DE2846256A1

DE2846256A1 - Verfahren zur entwicklung positiv wirkender lichtempfindlicher planographischer druckplatten

Info

Publication number: DE2846256A1
Application number: DE19782846256
Authority: DE
Inventors: Akira Nishioka; Hirokazu Sakaki; Hiroshi Takahashi; Kotaro Yamasue
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1977-10-24
Filing date: 1978-10-24
Publication date: 1979-04-26
Also published as: FR2406838A1; FR2406838B1; ATA759678A; AT384896B

Description

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DR. E. WIEGAND DIPL.iMG. W. KIEMANN DR. M. KÖHLER DIPL-ihG. C GEfcNhARDT

München Hamburg Z O 4 U Z D

TELEFON: 55547« (f 8000 MDN CHEN 2,

TELEGRAMME: KARPATENT telex= 529068 KARP D

Herzog-¥ilIieliir-Str. 16 24. Oktober 1978

W. 43295/78 - Ko/G

Fuji Photo Film Co., Ltd. Minami Ashigara-shi, Kanagawa (Japan)

Verfahren zur Entwicklung positiv wirkender lichtempfindlicher pianographischer Druckplatten

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Entwicklung einer positiv wirkenden lichtempfindlichen pianographischen Druckplatte, die gelegentlich als eine vorsensibilisierte Platte bezeichnet wird (nachfolgend eine "PS-Platte") und insbesondere ein Verfahren zur Entwicklung einer positiv wirkenden PS-Platte, die eine o-Chinondiazidverbindung als ein lichtempfindliches Material in einem automatischen Prozessor enthält.

Gemäß der Erfindung wird ein Entwicklungsverfahren angegeben, bei dem eine positiv wirkende lichtempfind-

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liehe pianographische Druckplatte, die einen Aluminiumträger und eine lichtempfindliche Schicht einer darauf gebildeten o-Chinondiazidverbindung enthält, bildweise belichtet wird und dann die belichtete Platte mit einem, eine wässrige Lösung eines Alkalisilicats umfassenden Entwickler entwickelt,/wobei eine Ergänzungslösung, die eine wässrige Lösung eines Alkalisilicats umfaßt, zu dem Entwickler zugefügt wird, um die auf Grund der Entwicklung und/oder durch Kohlendioxid in der Luft herbeigeführte Zersetzung des Entwicklers zu kompensieren, wobei der Entwickler eine wässrige Lösung aus einem Alkalisalz mit einem (SiO₂)/(M)-Verhältnis von 0,5 bis 0,75 und einer Si0₂-Konzentration von 1 bis 4 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, umfaßt, wobei (SiO₂) die Konzentration des SiO₂ je Volumeneinheit ausgedrückt als Gramm-Moleküle, und (M) die Konzentration des Alkalimetalls je Volumeneinheit ausgedrückt als Gramm-Atome, darstellen und die Ergänzungslösung eine wässrige Lösung eines Alkalisilicats mit einem (SiO₂)/(M)-Verhältnis von 0,25 bis 0,75 umfaßt.

Die positiv wirkende PS-Platte, die bisher in weitestem Umfang verwendet wurde, umfaßt einen Aluminiumträger mit darauf ausgebildeter lichtempfindlicher Schicht einer o-Chinondiazidverbindung. Die o-Chinondiazidverbindung ist eine Verbindung, die eine Struktureinheit der nachfolgenden allgemeinen Formel (I) enthält. Es ist bekannt, daß bei Aussetzung an aktinisches Licht diese Verbindung zu einer carboxylgruppenhaltigen Verbindung der nachfolgenden allgemeinen Formel (II) zersetzt wird (vgl. 0. Süs, Liebigs Annalen der Chemie, Bd. 556, S.65 (1944)).

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Wenn somit eine positiv wirkende PS-Platte, die aus einem Aluminiumträger und einer lichtempfindlichen Schicht des o-Chinondiazids besteht, gegenüber aktinischem Licht durch ein Diapositiv ausgesetzt wird, verändert sich die in dem belichteten Bereich der lichtempfindlichen Schicht vorliegende o-Chinondiazidverbindung zu der entsprechenden Carbonsäure. Die Entwicklung der belichteten PS-Platte mit einer wässrigen alkalischen Lösung führt daher lediglich zur Entfernung des belichteten Bereichs der lichtempfindlichen Schicht und die Oberfläche des Trägers wird freigelegt. Da die Oberfläche des Aluminiumträgers hydrophil ist, hält der nicht bedeckte Anteil (Nichtbildbereich) des Trägers Wasser und stößt die in der Planographie verwendete fettige Druckfarbe ab. Der Bereich (BiIdbereich),in dem die lichtempfindliche Schicht nach Entwicklung verbleibt, ist oleophil und stößt Wasser ab, hält jedoch die fettige Druckfarbe.

Es sind verschiedene alkalische wässrige Lösungen zur Verwendung als Entwickler für positiv wirkende PS-Platten bekannt, jedoch wird eine wässrige Natriumsilicatlösung am stärksten bevorzugt. Die wässrige Natriumsilicatlösung besitzt eine schlechte Ätzwirkung, d.h. die Menge,.die geätzt wird,wenn die Aluminiumplatte in eine Natriumsilicatlösung eingetaucht wird, ist geringer als die in einer Natriumhydroxidlösung des gleichen pH-Werts

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auf dem Aluminiumträger, und darüberhinaus kann die Entwicklungsfähigkeit zu gewissem Ausmaß eingestellt werden, indem das Verhältnis von Siliciumdioxid (SiO₂) zu Natriumoxid (Na₂O) in dem Natriumsilicat (im allgemeinen als das Si0₂/Na₂0 Molverhältnis bezeichnet) und die Konzentrationen der Lösung variiert werden.

In den letzten Jahren wurden in der Druckindustrie automatische Prozessoren bzw. Behandlungsgeräte für PS-Platten in weitem Umfang verwendet, um das Plattenherstellungsverfahren zu verbessern und zu standardisieren. Solche, die in allgemeiner Verwendung sind, sind die Entwickler vom Sprühtyp, die in den Figuren 1 und 2 der beiliegenden Zeichnungen schematisch wiedergegeben sind. Diese Art Prozessor umfaßt einen Forderdurchgang, durch den eine PS-Platte 2 in der Richtung des Pfeils durch eine Fördereinrichtung wie beispielsweise Zuführwalzen 1 gefördert wird und eine Mehrzahl von Düsenleitungen 3 oberhalb des Förderdurchgangs (und falls auch erwünscht unterhalb,wie durch die gestrichelte Linie gezeigt). Wenn die PS-Platte 2 in Richtung des Pfeils gefördert wird, wird ein von einem Tank 4 zugeführter Entwickler 5 gegen die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht der Platte durch die Düsen 3 gesprüht. Gegebenenfalls wird die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht durch Bürstenwalzen (nicht gezeigt) oder dergleichen gerieben. Auf diese Weise wird die belichtete PS-Platte behandelt. Der Entwickler ist so ausgebildet, daß er durch ein Filter 6 zur Entfernung unlöslicher Materialien geführt werden kann und dann zurückgewonnen und zum Tank 4 zurückgebracht wird. In dem in Fig'. 1 gezeigten automatischen Prozessor bzw. Behandlungsgerät ist der Kontaktbereich des Entwicklers in dem Tank mit Luft geringer als in dem in Fig. 2 gezeigten automatischen Prozessor und daher wird der Entwickler durch Kohlendi-

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oxid in der Luft weniger beeinträchtigt.

Bei der Behandlung einer PS-Platte in einem automatischen Prozessor dieses Typs ist es vom Standpunkt der Arbeitswirksamkeit erwünscht, daß, wenn einmal ein Entwickler in den Entwicklertank eingebracht worden ist, soviel PS-Platten als möglich behandelt werden sollten, ohne den Entwickler in dem Tank zu ersetzen. Um den erschöpften Entwickler zu wechseln, muß der Betrieb des automatischen Prozessors für mehrere Minuten unterbrochen werden und die PS-Platten können während dieses Zeitraums nicht entwickelt werden.

Da der Entwickler eine alkalische wässrige Lösung darstellt, und der belichtete Bereich der lichtempfindlichen Schicht der PS-Platte eine carboxylhaltige Verbindung, wie hier angegeben, enthält, wird der Entwickler natürlich verschlechtert, wenn die Menge der entwickelten bildweise belichteten positiv wirkenden PS-Platten zunimmt. Die Ansammlung von Bestandteilen der belichteten lichtempfindlichen Schicht, die sich in dem Entwickler gelöst haben, die Neutralisation des Entwicklers mit Kohlendioxid in der Luft und die Abnahme der Menge des Entwicklers in dem Entwicklertank als Ergebnis seiner Abführung durch die behandelten Platten beschleunigen die Verschlechterung des Entwicklers.

