル類、（９
）　スチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン
などのスチレン類、（１０）　　メチルビニルケトン、
エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニル
ビニルケトンなどのビニルケトン類、（１１）　　エチ
レン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプ
レンなどのオレフィン類、（１２）　　Ｎ−ビニルピロ
リドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビニルピリジン
、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなど、（１３
）　　Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェニル）アクリル
アミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェニル）アクリ
ルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アク
リルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノスルホニル）ナフ
チル〕アクリルアミド、Ｎ−（２−アミノスルホニルエ
チル）アクリルアミドなどのアクリルアミド類、Ｎ−（
ｏ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（ｍ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド
、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルア
ミド、Ｎ−〔１−（３−アミノスルホニル）ナフチル〕
メタクリルアミド、Ｎ−（２−アミノスルホニルエチル
）メタクリルアミドなどのメタクリルアミド類、また、
ｏ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｍ−アミ
ノスルホニルフェニルアクリレート、ｐ−アミノスルホ
ニルフェニルアクリレート、１−（３−アミノスルホニ
ルフェニルナフチル）アクリレートなどのアクリル酸エ
ステル類などの不飽和スルホンアミド、ｏ−アミノスル
ホニルフェニルメタクリレート、ｍ−アミノスルホニル
フェニルメタクリレート、ｐ−アミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、１−（３−アミノスルホニルフェニ
ルナフチル）メタクリレートなどのメタクリル酸エステ
ル類などの不飽和スルホンアミド。

【００４０】更に、上記モノマーと共重合し得るモノマ
ーを共重合させてもよい。また、上記モノマーの共重合
によって得られる共重合体を例えば、グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレートなどによって修飾し
たものも含まれるがこれらに限られるものではない。上
記共重合体には（３）に掲げた不飽和カルボン酸を含有
することが好ましく、その共重合体の好ましい酸価は０
〜１０ｍｅｑ　／ｇ、より好ましくは０．５〜５ｍｅｑ
　／ｇである。

【００４１】上記共重合体の好ましい分子量は１万〜１
０万である。また、上記共重合体には必要に応じて、ポ
リビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミ
ド樹脂およびエポキシ樹脂を添加してもよい。このよう
なアルカリ水可溶性の高分子化合物は１種類あるいは２
種類以上組み合わせることができ、全感光性組成物の８
０重量％以下の添加量で用いられる。

【００４２】本発明の感光性組成物中には、感度を高め
るために環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を添
加することが好ましい。環状酸無水物としては米国特許
第４，１１５，１２８　号明細書に記載されている無水
フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無
水フタル酸、３，６−エンドオキシ−Δ４　−テトラヒ
ドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マ
レイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マ
レイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使
用できる。

【００４３】フェノール類としては、ビスフェノールＡ
、ｐ−ニトロフェノール、ｐ−エトキシフェノール、２
，４，４′−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，
４−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒドロキシベ
ンゾフェノン、４，４′，４″−トリヒドロキシ−トリ
フェニルメタン、４，４′，３″，４″−テトラヒドロ
キシ−３，５，３′，５′−テトラメチルトリフェニル
メタンなどが挙げられる。

【００４４】更に、有機酸類としては、特開昭６０−８
８９４２号、特開平２−９６７５５号公報などに記載さ
れている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫
酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカルボン
酸類などがあり、具体的には、ｐ−トルエンスルホン酸
、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルフィ
ン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホス
フィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香
酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、３，
４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、１
，４−シクロヘキセン−２，２−ジカルボン酸、エルカ
酸、ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコルビン酸な
どが挙げられる。

【００４５】上記の環状酸無水物類、フェノール類およ
び有機酸類の感光性組成物中に占める割合は、０．０５
〜１５重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重
量％である。また、本発明の感光性組成物中には、現像
条件に対する処理の安定性（いわゆる現像ラチチュード
）を広げるため、特開昭６２−２５１７４０号公報や特
願平２−１８１２４８号明細書に記載されているような
非イオン界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号公報
、特願平２−１１５９９２号明細書に記載されているよ
うな両性界面活性剤を添加することができる。

【００４６】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどが挙げら
れる。両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ（
アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグ
リシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−
Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやＮ−
テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商品名ア
モーゲンＫ、第一工業（株）製）およびアルキルイミダ
ゾリン系（例えば、商品名レボン１５、三洋化成（株）
製）などが挙げられる。

【００４７】上記非イオン界面活性剤および両性界面活
性剤の感光性組成物中に占める割合は、０．０５〜１５
重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％で
ある。本発明の感光性組成物中には、露光後直ちに可視
像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料
や顔料を加えることができる。焼き出し剤としては、露
光によって酸を放出する化合物（光酸放出剤）と塩を形
成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることがで
きる。具体的には、特開昭５０−３６２０９号、同５３
−８１２８号の各公報に記載されているｏ−ナフトキノ
ンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機
染料の組合せや、特開昭５３−３６２２３号、同５４−
７４７２８号、同６０−３６２６号、同６１−１４３７
４８号、同６１−１５１６４４号および同６３−５８４
４０号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物
と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。か
かるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化
合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定
性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。

【００４８】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料も用いることができる。塩形成性
有機染料も含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料を挙げることができる。具体的には、オイルイエ
ロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク
＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、
オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブ
ラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上、オリエ
ント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、ク
リスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイ
オレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ロ
ーダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリー
ン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１
５）などを挙げることができる。また、特開昭６２−２
９３２４７号公報に記載されている染料は特に好ましい
。

【００４９】これらの焼き出し剤や染料は後述の第２有
機被覆層に、あるいは第１及び第２両層に添加されてい
てもよい。本発明における感光性組成物は、上記各成分
を溶解する溶媒に溶かして支持体のアルミニウム板上に
塗布される。ここで使用される溶媒としては、特開昭６
２−２５１７３９号公報に記載されているような有機溶
剤が単独あるいは混合して用いられる。

【００５０】本発明の感光性組成物は、０．２〜２０重
量％の固形分濃度で溶解、分散され、支持体上に塗布・
乾燥される。支持体上に塗設される感光性組成物の層（
感光層）の塗布量は用途により異なるが、一般的には、
乾燥後の重量にして０．０３〜２．０ｇ／ｍ２が好まし
い。より好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍ２である。塗
布量が小さくなるにつれて、現像液に溶出する量は少な
くなるが、後述の第２有機被覆層が支持体から除去しに
くくなる。逆に塗布量が大きくなるにつれ、第２有機被
覆層は除去しやすくなるが、現像液への溶出量が大きく
なり、現像液の疲労を促進してしまう。

【００５１】本発明の感光性組成物中には、塗布面質を
向上するための界面活性剤、例えば、特開昭６２−１７
０９５０号公報に記載されているようなフッ素系界面活
性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全感
光性組成物の０．００１〜１．０重量％であり、更に好
ましくは０．００５〜０．５重量％である。 第２有機被覆層 本発明の感光性複写材料は上述の感光性の第１有機被覆
層の上に現像液難溶性で、且つ現像液浸透性の有機被覆
層が設けられたものである。この第２有機被覆層は、皮
膜形成能を有する水不溶性の高分子化合物を水に乳化分
散したエマルジョンを塗布、乾燥することによって形成
されていてもよい。このようにして得られた第２有機被
覆層の皮膜は、強靱で耐摩耗性があり、印刷インキを受
容し易い疎水性表面を有することが好ましい。

【００５２】該エマルジョンとしては親油性樹脂のラテ
ックスが利用できる。本発明に有用なラテックスは、下
記Ａ群から選ばれたモノマーの単一重合体又は下記Ａ群
から選ばれた２以上のモノマーの共重合体、或いはＡ群
及びＢ群より選ばれたそれぞれ少なくとも一種のモノマ
ーの共重合によって得られるポリマーラテックス、或い
はそれらにＣ群の少なくとも一種のモノマーを組合せた
ポリマーラテックスである。 Ａ群：下記一般式で表わされるモノマーＣＨＸ＝ＣＹＺ 〔式中、 Ｘ：水素原子、メチル基又は　−ＣＯＯＲ１　基Ｙ：水
素原子、メチル基又は−（ＣＨ２）ｎ　ＣＯＯＲ２　ハ
ロゲン、ニトリル、 Ｚ：アリール基、　−ＣＯＯＲ３　、　−ＯＲ３　、　
−Ｏ−ＣＯＲ３、　−ＣＯＮＲ２Ｒ３　、ハロゲン、ニ
トリル Ｒ１　，Ｒ２　，Ｒ３　：これらは同じでも異っていて
もよく、脂肪族基または芳香族基 ｎ：０〜３の整数〕 Ｂ群：遊離のカルボン酸基、スルホン酸基、もしくはリ
ン酸基またはその塩を少くとも一つ有するエチレン系モ
ノマー。

【００５３】該カルボン酸のヒドロキシアルキルエステ
ル或いはアミド。 Ｃ群：ジビニル系モノマー。 Ａ群の一般式中、Ｒ１　〜Ｒ３　で代表される基のうち
、脂肪族基は直接または分岐アルキル基（環状のものも
含む）および置換アルキル基を含む。アルキル基の炭素
数としては、１〜１２が好ましい。

【００５４】置換アルキル基の置換基としては、アリー
ル基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アシ
ル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニ
ルオキシ基、アミノ基（置換アミノ基も含み、置換基と
してはアルキル基、アリール基など。置換基の数は１〜
２である）、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ヘテロ環残
基（ヘテロ原子としては、例えば酸素原子、窒素原子、
硫黄原子など。環の員数としては５〜６が好ましく、ま
た環は不飽和でも飽和でもよい。ヘテロ環には更に芳香
環が縮合していてもよい。）などを挙げることができる
。

【００５５】また、Ｒ１　〜Ｒ３　で代表される基のう
ち、アリール基は、もちろん置換されたフェニル基やナ
フチル基を含み、置換基としては、置換アルキル基に関
して先に挙げた置換基の他にアルキル基などを挙げるこ
とができる。Ａ群のモノマーとしてはたとえばアクリル
酸エステル、メタクリル酸エステル、クロトン酸エステ
ル、ビニルエステル、マレイン酸ジエステル、フマル酸
ジエステル、イタコン酸ジエステル、スチレン類などの
単官能モノマーがあげられる。

