DE3030816A1 - Lichtempfindliche bildausbildungsmaterialien und bildausbildungsverfahren unter anwendung derselben - Google Patents
Lichtempfindliche bildausbildungsmaterialien und bildausbildungsverfahren unter anwendung derselbenInfo
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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Description
V. 43764/80 - Ko/Ne
Fuji Photo Film Co., Ltd.
Minami ^shigara-Shi, Kanagawa (Japan)
Lichtempfindliche Bildausbildungsmaterialien und
Bildausbildungsverfahren unter Anwendung derselben
Die Erfindung betrifft lichtempfindliche Bildausbildungsmaterialien,
die mit niedrigen Kosten erhältlich sind und welche ausgezeichnete Eigenschaften, wie hohe
Lichtblockierungseigenschaft, hohe Auflösung und Stabilität im Verlauf der Zeit zeigen, wodurch die Bildausbildungsbehandlung
abgekürzt wird. Insbesondere betrifft die Erfindung lichtempfindliche Bildausbildungsmaterialien,
welche zur Ausbildung von Bildern ohne JMetallglanz
fähig sind. Speziell betrifft die vorliegende Erfindung lichtempfindliche Bildausbildungsmaterialien,
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die zur Erzielung von "Durchsichtsbildern" geeignet sind,
welche praktisch vollständig eine Strahlung der Wellenlänge von 300 bis 500 nm blockieren, jedoch praktisch das
gesamte Rotlicht durchlassen, sowie ein Verfahren zur Ausbildung derartiger "durchsichtiger" Bilder durch eine
Einbadentwicklungsatzung oder durch die zwei Stufen der Entwicklung und Ätzung.
Ein Bildausbildungsverfahren unter Anwendung eines lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterials, welches
eine lichtempfindliche Harzmassenschicht auf einer Grundlage und verschiedene dünne Metallschichten zwischen der
Grundlage und der lichtempfindlichen Harzmassenschicht
umfasst, welches die bildweise Belichtung dor lichtempfindlichen Harzmassenschicht mit Licht, die Entwicklung
und die anschliessende Ätzung der dünnen Metallschichten umfasst, ist bekannt.
Serner ist ein Bildausbildungsverfahren unter Anwendung
eines lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterials aus einer lichtempfindlichen Harzmassenschicht auf einer
Grundlage und einer dünnen Kfetallschicht, beispielsweise
aus Aluminium oder Tellur, zwischen der Grundlage und der lichtempfindlichen Harzmassenschicht, welches
die bildweise Aussetzung an Licht, die Entwicklung und die Ätzung in einem Bad unter Anwendung einer wässrigen
alkalischen Lösung zur Abkürzung der Behandlung umfasst, aus den japanischen Patentanmeldungen 65927/73, 65928/73,
139720/75 (US-Patentschrift 4 008 084), 131625/76 (britische Patentschrift 1 514 4-20), 99811/77, 99814/77,
99102/77, 109926/77, (britische Patentschrift 1 546 739)
und 99810/77 (US-Patentschrift 4 139 391) bekannt.
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Diese bisherigen Verfahren ergeben ausgezeichnete
Bilder mit hoher Lichtblockierungseigenschaft, hoher Auflösung und guter Kantenschärfe, jedoch kann die
Durchsichtseignung, ein Charaksteristikum der vorliegenden
Erfindung, nicht erhalten werden, da eine Ifetallschicht als solche angewandt wird. Die Ausbildung von
Durchsichtsbildern ist auf dem Fachgebiet gewünscht, da die Durchsichtsbilder beispielsweise auf dem Gebiet
der graphischen Kunst für EestStellungspositionen
(setting position) und dgl. wertvoll sind.
Ferner ist eine Einbadentwicklungsätzung günstig, da toxische Lösungsmittel nicht verwendet werden und das
Verfahren der Bildausbildung abgekürzt werden kann.
Die vorliegende Erfindung ergibt eine Verbesserung des vorstehenden Standes der Technik. Die vorliegende
Erfindung liefert durchsichtige Bilder, welche praktisch vollständig die Strahlung einer Wellenlänge von 300 bis
500 nm (zu einem Ausmass von 97 % oder grosser, vorzugsweise 99 % oder grosser) blockieren, jedoch rotes Licnt
(Wellenlänge 600 bis 800 nm) bei einer Ein-Badentwicklungsätzung oder bei einer zweistufigen Entwicklung und Ätzung
hindurchlassen.
