DE2925363C2

DE2925363C2 - Schutzmittel vom Emulsionstyp für die Oberfläche von lithographischen Druckplatten

Info

Publication number: DE2925363C2
Application number: DE2925363A
Authority: DE
Inventors: Yoshio Shizuoka Okishi
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1978-06-23
Filing date: 1979-06-22
Publication date: 1985-09-05
Also published as: DE2925363A1; US4268613A

Description

Die Erfindung b trifft ein Schutzmittel vom Emuisionstyp für die Oberfläche von lithographischen Druckplatten.

Die abschließende Stufe beim Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte wird allgemein als Gummierstufe bezeichnet d?. in dieser Stufe die Platte mit einer Gummierlösung zum Schutz des bildfreien Bereiches, welcher Wasser zurückhän und die ölige Druckfarbe abstößt überzogen wird. Obwohl der Hauptzweck der Gummierung in der Desensibilisierung oder Erhöhung des hydrophilen Charakters des bildfreien Bereiches der lithographischen Druckplatte besteht dient sie auch anderen Zwecken, nämlich zur Verhinderung einer möglichen Schädigung der lithographischen Druckplatte während des Zeitraumes zwischen der Herstellung der Platte und des Drückens oder während eines Zeitraumes, während dessen das Drucken verbrochen wird, zur Verhinderung, daß der bildfreie Bereich aufnahmefähig für Druckfarben aufgrund des Talgs an den Fingern und anderem Fremdmaterial während der Handhabung der lithographischen Druckplatte wird, beispielsweise wenn sie in die Druckmaschine eingesetzt wird, und zur Verhinderung der Ausbildung von Kratzern und anderen Flecken während der Handhabung der Platte auf dem bildfreien Bereich oder dem Bildbereich, welcher Wasser abweist und die Druckfarbe annimmt

Es wurde bereits ein Plattenschutzmittel vorgeschlagen, welches ein nichtionisches oberflächenaktives Mittel vom Alkylphenyltyp mit einem H LB-Wert (Hydrophil-Lipophil-Gleichgewicht) und ein anionisches oberflächenaktives Mittel in der ölphase eines üblichen Schutzmittels vom Emulsionstyp enthält welches den Vorteil hat daß der lipophile Charakter des Bildbereiches der lithographischen Druckplatte nicht verringert wird. Dies ist der Gegenstand der DE-OS 29 25 362. Weitere Untersuchungen ergaben, daß das vorgeschlagene Plattenschutzmittel nicht fähig ist in zufriedenstellender Weise eine Abnahme des lipophilen Charakters des Bildberei- so ches zu verhindern, wenn es mit einer »Nicht-Waschentwicklung« angewandt wird, d. h. einem Verfahren, wobei eine entwickelte Druckplatte mit dem Schutzmittel ohne Wäsche mit Wasser überzogen wird.

Die DE-OS 27 18 869 beschreibt ein Schutzmittel für lithographische Flachdruckplatten, das aus einer Öl-inWasser-Emulsion besteht und in der wäßrigen Phase eine hochmolekulare hydrophile organische Verbindung enthält. Die ölphase enthält ein organisches Lösungsmittel und nichtionische oberflächenaktive Mittel vom Alkyl- Phenyl-Typ. Dieses bekannte Schutzmittel zeigt jedoch noch nicht den gewünschten Effekt

Aufgabe der Erfindung ist daher die Schaffung eines Schutzmittels vom Emulsionstyp für die Oberfläche von lithographischen Druckplatten, das eine Abnahme des lipophilen Charakters des Bildbereiches der Platte unabhängig davon verhindert, ob sich an das Entwicklungsverfahren eine Waschstufe anschließt oder nicht die Herstellung einer Druckplatte ermöglicht, bei deren Gebrauch eine geringere Anzahl an verlorenen Bögen und eine geringere Hintergrundverschmutzung erhalten wird.

Die Lösung dieser Aufgabe erfolgt gemäß der Erfindung durch die Schaffung eines Schutzmittels vom Emulsionstyp für die Oberfläche von lithographischen Druckplatten, bestehend aus einer Öl-in-Wassser-Emulsion mit einer wäßrigen Phase, die gelöst eine hydrophile hochmolekulare Verbindung enthält, und einer ölphase, die ein organisches Lösungsmittel und mehrere oberflächenaktive Mittel enthält, das durch die Kombination eines nichtionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert niedriger als 14, eines oberflächenaktiven Mittels vom aliphatischen Säureestertyp und eines anionischen oberflächenaktiven Mittels gekennzeichnet ist.

Im Rahmen der Beschreibung der Erfindung im einzelnen besteht das erfindungsgemäß eingesetzte oberflächenaktive Mittel vom aliphatischen Säureestertyp vorzugsweise aus euiem ^.™*£»*™**^ sättigen aliphatischen Säure mit 12 bis 18 Kohlenstoffatomen vorzugsweise 16 bis 18 Kohlenstoffatomen ur.d ebeS"mehrwertigen Alkohol mit vorzugsweise 3 bis 6 Kohlenstoffatomen und 2 bis 4 Hydroxylgruppen beispielsweise Sorbit, Sorbitan, Glycerin und dgL, und hat 1 bis 3 vorzugsweise eine ahphatische Sa.ireeinhe.je oberflächenaktive Verbindung. Typische Beispiele des aliphatischen oberfl ach enak ^M. * ™J £^ estertyp umfassen Sorbitanester aliphatischer Säuren, wie Sorbitanmonopalmitat, Sorbitanmonostearat, SorbitfnSSLat.SorbitanmonooleatundSorbitan-trioleat.Glycerinestervonal.phatischen Sauren, wie Monoglyceridstearat, Monoglyceridoleat, Glycerin-monostearat oder Glycennmonooleat Bevorzugte Bespiele s.nd Sorbitanmonooleat, Sorbitanmonostearat und Monoglycendstearat . .· . _{14 ist}

Das nichtionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert niedrigezk; 14 is vorzugsweise eine Verbindung, die durch die folgende Formel (I) wiedergegeben wird und einen HLB-Wert niedriger als 14 besitzt:

worin R eine Alkylgruppe, ρ die Zahlen 1 oder 2, m die ganzen Zahlen 1 bis 4 und π eine ganze Zahl von 2 oder ^h°Die A!ky"grappe R hat vorzugsweise S bis 18 Kohlenstoffatome, beispielsweise eine Octy V'ruppe, Nonylgruppe, Decylgruppe, Undecylgruppe, Dodf r*Ignippe, Laurylgruppe. Tetradecylgruppe oder Hexa^cylgruppe (Cetylgruppe). Die am stärksten bevorzugten Alkylgruppen sind Octylgruppen und Nonylgruppen. Obwohl R im allgemeinen in der para-Stellung hinsichtlich der Gruppe

stehttainι β audTinder meta- oder ortho-Stellung sein. Die bevorzugte Zahl für ρ ist 1 und die bevorzugte Zahl für m ist 2. Obwohl η eine unterschiedliche Zahl entsprechend der Anzahl der Kohlenstoffatome in der Alkylgruppe R darstellt, liegt es innerhalb eines solchen Bereiches, daß der Wert von HLB niedriger als 14 und bevorzugt innerhalb des Bereiches von 4 bis 12 und am stärksten bevorzugt von 7 bis 12 liegt Ein Schutzmitte unter Anwendung eines nichtionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert größer als 14 ist nicht günstig, da dabei der lipophile Charakter des Bildbereiches der lithographischen Druck-^PlSperiScheiKpieie für nichtionische oberflächenaktive Mittel mit einem HLB-Wert niedriger als 14 umfas

