DE2733267C2 - Photolack - Google Patents

Photolack

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DE2733267C2
DE2733267C2 DE2733267A DE2733267A DE2733267C2 DE 2733267 C2 DE2733267 C2 DE 2733267C2 DE 2733267 A DE2733267 A DE 2733267A DE 2733267 A DE2733267 A DE 2733267A DE 2733267 C2 DE2733267 C2 DE 2733267C2
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides
    • G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
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    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106—Binder containing

Description

Die Erfindung betrifft einen Photolack aus einer lichtempfindlichen Verbindung und einem Bindemittel, das ein Novolakharz enthält, das durch die Einwirkung von Strahlung auf die lichtempfindliche Verbindung löslich gemacht wird. Solche Photolacke ergeben flexible Überzüge, und werden zur Herstellung von Druckplatten, zum Ätzen von Metallen und zur Herstellung von Schaltplatten verwendet.
jo Photolacke sind Stoffe, die bei Belichtung bei einer bestimmten Wellenlänge chemisch so verändert werden, daß sie ihre Löslichkeit in bestimmten Entwicklern ändern. Es gibt zwei Arten, nämlich negativ wirkende und positiv wirkende Photolacke. Vor der Belichtung sind negativ wirkende Lacke in dem Entwickler löslich, verändern sich jedoch bei Belichtung chemisch und werden dadurch in solchen Entwicklern unlöslich. Nach einer selektiven Belichtung durch ein Filmmuster wird der unbelichtete Photolack selektiv gelöst, erweicht oder weggewaschen, wobei dann das gewünschte Lackmuster auf einem Substrat zurückbleibt Dieses verbliebene Muster dient zum Schutz des Substrats, z. B. bei Ätzverfahren, wo die Oberfläche des Substrats lediglich in den unter dem unbelichteten Lack
4-, befindlichen Stellen geätzt werden soll.
Positiv wirkende Photolacke arbeiten auf die entgegengesetzte Weise, wobei durch die Belichtung die L -icke in dem Entwickler löslich werden. In jedem Fall ist das nach der Entv/icklung (und in einigen Fällen nach einer Wärmesmterung) verbleibende Lackmuster in zur Behandlung des Substrats verwendeten Reinigungs-, Metallisierungs-, Ätz- oder anderen Lösungen unlöslich und chemisch beständig.
Positiv arbeitende Photolacke vom Diazo-Typ, bei denen das Diazomaterial in einem alkalilöslichen Harz, z. B. in den Phenol- oder Kresol-Formaldehyd-Novolakharzen. enthalten ist, sind aus der US-Patentschrift 30 46 118 bekannt, auf die hier Bezug genommen wird. Nachteilig daran ist, daß sie sich nur schwer unter Erzielung eines qualitativ hochwertigen Produkts verarbeiten lassen.
Die bekannten Lacke sind in typischer Weise spröde und besitzen im flüssigen Zustand schlechte Fließeigenschaften, benetzen die Oberfläche nicht gut und trocknen schlecht Die mangelnde Fähigkeit, richtig zu fließen, kann zu sogenannten »Pinhole«-Fehlstellen führen, die auf der Oberfläche des Substrats kleine Punkte bilden, die von dem Photolack nicht vollständig
benetzt wurden. Die Sprödigkeit kann zu Schwierigkeiten führen, da ein Teil einer trockenen Schicht beim Waschen oder Spülen des Substrats sich ablösen kann. Infolgedessen können Teile des Substrats ungeschützt werden und bei weiteren Verfahrensschritten, z. B. dem Ätzen, der Metallabscheidung usw., erfolgt dies an unerwünschten Stellen des Substrats.
Aufgabe der Erfindung ist daher die Schaffung eines Photolacks, der nicht spröde ist und nicht die schlechten Theologischen Eigenschaften der bisher bekannten Photolacke aufweist, der ferner in trockenem Zustand äußerst flexibel ist und leicht gebogen oder bearbeitet werden kann, ohne daß Risse, ein Abschuppen oder Ablösen auftreten, sowie die Schaffung eines flexiblen Photolacks mit verbesserten Fließeigenschaften.
