DE2606793A1

DE2606793A1 - Lichtempfindliche druckplatten und verfahren zu deren herstellung

Info

Publication number: DE2606793A1
Application number: DE19762606793
Authority: DE
Inventors: Kazutaka Oda; Yoshio Okishi
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1975-02-19
Filing date: 1976-02-19
Publication date: 1976-09-02
Also published as: US4216289A; FR2301842B1; US4251620A; US4288526A; FR2301842A1; GB1542131A; DE2606793C2

Description

Die Erfindung betrifft lichtempfindliche Druckplatten und ein Verfahren zu deren Herstellung. Insbesondere betrifft die Erfindung lichtempfindliche Druckplatten, auf deren Oberfläche eine unebene Beschichtung angeordnet ist, sowie ein Verfahren zu deren Herstellung.

Wird eine lichtempfindliche Druckplatte durch ein Originalbild belichtet, werden normalerweise die lichtempfindliche Druckplatte und das Original zwischen eine Gummifolie und ein Druckglas eingeschoben. Der Raum zwischen der Gummifolie und dein Druckglas wird avakuiert, so daß das Original in innigen Kontakt mit der Oberfläche einer lichtempfindlichen Schicht der lichtempfindlichen Druckplatte oder, falls auf der lichtempfindlichen Schicht der lichtempfindlichen Druckplatte eine

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Harzschicht angeordnet ist, in innigen Kontakt mit der Oberfläche der Harzschicht (im folgenden werden beide der Einfachheit halber als "Oberfläche einer lichtempfindlichen Druckplatte" bezeichnet) tritt. Diese Verfahrensweise wird im folgenden mit "Vakuumadhäsionsmethode" bezeichnet.

Da konventionelle lichtempfindliche Druckplatten glatte Oberflächen besitzen, wird, wenn ein Original mittels der Vakuumadhäsionsmethode in innigen Kontakt mit einer lichtempfindlichen Druckplatte gebracht wird, Adhäsion schrittweise erreicht, indem von einer Kante des Originals aus abgesaugt wird; hierbei dauert es außerordentlich lange,* bis das Original in vollständigen innigen Kontakt mit der Gesamtoberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte gebracht wird. Durch diesen hohen Zeitaufwand für die Adhäsion wird der Wirkungsgrad der Plattenherstellung verringert; eine solche Verfahrensweise ist darüberhinaus sehr unökonomisch. Darüberhinaus kann, wird bei unvollständiger Adhäsion bildweise belichtet, in den Bereichen, in denen die Adhäsion unvollständig ist, ein scharfes Bild nicht erhalten werden, so daß auch keine scharfen Drucke erhalten werden. Deshalb besteht auf diesem Gebiet eine wichtige Aufgabe darin, den Zeitaufwand für die Adhäsion zu vermindern.

Aufgabe der Erfindung ist es, eine lichtempfindliche Druckplatte zur Verfügung zu stellen, mit der im Adhäsionsschritt nach der Vakuumadhäsionsmethode die notwendige Zeit verkürzt werden kann, sowie ein Verfahren zur Herstellung solcher lichtempfindlicher Druckplatten.

Erfindungsgemäß .werden diese Aufgaben durch lichtempfindliche Druckplatten gelöst, bei denen auf der Oberfläche einer lichtempfindlichen Druckplatte eine Beschichtung, die im Entwicklungsschritt entfernbar ist, derart aufgebracht ist, daß ein feines Muster gebildet wird, in dem beschichtete und unbeschichtete

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Bereiche vorliegen.

Wird auf der Oberfläche einer lichtempfindlichen Druckplatte eine Beschichtung, die ein feines Muster aufweist, in dem beschichtete und unbeschichtete Bereiche bestehen, aufgebracht, so wird das Aufsaugen eines Originalbildes, das in inniget Berührung mit der Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte gebracht wird, gleichförmig bewirkt, wobei es möglich ist, in kurzer Zeit das Originalbild in vollständige innige Berührung mit der gesamten Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte zu bringen.

Die Erfindung wird anhand der Figuren näher erläutert.

Pig. 1 ist ein Querschnitt durch eine lichtempfindliche Druckplatte, die eine Beschichtung mit einem Muster gemäß der Erfindung aufweist.

Fig. 2 ist ein Querschnitt durch eine lichtempfindliche Druckplatte, die eine Beschichtung mit einem anderen Muster gemäß der Erfindung aufweist.

Fig. 5 ist ein Querschnitt durch eine lichtempfindliche Druckplatte gemäß der Erfindung nach Belichtung und Entwicklung.

Fig. 4 ist ein Querschnitt durch eine weitere Aisfübrongafoisi einer lichtempfindlichen Druckplatte gemäß der Erfindung.

Fig. 5 ist ein Querschnitt durch eine Ausführungsform einer lichtempfindlichen Druckplatte gemäß der Erfindung nach Belichtung und Entwicklung.

In den Fig. 6 und 7 werden schematisch eine Prägebeschichtungsvorrichtung und eine Offset-Prägebeschichtungsvorrichtung wiedergegeben.

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In Pig. 8 wird schematisch eine Beschichtungsvorrichtung wiedergegeben, mit der eine erfindungsgemäße Beschichtungsmethöde durchgeführt werden kann.

In Fig. 9 wird schematisch der Zustand einer Beschichtungslösung aufgezeigt, die sich an einer BeSchichtungsrolle oder -walze bei einer erfindungsgemäßen Beschichtungsmethöde befindet.

Fig. 10 ist eine schematische Wiedergabe einer lichtempfindlichen Druckplatte, die eine Beschichtung mit einem Muster gemäß der Erfindung auftireist, wobei die verschiedenen Parameter benutzt werden, um HCla-Werte, wie im. folgenden erklärt wird, zu definieren.

Erfindungsgemäß wird auf der Oberfläche einer lichtempfindlichen Druckplatte eine Beschichtung derart aufgebracht, daß ein Muster, bei dem beschichtete und unbeschichtete Bereiche bestehen, gebildet wird. Dadurch ist es möglich, ein Originalbild in vollständigen innigen Kontakt mit der gesamten Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte zu bringen.

Darüberhinaus werden lichtempfindliche Schichten, die mit einer derartigen Beschichtung versehen sind, nicht beschädigt, selbst wenn solche lichtempfindliche Druckplatten übereinandergelegt werden; lichtempfindliche Druckplatten, die nebeneinander angeordnet sind, kleben nicht aneinander, wodurch ihre Handhabung erleichtert xd.rd.

Eine lichtempfindliche Druckplatte mit einer Beschichtung mit einem feinen Muster, in dem beschichtete und unbeschichtete Bereiche auf der Oberfläche bestehen, besitzt ausgezeichnete Eigenschaften wie beispielsweise hinsichtlich der Entwicklung,

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wenn man sie mit einer lichtempfindlichen Druckplatte, die eine unebene Beschichtung aufweist, bei der lediglich die Beschichtungsdicke auf der Oberfläche differiert, vergleicht. In Fig. ist ein Querschnitt durch die zunächst erwähnte lichtempfindliche Druckplatte und in Pig. 2 ein Querschnitt durch die letztere wiedergegeben. Man entnimmt den Fig. 1 und 2 ohne Schwierigkeit, daß der Hauptunterschied zwischen der Ausführungsform gemäß Fig. 1 und der Ausführungsform gemäß Fig. 2 wie beschrieben darin besteht, daß in der Ausführungsform gemäß Fig. 1 die beschichteten und unbeschichteten Bereiche diskontinuierlich sind, während in der Ausführungsform gemäß Fig. 2 die "beschichteten" Bereiche eine größere Beschichtungsdicke als die "unbeschichteten" Bereiche aufweisen. Jede der lichtempfindlichen Druckplatten ist jedoch hinsichtlich der Adhäsionseigenschaften im Vergleich mit konventionellen lichtempfindlichen Druckplatten wesentlich verbessert, und es ist möglich, die Verzögerung der Adhäsion im mittleren Bereich zu vermeiden und in kurzer Zeit gleichförmige und vollständige Adhäsion zu erreichen.

