DE2329208A1 - Photolack - Google Patents

Description

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Newton, Massachusetts/V.St.A.

Unser Zeichen: S 2765

Photolack

Bekanntlich sind lichtempfindliche Lacke oder Resists dünne Überzüge ( in typischer Weise dünner als ein halbes Mil) die aus einer Lösung erhalten werden und bei Belichtung mit der richtigen Wellenlänge in ihrer Löslichkeit gegenüber bestimmten Lösungsmitteln (Entwicklern) chemisch verändert werden. Zwei Arten sind verfügbar mid zwar negativ wirkende und positiv wirkende. Der negativ wirkende Lack ist eine in ihrem Entwickler zunächst lösliche Mischung, die jedoch nach Belichtung in dem Entwickler unlöslich wird. Die Belichtung erfolgt durch eine Filmschablone. Der unbelichtetc Lack wird selektiv gelöst, erweicht oder ausgewaschen, während das gewünschte Lackmuster auf einem Plattenmaterial zurückbleibt. Positiv wirkende Lacke arbeiten in entgegengesetzter V'eise, indem die Belichtung den Lack in dem Entwickler löslich macht. Das nach Entwicklung (und in einigen Fällen nach einem Nachsintern) verbleibende Lackmuster ist in für Photolacke

Dr.Ha/Mk

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verv/endeten Lösungen unlöslich und chemisch beständig.

Typische Beispiele für für Photolacke verwendete lichtempfindliche Stoffe sind unter anderem Vinylcinnamatcopolymerisate, quaternäre Acetophenon- und Cinnamatsalze, Benzylacetophenon und verschiedene Diazoverbindungen, wie sie in den US-PS 3 046 118, 3 106 465 und 3 148 983 beschrieben sind.

Wegen der hohen Kosten der für solche Lacke verwendeten lichtempfindlichen Stoffe wurde es auf diesem Gebiet üblich, filmbildende Harze mit den lichtempfindlichen Stoffen zu mischen, und zwar nicht nur, um die Kosten des Photolacks zu erniedrigen, sondern auch um flexible Filme mit günstigeren physikalischen Eigenschaften zu erhalten. Die filmbildenden Harze setzen die Konzentration des lichtempfindlichen Stoffs in den lichtempfindlichen Überzügen in tj^pischer Weise um bis zu 50/ά oder etwas höher herab und verringern somit die Kosten der lichtempfindlichen Zusammensetzung.

Es ist dem Fachmann auch bekannt, alkalilösliche Phenoloder Epoxydharze vom Novolakharz zuzusetzen, die gegenüber starken anorganischen Säuren beständig und in den Lackrohstofftabellen von Karsten, 2. Ausgabe, 1959, Seite 106 genannt sind. Auf diese Veröffentlichung wird hier Bezug genommen.

Die dem lichtempfindlichen Überzug zugegebene Harzmenge liegt 1ypiseher Weise zwischen etwa 0,05 und 1,5 Gewichtsteilen pro Gewichtsteil lichtempfindliche Verbindung. Eine Erhöhung des Harzgehalts ist in der Zusammensetzung unerwünscht, da die Fälligkeit, einen belichteten lichtempfindlichen Überzug zu entwickeln dadurch beeinträchtigt

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wird, was zu Bildmustern mit schlechter Auflösung führt. Infolgedessen werden zwar die Kosten eines lichtempfindlichen Überzugs durch Zusatz eines Harzes bis zu einem gewissen Grad erniedrigt, es erfolgt dies jedoch auf Kosten der Bildqualität.

Mit der vorliegenden Erfindung ist nun die Schaffung eines lichtempfindlichen Überzugs gelungen, der einen wesentlich geringeren Gehalt an lichtempfindlichem Material, d.h. nicht mehr als 20 Gew.-% der Gesamtfeststoffe, in typischer Weise zwischen 2 und 20 und vorzugsweise zwischen 8 und 12 $>, aufweist. Außerdem besitzt der Überzug ausgezeichnete physikalische und chemische Eigenschaften, die zumindest mit denen früherer lichtempfindlicher Überzüge vergleichbar und in vielen Fällen sogar verbessert sind. Beispielsweise können verhältnismässig dicke, d.h. 1 Mil oder dickere Überzüge gebildet werden, deren Belichtungsempfindlichkeit gleich der bekannten dünneren Überzüge ist und die sich rasch zu Bildern mit ausgezeichneter Bildschärfe entwickeln lassen.