PoIyoxymethylenoctylphenyläther.Polyoxymethylennonylphenyläther, Polyoxymethylencetylphenyläther.Polyoxymethylenlaurylphenyläther,

i-olyoxyäthylenoctylphenyläther, Polyoxyäthylennonylphenyläther,

Polyoxyäthylendecylphenyläther.Polyoxyäthylenlau-ylphenyläther, Polyoxypropylenoctylphenyläther.Polyoxypropylennonylphenyläther, Polyoxypropylendecylphenyläther.Polyoxypropylenlaurylphenyläther, Polyoxypropylencetylphenyläther.Polyoxybutylenoctylphenyläther,

Polyoxybutylennonylphenyläther.Polyoxybutylendecylphenyläther,

Polyoxybutylenlaurylphtnyläther.Polyoxybutylencetylphenylätherund Polyoxyäthylendinonylphenyläther,

wobei sämtliche derartigen Beispiele einen HLB-Wert niedriger als 14 besitzen. Besonders vorteilhaft für die Zwecke der Erfindung sind die Verbindungen vom Polyoxyäthylentyp, wie Polyoxyäthylennonylather und Folyoxyäthylenoctylphenyläther. . .

Beispiele für die erfindungsgemäß einzusetzenden anionischen oberflächenaktiven Mittel sind aliphatisch^ vorzugsweise Salze von Säuren mit 8 bis 22 Kohlenstoffatomen, Salze von Alkylsulfatestern, vorzugsweise Salze von geradkettigen oder verzweigtkettigen Alkylestern mit 8 bis 18 Kohlenstoffatomen, Alkylbenzolsulfonaten, worin der Alkylanteil geradkettig oder verzweigtkettig ist und vorzugsweise 8 bis 18 Kohlenstoff atome besitz^ Alkylnaphthalinsulfonate, worin der Alkylanteil geradkettig oder verzweigtkettig ist und vorzugsweise 3 bis 10 Kohlenstoffatome besitzt, Salze von Dialkylsulfosuccinatestern, worin die Alkylgruppe geradkettig oder verzweigtkettig ist und 2 bis 18 Kohlenstoffatome besitzt, beispielsweise eine sek.-Butylgruppe, eine tert.-Butylgruppe, eine Hexylgruppe, 2-Äthylhexylgruppe, Nonylgruppe, Decylfuppe oder Dodecylgruppe, Salze von

Alkvlphosphatestern, worin der Alkylanteil geradkettig oder verzweigtkettig ist und vorzugswe.se 8 bis 18 Kohlenstoffatome besitzt. Kondensate von Naphthalinsulfonsäuren mit Formalin und Salze von Polyoxyathylenalkylsulfatestern, vorzugsweise mit bis zu 6 Polyoxyäthyleneinheiten und einer geradkett.gen odsr verzweigtkettigen Alkyleinheit mit 8 bis 18 Kohlenstoffatomen. Die am stärksten bevorzugten anionischen oberflächenaktiven Mittel bestehen aus Salzen von Dialkylsulfosuccinaten. . „ . , · .,·, ,

Das PlaU<>nschutzmitte1, welches eine Kombination eines nichtionis.'hen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp, eines oberflächenaktiven Mittels vom aliphatischen Säureestertyp und einesjanionischen oberflächenaktiven Mittels in der vorstehend angegebenen Weise enthält, verhindert die Abnahme des lipophilen Charakters des Bildbereiches, während ein Schutzmittel, welches nur lediglich eine Art des oberflächenaktiven

Mittels unabhängig enthält, ganz gleich ob sich an das Entwicklungsverfahren eine Waschstufe anschließt oder nicht, die Abnahme des lipophilen Charakters nicht verhindert. Eine Kombination eines nichtionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp und eines oberflächenaktiven Mittels vom aliphatischen Säureesteityp oder eine Kombination eines oberflächenaktiven Mittels vom aliphatischen Säureestertyp und eines anionischen oberflächenaktiven Mittels sind nicht so wirksam wie die Kombination der drei Arten von oberflächenaktiven Mitteln, um die Abnahme des lipophilen Charakters des Bildbereiches auf einem Minimum zu halten. Eine Kombination eines nichtionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp und eines anionischen oberflächenaktiven Mittels senkt den lipophilen Charakter des Bildbereiches, wenn die entwickelte Platte ohne Wasserwäsche gummiert wird.

Die Summe der drei erfindungsgemäß einzusetzenden Arten von oberflächenaktiven Mitteln liegt im Bereich von I bis 15 Gew.-%, vorzugsweise 1 bis 10 Gew.-°/o, bezogen auf das Gesamtgewicht des Oberflächenschutzmittels.

Das Verhältnis des nichtionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp zu dem anionischen oberflächenaktiven Mittel liegt innerhalb des Bereiches von 10:1 bis 1 :10, vorzugsweise 5 :1 bis 1 :5, auf das Gewicht bezogen. Das Verhältnis des nichtionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp zu dem is oberflächenaktiven Mittel vom aliphatischen Säureestertyp liegt innerhalb des Bereiches von 10:1 bis 1 :10, vorzugsweise 5 :1 bis 1 :5, auf das Gewicht bezogen.

Die vorstehend aufgeführten drei Arten der oberflächenaktiven Mittel werden in einem organischen Lösungsmittel gelöst, um die Olphase des Oberflächenschutzmitteis gemäß der Erfindung herzusieiien. Die bevorzugten organischen Lösungsmittel sind in Wasser unlöslich und umfassen Lösungsmittel vom Kohlenwasserstofftyp, beispielsweise Terpentinöl, Xylol, Toluol, n-Heptan, Lösungsnaphtha, Kerosin, Mineralspirit, Erdölfraktionen mit Siedepunkten von etwa 120 bis etwa 25O⁰C, Weichmacher, die sich bei weniger als 15°C verfestigen und bei mehr als 300°C bei einer Atmosphäre sieden, beispielsweise vom Phthalsäurediestertyp, wie zum Beispiel Dibutylphthalat, Diheptylphthalat, Di-n-octylphthalat, Di-(2-äthylhexyl)-phthalat, Dinonylphthalat, Didecylphthalat. Dilaurylphthalat, und Butyibenzylphthaiat, vom aliphatischen Estertyp zweibasischer Säuren, wie Dioctyladipat, Butylglykoladipat, Dioctylazelat, Dibutylsebacat, Di-(2-äthylhexyl)-sebacat und Dioctylsebacat, epoxidierte Triglyceride, wie epoxidiertes Sojabohnenöl, Phosphatester, wie Tricresylphosphat, Trioctylphosphat und Trichloräthylphosphat sowie Benzoesäureester, wie Benzylbenzoat.

Diese Lösungsmittel können in Kombination mit einem aliphatischen Keton, wie Cyclohexanon, aliphatischen Halogeniden, wie Äthylendichlorid und Äthylenglykoläthern, wie Äthylenglykolmonomethyläther, Athylenglykolmonophenyläther oder Äthylenglykolmonobutyläther, verwendet werden.