Im folgenden v/erden die beiden zuvor beschriebenen erfindungsgeinäßen BeSchichtungen als "Beschichtungen mit unebenen Mustern" bezeichnet.

Lichtempfindliche Druckplatten, auf deren Oberfläche eine erfindungsgemäße Beschichtung aufgebracht ist, bestehen im wesentlichen aus einem Träger und einer oder mehreren lichtempfindlichen Schichten], die auf dem Träger angeordnet sind. Deshalb zählen hierzu Platten zur Herstellung von Druckplatten,wie lithographischen Druckplatten, Buchdruckplatten, Intagliodruckplatten und ähnliche.

Zu erfindungsgemäß verwendbaren Trägern zählen dimensionsstabile Platten, die üblicherweise als Träger beim Drucken verwendet

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werden. Zu solchen Trägern zählen Papier, Kunststoff (beispielsweise Polyäthylen, Polypropylen, Polystyrol und ähnliche), laminiertes Papier, Metallplatten, beispielsweise Platten aus Aluminium (einschließlich Aluminiumlegierungen wie Al-Mo., Al-Cu, Al-Mg-Cr, Al-Mg-Cr-Mn, Al-Mg-Mn, Al-Mg-Si, Al-Mg-Cr-Si, Al-Si, Al-Si-Ni-Mg-Cu usw.) Zink, Eisen, Kupfer und ähnliche, Kunststoff-Filme und Folien aus beispielsweise Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosenitrat, Polyäthylenterephthalat, Polyäthylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat, Polyvinylacetal und Polyvinylacetat und ähnliche, wobei die erwähnten Papier- oder Kunststoff-Filme oder -folien eines der erwähnten Metalle auflaminiert oder aufgedampft aufweisen.

Abhängig von der jeweils gewünschten Druckplatte wird hieraus ein geeigneter Träger ausgewählt. Beispielsweise werden im Fall einer lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte eine Aluminiumplatte, ein zusammengesetztes Blatt gemäß der JA-PA 18 527/1973, bei dem ein Aluminiumblatt mit einer PoIyäthylenterephthalatfolie verbunden ist, und ähnliche bevorzugt benutzt. Im Fall einer lichtempfindlichen Buchdruckplatte werden eine Polyäthylenterephthalatfolie, eine Alumimiumplatte, eine Eisenplatte und ähnliche bevorzugt.

Der Träger kann bei Bedarf oberflächenbehandelt werden. Im Fall einer lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte wird die Oberfläche des Trägers beispielsweise hydrophil gemacht, wozu verschiedene Verfahrensweisen geeignet sind. Im Fall eines Trägers, der eine Kunststoffoberfläche aufweist, sind geeignete Verfahren zur Oberflächenbehandlung beispielsweise chemische Behandlung, Eatladungsbehandlung, Flammbehandlung, Behandlung mit ultravioletter Strahlung, Hochfrequenzverfahren, Glühentladungsbehandlung, aktive Plasmabehandlung, Behandlung mit Laser oder ähnliche, wie in den US-PSen 2 764 520, 3 497 407, 3 145 242, 3 376 208, 3 072 483,

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3-475 -193, 3 360 448, der GB-PS 788 565 usw. beschrieben wird. "Därüberhiiiaus kann ebenfalls eine Verfahrensweise durchgeführt werden, bei der eine Vor- oder Grundierungsbeschichtung für die Grundierung eines metallischen Trägers gemäß US-PS 3 511 661 und 3 860 426 und JA-PA 83 902/73 und 102 403/74 auf die Oberfläche aufgetragen wird, nachdem die beschriebene Oberflächenbehandlung durchgeführt wurde.

Wenn die Träger eine Metall-, insbesondere eine Aluminiumoberfläche aufweisen, sind Oberflächenbehandlungen bevorzugt, wie Sandkörnung gemäß US-PS 2 882 154, Eintauchen in eine wässrige Lösung von Natriumsilicat gemäß US-PS 2 882 153» Kaliumfluorzirkonat, Phosphate oder ähnliche, anodische Oxidation oder ähnliche. Darüberhinaus kann eine Aluminiumplatte, die in eine wässrige Lösung von Uatriumsilicat nach der Sandbehandlung gemäß US-PS 2 714 006 getaucht wird und eine Aluminiumplatte, die in eine wässrige Lösung eines Alkalimetallsilicate nach anodischer Oxidation gemäß US-PS 3 181 461 eingetaucht wird, erfindungsgemäß verwendet werden.

Die erwähnte anodische Oxidation wird durchgeführt, indem man durch einen Elektrolyten, der aus einer oder mehreren wässrigen Lösungen anorganischer Säuren, wie Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure und Borsäure, organischen Säuren, wie Oxalsäure und Sulfamidsäure, oder deren Salzen besteht, einen elektrischen Strom leitet, wobei als Anode beispielsweise eine Aluminiumplatte verwendet wird, und wobei ein Gleichstrom mit einer Stromdichte von 1 bis 2 A/dm und eine Spannung von "10 bis 20 Volt in einer 10 bis 20 %-igen wässrigen Lösung von Schwefelsäure bei 20 bis 3O⁰C verwendet wird. Ebenfalls wirkungsvoll ist die Silicatelektroabscheidung gemäß US-PS 3 658 662.

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Diese Behandlungen v/erden zusätzlich zur hydrophilen Umwandlung der Oberfläche des Trägers durchgeführt, um nachteilige Reaktionen zwischen dem Träger und der darauf angebrachten lichtempfindlichen Zusammensetzung zu verhindern und/oder die Adhäsion zwisehen dem Träger und der lichtempfindlichen Schicht zu erhöhen.

Auf den Träger kann jedes lichtempfindliche Material aufgebracht werden, sofern es in einem Entwickler vor und nach Belichtung geänderte Löslichkeit oder Quelleigenschaften aufweist. Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht mit etwas anderen Worten darin, eine lichtempfindliche Druckplatte zur Verfugung zu stellen, die eine Beschichtung aufweist, so daß die beim Verfahren erforderliche Kontaktzeit in der Va-kuumadhäsionsstufe verkürzt werden kann. Entsprechend sind die lichtempfindlichen Materialien und Zusammensetzungen, die erfindungsgemäß verwendet werden können, identisch mit den üblicherweise verwendeten Materialien;' sie können entweder nega-posi- oder posi-nega-lichtempfindliche Materialien sein. Das nega-posi-lichtempfindliche Material wird an den belichteten Bereichen durch Vernetzung gehärtet und bildet bei der Entwicklung ein Bild, während das lichtempfindliche Material in den unbelichteten Bereichen entfernt wird, wie beispielsweise Diazidharze, Diazidharzbindemittel-Gemische, lichtempfindliches Azidmaterial und andere lichtempfindliche Harze usw.. Ein posinega-lichtempfindliches Material wird in den belichteten Bereichen zersetzt und bildet eine alkalilösliche Gruppe. Es wird dann zur Entfernung der belichteten Bereiche entwickelt ■ und bildet an den unbelichteten Bereichen ein Bild, wie beispielsweise bei lichtempfindlichem o-Diazidoxid-Material.