Die erfindungsgemässen lichtempfindlichen Zusammensetzungen enthalten eine oder mehrere positiv wirkende lichtempfindliche Diazoverbindungen in Kombination mit einem Acrylharz und vorzugsweise einem Novolakharz. Das verwendete Acrylharz umfaßt die mit Epoxidgruppen vernetzbaren Carboxylharze, \7ovon die Terpolymerisate aus drei llonomeren einschliesslich einer Acrylsäure als eines der Monomeren am meisten bevorzugt sind.

Die von der Erfindung umfassten Acrylharze sind die bekannten Acrylharze wie sie in zahlreichen Veröffentlichungeil, einschliesslich der "Modern Plastics Encyclopedia für 196G, Band 45, Nummer 14A, McGraw-Hill Publications, Seiten 136 bis 130" beschrieben sind. Im allgemeinen

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sind die Acrylharze Polymerisate oder Copolymerisate von Acrylsäure, Methacrylsäure, Estern dieser Säuren oder Acrylnitril. Das letztere sowie die Methyl-Aethylester sind die am häufigsten verwendeten Ausgangsstoffe. Diese farblosen monomeren, flüssigen Ester polymerisieren leicht in Anwesenheit von Licht, Wärme oder einem Katalysator v/ie Benzoylperoxid zu höhermolekularen Polyerisaten.

Für die erfindungsgemässen Zwecke sind die dem FachmannbekEur •ten als "carboxylartige, mit Epoxidharzen vernetzbaren"Har20 bevorzugt. Auf diese Weise identifizierte Harze sind in der Veröffentlichung "Acryloid Thermosetting Acrylic Resins, Rohm & Haas Company, Philadelphia, Peensylvanie, August 1968" beschrieben, auf die hier Bezug genommen wird.

Die am meisten bevorzugten Acrylharze sind durch Terpolymerisation von drei Monomeren gebildete Terpolymerisate, wie sie durch die Kombination von Methylacrylat, Styrol. und Acrylsäure erläutert werden. Diese Terpolymerisate enthalten Carboxylgruppen (-COOII) in einer Menge von etv/a 3 bis 15 Gew.-Jo. Das hat sich als günstiger Bereich sowohl für die Terpolymerisate als auch für andere, von der Erfindung umfaßte Acrylharze erwiesen, da mit diesen Harzen gebildete Photolacke, die mehr als 15/u Carboxylgruppen enthalten, entweder überentwickelt v/erden oder eine unzureichende Ätzbeständigkeit aufweisen, während mit weniger als etwa 3 % Carboxylgruppen eine unvollständige Entwicklung erfolgt.

Wie sich aus der vorstehenden Diskussion ergibt, scheint der chemische Angelpunkt in dem Terpolymerisatharz die Carboxylgruppe zu sein, die durch monomere Acrylsäure,

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Methacrylsäure, oder Maleinsäure eingeführt wird. Das Konzentrationsverhältnis der anderen beiden Monomeren kann innerhalb eines weiten Bereichs variieren. Ferner können sowohl das- Methylacrylat als auch das Styrol durch andere Monomere ohne merkbare ungünstige Wirkungen ersetzt werden. Beispielsweise können anstelle des monomeren Methylacrylats Aethylacrylat, Propylacrylat und dergleichen verwendet werden. Anstelle von monomerem Styrol können andere Monomere, z.B. p-Methylstyrol, p-Chlorstyrol, Aethylstyrol und dergleichen ohne störende Wirkung verwendet werden.