【００５６】更に、具体的なモノマーとしては、例えば
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピ
ルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチ
ルアクリレート、イソブチルアクリレート、　ｓｅｃ−
ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシルア
クリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクチ
ルアクリレート、ｔｅｒｔ−オクチルアクリレート、２
−フェノキシエチルアクリレート、２−クロロエチルア
クリレート、２−ブロモエチルアクリレート、４−クロ
ロブチルアクリレート、シアノエチルアクリレート、２
−アセトキシエチルアクリレート、ジメチルアミノエチ
ルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベン
ジルアクリレート、２−クロロシクロヘキシルアクリレ
ート、シクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリ
レート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニ
ルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート
、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート、２−メトキシエチルアクリレート、３−メトキシ
ブチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート
、２−　ｉｓｏ−プロポキシエチルアクリレート、２−
ブトキシエチルアクリレート、２−（２−メトキシエト
キシ）エチルアクリレート、２−（２−ブトキシエトキ
シ）エチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレング
リコールアクリレート（付加モル数ｎ＝９）、１−ブロ
モ−２−メトキシエチルアクリレート、１，１−ジクロ
ロ−２−エトキシエチルアクリレート、メチルメタクリ
レート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリ
レート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタ
クリレート、イソブチルメタクリレート、　ｓｅｃ−ブ
チルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベン
ジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、
オクチルメタクリレート、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルア
ミノエチルメタクリレート、２−（３−フェニルプロピ
ルオキシ）エチルメタクリレート、ジメチルアミノフェ
ノキシエチルメタクリレート、フルフリルメタクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニル
メタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメ
タクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、
３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、トリエチレングリコールモノ
メタクリレート、ジプロピレングリコールモノメタクリ
レート、２−メトキシエチルメタクリレート、３−メト
キシブチルメタクリレート、２−アセトキシエチルメタ
クリレート、アセトアセトキシエチルメタクリレート、
２−エトキシエチルメタクリレート、２−　ｉｓｏ−プ
ロポキシエチルメタクリレート、２−ブトキシエチルメ
タクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチルメ
タクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチルメ
タクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルメ
タクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメ
タクリレート（付加モル数ｎ＝６）、ビニルアセテート
、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルイ
ソブチレート、ビニルジメチルプロピオネート、ビニル
エチルブチレート、ビニルバレレート、ビニルカプロエ
ート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテ
ート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセ
テート、ビニルフェニルアセテート、ビニルアセトアセ
テート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチ
レート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレート、安息
香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル
、テトラクロル安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル、ス
チレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチ
ルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソ
プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン
、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジル
スチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメチル
スチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチル
スチレン、メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチ
ルスチレン、ジメトキシスチレン、クロルスチレン、ジ
クロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロルス
チレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジブ
ロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、ト
リフルオルスチレン、２−ブロム−４−トリフルオルメ
チルスチレン、４−フルオル−３−トリフルオルメチル
スチレン、ビニル安息香酸メチルエステル、クロトン酸
ブチル、クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネ
ート、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタ
コン酸ジブチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメ
チル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチル、フマル
酸ジヘキシル、フマル酸ジブチルメチルアクリルアミド
、エチルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、イ
ソプロピルアクリルアミド、ブチルアクリルアミド、ｔ
ｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、ヘプチルアクリルアミ
ド、ｔｅｒｔ−オクチルアクリルアミド、シクロヘキシ
ルアクリルアミド、ベンジルアクリルアミド、ヒドロキ
シメチルアクリルアミド、メトキシエチルアクリルアミ
ド、ジメチルアミノエチルアクリルアミド、ヒドロキシ
エチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ヒド
ロキシフェニルアクリルアミド、トリルアクリルアミド
、ナフチルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、
ジエチルアクリルアミド、ジブチルアクリルアミド、ジ
イソブチルアクリルアミド、Ｎ−（１，１−ジメチル−
３−オキソブチル）アクリルアミド、メチルベンジルア
クリルアミド、ベンジルオキシエチルアクリルアミド、
β−シアノエチルアクリルアミド、アクリロイルモルホ
リン、Ｎ−メチル−Ｎ−アクリロイルピペラジン、Ｎ−
アクリロイルピペリジン、Ｎ−（１，１−ジメチル−３
−ヒドロキシブチル）アクリルアミド、Ｎ−β−モルホ
リノエチルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルヘキサメ
チレンイミン、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアク
リルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチ
ルアクリルアミド、メチルメタクリルアミド、ｔｅｒｔ
−ブチルメタクリルアミド、ｔｅｒｔ−オクチルメタク
リルアミド、ベンジルメタクリルアミド、シクロヘキシ
ルメタクリルアミド、フェニルメタクリルアミド、ジメ
チルメタクリルアミド、ジエチルメタクリルアミド、ジ
プロピルメタクリルアミド、ヒドロキシエチル−Ｎ−メ
チルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメタ
クリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルメタクリルア
ミド、メタクリルヒドラジンなど；アリル化合物：たと
えば、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリ
ル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリ
ン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸
アリル、アリルオキシエタノール、アリルブチルエーテ
ル、アリルフェニルエーテルなど；ビニルエーテル類：
たとえば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテ
ル、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル
、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテ
ル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビ
ニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチ
ル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エ
チルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエ
ーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチ
ルアミノエチルビニルエーテルなど；ビニルケトン類：
例えば、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、
メトキシエチルビニルケトンなど；オレフィン類：例え
ば、ジシクロペンタジエン、エチレン、プロピレン、１
−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−
１−ペンテン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−デセ
ン、５−メチル−１−ノネン、５，５−ジメチル−１−
オクテン、４−メチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチ
ル−１−ペンテン、５−メチル−１−ヘキセン、４−メ
チル−１−ヘプテン、５−メチル−１−ヘプテン、４，
４−ジメチル−１−ヘキセン、５，５，６−トリメチル
−１−ヘプテン、１−ドデセンおよび１−オクタデセン
などの無置換炭化水素、ブタジエン、イソプレン、クロ
ロプレン等のジエン化合物；ビニル異節環化合物（複素
原子としては例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子など
、また異節環の員数としては例えば５〜６で、この環に
は更に芳香環が結合していてもよい。）：たとえば、Ｎ
−ビニルオキサゾリドン、ビニルピリジン、ビニルピコ
リン、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチ
ルイミダゾール、Ｎ−ビニルトリアゾール、Ｎ−ビニル
−３，５−ジメチルトリアゾール、Ｎ−ビニルピロリド
ン、Ｎ−ビニル−３，５−ジメチルピラゾール、Ｎ−ビ
ニルカルバゾール、ビニルチオフエン、Ｎ−ビニルサク
シンイミド、Ｎ−ビニルグルタルイミド、Ｎ−ビニルア
ジピミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルピペリド
ン、Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタム、Ｎ−ビニル−２
−ピリドン、など；不飽和ニトリル類；例えばアクリロ
ニトリル、メタクリロニトリルなど、ハロゲン化ビニル
化合物；塩化ビニル、塩化ビニリデン、臭化ビニル、沃
化ビニルなど。

【００５７】Ｂ群のモノマーの具体例としては、たとえ
ば次の様な単官能モノマーがあげられる。アクリル酸、
メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、イタコン酸モ
ノアルキル（例えばイタコン酸モノメチル、イタコン酸
モノエチル、イタコン酸モノブチルなど）、マレイン酸
モノアルキル（例えばマレイン酸モノメチル、マレイン
酸モノエチル、マレイン酸モノブチル、マレイン酸モノ
オクチルなど）、シトラコン酸、スチレンスルホン酸、
ビニルベンジルスルホン酸、ビニルスルホン酸、アクリ
ロイルオキシアルキルスルホン酸、（例えば、アクリロ
イルオキシメチルスルホン酸、アクリロイルオキシエチ
ルスルホン酸、アクリロイルオキシプロピルスルホン酸
、アクリロイルオキシブチルスルホン酸など）、メタク
リロイルオキシアルキルスルホン酸（例えばメタクリロ
イルオキシメチルスルホン酸、メタクリロイルオキシエ
チルスルホン酸、メタクリロイルオキシプロピルスルホ
ン酸、メタクリロイルオキシブチルスルホン酸など）、
アクリルアミドアルキルスルホン酸（例えば２−アクリ
ルアミド−２−メチルエタンスルホン酸、２−アクリル
アミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−アクリル
アミド−２−メチルブタンスルホン酸など）、メタクリ
ルアミドアルキルスルホン酸（例えば２−メタクリルア
ミド−２−メチルエタンスルホン酸、２−メタクリルア
ミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−メタクリル
アミド−２−メチルブタンスルホン酸など）、アクリロ
イルオキシアルキルホスフェート（例えばアクリロイル
オキシエチルホスフェート、３−アクリロイルオキシプ
ロピルホスフェート、など）、メタクリロイルオキシア
ルキルホスフェート（例えばメタクリロイルオキシエチ
ルホスフェート、３−メタクリロイルオキシプロピルホ
スフェートなど）など。

【００５８】また、前記の酸モノマー中のアルキル基と
しては、例えば炭素数１〜８程度のものである。これら
の酸はアルカリ金属イオン（好ましくはＮａ＋　、Ｋ＋
　）又はアンモニウムイオンの塩であってもよい。Ｃ群
のモノマーの具体例としては、ポリオールの不飽和エス
テル特にα−メチレンカルボン酸のようなエステル、例
えば、エチレンジ（メタ）アクリレート、ジエチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メ
タ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレ
ート、１，３−プロピレンジ（メタ）アクリレート、１
，４−シクロヘキサンジオール（メタ）アクリレート、
１，４−ベンゼンジオールジ（メタ）アクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、１，
３−プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１
，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ（メタ）アクリレート。不飽和
アミド、特にα−メチレンカルボン酸のアミド及び特に
α，ω−ジアミン及び酸素が中間に介在するω−ジアミ
ンのもの、例えばメチレンビス（メタ）アクリルアミド
、エチレンビス（メタ）アクリルアミド、１，６−ヘキ
サメチレンビス（メタ）アクリルアミド及びジエチレン
トリアミントリス（メタ）アクリルアミド、ジビニルサ
クシネート、ジビニルアジペート、ジビニルフタレート
、ジビニルテレフタレート、ジビニルベンゼン−１，３
−ジスルホネート及びジビニルブタン−１，４−ジスル
ホネートのようなビニルエステル、ソルブアルデヒドす
なわち２，４−ヘキサジエナールのような不飽和アルデ
ヒド。

【００５９】（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル
アミドのような中性のα−メチレンカルボン酸ポリエス
テル、ポリアミド及び（または）第１及び第２アミノア
ルコール、アミノポリオールまたはポリアミノアルコー
ルまたはポリオールのエステルアミド及び前記アルコー
ルの類似誘導体、例えばβ−メタクリルアミドエチル（
メタ）アクリルアミド、Ｎ−（β−ヒドロキシエチル）
−β−（メタアクリルアミド）エチルアクリレート、Ｎ
，Ｎ−ビス（β−メタクリルオキシエチル）アクリルア
ミド、その他、ジビニルベンゼンやキシリレンジイソシ
アネートとヒドロキシエチル（メタ）アクリレートから
のウレタン化合物、例えば下記の化学構造を有するよう
なウレタン化合物