Besonders bevorzugtes lichtempfindliches Material sind lichtempfindliche Zusammensetzungen, bestehend aus oder enthaltend ein Diazoharz und Schellack (JA-OS 24 404/1972), Poly(hydroxyäthylmethacrylat) und

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ein Diazoharz, ein Diazoharz und ein lösliches Polyamidharz (US-PS 3 751 257), ein lichtempfindliches Azidmaterial und ein Epoxiharz (US-PS 2 852 379), ein lichtempfindliches Azidmaterial (GB-PS 1 071 560), ein Diazoharz (US-PS 3 168 401), und ähnliche; lichtempfindliche Harze, die ungesättigte Doppelbindungen im Molekül aufweisen und bei Bestrahlung mit aktiver Strahlung dimerisieren, wobei sie unlöslich werden, wie beispielsweise Polyvinylcinnamat, Polyvinylcinnamatderivate gemäß GB-PS 843 545 und 966 297 und US-PS 2 725 372; lichtempfindliche Polyester aus der Kondensation von Bisphenol A und Divanillalcyclohexanon aferaEp-Phenylendiäthoxyacrylat und 1,4-diß-hydroxyäthoxycyclohexanon gemäß CA-PS 696 372; Prepolymere des Diallylphthalats gemäß US-PS 3 462 267; auf Äthylen ba- . sierende Verbindungen mit mindestens zwei ungesättigten Doppelbindungen, die nach Bestrahlung mit aktiver Strahlung polymerisieren, wie ungesättigte Ester der Polyole gemäß der JA-PA 8495/1960, beispielsweise Äthylendi(meth)acrylat, Diäthyl.englykol, Di(meth)acrylat, Glyceri_ndi(meth)acrylat, Glycerintri-(meth)acrylat, A'thylendimethacrylat, 1,3-Propylendi(meth)acrylat, 1»4-Cyclohexandiol(methjacrylat, 1,4-Benzoldioldi(meth)acrylat, Pentaerythritoltetra(meth)acrylat, 1,3-Propylenglykoldi(meth)-. acrylat, 1,5-Pentandioldi(meth)acrylat, Pentaerytlirittri (meth)-acrylat, die Bisacrylate und Methacrylate des Polyäthylenglykols mit einem Molekulargewicht von etwa 50 bis etwa 500, ungesättigte Amide, insbesondere Amide voncC-Methylencarbonsäuren, J^U-Diamine und W-Diamine mit dazwischen angeordnetem Sauerstoff, wie Methylenbis(meth)acrylamid und Diäthylentriamintris(meth)-acrylamid; Divinylsuccinat, Divinyladipat, Divinylphthalat, Divinylbenzol-1,3-disulfonat und ähnliche.

Lichtempfindliche Zusammensetzungen, die die erwähnten Stoffe und ein oder mehrere geeignete Bindemittel enthalten, vorzugsweise mit einem Molekulargewicht von mehr als etwa 10 000, wie Polyvinylalkohol, Cellulosederivate, die in einer Seitenkette

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eine Carboxylgruppe enthalten, wie beispielsweise Polyvinylhydrogenphthalat, Carboxymethylcellulose oder ein Copolymer des Methylacrylats und Methacrylsäure (Methylmethacrylat: Methacrylsäureverhältnis = 90 J 10 (Molar)) usw. können wirkungsvoll als lichtempfindliche Zusammensetzungen im Negatiwerfahren, wobei sie bei Einwirkung von aktiver Strahlung unlöslich werden, verwendet werden.

Lichtempfindliche Zusammensetzungen mit Gehalt an lichtempfindlichen Stoffen auf der Basis von o-Diazooxid gemäß US-PSen 3 655 709, 3 061 430 und 3 061 120, Phosphorwolframate eines Diazoharzes (JA-PA 7663/1964-), Hexacyanof errate eines Diazoharzes (US-PS 3 113 023) und ein Diazoharz und Polyvinylhydrogenphthalat (JA-PA 18 812/1965) können wirkungsvoll als lichtempfindliche Zusammensetzungen im Positiwerfahren verwendet werden.

Ebenfalls geeignet sind lichtempfindliche Zusammensetzungen, die lineare Polyamide und Monomere mit zusätzlichen polymerisierbaren ungesättigten Bindungen gemäß TJS-PSen 3 081 168, 3 486 903, 3 512 971 und 3 615 629 enthalten.

Erfindungsgemäß verwendbare lichtempfindliche Druckplatten, bestehen im wesentlichen aus einem Träger und einer lichtempfindlichen Schicht, die eine oder mehrere der erwähnten lichtempfindlichen Stoffe auf dem Träger aufgebracht enthalten. Die Dicke der lichtempfindlichen Schicht gemäß der Erfindung ist in keinerlei Weise aber jedoch meistens durch die kommerziellen Ausführungsformen beschränkt. Die lichtempfindliche Schicht wird erfindungsgemäß in einer Trockendicke von etwa 0,1 bis etwa

ρ ρ

7 g/m , vorzugsweise 0,2 bis 5 g/^m verwendet. Darüberhinaus können Druckplatten, bei denen auf der lichtempfindlichen Schicht eine Harzschicht angeordnet ist, verwendet werden. Es können lichtempfindliche Druckplatten gemäß der JA-PA 11 558/1962 ver-

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wendet werden, bei denen auf dem Träger eine lichtempfindliche Schicht und eine hydrophobe, wasserunlösliche und durch Lösungsmittel weichmachbare Harsschicht in dieser Reihenfolge aufgebracht sind (solche Platten besitzen natürlich nicht die erfindungsgemäße unebene Beschichtung).

Wird eine solche lichtempfindliche Druckplatte durch ein Originalbild mit Licht belichtet, werden die belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht in einem Entwickler unlöslich und gleichzeitig an die Harzschicht gebunden, während die unbelichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht unverändert bleiben und im Entwickler löslich sind. Deshalb werden, wenn die lichtempfindliche Druckplatte entwickelt wird, die unbelichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht durch den Entwickler, der durch die Harzschicht dringt, gelöst und entfernt. So wird die Harzschicht an den unbelichteten Bereichen entfernt, wenn die Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte leicht mit einem Baumwolltuch gerieben wird, das mit dem Entwickler imprägniert ist. Belichtete Bereiche der lichtempfindlichen Schicht jedoch und die Harzschicht darauf verbleiben auf dem Träger, ohne in irgendeiner Weise von dem Entwickler ange-. griffen zu werden, so daß eine Druckplatte mit einem fest aufliegenden Bild erhalten werden kann. Die erfindungsgemäße Beschichtung wird in der Weise auf die Oberfläche einer lichtempfindlichen Druckplatte aufgebracht, daß die Beschichtung die folgende Oberflächenrauhheit bzw. Oberflächenkörnung aufweist: Die Höhe jedes beschichteten Bereiches beträgt vorzugsweise 2 bis etwa 40 u, insbesondere 5 bis 20 u; die Breite ist vorzugsweise etwa 20 bis etwa 10 000 u, insbesondere 50 bis 5000 u; der Abstand zwischen benachbarten beschichteten Bereichen ist vorzugsweise etwa 50 bis etwa 100 000 n, insbesondere 100 bis 50 000 u; die Oberflächenkörnung bzw. -rauhheit, die mit dem Hcla-Wert (Mittellinie der Oberflächenkörnung) angegeben wird, · beträgt vorzugsweise etwa 0,05 bis etwa 20 u, insbesondere etwa