Ein bevorzugtes Terpolymerisat zur Verwendung in den erfindungsgemässen Zusammensetzungen besteht aus etwa 57,5 % Aethylacrylat, 32,6# Styrol und etv/a 9i9# Acrylsäure. Ein Terpolymerisat dieser Art ist im Handel von der Firma Rohm & Haas Company unter der Handelsbezeichnung Acryloid AT-70 erhältlich.

Die Acrylharze ergeben noch v/eitere Vorteile außer den durch die geringere Menge an lichtempfindlichem Katerial bedingten Kosteneinsparungen. Beispielsweise erfordert eine aus der bevorzugten erfindungsgemässen Zusammensetzung gebildete lichtempfindliche Schicht eine wesentlich kürzere Belichtungsdauer als eine gleich dicke lichtempfindliche bekannte Schicht. Somit können aus dem lichtempfindlichen Materialien gemäß der Erfindung dickere Überzüge gebildet werden, ohne daß dadurch die Belichtungszeit gegenüber bekannten lichtempfindlichen Schichten verlängert wird.

Außerdem ergeben die erfindungsgemässen lichtempfindlichen Zusammensetzungen lichtempfindliche Überzüge

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mit guten Filmeigenschaften, z.B. guter Flexibilität, verbesserter Verbindung mit einem Substrat, ausgezeichneter Beständigkeit gegenüber Lösungsmitteln und anderen Chemikalien, Zähigkeit, guten dielektrischen Eigenschaften und dergleichen. Diese Filmeigenschaften sind wahrscheinlich zum Teil auf die geringere Konzentration an lichtempfindlichem Material zurückzuführen, das in Bezug auf die Filmeigenschaften als Verunreinigungsmittel wirkt. Ein weiterer Vorteil bei Verwendung der Acrylharze, insbesondere der vorstehend beschriebenen bevorzugten Terpolymerssate, ist die bessere Konturenschärfe bei Entwicklung dieser lichtempfindlichen Stoffe, was zu schärferen Bildern führt. Weitere Vorteile sind eine bessere Adhäsion an Substraten, verbesserte Lagerungsbeständigkeit vor der Verwendung und dergleichen.

Der lichtempfindliche Überzug kann nur das lichtempfindliche Material und das Acrylharz enthalten, enthält jedoch vorzugsv/eise das lichtempfindliche Material in einem Harzsystem, in welchem das Acrylharz eine Schlüsselstellung einnimmt. Es können somit dem Harzsystem zur Erzielung spezifischer Filmeigenschaften andere Harze zugesetzt werden. Den Photolacken typischerweise zugesetzte Harze sind die Celluloseaether, Polyester, Polyvinylalkohole, Phenolharze, Polyvinylacetale, Phenol-Formaldehydharze, Melamin-Formaldehydharze, Styrolharze, Epoxydharze, Phenol-Furfuralharze, Polyurethane und dergleichen.

Bei der am meisten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung wird das Acrylharz in Kombination mit einem Novolakharz, z.B. einem Phenol-Formaldehydharz verwendet, da diese Harzkombination die günstigsten Filmeigenschaften ergibt. In Kombination mit dem Novo-

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lakharz · kann das Acrylharz in kleineren Mengen verwendet werden, obwohl es einen Schlüsselbestandteil darstellt. Diesbezüglich kann die Konzentration des Novolaks von 1 bis 90 Gew.-%, bezogen auf das Harzsystem, variieren, variiert jedoch vorzugsv/eise zwischen 25 und 75 Gew.-% und am besten zwischen 40 und 60 Gevr.-%, bezogen auf das Harzsystem. Natürlich können dem Harzsystem andere Harze, z.B. die vorstehend angegebenen, Weichmacher, Farbstoffe und dergleichen in kleineren Mengen zugegeben werden. Wenn das Harzsystem dfs Acrylharz und ein anderes Sekundärharz als das Novolakharz enthält, ist das Acrylharz vorzugsweise in einer Menge von über 50 Gew.-^a, bezogen auf das Harzsystem, zugegen.