Bei dieser Ausführungsform umfasst die vorliegende Erfindung ein lichtempfindliches Bildausbildungsmaterial,
welches aus einer Zinnsulfid-Bildausbildungsschicht auf einer Grundlage und einer Schicht aus einer lichtempfindlichen
Harzmasse auf dieser Bildausbildungssachicht besteht, wobei die Zinnsulfid-Bildausbildungsschicht gewünsch-cenfalls
eines oder mehrere der Materialien Aluminium, Zinn,
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Eisen, Silber, Kupfer, Zink, Indium, Tellur und Wismut in einem Eblarverhältnis zu Zinnsulfid von 1/20 bis
1/1 (Mstall/Zinnsulfid) enthalten kann.
Die vorliegende Erfindung ergibt weiterhin ein Bildausbildungsverfahren, welches die folgenden Stufen
umfasst:
(1) Bildweise Belichtung des lichtempfindlichen Bildausbildung smaterials mit aktinischer Strahlung (beispielsweise
Licht im nahen Ultraviolett mit einer Wellenlänge von 290 bis 500 nm, Elektronen strahl, en und dgl.)
und
(2) Entwicklung der lichtempfindlichen Harzmassenschicht durch Kontakt mit einer wässrigen alkalischen
Lösung zur gleichzeitigen Entfernung durch Ätzung der Zinnsulfid-Bildausbildungsschicht in den Bereichen, wo
die lichtempfindliche Harzmassenschicht entfernt wurde.
Beim vorstehenden Bildausbildungsverfshren kann
die lichtempfindliche Harzmassenschicht mit einer alkalischen wässrigen Lösung als einer kombinierten Entwicklungs/Ätzlösung
mit einem pH-Wert von 10 bis 14, die beispielsweise Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Fatriumtert.-phosphat,
Dinatriumhydrogenphosphat, Kalium-tert.-phosphat, Dikaliumhydrogenphosphat, Hatriumsilicat oder
Kaliumsilicat als alkalische Substanzen enthält, entwickelt werden.
Die vorliegende Erfindung liefert weiterhin ein Bildausbildungsverfahren, welches umfasst:
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(1) Die bildweise Belichtung eines lichtempfindlichen
Bildausbildungsmaterials in der vorstehenden Weise,
(2) die Entfernung der lichtempfindlichen Harzmassenschicht entsprechend der bildweisen Belichtung durch Eontakt
mit einer Entwicklungslösung für die lichtempfindliche
Harzmassenschicht unter Freilegung der Zinnsulfid-Bild-,
ausbildungsschicht, und
(3) die Entfernung der Zinnsulfid-Bildausbildungsschicht durch -ätzung in den Bereichen, wie sie durch
Eontakt mit einer Itzlösung für diese Zinnsulfid-Bildausbildungsschicht
bewirkt wird.
Die Ätzlösung kann eine wässrige alkalische Lösung mit einem pH-Wert von 10 bis 14- sein, die beispielsweise
Natriumhydroxid, EaIiumhydroxid, Natrium-tert.-phosphat,
Dinatriumhydrogenpho sphat, Ealiumpho sphat, Dikaliumhydrogenphosphat,
Natriumsilicat oder Ealiumsilicat enthält.
Die Figur zeigt die Beziehung der optischen Dichte für Blaulicht, Grünlicht, Rotlicht und Weisslicht zu
der Stärke einer Zinnsulfid-Bildausbildungsschicht gemäss der Erfindung.
Als im Rahmen der Erfindung verwendbare Grundlagen können übliche Grundlagenmaterialien, wie sie auf dem
Fachgebiet beispielsweise durch die US-Patentschrift 4 008 0S4- bekannt sind, verwendet werden, beispielsweise
Polyester, wie Polyäthylenterephthalat, Polycarbonate
und dgl., Celluloseacetat, Glas und verschiedene Arten
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von Papier und dgl. Die Stärke der Grundlage liegt im Bereiche
von 50/um bis 2 mm, vorzugsweise 80/um bis 1 mm.
Die bevorzugten Zinnsulfide zur Ausbildung der Bildausbildungsschicht
gemäss der Erfindung sind solche der Formel SnS (1 = χ ^ 1,3) auf Grund ihrer ausgezeichneten
Durchsichtseignung.
Die Zinnsulfidschicht kann auf der vorstehend -beschriebenen
Grundlage nach verschiedenen Verfahren, beispielsweise Vakuumverdampfung, Aufsprühen, Ionenplattierung
und dgl. ausgebildet werden.
Die Stärke der Zinnsulfidschicht liegt vorzugsweise im Bereich von 40 nm bis'500 nm, insbesondere 50 nm bis
300 nta. Die Figur zeigt die Beziehung zwischen der optischen Dichte von Blaulicht (Wellenlänge 500 bis 500 nm),
Grünlicht (Wellenlänge 5OO bis 600 nm), Rotlicht (Wellenlänge 600 bis 800 nm) und Weisslicht (Wellenlänge 400
bis 800 nm) zu der Stärke der Zinnsulfidschicht.
