DE2461912A1

DE2461912A1 - Verfahren zur bildausbildung

Info

Publication number: DE2461912A1
Application number: DE19742461912
Authority: DE
Inventors: Masaru Watanabe
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1974-12-24
Filing date: 1974-12-31
Publication date: 1976-07-08
Also published as: GB1494640A

Description

Verfahren zur Bildausbildung Die Erfindung befasst sich mit der Wiedergabe eines Bildes unter Anwendung einer o-Chinondiazidverbindung als lichtempfindliche Komponente. Insbesondere betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Wiedergabe eines positiven Bildes von einem negativen Bild.
Gemäss der Erfindung wird ein Verfahren zur Ausbildungr eines Bildes angegeben, welches in der bildweisen Belichtung eines lichtempfindlichen Vervielfältigungselementes, das einen Träger mit einer darauf befindlichen lichteir;ofindlichen Schicht mit dem Gehalt einer p-Chinondiazicverbindung und einer hydroxylgruppenhaltigen Verbindung u;nfasst, Erhitzen der lichtempfindlichen Schicht gleichzeitig mit oder nach der bildweisen Belichtung, Bestrahlung mindestens der nicht-belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht mit aktiven Strahlen und anschliessender =,ltwicklung der lichtempfindlichen Schicht zur Entfernung der unbelichteten Bereicl;r besteht.
Es ist bekannt, dass o-Chinondiazidverbindungen lichtempfindliche materialien sind und dass lichtempfindliche Komponenten von licht empfindlichen Schichten zur Anwendung in lichtempfindlichem Druckplatten, Widerstandsprojektior.sbilder für die Photoätzung oder dgl. verwendet werden.
Falls die o-Chinondiazidverbindung mit aktiven strahlen bestrahlt wird, wird die darin enthaltene Diazogruppe zersetzt und es bildet sich eine carboxylgruppenhaltige Verbindung. Falls deshalb eine eine derartige o-Ghinondiazidverbindung enthaltende Vervielfältlgungsschicht auf einem Träger belichtet und mit eines alkalischen Entwickler entwickelt wird, werden die belichteten Bereiche von dem Trager entfernt und die unbelichteten Bereiche bilden das Bild.
Das heisst, die Ausbildung des Bildes ist vom sogenannten Positiv-Positiv-Typ.
Falls andererseits eine feste, eine freie primäre Aminogruppe enthaltende Verbindung in Kombination mit der o-Chinondiazidverbindung vorliegt, werden die belichteten Bereiche unlöslich gemacht. Somit werden die unbelichteten Bereiche entfernt und die belichteten Bereiche bilden das Bild. Das heisst, es kann eine lichtempfindliche Vervielfältigungsschicht vom Negativ-Positiv-Typ erhalten werden.
Jedoch sind bisher keine Verfahren bekannt, welche Bilder sowohl von Positiv-Positiv-Typ als auch vom Negative Positiv-iyp bei Anwendung eines lichtempfindlichen Vervielfältigungselenentes mit der gleichen lichtempfindlichem Vervielfältigungsschicht, welche die o-Chinondiazidverbindung enthält, bilden.
Infolge ausgedehnter Untersuchungen nach einem Verfahren zur Ausbildung eines Bildes vom Negativ-Positiv-Typ unter Anwendung einer Vervielfältigungsschicht, die eine o-Chinondiazidverbindung, wie sie gewöhnlich zur Ausbildung eines Bildes vom Positiv-Positiv-Typ verwendet wird, enthält, wurde die vorliegende Erfindung erreicht.
Eine Aufgabe der Erfindung besteht in einem Verfahren zur Ausbildung eines Bildes vom Negativ-Positiv-Typ durch Anwendung einer Vervielfältigungsschicht, welche eine o-Chinondiazidverbindung enthält, wie sie gewöhnlich zur Bildung eines Bildes vom Positiv-Positiv-Typ verwendet wird.
Auf Grund der Erfindung ergibt sich somit ein Verfahren zur Ausbildung eines Bildes, welches die bildweise Belichtung unter Anwendung von aktiven Strahlen eines lichtempfindlichem Vervielfältigungselenemtes, welches einen Träger mit einer darauf befindlichen lichtempfindlichen Schicht mit dem Gehalt einer o-Chinondiazidverbindung und einer hydroxylgruppenhaltigen Verbindung aufweist, und die gleichzeitig mit der bildweisen Belichtung oder nach der bildweisen Belichtung erfolgende Bestrahlung der gesamten Oberfläche oder der unbelichteten Bereiche des lichtempfindlichen Elementes mit a'Lçtiven Strahlen und die Entfernung der unbelichteten Bereiche durch die-Entwicklung umfasst.