Die von der Erfindung umfassten lichtempfindlichen Stoffe sind die positiv wirkenden, dem Fachmann bekannten Diazoverbindungen. Eine knappe jedoch gründliche Diskussion dieser Stoffe erscheint in "Lichtempfindliche Systeme" von Kosar, John Wiley and Sons, Incorporated, New York, 1965, Seiten 194 bis 214 und 336 bis 352, worauf hier Bezug genommen wird.

Für die erfindungsgemässen Zwecke bevorzugt sind die lichtempfindlichen ortho-Chinondiazide, insbesondere die ortho-Chinondiazidsulfonsäureester entsprechend der folgenden allgemeinen Formel:

SO₂OR ^Y 309881/0864

worin X und X^ Stickstoff oder Sauerstoff bedeuten und voneinander verschieden sind, Y ist V/asserstoff oder Halogen und R ist ein substituierter oder unsubstituierter Arylrest oder heterocyclischer Rest. Beispiele für der obigen allgemeinen Formel entsprechende Stoffe sind in der US-PS 3 046 121 gegeben, worauf hier Bezug genommen wird. Beispiele für andere lichtempfindliche Stoffe innerhalb des Rahmens der Erfindung sind in der vorstehenden Literaturstelle "Lichtempfindliche Systeme" und in den US-PS 3 046 121, 3 102 809, 3 106 46.5, 3 130 047, 3 130 048, 3 148 933, 3 061 430, 3 184 310, 3 188 und 3 201 239 angegeben, worauf hier Bezug genommen wird.

Es ist ein Verdienst der Erfindung, daß infolge der Verwendung des Acrylharzes, wie vorstehend beschrieben, die Konzentration an lichtempfindlichem Material in dem Photolacküberzug v/esentlich unter den bisherigen Wert von 50 Gew.-^f/j der Gesamtfeststoffe erniedrigt werden kann; tatsächlich ist eine so hohe Konzentration an lichtempfindlichem Stoff dem System abträglich. Gemäß der bevorzugten Ausführungsform der Erfindung übersteigt die Konzentration an dem lichtempfindlichen Stoff, bezogen auf den Gesamtgehalt an trockenen Feststoffen, welche den lichtempfindlichen Überzug bilden, nicht 20 Gew.-$u, sie braucht nur 2 Gew.-?S zu betragen und variiert vorzugsweise zwischen 8 und 12 Gew.-^; es sind jedoch auch Mengen bis zu 40 Gew.-?a tragbar.

Die erfindungsgemässen lichtempfindlichen Zusammensetzungen werden in üblicher V/eise angewendet und vorzugsweise auf das Substrat in Form einer Lösung aufgebracht, welche das gelöste Acrylharz, das Sekundärharz und andere Zusätze, insbesondere das Novalakharz

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sowie das lichtempfindliche Material enthält. Nach Aufbringung des Überzugs wird dieser getrocknet, vorzugsweise in einem Ofen und kann dann je nach dem verwendeten Acrylharz bei massigen Temperaturen von etwa 66 bis 93°C ( 150 bis 200°F) kurzzeitig und zwar in typischer Weise weniger als 30 Minuten, zur Aushärtung des Polymerisats gesintert werden. Der Überzug v/ird dann je nach der Zusammensetzung der lichtempfindlichen Schicht, ihrer Dicke und der Intensität der Lichtquelle 1 bis 20 Minuten belichtet. Dann wird er durch Kontakt mit einem geeigneten Entwickler innerhalb 1 bis 10 Minuten entwickelt, wobei diese Zeit wiederum von der Zusammensetzung sowohl des Überzugs als auch des Entwicklers, der Filrndicke und dergleichen abhängt.

Wenn das lichtempfindliche Material als Photolack verwendet werden soll, wird der Metallträger an den durch den Entwickler freigelegten Teilen mit einer geeigneten Ätzlösung so lange behandelt, bis die Metallbasis in dem gewünschten Ausmaß geätzt ist. Nach dem Ätzen wird die Platte gespült und der verbliebene lichtempfindliche Überzug wird gegebenenfalls entfernt, beispielsweise durch Behandlung mit organischen Lösungsmitteln, z.B. mit einem der vorstehend als geeignet für die Herstellung der lichtempfindlichen Überzüge beschriebenen.