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0,1 bis 10 ii. Ist die Oberflächenkörnung geringer als etwa 0,05/U, wird die angestrebte zeitverkürzende Wirkung der Adhäsion im Vakuumadhäsionsschritt vermindert, während, wenn die.Oberflächenkörnung mehr als etwa 20 u beträgt, die Adhäsion zwischen der lichtempfindlichen Druckplatte und dem Originalbild unvollständig und die Schärfe des Bildes vermindert wird. In der Ausführungsform gemäß Fig. 1 sind die Höhe jedes beschichteten Bereiches und die Hcla-Werte gemessen, natürlich bezogen auf die Höhe der Beschichtung von der lichtempfindlichen Schicht aus; andererseits werden in einer Ausführungsform gemäß Fig. 2 die Höhe der beschichteten Bereiche und die Hcla-Werte von der Spitze der nur wenig beschichteten Bereiche (Tal) bis zur Spitze der hochbeschichteten Bereiche (Berge) gemessen. Bezogen auf Fig. 1 sind dort die Höhe, der Abstand und die Breite der beschichteten Bereiche beispielhaft angegeben.

Hierbei ist HcIa

-L

HcIa =

dx

wobei f(x) die Querschnittsfläche der Körnung der Druckplatte wie in Fig. 10, L die Länge entlang der X-Achse wie in Fig. 10, h^ der Wert für Y am Punkt der Kreuzung der Y-Achse mit der Mittellinie in Fig. 10 sind und für das die Formel

^h1

= f(x) dx

^lJo

angegeben werden kann, und dx ist der differenzielle Anstieg entlang der X-Achse (vergl. Hyomen Arasa Sokuteiki ITDC 532.8 (Measure of Surface Coarseness) Kojyo Sokuteiki Koza J2:, Nikkan Kogyo Shinbunsha).

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Es ist offensichtlich, daß, während die obigen Formeln für •die Ausführungsform gemäß Fig* 1 angegeben wurden, die HcIa-Parameter für andere Ausführungsformen in gleicher Weise berechnet werden können. Auf die Oberfläche einer lichtempfindlichen Druckplatte kann jede BeSchichtungslösung aufgeschichtet werden, vorausgesetzt, sie übt keinen schädlichen physikalischen oder chemischen Einfluß auf die lichtempfindliche Zusammensetzung, die die lichtempfindliche Schicht bildet, aus, kann während der Entwicklung leicht entfernt werden und reagiert nicht mit dem verwendeten Entwickler. Demnach können Lösungen verwendet werden, die hergestellt werden, indem man Gummi-Arabikum, Leim, Gelatine, Kasein, Cellulosen, beispielsweise Natriumcellulosexanthat, Methylcellulose, Ä'thylcellulose, Hydroxyäthylcellulose, Hydroxypropylmethylcellulose, Carboxymethylcellulose, und ähnliche, Stärke, beispielsweise lösliche Stärke, modifizierte Stärke, wie beispielsweise enzymmodifizierte Stärke und ähnliche; Harze, wie beispielsweise Polyvinylalkohol, Polyäthylenoxid, Polyacrylsäure, Polyacrylamid, Polyvinylmethyläther, ein Epoxiharz, wie beispielsweise das Reaktionsprodukt aus Bisphenol A und Epichlorhydrin, ein Phenolharz (insbesondere bevorzugt wird ein Phenolharz vom Novolak-Typ; das ist ein Phenolharz aus der Reaktion von einem Mol Phenol (beispielsweise Phenol, Kresol, Resorcinol, usw.) mit weniger als einem Mol Formaldehyd durch Säurekondensation), ein Polyamid (Polyamide, die in Alkoholen mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, wie Methanol, Äthanol, Isopropanol, Butanol, tert.-Butanol, Amylalkohol, Hexanol und ähnliche, löslich sind, sind bevorzugt, beispielsweise handelsübliche Nylons), Polyvinylbutyral und ähnliche in geeigneten Lösungsmitteln, wie beispielsweise Tetrachlorkohlenstoff, Benzol usw.

Alkohole werden nicht benutzt, weil sie die lichtempfindliche Schicht auflösen. Diese Harze können in Kombination miteinander verwendet werden.

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Diese Beschichtungslösungen können konventionelle Mattierungsmittel enthalten. Zu solchen Mattierungsinitteln zählen Siliciumdioxid, Zinkoxid, Titanoxid, Zirkonoxid, Glasperlen, Aluminiumoxid bzw. Kieselsäuren, Stärke, Polymerpartikel, beispielsweise Polymethylmethacrylat, Folystyrol, Phenolharze, beispielsweise ein Phenolharz vom Novolak-Typ und ähnliche, und Mattierungsmittel gemäß US-PS 2 701 24-5 und 2 992 101. Diese Mattierungsmittel können allein oder in Kombination miteinander verwendet werden. Da jedoch die Oberflächenkörnung der Beschichtung in beschriebener V/eise begrenzt ist, beträgt der Partikeldurchmesser des Mattierungsmittels etwa 3 Ms etwa 30 W, insbesondere etwa 6 bis etwa 20 u.

Werden Mattierungsmittel verwendet, werden sie in geeigneter Weise in Mengen von etwa 0,05 bis etwa 2 Gewicht steil en, vorzugsweise 0,3 bis 2 Gewichtsteilen je Gewichtsteil des Bindemittels oder der Bindemittel in der Beschichtungslösung verwendet. Das Mattierungsmittel wird normalerweise in die Beschichtung eingebracht, indem das Mattierungsmittel in einer Lösung des Harzes, das als Bindemittel für das Mattierungsmittel ausgewählt wird, in einem Lösungsmittel dispergiert wird, indem die gebildete Dispersion auf die Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte geschichtet wird. Das obige Lösungsmittel wird aus solchen Lösungsmitteln ausgewählt, die schlechte Lösungsmittel für das Mattierungsmittel und gute Lösungsmittel für das Harz sind, in das das Mattierungsmittel dispergiert werden soll und die die Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte praktisch nicht lösen. Ein solches Lösungsmittel kann leicht gewählt werden, wenn die Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte, das Mattierungsmittel und das Harz bestimmt sind.