Wenn eine wässrige Natriumsilicatlösung mit einer relativ hohen Si0₂-Konzentration mit einem vergleichsweise breiten Entwicklungsspielraum (d.h. der Bereich von Entwicklungsbedingungen, mit denen sich geeignete Entwicklungsergebnisse ergeben) als ein Entwickler verwendet wird, scheidet sich SiO₂ in den Düsen des Prozessors ab, wenn sich die Anzahl der behandelten PS-Platten erhöht und führt somit zu dem Problem der Düsen-

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Verstopfung. Die Häufigkeit, mit welcher der Entwickler in dem Tank gewechselt werden muß und der automatische Prozessor gewaschen werden muß, wird dadurch erhöht. Andererseits nimmt, wenn eine wässrige Natriumsilicatlösung mit einer vergleichsweise geringen SiOg-Konzentration verwendet wird, die Pufferfähigkeit des Entwicklers ab, und der Entwickler selbst besitzt eine geringe Entwicklungsfähigkeit (d.h. der Bereich einer PS-Platte, die ohne irgendeinen merklichen Abfall der Empfindlichkeit durch eine Entwicklereinheit entwickelt werden kann, ist gering). Ferner unterliegt der Entwickler leicht der Schädigung durch in der Luft vorliegendes Kohlendioxidgas. Die Häufigkeit des Ersatzes von Entwickler muß auch erhöht werden.

Eine Aufgabe der Erfindung besteht daher in einem verbesserten Verfahren zur Entwicklung von PS-Platten, wodurch eine Anzahl positiv wirkender PS-Platten unter Anwendung einer vorbestimmten Menge des gleichen Entwicklers entwickelt werden kann.

Eine andere Aufgabe der Erfindung besteht in einem Verfahren,durch das eine Anzahl positiv wirkender PS-Platten ohne Bildung unlöslicher Materialien in dem Entwickler entwickelt werden kann.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einem Verfahren, bei dem die Düsen einer zur Aufsprühung eines Entwicklers gegen die Oberfläche einer lichtempfindlichen Schicht in einem üblichen automatischen Prozessor geeigneten Sprühvorrichtung niht verstopft werden, selbst wenn eine große Anzahl positiv wirkender PS-Platten durch den automatischen Prozessor entwickelt wird.

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Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einem Entwicklungsverfahren, das eine große Anzahl positiv wirkender PS-Platten durch einen automatischen Prozessor ohne Auswechslung des Entwicklers in dem Prozessor während eines langen Zeitraums entwickeln kann.

Es wurde nun gefunden, daß diese und andere Aufgaben der Erfindung durch ein Entwicklungsverfahren erreicht werden können, bei dem eine positiv wirkende lichtempfindliche pianographische Druckplatte, die eine Aluminiumplatte mit einer daruaf ausgebildeten lichtempfindlichen Schicht einer o-Chinondiazidverbindung umfaßt, bildweise belichtet wird und dann die belichtete Platte mit einem Entwickler, der eine wässrige Lösung eines Alkalisilicate umfaßt, entwickelt wird, wobei eine Ergänzungslösung, die eine wässrige Lösung eines Alkalisilicate umfaßt, zu dem Entwickler zur Kompensation des Abbaus des Entwicklers durch die Entwicklung und/oder durch Kohlendioxid in der Luft zugesetzt wird, wobei der Entwickler eine wässrige Lösung eines Alkalisalzes mit einem (SiO₂)/(M)-Verhältnis, worin (SiO₂) die Konzentration von SiO₂ je Volumeneinheit, ausgedrückt in Gramm-Molekülen, und (M) die Konzentration des Alkalimetalls je Volumeneinheit, ausgedrückt in Gramm-Atomen, darstellen, von 0,5 bis 0,75 und einer SiOg-Konzentration von 1 bis 4 Gew.%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, umfaßt und die Ergänzungslösung eine wässrige Lösung eines Alkalisilicate mit einem (SiO₂)/(M)-Verhältnis von 0,25 bis 0,75 umfaßt.

Andererseits wurde auch gefunden, daß, wenn zuviel positiv wirkende PS-Platten unter Verwendung der oben erwähnten Entwickler- und Ergänzungslösung behandelt werden, sich unlösliche Materialien in dem Entwickler bilden und an den PS-Platten-Förderwalzen des automatischen Prozessors haften, was zur Verstopfung der Düsen und des

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Filters des automatischen Prozessors führt. Diese Erscheinung ist besonders ausgeprägt, wenn positiv wirkende PS-Platten entwickelt werden, die einen Aluminiumträger aufweisen, dessen Oberfläche anodisch oxidiert worden ist. Es wurde jedoch gefunden, daß dieser Nachteil ausgeschaltet werden kann, wenn der jeweilige Entwickler und die Ergänzungslösung Kalium in einer Menge von wenigstens 20 %, bezogen auf die Gesamtmenge in Gramm-Atomen des darin vorliegenden Alkalimetalls, enthalten.

Die Fig. 1 und 2 erläutern automatische Prozessoren, die allgemein zur Behandlung von PS-Platten verwendet werden.

Die positiv wirkende PS-Platte, auf welche das Entwicklungsverfahren der Erfindung angewendet wird, besteht grundsätzlich aus einer Aluminiumplatte und einer darauf ausgebildeten lichtempfindlichen Schicht eines o-Chinondiazids. Zu geeigneten Aluminiumträgern gehören eine reine Aluminiumplatte und Aluminiumlegierungsplatten. Kunststoffilme mit darauf laminiertem oder vakuumabgeschiedenem Aluminium können auch verwendet werden. Vorzugsweise wird die Oberfläche der Alurainiumplatte durch verschiedene Methoden vorbehandelt, beispielsweise durch Aufrauhen, Eintauchen in eine wässrige Lösung aus Natriumsilicat, Kaliumfluorzirconat oder einem Phosphat oder durch anodische Oxidation. Eine Aluminiumplatte, die aufgerauht worden ist und dann in eine wässrige Natriumsilicatlösung eingetaucht worden ist, wie in der US-PS 3 181 461 angegeben, und eine Aluminiumplatte,die anodisch oxidiert worden ist und dann in eine wässrige Natriumsilicatlösung eingetaucht worden ist, können auch in einfacher Weise verwendet werden. Die anodische Oxidation kann beispielsweise bewirkt werden, indem ein Strom

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in eine Elektrolytlösung, die aus wenigstens einer wässrigen Lösung oder nicht-wässrigen Lösung einer anorganischen Säure wie beispielsweise Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure oder Borsäure oder einer organischen Säure wie beispielsweise Oxalsäure oder Sulfaminsäure oder einem Salz davon besteht, unter Verwendung einer Aluminiumplatte als Anode geführt wird. Elektroabscheidung von Silicat gemäß der US-PS 3 658 662 ist gleichfalls wirksam.

Ein Aluminiumträger, der elektrolytisch aufgerauht worden ist, gemäß der US-PS 4 087 341, der japanischen Patentveröffentlichung 27481/71 und der japanischen Offenlegungsschrift 30503/72 und dann, wie oben beschrieben, anodisch oxidiert worden ist, ist gleichfalls geeignet. Ein anderer geeigneter Träger ist eine Aluminiumplatte als Träger, der durch Aufrauhen eines Aluminiumträgers gemäß der US-PS 3 834 998, chemische Ätzung und anschließende anodische Oxidation erhalten worden ist. Derartige Hydrophilisierungsbehandlungen werden nicht nur zu dem Zweck ausgeführt, um die Oberfläche des Trägers hydrophil zu machen, sondern auch zum Zweck der Verhinderung einer unerwünschten Reaktion mit einer darauf aufzuziehenden lichtempfindlichen Masse und zur Erhöhung der Haftung des Trägers an der lichtempfindlichen Schicht.

Die auf der hydrophilen Oberfläche des Trägers gebildete lichtempfindliche Schicht enthält eine o-Chinondiazidverbindung. Eine besonders bevorzugte o-Chinondiazidverbindung ist eine o-Naphthochinondiazidverbindung. Derartige Verbindungen sind in einer Reihe von Veröffentlichungen beschrieben, beispielsweise den US-PS 3 046 110, 3 046 111, 3 046 121, 3 046 115,

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3 046 118, 3 046 119, 3 046 120, 3 046 121, 3 046 122, 3 046 123, 3 061 430, 3 102 809, 3 106 465, 3 635 707 und 3 647 443, und können aueh in einfacher Weise gemäß der Erfindung eingesetzt werden. Bevorzugte o-Naphthochinondiazidverbindungen sind o-Naphthochinondiazidsulsonsäureester oder o-Naphthochinondiazidcarbonsäureester aromatischer Hydroxyverbindungen und o-Naphthochinondiazidsulfonsäureamide oder o-Naphthochinondiazidcarbonsäureamide aromatischer Aminoverbindungen. Im speziellen werden das Produkt, das durch Esterbildungsreaktion eines Kondensats zwischen Pyrogallol und Aceton mit o-Naphthochinondiazidsulfonsäure gemäß der US-PS 3 635 709 erhalten wird,das Produkt, das durch Esterbildungsreaktion eines Polyesters mit endständiger Hydroxygruppe mit o-Naphthochinondiazidsulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidcarbonsäure gemäß der US-PS 4 028 111 erhalten wird, das Produkt, das durch Esterbildungsreaktion eines Homopolynieren von p-Hydroxystyrol oder eines Copolymeren von p-Hydroxystyrol mit einem anderen copolymerisierbaren Monomeren mit o-Naphthochinondiazidcarbonsäure gemäß der GB-PS 1 494 043 erhalten wird und das Produkt, das durch Amidbildungsreaktion eines Copolymeren von p-Aminostyrol mit einem anderen copolymerisierbaren Monomeren mit o-Naphthochinondiazidsulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidcarbonsäure gemäß der US-PS 3 759 711 erhalten wird, bevorzugt.