Diese Lösungsmittel werden in Mengen innerhalb des Bereiches von 0,1 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise von 0,5 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels, eingesetzt

Die ölphase des Schutzmittels gemäß der Erfindung enthält vorzugsweise gelöst eine lipophile Substanz zum Zweck der Erhöhung der Stabilität des Schutzmittels im emulgierten Zustand und dazu, die mögliche Abnahme des lipophilen Charakters des Bildbereiches auf einem Minimum zu halten. Die bevorzugten lipophilen Substanzen sind solche, die üblicherweise als Träger für lithographische Druckfarben eingesetzt werden. Spezifische Beispiele für geeignete lipophile Substanzen umfassen Phenolharze von Novolaktyp, wie Phenol-Formaldehydharze, Cresol-Formaldehydharze oder tert-Butylphenyl-Formaldehydharze, durch Kondensation von Phenol und Xylol mit Formaldehyd hergestellte Xylolharze, durch Kondensation von Phenol und Mesitylen mit Formaldehyd hergestellte Harze, Polyhydroxystyrol, bromiertes Polyhydroxystyrol, Cashewharze, teilweise veresterte Produkte aus einem Copolymeren aus Styrol und Maleinsäureanhydrid, Melaminharze, Alkydharze, Polyesterharze, Epoxyharze, Naturharze oder Kolophonium oder modifizierte Naturharze oder Kolophonium, beispielsweise hydriertes Kolophonium oder Kolophoniumester und Erdölharze, wie Gilsonit. Phenolharze von Novolaktyp, Kolophonium oder modifiziertes Kolophonium werden bevorzugt

Andere Beispiele für geeignete lipophile Substanzen umfassen organische Carbonsäuren mit 5 bis 25 Kohlenstoffatomen, wie Oleinsäure, Laurinsäure, Valeriansäure, Nonylsäure, Caprinsäure, Myristinsäure und Palmitinsäure, sowie Rhizinusöl. Ganz gleich, ob sie einzeln oder als Gemisch eingesetzt werden, werden diese lipophilen Substanzen in Mengen innerhalb des Bereiches von 0,05 bis 5 Gew.-%, vorzugsweise von 0,1 bis 1 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels, verwendet

Die gemäß der Erfindung in der wäßrigen Phase des Plattenschutzmittels enthaltene hydrophile hochmolekulare Verbindung wirkt zum Schutz des Nicht-BUdbereiches der lithographischen Druckplatte und ist vorzugsweise aus einem filmbildenden hydrophilen Harz aufgebaut Beispiele für geeignete filmbildende hydrophile hochmolekulare Verbindungen sind Dextrin, Gummi arabicum, Alginate, wie Natnumalginat wasserlösliche Cellulosen, wie Carboxymethylcellulose, Hydroxyäthylcellulose oder Methylcellulose, Polyvinylalkohol, Polyvi- 55 ^

nyipyrroüdon, Polyacrylamid, wasserlösliche Copolymere mit dem Gehalt an Acrylamideinheiten, Copolymere aus Vinylmethyläther und Maleinsäureanhydrid oder Copolymere aus Vinylacetat und Maleinsäureanhydrid. ;

Besonders bevorzugt werden Gummi arabicum, Dextrin, Polyvinylpyrrolidon, Carboxymethylcellulose und _;i

Polyvinylalkohol- Gummi arabicum wird am stärksten bevorzugt Diese filmbildenden hydrophilen hochmoleku- /,

laren Verbindungen können einzeln oder als Gemisch eingesetzt werden. Von speziellem Vorteil ist eine 60 U Kombination aus Gummi arabicum und Dextrin, die zur Erhöhung des hydrophilen Charakters des Nicht-Bild- ;'

bereiches ohne Verringerung des lipophilen Charakters des Bildbereiches fähig ist Obwohl diese hydrophilen ri

hochmolekularen Verbindungen in der wäßrigen Phase innerhalb eines weiten Konzentrationsbereiches enthal- £:

ten sein können, werden sie allgemein in Mengen innerhalb des Bereiches von 5 bis 40 Gew.-%, vorzugsweise 10 f.

bis 30 Gew.-%, bezögen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmiitels, verwendet und ihre Konzentration in 65 κ der wäßrigen Phase liegt im Bereich von 6 bis 60 Gew.-%, vorzugsweise 15 bis 50 Gew.-%. U;

Die wäßrige Phase des Plattenschutzmittels gemäß der Erfindung enthält vorzugsweise ein Benetzungsmittel, ||

damit die wäßrige Phase auf dem Nicht-Bildbereich der lithographischen Druckplatte in geeignetem Ausmaß §;

ausgebreitet wird. Bevorzugte Benetzungsmittel sind mehrwertige Alkohole, und spezifische Beispiele hierfür sind Äthylenglykol, Diäthylenglykol, Triäthylenglykol, Propylenglykol, Butylenglykol, Pentandiol, Hexylenglykol, Tetraäthylenglykol, Polyäthylenglykol, Dipropylenglykol, Tripropylenglykol, Glyce- i. Sorbit oder Pentaerythrit. Glycerin wird am stärksten bevorzugt. Diese Benetzungsmittel werden in Mengen von 0,5 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise von 1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels, eingesetzt.

Die wäßrige Phase des Plattenschutzmittels gemäß der Erfindung enthält vorzugsweise ein wasserlösliches ^a'z zum Zweck der Erhöhung des hydrophilen Charakters des Nicht-Bildbereiches der lithographischen Druckplatte, wenn sie mit dem Plattenschutzmittel überzogen wird. Vorteilhafte wasserlösliche Salze umfassen Alkalisalze und Ammoniumsalze und besonders vorteilhaft sind wasserlösliche Alkalisalze und Ammoniumsalze von Säuren, wie Essigsäure, Molybdänsäure, Borsäure, Salpetersäure, Schwefelsäure, Phosphorsäure und PoIyphosphorsäure. Spezifische Beispiele sind Ammoniumacetat, Natriumacetat, Kaliumacetat, Natriummolybdat, Kaliummolybdat, Natriumborat, Ammoniumborat, Lithiumnitrat, Natriumnitrat, Kaliumnitrat, primäres Natriumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, tertiäres Natriumphosphat, primäres Kaliumphosphat, sekundäres Kaliumphosphat, tertiäres Kaliumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat und Natriumpolyphosphat. Besonders bevorzugt werden Kaliumacetat, Natriumborat, Ammoniumborat, Kaliumnitrat, Natriummolybdat, Kaliummolybdat und Kaliumsulfat. Ganz gleich, ob einzeln oder als Gemisch verwendet, werden diese wasserlöslichen Salze in Mengen von etwa 0,05 bis etwa 2 Gew.-%, vorzugsweise 0,1 bis 1 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmitteis, verwendet.

Falls als hydrophile hochmolekulare Verbindung im Lösungszustand in der wäßrigen Phase des Plattenschutzmittels Gummi arabicum verwendet wird, wird der pH-Wert der wäßrigen Phase auf sauer gesteuert, vorzugsweise innerhalb eines Bereiches von 1 bis 5, stärker bevorzugt von 2 bis 4,5. Falls deshalb die wäßrige Phase nicht sauer ist, wird eine Säure eingesetzt, um sie sauer zu machen. Die zur pH-Einstellung verwendeten Säuren umfassen Mineralsäuren, wie Phosphorsäure, Schwefelsäure oder Salpetersäure, sowie organische Säuren, wie Zitronensäure, Tanninsäure, Apfelsäure, Eisessig, Milchsäure, Oxalsäure oder p-Toluolsulfonsäure. Phosphorsäure ist besonders vorteilhaft, da sie nicht nur als Mittel zur Einstellung des pH-Wertes der wäßrigen Phase wirkt, sondern auch die Fleckenbildung des Nicht-Bildbereiches verhindert und sie wird vorzugsweise in einer Menge von 0,01 bis 8 Gew.-%, vorzugsweise von 0,1 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der wäßrigen Phase, verwendet.

Nachfolgend wird ein typisches Beispiel des Verfahrens zur Herstellung des Plattenschutzmittels gemäß der Erfindung angegeben.