Selbstverständlich kann eines oder mehrere der Metalle, wie Aluminium, Zinn, Eisen, Silber, Kupfer, Zink^Indium,
Tellur, Wismut und dgl. zu der vorstehend aufgeführten Zinnsulfid-Bildausbildungsschicht
in einem Ifclarverhältnis
zu Zinnsulfid von 1/20 bis 1/1 so zugesetzt werden, dass die Durchsichtseignung nicht geschädigt wird.
Die lichtempfindliche Harzmassen schicht, die auf die vorstehend aufgeführte Bildausbildungsschicht aufgetragen
ist, kann unter Anwendung verschiedener bekannter lichtempfindlicher Harzmassen für die Widerstandsbildung, welche
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nachfolgend als 1ient«rapfindliehe Harze aufgeführt werden,
ausgebildet sein. Die Stärke der lichtempfindlichen Harzmassenschicht
liegt im Bereich von 1 bis 30 /um, vorzugsweise 1,5 bis 10/um.
Das lichtempfindliche Harz kann frei unter bekannten Verbindungen und Massen, wie Monomeren, Präpolymeren und
Polymeren, ausgewählt werden, worin die Molekularstruktur
derselben sich chemisch innerhalb eines kurzen Zeitraumes, beispielsweise von 1/2 Sekunde bis 2 Minuten, vorzugsweise
2 Sekunden bis 60 Sekunden, ändert, so dass sieh eine Änderung der physikalischen Eigenschaften zwischen den
belichteten und unbelichteten Bereichen, beispielsweise hinsichtlich der Löslichkeit für Lösungsmittel, der Klebrigkeit
und dgl., einstellt, wenn sie bildweise bestrahlt werden.
Die vorctehend aufgeführten Monomeren oder Präpolymeren
als lichtempfindliche Harze sind bei spiel swei se in Kogyogijutsu Library 33, Photosensitive Resins von
Tatsuo Varashina und Mitarbeiter, Nikkan Kogyo Shinbunsha,
Februar 21, 1972, beschrieben.
Die lichtempfindlichen Harze lassen sich in verschiedene Klassen in Abhängigkeit von den ausgewählten Kriterien
einteilen, beispielsweise
bezogen auf das Entwicklungsverfahren: in solche vom Auflösungstyp und solche vom Abstreiftyp auf der
Basis darauf, ob die Entwicklung unter Anwendung eines flüssigen Mediums (Lösungsmittel) oder durch Trockenabstreifung
(Abschälung) als Entwicklung durchgeführt wird,
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auf der Basis der Ixt des gebildeten Bildes: in positiv arbeitende und negativ arbeitente Typen,
auf der Basis der ehemisehen Änderung bei der Belichtung:
in solche, welche eine Vernetzungsreaktion auf Grund der Anwesenheit von Metallionen erleiden, auf
solche, welche sich dimerisieren, wenn sie der Bestrahlung ausgesetzt sind: auf solche, die einer durch ein Zersetzung
sprοdukt einer Iiehtzerstörbaren hiermit vorliegenden
Substanz eingeleiteten Vernetzung unterliegen und auf solche, welche als solche eine Polymerisation, falls
sie einer Bestrahlung unterliegen, ergeben.
Sämtliche der vorstehenden Arten von lichtempfindlichen Harzen können zur Herstellung der lichtempfindlichen
Bildausbildungsmaterialien gemäss der Erfindung verwendet werden und es wird nicht nur in Betracht gezogen, dass
die zahlreichen bekannten Materialien verwendet werden können, sondern auch lichtempfindliche Harze, welche zur
Bildung einer in der Zukunft zu entwickelnden lichtempfindlichen Widerstandsschicht fähig sind, können gleichfalls
für die lichtempfindlichen Bildausbiidungsmaterialien gemäss der vorliegenden Erfindung in der gleichen Weise
wie im Fall der bekannten Materialien unabhängig von ihrer Klassifizierung verwendet werden.