【００６０】

【化１】

【００６１】のようなイソシアネートとヒドロキシアル
キル化合物からのウレタン化合物等が有用である。なお
、上記において、「（メタ）アクリレート」とは「アク
リレート」および「メタクリレート」の両者を意味し、
「（メタ）アクリルアミド」も同様の事を意味する。こ
こで使用できるラテックス重合体は例えばプレパラティ
ブ　　メソッド　　オブ　　ポリマー　　ケミストリー
　　インターサイエンス　　パブリシャーズ（Ｐｒｅｐ
ａｒａｔｉｖｅ　Ｍｅｔｈｏｄｓ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅ
ｒ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，　Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ
　Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ）　発行の２１６及び２３８ペ
ージに記載されている乳化重合法に従って合成すること
ができる。一つの例としては次のとおりである。１リッ
トルの三ツ口フラスコに４２０ｍｌの蒸留水を採り、メ
タ重亜硫酸カリウム０．２２５ｇを添加し、攪拌して溶
解したあと窒素パージし、アクリロニトリル３３．３７
ｇ、塩化ビニリデン１４５．３ｇ、アクリル酸１４．１
ｇ及びトリトン７７０（界面活性剤）１４．１ｇを添加
し、過硫酸カリウム０．４５ｇを加えて、３０℃の温度
下に１５０ｒｐｍ　の回転数で攪拌を行なって反応させ
た。

【００６２】ラテックスの調製に於いて乳化重合法が利
用できない樹脂、例えばホルマール樹脂又はブチラール
樹脂のようなアセタール樹脂、酢酸セルロース、プロピ
オン酸セルロース、酪酸セルロース、クロトン酸セルロ
ースなどのセルロースエステル、該エステル化合物とフ
タール酸、コハク酸、セバチン酸、マレイン酸等のジカ
ルボン酸との共エステル化合物、メチルセルロース、エ
チルセルロース、プロピルセルロース、ブチルセルロー
ス、アリルセルロース、ベンジルセルロース、シルロヘ
キシルセルロース、シアノエチルセルロースなどのセル
ロースエーテル化合物、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リウレタン、ポリウレア、ポリイミドなどの縮合重合に
より生成する高分子化合物等も本発明に使用し得る親油
性樹脂として有用である。該化合物は特開昭５２−３６
５３号公報に開示されている方法によりエマルジョンを
調製することができる。

【００６３】前記の共重合ラテックスに於けるＡ群、Ｂ
群、Ｃ群の比率はラテックスから塗布された第２有機被
覆層の現像性、インキ受容性、耐刷性などの性能を勘案
して適宜に選択することができる。Ａ群のモノマー成分
は主として親油性と耐摩耗性を司どる。従って、好まし
いＡ群モノマー成分の量は、対ラテックスポリマー固形
分で、２０〜１００重量％が好ましく、特に６０〜１０
０重量％が好適である。

【００６４】Ｂ群モノマー成分の量はラテックスポリマ
ー固形分の０〜２５重量％が好ましく、特に０〜１０重
量％が好適である。Ｃ群モノマー成分は０〜８０重量％
が好ましく、特に０〜４０重量％が好適である。また市
販のラテックス液も利用することができる。例えばポリ
アクリル酸エステル共重合体のエマルジョン；商品名、
ジュリマーＥＴ−４１０、ジュリマーＳＥＫ−３０１、
ジュリマーＳＥＫ−１０１、ジュリマーＦＣ−３０、ジ
ュリマーＦＣ−６０、ジュリマーＦＣ−８０、ジュリマ
ーＳＥ−５１０１、ジュリマーＳＥ−５１０２、ジュリ
マーＳＥ−５１０３、ジュリマーＳＥ−５３０１、ジュ
リマーＳＥ−３６１、ジュリマーＳＥ−３６３、ジュリ
マーＳＥ−３６５、ジュリマーＳＥ−６３０２、ジュリ
マーＳＥ−６３１１、ジュリマーＳＥ−６３１２（以上
日本純薬（株）製）、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ８１１、Ｎｉｐ
ｏｌ　ＬＸ８１４、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ８４１、Ｎｉｐｏ
ｌ　ＬＸ８５１、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ８５２、Ｎｉｐｏｌ
　ＬＸ８５４、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ８５６、Ｎｉｐｏｌ　
ＬＸ８６０、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ８７４（以上日本ゼオン
（株）製）、プライマルＡＣ−２２、プライマルＡＣ−
３３、プライマルＡＣ−３４４４、プライマルＡＣ−５
５、プライマルＡＣ−６１、プライマルＡＣ−３８２、
プライマルＡＳＥ−６０、プライマルＡＳＥ−７５、プ
ライマルＡＳＥ−１０８、プライマルＢ−１５、プライ
マルＢ−４１、プライマルＢ−７４、プライマルＢ−３
３６、プライマルＢ−５０５、プライマルＢ−８３２、
プライマルＢ−９２４、プライマルＣ−７２、プライマ
ルＥ−３２、プライマルＥ−３５８、プライマルＨＡ−
８、プライマルＨＡ−１６、プライマルＨＡ−２４、プ
ライマルＩ−９４、プライマルＬＣ−４０、プライマル
ＬＴ−７６、プライマルＬＴ−８７、プライマルＭＣ−
４５３０、プライマルＮ−５８０、プライマルＰ−６Ｎ
、プライマルＰ−１０６０、プライマルＳ−１、プライ
マルＴＲ−４９、プライマル８５０、以上日本アクリル
化学（株）製、アクリロニトリル・ブタジエン系ラテッ
クス；Ｎｉｐｏｌ　１５５１、Ｎｉｐｏｌ　１５６１、
Ｎｉｐｏｌ　１５６２、Ｎｉｐｏｌ　１５７１、Ｎｉｐ
ｏｌ　１５７７、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ５１１、Ｎｉｐｏｌ
　ＬＸ５１３、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ５３１、Ｎｉｐｏｌ　
ＬＸ５３１Ｂ、以上日本ゼオン（株）製、スチレン・ブ
タジエン系ラテックス；Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ１１１、Ｎｉ
ｐｏｌ　４８５０、Ｎｉｐｏｌ　４８５０Ａ、Ｎｉｐｏ
ｌ　ＬＸ１１０、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ１１９、Ｎｉｐｏｌ
　ＬＸ２０４、ＮｉｐｏｌＬＸ２０６、Ｎｉｐｏｌ　Ｌ
Ｘ２０９、Ｎｉｐｏｌ　２５０７、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ３
０３、Ｎｉｐｏｌ　２５１８ＦＳ、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ４
１５Ａ、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ４２６、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ４
３０、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ４３２Ａ、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ４
３３、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ４７２、Ｎｉｐｏｌ　２５７０
Ｘ５、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ４０７ＢＰ、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ
４０７Ｃ、Ｎｉｐｏｌ　ＬＸ４０７Ｆ、Ｎｉｐｏｌ　Ｌ
Ｘ４０７Ｇ、以上日本ゼオン（株）製、塩化ビニル系ラ
テックス；Ｇｅｏｎ１５０Ｘ１５、Ｇｅｏｎ３５１、Ｇ
ｅｏｎ５７６、以上日本ゼオン（株）製、ウレタン樹脂
エマルジョン；ＶＯＮＤＩＣ　　１０４１ＮＳ、ＶＯＮ
ＤＩＣ　　１０５０Ｂ−ＮＳ、ＶＯＮＤＩＣ　　１２３
０ＮＳ、ＶＯＮＤＩＣ　　１２５０、ＶＯＮＤＩＣ　　
１３１０ＮＳＣ、ＶＯＮＤＩＣ　　１３２０ＮＳＣ、Ｖ
ＯＮＤＩＣ　　１５１０、ＶＯＮＤＩＣ　　１６１０Ｎ
Ｓ、ＶＯＮＤＩＣ　　１５１２ＮＳＣ、ＶＯＮＤＩＣ　
　１６４０、ＶＯＮＤＩＣ１６６０ＮＳ、ＶＯＮＤＩＣ
　　１６７０ＮＳ、ＶＯＮＤＩＣ　　１９３０Ａ−ＮＳ
、ＶＯＮＤＩＣ　　１９８０ＮＳ、ＶＯＮＤＩＣ　　１
２０５、ＶＯＮＤＩＣ　　２２２０、ＶＯＮＤＩＣ　　
２２３０、以上大日本インキ化学（株）製、アロン　　
ネオタンＵＥ−１１０１、アロン　　ネオタンＵＥ−１
２００、アロン　　ネオタンＵＥ−１３００、アロン　
　ネオタンＵＥ−１４０２、アロン　　ネオタンＵＥ−
２１０３、アロン　　ネオタンＵＥ−２２００、アロン
　　ネオタンＵＥ−２６００、アロン　　ネオタンＵＥ
−２９００、アロン　　ネオタンＵＥ−５４０４、アロ
ン　　ネオタンＵＥ−５６００、以上東亜合成化学工業
（株）製、コロイド分散型ウレタン樹脂；ＨＹＤＲＡＮ
　　ＨＷ−３０１、ＨＹＤＲＡＮ　　ＨＷ−３１０、Ｈ
ＹＤＲＡＮ　　ＨＷ−３１１、ＨＹＤＲＡＮ　　ＨＷ−
３１２Ｂ、ＨＹＤＲＡＮ　　ＨＷ−３３３、ＨＹＤＲＡ
Ｎ　　ＨＷ−３４０、ＨＹＤＲＡＮ　　ＨＷ−３５０、
ＨＹＤＲＡＮＨＷ−１１１、ＨＹＤＲＡＮＨＷ−１４０
、ＨＹＤＲＡＮ　　ＨＷ−９１０、ＨＹＤＲＡＮ　　Ｈ
Ｗ−９２０、ＨＹＤＲＡＮ　　ＨＷ−９３０、ＨＹＤＲ
ＡＮ　　ＨＷ−９４０、ＨＹＤＲＡＮ　　ＨＷ−９５０
、ＨＹＤＲＡＮ　　ＨＷ−９６０、以上大日本インキ化
学工業（株）製などを挙げることができる。ただし市販
のラテックスを使用する場合は使われている乳化安定剤
の種類等により性能が左右されることを考慮する必要が
ある。

【００６５】乳化重合法に依らない方法で調製したラテ
ックスを含めて第２有機被覆層を形成するポリマーはポ
リマーの主鎖又は側鎖にヒドロキシル、アミノ、アミド
、イミノ、イミド、ニトリロ、カルボキシル、スルホニ
ル、スルホンオキシ、イソシアネート、ウレタン、アゾ
イミド、アゾ、ヒドラジノ、カルバミド、カルバミル、
エポキシ、メルカプト、チオ及びスルホンアミド基から
選択される少なくとも１種の基を含むものが好ましい。 エマルジョン中の親油製樹脂の粒子径は特に制限はない
が一般に約０．０３〜１０μの範囲内に分布を持つもの
が使えるが、好ましくは０．０５〜５μｍ程度である。 エマルジョン粒子を形成するポリマーは高分子量のもの
からオリゴマー程度のもの、分子量で約２０００から約
２０００００位のものまで使うことができるしそれ等の
混合系でもよい。又、粒子を形成するポリマーは、それ
自身架橋されていてもよいし、活性光線又は熱によって
硬化する性質を有するものであってもよい。