Wenn das Acrylharz die Hauptmenge des Harzsystems ausmacht, sind bekannte alkalische Entwickler nicht geeignet, da sie die belichteten Teile des Lacks angreifen und langsam wirken. Ein besserer Entwickler besteht aus einer wässrigen Lösung einer Verbindung mit sowohl Hydroxyl- als auch Amingruppen, z.B. den Alkanolaminen oder sowohl Amine als auch Alkohole enthaltenden Lösungen. Primäre Alkylaraine und Polyhydroxyalkohole sind bevorzugt. Der

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Gesamtgehalt an aktiven Komponenten in Lösung beträgt vorzugsweise etwa 2 bis 25 Gew.-9a der Lösung. Eine typische Entwicklerzusammensetzung besteht aus 5 bis 25 Vol.-So Aethanolamin in Wasser. Wenn das Harzsystem einen hohen Anteil an dem Novola kharz enthält, dann können die bekannten Alkalimetallhydroxydlösungen verwendet werden. Je nach dem Verhältnis des Acrylharzes zu dem Novola kharz kann das Alkalimetallhydroxyd zusammen mit dem Amin-Hydroxydentwiekler verwendet werden, wie es sich für den Fachmann von selbst ergibt.

Die Erfindung wird anhand der folgenden Beispiele besser verständlich.

Beispiel 1

Eine Lösung aus 100 ecm Glykolmonoaethylaether, 3,3 g einer lichtempfindlichen Verbindung und zv;ar des 1,2,5-Naphthochinon-diazidsulfonsäureesters von p-Cumylphenol und 50,7g eines als Acryloid-AT-70 der Rohm and Haas Company identifizierten Acrylharz-Terpolymerisats wird hergestellt. Dieses Acrylharz wird in Form einer 55?6-igen Lösung des Harzes in Xylol-Celluloseacetat als Lösungsmittel verkauft. Es besitzt ein Säureäquivalent von 875 und eine Viskosität von etwa 1200 bis 2500 cps bei 25°C. Die so gebildete Lösung wurde auf eine Seite einer mit Kupfer verkleideten Platte mittels einer Plattenwalze aufgetragen, worauf der überzug getrocknet und durch Einbringen des Schichtgebildes in einen auf etwa 93°C

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gehaltenen Ofen während etwa 10 Minuten ausgehärtet wurde, Der getrocknete überzug war etwa 0,1 Mil dick. Die lichtempfindliche Schicht aus dem Photolack wurde dann etwa Minuten unter einem Negativ oder einer Matrize mit einer 10 Ampere starken Bogenlampe belichtet. Die belichtete Schicht wurde durch Auswaschen mit einer 5 g Butylamin und 5 ecm Dibutylalkohol enthaltenden wässrigen Lösung während etwa 3 Minuten entwickelt. Das entwickelte Bild zeigte eine gute Auflösung.

Beispiel 2

Das Verfahren von Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei jedoch anstelle des Acryloid AT-70 Acryloid AT-101 verwendet wurde. Das Acryloid AT-101 wurde von der Rohm and Haas Company erhalten und ist ein carboxylartiges^ wärraehärtendes Acrylharz, das wahrscheinlich überwiegend aus einem Homopolymerisat von Methacrylsäure mit einer Brookficld-Viskosität von 700 bis 1300 cps bei 25⁰C besteht. Man erzielte ähnliche Resultate.

