DE2925362A1 - Mittel zum schutz der oberflaeche von lithographischen druckplatten - Google Patents
Mittel zum schutz der oberflaeche von lithographischen druckplattenInfo
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Description
£ücp!'3;:ffi!s beim EutopdisdiGi>
PeieniaEit
MÖNCHEN TELEFON: 089-5554 76/7
DR. E. WIEGAND TELEGRAMME: KARPATENT
DR. M. KÖHLER TELEX. 529068 KARP D
DIPl.-ING. C. GEENHARDT
HAMBURG
DIPI.-ING. ]. GlAESEK
DIPI.-ING. ]. GlAESEK
DIPL.-ING7WTNTEMAKN D-B 000 MÖNCHEN 2
OFCOUNSEL HERZOG-WiLHELM-STR. 16
1979
W.43479/79 - Ko/G
Fuji Piioto Film Co., Ltd»,
Minami Äshigara-Shi,
Eanagawa (Japan)
Mittel ZUiS Schutz der Oberfläche von lithographischen
Druckplatten
Me Erfindung betrifft ein Mittel zum Schutz der Oberfläche VGE lithographischen Druckplatten, insbesondere ein
Schutzmittel für Platten vcia Emulsionstyp»
ß der Erfindung wird ein Schutzmittel für Platten von.Emwlsioästyp für die Oberfläche lithographischer
Druckplatten vorgeschlagen, das aus einer wäßrigen Phase,
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welche gelöst eine hydrophile hochmolekulare Verbindung enthält, und einer Ölphase, die ein organisches Lösungsmittel,
ein nicht-ionisches oberflächenaktives Mittel vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert niedriger als 14
und ein anionisches oberflächenaktives Mittel enthält, besteht.
Die abschließende Stufe beim Verfahren der Herstellung von lithographischen Druckplatten wird allgemein
als Gummierstufe bezeichnet, da in dieser Stufe die Platte
mit einer Gummierlösung zum Schutz der Nichtbildbereiche überzogen wird, welche Wasser zurückhalten und die fettartige Druckfarbe abweisen. Wenn auch der Hauptzweck der
Gummierung darin besteht, die Hydrophilie der Nichtbildbereiche der lithographischen Druckplatte zu desensibilisieren
oder zu erhöhen, dient sie auch weiteren Zwecken. D.h. zur Verhinderung einer möglichen Schädigung der lithographischen
Druckplatte während des Zeitraumes zwischen der Herstellung der Platte und dem Druck oder während des
Zeitraumes, wo das Drucken unterbrochen ist, zur Verhinderung, daß der Nichtbildbereich aufnahmefähig für Druckfarbe
auf Grund des Talges auf den Fingern oder anderem Fremdmaterial während der Handhabung der lithographischen
Druckplatte, beispielsweise wenn sie in die Druckmaschine eingesetzt wird, ist und zur Verhinderung
der Entwicklung von Kratzern oder anderen Flecken auf dem Nichtbildbereich oder Bildbereich, welcher das Wasser
abweist und die Druckfarbe annimmt, während der Handhabung der Platte.
Unter den üblichen Gummierlösungen ist die wirksamste eine Gummierlösung vom Emulsionstyp, welche aus einer Ölfarbe,
die gelöst in einem organischen Lösungsmittel eine im Lösungsmittel lösliche lipophile Substanz plus ein
emulgierendes oberflächenaktives Mittel enthält, und einer wäßrigen Phase, die gelöst ein wasserlösliches Dextrin ent-
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hält, besteht. Wenn diese Art einer Gummierlösung zur Gummierung einer Platte für den lithographischen Druck
verwendet wird, wird der Bildbereich durch die lipophile
Substanz in der Glphase geschützt, während der Nichtbildbereich durch das wasserlösliche Dextrin in der
wäßrigen Phase geschützt wird. Infolgedessen nimmt der lipophile Charakter des Bildbereiches nur gering ab,
selbst wenn er in Kontakt mit dem wasserlöslichen Dextrin steht.
Jedoch ist auch diese Gummierlösung vom Emulsionstyp
nicht geeignet, eine Abnahme des lipophilen Charakters des Bildbereiches vollständig zu verhindern.
Die Hauptaufgabe der Erfindung besteht deshalb in einem Schutzmittel für eine lithographische Druckplatte,
die den lipophilen*üe% BÜdbereiches der Platte nicht verringert
.
Im Rahmen ausgedehnter Untersuchungen hinsichtlich Gummierlösungen vom Emulsionstyp zur Erzielung der vorstehenden
Aufgabe wurde nun unerwarteterweise gefunden,
daß diese Aufgabe erreicht werden kann, wenn ein nichtionisches oberflächenaktives Mittel vom Alkylphenyltyp mit
einem HLB-Wert (Hydrophil-Lipophil-Gleichgewicht) von weniger als 14 und ein anionisches oberflächenaktives Mittel
in die Ölphase einer üblichen Gummierlösung vom Emulsionstyp einverleibt werden. Somit liefert die Erfindung ein
Schutzmittel vom Emulsionstyp für die Oberfläche einer lithographischen
Druckplatte, die aus einer wäßrigen Phase, die gelöst eine hydrophile hochmolekulare Verbindung enthält,
und einer Ölphase, die ein organisches Lösungsmittel, ein nicht-ionisches oberflächenaktives Mittel vom Alkylphenyltyp
mit einem HLB-Wert niedriger als 14 und ein anionisches oberflächenaktives Mittel enthält, besteht.
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Im Rahmen der Beschreibung der Erfindung werden
nachfolgend das nicht-ionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert von niedriger als
14 und das anionische oberflächenaktive Mittel in der Ölphase, die die Erfindung kennzeichnen, im einzelnen
beschrieben.
Das nicht-ionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert niedriger als 14, besteht
bevorzugt aus einer Verbindung, die durch die folgende Formel I wiedergegeben wird und einen HLB-Wert
niedriger als 14 hat:
worin R eine Alkylgruppe, ρ die Zahlen 1 oder 2, m eine ganze Zahl von 1 bis 4 und η eine ganze Zahl von 2 oder
mehr bedeuten.