Als Verfahren zur Aufbringung einer Beschichtung mit einem unebenen Muster durch Aufbringen einer Beschichtungslösung auf die Oberfläche einer lichtempS.ndlich.en Druckplatte wird zunächst

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ORIGINAL INSPECTED

ein Prägebeschichtungsverfahren beschrieben. In Fig. 6 ist schematisch eine Prägebeschichtungsvorrichtung abgebildet. Da eine Prägewalze auf der Oberfläche normalerweise ein unebenes Muster aufweist, ist es bei der Prägebeschichtungsmethode möglich, eine Beschichtung mit den gleichen unebenen Mustern, die auf der Oberfläche der Prägewalze eingeprägt sind, zu versehen. In Fig. 6 werden die Prägerolle Λ und die Gegenrolle 2 in gleicher Eichtung wie der lange flexible Träger 3 geführt, der eine lichtempfindliche Schicht oder zusätzlich eine Harzschicht auf der Oberfläche trägt (im folgenden als "Bahn" bezeichnet). Die Prägewalze 1 ist aus Metall; auf ihrer Oberfläche ist ein obeliskartiges oder pyramidenartiges Muster o.a. eingeprägt, so daß sie uneben ist. Die Größe des unebenen Musters beträgt normal erv^rei se etwa 74- P bis etwa 595 >*· Die Gegenrolle 2 besteht normalerweise aus einem elastischen Material, wie Gummi. Eine Beschichtungslösung 5» die sich auf der Oberfläche der Prägewalze 1 befindet und die aus einer Beschichtungslösungswanne 4· durch Rotation der Prägewalze 1 entnommen wird, wird zum größten Teil durch eine Klinge 6 (die derart angeordnet ist, daß sie auf die Prägewalze 1 drückt) abgekratzt und in die Wanne 4-rückgeführt. Andererseits wird die Beschichtungslösung 5? die nicht abgekratzt wird, nur in dem konkaven Zellbereich des unebenen Musters auf der Prägewalze 1 zurückgehalten. Wenn die Prägewalze 1 rotiert und in Berührung mit der Bahn 3 tritt, wird die Beschichtungslösung 5 auf die Bahn 3 übertragen. Dann werden etwa JO bis etwa 50 °/° der BeSchichtungslösung 5> die in den konkaven Zellen zurückgehalten wird normalerweise übertragen, da die Bahn 3 auf die Prägewalze 1 durch die Gegenwalze 2 fest aufgepreßt wird. Auf diese Seite wird eine Beschichtung mit dem gleichen unebenen Muster wie auf der Oberfläche der Prägewalze 1 auf der Bahn 3 ausgebildet.

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Die Beschichtungsinenge im ungetrockneten Zustand wird be« stimmt durch das Verhältnis der Menge der Beschichtungslösung, die auf die Bahn 3 übertragen wird, zur Menge der Eeschichtungslösung, die in den konkaven Zellen der Prägewalze 1 je Bereichseinheit, beispielsweise ml/m ^ zurückgehalten wird (dieses Verhältnis wird im folgenden als das "Übertragungsverhältnis" bezeichnet). Die Menge an Beschichtungslösung, die in den konkaven Zellen zurückgehalten wird, wird durch die Form und Dimension der Muster auf der Oberfläche der Prägewalze 1 bestimmt; das Ubertragungsverhältnis wird bestimmt durch die Beschichtungsgeschwindigkeit, die physikalischen Eigenschaften der Beschichtungslösung, die Eigenschaften der Oberfläche der Bahn 3i usw. Es ist ohne weiteres erkennbar, daß die Erfindung auf viele verschiedene Arten von lichtempfindlichen Platten, beispielsweise pianographische, Buch- und Intagliodruckplatten angewendet werden kann. Entsprechend braucht man nur eine konventionelle Bahn zu wählen, die für den jeweiligen gewünschten Druckplattentyp geeignet ist. Allgemein gilt, daß mit Erhöhung der Beschichtungsgeschwindigkeit das Übertragungsverhältnis sich etwas erhöht und die Beschichtungslösung, die auf die Bahn übertragen wird, wird ausgebreitet, wenn die Oberflächenspannung der Bahn (das ist die Oberflächenspannung der lichtempfindlichen Schicht auf dem Träger) höher ist. Mit dieser allgemeinen Erklärung der beinflussenden Faktoren ist es leicht, die beschriebenen Parameter derart gegeneinander auszubalancieren, daß ein Produkt optimaler Qualität erhalten wird. So wird die BeSchichtungsmenge völlig von vorher bestimmten Yerfahrensbedingungen bestimmt, wenn die Beschichtungslösung 5 allein in den konkaven Zellen zurückgehalten wird. Entsprechend ist es bei der Prägebeschichtung wichtig, daß überschüssige Beschichtungslösung, die sich an der Oberfläche der Prägewalze 1 befindet, abgekratzt wirdjund daß die Beschichtungslösung nur in den konkaven Zellen zurückgehalten wird.

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Deshalb wird im allgemeinen ein Verfahren benutzt, bei dem eine klingenartige Metallplatte aus rostfreiem Stahl ver-• wendet wird, die auf die Prägewalze 1 mit einem Druck von etwa 50 bis etwa 200 kg/m aufgepreßt wird. Hierbei tritt jedoch das Problem auf, daß sowohl die Prägewalze 1 als auch die Klinge 6 verschleissen, und da der Abrieb auf der Gravierwalze 1 leider direkten Einfluß auf die Beschichtungsmenge und das unebene Muster auf der Beschichtung hat, wird die Oberfläche der Prägewalze 1 normalerweise hart mit Chrom plattiert. Wird jedoch der Abrieb auf der Prägewalze 1 durch diese Methode verhindert, verschleißt die Klinge 6, wodurch eine unebene Beschichtung entsteht. Andererseits wird die Beschichtungslösung 5 niGht nur in den konkaven Zellen zurückgehalten, wenn durch die Klinge 6 der Überschuß an Beschichtungslösung unvollständig abgekratzt wird, wobei ein dünner Film der Beschichtungslösung auf der Oberfläche der Prägewalze 1 gebildet wird. Auf diese Weise bildet sich zwischen der Prägewalze 1 und der Bahn 5 eine sogenannte Perlschicht, wodurch die Beschichtungslösung 5 auf die gesamte Oberfläche der Bahn geschichtet wird, wodurch eine Beschichtung mit dem gleichen unebenen Muster wie auf der Oberfläche der Prägewalze 1 nichterreicht werden kann.

Es ist jedoch sehr schwierig, die beschriebene Prägebeschichtungs-Verfahrensweise zur Bildung der erfindungsgemäßen Beschichtung mit unebenem Muster anzuwenden. Folgende Gründe sind dafür verantwortlich: Da die Prägewalze 1 zur Verhinderung des Abriebs aus Metall hergestellt ist, besteht die Gefahr, daß die lichtempfindliche Schicht in dem Fall beschädigt wird, wenn die Beschichtung erfindungsgemäß auf einer lichtempfindlichen Beschichtung aufgebracht wird; wird außerdem der Überschuß an Beschichtungslösung unzureichend durch die Klinge 6 entfernt, kann eine Beschichtung mit einem ungleichmäßigen Muster nicht erhalten werden; und schließlich, falls der Überschuß an Be-

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Schichtungslösung ausreichend abgestrichen ist, wird die Klinge 6 abgenutzt, wodurch eine unebene Beschichtung entsteht.

Dann wurde als Verfahren zur Ausbildung einer Schicht mit unebenem Muster gemäß der Erfindung eine Offset-Prägebeschichtung benutzt. In Fig. 7 ist schematisch eine Offset-Prägebeschichtungsvorrichtung dargestellt.