Obgleich diese o-Chinondiazidverbindungen allein verwendet werden können, wird es bevorzugt, eine o-Chinondiazidverbindung mit einem alkalilöslichen Harz zu vermischen und das Gemisch als lichtempfindliche Schicht zu verwenden. Geeignete alkalilösliche Harze umfassen Phenolharze vom Novolac-Typ, insbesondere ein Phenol-Formaldehydharz, ein o-Cresol-Formaldehydharz und ein m-Cregol-

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Formaldehydharz. Ferner ist, wie in der US-Patentanmeldung 756 653 beschrieben, die Verwendung eines Gemischs des oben als Beispiel angegebenen Phenolharzes mit einem Kondensat aus durch eine Alkylgruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen substituiertem Phenol oder Cresol und Formaldehyd, wie beispielsweise ein tert.-Butylphenol-Formaldehydharz stärker bevorzugt. Die Menge des alkalilöslichen Harzes beträgt etwa 50 bis etwa 85 Gew.-%, bevorzugt 60 bis 80 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht der lichtempfindlichen Schicht, wobei der Rest der Schicht aus o-Chinondiazidverbindung besteht.

Gegebenenfalls kann die lichtempfindliche Schicht, welche die o-Chinondiazidverbindung umfaßt, ferner Zusätze enthalten, wie beispielsweise Farbstoffe, Plastifizierungsmittel und Bestandteile, welche Druckeigenschaften ergeben. Diese Materialien sind auf dem Fachgebiet gut bekannt und deren nachfolgende Erörterung ist nicht als Begrenzung anzusehen.

Farbstoffe werden verwendet, um dem Bildbereich Kontrast von dem Nichtbildbereich (Oberfläche des Trägers) nach Belichtung und Entwicklung einer PS-Platte zu geben. Bevorzugte Farbstoffe sind alkohollösliche Farbstoffe wie beispielsweise CI. 26, 105 (Oil Red RR), CI. 21, 260 (Oil Scarlet Nr. 308), C.I. 74, 350 (Oil Blue), CI. 52, 015 (Methylenblau) und C.I. 42, 555 (Kristallviolett). Ein derartiger Farbstoff wird in einer ausreichenden Menge zum Erhalt eines klaren Kontrastes zwischen der Farbe der hydrophilen Oberfläche des nichtüberzogenen Trägers und der Farbe des Restes der lichtempfindlichen Schicht zugesetzt. Im allgemeinen beträgt die geeignete Menge des Farbstoffs nicht mehr als etwa 7 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge der lichtempfindlichen Masse.

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Plastifizierungsmittel werden in geeigneter Weise verwendet, um der auf dem Träger gebildeten lichtempfindlichen Schicht Flexibilität zu erteilen. Beispiele wirksamer Plastifizierungsmittel zur Verwendung gemäß der Erfindung umfassen Phthalatester wie beispielsweise Dimethylphthalat, Diäthylphthalat, Dibutylphthalat, Diisobutylphthalat, Dioctylphthalat, Octylcaprylphthalat, Dicyclohexylphthalat, Di-(tridecyl)-phthalat, Butylbenzylphthalat, Diisodecylphthalat, Diallylphthalat; Glykolester wie beispielsweise Dimethylglykolphthalat, Äthylphthallyläthylglykolat, Methylphthallylathylglykolat, Butylphthallylbutylglykolat und Trxathylenglykoldicaprylat; Phosphatester wie beispielsweise Tricresylphosphat und Triphenylphosphat; aliphatische zweibasische Säureester wie beispielsweise Diisobutyladipat, Dioctyladipat, Dimethylsebacat, Dibutylsebacat, Dioctylazelat und Dibutylmaleat; Polyglycidylmethacrylat; Triäthylcitrat; Glycerintriacetylester und Butyllaurat. Die Menge des Plastifizierungsmittels liegt bei nicht mehr als etwa 5 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge der lichtempfindlichen Masse.

Ein Ausdrucksmaterial (print-out material) wird zugegeben, um die Betrachtung eines sichtbaren Bildes unmittelbar nach der bildweisen Belichtung der lichtempfindlichen Schicht einer PS-Platte zu ermöglichen. Es umfaßt beispielsweise den in der GB-PS 1 041 463 beschriebenen pH-Indikator, die Kombination von o-Naphthochinondiazid-4-sulfonylchlorid und einem Farbstoff gemäß der US-PS 3 969 118 und die Photochromverbindung gemäß der japanischen Patentveröffentlichung 6413/69. Ferner kann, wie in der US-PS 4 115 128 angegeben, ein cyclisches Säureanhydrid in die lichtempfindliche Schicht eingearbeitet werden, um deren Empfindlichkeit zu erhöhen.

Die aus der o-Naphthochinondiazidverbindung aufgebaute lichtempfindliche Masse wird auf einen Träger aus

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Lösung in einem geeigneten Lösungsmittel aufgezogen. Zu geeigneten Lösungsmitteln gehören beispielsweise Glykoläther wie z.B. Athylenglykolmonomethylather, Athylenglykolmonoathylather und 2-Methoxyäthylacetat, Ketone wie beispielsweise Aceton, Methyläthylketon und Cyclohexanon und chlorierte Kohlenwasserstoffe wie beispielsweise Äthylendichlorid.

Die Menge der aus der o-Chinondiazidverbindung aufgebauten auf dem Träger gebildeten lichtempfindlichen

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ο Schicht beträgt etwa 0,5 bis etwa 7 g/m , bevorzugt 1,5 bis 3 g/m^£

Wenn die erhaltene positiv wirkende PS-Platte mit einem Überfluß an aktinischem Licht von einer Kohlenbogenlampe, Quecksilberlampe, Metallhalogenidlampe, Xenonlampe oder Wolframlampe durch ein bildtragendes Diapositiv belichtet wird, wird der belichtete Teil alkalilöslich. Folglich wird der belichtete Teil der lichtempfindlichen Schicht mit einer alkalischen wässrigen Lösung unter Freilegung der hydrophilen Oberfläche des Trägers weggewaschen.

Gemäß der Erfindung wird eine wässrige Lösung eines Alkalisalzes mit einem (SiO₂)/(M)-Verhältnis von 0,5 bis 0,75, am meisten bevorzugt 0,5 bis 0,65 und einer SiO₃-Konzentration von 1 bis 4 Gew.-%, am stärksten bevorzugt 1,0 bis 2,0 Gew.-%, als Entwickler verwendet. Wenn eine wässrige Lösung eines Alkalisilicate mit einem (SiO₂)/(M)-Verhältnis von weniger als 0,5 und einer Si0₂-Konzentration von weniger als 1 Gew.-% als Entwickler verwendet wird, ist die pH-Pufferfähigkeit des Entwicklers gering. Daher verändern sich nach Zugabe einer nachfolgend beschriebenen Ergänzungslösung die Eigenschaften des Entwicklers erheblich, und eine pianographische Druckplatte gleichmäßiger Qualität kann nicht erhalten werden. Anderer-

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seits verstopfen sich, wenn der Entwickler ein ₂ Verhältnis von mehr als 0,75 und eine Si0₂-Konzentration von mehr als 4 Gew.-% aufweist, die Düsen eines automatischen Prozessors innerhalb des Verlaufs von mehreren Tagen auf Grund der Ausfällung von SiO₂. Ferner nimmt die Viskosität des Entwicklers zu und es kann keine gute Anzahl belichteter Platten behandelt werden.

Die gemäß der n?findung eingesetzte Ergänzungslösung ist eine wässrige Lösung eines Alkalisilicate mit einem (SiO₂)/(M)-Verhältnis von 0,25 bis 0,75 und einer SiO₂-Konzentration von 0 bis 4 Gew.-%. Wenn das (SiO₂)/(M)-Verhältnis der Ergänzungslösung weniger als 0,25 beträgt, ist die Breite der Menge der Ergänzungslösung,die zugesetzt werden kann, eng und es wäre eine Hochpräzisionseinrichtung notwendig, um die Ergänzungslösung zuzuführen. Andererseits wird, wenn die Ergänzungslösung ein größeres (SiO₂)/(M)-Verhältnis als 0,75 besitzt, die Menge der Ergänzungslösung groß, und die Menge der rückzugewinnenden Lösung nimmt zu, was wiederum dazu führt, daß die Düsen des automatischen Prozessors verstopft werden.