Die Alkylgruppe R hat vorzugsweise 8 bis 18 Kohlenstoff
atome und ist eine geradkettige Alkylgruppe, obwohl
auch verzweigtkettige Alkylgruppen brauchbar sind, beispielsweise eine Octylgruppe, eine Nonylgruppe, Decylgruppe,
Undecylgruppe, Dodecylgruppe (Laurylgruppe), Tetradecylgruppe oder Hexadecylgruppe (Cetylgruppe). Die
am stärksten bevorzugten Alkylgruppen sind Octylgruppen und Nonylgruppen. Obwohl R im allgemeinen in der ParaStellung
hinsichtlich der Gruppe - 0^ c m H2^— ° "^~nH
ist, kann es auch in der Meta- oder Ortho-Stellung stehen. Die bevorzugte Zahl für ρ ist 1 und für m ist sie 2. Während
η unterschiedliche Zahlen entsprechend der Art der Alkylgruppe R bedeutet, ist es innerhalb eines solchen Be-
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reiches, daß der Wert von HLB ßisdriger als 14 and
vorzugsweise im Bereich von 4 bis .12s asi stärksten bevorzugt
.von 7 bis 12 liegt»
Schutzmittel, die ein nieM-icnisches oberflächenaktives
Mittel vom Alkylpfrersyltyp mit einem HLB-Wert
größer als 14 enthalten^ sind nicht günstig,, da sie den
lipophilen Charakter des Bildbereiches der lithographischen
Druckplatte verringern«,
Spezifische Beispiele for- nicht-ionische oberflächenaktive
Mittel tos ÄlkylpheMyltyp mit einem HLB-Wert
-niedriger als 14 umfassen Polyoxyraietfoylenoctylphenyläther,
PolyoxymethylenaonyIphenyläther, Polyoxymethylencetylphenylather,
Polyoxymethyienlaurylphenyläther, PoIyoxyät-hylenocty
lphenylather, PolyoxyäthylennonylphenyI-äthert
Polyosyäthylendeeylphenylather,"Polyosgräthylenlaurylpbenylätliei-,
PolyoxypropylenoctyIphenyläther, PoIyoxypropylennonylphenyläther,
Polyosiypropylendecylphenyiäther,
Polyo^rpropylenlaurylphenyläther, Polyoxypropylencetylphenyllther1,
Polyo^rbutylemoctyIphenyläther, PolyoxybutylennonyIphenyläther5Poly®3^butylendecyIphenyläthers
Polyoxybutyleniaarylplieajjrlätlier, PoiyoxybutylencetyIphenyläther
und PolyoxyätliylendisionyIphenyläther, wobei diese
sämtlichen Beispiele eines; HLB-Wert niedriger als 14 besitzen." Besonders vorteilhaft .für äle Zwecke der Erfin-"
dung sind diejenigen vom Polyosiyäthylentyp, wie Polyoxyäthylennonylpheßylät.her
und Polyoxyäthylenoctylplienyläther«
-- Beispiele für die erfiniaragsgemäß eingesetzten anionischem
oberflächenaktiven Mittel sind aliphatische Säuresalze, vorzugsweise Salze von Säuren mit 8 bis 22
Kohlenstoffatomen, Salze von Allcylsuifatesterii^ vorzugsweise
Salze von geradkettig«! oder verzweigtkettigen Alkylestern
mit 8 bis 18 Kohlenstoffatomen, Alkylbenzolsulfonate, worin der Alky!anteil geradkettige oder verzweigt-
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kettig ist und vorzugsweise 8 bis 18 Kohlenstoffatome besitzt, Alkylnaphthylensulfonate, worin der Alkylanteil
geradkettig oder verzweigtkettig ist und vorzugsweise 3 bis 10 Kohlenstoffatome besitzt, Salze von
Dialkylsulfosuccinatestern, worin die Alkylgruppe geradkettig oder verzweigtkettig ist und 2 bis 18 Kohlenstoff
atome besitzt, beispielsweise eine sec.-Butylgruppe, eine tert.-Butylgruppe, eine Hexylgruppe, eine 2-Äthylhexylgruppe,
eine Nonylgruppe, eine Decylgruppe oder eine Dodecylgruppe, Salze von Alkylphosphatestern, worin
der Alkylanteil geradkettig oder verzweigtkettig ist und vorzugsweise 8 bis 18 Kohlenstoffatome besitzt, Kondensate
von Naphthalinsulfonsäuren mit Formalin und Salze von Polyoxyäthylenalkylsulfatestern, vorzugsweise mit
bis zu 6 Polyoxyäthyleneinheiten und mit einer geradkettigen oder verzweigtkettigen Alkylgruppe mit 8 bis 18
Kohlenstoffatomen. Die am stärksten bevorzugten anionischen oberflächenaktiven Mittel stellen Salze von Dialkylsulfosuccinaten
dar. Spezifische Beispiele für Salze von Dialkylsulfosuccinaten sind Natriura-di(2-äthylhexyl)sulfosuccinat,
Natrium-dinonylsulfosuccinat und Natrium-dilaurylsulfosuccinat.
Das Plattenschutzmittel, welches eine Kombination des nicht-ionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp
und des vorstehend angegebenen anionischen oberflächenaktiven Mittels enthält, senkt den lipophilen Charakter
des Bildbereiches nicht so stark wie ein Plattenschutzmittel, welches jedes der beiden oberflächenaktiven Mittel
allein enthält. Die Summe der Mengen der beiden Arten von oberflächenaktiven Mitteln, wie sie erfindungsgemäß einzusetzen
sind, liegt im Bereich von etwa 0,5 bis etwa 10 Gew.-%,
vorzugsweise 1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels. Das geeignete Verhältnis des nicht-ionischen
oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp zu dem anionischen oberflächenaktiven Mittel liegt innerhalb des Be-
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reiches von etwa 10:1 bis 1:10, vorzugsweise etwa 5:1
bis 1:5, auf das Gewicht bezogen.
Die vorstehend angegebenen beiden Arten von oberflächenaktiven Mitteln werden in einem organischen Lösungsmittel
gelöst, um die Ölphase des Plattenschutzmittels gemäß der Erfindung zu bilden. Das bevorzugte
organische Lösungsmittel ist in Wasser unlöslich, beispielsweise ein Kohlenwasserstoff wie z.B. Terpentinöl,
Xylol, Toluol, n-Heptan, Lösungsnaphtha, Kerosin, Mineralsprit,
Erdölfraktionen mit Siedepunkten von etwa 120 bis etwa 250°C, Plastifizierer, die sich bei weniger
als 15°C verfestigen und bei mehr ale 3000C bei einer
Atmosphäre sieden, beispielsweise Phthalsäurediester, z.B. Dibutylphthalat, Diheptylphthalat, Di-n-octylphthalat,
Di(2-äthylhexyl)phthalat, Dinonylphthalat, Didecylphthalat, Dilaurylphthalat und Butylbenzylphthalat, aliphatische
Ester zweibasischer Säuren, z.B. Dioctyladipat, Butylglykoladipat, Dioctylazelat, Dibutylsebacat, Di(2-äthylhexyl)-sebacat
und Dioctylsebacat, epoxidiertes Triglycerid, z.B. epoxidiertes Sojapohnenöl, Phosphatester wie Tricresylphosphat,
Trioctylphosphat und Trichloräthylphosphat und Benzoesäureester wie Benzylbenzoat.
Diese Lösungsmittel können in Kombination mit einem aliphatischen Keton wie Cyclohexanon, einem aliphatischen
Halogenid wie Äthylendichlorid und einem Äthylenglykoläther wie Äthylenglykolmonomethyläther, Äthylenglykolmonophenylather
oder Äthylenglykolmonobutylather verwendet
werden.
Die Lösungsmittel werden in Mengen innerhalb des Bereiches von etwa 0,1 bis etwa 10 Gew.-%, vorzugsweise 0,5
bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels,
eingesetzt.