Die Erfindung umfaßt auch mit dem neuen Photolack beschichtete Aufzeichnungsmaterialien, bestehend aus einer nicht lichtempfindlichen Ätzschutzschicht und einer Photolackschicht aus einem erfindungsgemäßen Photolack, wobei die nicht lichtempfindliche Ätzschutzschicht mit e;nem Entwickler für den Photolack entwickelbar ist.
Die vorstehend definierte Aufgabe wird, ausgehend von einem Photolack aus einer lichtempfindlichen Verbindung und einem Bindemittel, das ein Novolakharz enthält, das durch die Einwirkung von Strahlung auf die lichtempfindliche Verbindung löslich gemacht wird, dadurch gelöst, daß das Bindemittel außerdem mindestens ein aus Holz, Gummi oder Tallöl gewonnenes Terpentinharz oder hydriertes, verestertes, neutralisiertes, verestertes und hydriertes, verestertes und neutralisiertes Terpentinharz, einen vernetzten Ter pentinharzester oder Mischungen davon enthält.
Geeignete Karzmateriuiien si.id z. B. Alkyl- und Alkuxyester von Terpentinharz oder hydriertem Terpentinharz, z. B. Methyl-, Äthyl-, Topyl-, Glycerin-, Äthylenglycol-, Diäthylenglycol-, Triäthylenglycol- oder Pentaerythritolester von Terpentinharz oder hydriertem Terpentinharz, Abietinsäure und deren Alkylester und Derivate, z. B. Methylabietat, Äthylabietat und Methyldihydroabiuat sowie Dihydroabietylalkohol (allgemein bekannt als Hydroabietylalkohol) sowie deren Derivate, z. B. der Phthalsäureester von Dihydroabietylalkohol. Diese Materialien können weiter durch Vernetzen mit anderen Monomeren oder Polymeren modifiziert v/erden, wobei man dann die im Handel z. B. als maleinsäuremodifizierte Terpentinharzester und phenolmodifizierte Terpentinharzester bekannten Produkte erhält, z. B. einen phenolmodifizierten Pentaerythritolester von Terpentinharz und Mischungen derselben. Derzeit bevorzugt sind die im Handel als »elastomere Terpentinharzabkömmlinge« bezeichneten, sowie Methylester von Terpentinharz, hydrierte Methylester von Terpentinharz, und Triäthylenglycolester von hydriertem Terpentinharz. Andere geeignete Terpentinharzverbindungen, Salze, Derivate und Polymerisate sind z. B. von Fnos et al unter dem Titel »Rosin and Rosinous Derivatives« in Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology, Band 17. S. 475 ff, beschrieben, worauf hier Bezug genommen wird. Eine Anzahl synthetischer oder anderer Ersatzstoffe für das Terpentinharz oder dessen Derivate wurden auch angegeben. Verwiesen wird z, B. auf Ghem. Abstracts, 84:91881 M (1976); Id 84:61633Q (1976); Id 82:60267V (1975); Id 80:134236S (1974); Und Chakrabortty et al, »Synthetic Studies in Resin Acid Series: Teil VII«; Indian JXhem. 12:948(1974).
Vorzugsweise besitzt das verwendete Terpentinharzmaterial einen niedrigen Erweichungspunkt, obwohl Stoffe mit einem Erweichungspunkt von bis zu etwa 17O0C (Hercules-Tropfmethode) verwendet wurden. Vorzugsweise liegt der Erweichungspunkt unter etwa 1000C und am besten ist das Material bei 15 bis 400C entweder flüssig oder balsamartig. Das Material soll eine Säurezahl von unter etwa 200, vorzugsweise zwischen etwa 0,3 und 200 besitzen. Materialien mit niedrigen Säurezahlen von etwa 5 bis 15 werden am
ίο meisten bevorzugt.