Bei dem Offset-Prägebeschichtungsverfahren wird die Beschichtungslösung in der Beschichtungslösungswanne 4- derart durch die Prägewalze 1 entnommen, daß die Beschichtungslösung sich auf der Oberfläche der Prägewalze 1 befindet und die Hauptmenge der Beschichtungslösung, die entnommen wurde, mittels der Klinge 6 abgestrichen wird. Die Beschichtungslösung 5 wird dann nur in den konkaven Zellen der Prägewalze 1 zurückgehalten und auf die Oberfläche einer Beschichtungswalze 7 am Berührungspunkt zwischen der Prägewalze 1 und der Beschichtungswalze 7» die eine weiche Oberfläche hat, übertragen. In einem solchen Fall ist das Übertragungsverhältnis normalerweise etwa 30 "bis etwa 50 %. Da die Beschichtungswalze im allgemeinen aus Gummi besteht und am Berührungspunkt zwischen der Beschichtungswalze 7 und der Prägewalze 1 unter einem bestimmten Druck fest aufliegt, wird auf der Oberfläche der Beschichtungswalze 7 eine Beschichtung mit dem gleichen unebenen Muster wie auf der Oberfläche der Prägewalze 1 ausgebildet. Die Beschichtungslösung 5> die auf die Oberfläche der Beschichtungswalze 7 übertragen wird, wird dann weiter auf die Bahn 3 übertragen. Da jedoch die Bahn 3 gegen die Beschichtungswalze 7 durch die Gegenrolle 2 (normalerweise ebenfalls aus Gummi) in dem Bereich, in dem die Beschichtungslösung auf die Bahn 3 übertragen wird, gedrückt wird, und die Oberfläche der Beschichtungswalze 7 glatt ist, wird das unebene Muster der

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Beschicktungslösung 5₅ das auf der Oberfläche der Beschichtungswalze 7 ausgebildet ist, im wesentlichen vernichtet, wenn die BeSchichtungslösung in Richtung auf die Breite der Bahn 3 verteilt wird. Auf diese Weise kann eine Beschichtung mit einem unebenen Muster auf der Bahn 3 nicht hergestellt werden. Im allgemeinen kann keine Beschichtung mit unebenem Muster durch Anwendung des Offset-Prägebeschichtungsverfahrens gebildet werden.

Bestimmte BeSchichtungslösungen haben jedoch eine Viskosität von einigen 10 000 Poise, wie beispielsweise Druckertinte für Offsetdruck, die nicht über die Breite der Bahn 3 während der Übertragung verteilt werden, weil sie ein geringes Fließverhalten besitzen, so daß gelegentlich eine Beschichtung mit einem unebenen Muster gebildet werden kann. Da Jedoch die Viskosität der BeSchichtungslösung für die Beschichtung auf der Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatten gemäß der Erfindung normalerweise etwa 1 bis etwa 20 000 cps, vorzugsweise 5 bis 10 000 cps beträgt, ist es unmöglich, eine Beschichtung mit einem unebenen Muster durch das Offset-Prägebeschichtungsverfahren zu erhalten.

Es wurde nun gefunden, daß eine Beschichtung mit dem gewünschten unebenen Muster auf der Oberfläche einer lichtempfindlichen Druckplatte in der im folgenden beschriebenen Weise ausgebildet werden kann. Hierbei wird erfindungsgemäß eine Beschichtungslösung aus einer Beschichtungslösungswanne auf die Oberfläche einer Prägewalze übertragen, der Überschuß an Beschichtungslösung wird mit einer Klinge abgestrichen, die auf der Prägewalze befindliche Beschichtungslösung wird ' auf die Oberfläche einer Beschichtungswalze aus einem elastischen Material z.B. Gummi₃und die ein feines unebenes Muster, das größer als das auf der Prägewalze ist, auf der Oberfläche aufweist, übertragen und die Beschichtungslösung, die auf die Oberfläche

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der Beschichtungswalze übertragen wurde, wird auf eine Bahn mittels einer Gegenwalze aus Metall oder Gummi mit glatter " Oberfläche unter einem bestimmten Druck übertragen.

Wie ausgeführt, sollte das Beschichtungswalzenmaterial elastisch sein. Bevorzugt sind solche Stoffe, die eine Härte von weniger als etwa 80° gemäß der Härtemessung mit der federartigen Meßvorrichtung gemäß den "Japanese Industrial Standard (JISK 6JO1-1971, mit Meßvorrichtung) besitzen.

Die auf der Oberfläche der Beschichtungsrolle eingeprägten unebenen Muster können sehr zahlreich, und sehr unterschiedlich sein.

Alle Muster, die eine unebene Oberfläche aufweisen, können verwendet werden^ die verwendeten Muster sind nicht auf gleichmäßige öder sich wiederholende Muster beschränkt; erfindungsgemäß werden sie jedoch bevorzugt.

Alle verschiedenartigen Muster, die im allgemeinen als Oberflächenmuster auf der Prägewalze vervrendbar sind, können ver- wendet werden, vorausgesetzt, daß sie feine unebene Muster mit bestimmter !Regelmäßigkeit sind. Die Größe der Oberflächenmuster der Beschichtungswalze muss größer als die auf der Prägewalze sein. Im allgemeinen ist die Tiefe des unebenen Musters auf der Oberfläche der Prägewalze etwa 595 bis etwa 7^- U, wohingegen das Oberflächenmuster auf der Beschichtungsrolle etwa 2 mm bis etwa 25Ou beträgt. Die Größe des unebenen Musters der Prägewalze übt einen starken Einfluß auf die BeSchichtungsmenge aus, die der Beschichtungsrolle bestimmt das Muster der Beschichtung. Im allgemeinen wird eine gute Beschichtung erhalten, wenn das Verhältnis von der Größe (Tiefe des Musters auf der Beschichtungswalze zu der der Prägewalze, ausgedrückt in "mesh", (mesh of coating roll) / (mesh of gravure roll) <2 ist.

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Der Klemmdruck zwischen der Prägewalze und der Beschientungswalze beträgt normalerweise etwa 10 bis etwa 200 kg/m , vorzugsweise 100 bis 200 kg/m und der zwischen der Beschichtungs walze und der Gegenwalze beträgt etwa 1 bis etwa 20 kg/m , vorzugsweise 1 bis 10 kg/m .

Das erfindungsgemäße Beschichtungsverfahren wird im folgenden unter Bezug auf die Figuren näher erläutert.

8 zeigt schematisch eine Beschichtungsvorrichtung, die für eine erfindungsgemäße Verfahrensausführung verwendbar ist.

Die Beschichtungslösung 5 haftet auf der Oberfläche der Prägewalze 1 und wird aus der Beschichtungslösungswanne 4 entnommen. Die mitgeführte Beschichtungslösung 5 wird durch die Klinge zum Großteil abgestriffen und in der Beschichtungslösungswanne zurückgewonnen. Die Klinge 6 wird auf die Prägewalze 1 mittels eines nicht abgebildeten Luftzylinders aufgepreßt. Dieser Druck beträgt normalerweise etwa 50 bis etwa 100 kg/m , vorzugsweise 100 bis 150 kg/m . Nach Abstreifen durch die Klinge befindet sich die Beschichtungslösung lediglich in den konkaven Zellen der Prägewalze 1. Die Beschichtungslösung 5, die auf der Oberfläche der Prägewalze 1 zurückgehalten wird, wird mit der Beschichtungswalze 8 in Berührung gebracht, die in der gleichen Richtung und mit der gleichen Geschwindigkeit wie die Prägewalze 1 dreht und das unebene Muster auf der Oberfläche trägt, und wird auf diese übertragen. Das ttbertragungsverhältnis von der Prägewalze 1 auf die Beschichtungswalze 8 beträgt normalerweise etwa 30 bis etwa 50 %. Das unebene Muster wird auf die Oberfläche der Beschichtungswalze 8 eingeprägt; und die übertragene Beschichtungslösung wird im oberen Bereich der konvexen Einprägung gemäß IPig. 9 zurückgehalten,

