DE2925362A1 - Mittel zum schutz der oberflaeche von lithographischen druckplatten - Google Patents

Mittel zum schutz der oberflaeche von lithographischen druckplatten

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DE2925362A1 DE19792925362 DE2925362A DE2925362A1 DE 2925362 A1 DE2925362 A1 DE 2925362A1 DE 19792925362 DE19792925362 DE 19792925362 DE 2925362 A DE2925362 A DE 2925362A DE 2925362 A1 DE2925362 A1 DE 2925362A1
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    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N3/00Preparing for use and conserving printing surfaces
    • B41N3/08Damping; Neutralising or similar differentiation treatments for lithographic printing formes; Gumming or finishing solutions, fountain solutions, correction or deletion fluids, or on-press development

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Description

£ücp!'3;:ffi!s beim EutopdisdiGi> PeieniaEit
MÖNCHEN TELEFON: 089-5554 76/7
DR. E. WIEGAND TELEGRAMME: KARPATENT
DR. M. KÖHLER TELEX. 529068 KARP D DIPl.-ING. C. GEENHARDT
HAMBURG
DIPI.-ING. ]. GlAESEK
DIPL.-ING7WTNTEMAKN D-B 000 MÖNCHEN 2
OFCOUNSEL HERZOG-WiLHELM-STR. 16
1979
W.43479/79 - Ko/G
Fuji Piioto Film Co., Ltd»,
Minami Äshigara-Shi,
Eanagawa (Japan)
Mittel ZUiS Schutz der Oberfläche von lithographischen
Druckplatten
Me Erfindung betrifft ein Mittel zum Schutz der Oberfläche VGE lithographischen Druckplatten, insbesondere ein Schutzmittel für Platten vcia Emulsionstyp»
ß der Erfindung wird ein Schutzmittel für Platten von.Emwlsioästyp für die Oberfläche lithographischer Druckplatten vorgeschlagen, das aus einer wäßrigen Phase,
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welche gelöst eine hydrophile hochmolekulare Verbindung enthält, und einer Ölphase, die ein organisches Lösungsmittel, ein nicht-ionisches oberflächenaktives Mittel vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert niedriger als 14 und ein anionisches oberflächenaktives Mittel enthält, besteht.
Die abschließende Stufe beim Verfahren der Herstellung von lithographischen Druckplatten wird allgemein als Gummierstufe bezeichnet, da in dieser Stufe die Platte mit einer Gummierlösung zum Schutz der Nichtbildbereiche überzogen wird, welche Wasser zurückhalten und die fettartige Druckfarbe abweisen. Wenn auch der Hauptzweck der Gummierung darin besteht, die Hydrophilie der Nichtbildbereiche der lithographischen Druckplatte zu desensibilisieren oder zu erhöhen, dient sie auch weiteren Zwecken. D.h. zur Verhinderung einer möglichen Schädigung der lithographischen Druckplatte während des Zeitraumes zwischen der Herstellung der Platte und dem Druck oder während des Zeitraumes, wo das Drucken unterbrochen ist, zur Verhinderung, daß der Nichtbildbereich aufnahmefähig für Druckfarbe auf Grund des Talges auf den Fingern oder anderem Fremdmaterial während der Handhabung der lithographischen Druckplatte, beispielsweise wenn sie in die Druckmaschine eingesetzt wird, ist und zur Verhinderung
der Entwicklung von Kratzern oder anderen Flecken auf dem Nichtbildbereich oder Bildbereich, welcher das Wasser abweist und die Druckfarbe annimmt, während der Handhabung der Platte.
Unter den üblichen Gummierlösungen ist die wirksamste eine Gummierlösung vom Emulsionstyp, welche aus einer Ölfarbe, die gelöst in einem organischen Lösungsmittel eine im Lösungsmittel lösliche lipophile Substanz plus ein emulgierendes oberflächenaktives Mittel enthält, und einer wäßrigen Phase, die gelöst ein wasserlösliches Dextrin ent-
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hält, besteht. Wenn diese Art einer Gummierlösung zur Gummierung einer Platte für den lithographischen Druck verwendet wird, wird der Bildbereich durch die lipophile Substanz in der Glphase geschützt, während der Nichtbildbereich durch das wasserlösliche Dextrin in der wäßrigen Phase geschützt wird. Infolgedessen nimmt der lipophile Charakter des Bildbereiches nur gering ab, selbst wenn er in Kontakt mit dem wasserlöslichen Dextrin steht.
Jedoch ist auch diese Gummierlösung vom Emulsionstyp nicht geeignet, eine Abnahme des lipophilen Charakters des Bildbereiches vollständig zu verhindern.
Die Hauptaufgabe der Erfindung besteht deshalb in einem Schutzmittel für eine lithographische Druckplatte, die den lipophilen*üe% BÜdbereiches der Platte nicht verringert .
Im Rahmen ausgedehnter Untersuchungen hinsichtlich Gummierlösungen vom Emulsionstyp zur Erzielung der vorstehenden Aufgabe wurde nun unerwarteterweise gefunden, daß diese Aufgabe erreicht werden kann, wenn ein nichtionisches oberflächenaktives Mittel vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert (Hydrophil-Lipophil-Gleichgewicht) von weniger als 14 und ein anionisches oberflächenaktives Mittel in die Ölphase einer üblichen Gummierlösung vom Emulsionstyp einverleibt werden. Somit liefert die Erfindung ein Schutzmittel vom Emulsionstyp für die Oberfläche einer lithographischen Druckplatte, die aus einer wäßrigen Phase, die gelöst eine hydrophile hochmolekulare Verbindung enthält, und einer Ölphase, die ein organisches Lösungsmittel, ein nicht-ionisches oberflächenaktives Mittel vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert niedriger als 14 und ein anionisches oberflächenaktives Mittel enthält, besteht.
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Im Rahmen der Beschreibung der Erfindung werden nachfolgend das nicht-ionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert von niedriger als 14 und das anionische oberflächenaktive Mittel in der Ölphase, die die Erfindung kennzeichnen, im einzelnen beschrieben.
Das nicht-ionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert niedriger als 14, besteht bevorzugt aus einer Verbindung, die durch die folgende Formel I wiedergegeben wird und einen HLB-Wert niedriger als 14 hat:
worin R eine Alkylgruppe, ρ die Zahlen 1 oder 2, m eine ganze Zahl von 1 bis 4 und η eine ganze Zahl von 2 oder mehr bedeuten.