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Die Ölphase des Schutzmittels gemäß der Erfindung enthält bevorzugt gelöst eine lipophile Substanz zum
Zweck der Erhöhung der Stabilität des Schutzmittels im emulgierten Zustand und zur Minimalhaltung der Potentialabnahme
des lipophilen Charakters des Bildbereiches. Die bevorzugten lipophilen Substanzen sind solche, die gewöhnlich
als Träger für lithographische Druckfarben verwendet werden. Spezifische Beispiele für geeignete lipophile
Substanzen umfassen Novolakphenolharze wie Phenol-Formaldehydharze, Cresol-Formaldehydharze oder tert.-Butylphenol-Formaldehydharze,durch
Kondensation von Phenol und Xylol mit Formaldehyd hergestellte Xylolharze, durch
Kondensation von Phenol und Mesitylen mit Formaldehyd hergestellte Harze, Polyhydroxystyrol, bromiertes Polyhydroxystyrol,
Cashewharze, teilweise veresterte Produkte aus Copolymeren des Styrols und Maleinsäureanhydrid, Melaminharze,
Alkylharze, Polyesterharze, Epoxyharze, Naturharze oder Kolophonium oder modifiziertes Naturharz oder
Kolophonium, wie hydriertes Kolophonium oder Kolophoniumester und Erdölharze wie Gilsonit. Novolakphenolharze, Naturharze
oder Kolophonium oder modifizierte Naturharze und Kolophonium werden bevorzugt. Weitere Beispiele für
geeignete lipophile Substanzen umfassen aliphatische Carbonsäuren mit 5 bis 25 Kohlenstoffatomen wie Oleinsäure,
Laurinsäure,Valeriansäure, Nonylsäure, Caprinsäure, Myristinsäure und Palmitinsäure sowie Rizinusöl. Ganz
gleich ob sie einzeln oder als Gemisch verwendet werden, so werden diese lipophilen Substanzen in Mengen innerhalb
eines Bereiches von etwa 0,05 bis etwa 5 Gew.-%, vorzugsweise 0,1 bis 1 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des
Plattenschutzmittels, verwendet.
Die in der wäßrigen Phase des Plattenschutzmittels gemäß der Erfindung enthaltene hydrophile hochmolekulare Verbindung
dient zum Schutz des Nichtbildbereiches der lithographischen Druckplatte und ist vorzugsweise aus einem
filmbildenden wasserlöslichen Harz aufgebaut.
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Beispiele für geeignete filmbildende hydrophile
hochmolekulare Verbindungen sind Dextrin, Gummiarabikum, Alginate wie Natriumalginat, wasserlösliche Cellulosen
wie Carboxymethylcellulose, Hydroxyäthylcellulose oder Methylcellulose, Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon,
Polyacrylamid, wasserlösliche Copolymere, die Acrylaraideinheiten enthalten, Copolymere aus Vinylmethyläther
und Maleinsäureanhydrid oder Copolymere aus Vinylacetat und Maleinsäureanhydrid. Besonders bevorzugt werden Gummiarabikum, Dextrin, Polyvinylpyrrolidon, Carboxymethylcellulose
und Polyvinylalkohol. Gummiarabikum wird am stärksten bevorzugt. Diese filmbildenden hydrophilen
hochmolukularen Verbindungen können unabhängig oder als Gemisch verwendet werden. Von besonderem Vorteil ist eine
Kombination aus Gummiarabikum und Dextrin, welche zur Erhöhung des hydrophilen Charakters des Nichtbildbereiches
ohne Verringerung des lipophilen Charakters des Bildbereiches fähig ist. Obwohl diese hydrophilen hochmolekularen
Verbindungen in der wäßrigen Phase innerhalb eines weiten Konzentrationsbereiches enthalten sein können, werden
sie allgemein in Mengen innerhalb des Bereiches von etwa 5 bis etwa 40 Gew.-%, vorzugsweise 10 bis 30 Gew.-%,
bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels, verwendet und ihre Konzentration in der wäßrigen Phase
liegt im Bereich von etwa 6 bis 60 Gew.-%, vorzugsweise 15 bis 50 Gew.-?6.
Die wäßrige Phase des erfindungsgemäßen Plattenschutzmittels
enthält vorzugsweise ein Benetzungsmittel, damit die wäßrige Phase in geeigneter Weise auf dem Nichtbildbereich
der lithographischen Druckplatte ausgebreitet bleibt. Bevorzugte Benetzungsmittel sind mehrwertige Alkohole, und
spezifische Beispiele sind Äthylenglykol, Diäthylenglykol,
Triäthylenglykol, Propylenglykol, Butylenglyko1, Pentandiol,
Hexylenglykol, Tetraäthylenglykol, Polyäthylenglykol, Dipropylenglykol, Tripropylenglykol, Glycerin, Sorbit oder
Pentaerythrit. Glycerin wird am stärksten bevorzugt. Diese
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Benetzungsmittel werden in Mengen von etwa 0,5 bis etwa 10 Gew.-%, vorzugsweise 1 bis 5 Gew.-96, bezogen auf das
Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels, verwendet.
Die wäßrige Phase des Plattenschutzmittels gemäß der Erfindung enthält vorzugsweise ein wasserlösliches Salz
zum Zweck der Erhöhung des hydrophilen Charakters des Nichtbildbereiches der lithographischen Druckplatte, wenn
sie mit dem Plattenschutzmittel überzogen wird. Die vorteilhaften wasserlöslichen Salze umfassen Alkalisalze und
Ammoniumsalze und besonders vorteilhaft sind wasserlösliche Alkalisalze und Ammoniumsalze von Säuren wie Essigsäure,
Molybdänsäure, Borsäure, Salpetersäure, Schwefelsäure,
Phosphorsäure und Polyphosphorsäure. Spezifische
Beispiele sind Ammoniumacetat, Natriumacetat, Kaliumacetat, Natriumraolybdat, Kaliummolybdat, Natriumborat, Ammoniumborat,
Lithiumnitrat, Natriumnitrat, Kaliumnitrat, primäres Natriumphosphat, sekundäres Natriumphosphat,
tertiäres Natriumphosphat, primäres Kaliumphosphat, sekundäres Kaliumphosphat, tertiäres Kaliumphosphat, tertiäres
Ammoniumphosphat und Natriumpolyphosphat. Besonders bevorzugt werden Kaliumacetat, Natriumborat, Ammoniumborat,
Kaliumnitrat, Natriummolybdat, Kaliummolybdat und Kaliumsulfat.
Ganz gleich, ob sie einzeln oder als Geraisch verwendet werden, so werden diese wasserlöslichen Salze in
Mengen von etwa 0,05 bis etwa 2 Gew.-%, vorzugsweise 0,1 bis 1 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels
verwendet.
Falls Gummiarabikum als hydrophile hochmolekulare Verbindung, die gelöst in der wäßrigen Phase des Plattenschutzmittels
enthalten ist, verwendet wird, wird der pH-Wert der wäßrigen Phase auf sauer gesteuert, vorzugsweise
auf den Bereich von 1 bis 5, stärker bevorzugt 1 bis 3. Falls deshalb die wäßrige Phase nicht sauer ist, wird eine
Säure verwendet, um sie sauer zu machen. Die zur pH-Einstellung verwendeten Säuren umfassen Mineralsäuren wie Phos-
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phorsäure, Schwefelsäure oder Salpetersäure und organische Säuren wie Zitronensäure, Tanninsäure, Äpfelsäure,
Eisessig, Milchsäure, Oxalsäure oder p-Toluolsulfonsäure.
Phosphorsäure ist besonders vorteilhaft, da sie nicht nur als Mittel zur Einstellung des pH-Wertes der
wäßrigen Phase dient, sondern auch eine Fleckenbildung des Nichtbildbereiches verhindert, und sie wird in einer
Menge von 0,1 bis 8 Gew.-%, vorzugsweise 0,5 bis 5 Gew.-%,
bezogen auf das Gesamtgewicht der wäßrigen Phase, eingesetzt.
Ein typisches Beispiel des Verfahrens zur Herstellung des Plattenschutzmittels gemäß der Erfindung wird nachfolgend
beschrieben.
Zunächst wird die hydrophile hochmolekulare Verbindung in Wasser zur Bildung der wäßrigen Phase gelöst. Erforderlichenfalls
wird ein Benetzungsmittel, ein wasserlösliches Salz und/oder eine Säure zur wäßrigen Phase zugesetzt.