Die erfindungsgemäß verwendeten Materialien auf Terpentinharzbasis sind vorzugsweise amorph, stören die Wirkung des Sensibilisators, z. B. des lichtempfindlichen Diazo-Materials, nicht und beeinträchtigen die Entwicklungsfähigkeit des Systems nicht. In dem bevorzugten System, bei dem positiv arbeitende lichtempfindliche, alkalilösliche Harze verwendet werden, z. B. in Novolakharze enthaltenden Photolacken vom Diazo-Typ, ist das erfindungsgemäß verwendete Terpentinharzmaterial vorzugsweise alkalilöslich. Das ist jedoch nicht unbedingt erforderlich, vorausgesetzt, daß das Terpentinharzmaterial die Alkalilöslichkeit oder die Entwickelbarkeit des gesamten Systems nicht stört
Das erfindungsgemäße Terpentinharzmaterial kann in einem weiten Konzentrationsbreich in den Photoiack eingebracht werden. Gewisse Effekte werden bei geringen Konzentra'ionen festgestellt, und Standard-Novolaksysteme vertragen sehr hohe Konzentrationen,
ίο ohne daß die Entwickelbarkeit der Photolackschicht ungunstig beeinflußt wird. In der Regel sind Mengen an dem Terpentinharzmaterial zwischen 1 und 85 Gew.-% oder höher, berechnet auf Feststoffbasis (d. h. ohne das Lösungsmittel), annehmbar. Die zur Erzielung einer
J5 maximalen Wirkung erforderliche Terpentinharzmenge ist höher, wenn das Terpentinharzmaterial der einzige Zusatz zu dem Novolakharz oder dem photosensibilisierten Novolakharz ist. Wenn das Terpentinharzmaterial der einzige Zusatz zur Verbesserung der Flexibilität in dem Photolack ist. beträgt der bevorzugte Bereich etwa 55 bis 80 Gew.-% auf Febtstoffbasis. Alle nachstehend angegebenen Gewich'sprozente sind auf Feststoffbasis berechnet, sofern nichts anderes angege-• beil ist.
Gemäß einer bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung werden die Terpentinharzmaterialien zusammen mit bestimmten in der US-Patentschrift 36 34 082 beschriebenen Polyvinyläthern verwendet Vorzugsweise verwendete Polyvinyläther sind die Äther mit wiederkehrenden Einheiten der Formel:
-/-CH2-CH-+-
T ArT
worin R eine niedere Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen bedeutet. Die Polyvinyläther sind in Form hochviskoser Flüssigkeiten bis zu zähem kautschukartigem Material erhältlich, je nach der Linearität der Polymerkette und dem Durehschnittsmolekulargewicht des Polymerisats. Polymerisate mit einem K-Wert von mindestens 0,015 und vorzugsweise mindestens 0,040 sind geeignet Der teWert läßt sich aus der folgenden Gleichung ableiten:
Log >iR/C = 75 K711 +1 ■ 5 KC + K
worin ηχ die relative Viskosität der Polymeriösung und
C die Konzentration der zur Messung von tj« verwendeten Polymerlösung in Gramm pro 100 ecm Lösung ist Kleine Zusätze des Polyvinyläthers sind günstig und zunehmende Mengen zeigen eine zunehmende Verbesserung, bis der Äther in der Überzugsmasse unlöslich wird oder die Entwicklung gestört wird. Das Verhältnis von Polyvir.yläther zu lichtempfindlicher Diazo-Verbindung kann zwischen etwa 0,5 :1 und 6 :1 und vorzugsweise zwischen etwa 1 :1 und 3:1 variieren, je nach den übrigen Bestandteilen der lichtempfindlichen Zusammensetzung. Die Polyvinyläther können in Mengen von 0 bis 70 Gew.-% oder mehr, vorzugsweise von 25 bis 40 Gew.-%, zugesetzt werden. Derzeit ist Polyvinylmethyläther bevorzugt, obowhl eine große Vielzahl von Polyvinyläthern in der bereits genannten US-Patentschrift 36 34 082 beschrieben wird; auf den Inhalt dieser US-Patentschrift wird hier Bezug genommen. Dieser besondere Aspekt der Erfindung, nämlich die Verwendung des Terpentinharzmaterials in Verbindung mit den Polyvinyläthern, scheint stark synergistische und überraschend verbesserte Ergebnisse zu liefern, da zur Erzielung gleicher Ergebnisse viel geringere Mengen des Te.pentinharzmaterials erforderlich sind. Der bevorzugte Bereich an zusammen mit den Polyvinyläthern verwendeten Harzmaterial beträgt etwa 10 bis 45 Gew.-°/o, vorzugsweise etwa 20 bis 35 Gew.-%.