Die Alkylgruppe R hat vorzugsweise 8 bis 18 Kohlenstoff atome und ist eine geradkettige Alkylgruppe, obwohl auch verzweigtkettige Alkylgruppen brauchbar sind, beispielsweise eine Octylgruppe, eine Nonylgruppe, Decylgruppe, Undecylgruppe, Dodecylgruppe (Laurylgruppe), Tetradecylgruppe oder Hexadecylgruppe (Cetylgruppe). Die am stärksten bevorzugten Alkylgruppen sind Octylgruppen und Nonylgruppen. Obwohl R im allgemeinen in der ParaStellung hinsichtlich der Gruppe - 0^ c m H2^— ° "^~nH ist, kann es auch in der Meta- oder Ortho-Stellung stehen. Die bevorzugte Zahl für ρ ist 1 und für m ist sie 2. Während η unterschiedliche Zahlen entsprechend der Art der Alkylgruppe R bedeutet, ist es innerhalb eines solchen Be-
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reiches, daß der Wert von HLB ßisdriger als 14 and vorzugsweise im Bereich von 4 bis .12s asi stärksten bevorzugt .von 7 bis 12 liegt»
Schutzmittel, die ein nieM-icnisches oberflächenaktives Mittel vom Alkylpfrersyltyp mit einem HLB-Wert größer als 14 enthalten^ sind nicht günstig,, da sie den lipophilen Charakter des Bildbereiches der lithographischen Druckplatte verringern«,
Spezifische Beispiele for- nicht-ionische oberflächenaktive Mittel tos ÄlkylpheMyltyp mit einem HLB-Wert -niedriger als 14 umfassen Polyoxyraietfoylenoctylphenyläther, PolyoxymethylenaonyIphenyläther, Polyoxymethylencetylphenylather, Polyoxymethyienlaurylphenyläther, PoIyoxyät-hylenocty lphenylather, PolyoxyäthylennonylphenyI-äthert Polyosyäthylendeeylphenylather,"Polyosgräthylenlaurylpbenylätliei-, PolyoxypropylenoctyIphenyläther, PoIyoxypropylennonylphenyläther, Polyosiypropylendecylphenyiäther, Polyo^rpropylenlaurylphenyläther, Polyoxypropylencetylphenyllther1, Polyo^rbutylemoctyIphenyläther, PolyoxybutylennonyIphenyläther5Poly®3^butylendecyIphenyläthers Polyoxybutyleniaarylplieajjrlätlier, PoiyoxybutylencetyIphenyläther und PolyoxyätliylendisionyIphenyläther, wobei diese sämtlichen Beispiele eines; HLB-Wert niedriger als 14 besitzen." Besonders vorteilhaft .für äle Zwecke der Erfin-" dung sind diejenigen vom Polyosiyäthylentyp, wie Polyoxyäthylennonylpheßylät.her und Polyoxyäthylenoctylplienyläther«
-- Beispiele für die erfiniaragsgemäß eingesetzten anionischem oberflächenaktiven Mittel sind aliphatische Säuresalze, vorzugsweise Salze von Säuren mit 8 bis 22 Kohlenstoffatomen, Salze von Allcylsuifatesterii^ vorzugsweise Salze von geradkettig«! oder verzweigtkettigen Alkylestern mit 8 bis 18 Kohlenstoffatomen, Alkylbenzolsulfonate, worin der Alky!anteil geradkettige oder verzweigt-
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kettig ist und vorzugsweise 8 bis 18 Kohlenstoffatome besitzt, Alkylnaphthylensulfonate, worin der Alkylanteil geradkettig oder verzweigtkettig ist und vorzugsweise 3 bis 10 Kohlenstoffatome besitzt, Salze von Dialkylsulfosuccinatestern, worin die Alkylgruppe geradkettig oder verzweigtkettig ist und 2 bis 18 Kohlenstoff atome besitzt, beispielsweise eine sec.-Butylgruppe, eine tert.-Butylgruppe, eine Hexylgruppe, eine 2-Äthylhexylgruppe, eine Nonylgruppe, eine Decylgruppe oder eine Dodecylgruppe, Salze von Alkylphosphatestern, worin der Alkylanteil geradkettig oder verzweigtkettig ist und vorzugsweise 8 bis 18 Kohlenstoffatome besitzt, Kondensate von Naphthalinsulfonsäuren mit Formalin und Salze von Polyoxyäthylenalkylsulfatestern, vorzugsweise mit bis zu 6 Polyoxyäthyleneinheiten und mit einer geradkettigen oder verzweigtkettigen Alkylgruppe mit 8 bis 18 Kohlenstoffatomen. Die am stärksten bevorzugten anionischen oberflächenaktiven Mittel stellen Salze von Dialkylsulfosuccinaten dar. Spezifische Beispiele für Salze von Dialkylsulfosuccinaten sind Natriura-di(2-äthylhexyl)sulfosuccinat, Natrium-dinonylsulfosuccinat und Natrium-dilaurylsulfosuccinat.
Das Plattenschutzmittel, welches eine Kombination des nicht-ionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp und des vorstehend angegebenen anionischen oberflächenaktiven Mittels enthält, senkt den lipophilen Charakter des Bildbereiches nicht so stark wie ein Plattenschutzmittel, welches jedes der beiden oberflächenaktiven Mittel allein enthält. Die Summe der Mengen der beiden Arten von oberflächenaktiven Mitteln, wie sie erfindungsgemäß einzusetzen sind, liegt im Bereich von etwa 0,5 bis etwa 10 Gew.-%, vorzugsweise 1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels. Das geeignete Verhältnis des nicht-ionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp zu dem anionischen oberflächenaktiven Mittel liegt innerhalb des Be-
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reiches von etwa 10:1 bis 1:10, vorzugsweise etwa 5:1 bis 1:5, auf das Gewicht bezogen.
Die vorstehend angegebenen beiden Arten von oberflächenaktiven Mitteln werden in einem organischen Lösungsmittel gelöst, um die Ölphase des Plattenschutzmittels gemäß der Erfindung zu bilden. Das bevorzugte organische Lösungsmittel ist in Wasser unlöslich, beispielsweise ein Kohlenwasserstoff wie z.B. Terpentinöl, Xylol, Toluol, n-Heptan, Lösungsnaphtha, Kerosin, Mineralsprit, Erdölfraktionen mit Siedepunkten von etwa 120 bis etwa 250°C, Plastifizierer, die sich bei weniger als 15°C verfestigen und bei mehr ale 3000C bei einer Atmosphäre sieden, beispielsweise Phthalsäurediester, z.B. Dibutylphthalat, Diheptylphthalat, Di-n-octylphthalat, Di(2-äthylhexyl)phthalat, Dinonylphthalat, Didecylphthalat, Dilaurylphthalat und Butylbenzylphthalat, aliphatische Ester zweibasischer Säuren, z.B. Dioctyladipat, Butylglykoladipat, Dioctylazelat, Dibutylsebacat, Di(2-äthylhexyl)-sebacat und Dioctylsebacat, epoxidiertes Triglycerid, z.B. epoxidiertes Sojapohnenöl, Phosphatester wie Tricresylphosphat, Trioctylphosphat und Trichloräthylphosphat und Benzoesäureester wie Benzylbenzoat.
Diese Lösungsmittel können in Kombination mit einem aliphatischen Keton wie Cyclohexanon, einem aliphatischen Halogenid wie Äthylendichlorid und einem Äthylenglykoläther wie Äthylenglykolmonomethyläther, Äthylenglykolmonophenylather oder Äthylenglykolmonobutylather verwendet werden.
Die Lösungsmittel werden in Mengen innerhalb des Bereiches von etwa 0,1 bis etwa 10 Gew.-%, vorzugsweise 0,5 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels, eingesetzt.