Getrennt wird ein oberflächenaktives Mittel in einem organischen Lösungsmittel zur Bildung der Ölphase gelöst.
Erforderlichenfalls wird eine lipophile Substanz zu der Ölphase zugegeben. Die Ölphase wird tropfenweise zu der
wäßrigen Phase unter Rühren zugesetzt. Ein Homogenisator wird zur Förderung der Emulgierung des Gemisches eingesetzt,
bis das Schutzmittel gemäß der Erfindung hergestellt ist.
Obwohl das Plattenschutzmittel gemäß der Erfindung mit einer Vielzahl von lithographischen Druckplatten verwendet
werden können, wird es vorteilhaft mit lithographischen Druckplatten eingesetzt, welche durch Ausführung
der bildweisen Belichtung und Entwicklung einer vorsensibilisierten
lithographischen Druckplatte, die nachfolgend als PS-Platte bezeichnet wird, hergestellt wurden, welche
aus einem mit einer lichtempfindlichen Schicht überzogenen
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Aluminiumsubstrat besteht.
PS-Platten, die von besonderem Vorteil für die Aufgabe gemäß der Erfindung sind, werden nachfolgend
im einzelnen erläutert.
Die Aluminiumplatten, welche vorteilhaft als Substrat verwendet werden, umfassen reine Aluminiumplatten
und Aluminiumlegierungsplatten sowie mit Aluminium beschichtete oder metallisierte Kunststoffolien. Diese
Aluminiumplatten werden vorzugsweise einer Oberflächenbehandlung wie Körnung, Eintauchen in eine wäßrige Lösung
von Natriumsilicat, Kaliumfluorzirconat oder Phosphat
oder Anodisierung unterzogen. Weitere vorteilhafte Substrate sind Aluminiumplatten der in der US-Patentschrift
2 714 066 beschriebenen Art, welche gekörnt sind und anschließend in eine wäßrige Lösung von Natriumsilicat eingetaucht
werden, sowie Aluminiumplatten der in der US-Patentschrift 3 181 461 beschriebenen Art, die anodisiert
werden, bevor sie in eine wäßrige Lösung eines Alkalisilicates eingetaucht werden. Die Anodisierung wird unter
Anwendung einer Aluminiumanode in einem Elektrolyt ausgeführt, der eine oder mehrere wäßrige oder nicht-wäßrige
Lösungen von anorganischen Säuren wie Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure oder Borsäure oder organischen
Säuren wie Oxalsäure oder Sulfaminsäure oder deren Salze enthält.
Das Verfahren der Elektroabscheidung von Silicat, wie in der US-Patentschrift 3 658 662 beschrieben, kann
gleichfalls vorteilhaft erfindungsgemäß angewandt werden.
Ein weiteres Beispiel für vorteilhafte Substrate ist die Aluminiumplatte der in der US-Patentschrift 4 087 341,
der japanischen Patentveröffentlichung 27481/71 und der japanischen Patentanmeldung 30503/77 beschriebenen Art,
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welche zunächst elektrogekörnt wird und dann in der
vorstehend beschriebenen Weise anodisiert wird. Ein weiteres Beispiel ist eine Aluminiumplatte der in der
US-Patentschrift 3 834 998 beschriebenen Art, die gekörnt ist, chemisch geätzt ist und in der vorstehenden
Weise anodisiert ist. Diese Oberflächenbehandlungen werden nicht nur zu dem Zweck angewandt, die Oberfläche des
Substrates hydrophil zu machen, sondern auch zum Zweck der Verhinderung irgendwelcher nachteiliger Reaktionen
mit der auf dem Substrat aufgebrachten lichtempfindlichen Masse und zur Ausbildung einer starken Bindung zwischen
dem Substrat und der lichtempfindlichen Schicht.
Bevorzugte Beispiele von Massen zur Ausbildung der lichtempfindlichen Schicht auf diesen Aluminiumsubstraten
umfassen die folgenden:
(1) Aus Diazoharzen aufgebaute Massen
Die Diazoharze, deren typische Beispiele ein Kondensat von p-Diazodiphenylamin und Paraformaldehyd sind,
können wasserlöslich oder unlöslich sein und sind vorzugsweise in Wasser unlöslich und in den üblichen organischen
Lösungsmitteln löslich. Besonders bevorzugte Diazoverbindungen sind Salze eines Kondensates von p-Diazodiphenylamin
und Formaldehyd oder Acetaldehyd, beispielsweise Verbindungen mit zwei oder mehr Diazogruppen im
Molekül in der Form eines Phenolates, Fluorcaprates oder Salzes von Sulfonsäuren wie Triisopropylnaphthalinsulfonsäure,
4,4-Biphenyldisulfonsäure, 5-Nitro-ortho-toluolsulfonsäure,
5-Sulf©salicylsäure, 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure,
2-Nitrobenzolsulfonsäure, 3-Chlorbenzolsulfonsäure,
3-Brombenzolsulfonsäure, 2-Chlor-5-nitrobenzolsulfonsäure,
2-Fluorcapry!naphthalinsulfonsäure, l-Naphthol-5-sulfonsäure,
2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäure und Paratoluolsulfonsäure. Weitere bevorzugte Diazoharze um-
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fassen ein Kondensat von 2,5-Dimethoxy-4-p-tolylmercaptobenzoldiazonium
und Formaldehyd in Form der vorstehend erläuterten Salze.
Ein weiteres bevorzugtes Beispiel ist das in der britischen Patentschrift 1 312 925 beschriebene Diazoharz.
Obwohl diese Harze allein als lichtempfindliches Material zur Herstellung eines Widerstandes dienen können,
werden sie bevorzugt in Kombination mit einem Binder eingesetzt.
Eine Vielzahl von Polymeren kann als Binder verwendet werden. Die bevorzugten Binder enthalten Hydroxy-,
Amino-, Carbonsäure-, Amido-, Sulfonamid-, aktive Methylen-,
Thioalkohol- und Epoxygruppen und andere Gruppen. Beispiele für bevorzugte Binder sind Sjhelladc der in der
britischen Patentschrift 1 350 521 beschriebenen Art, ein Polymeres der in der britischen Patentschrift 1 460
und der US-Patentschrift 4 125 276 beschriebenen Art, welches Hydroxyäthylacrylat- oder Hydroxyäthylmethacrylat-
sicü.
einheiten als überwiegende wxederholende Einheiten enthält, Polyamidharze der in der US-Patentschrift 3 751
beschriebenen Art, Phenolharze und Polyvinylacetalharze wie Polyvinylformalharze oder Polyvinylbutyralharze, die
von der in der britischen Patentschrift 1 074 392 beschriebenen Art sind, lineare Polyurethanharze, mit Phthalsäure
veresterte Polyvinylalkoholharze, durch Kondensation von Bisphenol A und Epichlorhydrin hergestellte Epoxyharze,
Polymere mit einer Aminogruppe wie Polyaminostyrol oder Polyalkylamino^ietbjacrylat, Cellulose wie Celluloseacetat,
Cellulosealkyläther, Celluloseacetatphthalat, die von der in der US-Patentschrift 3 660 097 beschriebenen Art sind.