Beispiel 3

Ein als GAF-Photoresist Nr. 102 bezeichneter handelsüblicher Photolack ( ein Produkt der General Aniline and Film Corporation, wahrscheinlich bestehend aus etwa 1 Teil 3-Diazo-2,4-diphenyl-3H-pyrolenin und etwa 3 Teilen einer Mischung aus Vinylacetat und einem Copolymerisat von Vinylacetat und !Crotonsäure in Keton als Lösungsmittel) wurde mit dem AT-70 Acrylharz von Beispiel 1 gemischt. 3 Gewichtsteile des Acrylharzes wurden auf jeweils 1 Teil des GAF-Photoresists auf Feststoffbasis zugegeben. Die Gesamtkonzentration an

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der Diazovorbindung und dem Photoresist betrug daher 1 Gewichtsteil pro 16 Teile Photoresist-Feststoffe.

Der so erhaltene Photolack wurde auf eine Seite einer mit Kupfer verkleideten Platte mittels einer Zentrifugalschleuder aufgebracht, worauf der Überzug getrocknet und durch Einbringung des Schichtgebildes in einen auf 66⁰C (150⁰F) gehaltenen Ofen während etwa 15 Minuten ausgehärtet wurde. Die lichtempfindliche Schicht aus Photolack wurde dann mit einer Lichtquelle, bestehend aus einer 10 Ampere Bogenlampe während etwa 5 Minuten unter einem Negativniuster oder einer Negativmatrize belichtet. Die belichtete Schicht wurde mit einer 25 Vol.-?a Aethanolamin enthaltenden Lösung entv/ickelt. Der Photolack wurde von den nicht belichteten Stellen entfernt, während die Lichtzersetzungsprodukte an den bestrahlten Teilen in Form eines scharfen Bildes verblieben.

Beispiele 4 bis 8

Fünf Lösungen in jeweils 200 ecm Glykolmonoaethylaether wurden hergestellt. Die Zusammensetzungen waren die folgenden:

Beispiel Acrylharz (1) Novolakharz (2) Photosensi-(3)

(g) (g) bilisator (g)

4 80 20 10

5 60 40 10

6 50 50 10

7 40 60 10

8 20 80 10

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(1) Das vorstehend beschriebene Acryloxd AT-70

(2) Alnovol 429K, ein alkalilösliches Phenol-Formaldehyd-Novolakharz

(3) der 2,1,5-Naphthochinon-diazidsulfensäureester von p-Cumylphenol.

Jede Lösung wurde auf eine Seite einer kupferverkleideten Platte mittels einer Zentrifugalschleudervorrichtung aufgebracht, worauf der Überzug getrocknet und durch Einbringung des Schichtgebildes in einen auf etwa 93°C (200°F) gehaltenen Ofen während etwa 10 Minuten ausgehärtet wurde. Die trockenen Überzüge besaßen Dicken zwischen etwa 1,2 und 1,8 Mil ( 1 Mil = 1/1000 Zoll). Die lichtempfindlichen Schichten aus Photolack wurden dann mit einer 10 Ampere Bogenlampe etwa 15 Minuten unter einem Negativrnuster oder einer Negativmatrize belichtet. Beispiele 4 und 5 wurden mit einer 10 Vol.-5'iigen Lösung von Aethanolamin entwickelt, Beispiele 7 und 8 wurden mit einer 2 Gew.-^aigen Lösung von Natriumhydroxid und Beispiel 6 wurde mit einer Natriumhydroxid enthaltenden Lösung von Aethanolamin entwickelt. In allen Fällen waren die entwickelten Bilder ausgezeichnet. Die Konturenschärfe der entwickelten Bilder war ausgezeichnet und die Photolackmuster waren ätzbeständig, flexibel und besaßen auch anderweitig gute Eigenschaften.

Beispiel 9

Das Verfahren von Beispiel 4 wurde wiederholt, wobei jedoch der Acrylharzgehalt auf 70 g erniedrigt und dafür 10 g Polyvinylmethylaether λ'erwendet wurden. Man erzielte ähnliche Ergebnisse.

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Beispiel 10

Eine Photolackzusainmensetzung wurde wie folgt hergestellt:

M)
Photosensibilisator ^v ' 4g

M)

Acrylharz^v ' 70 g

Epoxydharz^· ' 30 g

Methylcelluloseacetat 400 g

(1) Gleich wie in Beispiel 1

(2) Das Epoxydharz war Epen 1001, ein aus Epichlorhydrin und Bisphenol A erhaltenes Polymerisat mit mittlerem Molekulargewicht.