Sowohl in der Entwickler- als auch der Ergänzungslösung kann das Alkalimetall (M) des Alkalisilicate aus Natrium, Kalium oder Lithium bestehen.

Nachfolgend werden eine Entwickler- und eine Ergänzungslösung beschrieben, die in einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung verwendet werden.

Die Entwickler- und Ergänzungslösung, die in der bevorzugten Ausführungsform der Erfindung verwendet werden, sind beide wässrige Lösungen von Alkalisilicaten. Wenigstens 20 % der gesamten Gramm-Atome des Alkalimetalls in diesen wässrigen Lösungen bestehen vorzugsweise aus Kalium.

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Unter Verwendung von wässrigen Silicatlösungen, welche diese angegebenen Kaliunimengen enthalten, bildet sich kein unlösliches Material in dem Entwickler, selbst wenn eine große Anzahl positiv wirkender PS-Platten behandelt wird. Folglich wird dadurch ein Verstopfen der Düse in der Sprühvorrichtung der automatischen Entwicklungsvorrichtung ausgeschaltet, und ein Verstopfen des Filters in dem automatischen Verfahren, durch das der Entwickler zur Rückgewinnung hindurchgeht, verhindert. Es ist sehr überraschend, daß ein derartiger Effekt auch erhalten wird, wenn eine große Anzahl positiv wirkender PS-Platten mit einer anodisch oxidierten Aluminiumplatte als Träger entwickelt wird, wobei in diesem Fall das übliche Verfahren den Nachteil einer beträchtlichen Ausbildung von unlöslichem Material besitzt. Kaliummengen bis zu 100 % sind geeignet, jedoch liegt die bevorzugte Kaliummenge bei etwa 20 bis etwa 90 % und die besonders bevorzugte Menge liegt bei etwa 30 bis etwa 80 %, bezogen auf die Gesamtmenge des Alkalimetalls.

Die obige Erörterung bedeutet nicht, daß die Entwickler- und Ergänzungslösungen, welche nicht die bevorzugte Kaliummenge enthalten, für die Erfindung ungeeignet wären. Tatsächlich sind derartige Lösungen wirksam, jedoch wird, wenn die Entwicklung in großem Maßstab durchgeführt wird, durch das Vorliegen von Kalium die Stabilität der Lösungen verbessert. Bei der Behandlung von Druckplatten, die keine anodisierte Aluminiuragrundlage aufweisen, ist die Anwesenheit von Kalium nicht so wichtig.

Zu bevorzugten Kaliumlieferanten gehören Kaliumhydroxid, Kaliumborat, Kaliumpyrophosphat, tertiäres

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Kaliumphosphat, Kaliumpolyphosphat und Kaliumsilicat. Diese Kaliumquellen können einzeln oder in Kombinationen von zwei oder mehreren verwendet werden. Es wird kaum ein Effekt beobachtet, wenn Kaliumsalze mit einer relativ hohen Dissoziationskonstanten verwendet werden^wie beispielsweise Kaliumchlorid, Kaliumiodid, Kaliumnitrat, Kaliumcitrat oder Kaliumacetat.

Das Alkalimetall in dem Alkalisilicat umfaßt beispielsweise Lithium und Natrium außer Kalium. Bevorzugte Alkalimetalle sind Kalium und Natrium.

Ein besonders bevorzugter Entwickler zur Verwendung im Verfahren der Erfindung ist eine wässrige Lösung eines Alkalisilicats mit einem (SiO₂)/(M)-Verhältnis von 0,5 bis 0,75, wobei (SiO₂) die Konzentration von SiO₂ in einem Einheitsvolumen,ausgedrückt in Gramm-Mol, und (M) die Konzentration des Alkalimetalls in einem Einheitsvolumen, ausgedrückt in Gramm-Atomen, bedeuten und mit einer SiO₂-Konzentration von 1 bis 4 Gew.-%. Ferner ist auch eine wässrige Lösung eines Alkalisilicats mit einem (SiO₂V(M)-Verhältnis von 0,5 bis 0,75 und einer SiOg-Konzentration von 1 bis 3 Gew.-% bevorzugt. Der am stärksten bevorzugte Entwickler ist eine wässrige Lösung mit einem (SiO₂)/(M)-Verhältnis von 0,5 bis 0,65 und einer SiOg-Konzentration von 1,0 bis 2,0 Gew.-%.

Eine besonders bevorzugte Ergänzungslösung ist eine wässrige Lösung eines Alkalisilicats mit einer Kaliumkonzentration von wenigstens 20 % und einem (SiO₂V(M)-Verhältnis von 0,25 bis 0,75.

Die Ergänzungslösung wird zum Zweck der Kompensation der Bestandteile (vorwiegend Alkalibestandteile) des Entwicklers, die als Ergebnis der Behandlung positiv

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wirkender PS-Platten verbraucht wurden, des Entwicklers, der an den entwickelten PS-Platten haftend mitgenommen wurde und der Alkalibestandteile, die durch Kohlendioxid in der Luft neutralisiert wurden, zugesetzt. Folglich kann die Ergänzungslösung irgendeine wässrige Lösung eines Alkalisilicate sein, die nach Zugabe zu dem Entwickler befähigt ist, den Entwickler innerhalb der oben angegebenen Zusammensetzung beizubehalten, wenn er zur Entwicklung positiv wirkender PS-Platten verwendet wird oder nach Ablauf der Zeit, Venn beispielsweise eine wässrige Lösung eines Alkalisilicate mit dem gleichen (SiO₂)/(M)-Verhältnis wie der Entwickler als Ergänzungslösung verwendet wird, kann sie eine höhere Alkalisilicatkonzentration aufweisen. Venn die Ergänzungslösung die gleiche Sx0_o-Konzentration wie der Entwickler aufweist, kann ihr (SiO₂)/(M)-Verhältnis geringer sein als das des Entwicklers. Fachleute auf dem Gebiet können in einfacher Weise Kombinationen von Entwickler und Ergänzungslösung ermitteln. Die Ergänzungslösung kann in zwei oder mehrere Teile unterteilt werden, beispielsweise eine wässrige Kaliumhydroxidlösung und eine wässrige Natriumsilicatlösung, die in einfacher Weise unter Erhalt von Ergänzungslösungen mit verschiedenen Kaliumkonzentrationen kombiniert werden können,und diese Anteile können zum Zeitpunkt der Zugabe zu dem Entwickler vermischt werden. Beispielsweise kann ein Vorgang durchgeführt werden, bei dem die Ergänzungslösung als eine konzentrierte Lösung hergestellt wird und die mit Wasser zum Zeitpunkt der Zugabe zu dem Entwickler verdünnt wird. Unabhängig von der Zusammensetzung der wässrigen Alkalxsxlxcatlosung sollte die Gramm-Atom-Menge des Kaliums stets wenigstens 20 %, bezogen auf die gesamten Gramm-Atome des in dem Entwickler oder der Ergänzungslösung enthaltenen Alkalimetalls in der bevorzugten Ausführungsform der Erfindung betragen.

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Wenn die Kaliummenge geringer ist als etwa 20 %, bezogen auf den gesamten Alkaligehalt des Entwicklers oder der Ergänzungslösung, treten unlösliche Stoffe in dem Entwickler auf, wenn dieser zur Entwicklung positiv wirkender PS-Platten verwendet wird. Das unlösliche Material verstopft die Sprühdüsen oder den Filter, durch den der verbrauchte Entwickler zurückgewonnen wird. Es ist äußerst wichtig daher, die Konzentration des Kaliums in dem Entwickler bei nicht weniger als 20 % zu halten. Im allgemeinen wird der Entwickler dem Verbraucher in konzentrierter Form geliefert und der Verbraucher verdünnt ihn mit Wasser. Wenn eine konzentrierte wässrige Natriumsxlicatlosung mit einem (SiO₂V(M)-Verhältnis von nicht mehr als 0,75 mit Wasser verdünnt wird, welches ein zweiwertiges oder höheres Metallion wie beispielsweise Calcium, Magnesium oder Aluminium enthält (z.B. Wasser mit einer deutschen Härte von 36°), wird die Lösung weißlich-trüb und bildet einen Niederschlag, der wiederum den Filter eines auotmatischen Prozessors verstopft. Im Gegensatz dazu werden der Entwickler und die Ergänzungslösung in konzentrierter Form gemäß der bevorzugten Ausführungsform der Erfindung mit einem Gehalt an Kalium nicht weißlich-trüb, selbst wenn sie mit derartig hartem Wasser verdünnt werden. Folglich können die gemäß der Erfindung hergestellten Entwickler- oder Ergänzungslösung^ain einem automatischen Prozessor ohne irgendeine nachteilige Wirkung verwendet werden. Wenn positiv wirkende PS-Platten mit einer anodisch oxidierten Aluminiumplatte als Träger mit einem Entwickler entwickelt werden, der eine wässrige Natriumsilicatlösung gemäß üblichen Techniken enthält, bildet sich eine beträchtliche Menge eines weißen Niederschlags, der vorwiegend aus Kieselsäure besteht, auf der Oberfläche der Förderwalzen auf der unteren Seite eines automatischen Prozessors. Im Gegensatz dazu wird

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gemäß der bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens ein derartiges Phänomen nur in ganz geringem Ausmaß beobachtet.