Zunächst wird die hydrophile hochmolekulare Verbindung in Wasser zur Bildung der wäßrigen Phase gelöst. Erforderlichenfalls werden ein Benetzungsmittel, ein wasserlösliches Salz und/oder eine Säure zu der wäßrigen Phase zugesetzt.

Getrennt hiervon werden die oberflächenaktiven Mittel in einem organischen Lösungsmittel zur Bildung der

ölphase gelöst. Erforderlichenfalls wird eine lipophile Substanz zu der ölphase zugegeben. Die öiphase wird tropfenweise zu der wäßrigen Phase unter Röhren zugefügt Zur Förderung der Emulgierung des Gemisches wird ein Homogenisator verwendet, bis das Schutzmittel gemäß der Erfindung hergestellt ist.

Obwohl das Plattenschutzmittel gemäß der Erfindung mit einer Vielzahl von lithographischen Druckplatten eingesetzt werden kann, wird es vorteilhaft für lithographische Druckplatten angewandt, welche durch Ausführung einer bildweisen Belichtung und Entwicklung einer vorsensibilisierten lithographischen Druckplatten hergestellt wird, die nachfolgend als PS-Platte bezeichnet wird, welche ein mit einer lichtempfindlichen Schicht überzogenes Aluminiumsubstrat umfaßt. Bevorzugte Beispiele für PS-Platten sind: ein Aluminiumsubstrat, welches mit einer lichtempfindlichen Schicht aus einem Gemisch eines Diazoharzes (Salz eines Kondensates von p-Diazodiphenylamin mit Paraformaldehyd) und Schellak überzogen ist, wie in der britischen Patentschrift 13 50 521 beschrieben, eine negative PS-Platte, bestehend aus einem Aluminiumsubstrat, welches mit einer aus einem Gemisch eines Diazoharzes und eines Polymeren mit Hydroxyäthylmethacrylateinheiten oder Hydroxyäthylacrylateinheiten als überwiegenden sich wiederholenden Einheiten aufgebauten lichtempfindlichen Schicht überzogen ist, wie in den britischen Patentschriften 14 60 978 und 15 05 739 beschrieben, eine positive PS-Platte, bestehend aus einem Aluminiumsubstrat, das mit einer lichtempfindlichen Schicht aus einem Gemisch eines lichtempfindlichen o-Chinondiazidmaterials und eines Phenolharzes vom Novolaktyp überzogen ist, wie in der japanischen Patentanmeldung 125 805/75 beschrieben, eine PS-Platte aus einem Aluminiumsubstrat, das mit einer aus einem photovernetzbaren Photopolymeren aufgebauten lichtempfindlichen Schicht überzogen ist, wie in der US-Patentschrift 38 60 426 beschrieben, eine PS-Platte aus einem Aluminiumsubstrat das mit einer aus einer photopolymerisierbaren Photopolymermasse aufgebauten lichtempfindlichen Schicht überzogen ist, wie in den US-Patentschriften 40 72 528 und 40 72 527 beschrieben, sowie eine PS-Platte aus einem Aluminiumsubstrat das mit einer aus einem Gemisch eines Azids und einem wasserlöslichen Polymeren aufgebauten lichtempfindlichen Schicht überzogen ist wie in den britischen Patentschriften 12 35 281 und 14 95 861 beschrieben.
PS-Platten, die von besonderem Vorteil für die Aufgabe gemäß der Erfindung sind, werden nachfolgend im einzelnen erläutert

Die Aluminiumplatten, welche vorteilhaft als Substrat verwendet werden, umfassen reine Aluminiumpiatten und Aluminiumlegierungsplatten sowie mit Aluminium beschichtete oder metallisierte Kunststoffolien. Diese Aluminiumpiatten werden vorzugsweise einer Oberflächenbehandlung wie Körnung, Eintauchen in eine wäßrige Lösung von Natriumsilicat Kaliumfluorzirconat oder Phosphat oder Anodisierung unterzogen. Weitere vorteilhafte Substrate sind Aluminiumpiatten der in der US-Patentschrift 27 14 066 beschriebenen Art, welche gekörnt sind und. anschließend in eine wäßrige Lösung von Natriumsilicat eingetaucht werden, sowie Aluminiumpiatten der in der US-Patentschrift 31 81 461 beschriebenen Art, die anodisiert werden, bevor sie in eine wäßrige Lösung eines Alkalisilicate« eingetaucht werden. Die Anodisierung wird unter Anwendung einer

-'ί Aluminiumanode in einem Elektrolyt ausgeführt, der eine oder mehrere wäßrige oder nicht-wäßrige Lösungen

von anorganischen Säuren wie Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure ouer Borsäure oder organischen

ft; Säuren wie Oxalsäure oder Sulfaminsäure oder deren Salze enthält.

g Das Verfahren der Elektroabscheidung von Silicat, wie in der US-Patentschrift 36 58 662 beschrieben, kann

- gleichfalls vorteilhaft erfindungsgemäß angewandt werden.

Ein weiteres Beispiel für vorteilhafte Substrate ist die Aluminiumplatte der in der US-Patentschrift 40 87 341, der japanischen Patentveröffentlichung 27 481/71 und der japanischen Patentanmeldung 30 503/77 beschriebenen Art, welche zunächst elektrogekörnt wird und dann in der vorstehend beschriebenen Weise anodisiert wird. Ein weiteres Beispiel ist eine Aluminiumplatte der in der US-Patentschrift 38 34 998 beschriebenen Art, die gekörnt ist, chemisch geätzt ist und in der vorstehenden Weise anodisiert ist. Diese Oberflächenbehandlungen

i: werden nicht nur zu dem Zweck angewandt, die Oberfläche des Substrates hydrophil zu machen, sondern auch

zum Zweck der Verhinderung irgendwelcher nachteiliger Reaktionen mit der auf dem Substrat aufgebrachten

U lichtempfindlichen Masse und zur Ausbildung einer starken Bindung zwischen dem Substrat und der lichtemp-

!■'' findlichen Schicht.

Bi Bevorzugte Beispiele von Massen zur Ausbildung der lichtempfindlichen Schicht auf diesen Aluminiumsub-

|::' straten umfassen die folgenden:

■fc; (1) Aus Diazoharzen aufgebaute Massen

ti Die Diazoharze, deren typische Beispiele ein Kondensat von p-Diazodiphenylamin und Paraformaldehyd sind,

fe können wasserlöslich oder unlöslich sein und sind vorzugsweise in Wasser unlöslich und in den üblichen

w organischen Lösungsmitteln löslich. Besonders bevorzugte Diazoverbindungen sind Salze eines Kondensates

H von p-Diazodiphenylamin und Formaldehyd oder Acetaldehyd, beispielsweise Verbindungen mit zwei oder

mehr Diazogruppen im Molekül in der Form eines Phenolates, Fluorcaprates oder Salzes von Sulfonsäuren wie

ä

Triisopropylnaphthalinsulfonsäure^^-Biphenyldisulfonsäure.S-Nitro-ortho-toluolsulfonsäure,

5-Sulfosalicylsäure, 2,5- Dimethylbenzolsulfonsäure, 2-Nitrobenzolsulfonsäure,3-Chlorbenzolsulfonsäure,

S-Brombenzolsulfonsäure^-Chlor-S-nitrobenzolsulfonsäure^-Fluorcaprylnaphthalinsulfonsäure,

1 -Naphthol-5-sulfonsäure, 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäure und Paratoluolsulfonsäure.

Weitere bevorzugte Diazoharze umfassen ein Kondensat von 2,5-Dimethoxy-4-p-tolylmercaptobenzoldiazonium und Formaldehyd in Form der vorstehend erläuterten Salze.