【００６６】また、このようなエマルジョンを用いて形
成された第２有機被覆層には現像液浸透促進剤として前
述のようなｏ−キノンジアジド化合物を水に乳化分散し
た状態で加えることができるが、この添加量が多過ぎる
と現像液への溶出成分が増えるので本発明の目的にそぐ
わない。従って、ｏ−キノンジアジド化合物の添加量は
２０％以下が好ましい。

【００６７】また本発明の感光性複写材料の第２有機被
覆層はエマルジョン以外に、皮膜形成能を有する水不溶
性で有機溶媒可溶性の高分子化合物の有機溶剤溶液を塗
設、乾燥することによって形成されてもよい。本発明に
有用な上記高分子化合物は下記Ａ群から選ばれたモノマ
ーの単一重合体又は下記Ａ群から選ばれた２以上のモノ
マーの共重合体、或いはＡ群及びＢ群より選ばれたそれ
ぞれ少なくとも一種のモノマーの共重合によって得られ
る高分子化合物、或いはそれらにＣ群の少なくとも一種
のモノマーを組合せた高分子化合物である。 Ａ群：下記一般式で表わされるモノマーＣＨＸ＝ＣＹＺ 〔式中、 Ｘ：水素原子、メチル基又は　−ＣＯＯＲ１　基Ｙ：水
素原子、メチル基又は−（ＣＨ２）ｎ　ＣＯＯＲ２　ハ
ロゲン、ニトリル、 Ｚ：アリール基、　−ＣＯＯＲ３　、　−ＯＲ３　、　
−Ｏ−ＣＯＲ３、　−ＣＯＮＲ２Ｒ３　、ハロゲン、ニ
トリル Ｒ１　，Ｒ２　，Ｒ３　：これらは同じでも異っていて
もよく、脂肪族基または芳香族基 ｎ：０〜３の整数〕 Ｂ群：遊離のカルボン酸基、スルホン酸基、もしくはリ
ン酸基またはその塩を少くとも一つ有するエチレン系モ
ノマー。

【００６８】該カルボン酸のヒドロキシアルキルエステ
ル或いはアミド。 Ｃ群：ジビニル系モノマー。 Ａ群の一般式中、Ｒ１　〜Ｒ３　で代表される基のうち
、脂肪族基は直接または分岐アルキル基（環状のものも
含む）および置換アルキル基を含む。アルキル基の炭素
数としては、１〜１２が好ましい。

【００６９】置換アルキル基の置換基としては、アリー
ル基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アシ
ル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニ
ルオキシ基、アミノ基（置換アミノ基も含み、置換基と
してはアルキル基、アリール基など。置換基の数は１〜
２である）、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ヘテロ環残
基（ヘテロ原子としては、例えば酸素原子、窒素原子、
硫黄原子など。環の員数としては５〜６が好ましく、ま
た環は不飽和でも飽和でもよい。ヘテロ環には更に芳香
環が縮合していてもよい。）などを挙げることができる
。

【００７０】また、Ｒ１　〜Ｒ３　で代表される基のう
ち、アリール基は、もちろん置換されたフェニル基やナ
フチル基を含み、置換基としては、置換アルキル基に関
して先に挙げた置換基の他にアルキル基などを挙げるこ
とができる。Ａ群のモノマーとしてはたとえばアクリル
酸エステル、メタクリル酸エステル、クロトン酸エステ
ル、ビニルエステル、マレイン酸ジエステル、フマル酸
ジエステル、イタコン酸ジエステル、スチレン類などの
単官能モノマーがあげられる。

【００７１】更に、具体的なモノマーとしては、例えば
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピ
ルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチ
ルアクリレート、イソブチルアクリレート、　ｓｅｃ−
ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシルア
クリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクチ
ルアクリレート、ｔｅｒｔ−オクチルアクリレート、２
−フェノキシエチルアクリレート、２−クロロエチルア
クリレート、２−ブロモエチルアクリレート、４−クロ
ロブチルアクリレート、シアノエチルアクリレート、２
−アセトキシエチルアクリレート、ジメチルアミノエチ
ルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベン
ジルアクリレート、２−クロロシクロヘキシルアクリレ
ート、シクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリ
レート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニ
ルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート
、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート、２−メトキシエチルアクリレート、３−メトキシ
ブチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート
、２−　ｉｓｏ−プロポキシエチルアクリレート、２−
ブトキシエチルアクリレート、２−（２−メトキシエト
キシ）エチルアクリレート、２−（２−ブトキシエトキ
シ）エチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレング
リコールアクリレート（付加モル数ｎ＝９）、１−ブロ
モ−２−メトキシエチルアクリレート、１，１−ジクロ
ロ−２−エトキシエチルアクリレート、メチルメタクリ
レート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリ
レート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタ
クリレート、イソブチルメタクリレート、　ｓｅｃ−ブ
チルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベン
ジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、
オクチルメタクリレート、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルア
ミノエチルメタクリレート、２−（３−フェニルプロピ
ルオキシ）エチルメタクリレート、ジメチルアミノフェ
ノキシエチルメタクリレート、フルフリルメタクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニル
メタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメ
タクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、
３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、トリエチレングリコールモノ
メタクリレート、ジプロピレングリコールモノメタクリ
レート、２−メトキシエチルメタクリレート、３−メト
キシブチルメタクリレート、２−アセトキシエチルメタ
クリレート、アセトアセトキシエチルメタクリレート、
２−エトキシエチルメタクリレート、２−　ｉｓｏ−プ
ロポキシエチルメタクリレート、２−ブトキシエチルメ
タクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチルメ
タクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチルメ
タクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルメ
タクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメ
タクリレート（付加モル数ｎ＝６）、ビニルアセテート
、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルイ
ソブチレート、ビニルジメチルプロピオネート、ビニル
エチルブチレート、ビニルバレレート、ビニルカプロエ
ート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテ
ート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセ
テート、ビニルフェニルアセテート、ビニルアセトアセ
テート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチ
レート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレート、安息
香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル
、テトラクロル安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル、ス
チレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチ
ルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソ
プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン
、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジル
スチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメチル
スチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチル
スチレン、メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチ
ルスチレン、ジメトキシスチレン、クロルスチレン、ジ
クロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロルス
チレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジブ
ロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、ト
リフルオルスチレン、２−ブロム−４−トリフルオルメ
チルスチレン、４−フルオル−３−トリフルオルメチル
スチレン、ビニル安息香酸メチルエステル、クロトン酸
ブチル、クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネ
ート、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタ
コン酸ジブチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメ
チル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチル、フマル
酸ジヘキシル、フマル酸ジブチルメチルアクリルアミド
、エチルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、イ
ソプロピルアクリルアミド、ブチルアクリルアミド、ｔ
ｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、ヘプチルアクリルアミ
ド、ｔｅｒｔ−オクチルアクリルアミド、シクロヘキシ
ルアクリルアミド、ベンジルアクリルアミド、ヒドロキ
シメチルアクリルアミド、メトキシエチルアクリルアミ
ド、ジメチルアミノエチルアクリルアミド、ヒドロキシ
エチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ヒド
ロキシフェニルアクリルアミド、トリルアクリルアミド
、ナフチルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、
ジエチルアクリルアミド、ジブチルアクリルアミド、ジ
イソブチルアクリルアミド、Ｎ−（１，１−ジメチル−
３−オキソブチル）アクリルアミド、メチルベンジルア
クリルアミド、ベンジルオキシエチルアクリルアミド、
β−シアノエチルアクリルアミド、アクリロイルモルホ
リン、Ｎ−メチル−Ｎ−アクリロイルピペラジン、Ｎ−
アクリロイルピペリジン、Ｎ−（１，１−ジメチル−３
−ヒドロキシブチル）アクリルアミド、Ｎ−β−モルホ
リノエチルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルヘキサメ
チレンイミン、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアク
リルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチ
ルアクリルアミド、メチルメタクリルアミド、ｔｅｒｔ
−ブチルメタクリルアミド、ｔｅｒｔ−オクチルメタク
リルアミド、ベンジルメタクリルアミド、シクロヘキシ
ルメタクリルアミド、フェニルメタクリルアミド、ジメ
チルメタクリルアミド、ジエチルメタクリルアミド、ジ
プロピルメタクリルアミド、ヒドロキシエチル−Ｎ−メ
チルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメタ
クリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルメタクリルア
ミド、メタクリルヒドラジンなど；アリル化合物：たと
えば、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリ
ル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリ
ン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸
アリル、アリルオキシエタノール、アリルブチルエーテ
ル、アリルフェニルエーテルなど；ビニルエーテル類：
たとえば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテ
ル、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル
、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテ
ル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビ
ニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチ
ル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エ
チルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエ
ーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチ
ルアミノエチルビニルエーテルなど；ビニルケトン類：
例えば、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、
メトキシエチルビニルケトンなど；オレフィン類：例え
ば、ジシクロペンタジエン、エチレン、プロピレン、１
−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−
１−ペンテン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−デセ
ン、５−メチル−１−ノネン、５，５−ジメチル−１−
オクテン、４−メチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチ
ル−１−ペンテン、５−メチル−１−ヘキセン、４−メ
チル−１−ヘプテン、５−メチル−１−ヘプテン、４，
４−ジメチル−１−ヘキセン、５，５，６−トリメチル
−１−ヘプテン、１−ドデセンおよび１−オクタデセン
などの無置換炭化水素、ブタジエン、イソプレン、クロ
ロプレン等のジエン化合物；ビニル異節環化合物（複素
原子としては例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子など
、また異節環の員数としては例えば５〜６で、この環に
は更に芳香環が結合していてもよい。）：たとえば、Ｎ
−ビニルオキサゾリドン、ビニルピリジン、ビニルピコ
リン、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチ
ルイミダゾール、Ｎ−ビニルトリアゾール、Ｎ−ビニル
−３，５−ジメチルトリアゾール、Ｎ−ビニルピロリド
ン、Ｎ−ビニル−３，５−ジメチルピラゾール、Ｎ−ビ
ニルカルバゾール、ビニルチオフエン、Ｎ−ビニルサク
シンイミド、Ｎ−ビニルグルタルイミド、Ｎ−ビニルア
ジピミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルピペリド
ン、Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタム、Ｎ−ビニル−２
−ピリドン、など；不飽和ニトリル類；例えばアクリロ
ニトリル、メタクリロニトリルなど、ハロゲン化ビニル
化合物；塩化ビニル、塩化ビニリデン、臭化ビニル、沃
化ビニルなど。