Die Entwicklung kann im allgemeinen bei einer Temperatur von etwa 15 bis etwa 35⁰C während eines Zeitraums von 30 bis 90 Sekunden durchgeführt werden. Der pH-Wert der Entwicklungslösung kann im Bereich von etwa pH 12 bis etwa pH 14 liegen, was einen typischen pH-Bereich für Entwicklungslösungen vom Positivtyp darstellt.

Die gemäß der Erfindung verwendeten Entwickler- und Ergänzungslösung*können ferner ein organisches Lösungsmittel enthalten, um die Durchlässigkeit des Entwicklers in der Anfangsstufe und auch die Entwicklungsgeschwindigkeit zu verbessern. Beispiele organischer Lösungsmittel sind Benzylalkohol, 2-Butoxyäthanol, Triäthanolamin, Diethanolamin, Monoäthanolamin, Glycerin, Äthylenglykol, Polyäthylenglykol.und Polypropylenglykol. Die organischen Lösungsmittel können in den Entwickler oder die Ergänzungslösung so eingearbeitet werden, daß ihre Konzentration in dem Entwickler nicht mehr als 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers beträgt.

Die gemäß der Erfindung verwendete Entwickler- oder Ergänzungslösung kann ferner ein oberflächenaktives Mittel enthalten. Dies kann die Entwicklungskapazität des Entwicklers erhöhen (das Ausmaß der lichtempfindlichen Schicht, welche ein Einheitsvolumen des Entwicklers lösen und entfernen kann) und den Bereich der Entwicklungsbedingungen (z.B. Temperatur, Entwicklungszeit) erweitern, wodurch optimale Ergebnisse erhalten werden. Zu bevorzugten oberflächenaktiven Mitteln gehören anionische oberflächenaktive Mittel und amphotere oberflächenaktive Mittel. Spezifische Beispiele bevorzugter anionischer

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oberflächenaktiver Mittel sind Alkylbenzolsulfonsäuresalze (wobei die Alkylgruppe 8 bis 18, bevorzugt 12 bis 16 Kohlenstoffatome aufweist), wie beispielsweise Natriumdodecylbenzolsulfonat, Alkylnaphthalinsulfonsäuresalze (wobei die Alkylgruppe 3 bis 10 Kohlenstoffatome aufweist), wie beispielsweise Natriumisopropylnaphthalinsulfonat, ein Formaldehydkondensat eines Naphthalinsulfonsäuresalzes, Dialkylsulfobernsteinsäuresalze (wobei die Alkylgruppe 2 bis 18 Kohlenstoffatome aufweist) und Dialkylamidosulfonsauresalze (wobei die Alkylgruppe 11 bis 17 Kohlenstoffatome enthält). Spezifische Beispiele bevorzugter amphoterer oberflächenaktiver Mittel umfassen Imidazolinderivate und Verbindungen vom Betain-Typ wie beispielsweise N-Alkyl-N,N,N-tris(carboxymethyl)ammonium (wobei die Alkylgruppe 12 bis 18 Kohlenstoffatome enthält) oder N-Alkyl-N-carboxymethyl-N,N-dihydroxyäthylammoniumverbindungen (wobei die Alkylgruppe 12 bis 18 Kohlenstoffatome aufweist). Die Menge des oberflächenaktiven Mittels ist nicht besonders begrenzt. Im allgemeinen wird es jedoch in den Entwickler oder die Ergänzungslösung so eingearbeitet, daß die Konzentration in dem Entwickler im Betrieb bei etwa 0,003 bis etwa 3 Gew.-%, bevorzugt 0,006 bis 1 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, gehalten wird.

Ferner kann ein Antischaummittel in den gemäß der Erfindung verwendeten Entwickler und die Ergänzungslösung eingearbeitet werden. Geeignete Antischaummittel sind beispielsweise solche gemäß den US-PS 3 250 727 und 3 545 970 und den GB-PS 1 382 901 und 1 387 713.Von diesen werden organische Silanverbindungen bevorzugt.

Im Entwicklungsverfahren der Erfindung wird die Ergänzungslösung in einer Menge zugesetzt, welche die

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Bestandteile des Entwicklers, die durch die Entwicklung von positiv wirkenden PS-Platten verbraucht werden, den Entwickler, der durch die behandelten positiv wirkenden PS-Platten mitgenommen wird und/oder die Alkalikomponenten, welche mit Kohlendioxid der Luft neutralisiert worden sind, kompensiert. Wenn beispielsweise die Menge der positiv wirkenden PS-Platten, die 1 Liter des Entwick-

o
lers entwickeln kann, 2 m beträgt, so kann die Ergänzungslösung jedes Mal zugegeben werden, wenn 2 m /1 an positiv wirkenden PS-Platten entwickelt worden sind. Oder die Fläche jeder zu entwickelnden PS-Platte kann gemessen werden, und die Ergänzungslösung kann in einer Menge entsprechend der gemessenen Fläche jedes Mal hinzugefügt werden, wenn eine PS-Platte entwickelt worden ist.

Im allgemeinen wird die Entwicklungskapazität eines Entwicklers wie folgt bestimmt:

Eine PS-Platte wird durch eine Stufentablette (z.B. mit 21 Stufen, wobei die erste eine optische Dichte von 0,10 aufweist mit einer Dichtedifferenz von 0,15 zwischen zwei benachbarten Stufen) belichtet und dann entwickelt. Wenn die Anzahl der durch den verbrauchten Entwickler entwickelten festen schwarzen Stufen eine Stufe weniger als die Anzahl der durch frischen Entwickler entwickelten festen schwarzen Stufen ist, wird angenommen, daß die Entwicklungskapazität des Entwicklers ihre Grenze erreicht hat. Durch Bestimmung der Menge einer Ergänzungslösung, die bewirkt, daß ein derartiger Entwickler an der Grenze seiner Entwicklungsfähigkeit die Entwicklung zu der ursprünglichen Anzahl fester Stufen durchführt, ist es möglich, Zeit und Menge der Zugabe der Ergänzungslösung zu dem Entwickler zu bestimmen.

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Alternativ ist es, wenn man den pH-Wert eines Entwicklers an der Grenze seiner Entwicklungsfähigkeit
und den pH-Wert eines frischen Entwicklers bestimmt,
möglich, die Zugabe der Ergänzungslösung zu messen, so
daß der Entwickler stets den durch den frischen Entwickler hervorgebrachten pH-Wert ergibt. Dies kann beispielsweise dadurch erfolgen, daß eine pH-Meßeinrichtung in den Entwicklungstank eines automatischen Prozessors
eingearbeitet wird.

Unabhängig von der Zusatzmethode wird die Ergänzungslösung zugegeben, um Veränderungen der Bestandteile des Entwicklers, welche mit Ablauf der Zeit eintreten und/oder als Ergebnis der Entwicklung positiv wirkender PS-Platten, zu kompensieren.

Das Verfahren der Erfindung verringert die Häufigkeit der Änderung des Entwicklers und gestattet die beständige Anwendung eines automatischen Prozessors über
lange Zeiträume ohne Waschvorgang.

Die Entwicklungsmethode der Erfindung besitzt auch den Vorteil, daß selbst wenn große Mengen positiv wirkender PS-Platten in einer bestimmten feststehenden Menge
des gleichen Entwicklers entwickelt werden, sich keine unlöslichen Materialien in dem Entwickler bilden. Das Verfahren der Erfindung ist daher speziell für die automatische Entwicklung anwendbar. Wenn eine positiv wirkende PS-Platte mit einem Träger aus einer Aluminiumplatte mit anodisch oxidiertem Überzug durch übliche Methoden entwickelt wird, so besteht eine Neigung zur Bildung unlöslicher Stoffe in dem Entwickler. Nach dem Entwicklungsverfahren der Erfindung bilden sich keine unlös-

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lichen Materialien in dem Entwickler, selbst wenn große Flächen positiv wirkender PS-Platten dieser Art entwickelt werden. Folglich ist das Entwicklungsverfahren der Erfindung besonders hervorragend, wenn es zur Behandlung positiv wirkender PS—Platten, die einen Träger aus einer anodisch oxidierten Aluminiumplatte aufweisen, durch einen automatischen Prozessor angewendet wird.

Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung im einzelnen. In diesen Beispielen beziehen sich sämtliche Prozentangaben und Teile auf das Gewicht, falls nicht anders angegeben.