Um lichtempfindlich zu sein, müssen die erfindungsgemäßen Photolacke so viel lichtempfindliches Material, z. B. ein lichtempfindliches Material vom Diazo-Typ, enthalten, daß die belichteten Anteile dieses Materials durch Entwickeln entfernbar, ζ. B. in alkalischen Entwicklern löslich werden. Andererseits sollen sie nicht so große Mengen des lichtempfindlichen Materials enthalten, daß die unbelichteten Anteile der Lackschicht die Fähigkeit, durch den Entwickler für die belichteten Teile oder die Ätzmittel oder andere, zur Behandlung des Substrats verwendete Chemikalien nicht entfernt zu werden, verlieren. Große Mengen lichtempfindliche Verbindung neigen auch dazu, die Sprödigkdt des Photolacks zu erhöhen. Ganz allgemein werden lichtempfindliche Verbindungen in einer Menge von etwa 1 bis 20 Gew.-%. vorzugsweise "on etwa 5 bis 15 Gew.-% und am besten zwischen etwa 8 und 12 Gew.-% zugesetzt.
Weitere Zusätze zu den erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Photoiacken können >n kleinen Mengen weiterer Harze, Weichmacher, z. B. Dioctylphthalat Dibutylphthalat, oder Mineralöl und Farbstoffen bestehen, welche die Lackschicht und das entwickelte Bild besser sichtbar macht,!. Diese verschiedenen Bestandteile können in der Regel in einer Menge von 0 bis 6 Gew.-°/c eingebracht wtrden, vorausgesetzt, da3 sie die Lichtempfindlichkeit des Materials nicht stören. Etwa zugesetzte Farbstoffe werden vorzugsweise nur in einer Menge von etwa 0,01 bis 1,5 und vorzugsweise 0,1 bis 0,6% zugesetzt so daß eine ausreichende Färbung entsteht, ohne daß jedoch die Lichtstrahlen von Teilen des lichtempfindlichen Materials abgeschirmt werden. Höhere Farbstoffmengen können verwendet werden, wenn das Terpentinharzmaterial gemäß der Erfindung in nicht lichtempfindliche Ätzschutzschichten eingearbeitet ist.
Die bevorzugten erfindungsgemäßen Photolacke vom Diäzo-Typ enthalten etwa 10 bis 90 Gew.-% alkalilösliches Novolakharz, z.B. Phenol-Formaldehyd-Novolakharz oder Kresol-Formaldehyd-Novolakhar?. Vorzugsweise enthäl' die Zusammensetzung etwa 15 bis 45 Gew.-% des Novolakharzes auf 100 Gew.-Teile der festen Bestandteile des Photoiacks.