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Die Ölphase des Schutzmittels gemäß der Erfindung enthält bevorzugt gelöst eine lipophile Substanz zum Zweck der Erhöhung der Stabilität des Schutzmittels im emulgierten Zustand und zur Minimalhaltung der Potentialabnahme des lipophilen Charakters des Bildbereiches. Die bevorzugten lipophilen Substanzen sind solche, die gewöhnlich als Träger für lithographische Druckfarben verwendet werden. Spezifische Beispiele für geeignete lipophile Substanzen umfassen Novolakphenolharze wie Phenol-Formaldehydharze, Cresol-Formaldehydharze oder tert.-Butylphenol-Formaldehydharze,durch Kondensation von Phenol und Xylol mit Formaldehyd hergestellte Xylolharze, durch Kondensation von Phenol und Mesitylen mit Formaldehyd hergestellte Harze, Polyhydroxystyrol, bromiertes Polyhydroxystyrol, Cashewharze, teilweise veresterte Produkte aus Copolymeren des Styrols und Maleinsäureanhydrid, Melaminharze, Alkylharze, Polyesterharze, Epoxyharze, Naturharze oder Kolophonium oder modifiziertes Naturharz oder Kolophonium, wie hydriertes Kolophonium oder Kolophoniumester und Erdölharze wie Gilsonit. Novolakphenolharze, Naturharze oder Kolophonium oder modifizierte Naturharze und Kolophonium werden bevorzugt. Weitere Beispiele für geeignete lipophile Substanzen umfassen aliphatische Carbonsäuren mit 5 bis 25 Kohlenstoffatomen wie Oleinsäure, Laurinsäure,Valeriansäure, Nonylsäure, Caprinsäure, Myristinsäure und Palmitinsäure sowie Rizinusöl. Ganz gleich ob sie einzeln oder als Gemisch verwendet werden, so werden diese lipophilen Substanzen in Mengen innerhalb eines Bereiches von etwa 0,05 bis etwa 5 Gew.-%, vorzugsweise 0,1 bis 1 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels, verwendet.
Die in der wäßrigen Phase des Plattenschutzmittels gemäß der Erfindung enthaltene hydrophile hochmolekulare Verbindung dient zum Schutz des Nichtbildbereiches der lithographischen Druckplatte und ist vorzugsweise aus einem filmbildenden wasserlöslichen Harz aufgebaut.
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Beispiele für geeignete filmbildende hydrophile hochmolekulare Verbindungen sind Dextrin, Gummiarabikum, Alginate wie Natriumalginat, wasserlösliche Cellulosen wie Carboxymethylcellulose, Hydroxyäthylcellulose oder Methylcellulose, Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Polyacrylamid, wasserlösliche Copolymere, die Acrylaraideinheiten enthalten, Copolymere aus Vinylmethyläther und Maleinsäureanhydrid oder Copolymere aus Vinylacetat und Maleinsäureanhydrid. Besonders bevorzugt werden Gummiarabikum, Dextrin, Polyvinylpyrrolidon, Carboxymethylcellulose und Polyvinylalkohol. Gummiarabikum wird am stärksten bevorzugt. Diese filmbildenden hydrophilen hochmolukularen Verbindungen können unabhängig oder als Gemisch verwendet werden. Von besonderem Vorteil ist eine Kombination aus Gummiarabikum und Dextrin, welche zur Erhöhung des hydrophilen Charakters des Nichtbildbereiches ohne Verringerung des lipophilen Charakters des Bildbereiches fähig ist. Obwohl diese hydrophilen hochmolekularen Verbindungen in der wäßrigen Phase innerhalb eines weiten Konzentrationsbereiches enthalten sein können, werden sie allgemein in Mengen innerhalb des Bereiches von etwa 5 bis etwa 40 Gew.-%, vorzugsweise 10 bis 30 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels, verwendet und ihre Konzentration in der wäßrigen Phase liegt im Bereich von etwa 6 bis 60 Gew.-%, vorzugsweise 15 bis 50 Gew.-?6.
Die wäßrige Phase des erfindungsgemäßen Plattenschutzmittels enthält vorzugsweise ein Benetzungsmittel, damit die wäßrige Phase in geeigneter Weise auf dem Nichtbildbereich der lithographischen Druckplatte ausgebreitet bleibt. Bevorzugte Benetzungsmittel sind mehrwertige Alkohole, und spezifische Beispiele sind Äthylenglykol, Diäthylenglykol, Triäthylenglykol, Propylenglykol, Butylenglyko1, Pentandiol, Hexylenglykol, Tetraäthylenglykol, Polyäthylenglykol, Dipropylenglykol, Tripropylenglykol, Glycerin, Sorbit oder Pentaerythrit. Glycerin wird am stärksten bevorzugt. Diese
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Benetzungsmittel werden in Mengen von etwa 0,5 bis etwa 10 Gew.-%, vorzugsweise 1 bis 5 Gew.-96, bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels, verwendet.
Die wäßrige Phase des Plattenschutzmittels gemäß der Erfindung enthält vorzugsweise ein wasserlösliches Salz zum Zweck der Erhöhung des hydrophilen Charakters des Nichtbildbereiches der lithographischen Druckplatte, wenn sie mit dem Plattenschutzmittel überzogen wird. Die vorteilhaften wasserlöslichen Salze umfassen Alkalisalze und Ammoniumsalze und besonders vorteilhaft sind wasserlösliche Alkalisalze und Ammoniumsalze von Säuren wie Essigsäure, Molybdänsäure, Borsäure, Salpetersäure, Schwefelsäure, Phosphorsäure und Polyphosphorsäure. Spezifische Beispiele sind Ammoniumacetat, Natriumacetat, Kaliumacetat, Natriumraolybdat, Kaliummolybdat, Natriumborat, Ammoniumborat, Lithiumnitrat, Natriumnitrat, Kaliumnitrat, primäres Natriumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, tertiäres Natriumphosphat, primäres Kaliumphosphat, sekundäres Kaliumphosphat, tertiäres Kaliumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat und Natriumpolyphosphat. Besonders bevorzugt werden Kaliumacetat, Natriumborat, Ammoniumborat, Kaliumnitrat, Natriummolybdat, Kaliummolybdat und Kaliumsulfat. Ganz gleich, ob sie einzeln oder als Geraisch verwendet werden, so werden diese wasserlöslichen Salze in Mengen von etwa 0,05 bis etwa 2 Gew.-%, vorzugsweise 0,1 bis 1 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels verwendet.
Falls Gummiarabikum als hydrophile hochmolekulare Verbindung, die gelöst in der wäßrigen Phase des Plattenschutzmittels enthalten ist, verwendet wird, wird der pH-Wert der wäßrigen Phase auf sauer gesteuert, vorzugsweise auf den Bereich von 1 bis 5, stärker bevorzugt 1 bis 3. Falls deshalb die wäßrige Phase nicht sauer ist, wird eine Säure verwendet, um sie sauer zu machen. Die zur pH-Einstellung verwendeten Säuren umfassen Mineralsäuren wie Phos-
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phorsäure, Schwefelsäure oder Salpetersäure und organische Säuren wie Zitronensäure, Tanninsäure, Äpfelsäure, Eisessig, Milchsäure, Oxalsäure oder p-Toluolsulfonsäure. Phosphorsäure ist besonders vorteilhaft, da sie nicht nur als Mittel zur Einstellung des pH-Wertes der wäßrigen Phase dient, sondern auch eine Fleckenbildung des Nichtbildbereiches verhindert, und sie wird in einer Menge von 0,1 bis 8 Gew.-%, vorzugsweise 0,5 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der wäßrigen Phase, eingesetzt.
Ein typisches Beispiel des Verfahrens zur Herstellung des Plattenschutzmittels gemäß der Erfindung wird nachfolgend beschrieben.