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ORIGINAL INSPECTED
29Z5362"
Diese Binder sind günstigerweise in der den lichtempfindlichen Widerstand bildenden Masse in einer Menge
von 40 bis 95 Gew.-% enthalten. Ein höherer Bindergehalt,
d.h. ein niedrigerer Gehalt an Diazoharz, ergibt natürlich eine größere Empfindlichkeit, jedoch wird dies
durch die niedrige zeitabhängige Stabilität ausgeglichen. Der optimale Gehalt des Binders liegt im Bereich von etwa 70 bis 90 Gew.-%.
Die aus derartigen Diazoharzen aufgebauten Massen können gewünschtenfalls andere Zusätze wie Phosphorsäure,
Farbstoff und Pigmente enthalten, wie in der US-Patentschrift 3 236 646 angegeben.
(2) Aus o-Chinondiazidverbindungen aufgebaute Massen
Besonders bevorzugte o-Chinondiazidverbindungen sind
o-Naphthochinondiazidverbindungen der in den US-Patentschriften 2 766 118, 2 767 092, 2 772 972, 2 859 112,
2 907 665, 3 046 110, 3 046 111, 3 046 115, 3 046 118,
3 046 119, 3 046 120, 3 046 121, 3 046 122, 3 046 123,
3 061 430, 3 102 809, 3 106 465, 3 635 709, 3 647 443 und zahlreichen weiteren Veröffentlichungen beschriebenen
Art. Besonders bevorzugt werden o-Naphthochinondiazidosulfonsäureester
oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäureester von aromatischen Hydroxyverbindungen sowie o-Naphthochinondiazidosulfonamid
oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäureamide von aromatischen Aminoverbindungen. Sehr wirksame
Verbindungen sind Kondensate von Pyrogallol und Aceton, die mit o-Naphthochinondiazidosulfonsäure verestert sind,
wie in der US-Patentschrift 3 635 709 beschrieben, Polyester mit einer endständigen Hydroxylgruppe, die mit einer
o-Naphthochinondiazidosulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäure
verestert ist, wie in der US-Patent-
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■/■-
schrift 4 028 111 beschrieben j Homopolj ^re von p-Hydroxystyrol
oder Copolymere hiervon mit weiteren copolymerisierbaren Monomeren, die mit o-Naphthochinondiazidosulfonsäure
oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäure verestert sind, wie in der US-Patentschrift
4 139 384 beschrieben.
Obwohl diese o-Chinonazidverbindungen unabhängig verwendet werden können, werden sie bevorzugt als Gemisch
mit alkalilöslichen Harzen eingesetzt. Geeignete alkalilösliche Harze umfassen Phenolharze vom Novolaktyp
wie Phenolformaldehydharz, o-Cresolformaldehydharz
oder m-Cresolformaldehydharz. Stärker bevorzugt werden
diese Phenolharze in Kombination mit tert.-Butylphenolformaldehydharzen
verwendet, welche ein Kondensat von Formaldehyd und Phenol oder Cresol, die mit einer Alkylgruppe
mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen substituiert sind, darstellt, wie in der US-Patentschrift 4 123 279 beschrieben.
Diese alkalilöslichen Harze sind in der den lichtempfindlichen Widerstand bildenden Masse in einer
Menge von etwa 50 bis 85 Gew.-%, vorzugsweise 60 bis 80 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Masse, enthalten.
Aus derartigen o-Chinondiazidverbindungen aufgebaute
lichtempfindliche Massen können gewünschtenfaIls noch
andere Zusätze wie Pigmente, Farbstoff und Plastifizierer
enthalten.
(3) Aus lichtempfindlichen Azidverbindungen aufgebaute Massen
Geeignete lichtempfindliche Azidverbindungen sind aromatische Azidverbindungen, worin eine Azidgruppe an den
aromatischen Ring entweder direkt oder über eine Carbonyl-
90^381/0850
gruppe &der- Suiisn^ ^-Euppe ge'^LrsdL.. int. Bei des1
setzung se Lieht wird die Aziugrup/pO der Verbindung
unter Bildung von Nitreo zerse-tst, welches iß verschiedene
Reaktionen eintritt, die die Verbindung unlöslich machen. Die bevorzugten aromatischen Azidoverbindungen
sind solche, die eine oder mehrere Gruppen wie Azidophenyl-,
Azidostyryl-, Azidobenzal-, Azidobenzoyl- und
Azidocinnamoylgruppen enthalten. Spezifische Beispiele sind 4,4'-DIaZiClOChSIeGB9 4-Azido-4'-(azidobenzoyläthoxy)chaIcon,
N,N-Bis-p-azidobeKaal-p~phenylendiamin,
1,2,6-Tri{4'-azidobenzoxy)hexan, 2-Azido-3-chlor-benzochinon,
2,4—Diazido-4'-äthöxy-azobenzol, 2,6->Di-(4'-azidobenzal)~4-methylcyclohexan,
4,4'-Diazidobenzophenon, 2,5-Diazido-3,6-diclTiiorbenzoclhinon,
2,5~Bis(4-Azidostyryl)-1,3,4-oxadiazol,
2-(4-Azidocinnamoyl)thiophen, 2,5-Di(4'-azidobenzal)cyclohexanon,
4,4'-Diazidopheny!methan, l-(4-Azidophenyl)-5-furyl-2-penta-2,4-dien-l-on,
l-(4-Azidophenyl )-5-(4-methoxyphenyl )-peista-l, 4-dien-3-on, 1- (4-Azidophenyl)-3-(1-naphthyl)propen~l~on,
l-(4~Azidophenyl)-3-(4-dimethylaininopiienjl)pi'<opan-l-on,
l-(4-Azidophenyl)-5-phenyl»1,4-pentadien-3-on,
1-(4-Azidophenyl)-3-(4-nitrophenyl)-2-propen-l-on,
l-(4~Azidophenyl)-3-(2-furyl)-2-propen-1-on, l,296~Tisi(4'-azidobenzoxy)hexan, 2,6-Bis-(4-azidoben25ylidin~p-tr*butyl)cyclohexanon,
4,4'-Diazidodibenzalaceton,
4,4'™Diazidostilben-2,2i-disulfonsäure,
4'~Azidobenzalacetophenon-2-sulfonsäure, 4,4-iDiazidostilben-OC
-carbonsäure, Di~(4~azido-2'-Iiydroxybenzal)aceton-2-sulfonsäure,
4-Azidobenzalacetophenon-2-sulfonsäure, 2-Azido-1,
4-dibenzolsulfonylaminonaphthalin oder 4,4-Diazidostilbsa-2,2i-«iisiilf0Ksäwreanilid.
Diese niedrig molekularen aromatischen Diazidverbindungen
können vorteilhafterweise durch azidhaltige Polymere ersetzt werden, wie sie in den japanischen PatentveröffentHebungen
9047/69, 31837/69, 9613/70, 24915/70, 2-5713/70 scvwie den japanischen Patentanmeldungen
S102/75s 84302/75, 84303/75 und 12984/78 beschriebe»
Sim'..-.
^.09881/0880
Die vorstehend aufgeführten lichtempfindlichen Azidverbindungen werden bevorzugt in Kombination mit
einem Polymeren eingesetzt, welches als Binder wirkt. Die bevorzugten Binder sind alkalilösliche Harze. Beispiele
von alkalilöslichen Harzen umfassen Naturharze wie Schellack oder Kolophonium, Phenolharze vom Novolaktyp
wie Phenolformaldehydharze oder m-Cresolformaldehydharze,
Homopolymere von ungesättigten Carbonsäuren oder Copolymere derselben mit weiteren copolymerisierbaren
Monomeren wie Polyacrylsäure, Polymethacrylsäure, Methacrylsäure-Styrolcopolymere,
Methacrylsäure-Methylacrylatcopolymere oder Styrol-Maleinsäureanhydrxdcopolymere,
durch Umsetzung eines teilweisen oder vollständigen Verseifungsproduktes von Polyvinylacetat mit Aldehyden wie
Acetaldehyd, Benzaldehyd, Hydroxybenzaldehyd oder Carboxybenzaldehyd unter Bildung eines teilweisen Acetals hergestellte
Harze und Polyhydroxystyrol. Andere Beispiele für Binder sind in organischen Lösungsmitteln lösliche
Harze wie Cellulosealkyläther, beispielsweise Cellulosemethyläther und Celluloseäthyläther.