Der in flüssiger Form vorliegende erfindungsgemäße Photolack kann nach üblichen Methoden auf das Substrat aufgebracht werden, einschließlich durch Aufschleudern, Aufwalzen oder durch Tauchen. Die Herstellung des erfindungsgemäßen Lacks in Form eines trockenen Films kann in gleicher Weise unter Verwendung einer die obigen Bestandteile in einem
ίο Lösungsmittel gelöst enthaltenen Flüssigkeit erfolgen, d. h. durch Aufschleudern, Aufwalzen oder Tauchen, wobei die Flüssigkeit auf eine geeignete Trägerfolie, z. B. eine Polyesterfolie, oder einen behandelten oder unbehandelten Papierträger aufgebracht wird. In jedem Fall wird das Lösungsmittel in der Regel durch Trocknen bei einer Temperatur unterhalb der Zersetzungstemperatur der Diazo-Verbindung, die in der Regel unter 1100C liegt, und vorzugsweise unter 100° C entfernt Die Dauer der Trocknung hängt von der Art des verwendeten Lösungsmittels ab, beträgt jedoch im allgemeinen 1 bis 30 Minuten un*:r Bevorzugung der kürzerer. Zeiten, wobei gegenüber dem ungünstigen Einfluß einer verstärkten Zersetzung etwa anwesender photoempfindlicher Komponenten bei den zur Erzielung kürzerer Trocknungszeiten angewendeten höheren Temperaturen abgewogen werden muß.
Methoden zur Verwendung der erfindungsgemäß erhaltenen Photolacke sind dem Fachmann bekannt Zum Beispiel erhält man auf photomechanischem W^ge
jo eine Druckplatte aus dem lichtempfindlichen Material, das entweder als Flüssigkeit oder als trockener Film in bekannter Weise aufgebracht wurde, indem man den lichtempfindlichen Überzug unter einer Matrize belichtet und den belichteten Überzug dann mit einer verdünnten alkalischen Lösung unter Erzeugung eines Bildes entwickelt Der entwickelte Überzug kann mit Wasser gespült und in den durch den Entwickler freigelegten Teilen kann der Metallträger durch Behandlung mit etwa 1 %iger Phosphorsäurelösung, der Dextrin oder Gummiarabikum zugesetzt werden kann, durch Wasser benetzbar gemacht werden. Wenn die Pruckplatte dann mit fetthaltiger Farbe eingefärbt wird, haftet diese an den verbliebenen Teilen des ursprünglichen lichtempfindlichen Überzugs und man erhält von Positivmatrizen positive Kopien. In gleicher Weise wird, wenn das lichtempfindliche Material als Atzschutzr schicht verwendet werden soll, der Metallträger in den durch den Entwickler freigelegten Teilen mit einer geeigneten Ätzlösung so lange behandelt bis das Metall in dem gewünschten Ausmaß geätzt ist. Nach dem Ätzen wird die Platte gespült und der verbliebene lichtempfindliche Überzug wird gegebenenfalls entfernt, z. B. durch Behandlung mit einem organischen Lösungsmittel, z. B. einem der vorstehend für die Herstellung des lichtempfindlichen Überzugs beschriebenen.
Beispiel 1
Eine Kontroilösung mit der folgenden Zusammensetzung wird he-gestellt: 18,2 g eines alkalilöslichen Phenol- Formaldehyd-Novolakharzes, 0,2 g eines Farbstoffs, 6,2 g Naphthochinondiazidsulfonsäureester als lichtempfindliche Verbindung und Übungsmittel (Mischung aus 1 Volumteil n-Butylacetat, 1 Volumteil Xylol und 8 Volumteilen Cellosplv) bis auf 100 ecm.
Diese Lösung Ära auf ein aus einer Phenolharzfolie und einer Kupferfolie bestehendes Schichtgebilde mit einer Geschwindigkeit von. 78 Umdrehungen pro
Minute aufgeschleudert. Die lichtempfindliche Überzugslösung wird der fertigen Folie im Rotationszentrum zugeführt und das Schleudern dauert 5 Minuten. Der Überzug wird unmittelbar nach dem Aufbringen unter Verwendung eines 250 Watt-Infrarotstrahlers getrocknet, welcher in einem Abstand von etwa 15 cm oberhalb des Rotationszentrums angebracht ist. Der überzogene Träger kommt dann etwa 30 Minuten in einen auf einer Temperatur von 38"C gehaltenen Luftzirkulationsofen, in welchem die Photolackschicht gründlich getrocknet wird.