Im 3?all der lichtempfindlichen Harze zur Herstellung einer Schicht vom Lösungsmittelauflösungstyp besteht ein
positiv arbeitender Typ in einem solchen, der sich nach der Aussetzung an Licht.zersetzt, wie es z. B. von den
Chinondiaziden gezeigt wird, dass eine 5-gliedrige Ringverbindung
mit einer Carboxylgruppe gebildet wird, welche dann in einer alkalischen Lösung löslich ist, wodurch die
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Harzschicht in den belichteten Bereichen durch die Entwicklung
mit einer alkalischen Lösung entfernt werden kann und die Harzschicht in den unbelichteten Bereichen
als das gewünschte Bild verbleibt, während ein negativ arbeitender Typ ein solcher ist, welcher auf Grund der
Ausbildung einer makromolekularen Struktur oder einer
Vernetzungsstruktur in den an Licht ausgesetzten Bereichen, beispielsweise Photovernetzung von Cinnamoylgruppen
oder Diazoniumgruppen oder dgl., oder Photopolymerisation
von Acrylamid oder Acrylsäureester und dgl., unlöslich wird, wodurch die unbelichteten Bereiche
der lichtempfindlichen Harzschicht unter Anwendung einer geeigneten Entwicklerlösung entfernt werden und die unlöslichen
belichteten Bereiche verbleiben, so dass sich das gewünschte Bild ergibt. Geeignete Beispiele für die
Entwicklerlösung umfassen solche unter Einschluss von
Alkalien, wie sie beispielsweise in der US-Patentschrift 4 098 7^2 beschrieben sind, solche unter Einschluss von
Phosphorsäure, phosphoriger Säure oder Phosphorsäure und phosphoriger Säure, wie sie beispielsweise in der
US-Patentschrift 4 124 516 und dgl. beschrieben bind.
Lichtempfindliche Harze von Lösungsmittelauflösungstyp werden im allgemeinen als lichtempfindliche Materialien
für PS-Platten, Abwischplatten, Photoätzwiderständen
und dgl., eingesetzt.
Als Beispiele für lichtempfindliche Harze vom positiv arbeitenden Typ können 1,2-Naphthochinondiazide verwendet
werden. Beispiele umfassen 2,3,4-Trioxybenzophenon-bis-(naphthochinon-1,
2-diazido-f?,5-sulfonsäureester) entsprechen;:
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der japanischen Patent-Veröffentlichung 18015/62, 2-(Naphtho-chinon-1,2-diazido-5-sulf onyloxy)-hydroxy-7-naphthalin,
wie in der japanischen Patent-Veröffentlichung
3627/62 beschrieben, lTaphthochinon-1,2-äiazido-5-sulfoanilid,
wie in der japanischen Patent-Veröffentlichung 1954-/62 beschrieben, und lnthrachinon-1,2-diazido-5-sulfonsäure-Novclakester,
wie in der japanischen Patent-Veröffentlichung 9610/70 beschrieben, und ähnliche Materialien.
Als Beispiele für lichtempfindliche Harze vom negativarbeitenden Typ können zahlreiche lichtempfindliche Materialien,
wie Diazoniumsalze, Azidverbindungen und Cinna- · moylgruppen enthaltende Verbindungen und dgl., aufgeführt
werden, wie sie bekannt sind und hier verwendet werden können.
Beispiele für als lichtempfindliche Harze vom negativ arbeitenden Typ brauchbare Diazoniumsalze umfassen Paraformaldehydkondensate
von p-(Phenylamino)-benzoldiazonium, und die in der US-Patentschrift 1 762 033 beschrieb'enen,
wie 4- Dimethylaminobenzoldiazonium-hydrofluorborat, 3-Methyl-4—(dimethylamine)-benzoldiazoniumsulfat
und 3-Äthylnaphthalindiazonium -
Beispiele für Azidverbindungen umfassen p-Phenylenbisazid,
p-Azidobenzophenon, 4-,4-'-Diazidobenzophenon, 4-,4-'-Diazidodiphenylmethan, 4,4-'-Diazidostilben, 4,4-'-Diazidochalcon,
2,6-Di-(4-'-azidobenzal)-cyclohexanon und
2,6-Di-(4l-azidobenzal)-4-methylcyclohexanon und dgl.,
wie in den US-Patentschriften 2 852 379 und 2 940 853
beschrieben. Diese Azidverbindungen werden allgemein als
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"lichtempfindliche Kautschuklösung" durch Vermischung derselben
mit einer Kautschuklösung verwendet, worin der Kautschuk aus einem natürlichen oder synthetischen Kautschuk
bestehen kann. Im Fall von synthetischen Kautschuken wird häufig Polyisopren verwendet, wie in der japanischen
Patent-Veröffentlichung 22084/70 (US-Patentschrift 3 488 194) beschrieben.
Beispiele für Polymere mit Azidgruppen im hierin brauchbaren Molekül umfassen Polyvinylazidobenzoat, Polyvinyl
azidophthal at und Polyvinylazidobenzalacetal und dgl., wie in den japanischen Patent-Veröffentlichungen
28499/65 und 22 085/70 (US-Patentschrift 3 475 176)
beschrieben.