Ein weiteres bevorzugtes Beispiel ist das in der britischen Patentschrift 13 12 925 beschriebene Diazoharz.

Obwohl diese Harze allein als lichtempfindliches Material zur Herstellung eines Widerstandes dienen können, werden sie bevorzugt in Kombination mit einem Binder eingesetzt

Eine Vielzahl von Polymeren kann als Binder verwendet werden. Die bevorzugten Binder enthalten Hydroxy-, Amino-, Carbonsäure-, Amido=, Sulfonamide aktive Methylen-, Thioalkoho!- und Epoxygrupnen und andere Gruppen. Beispiele für bevorzugte Binder sind Schellack der in der britischen Patentschrift 13 50 521 beschriebenen Art, ein Polymeres der in der britischen Patentschrift 14 60 978 und der US-Patentschrift 41 25 276 beschriebenen Art, welches Hydroxyäthylacrylat- oder Hydroxyäthylmethacrylateinheiten als überwiegende sich wiederholende Einheiten enthält, Poryamidharze der in der US-Patentschrift 37 51 257 beschnebener. Art, Phenolharze und Polyvinyiacetalharze wie Polyvinylformalharze oder Polyvinylbutyralharze, die von der in der britischen Patentschrift 10 74 392 beschriebenen Art sind, lineare Polyurethanharze, mit Phthalsäure veresterte Polyvinylalkoholharze, durch Kondensation von Bisphenol A und Epichlorhydrin hergestellte Epoxyharze, Polymere mit einer Aminogruppe wie Polyaminostyrol oder Polyalkylamino(meth)acrylat, Cellulose wie Celluloseacetat, Cellulosealkyläther, Celluloseacetatphthalat, die von der in der US-Patentschrift 36 60 097 beschriebenen Art sind.

Diese Binder sind günstigerweise in der den lichtempfindlichen Widerstand bildenden Masse in einer Menge von 40 bis 95 Gew.-% enthalten. Ein höherer Bindergehalt, d. h. ein niedrigerer Gehalt an Diazoharz, ergibt natürlich eine größere Empfindlichkeit, jedoch wird dies durch die niedrige zeitabhängige Stabilität ausgeglichen. Der optimale Gehalt des Binders liegt im Bereich von etwa 70 bis 90 Gew.-%.

Die aus derartigen Diazoharzen aufgebauten Massen können gewünschtenfalls andere Zusätze wie Phosphorsäure, Farbstoff und Pigmente enthalten, wie in der US-Patentschrift 32 36 646 angegeben.

(2) Aus o-Chinondiazidverbindungen aufgebaute Massen

Besonders bevorzugte o-Chinondiazidverbindungen sind o-Naphthöchinondiazidverbindungen der in den US-Patentschriften 27 66 118,27 67 092,27 72 972,28 59 112,29 07 665,30 46 110,30 46 11 i, 30 46 115,30 46 118, 30 46 119, 30 46 120, 30 46 121, 30 46 122, 30 46 123, 30 61 430, 31 02 809, 31 06 465, 36 35 709, 36 47 443 und zahlreichen weiteren Veröffentlichungen beschriebenen Art Besonders bevorzugt werden o-Naphthochinondiazidosulfonsäureester oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäureester von aromatischen Hydroxyverbindungen sowie o-Naphthochinondiazidosulfonamid oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäureamide von aromatischen Aminoverbindungen. Sehr wirksame Verbindungen sind Kondensate von Pyrogallol und Aceton, die mit o-Naphthochinondiazidosulfonsäure verestert sind, wie in der US-Patentschrift 36 35 709 beschrieben, Polyester mit einer endständigen Hydroxylgruppe, die mit emer o-Napnthochinondiazidosulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäure verestert ist, wie in dtr US-Patentschrift 40 28 111 beschrieben, Homopolymere von p-Hydroxystyrol oder Copolvmere hiervon mit weiteren copolymerisierbaren Monomeren, die mit o-Naphthochinondiazidosulfonsäure öder o-Naphthochinondiazidocarbonsäure verestert sind, wie in der US-Patent-

schrift 41 39 384 beschrieben.

Obwohl diese o-Chinonaziciverbindungen unabhängig verwendet werden können, werden sie bevorzugt als Gemach mit alkalilöslichen Harzen eingesetzt. Geeignete alkalilösliche Harze umfassen Phenolharze vom Novolaktyp wie Phenolformaldehydhcrz, o-Cresolformaldehydharz oder m-Cresolformaldehydharz. Stärker

bevorzugt werden diese Phenolharze in Kombination mit tert.-Butylphenolformaldehydharzen verwendet, welche ein Kondensat von Formaldehyd und Phenol oder Cresol, die mit einer Alkylgruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen substituiert sind, darstellt, wie in der US-Patentschrift 41 23 279 beschrieben. Diese alkalilöslichen Harze sind in der den lichtempfindlichen Widerstand bildenden Masse in einer Menge von etwa 50 bis 85 Gew.-%, vorzugsweise 60 bis 80 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Masse, enthalten.

Aus derartigen o-Chinondiazidverbindungen aufgebaute lichtempfindliche Massen können gewünschtenfalls noch andere Zusätze wie Pigmente, Farbstoff und Plastifizierer enthalten.

(3) Aus lichtempfindlichen Azidverbindungen aufgebaute Massen

Geeignete lichtempfindliche Azidverbindungen sind aromatische Azidverbindungen, worin eine Azidgruppe an den aromatischen Ring entweder direkt oder über eine Carbonylgruppe oder Sulfonylgruppe gebunden ist. Bei der Aussetzung an Licht wird die Azidgruppe der Verbindung unter Bildung von Nitren zersetzt, welches in verschiedene Reaktionen eintritt, die die Verbindung unlöslich machen. Die bevorzugten aromatischen Azidverbindungen sind solche, die eine oder mehrere· Gruppen wie Azidophenyl-. Azidostyryl-, Azidobenzal-, Azidobenzoyl- und Azidocinnamoylgruppen enthalten. Spezifische Beispiele sind

4,4'-Diazidochalcon, 4-Azido-4'-(azidobenzoyläthoxy)chalcon, Ν,Ν-Bis-p-azidobenzal-p-phenylendiamin, l^,6-Tri(4'-azidobenzoxy)hexan, 2-Azido-3-ch1or-benzochinon, 2,4-Diazido-4'-äthoxy-azobenzol, 2,6-Di-(4'-azidobenzal)-4-methylcyclohexan, 4,4'-Diazidobenzophenon, 2,5-Diazido-3,6-dichlorbenzochinon, 2,5-Bis(4-Azidostyryl)-13,4-oxadiazol, 2-(4-Azidocinnamoyl)thiophen, 2,5-Di(4'-azidobenzal)cyclohexanon, 4,4'-Diazidophenylmethan, l-(4-Azidophenyl)-5-furyI-2-penta-2,4-dien-l-on, l-(4-Azidophenyl)-5-(4-methoxyphenyl)-penta- 1,4-dien -3-on, 1 -(4-Azidophenyl)-3-( 1 -naphthyl)propen-1 -on, 1 -(4-Azidophenyl)-3-(4-dimethylaminophenyl)propan-l -on, 1 -(4-Azidophenyl)-5-phenyl-1 ^-pentadien-S-on, 1 -(4-Azidophe-

-io nyl)-3-{4-nitrophenyl)-2-propen-1 -on, 1 -(4-Azidophenyl)-3-(2-f uryl)-2-propen-1 -on, 1,2,6-Tri(4'-azidoben-

zoxy)hexan, 2,6-Bis(4-azidobenzylidin-p-t.-butyl)cyclohexanon, 4,4'-Diazidodibenzalaceton,

4,4'-Diazidostilben-2,2'-disulfonsäure, 4'-Azidobenzalacetophenon-2-sulfonsäure,4,4'-Diazidostilben-a:-carbonsäure, Di-(4-azido-2'-hydroxybenzal)aceton-2-sulfonsäure, 4-Azidobenzalacetophenon-2-sulfonsäure, 2-Azido-l, 4-dibenzolsulfonylaminonaphthalin oder 4,4-Diazidostilben-2,2'-disulfonsäureanilid.