Der Binder ist vorzugsweise in einer Menge von etwa IO bis etwa 90 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der
aus der lichtempfindlichen Azidverbindung aufgebauten Masse enthalten.
Die aus der lichtempfindlichen Azidverbindung aufgebauten Massen können gewünschtenfalls einen Farbstoff,
Pigment, einen Plastifizierer wie Phthalatester, Phosphatester,
aliphatischen Carbonsäureester, Glykol oder SuIfonamid
und einen Sensibilisator wie Michlers-Keton, 9-Fluorenon,
l-Nitropyren, 1,8-Dinitropyren, 2-Chlor-l,2-benzanthrachinon,
2-Brom-l,2-benzanthrachinon, Pyren-l,6-chinon, 2-Chlor-l,8-phthaloy!naphthalin
oder Cyanoacridin enthalten.
90388 1/0860
Obwohl die Grundstruktur der PS-Platte, wie sie für die Zwecke der Erfindung besonders geeignet ist, aus
einem mit einer aus den vorstehend abgehandelten lichtempfindlichen Materialien aufgebauten lichtempfindlichen
Schicht abgedeckten Aluminiumsubstrat besteht, kann die lichtempfindliche Schicht auch gewünschtenfaIls mit einer
oder mehreren Harzschichten überzogen sein, wie sie spezifisch in der US-Patentschrift 3 136 637 beschrieben
sind, worin das Substrat mit in der angegebenen Reihenfolge einer lichtempfindlichen Schicht, einer lipophilen
Harzschicht, einer hydrophoben Harzschicht, einer wasserunlöslichen Harzschicht und einer weiteren Harzschicht,
welche durch ein Lösungsmittel erweicht wird, bedeckt ist. Eine PS-Platte von ähnlicher Struktur ist in den
britischen Patentschriften 1 478 333 und 1 478 224 beschrieben und diese Struktur ist ebenfalls im Rahmen der
vorliegenden Erfindung brauchbar.
Die folgende Erläuterung zeigt, wie das Plattenschutzmittel gemäß der Erfindung auf eine PS-Platte in einer bevorzugten
Ausführungsform aufgebracht wird.
Zunächst wird die PS-Platte bildweise belichtet und entwickelt,um die lithographische Druckplatte herzustellen.
Die erhaltene Platte wird mit Wasser gewaschen, das Wasser auf der Platte wird mit Watte entfernt, eine geeignete
Menge des Schutzmittels wird auf die Platte gegossen und ein Schwamm wird zur Ausbreitung des Mittels über die gesamte
Oberfläche der Platte verwendet. Infolge dieser Verfahren wird der Nichtbildbereich der Platte in der Weise
geschützt, daß die lithographische Druckplatte eine ausgedehnte Lagerung aushalten kann» Die Platte wird mit Wasser
zur Entfernung des Gummis gewaschen, bevor mit dem üblichen Druckverfahren begonnen wird. Das Schutzmittel gemäß der
Erfindung senkt den lipophilen Charakter des Bildbereiches der lithographischen Platte nicht,obwohl es zur Erhöhung
903 8 81./0 8 50 ·
des hydrophilen Charakters des Nichtbildbereiches geeignet ist.
Das Schutzmittel gemäß der Erfindung arbeitet am wirksamsten, wenn es mit einer lithographischen Druckplatte
angewandt wird, welche aus einer PS-Platte hergestellt wurde, wie sie in den britischen Patentschriften
1 460 978 und 1 505 739 beschrieben ist.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand der Beispiele erläutert, worin sämtliche Prozentsätze auf das Gewicht
bezogen sind.
Ein 0,24 mm dickes Aluminiumsubstrat wurde durch Eintauchen in eine 7 %-ige wäßrige Lösung von tertiärem Natriumphosphat
bei 60°C entfettet und nach der Wasserwäsche wurde eine Suspension von Bims in Wasser auf das
Substrat gegossen, wobei es durch Reiben mit einer Nylonbürste gekörnt wurde. Nach der Wäsche mit Wasser wurde das
gekörnte Substrat während eines Zeitraumes von 30 bis 60 Sek. in eine 5 %-ige wäßrige Lösung von Natriumsilicat JIS Nr.3
(Molarverhältnis von SiO2 zu Na2O = 3,1 zu 3,3) eingetaucht,
die auf 70°C gesteuert war.
Nach gründlicher Wäsche mit Wasser wurde das Substrat getrocknet und mit der folgenden lichtempfindlichen
Lösung A oder B überzogen. Das mit jeder lichtempfindlichen Lösung überzogene Substrat wurde bei 1000C während eines
Zeitraumes von 2 Min. getrocknet.
903 Π 81/0850
ep
Lichtempfindliche Lösung A " ■ " - . ■
Copolyineres aus 2-Hydroxyäthylmethacrylat
(hergestellt nach dem Verfahren von Beispiel 1 der US-Patentschrift
4 123 276 0,7g
Salz der 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäure
mit einem Kondensat von p-Diazodiphenylamin and
Paraformaldehyd 0,1 g
Ölblau Nr.603 (CI. 74350, Produkt der
Orient Chemical Industries Co., Ltd.) 0,03 g
2-Methoxyäthanol 6g
Methanol 6g
Äthylendichlorid 6 g
Lichtempfindliche Lösung A 18,83 g
Halbester (Molekulargewicht etwa 1500) aus Styrol/Maleinsäureanhydridcopolymerem
(Molarverhältnis von Styrol zu Maleinsäureanhydrid =1,5 : 1 bis 2:1)
mit 2-Methylpentanol-4 0,014 g
Jede lichtempfindliche Lösung wurde aufgetragen bis das Trockenüberzugsgewicht 2,0 g/m betrug. Die auf diese
Weise hergestellten lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten wurden als Platten A bzw. B bezeichnet. Jede
Platte wurde bildweise während eines Zeitraums von 45 Sek. mit einer Kohlenbogenlampe (30 Ampere) im Abstand von
9 0 3 a 8 1 / 0 8 5 0
70 cm belichtet. Anschließend wurde die Platte in eine Entwicklerlösung der folgenden Zusammensetzung bei Raumtemperatur
während eines Zeitraumes von 1 Min. eingetaucht und die Oberfläche der Platte schwach mit Watte
gerieben, um den unbelichteten Bereich zu entfernen. Die Produkte werden als lithographische Druckplatten A bzw.
B bezeichnet.
Natriumsulfit Benzylalkohol Triäthanolamin Nonoäthanolamin
Perex NBL (Natrium-tert.-butylnaphthalinsulfonat
der Kao-Atlas Co., Ltd.)
Wasser
Eine wäßrige Lösung C der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt und eine Lösung D der weiteren nachfolgend
angegebenen Zusammensetzung wurde allmählich zu der wäßrigen Lösung C unter kräftigem Rühren zugefügt
und die erhaltene Emulsion wurde weiterhin unter Anwendung eines Homogenisators emulgiert, bis das Schutzmittel gemäß
der Erfindung hergestellt war.