Beispiel 1

1 Teil Polyhydroxyphenylnaphthochinon-l^-diazid-S-sulfonat, das durch Polykondensation von Aceton und Pyrogallol gemäß Beispiel 1 der US-PS 3 635 709 erhalten wurde, und 2 Teile eines Phenol-Formaldehydharzes vom Novolac-Typ wurden in 20 Teilen 2-Methoxyäthylacetat und 20 Teilen Methylethylketon unter Bildung einer lichtempfindlichen Lösung gelöst. Eine gesandstrahlte Aluminiumplatte mit einer Stärke von 0,3 mm wurde unter Bildung eines Oxidüberzugs in einem Ausmaß von etwa 2 g/m elektrolytisch oxidiert, gut gewaschen und getrocknet. Die lichtempfindliche Lösung wurde auf die Aluminiumplatte aufgezogen und unter Bildung einer positiv wirkenden PS-Platte mit einer lichtempfindlichen Schicht in einem Ausmaß von etwa 2,5 g/m getrocknet. Die PS-Platte wurde in eine Anzahl Stücke von 1,003 χ 800 mm geschnitten. Diese PS-Platten wurden durch ein Diapositiv mit Licht von einer 3 kW Metallhalogenidlampe während 60 Sekunden in einem Abstand von 1 mm belichtet.

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In der Zwischenzeit wurden in einen Tank (4) eines automatischen Prozessors der in Fig. 2 der beigefügten Zeichnung wiedergegebenen Art, der ferner Bürstenwalzen zur Entwicklung aufwies, 21 Liter einer wässrigen Natriumsilicatlösung mit einem (SiO₂)/(M)-Verhältnis von 0,6 und einem SiO₂-Gehalt von 1,5 % als Entwickler und 10 g eines amphoteren oberflächenaktiven Mittels vom Betaintyp (N-Alkyl-N,N-dihydroxyäthylbetain) eingebracht. 25 PS-Platten wurden mit der obigen Lösung am Morgen und weitere 25 am Nachmittag entwickelt. Die zur Entwicklung verwendete Lösung ließ man über Nacht in dem automatischen Prozessor. Die Entwicklung wurde am nächsten Morgen wieder aufgenommen. Es trat keine Verstopfung in den Düsen des automatischen Prozessors auf.Wenn jedoch die behandelte PS-Platte durch einen Stufenkeil mit einer Dichtedifferenz von 0,15 belichtet wurde, wurde festgestellt, daß die Dichte um zwei Stufen (Empfindlichkeit etwa 1/2) gegenüber der am Vortag erreichten verringert wurde. Folglich wurden 1,3 Liter eines 1/7-konzentrierten Produktes dieses Entwicklers als Ergänzungslösung ( (SiO₂)Z(Na) = 0,60) zugesetzt. Die Empfindlichkeit kehrte zu derjenigen bei Beginn am vorhergehenden Tag zurück. Danach wurden bei jeder Mittagspause 0,5 Liter Ergänzungslösung zugegeben. Der obige Vorgang wurde während einer Woche wiederholt. Es trat kein Verstopfen der Düsen des automatischen Prozessors auf und es erfolgte kaum irgendeine Veränderung der Empfindlichkeit. Auf diese Weise konnten Druckplatten in stabiler Weise erhalten werden. Das während dieses Zeitraums verwendete Gemisch aus Entwickler und Ergänzungslösung besaß ein (SiO₂)/(Na)-Verhältnis von 0,60 bis 0,65 und einen SiO₂-Gehalt von 1,5 bis 2 %.

Getrennt wurden PS-Platten in dem gleichen Verfahren wie oben beschrieben belichtet und in 21 Liter einer wässri-

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gen Natriumsilicatlösung mit einem (SiO₂)/(Na)-Verhältnis von 1,9 und einem SiO₂-Gehalt von 5 %, die in einem Entwicklertank eines automatischen Prozessors enthalten war, entwickelt. 25 PS-Platten wurden am Morgen und weitere 25 am Nachmittag entwickelt. Der Entwickler wurde über Nacht in dem automatischen Prozessor belassen und die Entwicklung wurde am nächsten Morgen wieder aufgenommen. Es wurde festgestellt, daß weiße Kristalle die Düsen verstopften, durch die der Entwickler gesprüht wurde und die Menge des sprühfähigen Entwicklers war beträchtlich verringert. Somit ist es unter Verwendung dieses Entwicklers notwendig, den Entwickler jeden Tag zu wechseln und die Düsen zu waschen. Die Menge des im letzteren Fall entfernten Entwicklers betrug 147 Liter während im ersteren Fall die Menge des zurückgewonnenen Entwicklers bei etwa 22 Liter lag, was etwa 1/6 bis 1/7 des letzteren entspricht.

Beispiel 2

In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellte positiv wirkende PS-Platten wurden belichtet und mit einem Entwickler mit einem (SiO₂)/(Na)-Verhältnis von 0,59 und einem SiO₂-Gehalt von 1,3 % entwickelt. Eine Lösung mit einem (SiO„)/(Na)-Verhältnis von 0,3 (Ergänzungslösung A) wurde durch Zugabe einer Natriumhydroxidlösung zu dem Entwickler hergestellt. Vom zweiten Tag an wurden 3 Liter Ergänzungslösung am Morgen und 0,5 Liter bei der Mittagspause zugesetzt. Die Behandlung der PS-Platten wurde zwei Wochen fortgesetzt. Es trat keine Verstopfung der Düsen des automatischen Prozessors ein,und es erfolgte wenig Veränderung in der Grauskala. Während dieses Zeitraums besaß das Gemisch aus Entwickler und Ergänzungslösung ein (SiO₂)/(Na)-Verhältnis von 0,58 bis 0,59 und einen SiO₂-Gehalt von 1,3 bis 1,5 9ό.

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Gesondert wurden wie in Beispiel 1 hergestellte positiv wirkende PS-Platten belichtet und in einem automatischen Prozessor während 2 Tagen unter Verwendung eines Entwicklers mit einem (SiOgV(Na^Verhältnis von 0,85 und einem SiO^-Gehalt von 4,3 % und einer Ergänzungslösung mit einem (SiO₂)/(Na)-Verhältnis von 0,8, die durch Zugabe einer wässrigen Natriumhydroxidlösung zu dem Entwickler hergestellt wurde (Ergänzungslösung B) entwickelt. In diesem Fall verstopften die Düsen und die Viskosität des Entwicklers nahm zu.

Beispiel 3

In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellte positiv wirkende PS-Platten wurden belichtet und unter Verwendung eines Entwicklers mit einem (SiO₂)/(Na)-Verhältnis von 0,58 und einem SiOg-Gehalt von 1,4 % und einer Ergänzungslösung mit einem (SiO₂)/(Na)-Verhältnis von 0,4, die durch Zugabe einer wässrigen Natriumhydroxidlösung zu dem Entwickler hergestellt war, entwickelt. Am ersten Tag wurde die Ergänzungslösung nicht zugesetzt, und eine Änderung in der Grauskala lag innerhalb einer Stufe. Vom zweiten Tag an wurde die Ergänzungslösung am Morgen und in der Mittagspause zugesetzt. Auf diese Weise konnten Druckplatten gleichmäßig und stabil entwickelt werden.

In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellte positiv wirkende PS-Platten wurden belichtet und unter Verwendung eines Entwicklers mit einem (SiO₂)/(Na)-Verhältnis von 0,4 und einem SiO^-Gehalt von 0,8 % und der Ergänzungslösung A von Beispiel 2 entwickelt. Am ersten

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Tag wurde die Ergänzungslösung nicht zugesetzt, und die Grauskala verringerte sich um drei Stufen. Wenn die Ergänzungslösung jedes Mal, wenn 5 Platten entwickelt waren, zugesetzt wurde, konnte die Änderung der Grauskala innerhalb einer Stufe begrenzt werden. Vom zweiten Tag an war es notwendig, Ergänzungslösung bei Be-* ginn des Morgens und in der Mittagspause und auch jedes Mal, wenn 5 Platten entwickelt waren, zuzusetzen.

Beispiel 4

Wenn in Beispiel 2 eine wässrige Natriumsilicatlösung mit einem (SiO₂)/(Na)-Verhältnis von 0,23 als Erganzungslosung anstelle der Erganzungslosung A verwendet wurde, war der Spielraum der zugefügten Menge der Ergänzungslösung eng. Wenn die Menge der Erganzungslosung 10 % abwich, trat Über- oder Unterentwicklung ein.

Wenn die Ergänzungslösung A jedoch zugesetzt wurde, trat kein Problem auf, selbst wenn die Menge der Ergänzungslösung 10 % abwich.

Beispiel 5

Wenn in Beispiel 2 eine Lösung mit einem (SiO₂V(Na)-Verhältnis von 0,8 anstelle der Ergänzungslösung A verwendet wurde, betrug die Menge der Lösung,die zugesetzt werden mußte, mehr als das Zweifache derjenigen der Lösung A, und die Menge des zurückgewonnenen Entwicklers nahm zu. Ferner wurde festgestellt, daß die Düsen des automatischen Prozessors verstopft waren.