Zunächst wird die hydrophile hochmolekulare Verbindung in Wasser zur Bildung der wäßrigen Phase gelöst. Erforderlichenfalls wird ein Benetzungsmittel, ein wasserlösliches Salz und/oder eine Säure zur wäßrigen Phase zugesetzt. Getrennt wird ein oberflächenaktives Mittel in einem organischen Lösungsmittel zur Bildung der Ölphase gelöst. Erforderlichenfalls wird eine lipophile Substanz zu der Ölphase zugegeben. Die Ölphase wird tropfenweise zu der wäßrigen Phase unter Rühren zugesetzt. Ein Homogenisator wird zur Förderung der Emulgierung des Gemisches eingesetzt, bis das Schutzmittel gemäß der Erfindung hergestellt ist.
Obwohl das Plattenschutzmittel gemäß der Erfindung mit einer Vielzahl von lithographischen Druckplatten verwendet werden können, wird es vorteilhaft mit lithographischen Druckplatten eingesetzt, welche durch Ausführung der bildweisen Belichtung und Entwicklung einer vorsensibilisierten lithographischen Druckplatte, die nachfolgend als PS-Platte bezeichnet wird, hergestellt wurden, welche aus einem mit einer lichtempfindlichen Schicht überzogenen
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Aluminiumsubstrat besteht.
PS-Platten, die von besonderem Vorteil für die Aufgabe gemäß der Erfindung sind, werden nachfolgend im einzelnen erläutert.
Die Aluminiumplatten, welche vorteilhaft als Substrat verwendet werden, umfassen reine Aluminiumplatten und Aluminiumlegierungsplatten sowie mit Aluminium beschichtete oder metallisierte Kunststoffolien. Diese Aluminiumplatten werden vorzugsweise einer Oberflächenbehandlung wie Körnung, Eintauchen in eine wäßrige Lösung von Natriumsilicat, Kaliumfluorzirconat oder Phosphat oder Anodisierung unterzogen. Weitere vorteilhafte Substrate sind Aluminiumplatten der in der US-Patentschrift 2 714 066 beschriebenen Art, welche gekörnt sind und anschließend in eine wäßrige Lösung von Natriumsilicat eingetaucht werden, sowie Aluminiumplatten der in der US-Patentschrift 3 181 461 beschriebenen Art, die anodisiert werden, bevor sie in eine wäßrige Lösung eines Alkalisilicates eingetaucht werden. Die Anodisierung wird unter Anwendung einer Aluminiumanode in einem Elektrolyt ausgeführt, der eine oder mehrere wäßrige oder nicht-wäßrige Lösungen von anorganischen Säuren wie Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure oder Borsäure oder organischen Säuren wie Oxalsäure oder Sulfaminsäure oder deren Salze enthält.
Das Verfahren der Elektroabscheidung von Silicat, wie in der US-Patentschrift 3 658 662 beschrieben, kann gleichfalls vorteilhaft erfindungsgemäß angewandt werden.
Ein weiteres Beispiel für vorteilhafte Substrate ist die Aluminiumplatte der in der US-Patentschrift 4 087 341, der japanischen Patentveröffentlichung 27481/71 und der japanischen Patentanmeldung 30503/77 beschriebenen Art,
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welche zunächst elektrogekörnt wird und dann in der vorstehend beschriebenen Weise anodisiert wird. Ein weiteres Beispiel ist eine Aluminiumplatte der in der US-Patentschrift 3 834 998 beschriebenen Art, die gekörnt ist, chemisch geätzt ist und in der vorstehenden Weise anodisiert ist. Diese Oberflächenbehandlungen werden nicht nur zu dem Zweck angewandt, die Oberfläche des Substrates hydrophil zu machen, sondern auch zum Zweck der Verhinderung irgendwelcher nachteiliger Reaktionen mit der auf dem Substrat aufgebrachten lichtempfindlichen Masse und zur Ausbildung einer starken Bindung zwischen dem Substrat und der lichtempfindlichen Schicht.
Bevorzugte Beispiele von Massen zur Ausbildung der lichtempfindlichen Schicht auf diesen Aluminiumsubstraten umfassen die folgenden:
(1) Aus Diazoharzen aufgebaute Massen
Die Diazoharze, deren typische Beispiele ein Kondensat von p-Diazodiphenylamin und Paraformaldehyd sind, können wasserlöslich oder unlöslich sein und sind vorzugsweise in Wasser unlöslich und in den üblichen organischen Lösungsmitteln löslich. Besonders bevorzugte Diazoverbindungen sind Salze eines Kondensates von p-Diazodiphenylamin und Formaldehyd oder Acetaldehyd, beispielsweise Verbindungen mit zwei oder mehr Diazogruppen im Molekül in der Form eines Phenolates, Fluorcaprates oder Salzes von Sulfonsäuren wie Triisopropylnaphthalinsulfonsäure, 4,4-Biphenyldisulfonsäure, 5-Nitro-ortho-toluolsulfonsäure, 5-Sulf©salicylsäure, 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure, 2-Nitrobenzolsulfonsäure, 3-Chlorbenzolsulfonsäure, 3-Brombenzolsulfonsäure, 2-Chlor-5-nitrobenzolsulfonsäure, 2-Fluorcapry!naphthalinsulfonsäure, l-Naphthol-5-sulfonsäure, 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäure und Paratoluolsulfonsäure. Weitere bevorzugte Diazoharze um-
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fassen ein Kondensat von 2,5-Dimethoxy-4-p-tolylmercaptobenzoldiazonium und Formaldehyd in Form der vorstehend erläuterten Salze.
Ein weiteres bevorzugtes Beispiel ist das in der britischen Patentschrift 1 312 925 beschriebene Diazoharz.
Obwohl diese Harze allein als lichtempfindliches Material zur Herstellung eines Widerstandes dienen können, werden sie bevorzugt in Kombination mit einem Binder eingesetzt.
Eine Vielzahl von Polymeren kann als Binder verwendet werden. Die bevorzugten Binder enthalten Hydroxy-, Amino-, Carbonsäure-, Amido-, Sulfonamid-, aktive Methylen-, Thioalkohol- und Epoxygruppen und andere Gruppen. Beispiele für bevorzugte Binder sind Sjhelladc der in der britischen Patentschrift 1 350 521 beschriebenen Art, ein Polymeres der in der britischen Patentschrift 1 460 und der US-Patentschrift 4 125 276 beschriebenen Art, welches Hydroxyäthylacrylat- oder Hydroxyäthylmethacrylat-
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einheiten als überwiegende wxederholende Einheiten enthält, Polyamidharze der in der US-Patentschrift 3 751 beschriebenen Art, Phenolharze und Polyvinylacetalharze wie Polyvinylformalharze oder Polyvinylbutyralharze, die von der in der britischen Patentschrift 1 074 392 beschriebenen Art sind, lineare Polyurethanharze, mit Phthalsäure veresterte Polyvinylalkoholharze, durch Kondensation von Bisphenol A und Epichlorhydrin hergestellte Epoxyharze, Polymere mit einer Aminogruppe wie Polyaminostyrol oder Polyalkylamino^ietbjacrylat, Cellulose wie Celluloseacetat, Cellulosealkyläther, Celluloseacetatphthalat, die von der in der US-Patentschrift 3 660 097 beschriebenen Art sind.
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ORIGINAL INSPECTED
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Diese Binder sind günstigerweise in der den lichtempfindlichen Widerstand bildenden Masse in einer Menge von 40 bis 95 Gew.-% enthalten. Ein höherer Bindergehalt, d.h. ein niedrigerer Gehalt an Diazoharz, ergibt natürlich eine größere Empfindlichkeit, jedoch wird dies durch die niedrige zeitabhängige Stabilität ausgeglichen. Der optimale Gehalt des Binders liegt im Bereich von etwa 70 bis 90 Gew.-%.