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wobei Fig. 9 eine schematische Darstellung der Beschichtungslösung 5j die auf die Oberfläche der Beschichtungswalze 8 übertragen wurde, ist. Die Geschwindigkeiten der Bahn, der Beschichtungswalze und der Prägewalze sind gleich, im allgemeinen etwa 10 bis etwa 200 m/Min.; sind sie nicht gleich, wird die Oberfläche der Beschichtungswalze deformiert, weil sie aus Gummi besteht. Da das Oberflächenmuster der Beschichtungswalze 8 im Vergleich zu dem der Prägewalze 1 groß ist, wird die Beschichtungslösung im wesentlichen gleichförmig auf die gewünschten Bereiche der Oberfläche der Beschichtungswalze 8 übertragen. Die Beschichtungswalze 8 tritt dann mit " der Bahn 3 in Berührung, und die Beschichtungslösung 5? die auf der Oberfläche der Beschichtungswalze zurückgehalten wird, wird auf die Bahn 3 übertragen, wobei die Beschichtung gebildet wird. In diesem Fall ist das Übertragungsverhältnis normalerweise etwa 20 bis etwa 50 %. Die Bahn 3 bewegt sich in gleicher Richtung wie die Eotationsrichtung der Beschichtungswalze 8 und wird auf die Beschichtungswalze 8 durch die Gegenwalze 2 aus Metall oder Gummi, und die eine glatte Oberfläche besitzt, aufgepreßt. Da die Beschichtungslösung auf der Oberfläche der Beschichtungswalze 8 wie beschrieben, an der Kante der konvexen Bereiche zurückgehalten wird, wird eine Beschich-" tung mit unebenem Muster auf der Bahn 3 wie beim Prägebeschichten gebildet. Da die BeSchichtungsrolle 8 wie beschrieben, aus elastischem Gummi ist, ist die lichtempfindliche Schicht frei von Jeglichen Mangeln, selbst dann, wenn die Beschichtungslösung auf die lichtempfindliche Schicht der lichtempfindlichen Druckplatte gemäß der Erfindung aufgeschichtet wird.

Selbst wenn die Beschichtungslösung 5 auf der Oberfläche der Prägewalze durch die Klinge 6 mangelhaft abgestrichen wird und sich deshalb ein dünner Film an Beschichtungslösung 5 auf der Oberfläche der Prägewalze Λ ausbildet, wird die übertragene Beschichtungslösung dennoch an der Kante der konvexen Bereiche

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'der Beschichtungswalze 8 so lange zurückgehalten, bis die BeSchichtungslösung in solchen Mengen von der Prägewalze 1 auf die Beschichtungswalze 8 übertragen wird, daß das unebene Muster auf der Oberfläche der Beschichtungswalze 8 nicht verlorengeht» wobei eine Beschichtung mit dem gleichen unebenen Muster wie dem auf der Beschichtungswalze 8 auf der Bahn 3 gebildet wird. Das bedeutet, daß die Prägewalze 1 nur als ein sogenannter Aufträger (Applikator) fungiert. Da es ausreicht, nur die Menge der auf der Oberfläche der Prägewalze 1 aufzubringenden Menge an BeSchichtungslösung zu messen, und da es nicht notwendig ist, die Beschichtungslösung nur in den konkaven Zellen wie beim Prägebeschichten zurückzuhalten, ist es nicht unbedingt notwendig, daß die Klinge 6 auf die Prägewalze 1 uafca? hohem Druck gepreßt wird, wie es beim Prägebeschichten notwendig ist, so daß die Bedingungen für das Abstreichen oder Abkratzen sehr milde im Vergleich zum Prägebeschichten sind. Deshalb kann die Klinge 6 aus Polytetrafluorethylen, Polyäthylen oder ähnlichen, ebenso wie aus rostfreiem Stahl bestehen; es besteht nicht die Gefahr einer unebenen Beschichtung, die durch Abrieb der Klinge 6 verursacht wird. Die Verwendung der Prägewalze 1 als Aufträgerwalze ermöglicht zum einen, die Genauigkeit der Aufbringung der Beschichtungslösung auf die Beschichtungswalze 8 zu erhöhen und zum anderen, selbst w.enn die Beschichtungslösung Mattierungspartikel enthält, ist es möglich, die Beschichtungslösung auf die Beschichtungswalze 8 ohne Zerstörung oder Zerbrechen der Mattierungspartikel zu übertragen.

Erfindungsgemäß beträgt die Menge an auf die Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte geschichteterBeschichtungslösung

ρ ρ

etwa 0,05 "bis etwa 2 g/m , vorzugsweise 0,08 bis 1 g/m , Trockengewicht nach Trocknung. Wird der untere Wert unterschritten, ist die Vakuumadhäsion nicht ausreichend, wird die Menge

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überschritten, wird die Trocknungszeit unnötigerweise erhöht und sind gegebenenfalls große Apparaturen und Vorrichtungen notwendig.

Da die Bildung der unebenen Muster sowohl gemäß Fig. 1 als auch gemäß Pig. 2 im wesentlichen nicht nur von der Beschichtungsmenge sondern auch den physikalischen Eigenschaften der Beschichtungslösung wie der Oberflächenspannung abhängt, ist es schwierig, allgemein festzuhalten, welche Bedingungen notwendig sind, die obigen Strukturen zu erzielen. Im allgemeinen wird die Beschichtungslösung mit Erhöhen der Oberflächenspannung in geringeren Mengen auf die BescMchtungswalze (die elastische Walze) übertragen, während andererseits mit niedrigerer Oberflächenspannung der Beschichtungslösung relativ größere Mengen der Beschichtungslösung auf der Beschichtungswalze verteilt werden. Offensichtlich hängt die Wirkung der Oberflächenspannung der Beschichtungslösung auf die Übertragung von der Viskosität der Beschichtungslösung ab. Im allgemeinen jedoch, wenn die Beschichtungsmenge unterhalb etwa 0,6 g/m ist, wird häufig das unebene Muster gemäß Fig. 1 erreicht, während das unebene Muster gemäß Fig. 2 häufig erhalten wird, wenn die Menge oberhalb etwa 0,6 · g/m ist.

Da gemäß der Erfindung Jedoch die BeSchichtungsmenge leicht durch den Druck der Klinge geregelt werden kann, kann in einfacher Weise selektiv ein unebenes Muster gemäß Fig. 1 oder Fig. 2 erhalten werden.

Zur Herstellung der erfindungsgemäßen Beschichtung kann auch selbstverständlich derart verfahren werden, daß die Beschichtungslösung auf die Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte zur Bildung der Beschichtung aufgetragen wird, die dann mechanisch gekörnt wird, um die erfindungsgemäße Beschichtung zu erhalten.

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Wird ein Verfahren angewendet, bei dem eine Beschichtung, die durch einen Entwickler entfernbar ist, wie zuvor beschrieben, auf der Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte ausgebildet wird, und wird die auf diese Weise ausgebildete Beschichtung mit einem Blatt mit weicher Oberfläche, wie Papier, Stoff, einem Kunststoff-Film oder ähnlichem, das auf der Oberfläche feine Partikel höherer Härte als der der Beschichtung aufweist, mit einer Druckwalze zur Mattierung der Oberfläche der Beschichtung behandelt, werden ebenfalls die erfindungsgemäßen Druckplatten erhalten. Darüberhinaus kann eine Druckwalze mit der erwünschten Körnung an der Oberfläche über die Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte gerollt werden.