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Beispiel 6

Eine gesandstrahlte Aluminiumplatte mit einer

Stärke von 0,3 mm wurde in Schwefelsäure unter Bildung

ο eines Oxidüberzugs in einem Ausmaß von etwa 3 g/m anodisch oxidiert, gut gewaschen und getrocknet. Die gleiche lichtempfindliche Lösung wie in Beispiel 1 verwendet, wurde auf die Aluminiumplatte aufgezogen und unter Bildung einer positiv wirkenden PS-Platte mit einer lichtempfindlichen Schicht in einem Ausmaß von

ο
etwa 2,5 g/m getrocknet. Die PS-Platte wurde in eine Anzahl Stücke mit einer Größe von 1310 χ 1050 mm geschnitten. Diese wurden jeweils während 60 Sekunden durch ein Diapositiv mit Licht aus einer 3 kW Metallhalogenidlampe, die in einem Abstand von 1 m angeordnet war, belichtet.

In der Zwischenzeit wurden in Tank 4 des gleichen automatischen Entwicklers wie in Beispiel 1 verwendet, 21 Liter eines Entwicklers eingebracht, der durch Verdünnung einer Grundentwicklerlösung, bestehend aus 332 g einer wässrigen Natriumsilicatlösung (JIS Nr.3) (mit einem SiO₂-Gehalt von 29 Gew.-% und einem Na„0-Gehalt von 9,5 %), 191 g einer 48 %-igen wässrigen Kaliumhydroxidlösung, 3,2 g einer 36 %-igen wässrigen Lösung eines amphoteren oberflächenaktiven Mittels (N-Alkyl-N,N-dihydroxyäthylbetain), 0,72 g einer organischen Siliconverbindung als Antischaummittel und 688 g reinem Wasser mit Wasser in einer 6~fachen Volumenmenge der Menge der Grundentwicklerlösung, hergestellt wurde. Die PS-Platten wurden durch diesen automatischen Prozessor entwickelt. Jedes Mal, wenn eine PS-Platte entwickelt war, wurden 86 ml einer Ergänzungslösung, die durch Verdünnung einer Grundlösung, bestehend aus 238 g

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Natriunisilicat (JIS Nr.3), 328 g einer 48 %-igen wässrigen Kaliumhydroxidlösung und 645 g reinem Wasser, mit Wasser in einer 4-fachen Volumenmenge der Menge der Grundlösung hergestellt worden war, zugegeben. Nachdem 15 Platten in dieser Weise behandelt worden waren, wurde die Behandlung während 1 Stunde unterbrochen. Da eine gewisse Abnahme in der Empfindlichkeit während dieses Unterbrechungszeitraums auftrat, wurden 640 ml einer Ergänzungslösung der gleichen Zusammensetzung zusätzlich zu der mit jeder Platte zugesetzten zugegeben. Dann wurden weitere 15 Platten entwickelt. Der verwendete Entwickler wurde während 16 Stunden in dem automatischen Prozessor belassen, und 3,4 Liter der obigen Ergänzungslösung wurden zugegeben, wonach die Entwicklung wieder aufgenommen wurde. Dieses Verfahren wurde wiederholt, und 180 Platten wurden insgesamt behandelt. Es wurde keine Verstopfung der Düsen und des Filters des automatischen Prozessors beobachtet noch trat die Bildung eines Niederschlags auf. Die Haftung einer weißen Abscheidung an den Walzen war nur ganz geringfügig. Zur Überprüfung der Empfindlichkeit wurden positiv wirkende PS-Platten,auf die eine Stufentablette (mit 21 Stufen mit einer optischen Dichtedifferenz von 0,15 zwischen benachbarten Stufen) gedruckt war, gleichfalls behandelt. Die Differenz in der Anzahl fester Stufen war geringer als eine Stufe von derjenigen, die zum Zeitpunkt der Behandlung der ersten Platte erhalten wurde. Der Prozentgehalt (Gramm-Atome) an Kalium, das (SiO₂)/(M)-Verhältnis und der SiO₂-Gehalt lagen bei 61 %, 0,58 bzw. 1,14 % für den Entwickler und 79 %, 0,32 bzw. 1,14 % für die Ergänzungslösung.

Getrennt wurden ein Entwickler und eine Ergänzungslösung hergestellt, die eine äquimolare Menge SiO₂ und

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gleiche Gramm-Atommengen Alkalimetall, das nur aus Natrium bestand, gegenüber dem oben verwendeten Entwickler und der Ergänzungslösung enthielt, hergestellt. Speziell wurden ein Entwickler, bestehend aus 360 g Natriummetasilicat, 66,0 g Natriumsilicat (JIS Nr.3), 3,2 g des gleichen amphoteren oberflächenaktiven Mittels wie oben, 0,72 g des gleichen Antischaummittels wie oben und 784 g reinem Wasser, und eine Ergänzungslösung, bestehend aus 360 g Natriumraetasilicat, 66,0 g Natriurasilicat (JIS Nr.3), 100 g Natriumhydroxid und 1233 g reinem Wasser hergestellt und auf die gleichen Verhältnisse wie oben beschrieben verdünnt. Die PS-Platten der gleichen Größe wie oben beschrieben,wurden in der gleichen Weise wie vorstehend angegeben, unter Verwendung des so hergestellten Entwicklers und der Ergänzungslösung entwickelt. Es trat erhebliche Haftung einer weißen Abscheidung an den Walzen auf, wenn 60 Platten behandelt waren. Wenn 120 Platten behandelt waren, bildeten sich große Mengen an schmutzigem Niederschlag, der das Filter verstopfte. Somit war die Rückführung des Entwicklers in dem automatischen Prozessor behindert.

Beispiel 7

Positiv wirkende PS-Platten mit einer Größe von 1310 χ 1050 mm, die in der gleichen Weise wie in Beispiel 6 hergestellt worden waren, wurden belichtet und in einem Prozessor des gleichen Typs wie in Beispiel 1 verwendet, automatisch entwickelt. In den Tank des Prozessors wurden 21 Liter eines Entwicklers eingebracht, der durch Verdünnen einer Grundentwicklerlösung, bestehend aus 684 g Natriumsilicat (JIS Nr.3), 128 g einer 48 %-igen wässrigen Kaliumhydroxidlösung und 420 g reinem Wasser mit der 7-fachen Menge Wasser erhalten

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worden war. Jedes Mal, wenn eine Platte entwickelt war, wurden 106 ml einer Ergänzungslösung zugegeben, die durch Verdünnen einer Grundlösung, bestehend aus 487 g Natriumsilicat (JIS Nr.3), 285,5 g einer 48 %-igen wässrigen Kaliumhydroxidlösung und 440 g reinem Wasser, mit dem 5-fachen ihrer Menge Wasser hergestellt wurde, zugesetzt. Unter diesen Bedingungen wurden PS-Platten in einem Ausmaß von 3 m /1 des eingebrachten Entwicklers entwickelt. Nach der Behandlung beließ man den Entwickler in dem automatischen Prozessor während 14 Stunden. Dann wurden 4,8 Liter der obigen Ergänzungslösung zugesetzt, und die Entwicklung wurde wieder aufgenommen. Jedes Mal, wenn eine Platte behandelt wurde, wurden 106 ml der Ergänzungslösung zugesetzt, und es wurden PS-Platten in einem Ausmaß von 8 m /1 des eingebrachten Entwicklers entwickelt. Es war kein Anhaften einer weißen Abscheidung an den Walzen ersichtlich. Weder ein Verstopfen des Filters noch die Ausbildung eines Niederschlags wurden beobachtet. Ferner wurde zur Prüfung der Empfindlichkeit die Änderung der Anzahl fester Stufen in der gleichen Weise wie in Beispiel 6 überprüft. Die Änderung lag innerhalb einer Stufe. Der Anteil von Kalium in dem Alkalimetall, das Verhältnis von SiOg/Alkalimetall und der SiO^-Gehalt betrugen 52 %₉ 0,75 bzw. 2,34 % für den Entwickler und 62 %> 0,58 bzw. 2,33 % für die Ergänzungslösung.

Beispiel 8

Der gleiche Grundentwickler wie zum Vergleich in Beispiel 6 verwendet, wurde 7-fach mit Wasser verdünnt und 21 Liter des verdünnten Entwicklers wurden in den gleichen automatischen Prozessor wie in Beispiel 6 verwendet, eingebracht. Positiv wirkende PS-Platten (Größe 1003 χ 800 mm), die in der gleichen Weise wie in

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Beispiel 6 beschrieben, hergestellt worden waren, wurden belichtet und entwickelt. Unter Zugabe von 60 ml einer durch Verdünnen des obigen Grundentwicklers auf das 3-fache seiner Menge mit Wasser erhaltenen Ergänzungslösung jedes Mal, wenn eine Platte entwickelt war, wurden PS-Platten in einem Ausmaß von 3 m /1 des anfangs eingebrachten Entwicklers entwickelt. Wenn man 1 Liter des verwendeten Entwicklers während 4 Tagen in einem Becherglas stehenließ, bildeten sich etwa 0,5 g, als Trockengewicht, eines schmutzigen Niederschlags.