Beispiele für lichtempfindliche Harze mit Cinnamcylgruppen,
die hier als lichtempfindliche Harze brauchbar
sind, umfassen Polyvinylcinnamat und Cinnamylidenessigsäureester des PoIyvinylalkohols, wie Polyvinylcinnamylidenacetat,
Polyvinylcinnamatcinnamylidenacetat, PoIyvinylcarbäthoxymethylcarbamatcinnamylidenacetat
und Polyvinylacetat cinnamylidenacetat.
Darüberhinaus kann eine grosse Menge bekannter Materialien, beispielsweise solche mit Acryloylgruppen,
solche unter Anwendung von Acrylamiden und solche unter Anwendung von Acrylaten gleichfalls als lichtempfindliche
Harze eingesetzt werden.
Die vorstehend aufgeführten Harze können flüssig oder fest sein. Im Fall der Anwendung eines flüssigen
Harzes wird das Harz auf die Bildausbildungsschicht,
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welche vorstehend auf der Grundlage ausgebildet wurde, anschliessend an die Trocknung in üblicher Weise aufgetragen.
Im Fall der Anwendung eines festen Harzes
wird dieses allgemein zu. einer Filmform geformt und der Film wird auf die Bildausbildungsschicht aufgebracht
und daran unter Anwendung von Druck erforderlichenfalls unter Erhitzen angehaftet. Gewünschtenfalls kann das
feste Harz in einem organischen Lösungsmittel unter Bildung einer Lösung gelöst werden, welche dann auf die
Bildausbildungsschicht aufgetragen wird. TJm die lichtempfindliche Harzschicht zu bilden, können die bisher
bekannten Verfahren angewandt werden.Beispielsweise wird bei einem derartigen Verfahren ein Hochgeschwindigkeits-Umdrehungsüberzugsgerät,
welches als "Whirler" bezeichnet wird, verwendet, wodurch die Auftragung durch
Umdrehung des zuu überziehenden Objektes in hoher Geschwindigkeit durchgeführt wird, und dies wird für die
Anwendung im Fall einer sehr dünnen Schicht aus dem lichtempfindlichen
Harz bevorzugt.
Bei den Bildausbildungsmaterialien gemäss der Erfindung
ist es möglich, falls dies gewünscht wird oder notwendig ist, die verschiedensten üblichen Schichten,
wie sie bei photographisch empfindlichen Siberhalogenidmaterialien angewandt werden, auszubilden, beispielsweise
eine Antihalationsschicht oder eine Schutzschicht und dgl.
Um ein Bild unter Anwendung des lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterials gemäss der vorliegenden Erfindung,
das in der vorstehend geschilderten Weise hergestellt
wurde, auszubilden, wird eine Maske mit dem gewünschten Bild als Original verwendet und das licht-
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e nip fin dl i ehe Bildausbildungsraaterial wird biliweise an
das Licht unter Bildung eines latenten Bildes entsprechend dem vorstehend beschriebenen Bild belichtet und die
lichtempfindliche Harz schicht wird dann zwecks Entfernung der löslichen Bereiche der Harzschicht durch Auflösung
in üblicher Weise entwickelt. Die Aussetzung an Licht wird allgemein durch Bestrahlung mit dem nahen Ulti-aviolettlicht
(Wellenlänge 290 bis 4-50 nm) oder Elektronenstrahlen
ausgeführt. Die Bereiche der Bildausbildungsschicht, wo der Widerstand nicht mehr vorliegt, entsprechend den
belichteten Bereichen, werden dann durch Auflösung entfernt, worauf dann die als Widerstand verbliebene
lichtempfindliche Harz schicht entfernt wird.
Bei diesem Bildausbildungsverfahren wird die lichtempfindliche
Schicht des Bildausbildungsmaterials an
Licht durch das negative oder positive Original im Dunklen wie im Fall des üblichen photographischen Verfahrens ausgesetzt.
Da zahlreiche lichtempfindliche Harze eine hohe Empfindlichkeit für Ultraviolett zeigen, wird es bevorzugt,
Lichtquellen mit einem hohen Anteil von Ultraviolett
zu verwenden, wie Superhochdruck-Quecksilberlampen, Xenonlampen, Kohlenbogenlampen, chemische Lampen und dgl.
Gelblarapen können als Sicherheitsiampen verwendet werden.