Der Photolack wurde auf eine Seite einer mit Kupfer verkleideten Platte mittels einer Zentrifugalschleudervorrichtung aufgebracht und der Überzug wurde in einem Ofen mit zirkulierender Luft bei 66°C getrocknet. Die lichtempfindliche Schicht wurde etwa 6 Minuten mit einer 10 Ampere Bogenlampe durch ein Negativ belichtet. Die belichtete Platte wurde mit einem aus 5 g N-Eutylainin und 5 g Aethanol in 1 1 V/asser bestehenden Entwickler entwickelt. Das entwickelte Bild war von ausgezeichneter Schärfe.

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Claims (13)

1. Patentansprüche

   M-/Photolack bestehend aus einer lichtempfindlichen Diazoverbindung und einem carboxylgruppenhaltigen Acrylharz, wobei die lichtempfindliche Diazoverbindung bis zu 40 Gew.-Jo der Photolackzusammensetzung, bezogen auf den Gehalt an Trockenfeststoffen, ausmacht.
2. 2. Photolack nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Acrylharz zur Vernetzung mit einem Epoxydharz fähig ist.
3. 3. Photolack nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das lichtempfindliche Material 2 bis 20 Gew.-fo des Photolacks, bezogen auf den Gehalt an Trockenfeststoffen, ausmacht.
4. 4. Photolack nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das lichtempfindliche Material 8 bis 12 Gew.-$ii des Photolacks, bezogen auf den Gehalt an Trockenfeststoffen, ausmacht.
5. 5. Photolack nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das lichtempfindliche Material aus ein oder mehreren ortho-Chinondiaziden besteht.
6. 6. Photolack nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das lichtempfindliche Material der Formel

   SO₂OR

   Y 309881/0864

   entspricht, worin X und X^ Stickstoff oder Sauerstoff und voneinander verschieden sind, Y Wasserstoff oder Halogen und R einen substituierten oder unsubstituierten Arylrest oder heterocyclischen Rest bedeutet.
7. 7. Photolack nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Acrylharz 3 bis 15 Gew.-?o Carboxylgruppen besitzt.
8. 8. Photolack nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Acrylharz ein Terpolymerisat aus drei Monomeren ist, wovon eines Acrylsäure, Methacrylsäure oder Maleinsäure ist,
9. 9. Photolack nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Acrylharz ein Terpolymerisat aus einem Monomeren der aus Methylacrylat, Aethylacrylat und Propylacrylat bestehenden Gruppe, einem zweiten Monomeren der aus p-Methy1styrol, p-Chlorstyrol, p-Aethylstyrol und Styrol bestehenden Gruppe und aus einem Monomeren der aus Acrylsäure, Methacrylsäure und Maleinsäure bestehenden Gruppe ist, wobei das dritte Monomere in einer solchen Menge zugegen ist, daß seine Carboxylgruppen etwa 3 bis 15 Gew.-?o des Gesamtgewichte der drei Monomeren ausmachen.
10. 10. Photolackzusammensetzung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß er zu 2 bis 40 Gew.-%, bezogen auf den Gehalt an Trockenfeststoffen aus der lichtempfindlichen Diazoverbindung und im übrigen aus dem Acrylharz und einem Novolakharz besteht, wobei das Novolakharz 1 bis 90 Gew.-Jä des Harzgehalts ausmacht.

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11. 11. Photolack nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß das Novolakharz ein Phenol-Formaldehydharz ist und 25 bis 75 Gew.-% des Harzgehalts ausmacht.
12. 12. Photolack nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß das Novolakharz 40 bis 60 Gew.-% des Harzgehalts ausmacht.
13. 13. Photolack nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß das Acrylharz ein Terpolymerisat ist und eines der drei Monomeren Acrylsäure oder Methacrylsäure ist.

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