Diese niedrig molekularen aromatischen Diazidverbindungen können vorteilhafterweise durch azidhaltige Polymere ersetzt werden, wie sie in den japanischen Patentveröffentlichungen 9047/69, 31 837/69, 9613/70, 24 915/70, 25 713/70 sowie den japanischen Patentanmeldungen 5102/75, 84 302/75, 84 303/75 und 12 984/78 beschrieben sind.

Die vorstehend aufgeführten lichtempfindlichen Azidverbindungen werden bevorzugt in Kombination mit einem Polymeren eingesetzt, welches als Binder wirkt Die bevorzugten Binder sind alkalilösliche Harze. Beispiele von alkalilöslichen Harzen umfassen Naturharze wie Schellack oder Kolophonium, Phenolharze vom Novolaktyp wie Phenolformaldehydharze oder m-Cresoiformaldehydharze, Homopolymere von ungesättigten Carbonsäuren oder Copolymere derselben mit weiteren copolymerisierbaren Monomeren wie Polyas ölsäure, Polymethacrylate, Methacrylsäure-Styrolcopolymere, Methacrylsäure-Methylacrylatcopolymere oder Styrol-Maleinsäureanhydridcopolymere, durch Umsetzung eines teilweisen oder vollständigen Verseifungsproduktes von Polyvinylacetat mit Aldehyden wie Acetaldehyd, Benzaldehyd, Hydroxybenzaldehyd oder Carboxybenzaldehyd unter Bildung eines teilweisen Acetals hergestellte Harze und Polyhydroxystyrol. Andere Beispiele für Binder sind in organischen Lösungsmitteln lösliche Harze wie Cellulosealkyläther, beispielsweise Cellulosemethyläther und Celluloseäthyläther.

Der Binder ist vorzugsweise in einer Menge von etwa 10 bis etwa 90 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der aus der lichtempfindlichen Azidverbindung aufgebauten Masse enthalten.

Die aus der lichtempfindlichen Azidverbindung aufgebauten Massen können gewünsehtenfalls einen Farbstoff, Pigment, einen Plastifizierer wie Phthalatester, Phosphatester, aliphatischen Carbonsäureester, Glykol oder Sulfonamid und einen Sensibilisator wie Michlers-Keton, 9-Fluorenon, 1-Nitropyren, 1,8-Dinitropyren, 2-Chlor-l,2-benzanthrachinon, 2-Brom-l,2-benzantnrachinon, Pyren-l.ö-chinon, 2-Chlor-l,8-phthaloylnaphtha-Hn oder Cyanoacridin enthalten.

Obwohl die Grundstruktur der PS-Platte, wie sie für die Zwecke der Erfindung besonders geeignet ist, aus einem mit einer aus den vorstehend abgehandelten lichtempfindlichen Materialien aufgebauten lichtempfindlichen Schicht abgedeckten Aluminiumsubstrat besteht, kann die lichtempfindliche Schicht auch gewünschtenfalls mit einer oder mehreren Harzschichten überzogen sein, wie sie spezifisch in der US-Patentschrift 31 36 637 beschrieben sind, worin das Substrat mit in der angegebenen Reihenfolge einer lichtempfindlichen Schicht, einer lipophilen Harzschicht, einer hydrophoben Harzschicht, einer wasserunlöslichen Harzschicht und einer weiteren Harzschicht, welche durch ein Lösungsmittel erweicht wird, bedeckt ist. Eine PS-Platte von ähnlicher Struktur ist in den britischen Patentschriften 14 78 333 und 14 78 224 beschrieben und diese Struktur ist ebenfalls im Rahmen der vorliegenden Erfindung brauchbar.

In der folgenden Beschreibung wird erläutert, wie das Plattenschutzmittel gemäß der Erfindung auf eine PS-Platte in bevorzugten Ausführungsformen aufgebracht wird.

Zunächst wird die PS-Platte bildweise belichtet und entwickelt, um die lithographische Druckplatte herzustellen. Ohne Wäsche der Platte mit Wasser wird eine geeignete Menge des Plattenschutzmittels auf die Platte gegossen und ein Schwamm wird zur Ausbreitung des Mittels zur Abdeckung der gesamten Oberfläche der Platte eingesetzt. Infolge dieser Verfahren wird der Nichi-Büdbereich der Platte in der Weise geschützt, daß die lithographische Druckplatte eine ausgedehnte Lagerung aushalten kann. Die Platte wird mit Wasser zur Entfernung des Gummis gewaschen, bevor das übliche Druckverfahren beginnt

Das Schutzmittel gemäß der Erfindung verringert den lipophilen Charakter des Bildbereiches der lithographischen Druckplatte nicht, wohingegen es zur Erhöhung des hydrophilen Charakters des Nicht-Bildbereiches fähig

ist

Die Schutzmittel gemäß der Erfindung arbeiten am wirksamsten, wenn sie mit lithographischen Druckplatten angewandt werden, die aus den in den beiden britischen Patentschriften 14 60 978 oder 15 05 739 beschriebenen PS-Platten hergestellt wurden.

Die Erfindung wird nachfolgend im einzelnen anhand der folgenden Beispiele erläutert, worin sämtliche Prozentsätze auf das Gewicht bezogen sind.

Beispiele 1 bis 6
und Vergleichsbeispiele 1 und 2

Eine 0,24 mm dicke Aluminiumunterlage wurde durch Eintauchen in eine wäßrige 7%ige Lösung von tertiärem Natriumphosphat bei 6O⁰C entfettet und nach der Wasserwäsche wurde eine Suspension von Bims in Wasser auf das Substrat gegossen, wodurch es durch Reiben mit einer Nylonbürste gekörnt wurde. Nach der Wäsche mit Wasser wurde das gekörnte Substrat während eines Zeitraumes von 30 bis 60 Sekunden in eine wäßrige 5%ige Lösung von Natriumsilicat JIS Nr, 3 (Molekularverhältnis von S1O2 zu Na2O = 3,1:33), die auf 70° C eingestellt war, eingetaucht

Nach gründlicher Wäsche mit Wasser wurde das Substrat getrocknet und mit den folgenden lichtempfindlichen Lösungen A oder B überzogen. Die mit den beiden lichtempfindlichen Lösungen überzogenen Substrate wurden bei 100° C während eines Zeitraums von 2 Minuten getrocknet.