【００７２】Ｂ群のモノマーの具体例としては、たとえ
ば次の様な単官能モノマーがあげられる。アクリル酸、
メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、イタコン酸モ
ノアルキル（例えばイタコン酸モノメチル、イタコン酸
モノエチル、イタコン酸モノブチルなど）、マレイン酸
モノアルキル（例えばマレイン酸モノメチル、マレイン
酸モノエチル、マレイン酸モノブチル、マレイン酸モノ
オクチルなど）、シトラコン酸、スチレンスルホン酸、
ビニルベンジルスルホン酸、ビニルスルホン酸、アクリ
ロイルオキシアルキルスルホン酸、（例えば、アクリロ
イルオキシメチルスルホン酸、アクリロイルオキシエチ
ルスルホン酸、アクリロイルオキシプロピルスルホン酸
、アクリロイルオキシブチルスルホン酸など）、メタク
リロイルオキシアルキルスルホン酸（例えばメタクリロ
イルオキシメチルスルホン酸、メタクリロイルオキシエ
チルスルホン酸、メタクリロイルオキシプロピルスルホ
ン酸、メタクリロイルオキシブチルスルホン酸など）、
アクリルアミドアルキルスルホン酸（例えば２−アクリ
ルアミド−２−メチルエタンスルホン酸、２−アクリル
アミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−アクリル
アミド−２−メチルブタンスルホン酸など）、メタクリ
ルアミドアルキルスルホン酸（例えば２−メタクリルア
ミド−２−メチルエタンスルホン酸、２−メタクリルア
ミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−メタクリル
アミド−２−メチルブタンスルホン酸など）、アクリロ
イルオキシアルキルホスフェート（例えばアクリロイル
オキシエチルホスフェート、３−アクリロイルオキシプ
ロピルホスフェート、など）、メタクリロイルオキシア
ルキルホスフェート（例えばメタクリロイルオキシエチ
ルホスフェート、３−メタクリロイルオキシプロピルホ
スフェートなど）など。

【００７３】また、前記の酸モノマー中のアルキル基と
しては、例えば炭素数１〜８程度のものである。これら
の酸はアルカリ金属イオン（好ましくはＮａ＋　、Ｋ＋
　）又はアンモニウムイオンの塩であってもよい。Ｃ群
のモノマーの具体例としては、ポリオールの不飽和エス
テル特にα−メチレンカルボン酸のようなエステル、例
えば、エチレンジ（メタ）アクリレート、ジエチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メ
タ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレ
ート、１，３−プロピレンジ（メタ）アクリレート、１
，４−シクロヘキサンジオール（メタ）アクリレート、
１，４−ベンゼンジオールジ（メタ）アクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、１，
３−プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１
，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ（メタ）アクリレート。不飽和
アミド、特にα−メチレンカルボン酸のアミド及び特に
α，ω−ジアミン及び酸素が中間に介在するω−ジアミ
ンのもの、例えばメチレンビス（メタ）アクリルアミド
、エチレンビス（メタ）アクリルアミド、１，６−ヘキ
サメチレンビス（メタ）アクリルアミド及びジエチレン
トリアミントリス（メタ）アクリルアミド、ジビニルサ
クシネート、ジビニルアジペート、ジビニルフタレート
、ジビニルテレフタレート、ジビニルベンゼン−１，３
−ジスルホネート及びジビニルブタン−１，４−ジスル
ホネートのようなビニルエステル、ソルブアルデヒドす
なわち２，４−ヘキサジエナールのような不飽和アルデ
ヒド。

【００７４】（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル
アミドのような中性のα−メチレンカルボン酸ポリエス
テル、ポリアミド及び（または）第１及び第２アミノア
ルコール、アミノポリオールまたはポリアミノアルコー
ルまたはポリオールのエステルアミド及び前記アルコー
ルの類似誘導体、例えばβ−メタクリルアミドエチル（
メタ）アクリルアミド、Ｎ−（β−ヒドロキシエチル）
−β−（メタアクリルアミド）エチルアクリレート、Ｎ
，Ｎ−ビス（β−メタクリルオキシエチル）アクリルア
ミド、その他、ジビニルベンゼンやキシリレンジイソシ
アネートとヒドロキシエチル（メタ）アクリレートから
のウレタン化合物、例えば下記の化学構造を有するよう
なウレタン化合物

【００７５】

【化２】

【００７６】のようなイソシアネートとヒドロキシアル
キル化合物からのウレタン化合物等が有用である。なお
、上記において、「（メタ）アクリレート」とは「アク
リレート」および「メタクリレート」の両者を意味し、
「（メタ）アクリルアミド」も同様の事を意味する。前
記の高分子化合物におけるＡ群、Ｂ群、Ｃ群の比率は塗
布された有機被覆層の現像性、インキ受容性、耐刷性な
どの性能を勘案して適宜に選択することができる。Ａ群
のモノマー成分は主として親油性と耐摩耗性を司どる。 従って、好ましいＡ群モノマー成分の量は、対高分子化
合物固形分で、２０〜１００重量％が好ましく、特に６
０〜１００重量％が好適である。

【００７７】Ｂ群モノマー成分の量は該高分子化合物固
形分の０〜２５重量％が好ましく、特に０〜１０重量％
が好適である。Ｃ群モノマー成分は０〜８０重量％が好
ましく、特に０〜４０重量％が好適である。以上の共重
合型高分子化合物の他にも例えばホルマール樹脂又はブ
チラール樹脂のようなアセタール樹脂、酢酸セルロース
、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、クロトン
酸セルロースなどのセルロースエステル、該エステル化
合物とフタール酸、コハク酸、セバチン酸、マレイン酸
等のジカルボン酸との共エステル化合物、メチルセルロ
ース、エチルセルロース、プロピルセルロース、ブチル
セルロース、アリルセルロース、ベンジルセルロース、
シルロヘキシルセルロース、シアノエチルセルロースな
どのセルロースエーテル化合物、ポリエステル、ポリア
ミド、ポリウレタン、ポリウレア、ポリイミド、エポキ
シ樹脂、アルキルフェノールのアルデヒド縮合樹脂およ
びセラックなどが挙げられる。これらの高分子化合物は
その主鎖又は側鎖にヒドロキシル、アミノ、アミド、イ
ミノ、イミド、ニトリロ、カルボキシル、スルホニル、
スルホンオキシ、イソシアネート、ウレタン、アゾイミ
ド、アゾ、ヒドラジノ、カルバミド、カルバミル、エポ
キシ、メルカプト、チオ及びスルホンアミド基から選択
される少なくとも１種の基を含むものが好ましい。

【００７８】本発明に用いられる高分子化合物の分子量
は、オリゴマー程度のものから高分子量のものまで、分
子量で約２０００〜約２０００００のものまで使うこと
ができる。また、上記のような皮膜形成能を有する水不
溶性で有機溶媒可溶性高分子化合物の有機溶剤溶液から
設けられる第２有機被覆層には前述のようなｏ−キノン
ジアジド化合物を現像液浸透促進剤として加えることが
できるが、この添加量が多過ぎると現像液への溶出成分
が増えるので本発明の目的にそぐわない。従って、ｏ−
キノンジアジド化合物の添加量は２０％以下が好ましい
。

【００７９】これらの高分子ラテックスまたは高分子化
合物は単独で用いられてもよいが、互いに異なる複数の
ものを混合することによって、第２有機被覆層の現像液
に対する浸透性や膨潤性を調整したり、皮膜性を調整す
ることができる。これまでに記した第２有機被覆層の現
像液に対する溶解性の難易とは、現像液の強度に対する
相対的なものである。周知のごとくｏ−キノンジアジド
感光層はその組成により現像剤の強度が異なり、感光層
に適合した強度の現像液を選ぶことが可能である。従っ
て、第２有機被覆層に用い得る高分子化合物は一般的な
溶解性、膨潤性の難易をもっては限定しがたく、選択さ
れた第１有機被覆層の成分および現像液の成分に従って
、第２有機被覆層の高分子化合物も好適に選択される。

【００８０】更に、該第２有機被覆層には、有機、無機
の各種添加物を所望により添加することができる。例え
ば、画像着色剤としての染料や顔料、焼き出し剤、被覆
の物理的強度を向上させるための二酸化珪素（シリカ）
、二酸化チタンやクレーのような充填剤あるいは現像促
進のための可塑剤や、先に感光層のところで述べた酸無
水物、有機酸類およびフェノール類などを加えることが
できる。

【００８１】更に、安定化剤、界面活性剤、可塑剤など
も適宜添加できる。特に、塗布面質を向上するための界
面活性剤、例えば、特開昭６２−１７０９５０号公報に
記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加してお
くことが好ましい。この好ましい添加量は、第２有機被
覆層の全重量に対して０．００１〜１．０重量％であり
、更に好ましくは０．００５〜０．５重量％である。

【００８２】該添加成分は、第２有機被覆層が高分子ラ
テックス溶液から塗設される場合、エマルジョンの粒子
中に含まれてもよく、粒子外に含まれていてもよい。ま
た該添加成分は第２有機被覆層が有機溶剤溶液から塗布
される場合には、有機溶剤に溶解させるか分散させた状
態で塗布できる。該第２有機被覆層は、ラテックス溶液
状態または有機溶剤溶液状態からの塗布、流延、転写あ
るいは同時多層塗布などの塗設技術をもって感光性の第
１有機被覆層の上に設けられ、乾燥される。ここで第２
有機被覆層を有機溶剤溶液状態から塗設する場合の溶媒
としては、特開昭６２−２５１７３９号公報に記載され
ているような有機溶剤が用いられるが、このうちｏ−キ
ノンジアジド化合物の貧溶媒であるアルコールや炭化水
素などが特に有用である。

【００８３】別に、溶融ラミネーション法やフィルム熱
融着などの方法も用いられる。該第２有機被覆層の好ま
しい塗布量は乾燥後の重量にして０．１〜５．０ｇ／ｍ
２であり、より好ましくは０．３〜３．０ｇ／ｍ２であ
る。この範囲よりも第２有機被覆層の塗布量が小さいと
、感光性複写材料の画像の強度が劣り、また、この範囲
よりも大きいと現像液の浸透に時間がかかり好ましい画
像が得られない。

【００８４】マット層 上記のようにして設けられた第２有機被覆層の表面には
、真空焼き枠を用いた密着露光の際の真空引きの時間を
短縮し、且つ焼きボケを防ぐため、マット層を設けるこ
とが好ましい。具体的には、特開昭５０−１２５８０５
号、特公昭５７−６５８２号、同６１−２８９８６号の
各公報に記載されているようなマット層を設ける方法、
特公昭６２−６２３３７号公報に記載されているような
固体粉末を熱融着させる方法などが挙げられる。

【００８５】活性光線 かくして得られた感光性複写材料は透明原画を通してカ
ーボンアーク灯、水銀灯、メタルハライドランプ、キセ
ノンランブ、タングステンランプなどを光源とする活性
光線により露光された後、現像処理される。 現像液 かかる感光性複写材料の現像液としては従来より知られ
ている有機、無機のアルカリ水溶液が使用できる。例え
ば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、第３リン酸ナ
トリウム、第３リン酸カリウム、第３リン酸アンモニウ
ム、第２リン酸ナトリウム、第２リン酸カリウム、第２
リン酸アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ
酸カリウム、ホウ酸アンモニウムなどが挙げられる。ア
ルカリ金属水酸化物としては、水酸化カリウム、水酸化
ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化アンモニウムが挙
げられる。