Der sü· gebildete Überzug ist etwa 150 um dick. Er springt und hebt sich entlang seiner Kante beim Schneiden mit einer Schere ab. Seine Flexibilität wird durch Entfernung eines Streifens der Kupferfolie mit
dem lichtempfindlichen Überzug darauf von dem Phenolharzsubstrat und Falten der Folie um etwa 90" getestet. Ein Überzug wird als Flexibel angesehen, wenn er sich bei dieser Behandlung nicht von der Kupferfolie trennt oder bricht. Der nach der vorstehenden Methode erhaltene Überzug schuppte sich beim Falten um 90° in Form spröder Teilchen ab und ließ eine blanke Kupferoberfläche zurück.
Beispiele 2bis 10
Die folgende Tabelle erläutert erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzungen, die sowohl Terpentinharzmaterial als auch einen Polyvinylether enthalten.
Beispiele
Phenol-Formaldehyd-Novolack, g
Naphthochlnon-dlaxldsulfonsäureester, g
l'oter farbstoff Nr. 618?
Terpentlnharzmalerlal, g:
elastomeres Tepentlnharzderlvat
Trlüthylenglycolester von hydriertem Terpenllnharz
Melhylester von Terpentinharz
hydrierter Methylester von Terpentinharz
elaslomeres Terpentlrtharzderlvat
alkohol- und alkalllösllcher, phenolmodiflzlerter
Terpentinharzester
Polyvinyläther:
Polyvlnyl-methyläther
Polyvlnyläthyläther
Polyvlnylisobutyläther
Filmblldener Zusatz:
Reaktionsprodukt von Melamin. Formaldehyd und
Butylalkohol
19,8 19,8 19,8 19.8 19,8 19,8 19,8 19,8 19.8
6,3 6.3 6.3 6,3 6,3 6,3 6,3 6,3 6,3
(J,J U.j O,j Uj Oj 0,3 0,3 O,j 0,3
15.0
15.0 15.0 15.0 12,0 12.0
15,0
15.0
15.0
3,0
18,6 18,6 18.6 18,6
0,0
18,6
18,6
!5,0 18,6 18.6
3,6
Beispiel 11
373 g einer 50%igen Lösung eines elastomeren Terpentinharzderivats in n-Butylacetat werden mit einem Photolack vereinigt, der etwa 27% Feststoffe enthält, bestehend aus 765 Gew.-% eines alkalilöslichen Novolakharzes und 235 Gew.-% eines Naphthochinon-Diazoesters als lichtempfindliche Verbindung. Nach dem Aufschleudern auf ein Kupfersubstrat mit 78 Umdrehungen pro Minute während 5 Minuten wird die Zusammensetzung 20 Minuten bei 90° C gesintert, wobei man eine Photolackschicht, enthaltend 1,43 g lichtempfindliche Vesbindung (5,75 Gew.-%), 4,65 g •to Terpentinharz (18,75 Ge\v.-%) und lii.75 g Novolak (75,5 Gew.-%) erhält.
Dieser Photolack wird auf seine Flexibilität getestet; er haftet an dem Kupfer Und blättert beim Falten um 90°
nicht ab und bildet keine Sprünge. Eine selektive ■ts Belichtung und anschließendes Eintauchen in einen alkalischen Entwickler ergibt ein entwickeltes Bild mit
ausgezeichneter Auflösung.
Dieses Beispiel zeigt, daß lichtempfindliche Systeme
extrem hohe Mengen des Terpentinharzmaterials so gemäß der Erfindung aufnehmen können, die äußerst flexible lichtempfindliche Lackschichten bilden, die jedoch trotzdem noch auf übliche Weise entwickelbar sind.