Die aus derartigen Diazoharzen aufgebauten Massen können gewünschtenfalls andere Zusätze wie Phosphorsäure, Farbstoff und Pigmente enthalten, wie in der US-Patentschrift 3 236 646 angegeben.
(2) Aus o-Chinondiazidverbindungen aufgebaute Massen
Besonders bevorzugte o-Chinondiazidverbindungen sind o-Naphthochinondiazidverbindungen der in den US-Patentschriften 2 766 118, 2 767 092, 2 772 972, 2 859 112,
2 907 665, 3 046 110, 3 046 111, 3 046 115, 3 046 118,
3 046 119, 3 046 120, 3 046 121, 3 046 122, 3 046 123, 3 061 430, 3 102 809, 3 106 465, 3 635 709, 3 647 443 und zahlreichen weiteren Veröffentlichungen beschriebenen Art. Besonders bevorzugt werden o-Naphthochinondiazidosulfonsäureester oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäureester von aromatischen Hydroxyverbindungen sowie o-Naphthochinondiazidosulfonamid oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäureamide von aromatischen Aminoverbindungen. Sehr wirksame Verbindungen sind Kondensate von Pyrogallol und Aceton, die mit o-Naphthochinondiazidosulfonsäure verestert sind, wie in der US-Patentschrift 3 635 709 beschrieben, Polyester mit einer endständigen Hydroxylgruppe, die mit einer o-Naphthochinondiazidosulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäure verestert ist, wie in der US-Patent-
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schrift 4 028 111 beschrieben j Homopolj ^re von p-Hydroxystyrol oder Copolymere hiervon mit weiteren copolymerisierbaren Monomeren, die mit o-Naphthochinondiazidosulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäure verestert sind, wie in der US-Patentschrift 4 139 384 beschrieben.
Obwohl diese o-Chinonazidverbindungen unabhängig verwendet werden können, werden sie bevorzugt als Gemisch mit alkalilöslichen Harzen eingesetzt. Geeignete alkalilösliche Harze umfassen Phenolharze vom Novolaktyp wie Phenolformaldehydharz, o-Cresolformaldehydharz oder m-Cresolformaldehydharz. Stärker bevorzugt werden diese Phenolharze in Kombination mit tert.-Butylphenolformaldehydharzen verwendet, welche ein Kondensat von Formaldehyd und Phenol oder Cresol, die mit einer Alkylgruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen substituiert sind, darstellt, wie in der US-Patentschrift 4 123 279 beschrieben. Diese alkalilöslichen Harze sind in der den lichtempfindlichen Widerstand bildenden Masse in einer Menge von etwa 50 bis 85 Gew.-%, vorzugsweise 60 bis 80 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Masse, enthalten.
Aus derartigen o-Chinondiazidverbindungen aufgebaute lichtempfindliche Massen können gewünschtenfaIls noch andere Zusätze wie Pigmente, Farbstoff und Plastifizierer enthalten.
(3) Aus lichtempfindlichen Azidverbindungen aufgebaute Massen
Geeignete lichtempfindliche Azidverbindungen sind aromatische Azidverbindungen, worin eine Azidgruppe an den aromatischen Ring entweder direkt oder über eine Carbonyl-
90^381/0850
gruppe &der- Suiisn^ ^-Euppe ge'^LrsdL.. int. Bei des1 setzung se Lieht wird die Aziugrup/pO der Verbindung unter Bildung von Nitreo zerse-tst, welches iß verschiedene Reaktionen eintritt, die die Verbindung unlöslich machen. Die bevorzugten aromatischen Azidoverbindungen sind solche, die eine oder mehrere Gruppen wie Azidophenyl-, Azidostyryl-, Azidobenzal-, Azidobenzoyl- und Azidocinnamoylgruppen enthalten. Spezifische Beispiele sind 4,4'-DIaZiClOChSIeGB9 4-Azido-4'-(azidobenzoyläthoxy)chaIcon, N,N-Bis-p-azidobeKaal-p~phenylendiamin, 1,2,6-Tri{4'-azidobenzoxy)hexan, 2-Azido-3-chlor-benzochinon, 2,4—Diazido-4'-äthöxy-azobenzol, 2,6->Di-(4'-azidobenzal)~4-methylcyclohexan, 4,4'-Diazidobenzophenon, 2,5-Diazido-3,6-diclTiiorbenzoclhinon, 2,5~Bis(4-Azidostyryl)-1,3,4-oxadiazol, 2-(4-Azidocinnamoyl)thiophen, 2,5-Di(4'-azidobenzal)cyclohexanon, 4,4'-Diazidopheny!methan, l-(4-Azidophenyl)-5-furyl-2-penta-2,4-dien-l-on, l-(4-Azidophenyl )-5-(4-methoxyphenyl )-peista-l, 4-dien-3-on, 1- (4-Azidophenyl)-3-(1-naphthyl)propen~l~on, l-(4~Azidophenyl)-3-(4-dimethylaininopiienjl)pi'<opan-l-on, l-(4-Azidophenyl)-5-phenyl»1,4-pentadien-3-on, 1-(4-Azidophenyl)-3-(4-nitrophenyl)-2-propen-l-on, l-(4~Azidophenyl)-3-(2-furyl)-2-propen-1-on, l,296~Tisi(4'-azidobenzoxy)hexan, 2,6-Bis-(4-azidoben25ylidin~p-tr*butyl)cyclohexanon, 4,4'-Diazidodibenzalaceton, 4,4'™Diazidostilben-2,2i-disulfonsäure, 4'~Azidobenzalacetophenon-2-sulfonsäure, 4,4-iDiazidostilben-OC -carbonsäure, Di~(4~azido-2'-Iiydroxybenzal)aceton-2-sulfonsäure, 4-Azidobenzalacetophenon-2-sulfonsäure, 2-Azido-1, 4-dibenzolsulfonylaminonaphthalin oder 4,4-Diazidostilbsa-2,2i-«iisiilf0Ksäwreanilid.
Diese niedrig molekularen aromatischen Diazidverbindungen können vorteilhafterweise durch azidhaltige Polymere ersetzt werden, wie sie in den japanischen PatentveröffentHebungen 9047/69, 31837/69, 9613/70, 24915/70, 2-5713/70 scvwie den japanischen Patentanmeldungen S102/75s 84302/75, 84303/75 und 12984/78 beschriebe» Sim'..-.
^.09881/0880
Die vorstehend aufgeführten lichtempfindlichen Azidverbindungen werden bevorzugt in Kombination mit einem Polymeren eingesetzt, welches als Binder wirkt. Die bevorzugten Binder sind alkalilösliche Harze. Beispiele von alkalilöslichen Harzen umfassen Naturharze wie Schellack oder Kolophonium, Phenolharze vom Novolaktyp wie Phenolformaldehydharze oder m-Cresolformaldehydharze, Homopolymere von ungesättigten Carbonsäuren oder Copolymere derselben mit weiteren copolymerisierbaren Monomeren wie Polyacrylsäure, Polymethacrylsäure, Methacrylsäure-Styrolcopolymere, Methacrylsäure-Methylacrylatcopolymere oder Styrol-Maleinsäureanhydrxdcopolymere, durch Umsetzung eines teilweisen oder vollständigen Verseifungsproduktes von Polyvinylacetat mit Aldehyden wie Acetaldehyd, Benzaldehyd, Hydroxybenzaldehyd oder Carboxybenzaldehyd unter Bildung eines teilweisen Acetals hergestellte Harze und Polyhydroxystyrol. Andere Beispiele für Binder sind in organischen Lösungsmitteln lösliche Harze wie Cellulosealkyläther, beispielsweise Cellulosemethyläther und Celluloseäthyläther.