Die hier verwendeten o-Chimondiazidverbindungen sind solche Verbindungen, die mindestens eine o-Chinondiazidgruppe enthalten und deren Löslichkeit in alkalischer Lösung bei Bestrahlung mit aktiven Strahlen erhöht wird. Verbindungen mit verschiedenen Strukturen sind bekannt und sie sind beispielsweise in J. Kosar, Licht-Sensitive Systems, John Wiley & Sons Inc. beschrieben. Insbesondere werden verschiedene Hydroxyverbindungen und Sulfonsäureester eines o-Bemzochinondiazids oder eines o-Naphthochinondiazids bevorzugt.
Erläuternde Beispiele derartiger o-Chinondiazidverbindungen sind 2,2'-Dihydroxydiphenyl-bïs-(naphthochinon- 1,2-Diazido-5-sulfonsäureester), 2,2',4,4'-Tehtradydroxydiphenyltetra-(naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonsäureester), 2,3,4-Trioxybenzophenon-bis-(naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonsäureester) und ähnliche Naterialien. Insbesondere wird ein Ester eines Polyhydroxyphenyls, welches durch Polykondensation von Aceton und Pyrogallol und Naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonsäure erhalten wurde, bevorzugt.
Die hier verwendeten hydroxylgruppenhaltigen Verbindungen sind solche Verbindungen, welche mindestens eine Hydroxygruppe enthalten, die veräthert oder verestert sein kann. solche Verbindungen umschliessen beispielsweise hydroxylgruppenhaltige H&rz e, wie Phenol-formaldehyd-Novolakharze, Cresol-Formaldehyd-Novolakharze, Cresol-Formaldehyd-Novolakharze, Schellackharze und zusätzlich Monomere, wie Bisphenol A, Pyrogallol, Triäthanolamin und dgl.
Das bevorzugte Verhältnis der hydroxylgruppenhaltigen Verbindung zu der o-Chinondiazidverbindung betragt etwa G,005 : 1 bis 10 : 1 (auf das Gewicht bezogen).
Die hier verwendete lichtempfindliche Vervielfältigungsschicht kann verschiedene Zusätze neben den vorstehend geschilderten Komponenten enthalten. Beispielsweise können pigmente, wie Fhthalocyaninblau und verschiedene Farbstoffe, wie Malachitgrün, bafranin und dgl. , zu der chlt zur erleichterten Beobachtung des Bildes zugesetzt werden.
Weiterhin können einheitlich mit den vorstehend e geschilderten Komponenten verrlischbare Harze, beispielsweise otyrol-Maleinsäureanhydryd-Copolymere, Styrol-Acrylsäure-Copolymere, Methacrylsäure-Methylmethacrylat-Copymere und c?gl. zur Erhöhung der Bilddichte oder zur Anwendung als Binder zugefügt werden. Derartige Verfahren sind jedoch für die Fachleute geläufig.
Die die vorstehend angegebenen Komponenten entheltenden lichtempfindlichen Massen werden auf einen geeigneten Träger, beispielsweise eine Metallplatte, zum Beispiel Aluminiumplatten, Zinkplatten und dgl., Papier, zum Beispiel mit Kunststoffen wie Polyäthylen, Polystyrol und dgl., beschichtete Papiere, Kunststofffilme wie Polyäthylenterephthelatfilme, Cellulosediacetatfilme, Cellulosetriacetatfilme, Nitrocellulosefilme, Polyearbonatfilme, Polyvinylchloridfilme und dgl., zur Herstellung der lichtempfindlichen Vervielfältigungseletnente aufgezogen.
Diese lichtempfindlichen Vervielfältigungseleinente werden bildweise mit aktiven Strahlen unter Anwendung üblicher Verfahren belichtet. Geeignete Lichtquellen für die Belichtung sind Xenonlmpen, Kohlenbogenlampen, Wolframlampen, Fluoreszenzlampen und dgl..
Das Erhitzen gemäß der Erfindung ist ziemlich wichtig und die Unlöslichkeit der belichteten Bereiche wird durch das Erhitzen begfinstigt. Die lichtempfindliche Schicht kann gleichzeitig mit der bildweisen Aussetzung oder nach der bildweisen Aussetzung erhitzt werden. Die Temperatur des Erhitzens muß mindestens etwa 30C betragen und insbesondere wird ein Bereich von 70 bis 20cit bevorzugt. Im Bereich von 30 bis 7BC ist ein Erhitzen während eines relativ langen Zeitraumes erforderlich, während bei einem Erhitzen bei Tem.persatulen oberhalb 2000 C die kpfindlichkeit des unbelichteten Bereiches erniedrigt wird. Deshalb ist es günstig, dass die Heizbehandlung im Bereich von 70 bis 2000 C durchgeführt wird. Das Erhitzen kann nach verschiedenen Verfahren erfolgen, beispielsweise indem das lichtempfindliche Vervielfältigungselement in einen erhitzten Bereich gebracht wird, durch Eintauchen des Elementes in eine erhitzte Flüssigkeit, durch Kontaktieren des Elementes mit einem erhitzten Feststoff oder nach ähnlichen Vorfahren.