Wie angegeben, wird bei der bildweisen Belichtung ein latentes Bild in der lichtempfindlichen Harzschicht
gebildet. In dem Fall, wo das lichtempfindliche Harz in Lösungsmitteln löslich ist, ergibt das latente Bild
einen Unterschied der Löslichkeit zwischen den belichteten Bereichen und den unbelichteten Bereichen der lichtempfindlichen
Harzschicht, d. h. im Fall eines Harzes vom
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positiv-arbeitenden Typ verbleibt das lichtempfindliche Harz in den unbelichteten Bereichen, so wie es ist
(unlöslich), während die belichteten Bereiche im Lösungsmittel löslich werden, während im Fall eines Harzes vom
negativ-arbeitenden Typ das lichtempfindliche Harz in den unbelichteten Bereichen seine Eigenschaft zur Auflösung
im Lösungsmittel beibehält, während die belichteten Bereiche
durch Härtung unlöslich werden.
Beispiele für Lösungsmittel umfassen Wasser, wässrige alkalische Lösungen, die organische Lösungsmittel enthalten
können, und organische Lösungsmittel als solche. Beispiele für organische verwendbare Lösungsmittel umfassen
Ketone, wie Methyläthylketon, Cellosolve, wie
Methylcellosolveacetat, Ithylcellosolveacetat und Phenylcellosolveacetat,
und Alkohole, wie Benzylalkohol. Jedoch ist die Erfindung nicht auf diese spezifischen Beispiele
beschränkt.
Allgemein werden die belichteten Bereiche von Harzen der positiv arbeitenden Art in Alkalien löslich und die
belichteten Bereiche von Harzen der negativ-arbeitenden Art werden in Wasser oder organischen Lösungsmitteln unlöslich.
Infolgedessen wird die Entwicklung des latenten
indem ,
Bxldes durchgeführt, / die das latente Bild tragende Oberfläche mit einem Lösungsmittel kontaktiert wird, welches entweder die belichteten Bereiche oder die unbelichteten Bereiche löst. Selbstverständlich können im Fall der Anwendung der auf dem Harkt erhältlichen lichtempfindlichen Harze die vom Hersteller bezeichneten Entwicklungslösungen verwendet werden.
Bxldes durchgeführt, / die das latente Bild tragende Oberfläche mit einem Lösungsmittel kontaktiert wird, welches entweder die belichteten Bereiche oder die unbelichteten Bereiche löst. Selbstverständlich können im Fall der Anwendung der auf dem Harkt erhältlichen lichtempfindlichen Harze die vom Hersteller bezeichneten Entwicklungslösungen verwendet werden.
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In jedem lall verbleibt die lichtempfindliche Harz-Schicht
in den unbelichteten Bereichen im lall eines Harzes vom positiv-arbeitenden Typ und die gehärtete
lichtempfindliche Harzschicht verbleibt in den belichteten Bereichen im lall eines Harzes vom negativ-arbeitenden
Typ, so dass jeweils ein Bild erhalten wird, während die Bildausbildungsschicht an den unbelichteten Bereichen
freigelegt wird, wo das lichtempfindliche Harz durch
Auflösung entfernt wurde.
Die freigelegte Bildausbildungεschicht wird dann
durch Kontakt mit einer Ätzlösung für die Bildausbildungsschicht, beispielsweise durch Eintauchen, geätzt, wodurch
die Bildausbildungsschicht unter Ireilegung der Grundlage
entfernt wird. Andererseits dient die verbliebene lichtempfindliche Harzschicht als Widerstand für die Ätzung
und die Bildausbildungsschicht unterhalb der Harzschicht
verbleibt ungeätzt, so dass ein Bild mit einer optischen Dichte erhalten wird, welche von der Dicke der Bildausbildungsschicht
abhängig ist.
Das vorstehend abgehandelte Verfahren dient zur Ausbildung der Bilder in zwei Stufen: Entwicklung und
Ätzung.
lerner sind unter den vorstehend abgehandelten lichtempfindlichen Harzen solche lichtempfindliche Harze,
die zur Entwicklung mit Alkalien nach der bildweisen Belichtung fähig sind. Im lall der Anwendung eines derartigen
lichtempfindlichen Harzes ist es möglich, eine Einstufenbehandlung auszuführen, d. h. eine Ein-Bad-Entwicklungsätzung,
wobei die Bildausbildungsschicht gleichzeitig
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mit der Ausbildung eines WiderStandsmusters durch die
Entwicklung der lichtempfindlichen Harzschicht nach der
bildweisen Belichtung geätzt wird.