Gummiarabikum 4 g
Dextrin 16 g
Phosphorsäure (85 %) 0,2 g
Wasser 75 g
90b'8 81/0850
3 | g |
30 | g |
20 | g |
5 | g |
30 | g |
1000 | ml |
Lösung D
Natriumdilaurylsulfosuccinat 1,0 g
Dibutylphthalat 2,Og
nicht-ionisches oberflachenaktxves Mittel vom Alkylphenyltyp (siehe
Tabelle I) 1,0 g
Kolophoniumester (Produkt der
Arakawa Chemical Co. t Ltd.) 0,5 g
Die vorhergehend hergestellte lithographische Druckplatte wurde mit Wasser gewaschen, der Überschuß
an Wasser mit einem Schwamm entfernt, eine geringe Menge eines Schutzmittels tropfenweise aufgetropft und ein
Schwamm zur Ausbreitung des Mittels zur Abdeckung der gesamten Oberfläche der Druckplatte verwendet. Anschließend
wurde die Platte mit Wasser gewaschen, um das Schutzmittel von der Oberfläche zu entfernen und in eine Druckmaschine
zum Drucken eingesetzt. Der lipophile Charakter der Platte wurde bewertet, indem die Anzahl der verbrauchten
Bögen gezählt wurde, bevor Drucksachen mit zufriedenstellender Dichte der Druckfarbe erhalten wurden,
wobei diese Anzahl nachfolgend als Anzahl der Abfallbögen angegeben wird. Die Ergebnisse der Untersuchung
sind in der nachfolgenden Tabelle I aufgeführt.
90 "K5S 1/08 50
Tabelle I | HLB | Anzahl der | Abfallbbgen | |
nicht-ionisches oberflächenakt i- ves Mittel vom Alkylphenyltyp |
8 10 |
Druckplatte A |
Druckplatte B |
|
Versuch Nr. |
Polyoxyäthylen- nonylphenyläther ebenso |
12 | 10 10 |
10 5 |
Beisp.l Beisp.2 |
ebenso | 14 | 10 | 5 |
Beisp.3 | ebenso | 18 | 10 | 5 |
Beisp.4 | ebenso | 8 | 40 | 35 |
Ver- gleichs- beisp.l |
Polyoxyäthylen- dodecylphenyläther |
10 | 10 | 10 |
Beisp.5 | ebenso | 14 | 10 | 5 |
Beisp.6 | ebenso | - | 10 | 10 |
Beisp.7 | lediglich Lösung C | 60 | 60 | |
Ver- gleichs- beisp.2 |
Tabelle I zeigt den stark lipophilen Charakter des gemäß der Erfindung hergestellten Schutzmittels. Es ist
darauf hinzuweisen, daß sämtliche mit den Schutzmitteln gemäß den Beispielen 1 bis 7 und den Vergleichsbeispielen
1 und 2 behandelten lithographischen Druckplatten Drucksachen ohne Flecken lieferten.
Ein mechamisch gekörntes 2S-Aluminiumsubstrat wurde teilweise durch Eintauchen in eine 2 <&-ige wäßrige Lösung
90^81/0850
-pr-
von Natriumhydroxid bei 400C während eines Zeitraumes
von 1 Min. geätzt. Nach der Wäsche mit Wasser wurde das Aluminiumsubstrat in ein Gemisch aus Schwefelsäure
und Chromsäure während eines Zeitraumes von etwa 1 Min. zur Freilegung der Oberfläche aus reinem Aluminium eingetaucht.
Dann wurde das Substrat in eine 20 %-ige Schwefelsäure von 300C eingetaucht und der Anodisierung bei
einer Gleichstromspannung von 1,5 V und einer Stromdichte von 3 A/dm unterworfen, worauf mit Wasser gewaschen und
getrocknet wurde. Anschließend wurde ein Walzenüberzugsgerät zum kontinuierlichen Überziehen des Substrates mit
einer lichtempfindlichen Lösung der folgenden Zusammen-Setzung verwendet, bis das Trockengewicht 2 g/m betrug.
Naphthochinon-l,2-diazid-(2)-5-sulfon- 5 g
säureester eines Aceton-Pyrogallolharzes (hergestellt nach dem Verfahren
von Beispiel 1 der US-Patentschrift 3 635 709)
PR-50530 (tert.-Butylphenol/Formalde- 0,5 g
hydharz der Sumitomo Durez Co^Ltd.)
Hitanol Nr.3110 (Cresol/Formalde- 5 g
hydharz der Hitachi Chemical Co., Ltd.)
Methyläthylketon ' 50 g
Cyclohexanon 40 g
Die Platte wurde bei 100°C während eines Zeitraumes von 2 Min. getrocknet und zeigte das Verhalten einer PS-Platte,
die an einem kühlen dunklen Platz während eines Zeitraumes von 1 Jahr ohne irgendeine signifikante Schädigung
ihrer Qualität gelagert werden konnte. Die in dieser Weise vorsensibilisierte lithographische Druckplatte wurde
9 0 «-ι -°. B 1 / 0 8 5 0
in einen Vakuumdruckrahmen gesetzt und an Fuji Film PS-Licht (mit einer 3 kW-Lichtquelle der Toshiba-Metallhalogenidlampe
MU 2000-2-OL, Produkt der Fuji Photo Film Co., Ltd.) durch einen positiven Film während eines Zeitraumes
von 30 Sek. ausgesetzt. Anschließend wurde die Platte in eine Entwicklerlösung der folgenden Zusammensetzung eingetaucht.
Natriumsilicat JIS Nr.3 10 g
Aerosol OS (Natrium-Isopropylnaphthalin- ^ 20 g
sulfonat der American Cyanamide Co.)
Benzylalkohol 30 g
Wasser zu 1000 ml
Die erhaltene lithographische Druckplatte wurde mit Wasser gewaschen, abgestrichen, mit einem der in der nachfolgenden
Tabelle II angegebenen drei Schutzmittel gummiert und bei 80°C während eines Zeitraumes vo.i 5 Min. getrocknet.
Die drei Druckplatten wurden bei einer T-üperatur von 20°C
während eines Zeitraumes von 7 Tagen steilengelassen, mit Wasser zur Entfernung des Schutzmittels von der Oberfläche
gewaschen, zum Drucken in einem üblichen Verfahren verwendet, wobei die Anzahl der Abfallbögen gezählt wurde und sämtliche
Flecken auf den Nichtbildbereichen der Drucksachen gezählt wurden. Die Ergebnisse der Bewertung sind in der
Tabelle II aufgeführt.
Vergleichs- Vergleichs-Schutzmittel beisp. 1 Beisp.2 beisp.2
Anzahl der Abfallbögen 15 5 15 Flecken keine keine keine
90S Π 31/0850
Die vorstehenden Ergebnisse belegen, daß die Schutzmittel gemäß der Erfindung den lipophilen Charakter
des Bildbereiches der Druckplatte nicht schädigen noch irgendwelche Flecken auf den Nichtbildbereichen
hervorrufen.
Das Verfahren nach Beispiel 3 wurde wiederholt, wobei jedoch Dibutylphthalat als organisches Lösungsmittel
für das Schutzmittel durch K-Solvent ersetzt wurde. Die beiden Druckplatten A und B lieferten das gleiche Ergebnis
wie in Beispiel 3. .