Das in der vorstehend geschilderten Weise erhitzte lichtempfindliche Vervielfältigungselement wird mit aktiven Strahlen bestrahlt. Diese Bestrahlungsbehandlung wird so angewandt, dass die lichtempfindliche Schicht in dem bei der vorstehend angewandten bildweisen Aussetzung gebildeten unbelichteten Bereich bei der hierauf angewandten lntwicklung entfernt wird. Deshalb ssen mindestens die unbelichteten Bereiche mit aktiven Strahlen bestrahlt werden. Da jedoch die belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht nicht mehr weiter lichtempfindlich sind, sind sie in dieser Stufe somit vollständig frei von irgendwelchen Anderungen auf Grund der Bestrahlung mit aktiven Strahlen. Deshalb ist eine Gesamtaussetzung der lichtempfindlichen Schicht an die aktiven Strahlen vom Gesichtspunkt der Arbeitsvereinfachung vorteilhaft.
Nach den vorstehend geschilderten Behandlungen. wird das Element entwickelt, wobei die unbelichteten Bereiche gelöst und entfernt werden. Der bei der Entwicklung verwendete Entwickler kann aus an sich bekannten Entwicklern bewählt werden, wie sie bisher zur Herstellung von Bildern vom Positiv-Positiv-Typ unter Anwendung einer o-Chinondiazidverbindung verwendet werden. Hierbei wird die Entwicklung durch Eintauchen des Elementes oder Wäsche des Elementes mit einer alkalischen Lösung durchgeführt. Bevorzugte alkalische Lösungen sind solche wässrige Lösungen, die basiche Materialien, wie Natriumhydroxyd, Kaliumhydroxyd, Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Natriumtriphosphat, Kaliumtriphosphat, Kaliumcarbonat oder Äthanolamin, enthalten.
In einigen Fällen können Zusätze, wie organische Lösungsmittel, oberflächenaktive Mittel und dgl., zugefügt werden.
Gemäss der Erfindung wird die Ausbildung eines Bildes vom Negativ-Positiv-Typ möglich, wenn ein Vervielfältigungselement zur Ausbildung eines Bildes vom Positiv-ositiv-Typ, worin eine o-Chirondiazidl7erbindun£ verwendet wird, eingesetzt wird. Deshalb ist es nicht notwendig, ein Vervielfältigungselement in Abhängigkeit von der Art des Originalbildes, d. h. positiv oder negativ, zu wählen.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand der Beispiele im einzelnen erläutert, ohne dass sie hierauf begrenzt ist. Sämtliche Prozcntr-r?)tze, Teile, Verhältnisse und dgl.
sind auf das Gewicht bezogen, falls nichts anderes angegeben ist.
Beispiel 1 Auf eine 0,1 mm dicke und transparente Polyesterbahn, die gut gewaschen und getrocknet war, wurde eine durch xuflösung von Teilen Naphtochinon-1,2-diazido-5-sulfonsäure ester eines Polyhydroxyphenyls, das durch Polykondensation von aceton und Pyrogallol entsprechend Beispiel , der japanischen Patent-Veröffentlichung 28403/1968 hergestellt worden war, 0,4 Teilen Triäthanolamin und 0,05 Teilen eines Farbstoffes (Ölblau der Orient Ohemical Co., Ltd.) 50 Teilen Äthylenglykolmonomethyläther erhaltene Lösung mittels einer Drehüberzugsmaschine aufgezogen und getrocknet.
Die auf diese Weise hergestellte lichtempfindliche Platte wurde während 2 Minuten durch ein negatives Originalbild eines Lichtfilmes an Strahlung aus einer Kohlenbogenlampe mit 30 Ampere bei einem Trennabstand von Lichtquelle zur Platte von 50 cm ausgesetzt.
Die auf diese Weise belichtete lichtempfindliche Platte wurde in zwei Stücke geschnitten. Ein Element wurde durch Eintauchung des Elementes in eine 3%ige Natriumsilicatlösung während 1 Minute entwickelt, so dass die belichteten Bereiche gelöst wurden und die unbelichteten Bereiche ein Bild bildeten. Das andere Element wurde in einen thermostatisch bei 1000 C gehaltenen Bereich während 5 Minuten stehengelassen und dann wurde die gesamte Oberfläche des Elementes an Strahlung der vorstehenden Kohlenbogenlampe von 30 Ampere mit einem Trennabstand von Lichtquelle zu Platte von 50 cm während 2 Minuten ausgesetzt. Wenn das Element durch Eintauchung desselben in eine wässrige 3°/Oige Natriumsilicatlösung während 1 Minute entwickelt wurde, wurden die bei der bildweisen Belichtung ausgebildeten unbelichteten Bereiche gelöst und die belichteten Bereiche verblieben als Bild. Dieses Element konnte als Originalzeichnung zur Projektion verwendet werden.
Beispiel 2 In 50 Teilen sthylenglykolmonomethylather wurden Teile 2,3,4-Trioxybenzophenon-bis-(naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonsäureester) und 2 Teile eines m-Cresol-Formaldehydharzes gelöst. Die erhaltene Lösung wurde auf eine gekörnte Aluminiumplatte aufgezogen.