Der Binder ist vorzugsweise in einer Menge von etwa IO bis etwa 90 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der aus der lichtempfindlichen Azidverbindung aufgebauten Masse enthalten.
Die aus der lichtempfindlichen Azidverbindung aufgebauten Massen können gewünschtenfalls einen Farbstoff, Pigment, einen Plastifizierer wie Phthalatester, Phosphatester, aliphatischen Carbonsäureester, Glykol oder SuIfonamid und einen Sensibilisator wie Michlers-Keton, 9-Fluorenon, l-Nitropyren, 1,8-Dinitropyren, 2-Chlor-l,2-benzanthrachinon, 2-Brom-l,2-benzanthrachinon, Pyren-l,6-chinon, 2-Chlor-l,8-phthaloy!naphthalin oder Cyanoacridin enthalten.
90388 1/0860
Obwohl die Grundstruktur der PS-Platte, wie sie für die Zwecke der Erfindung besonders geeignet ist, aus einem mit einer aus den vorstehend abgehandelten lichtempfindlichen Materialien aufgebauten lichtempfindlichen Schicht abgedeckten Aluminiumsubstrat besteht, kann die lichtempfindliche Schicht auch gewünschtenfaIls mit einer oder mehreren Harzschichten überzogen sein, wie sie spezifisch in der US-Patentschrift 3 136 637 beschrieben sind, worin das Substrat mit in der angegebenen Reihenfolge einer lichtempfindlichen Schicht, einer lipophilen Harzschicht, einer hydrophoben Harzschicht, einer wasserunlöslichen Harzschicht und einer weiteren Harzschicht, welche durch ein Lösungsmittel erweicht wird, bedeckt ist. Eine PS-Platte von ähnlicher Struktur ist in den britischen Patentschriften 1 478 333 und 1 478 224 beschrieben und diese Struktur ist ebenfalls im Rahmen der vorliegenden Erfindung brauchbar.
Die folgende Erläuterung zeigt, wie das Plattenschutzmittel gemäß der Erfindung auf eine PS-Platte in einer bevorzugten Ausführungsform aufgebracht wird.
Zunächst wird die PS-Platte bildweise belichtet und entwickelt,um die lithographische Druckplatte herzustellen. Die erhaltene Platte wird mit Wasser gewaschen, das Wasser auf der Platte wird mit Watte entfernt, eine geeignete Menge des Schutzmittels wird auf die Platte gegossen und ein Schwamm wird zur Ausbreitung des Mittels über die gesamte Oberfläche der Platte verwendet. Infolge dieser Verfahren wird der Nichtbildbereich der Platte in der Weise geschützt, daß die lithographische Druckplatte eine ausgedehnte Lagerung aushalten kann» Die Platte wird mit Wasser zur Entfernung des Gummis gewaschen, bevor mit dem üblichen Druckverfahren begonnen wird. Das Schutzmittel gemäß der Erfindung senkt den lipophilen Charakter des Bildbereiches der lithographischen Platte nicht,obwohl es zur Erhöhung
903 8 81./0 8 50 ·
des hydrophilen Charakters des Nichtbildbereiches geeignet ist.
Das Schutzmittel gemäß der Erfindung arbeitet am wirksamsten, wenn es mit einer lithographischen Druckplatte angewandt wird, welche aus einer PS-Platte hergestellt wurde, wie sie in den britischen Patentschriften 1 460 978 und 1 505 739 beschrieben ist.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand der Beispiele erläutert, worin sämtliche Prozentsätze auf das Gewicht bezogen sind.
Beispiele 1 bis 7 und Vergleichsbeispiele 1 und 2
Ein 0,24 mm dickes Aluminiumsubstrat wurde durch Eintauchen in eine 7 %-ige wäßrige Lösung von tertiärem Natriumphosphat bei 60°C entfettet und nach der Wasserwäsche wurde eine Suspension von Bims in Wasser auf das Substrat gegossen, wobei es durch Reiben mit einer Nylonbürste gekörnt wurde. Nach der Wäsche mit Wasser wurde das gekörnte Substrat während eines Zeitraumes von 30 bis 60 Sek. in eine 5 %-ige wäßrige Lösung von Natriumsilicat JIS Nr.3 (Molarverhältnis von SiO2 zu Na2O = 3,1 zu 3,3) eingetaucht, die auf 70°C gesteuert war.
Nach gründlicher Wäsche mit Wasser wurde das Substrat getrocknet und mit der folgenden lichtempfindlichen Lösung A oder B überzogen. Das mit jeder lichtempfindlichen Lösung überzogene Substrat wurde bei 1000C während eines Zeitraumes von 2 Min. getrocknet.
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ep
Lichtempfindliche Lösung A " ■ " - . ■
Copolyineres aus 2-Hydroxyäthylmethacrylat (hergestellt nach dem Verfahren von Beispiel 1 der US-Patentschrift 4 123 276 0,7g
Salz der 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäure mit einem Kondensat von p-Diazodiphenylamin and Paraformaldehyd 0,1 g
Ölblau Nr.603 (CI. 74350, Produkt der Orient Chemical Industries Co., Ltd.) 0,03 g
2-Methoxyäthanol 6g
Methanol 6g
Äthylendichlorid 6 g
Lichtempfindliche Lösung B
Lichtempfindliche Lösung A 18,83 g
Halbester (Molekulargewicht etwa 1500) aus Styrol/Maleinsäureanhydridcopolymerem (Molarverhältnis von Styrol zu Maleinsäureanhydrid =1,5 : 1 bis 2:1)
mit 2-Methylpentanol-4 0,014 g
Jede lichtempfindliche Lösung wurde aufgetragen bis das Trockenüberzugsgewicht 2,0 g/m betrug. Die auf diese Weise hergestellten lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten wurden als Platten A bzw. B bezeichnet. Jede Platte wurde bildweise während eines Zeitraums von 45 Sek. mit einer Kohlenbogenlampe (30 Ampere) im Abstand von
9 0 3 a 8 1 / 0 8 5 0
70 cm belichtet. Anschließend wurde die Platte in eine Entwicklerlösung der folgenden Zusammensetzung bei Raumtemperatur während eines Zeitraumes von 1 Min. eingetaucht und die Oberfläche der Platte schwach mit Watte gerieben, um den unbelichteten Bereich zu entfernen. Die Produkte werden als lithographische Druckplatten A bzw. B bezeichnet.
Entwicklerlösung
Natriumsulfit Benzylalkohol Triäthanolamin Nonoäthanolamin
Perex NBL (Natrium-tert.-butylnaphthalinsulfonat der Kao-Atlas Co., Ltd.)
Wasser
Eine wäßrige Lösung C der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt und eine Lösung D der weiteren nachfolgend angegebenen Zusammensetzung wurde allmählich zu der wäßrigen Lösung C unter kräftigem Rühren zugefügt und die erhaltene Emulsion wurde weiterhin unter Anwendung eines Homogenisators emulgiert, bis das Schutzmittel gemäß der Erfindung hergestellt war.