Als Entwicklungslösung für die Durchführung einer
derartigen Ein-Bad-EntwicklungSatzung ist es möglich,
eine wässrige Lösung eines alkalischen Mittels, wie Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, ITatrium-tert.-phosphat,
Dinatriumhydrogenphosphat, Ealium-tert.-phosphat, Dikaliumhydrogenphosphat,lTatriumsilicat,
Kaliumsilicat und dgl., zu verwenden. Die Alkalinität der alkalischen wässrigen Lösung besitzt allgemein einen pH-Wert von
10 bis 14·, vorzugsweise pH 11 bis 13,4-. Es ist natürlich
möglich, Alkalisalze von Bromsäure oder Jodsäure zu der alkalischen wässrigen Lösung zuzusetzen, wie in der
japanischen Patentanmeldung 99101/77 (US-Patentschrift
4- 098 712) beschrieben, wodurch ein Schäumen im Fall der
Anwendung von alkalischen Mittein, die Wasserstoff enthalten, verhindert werden kann, so dass ein verbesserter
Behandlungsarbeitsgang, wie verkürzte Entwicklungszeit und dgl., erhalten werden kann und die Bildqualität verbessert
werden kann, da. die Kanten des Zinnsulfidbildes glatter werden.
Ferner ist es in der für die Zwei-Badentwicklung verwendeten Ätzlösung, welche die Ätzung der Bildausbildungsschicht
nach der Entwicklung der lichtempfindlichen Harzschicht umfasst, möglich, übliche photographische
Zusätze, wie Salzsäure, Schwefelsäure, Phosphorsäure, phosphorige Säure oder Oxidationsmittel, wie Eisenchlorid,
zusätzlich zu den vorstehend geschilderten alkalischen Mitteln zuzusetzen.
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Es wird somit ein lichtempfindliches BiIdausbildungsmaterial
vorgeschlagen, welches ein Zinnsulfid-Bildausbildungsbild
auf einer Grundlage und eine lichtempfindliche
Harzmassenschicht auf dieser Schicht umfasst. Es wird
weiterhin ein Bildausbildungsverfahren unter Anwendung
dieses Materials vorgeschlagen, wobei bildweise das Material belichtet wird und dann gleichzeitig die lichtempfindliche
Harzmassenschicht entwickelt wird, und
die freigelegte Zinnsulfid-Bildausbildungsschicht geätzt
wird. Alternativ können auch die Entwicklung und die Ätzung als zwei getrennte Stufen durchgeführt werden.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung im einzelnen.
Zinnsulfid (SnS) wurde auf eine Polyäthylenterephthalat-Grundlage mit einer Stärke von 100 /um durch
Vakuumaufdampfung bei 5 x 10"^ Torr aufgebracht. Die
Stärke der Bildausbildungsschicht aus Zinnsulfid betrug
150 um.
Das folgende lichtempfindliche Harz wurde auf die erhaltene Bildausbildungsschicht mittels eines Wirbelgerätes
so aufgetragen, dass eine Trockenfilmstärke von etwa 1,5/um erhalten wurde, und während 2 Minuten bei
100° C getrocknet.
Copolymere^ aus Methylmethacryiat und Methacryl säure; Ke thacryl säure/Methylraethacrylat-Molarverhältnis:
25/75) 1 g
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Pentaerythrittetraacrylat 0,85 g
]J-Methyl-2-benzoylmethylen-ßnaphthothiazol
0,06 g
Methyläthylketon 12 g
Methylcellosolceacetat 12 g
Das erhaltene lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial wurde bildweise an Licht während 40 Sekunden
durch ein Halbtonoriginal unter Anwendung einer 2kw-Mstallhalogenidlampe (Abstand 1 m) belichtet und dann
während 30 Sekunden in eine Lösung mit der folgenden Zusammensetzung bei 31° C eingetaucht.
HaOH 4- g
EJO, 18 g
Wasser 1 1
Die optischen Dichten des erhaltenen Bildes waren 4-,O für Blaulicht, 2,5 für Grünlicht, 1,0 für Rotlicht
und 1,75 für Weisslicht. Die Auflösung betrug mehr als 100 Linienpaare/mm.
Eine Bildausbildungsschicht aus Zinnsulfid (SnS), die Aluminium in einer Menge von 20 Mol% enthielt, wurde
auf einer Polyäthylenterephthalat-Grundlage von einer Stärke von 100/um durch Vakuumauf dampf ung bei 5 x ΙΟ"·5 Torr
ausgebildet. Die Bildausbildungsschicht wurde unter Anwendung einer Verdampfungsguelle für Zinnsulfid und
einer Verdanrofungsquelle für Aluminium und Steuerung der
erhalten Tecperaturen derselben in der Weise', dass jedes Material
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an der Grundlage gleichzeitig in der gewünschten Verdampfung
sgeschwindigke it anhaftete. Die. Stärke der Bildausbildungsschicht
betrug 150 nm. Das folgende lichtempfindliche
Harz wurde auf die erhaltene Bildausbildungsschicht durch ein Virbelgerät so aufgetragen, dass eine
Trockenfilmstärke von etwa 1,5 /um erhalten wurde, und während 2 Minuten bei 100° C getrocknet.