Das auf diese Weise hergestelltichtempflndliche'Element wurde während 5 Minuten durch ein negatives Originalbild wie in Beispiel 1 belichtet und dann in einen Thermostaten bei 150°C erhintzt und die gesamte Oberfläche des Elementes erneut belichtet.
Wenn das Element durch Eintauchung in eine wässrige ziege Natriumsilicatlosung während 1 Minute entwickelt wurde, wurden die unbelichteten Bereiche gelöst und die belichteten Bereiche bildeten das Bild.
Beispiel 3 In 50 Teilen Athylenglykolmonomethyläther wurden 1 Teil N>phthochinon-1,2-aiazido-5-sulfonsäureester eines Polyhydroxyphenyls, welches durch Polykondensation von Aceton und Pyrogallol entsprechend Beispiel 1 hergestellt worden war, 3 Teile eines m-Cresol-Formaldehydharzes, 0,4 Teile Triäthanolamin und 0,02 Teile eines Farbstoffes (Ölblau der Orient Chemical Co., Ltd.) gelöst. Die erhaltene Lösung wurde auf eine gekörnte Aluminiumplatte aufgezogen.
Das dabei erhaltene Element wurde während 30 Sekunden durch ein negatives Bild an Strahlung einer 3 Phasen-Kohlenbogenlampe von 65 Ampere bei einem Trennabstand von Lichtquelle und Platte von 70 cm ausgesetzt.
Ein Teil des Elementes wurde abgeschnitten und dieser Teil mit einer 5%igen Natriumsilicatlösung entwickelt, wodurch die belichteten Bereiche eluiert wurden. Die unbelichteten Bereiche bildeten ein Bild entsprechend dem negativen Originalbild. Der Rest des Stückes wurde in einem Luftthermostat bei 1000 C während 5 Minuten stehengelassen und dann wurde eine Kohlenbogenlampenbelichtung auf die gesamte Oberfläche des Stückes während 30 Sekunden ausgeübt. Das Stück wurde dann mit einer wässrigen, 5%igen Natriumsilicatlösung entwickelt, so dass die unbelichteten Bereiche entfernt wurden und die belichteten Bereiche ein positives Bild entsprechend den negativen Originalplatte bildeten.
Wenn die vorstehende negative Bildplatte und positive Bildplatte als Druckplatte für einen ueblichen Offsetdruck verwendet wurden, wurden gute Druckergebnisse erhalten.
Beispiel 4 Die in Beispiel 3 hergestellte lichtempfindliche Platte wurde auf eine bei 800 C gehaltene Eisenplatte gelegt und ein negatives Originalbild und eine Glasplatte wurden auf die lichtempfindliche Platte aufgelegt. Dann wurde die lichtempfindliche Platte während 3 Minuten an Licht von einer Kohlenbogenlampe mit 30 Ampere in einem Abstand von 70 cm ausgesetzt. Nach der Anwendung der Belichtung während 3 Minuten auf die gesamte Oberfläche der lichtempfindliche Platte bei Raumtemperatur wurde die lichtempfindliche Platte unter Anwendung einer Sien wässrigen Natriumsilicatlösung entwickelt und dabei die bei der ersten Belichtung gebildeten unbelichteten Bereiche entfernt, während die belichteten Bereiche das Bild bildeten. Wenn die erhaltene Platte als Offset-Druckplatte verwendet wurde, wurden gute Ergebnisse erhalten.
Beispiel 5 Das in Beispiel 3 hergestellte Element wurde in heisses Wasser von 900 C während 15 Minuten eingetaucht, anstelle dass es im Thermostaten stehengelassen wurde. In diesem all wurden gleich gute Ergebnisse erhalten.
Beispiel 6 In 50 Teilen Athylenglykolinonomethyläther und Methylcellosolve wurden 2 Teile des Esters eines Polyhydroxyphenyls, welches durch Polykondensation von Aceton und Pyrogallol entsprechend Beispiel 1 hergestellt worden war, und Naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonsäure, 1 Teil Shellakharz und 1 Teil Pyrogallol gelöst. Die erhaltene Lösung wurde auf eine gekörnte Aluminiumplatte aufgezogen.
Die auf diese Weise hergestellten lichtempfindliche Platte wurde während 1 Minute durch eine negative Orginalplatte an Licht von einer 3 Phasen-Kohlenbogenlampe von 65 Ampere mit einem Trennabstand von Lichtquelle zu Platte von 70 cm ausgesetzt. Dann wurde die Platte in einem Luftthermostat bei 100°C während 10 Minuten erhintzt und dann wurde während 1 Minute eine Bogonlanpenaussetzung auf die gesamte Oberfläche der Platte durchgeführt. Bei der Entwicklung mit einer wässrigen, 1,5%'eigen fTatriunsilicatlösung bildeten die bei der ersten Belichtung ausgebildeten belichteten Bereiche das Bild.
Die Erfindung wurde vorstehend anhand spezifischer Ausführungsformen beschrieben, ohne dass die Erfindung hierauf begrenzt ist.