Lichtempfindliche Lösung A

30

Copolymeres aus 2-Hydroxyäthylmethacrylat

(hergestellt nach Beispiel 1 der US-Patentschrift 41 23 276) 0,7 g

Salz der 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäure

mit einem Kondensat von p-Diazodiphenylamin und Paraformaldehyd 0,1 g

öllöslicher blauer Farbstoff 0,03 g

2-Methoxyäthanol 6 g

Methanol 6 g

Äthylendich'iorid 6 g

Lichtempfindliche Lösung B

Lichtempfindliche Lösung A 1833 g

Halbester aus Styrol/Maleinsäureanhydrid (Molekulargewicht: etwa 1500)

(Molarverhältnis von Styrol zu Maleinsäureanhydrid = 13:2:1) 0,014 g

Jede lichtempfindliche Lösung wurde aufgetragen, bis das Trockenüberzugsgewicht 2,0 g/m² betrug. Die in dieser Weise hergestellten lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten wurden als Platten A bzw. B bezeichnet Jede Platte wurde bildweise während eines Zeitraums von 45 Sekunden an eine Kohlenbogenlampe (30 Ampere), die im Abstand von 70 cm gehalten wurde, ausgesetzt Anschließend wurde die Platte in eine Entwicklerlösung der folgenden Zusammensetzung bei Raumtemperatur während eines Zeitraums von 1 Minu- so te eingetaucht und die Oberfläche der Platte schwach mit Watte zur Entfernung der unbelichteten Bereiche gerieben. Die Produkte werden als lithographische Druckplatten A und B bezeichnet

Natriumsulfit 3 g

Benzylalkohol 30 g

Triethanolamin 20 g

Monoäthanolamin 5 g

Natrium-tert-butylnaphthalinsulfonat 30 g

Wasser 1000 ml

Eine wäßrige Lösung C der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt und eine Lösung D mit der weiteren nachstehend angegebenen Zusammensetzung wurde allmählich zu der wäßrigen Lösung C unter kräftigem Rühren zugesetzt und die erhaltene Emulsion wurde der weiteren Emulgierung unter Anwendung eines Homogenisators unterworfen, bis das Schutzmittel gemäß der Erfindung hergestellt war.

Wäßrige Lösung C

Gummi arabicum 4 g

Dextrin 16 g

Phosphorsäure (85%) 0,05 g

Wasser 75 g

Lösung D

Natriumdilaurylsulfosuccinat 1,0 g

Dibutylphthalat 2,0 g

Polyoxyäthylennonylphenyläther(HLB=8) 1,0 g

Oberflächenaktives Mittel vom aliphatischen Säureestertyp 1,0 g (siehe nachfolgende Tabelle I)

Ohne Wäsche der lithographischen Druckplatten mit Wasser wurde eine geringe Menge des in dieser Weise hergestellten Plattenschutzmittels tropfenweise auf den Platten aufgetragen und ein Schwamm wurde zur Ausbreitung des Mittels zur Abdeckung der gesamten Oberfläche jeder Druckplatte verwendet. Die beiden in dieser Weise behandelten Platten werden als Platten A bzw. Platte B bezeichnet Zur Kontrolle wurde die Platte B entwickelt, mit Wasser gewaschen, der Überschuß an Wasser durch Abwischen entfernt, eine geringe Menge des Schutzmittels tropfenweise zugesetzt und ein Schwamm zur Ausbreitung des Mittels zur Abdeckung der gesamten Oberfläche der Platte verwendet, wobei die in dieser Weise behandelte Platte als Platte C bezeichnet wird.

Anschließend wurde jede Platte mit Wasser zur Entfernung des Schutzmittels von deren Oberfläche gewaschen und in eine Druckmaschine zum Drucken eingesetzt Der lipophile Charakter der Platte wurde bewertet, indem die Anzahl an verschmutzten Blättern gezählt wurde, bevor Drucksachen mit einer zufriedenstellenden Konzentration der Druckfarbe erhalten wurden, wobei diese Zahlen nachfolgend als Anzahl von Abfallblättern bezeichnet wird. Die Ergebnisse der Untersuchung sind in der nachfolgenden Tabelle I aufgeführt

Tabelle I

Anzahl der Abfallbögen

Platte A Platte B Platte C

Versuch	Oberflächenaktives Mittel
	vom aliphatischen Säureestertyp
iseispiel
35 1	Sorbitanmonopalmitat
2	Sorbitanmonostearat
3	Sorbitanmonooicäi
4	Sorbitantrioleat
5	Monoglyceridmonostearat
40 6	Monoglyceridoleat

15	10	10
15	10	10
!0	5	5
15	5	5
5	10	10
10	5	5
40	30	10
80	80	60

Vergleichsbeispiel

1 ohne

2 Lediglich Lösung C als Schutzmittel

45

Tabelle I zeigt den stark lipophilen Charakter des erfindungsgemäß hergestellten Schutzmittels. Es ist darauf hinzuweisen, daß sämtliche mit den Schutzmitteln der Beispiele 1 bis 6 und der Vergleichsbeispiele 1 und 2

behandelten lithographischen Druckplatten Drucksachen ohne Flecken lieferten. S

B e i s ρ i e 1 e 7 bis 9 jp

und Vergleichsbeispiele 3 und 4 U

Ein mechanisch gekörntes 2S-Aluminiumsubstrat wurde teilweise durnh Eintauchen in eine 2%ige wäßrige " |

Lösung von Natriumhydroxid bei 4O⁰C während eines Zeitraums von 1 Minute geätzt. Nach der Wäsche mit i\

Wasser wurde das Aluminiumsubstrat in ein Gemisch aus Schwefelsäure und Chromsäure während eines 3

Zeitraums von etwa 1 Minute zur Freilegurig der Oberfläche aus reinem Aluminium eingetaucht. Dann wurde ί

das Substrat in eine 20%ige Schwefelsäure bei 30° C eingetaucht und einer Anodisierung bei einer Spannung von j

1J5 V Gleichstrom und einer Stromdichte von 3 A/dm² unterworfen, worauf mit Wasser gewaschen und getrock- ;^:i

net wurde. Anschließend wurde ein Walzenüberzugsgerät verwendet, um kontinuierlich das Substrat mit der '

lichtempfindlichen Lösung der folgenden Zusammensetzung zu überziehen, bis das Trockenüberzugsgewicht !

2 g/m² betrug. ι

Naphthochinon-1,2-diazid(2)-5-sulfonsäureester eines Aceton-Pyrogallolharzes jj

(hergestellt nach Beispiel 1 der US-Patentschrift 36 35 709) 5 g 'i

tert.-Butylphenol/Formaldehydharz 0,5 g |j

Kresol/Formaldehydharz 5 g ;

Methyläthylketon 50 g jf

Cyclohexanon 40g |

Die bei 1OO^CC während eines Zeitraumes von 2 Minuten getrocknete Platte zeigte das Verhalten einer PS-Platte, die an einem kühlen dunklen Ort während eines Zeitraumes von 1 Jahr ohne irgendeine signifikante Schädigung ihrer Qualität gelagert werden konnte. Die in dieser Weise vorsensibilisierte lithographische Druckplatte wurde in einen Vakuumdruckrahmen eingesetzt und an eine 3-kW-Metallhak>genidlampe durch einen positiven RIm während eines Zeitraumes von 30 Sekunden ausgesetzt Anschließend wurde die Platte in eine 5 Entwicklerlösung der folgenden Zusammensetzung eingetaucht

Natriumsilicat JIS Nr. 3 10g

Natrium-isopropylnaphthalinsulfonat .20 g

Benzylalkohol 30 g 10

Wasser zu 1000 ml

Die erhaltene lithographische Druckplatte wurde abgewischt und mit einem der drei Plattenschutzmittel mit der gleichen Zusammensetzung, wie in Beispiel 1 hergestellt, gummiert, die jedoch unterschiedliche oberflächenaktive Mittel vom aliphatischen Säureestertyp enthielten, wie in der nachfolgenden Tabelle II angegeben. Die 15 Platte wurde auch mit Vergleichsschutzmitteln der in der gleichen Tabelle angegebenen Zusammensetzungen gummiert Dann wurde jede Platte bei 8O⁰C während eines Zeitraumes von 5 Minuten getrocknet Die fünf Druckplatten wurden bei einer Temperatur von 20" C während eines Zeitraumes von 7 Tagen stehengelassen, zum Drucken nach üblichem Verfahren verwendet und die Anzahl an Abfallblättem wurde gezählt Die Ergebnisse der Zählung.-?nd in der nachfolgenden Tabelle II aufgeführt 20

Tabelle II Versuch Oberflächenaktives Mittel vom aliphatischen Säureestertyp Anzahl an Abfallblättern Beispiel

7 Sorbitanmonooleat 10

8 Sorbitantristearat 5

9 Sorbitantrioleat 5 30

Vergleichsbeispiel

3 ohne 20

4 Leug'ich Lösung C als Schutzmittel 40

Die vorstehenden Ergebnisse belegen, daß die Plattenschutzmittel gemäß der Erfindung den Vorteil haben, den lipophilen Charakter des Bildbereiches der lithographischen Druckplatte nicht zu erniedrigen.