Das Verfahren von Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei
jedoch die Druckplatte mit einem Schutzmittel überzogen wurde, welches durch Emulgierung eines Gemisches einer wäßrigen
Lösung E und einer Lösung F der folgenden Zusammensetzungen hergestellt worden war. Die Ergebnisse der Bewertung
des lipophilen Charakters des Bildbereiches jeder Druckplatte sind in der nachfolgenden Tabelle III aufgeführt.
Gummiarabikum 4 g
Dextrin 16 g
Phosphorsäure (85 %) 0,2 g
Wasser 75 g
90S881/0850
Lösung F
Natrium-di(2-äthylhexyl)sulfo- I5Og
succinat
Dioctylphthalat 2,0 g
nicht-ionisches oberflächenaktives Mittel vom Alkylphenyltyp (siehe folgende Tabelle III)
Kolophoniumester (Produkt der 0,5 g
Arakawa Chemical Co., Ltd.)
Aus der folgenden Tabelle III ist ersichtlich, daß das Schutzmittel gemäß der Erfindung die Eigenschaft
besitzt, den lipophilen Charakter des Bildbereiches einer lxthographischen Druckplatte nicht zu verringern.
80 2 881/0850
nicht-ionisches oberflächenaktiver such ves Mittel vom
Nr. Alkylphenyltyp
Beisp.lO Polyoxyäthylen™
nonylphenyläther
Anzahl der. Abfallbögen
Druckplatte HLB A
IO
Druckplatte B
10
Beisp.ll | ebenso | 10 | 10 | 10 |
Beisp.12 | ebenso | 12 | 10 | 5 |
Beisp.13 | ebenso | " 14 | 10 | 5 |
Ver- gleichs- beisp.3 |
ebenso | 18 | 40 | 50 |
Beisp.14 | PoIyoxyäthy1endo- decylphenyläther |
8 | 10 | 10 |
Beisp.15 | ebenso | 10 | 10 | 5 |
Beisp.16 | ebenso | 14 | 10 | 10 |
Ver- Schutzmittel, begleichs- stehend lediglich
beisp.4 aus Lösung E
60
60
Die Erfindung wurde vorstehend anhand bevorzugter Ausführungsformen beschrieben, ohne daß die Erfindung hierauf
begrenzt ist.
809881/0850
Claims (1)
- Patentansprüche11) Schutzmittel vom Emulsionstyp für die Oberfläche einer lithographischen Druckplatte, bestehend aus einer wäßrigen Phase, die gelöst eine hydrophile hochmolekulare Verbindung enthält, und einer Ülphase, die ein organisches Lösungsmittel, ein nicht-ionisches oberflächenaktives Mittel vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert, niedriger als 14, und ein anionisches oberflächenaktives Mit~tel enthält.2) Schutzmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das nicht-ionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp aus einer Verbindung der Formel I bestehtworin R eine Alkylgruppe, ρ die Zahlen 1 oder 2, m eine ganze Zahl von 1 bis 4 und η eine ganze Zahl von 2 oder mehr bedeuten.3) Schutzmittel nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das nicht-ionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp aus dem Polyoxymethylenoctylphenyläther, Polyoxymethylennonylphenyläther, Polyoxymethylencetylphenyläther, Polyoxymethylenlaurylphenylather, Polyoxyäthylenoctylphenyläther, Polyoxyäthylennonylphenyläther, Polyoxyäthylendecylphenyläther, Polyoxyäthylenlaurylphenyläther, Polyoxypropylenoctylphenyläther, Polyoxypropylennonylphenyläther, Polyoxypropylendecylphenyläther, Polyoxypropylenlaurylphenylather, Polyoxypropylencetylphenyläther, Polyoxybiitylenoctylphenyläther, Polyoxybutylennonylphenyläther, Polyoxybutylendecylphenylather, Polyoxybutylenlauryl-909881/0850ORIGINAL INSPECTEDphenyläther, Polyoxybutylencetylphenyläther und/oder Polyoxyäthylendinonylphenyläther, jeweils mit einem HLB-Wert niedriger als 14, besteht.4) Schutzmittel nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das nicht-ionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp aus Polyoxyäthylennonylphenyläther oder Polyoxyäthylenoctylphenyläther besteht.5) Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das anionische oberflächenaktive Mittel aus einem aliphatischen Säuresalz, einem Alkylsulfatester, einem AlleyIbenzolsulfonat, einem Alkylnaphthalinsulfonat, einem Dialkylsulfosuccinatester, einem Alkylphosphatester, einem Kondensat der Naphthalinsulfonsäure und Formalin oder einem Polyoxyäthylenalkylsulfatester besteht.6) Schutzmittel nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das anionische oberflächenaktive Mittel aus einem Dialkylsulfosuccinat besteht.7) Schutzmittel nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Dialkylsulfosuccinat aus Natriumdihexylsulfosuccinat, Natrium-di(2-äthylhexyl)-sulfosuccinat, Natrium-dinonylsulfosuccinat und/oder Natriumdilaurylsulfosuccinat besteht.8) Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Gesamtmenge an nicht-ionischem und anionischem oberflächenaktiven Mittel etwa 0,5 bis etwa 10 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht des Plattenschutzmittels, beträgt.9) Schutzmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis des nicht-ionischen oberflächenak-909381/0850tiven Mittels zu dem anionischem oberflächenaktiven Mittel etwa 10:1 bis 1:10 beträgt.10) Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß das organische Lösungsmittel aus einem Plastifizierer besteht, der sich bei Temperaturen niedriger als 15°C verfestigt und bei einer Temperatur höher als 300°C bei Atmosphärendruck siedet.11) Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß das organische Lösungsmittel aus einem in Wasser unlöslichen Lösungsmittel besteht.12) Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß das Lösungsmittel in einer Menge von 0,1 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht des Oberflächenschutzmittels ,vorliegt .13) Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Ölphase zusätzlich eine lipophile Substanz enthält, die die Stabilität der Emulsion erhöht.14) Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die hydrophile Verbindung aus Dextrin, Gummiarabikum, einem Alginat, einer wasserlöslichen Cellulose, Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Polyacrylamid, einem Acrylamidcopolymeren, Vinylmethyläther-Maleinsäureanhydridcopolymeren und/oder Vinylacetat-Maleinsäureanhydridcopolymeren besteht.15) Schutzmittel nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die hydrophile Verbindung aus Gummiarabikum, Dextrin, Polyvinylpyrrolidon, Carboxymethylcellulose und/oder Polyvinylalkohol besteht.90üä81/0850-JK-16) Schutzmittel nach Anspruch 15} dadurch gekennzeichnet, daß das hydrophile Polymere aus Gummiarabikum besteht.17) Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß die hydrophile hochmolekulare Verbindung in einer Menge von 5 bis 40 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht des Oberflächenschutzmittels, vorliegt.18) Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß die wäßrige Phase zusätzlich ein Benetzungsmittel enthält.19) Schutzmittel nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß das Benetzungsmittel aus einem mehrwertigen Alkohol besteht.20) Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 19, dadurch gekennzeichnet, daß die wäßrige Phase zusätzlich ein wasserlösliches Salz enthält.21) Verfahren zur Gummierung einer Druckplatte, dadurch gekennzeichnet, daß eine Druckplatte mit dem Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 20 überzogen wird.22) Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte, dadurch gekennzeichnet, daß ein druckplattenbildendes Material belichtet und entwickelt wird und die Platte mit dem Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 20 überzogen wird.909881/0850
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