Getrennt wurden 98,7 g Kalxumpyrophosphat in 21 Liter eines Entwicklers der gleichen Zusammensetzung wie oben beschrieben, gelöst und die Lösung wurde in den gleichen automatischen Prozessor eingebracht. Die gleichen positiv wirkenden PS-Platten wurden belichtet und durch den automatischen Prozessor entwickelt. Jedes Mal, wenn eine Platte entwickelt war, wurden 60 ml einer Ergänzungslösung, die durch Verdünnen des vorstehend angegebenen Grundentwicklers mit der 3-fachen Menge Wasser und Auflösen von 2,0 g Kalxumpyrophosphat in 1 Liter der verdünnten Lösung, hergestellt worden war, zugegeben. Die Platten wurden in einem Gesamtausmaß von 3 m /1 des eingebrachten Entwicklers entwickelt..Der verwendete Entwickler wurde unter den gleichen Bedingungen wie oben stehengelassen. Es wurde keine Bildung einer schmutzigen Ausfällung beobachtet.

Bei Zugabe von Kalxumpyrophosphat betrug der Kaliumgehalt des Entwicklers, bezogen auf das gesamte Alkalimetall, etwa 24 %.

In gleicher Weise wurden 88_t2 g Kaliumpolyphosphat in 21 Liter des gleichen Entwicklers wie oben, der kein

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Kalium enthielt, gelöst. Eine Ergänzungslösung wurde hergestellt, indem der obige Grundentwickler auf das 3-fache verdünnt wurde und 1,8 g Kaliumpolyphosphat in 1 Liter der verdünnten Lösung gelöst wurde. Unter Verwendung dieser Lösungen wurde der gleiche Versuch wie oben durchgeführt. Es trat keine Bildung einer schmutzigen Ausfällung ein. Es wurde festgestellt, daß der Kaliumgehalt, bezogen auf das gesamte Alkalimetall, bei etwa 21 % lag.

Beispiel 9

Eine wie in Beispiel 6 hergestellte positiv wirkende PS-Platte wurde in Stücke mit einer Größe von 1003 mm χ 800 mm geschnitten. Die PS-Platten wurden belichtet und durch einen automatischen Prozessor des in Fig.l gezeigten Typs entwickelt. In den Tank des Prozessors wurden 21 Liter eines Entwicklers eingebracht, der durch Verdünnen des Grundentwicklers mit einem Gehalt von 61 % Kalium wie in Beispiel 6 beschrieben, mit der 7-fachen Menge Wasser hergestellt worden war. Am ersten Tag wurden 20 Platten am Morgen entwickelt und dann wurde eine Erganzungslosung zugesetzt, die durch Verdünnen der Grundergänzungslösung mit einem Gehalt von 79 % Kalium wie in Beispiel 6 beschrieben, mit der 5-fachen Menge Wasser erhalten wurde. Am Nachmittag wurden weitere 20 Platten entwickelt. Danach wurde die Ergänzungslösung in einer Menge von 3 Liter am Morgen und 1 Liter in der Mittagspause zugegeben, und es wurden 40 Platten jeden Tag über einen Zeitraum von 10 Tagen behandelt. Es trat keine Verstopfung des Filters des Prozessors auf und es bildete sich kein schmutziger Niederschlag.

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Beispiel 10

Positiv wirkende PS-Platten mit einer Größe von 1003 mm χ 800 mm, die in der gleichen Weise wie in Beispiel 6 hergestellt worden waren, wurden belichtet und in dem gleichen automatischen Entwickler wie in Beispiel 6 entwickelt. In den Tank des Prozessors wurden 35 Liter einer Lösung eingebracht, die durch Verdünnen des Grundentwicklers mit einem Gehalt von 61 % Kalium, wie in Beispiel 6 beschrieben, mit der 7-fachen Menge Wasser hergestellt worden war und es wurde eine Ergänzungslösung verwendet, die durch Verdünnen des gleichen Entwicklers auf das 3-fache erhalten wurde. Jedes Mal, wenn eine Platte entwickelt war, wurden 50 ml der Ergänzungslösung zugegeben. Auch wurde die Ergänzungslösung in einer Menge von 500 ml bzw. 1450 ml in der Mittagspause und zu Beginn des Morgenbetriebs vom zweiten Tag zugegeben. Unter diesen Bedingungen wurden jeden Tag 80 Platten über 6 Tage hinaus entwickelt (insgesamt 480 Platten).

Es trat weder die Ausbildung eines schmutzigen Niederschlags noch Verstopfung des Filters auf und die Behandlungsbedingungen konnten stabil gehalten werden, und auf diese Weise konnten die PS-Platten gleichmäßig entwickelt werden.

Die Erfindung wurde vorstehend anhand bevorzugter Ausführungsformen beschrieben, ohne darauf begrenzt zu sein.

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e e r s e i t e

Claims

Patentansprüche

1) Entvicklungsverfahren, dadurch gekennzeichnet, daß eine positiv wirkende lichtempfindliche pianographische Druckplatte, die einen Aluminiumträger und eine darauf gebildete lichtempfindliche Schicht einer o-Chinondiazidverbindung aufweist, bildweise belichtet wird, und dann die belichtete Platte mit einem Entwickler, der eine wässrige Lösung eines Alkalisilicate umfaßt, entwickelt wird, wobei eine Ergänzungslösung, die eine wässrige Lösung eines Alkalisilicate aufweist, zu dem Entwickler zur Kompensierung der durch Entwicklung und/oder durch Kohlendioxid in der Luft herbeigeführten Herabsetzung des Entwicklers zugesetzt wird, wobei der Entwickler eine wässrige Lösung eines Alkalisalzes mit einem (SiO₂V(M)-Verhältnis von 0,5 bis 0,75 und einer SiOp-Konzentration von 1 bis 4 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, worin (SiO₀) die Konzentration von SiO₀ je Volumeneinheit, ausgedrückt als Gramm-Moleküle, und (M) die Konzentration des Alkalimetalls je Volumeneinheit, ausgedrückt als Gramm-Atome, darstellen und die Ergänzungslösung eine wässrige Lösung eines Alkalisilicate mit einem (SiO₂)/(M)-Verhältnis von 0,25 bis 0,75 umfassen.

2) Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß jeweils der Entwickler und die Ergänzungslösung wenigstens 20 %, als Gramm-Atome, Kalium, bezogen auf die Gesamtmenge des Alkalimetalls, enthält.

3) Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Quelle für das in dem Entwickler und der Ergänzungslösung vorliegende Kalium aus wenigstens einer der Verbindungen Kaliumhydroxid, Kaliumborat, Kaliumpyrophosphat, tertiäres Kaliumphosphat, Kaliumpolyphosphat und/oder Kaliumsilicat besteht.

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4) Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens ein anionisches oder amphoteres oberflächenaktives Mittel zu dem Entwickler und der Ergänzungslösung zugesetzt wird.

5) Entwicklungsverfahren, dadurch gekennzeichnet, daß eine Anzahl positiv wirkender lichtempfindlicher planographischer Druckplatten, die jeweils aus einer Aluminiumplatte mit einer anodisch oxidierten Oberfläche und einer darauf gebildeten lichtempfindlichen Schicht einer o-Chinondiazidverbindung besteht, bildweise belichtet wird, und die belichteten Platten mit einem, eine wässrige Lösung eines Alkalisilicate umfassenden Entwickler entwickelt werden, um die belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht zu entfernen, wobei die Entwicklung durchgeführt wird, während der Entwickler kontinuierlich kompensiert wird, so daß er ein (SiO₂)/(M)-Verhältnis von 0,5 bis 0,75 und eine SiOg-Konzentration von 1 bis 4 Gew.-?6 aufweist, wobei (SiO₂) die Konzentration von SiO₂ je Volumeneinheit, ausgedrückt als Gramm-Moleküle, und (M) die Konzentration des Alkalimetalls je Volumeneinheit, ausgedrückt als Gramm-Atome,darstellen und wobei der Gehalt an Kalium in dem Entwickler, in Gramm-Atomen, bezogen auf den gesamten Alkaligehalt, wenigstens 20 % beträgt.

6) Verfahren nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht auf den Träge

Träger in einer Menge von 0,5 bis etwa 7 g/m aufgezogen

7) Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht eine o-Chinondiazidverbindung und ein alkalilösliches Harz umfaßt.

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8) Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß als alkalilösliches Harz ein Phenolharz vom Novolac-Typ verwendet wird.

9) Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß das alkalilösliche Harz in einer Menge von 50 bis 85 Gew.-% vorliegt und das o-Chinondiazid in einer Menge von 15 bis 50 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht der lichtempfindlichen Schicht, vorliegt.

10) Verfahren nach Anspruch 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht einen solchen Zusatz enthält, daß nach Belichtung und Entwicklung die Bereiche,in denen die lichtempfindliche Schicht vorliegt, von dem nicht-bedeckten Träger visuell unterscheidbar sind.

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