【００８６】特に好ましいものとしては、重炭酸塩、炭
酸塩、炭酸水素塩などが挙げられる。これらは、単独ま
たは混合して用いられる。本発明の現像液に使用される
有機アルカリ剤としては、モノメチルアミン、ジメチル
アミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン
、ジイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノー
ルアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジ
ンなどのような化合物が挙げられる。このうち特にモノ
エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノー
ルアミンなどが好ましく、無機アルカリ金属塩などと組
み合せて使用してもよい。

【００８７】これらの塩基性化合物の水溶液中の濃度は
、０．０５重量％〜１０重量％が好ましい。これらは、
より好ましくはｐＨ１１未満であれば製版作業時、取り
扱いも容易で、さらに中和処理も簡単である。本発明に
用いられる現像液および補充液には、必要に応じて種々
界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性
剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系およ
び両性界面活性剤が挙げられる。

【００８８】界面活性剤の好ましい例としては、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
スチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
オキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪
酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、
ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレ
ングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部
分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル
類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン
脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、
Ｎ，Ｎ−ビス−２−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリ
オキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン
脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非
イオン性界面活性剤、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、
ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン
酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼ
ンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類
、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスル
ホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニ
ルエーテル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリンナ
トリウム塩、Ｎ−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナ
トリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪
酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸
エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫
酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸
エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ
ーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類
、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリ
ン酸エステル塩類、スチレン／無水マレイン酸共重合物
の部分鹸化物類、オレフィン／無水マレイン酸共重合物
の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮
合物類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩類
、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキ
ルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などのカ
チオン性界面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノカ
ルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類
、イミダゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられる。 以上挙げた界面活性剤の中でポリオキシエチレンとある
ものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、
ポリオキシブチレンなどのポリオキシアルキレンに読み
替えることもでき、それらの界面活性剤もまた包含され
る。

【００８９】更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフ
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニ
オン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、
パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などの
カチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイ
ド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パ
ーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマー
、パーフルオロアルキル基、親水性および親油性基含有
オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基含
有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。

【００９０】上記の界面活性剤は、単独もしくは２種以
上を組み合わせて使用することができ、現像液中に０．
００１〜１０重量％、より好ましくは０．０１〜５重量
％の範囲で添加される。有機溶剤としては、水に対する
溶解度が約１０重量％以下のものが適しており、好まし
くは５重量％以下のものから選ばれる。例えば、１−フ
ェニルエタノール、２−フェニルエタノール、３−フェ
ニル−１−プロパノール、４−フェニル−１−ブタノー
ル、４−フェニル−２−ブタノール、２−フェニル−１
−ブタノール、２−フェノキシエタノール、２−ベンジ
ルオキシエタノール、ｏ−メトキシベンジルアルコール
、ｍ−メトキシベンジルアルコール、ｐ−メトキシベン
ジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノ
ール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシク
ロヘキサノールおよび４−メチルシクロヘキサノール、
Ｎ−フェニルエタノールアミンおよびＮ−フェニルジエ
タノールアミンなどを挙げることができる。有機溶剤の
含有量は使用液の総重量に対して０．１〜５重量％であ
る。 その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係があり、
有機溶剤の量が増すにつれ、界面活性剤の量は増加させ
ることが好ましい。これは界面活性剤の量が少なく、有
機溶剤の量を多く用いると有機溶剤が完全に溶解せず、
従って、良好な現像性の確保が期待できなくなるからで
ある。

【００９１】本発明に用いられる現像液および補充液に
は更に還元剤が加えられる。これは印刷版の汚れを防止
するものであり、特に感光性ジアゾニウム塩化合物を含
むネガ型感光性平版印刷版を現像する際に有効である。 好ましい有機還元剤としては、チオサリチル機、ハイド
ロキノン、メトール、メトキシキノン、レゾルシン、２
−メチルレゾルシンなどのフェノール化合物、フェニレ
ンジアミン、フェニルヒドラジンなどのアミン化合物が
挙げられる。更に好ましい無機の還元剤としては、亜硫
酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水素酸、亜リン
酸二水素酸、チオ硫酸および亜ジチオン酸などの無機酸
のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩などを挙
げることができる。これらの還元剤のうち汚れ防止効果
が特に優れているのは亜硫酸塩である。これらの還元剤
は使用時の現像液に対して好ましくは、０．０５〜５重
量％の範囲で含有される。

【００９２】本発明で用いられる現像液および補充液に
は更に有機カルボン酸を加えることもできる。好ましい
有機カルボン酸は炭素原子数６〜２０の脂肪族カルボン
酸および芳香族カルボン酸である。脂肪族カルボン酸の
具体的な例としては、カプロン酸、エナンチル酸、カプ
リル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸およ
びステアリン酸などがあり、特に好ましいのは炭素数８
〜１２のアルカン酸である。また炭素鎖中に二重結合を
有する不飽和脂肪酸でも、枝分かれした炭素鎖のもので
もよい。

【００９３】芳香族カルボン酸としてはベンゼン環、ナ
フタレン酸、アントラセン環などにカルボキシル基が置
換された化合物で、具体的には、ｏ−クロロ安息香酸、
ｐ−クロロ安息香酸、ｏ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−ヒ
ドロキシ安息香酸、ｏ−アミノ安息香酸、ｐ−アミノ安
息香酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、２，５−ジヒ
ドロキシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、２
，３−ジヒドロキシ安息香酸、３，５−ジヒドロキシ安
息香酸、浸食子酸、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、
３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−１
−ナフトエ酸、１−ナフトエ酸、２−ナフトエ酸などが
あるがヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。

【００９４】上記脂肪族および芳香族カルボン酸は水溶
性を高めるためにナトリウム塩やカリウム塩またはアン
モニウム塩として用いるのが好ましい。本発明で用いる
現像液の有機カルボン酸の含有量は格別な制限はないが
、０．１重量％より低いと効果が十分でなく、また１０
重量％以上ではそれ以上の効果の改善が計れないばかり
か、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げることがある
。従って、好ましい添加量は使用時の現像液に対して０
．１〜１０重量％であり、より好ましくは０．５〜４重
量％である。

【００９５】本発明に用いられる現像液および補充液に
は、更に必要に応じて、消泡剤および硬水軟化剤などを
含有させることもできる。硬水軟化剤としては例えば、
ポリリン酸およびそのナトリウム塩、カリウム塩および
アンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチ
レントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘ
キサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸
、ニトリロトリ酢酸、１，２−ジアミノシクロヘキサン
テトラ酢酸および１，３−ジアミノ−２−プロパノール
テトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸およびそれらの
ナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、アミ
ノトリ（メチレンホスホン酸）、エチレンジアミンテト
ラ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペン
タ（メチレンホスホン酸）、トリエチレンテトラミンヘ
キサ（メチレンホスホン酸）、ヒドロキシエチルエチレ
ンジアミントリ（メチレンホスホン酸）および１−ヒド
ロキシエタン−１，１−ジホスホン酸やそれらのナトリ
ウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩を挙げること
ができる。

【００９６】このような硬水軟化剤はそのキレート化力
と使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値
が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像
液に０．０１〜５重量％、より好ましくは０．０１〜０
．５重量％の範囲である。この範囲より少ない添加量で
は所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲よ
り多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでてく
る。

【００９７】本発明の現像液および補充液の残余の成分
は水であるが、更に必要に応じて当業界で知られた種々
の添加剤を含有させることができる。本発明に用いる現
像液及び補充液は、第２有機被覆層がアルカリ水を浸透
し易いか否かなどの種々の要因によって、上述の添加剤
の量が決められる。本発明の現像液および補充液は使用
時よりも水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使
用時に水で希釈するようにしておくことが運搬上有利で
ある。この場合の濃縮度は各成分が分離や析出を起こさ
ない程度が適当である。

【００９８】現像処理 本発明の感光性複写材料の処理方法は、露光された感光
性複写材料を上述の現像液に浸漬した後、非画像部の有
機被覆層をブラシなどで脱膜除去する工程からなる。こ
の脱膜工程は現像液中で行われてもよいが、特に、該現
像液に浸漬した後、水洗工程で非画像部の有機被覆層を
除去することが、現像液の疲労を減少でき、補充量、即
ち廃液量が減らせるので好ましい。本発明の処理方法は
、現像液を満たした皿に該感光性複写材料を浸漬するこ
とからなる、いわゆる皿現にも適用できるが、本発明の
効果を十分に引き出すには、自動現像機による処理が最
も好適である。

【００９９】該自動現像機処理において、露光済みの感
光性複写材料を現像液に浸漬する方法としては、該感光
性複写材料を水平搬送する装置と、現像液槽およびスプ
レー装置からなる自動現像機において、水平に搬送しな
がら、ポンプで汲み上げた現像液をスプレーノズルから
吹き付けて現像液の薄膜を該複写材料上に形成させるの
が一般的である。また、現像液が満たされた現像処理槽
中に液中ガイドロールなどによって該感光性複写材料を
浸漬搬送させて現像処理する方法も好適に適用できる。

【０１００】本発明による現像処理は、現像液が該第２
有機被覆層に浸透し、感光層に達して、非画像部となる
べき部分の第１有機被覆層を溶解するのに十分な時間と
温度（現像液温度）を必要とする。この現像条件は感光
性複写材料の現像し易さと、現像液の強さによって決め
られるが、好ましい現像時間は３〜９０秒であり、より
好ましくは５〜３０秒である。また、現像温度は１０〜
５０℃が好ましく、より好ましくは２０〜４０℃である
。この範囲よりも短時間、低温側では、現像が不十分に
なり易く、また長時間および高温条件では、第２有機被
覆層の一部の現像液への溶出がみられ本発明の目的にそ
ぐわない。

【０１０１】現像液に浸漬された感光性複写材料は、一
対のローラーなどで現像液を除かれた後、続く水洗部に
搬送される。水洗部は水を供給するスプレーノズル、非
画像部の有機被覆層を物理的に除去する回転ブラシなど
の脱膜装置、除去された有機被覆層のカスを回収するフ
ィルターおよび余剰の水を系外に放出するオーバーフロ
ーからなる。

【０１０２】新鮮水の供給量は、水洗部に持ち込まれた
現像液をそのまま放出しても環境汚染の問題を生じない
濃度まで希釈できる量が望ましく、その量は毎分５〜３
０リットルが好ましい。この場合、一度使用した水洗水
を溜めて置き、それを予備水洗に用いるのが、水洗効率
および節水上好ましい。有機被覆層の除去は、回転、摺
動する筒状ブラシ、左右に摺動する平面ブラシ、水平に
前後左右に動く平面ブラシなどの各種ブラシによる方法
や圧搾空気、高圧水を吹き付ける方法などが用いられる
。