Claims

Patentan snrüche

1. Verfahren zur Ausbildung eines Bildes, dadurch gekennzeichnet, dass bildweise ein lichtempfindiches Verviel fältigungselement, welches einen Träger mit einer darauf befindlichen lichtempfindllchen Schicht mit dem Gehalt einer o-Ohinondiazidverbindung und einer hydro;ylgruppenhaltigen Verbindung umfaßt, mit aktiven Strahlen belichtet wird, die lichtempfindliche Schicht gleichzeitig mit der bildweisen Belichtung oder nach der bildweisen Belichtung erhitzt wird, mindestens die unbelichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht mit aktiven Strahlen bestrahlt worden und die lichtempfindliche Schicht unter rtfernun der unbelichteten Bereiche entwickelt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass als o-Ohinondiazidverbindung 2,2'-Dihydroxydiphenylbis-(naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonsäureester), 2,2'-4,4'-Tetrahydroxydiphenyltetra-(naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonsäureester) und 2,3,4-Trioxybenzophenon-bis-(naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonsäureester verwendet werden.

3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass als o-Chinondiazidverbindung ein Ester eines Polyhvdroxyphenols verwendet wird, welches durch Polykondensation von Aceton und Pyrogallol und Naphthochinon-1,2-diazido-5-sulfonsäure gebildet wurde.

4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass als hydroxylgruppenhaltige Verbindung ein Phenol-Formaldehyd-Novolakharz, ein Cresol-Formaldehyd-Novolakharz, ein Cresol-Fomaldehyd-Novolakharz oder ein Schellackharz verwendet wird.

5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass als hydroxylgruppenhaltige Verbindung Bisphenol A, Pyrogallol oder Triäthanolamin verwendet wird.

6. Verfahren nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass ein Gewichtsverhältnis der hydroxylgruppenhaltigen Verbindung zu der o-Chinondiazidverbindung von etwa 0,005 : 1 bis 10 : 1 angewandt wird.

7. Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass ein lichtempfindliche Schicht, die ein Pigment enthält, angewandt wird.

8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass als Pigment.Phthalocyaninblau angewandt wird.

9. Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass eine lichtempfindliche Schicht, die einen Farbstoff enthalt, angewandt wird.

10. Verfahren nach aspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass als Farbstoff Malachitgrün oder Safranin angewandt wird.

11. Verfahren nach Anspruch 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass eine lichtempfindliche Schicht, die einen Binder enthält, angewandt wird.

12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass als Binder ein Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymeres, ein Styrol-Acrtlsaure-Copolneres ader ein Methacrylsäure-Methylmet'nacrylat-Copolymeres angewandt wird.

13. Verfahren nach Anspruch 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass das Erhitzen bei einer Temperatur von etwa 70 bis 2000 C erfolgt.

14. Verfahren nach Anspruch 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Bestrahlung mit aktiven Strahlen auf die gesamte Oberflache der lichtempfindlichen Schicht nach dem Erhitzen erfolgt.

15. Verfahren nach Anspruch 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Entwicklung der lichtempfindlichen Schicht mit einer alkalischen Lösung erfolgt.