Claims

Patentansprüche: ,

1. Schutzmittel vom Emulsionstyp für die Oberfläche von lithographischen Druckplatten, bestehend aus einer Öl-in-Wasser-Emulsion mit einer wäßrigen Phase, die gelöst eine hydrophile hochmolekulare Verbindung enthält, und einer ölphase, die ein organisches Lösungsmittel und mehrere oberflächenaktive Mittel enthält, gekennzeichnet durch die Kombination eines nichtionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert niedriger als 14, eines oberflächenaktiven Mitiels vom aliphatischen Saureestertyp und eines anionischen oberflächenaktiven Mittels.

2. Schutzmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das oberflächenaktive Mittel vom aliphatisehen Säureestertyp aus einem Ester einer aliphatischen Säure mit 12 bis 18 Kohlenstoffatomen und einem mehrwertigen Alkohol besteht

3. Schutzmittel nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das oberflächenaktive Mittel aus einem oberflächenaktiven Mittel vom aliphatischen Säuresorbitantyp oder einem oberflächenaktiven Mittel vom aliphatischen Säureglycerintyp besteht

4. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das oberflächenaktive Mittel aus Sorbitanmonopalmitat, Sorbitanmonostearat, Sorbitantristearat, Sorbitanmonooleat Scrbitantrioleat, Monoglyceridstearat, Monoglyceridoleat Glycerinmonostearat und/oder Glycerinmoncsleat besteht

5. Schutzmittel nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das oberflächenaktive Mittel aus Sorbitanmonooleat, Sorbitanmonostearat und/oder Monoglyceridstearat besteht

6. Schutzmittel nach einem der Ansprüche ί bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Gesamtmenge der oberflächenaktiven Mittel in der ölphase 1 bis 15%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Schutzmittels beträgt

7. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis des nichtionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp zu dem anionischen oberflächenaktiven Mittel im Bereich von 10 :1 bis 1 : 10 liegt und das Verhältnis des nichtionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp zu dem oberflächenaktiven Mittel vom aliphatischen Säureestertyp im Bereich von 10:1 bis 1 :10 liegt

8. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß das nichtionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp aus einer Verbindung der Formel (I) besteht

V-O-(C_1nH₂,,-O^H (D

worin R eine Aikyigruppe, ρ die Z?hlen 1 oder 2, m eine ganze Zahl von ! bis 4 und η eine ganze Zahl von 2 oder höher bedeuten.

9. Schutzmittel nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das nichtionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp aus dem

Polyoxymethylenoctylphenyläther, Polyoxymethylennonylphenyläther,

Poiyoxymethylencetylphenyläther, Polyoxymethylenlaurylphenyläther,

Polyoxyäthylenoctylphenyläther, Polyoxyäthylennonylphenyläther,

Polyoxyäthylendecylphenyläther, Polyoxyäthylenlaurylphenyläther,
Polyoxypropylenoctylphenyläther, Polyoxypropylennonylphenyläther,

Polyoxypropylendecylphenyläther, Polyoxypropylenlaurylphenyläther,

Polyoxypropylencetylphenyläther, Polyoxybutylenoctylphenyläther,

Polyoxybutylennonylphenyläther, Polyoxybutylendecylphenyläther,

Polyoxybutylenlaurylphenyläther, Polyoxybutylencetylphenyläther und/oder
so Polyoxyäthylendinonylphenyläther,

jeweils mit einem HLB-Wert niedriger als 14, besteht.

10. Schutzmittel nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß das nichtionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp aus Polyoxyäthylennonylphenyläther oder Polyoxyäthylenoctylphenyläther besteht.

11. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß das anionische oberflächenaktive Mittel aus einem aliphatischen Säuresalz, einem Alkylsulfatester, einem Alkylbenzolsuifonat, einem Alkylnaphthalinsulfonat einem Dialkylsulfosuccinatester, einem Alkylphosphatester, einem Kondensat von Naphthalinsulfonsäure und Formalin oder einem Polyoxyäthylenalkylsulfatester besteht.

12. Schutzmittel nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß das anionische oberflächenaktive Mittel aus einem Dialkylsulfosuccinat besteht.

13. Schutzmittel nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Dialkylsulfosuccinat aus Natriumdihexylsulfosuccinat, Natrium-di-(2-äthylhexyl)-sulfosuccinat, Natrium-dinonylsulfosuccinat und/oder Natriumdilaurylsulfosuccinat besteht. |^

14. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Gesamtmenge von |j nichtionischem und anionischem oberflächenaktiven Mittel 0,5 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht des ;«

Plattenschutzmittels, beträgt. |j

15. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis des |ii nichtionischen oberflächenaktiven Mittels zu dem anionischen oberflächenaktiven Mittel 10:1 bis 1:10 ipj

beträgt

16. Schutzmittel nach einem der Ansprüche t bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß das organische Lösungsmittel aus einem Plastifizierer, der sich bei einer Temperatur niedriger als 15° C verfestigt und bei einer Temperatur höher als 300° C bei Atmosphärendruck siedet, besteht

17. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß das organische Lösungsmittel aus einem in Wasser unlöslichen Lösungsmittel besteht

18. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß das Lösungsmittel in einer Menge von 0,1 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht des Plattenschutzmittels, vorliegt

19. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 18, dadurch gekennzeichnet daS die ölphase zusätzli&i eine lipophile Substanz enthält die die Stabilität der Emulsion erhöht

20. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 19, dadurch gekennzeichnet daß das hydrophile Polymere aus Dextrin, Gummiarabicum, einem Alginat einer wasserlöslichen Cellulose, Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Polyacrylamid, Acrylamidcopolymerem, Vinylmethyläther-Maleinsäureanhydrid-Copolymerem und/oder Vinylacetat-Maleinsäureanhydrid-Copolymereni besteht

21. Schutzmittel nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet daß das hydrophile Polymere aus Gummiarabicum, Dextrin, Polyvinylpyrrolidon, Carboxymethylcellulose und/oder Polyvinylalkohol besteht

22 Schutzmittel nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß das hydrophile Polymere aus Gummiarabicum besteht

23. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 22, dadurch gekennzeichnet daß die hydrophile polymere Verbindung in einer Menge von 5 bis 40 Gew.-%, bezogen auf das Gewicht des Plattenschutzmittels, vorliegt

24. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 23, dadurch gekennzeichnet daß die wäßrige Phase zusätzlich ein Benetzungsmittel enthält

25. Schutzmittel nach Anspruch 24, dadurch gekennzeichnet daß das Benetzungsmittel aus einem mehrwertigen Alkohol besteht

26. Schutzmittel nach einem der Ansprüche 1 bis 25, dadurch gekennzeichnet, daß die wäßrige Phase zusätzlich ein wasserlösliches Salz enthält