【０１０３】有機被覆層のカスの回収は水の循環系に装
着されたフィルターによって行われる。以上のような処
理によって複写材料が得られるが、これが平版印刷版で
あった場合、更に通常用いられている保護ガム液を塗布
することによって、傷や周辺の汚染物から保護すること
ができる。

【０１０４】

【発明の効果】現像液に難溶性の第２有機被覆層を感光
性複写材料の主成分とし、且つ、該第２有機被覆層を現
像液中に脱膜することなく、続く水洗部で除去すること
により、現像液の処理能力は、著しく向上する。従って
多数枚の処理においても補充液の量は複写材料が持ち出
す分を補填する程度で済み、廃液量が著しく減少できる
。また析出物、ヘドロの発生がなく、廃液の中和処理も
容易である。

【０１０５】さらに、現像性も良好で、得られた平版印
刷版の耐刷性、非画像部の汚れ性にも優れている。また
、水洗部では掻き取られた有機被覆層のカスはフィルタ
ーで回収されるので、後処理も容易である。水洗水の公
害性も低く、処理無しあるいは簡単な後処理で放出でき
る。

【０１０６】

【実施例】以下本発明を実施例により具体的に説明する
。なお、実施例中の「％」は、特に指定のない限り「重
量％」を示すものとする。 ＜実施例１〜５、比較例１〜３＞厚さ０．１５ｍｍの２
Ｓ材アルミニウム板を８０℃に保たれた第三リン酸ナト
リウムの１０％水溶液に３０秒間浸漬して脱脂し、パミ
ススラリーをアルミニウム板上に流しながらナイロンブ
ラッシで砂目立て後、６０℃のアルミン酸ナトリウム水
溶液中で１０秒間エッチングし、引続き硫酸水素ナトリ
ウム３％水溶液で洗浄した。このアルミニウム板を２０
％硫酸中で電流密度２Ａ／ｄｍ２　において２分間陽極
酸化し、その後、７０℃の２．５％ケイ酸ナトリウム水
溶液で１分間処理し、アルミニウム板支持体Ａを作製し
た。このように処理された基板Ａの表面に、下記組成の
下塗り液（Ｉ）を塗布し９０℃１分間乾燥した。乾燥後
の被覆量は２０ｍｇ／ｍ２であった（実施例１）。

【０１０７】（Ｉ）　　フェニルリン酸　　　　　　０
．１ｇメタノール　　　　　　　　　　９５ｇ水　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　５ｇ同様にして下
塗り液（Ｉ）のフェニルリン酸の代りに、フェニルホス
ホン酸（実施例２）、ナフチルリン酸（実施例３）、フ
ェニルホスフィン酸（実施例４）、ジフェニルホスフィ
ン酸（実施例５）を用いた下塗り液を２０ｍｇ／ｍ２と
なるように基板Ａに塗布した支持体を作製した。

【０１０８】一方比較のために下塗り液を塗布してない
支持体（比較例１）を作製した。またさらに比較のため
に、支持体Ａで陽極酸化処理までしたものに（Ｉ）液を
塗布した支持体（比較例２）も作製した。また（Ｉ）液
を塗布しない支持体も使用した（比較例３）。米国特許
第３，６３５，７０９　号明細書の実施例１に記載され
ているアセトンとピロガロールの縮重合により得られる
ポリヒドロキシ化合物のナフトキノン−１，２−ジアジ
ド−５−スルホン酸エステル３重量部とノボラック型フ
ェノールホルムアルデヒド樹脂１重量部を２０重量部の
酢酸−２−メトキシエチルと２０重量部のメチルエチル
ケトンに溶解して感光液を調製し乾燥重量にして約０．
４ｇ／ｍ２になるように実施例１〜５、比較例１〜３の
支持体上に塗布、乾燥した。

【０１０９】次に、ポリアクリル酸エステル共重合体の
ラテックス（商品名、ジュリマーＳＥＫ１０１、固形分
濃度４０％、日本純薬（株）製）２０重量部を水９０重
量部で希釈し、更に、染料（商品名、ビクトリアピュア
ブルーＢＯＨ、保土谷化学（株）製）０．０５重量部を
溶解し、上記ｏ−キノンジアジド感光層のうえに乾燥重
量にして２．０ｇ／ｍ２になるように塗布、乾燥し二層
塗布型感光性平版印刷版を得た（Ａ群とする）このよう
にして得られたＡ群の二層塗布ポジ型感光性平版印刷版
にポジ画像原稿フイルムを密着させて、３ｋｗメタルハ
ライドランプを光源とするプリンター（商品名、アイロ
ータリープリンターＰ−３１１Ｘ、アイグラフィックス
（株）製）で４０秒間露光を行った。

【０１１０】別に、版材を自動搬送する装置および液面
に空気遮断板をもち、後半に液中回転ブラシを設けた浸
漬型現像部とそれに続く水洗部を有する自動現像機を準
備し、その現像槽に、 　　　　原液（１：４に水で希釈して使用する）　　　
　水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
７５重量部　　　　炭酸水素カリウム　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　３．５重量部　　　　炭酸カリウム　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　７重量部　　　　ペレックスＮＢＬ（花
王アトラス（株）製）　　　　　　　　　　２０重量部
　　　　フェニルセロソルブ　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２重量
部から成る現像液を仕込み、３０℃に保温した。

【０１１１】次いで、前述の露光済みの感光性平版印刷
版を２５秒間該現像液に浸漬するような速度で搬送した
。該感光性平版印刷版の露光部は現像槽中で有機被覆層
が回転摺動ブラシによって掻き取られ、基板のアルミニ
ウム表面が露出した。このようにして得られた平版印刷
版の表面に保護ガム液（商品名、ＧＵ−７、富士写真フ
イルム（株）製）の２倍希釈液を塗布した後、オフセッ
ト印刷機にかけて印刷した。この時の修正跡汚れと、非
画像部の残色の結果と、耐刷力の結果を表１に示した。 表１の結果から、本発明による感光性平版印刷版は、比
較例に比べて、残色、汚れ、耐刷力のいずれも充分な性
能であることがわかる。

【０１１２】一方、同様の現像処理を、版材によって消
費される現像液活性度の減少分を補充液（上記現像液と
同一組成）で補いながら多数枚の感光性平版印刷版を用
いて行った。その結果、補充量は僅か約３０ｃｃ／ｍ２
で済み、この感光材料と処理方法による現像液の疲労が
少ないことが認められた。

【０１１３】この時、複写材料による現像液の持ち出し
量は約１０ｃｃ／ｍ２であったので、約２０ｃｃ／ｍ２
のオーバーフロー廃液を生じた。 　　〔表１〕　　　　　　Ａ群−現像液中脱膜────
─────────────────────────
──────　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　支　　　　持　　　　体　　　　　　　　　　　　　
　印刷時　　残色＊１　　耐刷力　　　　　　　　　　
　　　　　　陽極　　親水　　　　下塗り　　　　　　
　　　　　　の修正　　　　　　　　　　（枚数）　　
　　　　　　　　　　　　　　酸化　　化処　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　跡汚れ　　　　　
　　　　　　　　　　　処理　　理　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　─────────────
──────────────────────　　　
　　　実施例１　　あり　　あり　　フェニルリン酸　
　　　　　　　なし　　　　０．０１　　　　１０万　
　　　　　　　〃　　２　　あり　　あり　　フェニル
ホスホン酸　　　　なし　　　　０．０２　　　　１０
万　　　　　　　　〃　　３　　あり　　あり　　ナフ
チルリン酸　　　　　　　　なし　　　　０．０１　　
　　１０万　　　　　　　　〃　　４　　あり　　あり
　　フェニルホスフィン酸　　なし　　　　０．０２　
　　　１０万Ａ群　　　　〃　　５　　あり　　あり　
　ジフェニル　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　ホスフィン酸　　　　　　　　　　
なし　　　　０．０１　　　　１０万　　　　　　──
─────────────────────────
─────　　　　　　比較例１　　あり　　あり　　
なし　　　　　　　　　　　　ややあり　　　　０．０
４　　　１万以下　　　　　　　　〃　　２　　あり　
　なし　　フェニルリン酸　　あり　　　　　　　　０
．０７　　　　　８万　　　　　　　　　　〃　　３　
　あり　　なし　　なし　　　　　　　　　　　　あり
（地汚）０．１５　　　　１２万──────────
─────────────────────────
＊１）現像後の非画像部の濃度と塗布前の支持体の濃度
の差（△Ｄ）で表示した。 ＜実施例６〜１０、比較例４〜６＞版材を自動搬送する
装置および液面に空気遮断板をもつ浸漬型現像部とそれ
に続く水洗脱膜部を有する自動現像機を準備し、その現
像槽に、実施例１〜５、比較例１〜３と同じ現像液を仕
込み、３０℃に保温した。

【０１１４】次いで、Ａ群の露光済みの感光性平版印刷
版を２５秒間該現像液に浸漬するような速度で搬送した
。該感光性平版印刷版の露光部は現像槽中では現像液の
浸透がみられたが、有機被覆層が溶出することはなかっ
た。有機被覆層は続く水洗部で、回転摺動ブラシによっ
て掻き取られ、基板のアルミニウム表面が露出した。 このようにして得られた平版印刷版の表面に保護ガム液
（商品名、ＧＵ−７、富士写真フィルム（株）製）の２
倍稀釈液を塗布した後、オフセット印刷機にかけて印刷
した。この時の修正跡汚れと、非画像部の残色の結果と
、耐刷力の結果を表２に示した。表２の結果から、本発
明による感光性平版印刷版は、比較例に比べて、残色、
汚れ、耐刷力のいずれも充分な性能であることがわかる
。

【０１１５】一方、同様の現像処理を、版材によって持
ち出される現像液の減少分を実施例１〜５、比較例１〜
３の補充液で補いながら多数枚の感光性平版印刷版を用
いて行った。その結果、補充量はいずれも僅か約１０ｃ
ｃ／ｍ２で済み、この感光材料と処理方法による現像液
の疲労が著しく少ないことが認められた他、長期間、多
量の処理でも現像槽中にカス・ヘドロの発生はみられな
かった。