330225/268

Claims (16)

Patentansprüche:
1. Photolack aus einer lichtempfindlichen Verbindung und einem Bindemittel, das ein Novolakharz enthält, das durch die Einwirkung von Strahlung auf die lichtempfindliche Verbindung löslich gemacht wird, dadurch gekennzeichnet, daß das Bindemittel außerdem mindestens ein aus Holz, Gummi oder Tallöl gewonnener Terpentinharz oder hydriertes, verestertes, neutralisiertes, verestertes und hydriertes, verestertes und neutralisiertes Terpentinharz, einen vernetzten Terpentinharzester oder Mischungen davon enthält.
2. Photolack nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß er einen Polyvinyläther enthält
3. Photolack nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das veresterte Terpentinharz ein Alkylester, vorzugsweise ein Methylester, oder ein Alkoxyalkylester, vorzugsweise ein Triäthylenglykolester, ist oder aus Mischungen dieser Ester besteht.
4. Photolack nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das veresterte und hydrierte Terpentinharz ein hydriertes Methylester, Äthylester, Propylester, Glyzerinester, Äthylenglykolester oder Triäthylenglykolester ist oder aus Mischungen dieser Ester besteht
5. Photolack nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß er I bis 85, vorzugsweise 55 bis 80 Gew.-TeileTerpentinharzmaterial auf 100Gew.-Tei-Ie der festen Bestandteile des Photolacks enthält.
6. Photolack nach Anspruch 1. dadurch gekennzeichnet, daß er 10 bis 90, vorzugsweise 15 bis 45 Gew.-Teile Novolakharz auf 100 Gew. Teile der festen Bestandteile des Photolacks enthält.
7. Photolack nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß er einen Polyvinyläther mit wiederkehrenden Einheiten der Formel
-f-CH,— CH-V-
T U
enthält, worin R eine niedere Alkylgruppe mit 1 biü 4 Kohlenstoffatomen bedeutet.
8. Photolack nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß er einen Polyvinylmethyläther oder einen Polyvinyläthyläther enthält
9. Photolack nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß er 0.5 bis 6, vorzugsweise 1 bis 3 Gew.-Teile Polyvinyläther pro Gew.-Teil der lichtempfindlichen Verbindung enthält ι
10. Photolack nach Anspruch 7. dadurch gekennzeichnet, daß er 1 bis 89, vorzugsweise 20 bis 35 Gew.-Teile Terpentinharzmaterial auf 100 Gew.-Teile der festen Bestandteile des PhotlacKs enthält
11. Photolack nach Anspruch 10. dadurch gekennzeichnet, daß er 25 bis 40 Gew.-Teile Polyvinyläther auf 100 Gew.-Teile der festen Bestandteile des Photolacks enthält.
12. Photolack nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ef als lichtempfindliche Verbindung einen wässerunlöslichen Naphthochinon(l,2)-diazid* sulfonsäureester enthält
13- Photolack nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß er 5 bis 15 Gew.-Teile der lichtempfindlichen Verbindung auf 100 Gew.-Teile der festen Bestandteile des Photolacks enthält.
14. Mit einer Photolackschicht beschichtetes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial, dadurch gekennzeichnet, daß es aus einer nicht lichtempfindlichen Ätzschutzschicht und einer Photolackschicht aus einem Photolack nach einem der Ansprüche 1 bis 13 besteht, wobei die nicht lichtempfindliche Ätzscliutzschicht mit einem Entwickler für den Photolack entwickelbar ist
15. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß es als Polymeres ein alkalilösliches Novolakharz enthält
16. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die nicht lichtempfindliche Ätzschutzschicht aus einem in der Entwicklerlösung für die Photolackschicht entwickelbaren Polymeren und einem Terpentinharzmaterial wie in der Photolackschicht besteht
DE2733267A 1976-07-22 1977-07-22 Photolack Expired DE2733267C2 (de)

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