Wäßrige Lösung C
Gummiarabikum 4 g
Dextrin 16 g
Phosphorsäure (85 %) 0,2 g
Wasser 75 g
90b'8 81/0850
3 g
30 g
20 g
5 g
30 g
1000 ml
Lösung D
Natriumdilaurylsulfosuccinat 1,0 g
Dibutylphthalat 2,Og
nicht-ionisches oberflachenaktxves Mittel vom Alkylphenyltyp (siehe
Tabelle I) 1,0 g
Kolophoniumester (Produkt der
Arakawa Chemical Co. t Ltd.) 0,5 g
Die vorhergehend hergestellte lithographische Druckplatte wurde mit Wasser gewaschen, der Überschuß an Wasser mit einem Schwamm entfernt, eine geringe Menge eines Schutzmittels tropfenweise aufgetropft und ein Schwamm zur Ausbreitung des Mittels zur Abdeckung der gesamten Oberfläche der Druckplatte verwendet. Anschließend wurde die Platte mit Wasser gewaschen, um das Schutzmittel von der Oberfläche zu entfernen und in eine Druckmaschine zum Drucken eingesetzt. Der lipophile Charakter der Platte wurde bewertet, indem die Anzahl der verbrauchten Bögen gezählt wurde, bevor Drucksachen mit zufriedenstellender Dichte der Druckfarbe erhalten wurden, wobei diese Anzahl nachfolgend als Anzahl der Abfallbögen angegeben wird. Die Ergebnisse der Untersuchung sind in der nachfolgenden Tabelle I aufgeführt.
90 "K5S 1/08 50
Tabelle I HLB Anzahl der Abfallbbgen
nicht-ionisches
oberflächenakt i-
ves Mittel vom
Alkylphenyltyp
8
10
Druckplatte
A
Druckplatte
B
Versuch
Nr.
Polyoxyäthylen-
nonylphenyläther
ebenso
12 10
10
10
5
Beisp.l
Beisp.2
ebenso 14 10 5
Beisp.3 ebenso 18 10 5
Beisp.4 ebenso 8 40 35
Ver-
gleichs-
beisp.l
Polyoxyäthylen-
dodecylphenyläther
10 10 10
Beisp.5 ebenso 14 10 5
Beisp.6 ebenso - 10 10
Beisp.7 lediglich Lösung C 60 60
Ver-
gleichs-
beisp.2
Tabelle I zeigt den stark lipophilen Charakter des gemäß der Erfindung hergestellten Schutzmittels. Es ist darauf hinzuweisen, daß sämtliche mit den Schutzmitteln gemäß den Beispielen 1 bis 7 und den Vergleichsbeispielen 1 und 2 behandelten lithographischen Druckplatten Drucksachen ohne Flecken lieferten.
Beispiel 8
Ein mechamisch gekörntes 2S-Aluminiumsubstrat wurde teilweise durch Eintauchen in eine 2 <&-ige wäßrige Lösung
90^81/0850
-pr-
von Natriumhydroxid bei 400C während eines Zeitraumes von 1 Min. geätzt. Nach der Wäsche mit Wasser wurde das Aluminiumsubstrat in ein Gemisch aus Schwefelsäure und Chromsäure während eines Zeitraumes von etwa 1 Min. zur Freilegung der Oberfläche aus reinem Aluminium eingetaucht. Dann wurde das Substrat in eine 20 %-ige Schwefelsäure von 300C eingetaucht und der Anodisierung bei einer Gleichstromspannung von 1,5 V und einer Stromdichte von 3 A/dm unterworfen, worauf mit Wasser gewaschen und getrocknet wurde. Anschließend wurde ein Walzenüberzugsgerät zum kontinuierlichen Überziehen des Substrates mit einer lichtempfindlichen Lösung der folgenden Zusammen-Setzung verwendet, bis das Trockengewicht 2 g/m betrug.
Lichtempfindliche Lösung
Naphthochinon-l,2-diazid-(2)-5-sulfon- 5 g
säureester eines Aceton-Pyrogallolharzes (hergestellt nach dem Verfahren von Beispiel 1 der US-Patentschrift 3 635 709)
PR-50530 (tert.-Butylphenol/Formalde- 0,5 g hydharz der Sumitomo Durez Co^Ltd.)
Hitanol Nr.3110 (Cresol/Formalde- 5 g
hydharz der Hitachi Chemical Co., Ltd.)
Methyläthylketon ' 50 g
Cyclohexanon 40 g
Die Platte wurde bei 100°C während eines Zeitraumes von 2 Min. getrocknet und zeigte das Verhalten einer PS-Platte, die an einem kühlen dunklen Platz während eines Zeitraumes von 1 Jahr ohne irgendeine signifikante Schädigung ihrer Qualität gelagert werden konnte. Die in dieser Weise vorsensibilisierte lithographische Druckplatte wurde
9 0 «-ι -°. B 1 / 0 8 5 0
in einen Vakuumdruckrahmen gesetzt und an Fuji Film PS-Licht (mit einer 3 kW-Lichtquelle der Toshiba-Metallhalogenidlampe MU 2000-2-OL, Produkt der Fuji Photo Film Co., Ltd.) durch einen positiven Film während eines Zeitraumes von 30 Sek. ausgesetzt. Anschließend wurde die Platte in eine Entwicklerlösung der folgenden Zusammensetzung eingetaucht.
Entwicklerlösung
Natriumsilicat JIS Nr.3 10 g
Aerosol OS (Natrium-Isopropylnaphthalin- ^ 20 g
sulfonat der American Cyanamide Co.)
Benzylalkohol 30 g
Wasser zu 1000 ml
Die erhaltene lithographische Druckplatte wurde mit Wasser gewaschen, abgestrichen, mit einem der in der nachfolgenden Tabelle II angegebenen drei Schutzmittel gummiert und bei 80°C während eines Zeitraumes vo.i 5 Min. getrocknet. Die drei Druckplatten wurden bei einer T-üperatur von 20°C während eines Zeitraumes von 7 Tagen steilengelassen, mit Wasser zur Entfernung des Schutzmittels von der Oberfläche gewaschen, zum Drucken in einem üblichen Verfahren verwendet, wobei die Anzahl der Abfallbögen gezählt wurde und sämtliche Flecken auf den Nichtbildbereichen der Drucksachen gezählt wurden. Die Ergebnisse der Bewertung sind in der Tabelle II aufgeführt.
Tabelle II
Vergleichs- Vergleichs-Schutzmittel beisp. 1 Beisp.2 beisp.2
Anzahl der Abfallbögen 15 5 15 Flecken keine keine keine
90S Π 31/0850
Die vorstehenden Ergebnisse belegen, daß die Schutzmittel gemäß der Erfindung den lipophilen Charakter des Bildbereiches der Druckplatte nicht schädigen noch irgendwelche Flecken auf den Nichtbildbereichen hervorrufen.
Beispiel 9
Das Verfahren nach Beispiel 3 wurde wiederholt, wobei jedoch Dibutylphthalat als organisches Lösungsmittel für das Schutzmittel durch K-Solvent ersetzt wurde. Die beiden Druckplatten A und B lieferten das gleiche Ergebnis wie in Beispiel 3. .