1, 2-Naphtho chinon di azi do-5- sul fön.
säureester eines Polyhydroxyphenyls,
erhalten durch Polykondensation von
Aceton und Pyrogallol, wie in der
US-Patentschrift 3 635 709 beschrie-
gen 1 Ε
Phenolharz (Produkt der Sumitomo Duretz Co., Bezeichnung PR-5094,
Polymerisationsgrad 3 bis 10)" . 2 g
Ifethyläthylketon 18 g
Mstnylcellosolveacetat 18 g
Das erhaltene lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial wurde bildweise an Licht in der gleichen Weise
wie in Beispiel 1 ausgesetzt und anschliessend wie in Beispiel 1 entwickelt. Die optische Dichte des erhaltenen
Bildes betrug mehr als 3*0 für Blaulicht und 1,3 für
Weisslicht. Die Auflösung betrug mehr als 100 Idnienpaare/mm.
Die Erfindung wurde vorstehend anhand bevorzugter Ausführungsformen beschrieben, ohne dass die Erfindung
hierauf begrenzt ist.
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Leerseite
Claims (1)
- 3030518Fat e nt an sp ruche1. Lichtempfindliches Bildausbildungsmaterial, bestehend aus einer Bildausbildungsschicht aus Zinnsulfid auf einem Träger und einer lichtempfindlichen Harzmassenschicht auf dieser Schicht.2. Lichtempfindliches Biläausbildungsmaterxal nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Bildausbildungsschicht aus Zinnsulfid eines oder mehrere der rfetalle Aluminium, Zinn, Eisen, Silber, Kupfer,Zink, Indium, Tellur und Wismut in einem Ifolarverhältnis zum Zinnsulfid von 1/20 bis 1/1 enthält.J. Bildausbildungsverfahren, dadurch gekennzeichnet, dass(1) biliTweise ein lichtempfindliches Bildausbildungsmaterial, welches eine Bildausbildungsschicht aus Zinnsulfid auf einem Träger und eine lichtempfindliche Harzmassenschicht auf dieser Schicht aufweist, mit aktinischer Strahlung belichtet vrird und(2) die lichtempfindliche Harzmassen schicht durch Eontakt mit einer wässrigen alkalischen Lösung unter gleichzeitiger Entfernung der Bildausbildungsschicht aus Zinnsulfid durch Ätzung in den Bereichen, wo die lichtempfindliche Harzmassenschicht entfernt wird, entwickelt wird.4-. Verfahren nach Anspruch 3» dadurch gekennzeichnet, dass die lichtempfindliche Harzmassenschicht mit einer alkalischen wässrigen Lösung entwickelt wird, die einen pH-Wert von 10 bis 14- aufweist und Natriumhydroxid, Ka-130013/1132liumhydroxid, Natrium-tert. -pho spliat, Dinatriumhydrogenpho sphat, Ealium-tert.-phosphat, Dikaliumhydrogenpho sphat, Natriumsilicat oder Ealiumsilicat enthält.5- Bildausbildungsverfahren, dadurch, gekennzeichnet, dass(1) bildweise ein lichtempfindliches Bildausbildungsmaterial, welches eine Bildausbildungsschicht aus Zinnsulfid auf einer Grundlage und eine lichtempfindliche Harzmassenschicht auf dieser Schicht aufweist, mit aktinischer Strahlung belichtet wird,(2) die lichtempfindliche Harzmassenschicht entsprechend der bildweisen Belichtung durch Eontakt mit einer Entwicklerlösung für die lichtempfindliche Harzmassenschicht unter Freilegung der Bildausbildungsschicht aus Zinnsulfid entfernt wird, und(3) die Zinnsulfid-Bildausbildungsschicht durch Ätzung derselben in den belichteten Bereichen durch Eontakt mit einer Ätzlösung für die Bildausbildungsschicht aus Zinnsulfid entfernt wird.6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass als Ätzlösung eine wässrige alkalische Lösung mit einem pH-Wert von 10 bis 14- verwendet wird, welche Natriumhydroxid, Ealiumhydroxid, Natrium-tert.-phosphat, Dinatriumhydrogenpho sphat, Ealium-tert. -pho sphat, Dikaliumhydrogenphosphat, Natriumsilicat oder Ealiumsilicat enthält.130013/1132
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