【０１１６】また、水洗部においても、掻き取られた有
機被覆層のカスは処理中の印刷版に付着することなく、
徐々に循環系に装着されたフィルターによって回収され
た。 　　〔表２〕　　　　　　Ａ群−水洗水中脱膜────
─────────────────────────
──────　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　支　　　　持　　　　体　　　　　　　　　　　　　
　印刷時　　残色＊１　　耐刷力　　　　　　　　　　
　　　　　　陽極　　親水　　　　下塗り　　　　　　
　　　　　　の修正　　　　　　　　　　（枚数）　　
　　　　　　　　　　　　　　酸化　　化処　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　跡汚れ　　　　　
　　　　　　　　　　　処理　　理　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　─────────────
──────────────────────　　　
　　　実施例６　　あり　　あり　　フェニルリン酸　
　　　　　　　なし　　　　０．０１　　　　１０万　
　　　　　　　〃　　７　　あり　　あり　　フェニル
ホスホン酸　　　　なし　　　　０．０２　　　　１０
万　　　　　　　　〃　　８　　あり　　あり　　ナフ
チルリン酸　　　　　　　　なし　　　　０．０１　　
　　１０万　　　　　　　　〃　　９　　あり　　あり
　　フェニルホスフィン酸　　なし　　　　０．０２　
　　　１０万Ａ群　　　　〃　　１０　　あり　　あり
　　ジフェニル　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　ホスフィン酸　　　　　　　　　
　なし　　　　０．０１　　　　１０万　　　　　　─
─────────────────────────
──────　　　　　　比較例４　　あり　　あり　
　なし　　　　　　　　　　　　ややあり　　　　０．
０４　　　１万以下　　　　　　　　〃　　５　　あり
　　なし　　フェニルリン酸　　あり　　　　　　　　
０．０７　　　　　８万　　　　　　　　　　〃　　６
　　あり　　なし　　なし　　　　　　　　　　　　あ
り（地汚）０．１５　　　　１２万─────────
─────────────────────────
─＊１）現像後の非画像部の濃度と塗布前の支持体の濃
度の差（△Ｄ）で表示した。 ＜実施例１１〜１５、比較例７〜９＞まず混合比１：１
（重量比）のｎ−プロピルアルコールとメチルアルコー
ルの混合液を準備し、この混合液に実施例１〜５、比較
例１〜３において使用したｏ−キノンジアジド感光層が
難溶であることを確認した。このアルコール混合液１０
０重量部にスチレン−無水マレイン酸共重合体ハーフエ
ステル（商品名、スチライトＨＳ、大同工業（株）製）
８重量部、染料（商品名、オイルブルー＃６０３、オリ
エント化学（株）製）、０．０５重量部を溶解し、上記
ｏ−キノンジアジド感光層の上に乾燥重量にして２．０
ｇ／ｍ２になるように塗布、乾燥し二層塗布型感光性平
版印刷版を得た（Ｂ群とする）このようにして得られた
Ｂ群の二層塗布ポジ型感光性平版印刷版にポジ画像原稿
フイルムを密着させて、３ｋｗメタルハライドランプを
光源とするプリンター（商品名、アイロータリープリン
ターＰ−３１１Ｘ、アイグラフィックス（株）製）で４
０秒間露光を行った。

【０１１７】別に、版材を自動搬送する装置および液面
に空気遮断板をもち、後半に液中回転ブラシを設けた浸
漬型現像部とそれに続く水洗部を有する自動現像機を準
備し、その現像槽に、 　　　　原液（１：４に水で希釈して使用する）　　　
　水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
７５重量部　　　　炭酸水素カリウム　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　３．５重量部　　　　炭酸カリウム　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　７重量部　　　　ペレックスＮＢＬ（花
王アトラス（株）製）　　　　　　　　　　２０重量部
　　　　フェニルセロソルブ　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２重量
部からなる現像液を仕込み、３０℃に保温した。

【０１１８】次いで、前述の露光済みの感光性平版印刷
版を２５秒間該現像液に浸漬するような速度で搬送した
。該感光性平版印刷版の露光部は現像槽中で有機被覆層
が回転摺動ブラシによって掻き取られ、基板のアルミニ
ウム表面が露出した。このようにして得られた平版印刷
版の表面に保護ガム液（商品名、ＧＵ−７、富士写真フ
イルム（株）製）の２倍希釈液を塗布した後、オフセッ
ト印刷機にかけて印刷した。この時の修正跡汚れと、非
画像部の残色の結果と、耐刷力の結果を表３に示した。 表３の結果から、本発明による感光性平版印刷版は、比
較例に比べて、残色、汚れ、耐刷力のいずれも充分な性
能であることがわかる。

【０１１９】一方、同様の現像処理を、版材によって消
費される現像液活性度の減少分を補充液（上記現像液と
同一組成）で補いながら多数枚の感光性平版印刷版を用
いて行った。その結果、補充量は僅か約３０ｃｃ／ｍ２
で済み、この感光材料と処理方法による現像液の疲労が
少ないことが認められた。

【０１２０】この時、複写材料による現像液の持ち出し
量は約１０ｃｃ／ｍ２であったので、約２０ｃｃ／ｍ２
のオーバーフロー廃液を生じた。 　　〔表３〕　　　　　　Ｂ群−現像液中脱膜────
─────────────────────────
──────　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　支　　　　持　　　　体　　　　　　　　　　　　　
　印刷時　　残色＊１　　耐刷力　　　　　　　　　　
　　　　　　陽極　　親水　　　　下塗り　　　　　　
　　　　　　の修正　　　　　　　　　　（枚数）　　
　　　　　　　　　　　　　　酸化　　化処　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　跡汚れ　　　　　
　　　　　　　　　　　処理　　理　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　─────────────
──────────────────────　　　
　　　実施例１１　　あり　　あり　　フェニルリン酸
　　　　　　　　なし　　　　０．０１　　　　１０万
　　　　　　　　〃　　１２　　あり　　あり　　フェ
ニルホスホン酸　　　　なし　　　　０．０２　　　　
１０万　　　　　　　　〃　　１３　　あり　　あり　
　ナフチルリン酸　　　　　　　　なし　　　　０．０
１　　　　１０万　　　　　　　　〃　　１４　　あり
　　あり　　フェニルホスフィン酸　　なし　　　　０
．０２　　　　１０万Ｂ群　　　　〃　　１５　　あり
　　あり　　ジフェニル　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　ホスフィン酸　　　　　
　　　　　なし　　　　０．０１　　　　１０万　　　
　　　──────────────────────
──────────　　　　　　比較例７　　あり　
　あり　　なし　　　　　　　　　　　　ややあり　　
　　０．０４　　　１万以下　　　　　　　　〃　　８
　　あり　　なし　　フェニルリン酸　　あり　　　　
　　　　０．０７　　　　　８万　　　　　　　　　　
〃　　９　　あり　　なし　　なし　　　　　　　　　
　　　あり（地汚）０．１５　　　　１２万─────
─────────────────────────
─────＊１）現像後の非画像部の濃度と塗布前の支
持体の濃度の差（△Ｄ）で表示した。 ＜実施例１６〜２０、比較例１０〜１２＞版材を自動搬
送する装置および液面に空気遮断板をもつ浸漬型現像部
とそれに続く回転揺動ブラシを設置した水洗脱膜部を有
する自動現像機を準備し、その現像槽に、実施例１〜５
、比較例１〜３と同じ現像液を仕込み、３０℃に保温し
た。

【０１２１】次いで、Ｂ群の露光済みの感光性平版印刷
版を２５秒間該現像液に浸漬するような速度で搬送した
。該感光性平版印刷版の露光部は現像槽中では現像液の
浸透がみられたが、有機被覆層が溶出することはなかっ
た。有機被覆層は続く水洗部で、回転摺動ブラシによっ
て掻き取られ、基板のアルミニウム表面が露出した。 このようにして得られた平版印刷版の表面に保護ガム液
（商品名、ＧＵ−７、富士写真フィルム（株）製）の２
倍稀釈液を塗布した後、オフセット印刷機にかけて印刷
した。この時の修正跡汚れと、非画像部の残色の結果と
、耐刷力の結果を表４に示した。表４の結果から、本発
明による感光性平版印刷版は、比較例に比べて、残色、
汚れ、耐刷力のいずれも充分な性能であることがわかる
。

【０１２２】一方、同様の現像処理を、版材によって持
ち出される現像液の減少分を実施例１〜５、比較例１〜
３の補充液で補いながら多数枚の感光性平版印刷版を用
いて行った。その結果、補充量はいずれも僅か約１０ｃ
ｃ／ｍ２で済み、この感光材料と処理方法による現像液
の疲労が著しく少ないことが認められた他、長期間、多
量の処理でも現像槽中にカス・ヘドロの発生はみられな
かった。

【０１２３】また、水洗部においても、掻き取られた有
機被覆層のカスは処理中の印刷版に付着することなく、
徐々に循環系に装着されたフィルターによって回収され
た。 　　〔表４〕　　　　　　Ｂ群−水洗水中脱膜────
─────────────────────────
──────　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　支　　　　持　　　　体　　　　　　　　　　　　　
　印刷時　　残色＊１　　耐刷力　　　　　　　　　　
　　　　　　陽極　　親水　　　　下塗り　　　　　　
　　　　　　の修正　　　　　　　　　　（枚数）　　
　　　　　　　　　　　　　　酸化　　化処　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　跡汚れ　　　　　
　　　　　　　　　　　処理　　理　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　─────────────
──────────────────────　　　
　　　実施例１６　　あり　　あり　　フェニルリン酸
　　　　　　　　なし　　　　０．０１　　　　１０万
　　　　　　　　〃　　１７　　あり　　あり　　フェ
ニルホスホン酸　　　　なし　　　　０．０２　　　　
１０万　　　　　　　　〃　　１８　　あり　　あり　
　ナフチルリン酸　　　　　　　　なし　　　　０．０
１　　　　１０万　　　　　　　　〃　　１９　　あり
　　あり　　フェニルホスフィン酸　　なし　　　　０
．０２　　　　１０万Ｂ群　　　　〃　　２０　　あり
　　あり　　ジフェニル　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　ホスフィン酸　　　　　
　　　　　なし　　　　０．０１　　　　１０万　　　
　　　──────────────────────
──────────　　　　　　比較例１０　　あり
　　あり　　なし　　　　　　　　　　　　ややあり　
　　　０．０４　　　１万以下　　　　　　　　〃　　
１１　　あり　　なし　　フェニルリン酸　　あり　　
　　　　　　０．０７　　　　　８万　　　　　　　　
　　〃　　１２　　あり　　なし　　なし　　　　　　
　　　　　　あり（地汚）０．１５　　　　１２万──
─────────────────────────
────────＊１）現像後の非画像部の濃度と塗布
前の支持体の濃度の差（△Ｄ）で表示した。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　陽極酸化処理し、その後に親水化処理
   を施したアルミニウム板上に有機下塗層を設け、その上
   に順に、■活性光線の照射によってアルカリ水可溶性が
   増大する感光性の第１有機被覆層および■皮膜形成能を
   有し、水不溶性の高分子化合物を含む第２有機被覆層を
   設けたことを特徴とする感光性複写材料。
2. 【請求項２】　　請求項（１）記載の感光性複写材料を
   画像露光した後、現像する処理方法において、上記水不
   溶性の第２有機被覆層に浸透するがこれを溶解しない現
   像液に浸漬した後、該現像液中、又は続く水洗工程で非
   画像部の有機被覆層を除去することを特徴とする感光性
   複写材料の処理方法。