Beispiele 10 bis 16 und Vergleichsbeispiele 3 und 4
Das Verfahren von Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei jedoch die Druckplatte mit einem Schutzmittel überzogen wurde, welches durch Emulgierung eines Gemisches einer wäßrigen Lösung E und einer Lösung F der folgenden Zusammensetzungen hergestellt worden war. Die Ergebnisse der Bewertung des lipophilen Charakters des Bildbereiches jeder Druckplatte sind in der nachfolgenden Tabelle III aufgeführt.
Wäßrige Lösung E
Gummiarabikum 4 g
Dextrin 16 g
Phosphorsäure (85 %) 0,2 g
Wasser 75 g
90S881/0850
Lösung F
Natrium-di(2-äthylhexyl)sulfo- I5Og
succinat
Dioctylphthalat 2,0 g
nicht-ionisches oberflächenaktives Mittel vom Alkylphenyltyp (siehe folgende Tabelle III)
Kolophoniumester (Produkt der 0,5 g
Arakawa Chemical Co., Ltd.)
Aus der folgenden Tabelle III ist ersichtlich, daß das Schutzmittel gemäß der Erfindung die Eigenschaft besitzt, den lipophilen Charakter des Bildbereiches einer lxthographischen Druckplatte nicht zu verringern.
80 2 881/0850
Tabelle III
nicht-ionisches oberflächenaktiver such ves Mittel vom Nr. Alkylphenyltyp
Beisp.lO Polyoxyäthylen™ nonylphenyläther
Anzahl der. Abfallbögen
Druckplatte HLB A
IO
Druckplatte B
10
Beisp.ll ebenso 10 10 10
Beisp.12 ebenso 12 10 5
Beisp.13 ebenso " 14 10 5
Ver-
gleichs-
beisp.3
ebenso 18 40 50
Beisp.14 PoIyoxyäthy1endo-
decylphenyläther
8 10 10
Beisp.15 ebenso 10 10 5
Beisp.16 ebenso 14 10 10
Ver- Schutzmittel, begleichs- stehend lediglich beisp.4 aus Lösung E
60
60
Die Erfindung wurde vorstehend anhand bevorzugter Ausführungsformen beschrieben, ohne daß die Erfindung hierauf begrenzt ist.
809881/0850

Claims (1)

  1. Patentansprüche
    11) Schutzmittel vom Emulsionstyp für die Oberfläche einer lithographischen Druckplatte, bestehend aus einer wäßrigen Phase, die gelöst eine hydrophile hochmolekulare Verbindung enthält, und einer Ülphase, die ein organisches Lösungsmittel, ein nicht-ionisches oberflächenaktives Mittel vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert, niedriger als 14, und ein anionisches oberflächenaktives Mit~tel enthält.
    2) Schutzmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das nicht-ionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp aus einer Verbindung der Formel I besteht
    worin R eine Alkylgruppe, ρ die Zahlen 1 oder 2, m eine ganze Zahl von 1 bis 4 und η eine ganze Zahl von 2 oder mehr bedeuten.
    3) Schutzmittel nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das nicht-ionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp aus dem Polyoxymethylenoctylphenyläther, Polyoxymethylennonylphenyläther, Polyoxymethylencetylphenyläther, Polyoxymethylenlaurylphenylather, Polyoxyäthylenoctylphenyläther, Polyoxyäthylennonylphenyläther, Polyoxyäthylendecylphenyläther, Polyoxyäthylenlaurylphenyläther, Polyoxypropylenoctylphenyläther, Polyoxypropylennonylphenyläther, Polyoxypropylendecylphenyläther, Polyoxypropylenlaurylphenylather, Polyoxypropylencetylphenyläther, Polyoxybiitylenoctylphenyläther, Polyoxybutylennonylphenyläther, Polyoxybutylendecylphenylather, Polyoxybutylenlauryl-
    909881/0850
    ORIGINAL INSPECTED
    phenyläther, Polyoxybutylencetylphenyläther und/oder Polyoxyäthylendinonylphenyläther, jeweils mit einem HLB-Wert niedriger als 14, besteht.
    4) Schutzmittel nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das nicht-ionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp aus Polyoxyäthylennonylphenyläther oder Polyoxyäthylenoctylphenyläther besteht.
    5) Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das anionische oberflächenaktive Mittel aus einem aliphatischen Säuresalz, einem Alkylsulfatester, einem AlleyIbenzolsulfonat, einem Alkylnaphthalinsulfonat, einem Dialkylsulfosuccinatester, einem Alkylphosphatester, einem Kondensat der Naphthalinsulfonsäure und Formalin oder einem Polyoxyäthylenalkylsulfatester besteht.
    6) Schutzmittel nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das anionische oberflächenaktive Mittel aus einem Dialkylsulfosuccinat besteht.
    7) Schutzmittel nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Dialkylsulfosuccinat aus Natriumdihexylsulfosuccinat, Natrium-di(2-äthylhexyl)-sulfosuccinat, Natrium-dinonylsulfosuccinat und/oder Natriumdilaurylsulfosuccinat besteht.
    8) Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Gesamtmenge an nicht-ionischem und anionischem oberflächenaktiven Mittel etwa 0,5 bis etwa 10 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht des Plattenschutzmittels, beträgt.
    9) Schutzmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis des nicht-ionischen oberflächenak-
    909381/0850
    tiven Mittels zu dem anionischem oberflächenaktiven Mittel etwa 10:1 bis 1:10 beträgt.
    10) Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß das organische Lösungsmittel aus einem Plastifizierer besteht, der sich bei Temperaturen niedriger als 15°C verfestigt und bei einer Temperatur höher als 300°C bei Atmosphärendruck siedet.
    11) Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß das organische Lösungsmittel aus einem in Wasser unlöslichen Lösungsmittel besteht.
    12) Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß das Lösungsmittel in einer Menge von 0,1 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht des Oberflächenschutzmittels ,vorliegt .
    13) Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Ölphase zusätzlich eine lipophile Substanz enthält, die die Stabilität der Emulsion erhöht.
    14) Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die hydrophile Verbindung aus Dextrin, Gummiarabikum, einem Alginat, einer wasserlöslichen Cellulose, Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Polyacrylamid, einem Acrylamidcopolymeren, Vinylmethyläther-Maleinsäureanhydridcopolymeren und/oder Vinylacetat-Maleinsäureanhydridcopolymeren besteht.
    15) Schutzmittel nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die hydrophile Verbindung aus Gummiarabikum, Dextrin, Polyvinylpyrrolidon, Carboxymethylcellulose und/oder Polyvinylalkohol besteht.
    90üä81/0850
    -JK-
    16) Schutzmittel nach Anspruch 15} dadurch gekennzeichnet, daß das hydrophile Polymere aus Gummiarabikum besteht.
    17) Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß die hydrophile hochmolekulare Verbindung in einer Menge von 5 bis 40 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht des Oberflächenschutzmittels, vorliegt.
    18) Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß die wäßrige Phase zusätzlich ein Benetzungsmittel enthält.
    19) Schutzmittel nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß das Benetzungsmittel aus einem mehrwertigen Alkohol besteht.
    20) Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 19, dadurch gekennzeichnet, daß die wäßrige Phase zusätzlich ein wasserlösliches Salz enthält.
    21) Verfahren zur Gummierung einer Druckplatte, dadurch gekennzeichnet, daß eine Druckplatte mit dem Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 20 überzogen wird.
    22) Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte, dadurch gekennzeichnet, daß ein druckplattenbildendes Material belichtet und entwickelt wird und die Platte mit dem Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 20 überzogen wird.
    909881/0850
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