Die Beschichtung auf der Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte wird, wie zuvor beschrieben, im Entwickler gelöst und von der nichtempfindlichen Schicht entfernt oder abgeschält. In jedem Fall hat, da die Beschichtung zum Zeitpunkt der Entwicklung entfernt ist, die Beschichtung keinen Einfluß auf die Druckplatte, wenn sie zum Drucken verwendet wird.

3 gibt einen Querschnitt einer lichtempfindlichen Druckplatte gemäß Fig. 2 wieder, nachdem sie belichtet und entwickelt ist, wobei nur das Bild auf dem Träger verblieben ist, während die Beschichtung vollständig entfernt ist. In 3?ig. 4 ist schematisch ein Querschnitt einer anderen erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Druckplatte wiedergegeben, in der eine Harzschicht, durch die der Entwickler durchtritt und die nicht durch den Entwickler gelöst wird, auf der lichtempfindlichen Schicht ausgebildet ist, und die eine Beschichtung mit einem feinen Muster aufweist, in dem beschichtete und unbeschichtete Bereiche existieren, und die auf der Harzschicht wie beschrieben, ausge- ' bildet ist.

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Fig. 5 zeigt schematisch einen Querschnitt einer lichtempfindlichen Druckplatte gemäß I¹Xg. 4- nach Belichtung und Entwicklung, bei der alle beschichteten Bereiche und unbeschichteten
Bereiche der lichtempfindlichen Schicht und die darauf befindliche Harzschicht alleine als Bild verbleiben, während die erfindungsgemäße Beschichtung vollständig entfernt ist. Diese
Erfindung kann auf nega-posi- oder posi-nega-lichtempfindliches Material angewendet werden, da die lichtempfindliche Schicht in den belichteten Bereichen oder unbelichteten Bereichen mit der darauf angeordneten Harzschicht verbleiben kann, um ein Bild
zu bilden, während der Rest vollständig entfernt wird.

Aus diesen Erläuterungen geht offensichtlich hervor, daß erfindungsgemäß durch eine Beschichtung mit einem feinen unebenen Muster aus beschichteten und unbeschichteten Bereichen auf der Oberfläche einer lichtempfindlichen Druckplatte ermöglicht wird, ein Originalbild in innigen Kontakt mit der lichtempfindlichen Druckplatte nach der Vakuumadhäsionsmethode zu bringen, wobei
die hierfür notwendige Zeit kurz ist und wobei die für den
Adhäsionsschritt notwendige Zeit erheblich vermindert wird,
wobei die Bildung von verschwommenen Bildern durch mangelhafte Adhäsion vermieden und die Wirksamkeit im Druckschritt erheblich erhöht werden kann.

Natürlich ist die Erfindung nicht nur auf bahnförmige oder
gewebeförmige Träger beschränkt; ebenso können blattförmige
Träger, die in erwünschter Weise dimensioniert sind, verwendet werden.

Die Erfindung wird anhand der folgenden Beispiele näher erläutert. Alle Proζentangaben beziehen sich auf das Gewicht, sofern nichts anderes angegeben wird.

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Beispiel 1

"Eine 150 mm breite und 180 u dicke Aluminiunibahn wurde gereinigt, indem sie in eine 10 %-ige Lösung Natriumtriphosphat 3 Minuten bei 8O⁰C eingetaucht, mit Wasser gewaschen und 1 Minute bei 25°C in 70 %-ige Salpetersäure eingetaucht wurde. Nach dem Vaschen wurde die Aluminümplatte 3 Minuten in eine 2 %-ige Lösung von Kaliumfluorozirkonat in Wasser bei 80⁰C eingetaucht, mit Wasser gewaschen und getrocknet. Auf dieserAluminiumplatte bd sich die Beschichtungslösung der Zusammensetzung gemäß Tabelle 1, die dann getrocknet wurde, um eine lichtempfindliche Schicht zu ergeben. Lie BeSchichtungsmenge betrug 0,5

g/m (Trockengewicht) nach dem Trocknen. Auf diese lichtempfindliche Schicht wurde eine Beschichturjgplösung der Zusammensetzung und mit den physikalischen Eigenschaften gemäß Tabelle 2 durch eine Beschickungsvorrichtung gemäß Fig. 8 mit einer Beschichtungsgeschwindigkeit von 20 m/Min aufgeschichtet, so daß sich

eine BeSchichtungsmenge im trockenen Zustand von 0,15 g/^{m er}~* gäbe. Auf diese Weise wurde eine Beschichtung mit einem Querschnitt gemäß Fig. 1 erhalten. In diesem Beispiel, wie in allen Beispiel, sofern nicht anders angegeben wird, wurde die Beschichtung so ausgebildet, daß sie die Charakteristika gemäß. Beispiel 3 aufwies, d.h., daß die Höhe der beschichteten Bereiche 5 >** der Durchmesser der beschichteten Bereiche 22 u, der Abstand zwischen den beschichteten Bereichen 100 u betrug- und daß die Form der beschichteten Bereiche zylindrisch war.

Eine Prägewalze aus Metall mit einem Durchmesser von 200 mm und einem pyramidenförmigen unebenem Muster gemäß Fig. 10 ( 115 Ά ), deren Oberfläche mit einer harten Chromplattierung versehen war, eine Beschichtungswalze aus Silicongummi mit einer Härte von 70° und einem Durchmesser von 200 mm und einem pyramidenförmigen Muster ( 25Ο u )+ und eine Gegenwalze aus Metall mit einem Durchmesser von 100 mm wurden hierbei verwen- · " det. Der Druck der Stahlklinge auf die Prägewalze betrug 100 kg/m_;

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und der Klemmdruck zwischen der Prägewalze und der Beschichtüngswalze und zwischen der Beschichtungswalze und der Gegenwalze wurden auf 80 kg/m bzw. 10 kg/m eingestellt. Fach dem
Trocknen wurde die Bahn in der gewünschten Länge zerschnitten.

Tabelle 1

2-Diazo-1-naphthol-5-sulfonsäureester des Polyhydroxyphenyls (gemäß US-PS 3 635 709)

Cyclohexan

Gewichtsteile

5
80

	Tabelle 2	Gewichtsteile
		5
Gummi -Arabikum		2
Siliciumdioxid(6 bis 7	•u)	93
Wasser		200 cps (25⁰C)
Viskosität		1,0 (25⁰C)
spezifisches Gewicht

Natürlich kann auf eins Aluminiumbahn erfindungsgemäß die Beschichtung aufgeschichtet und getrocknet werden. Normalerweise wird die derart erhaltene Bahn in mehrere Platten mit den gewünschten Dimensionen zerschnitten. In den folgenden Beispielen, in denen eine Vielzahl Proben beschrieben werden, wurde in dieser Weise verfahren (siehe beispielsweise Beispiel 3)·

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Beispiel 2

Auf eine Aluminiumplatte (100 mm χ 100 mm χ 0,24 mm), die die gleiche lichtempfindliche Schicht wie in Beispiel 1 in gleicher Dicke aufweist, wurde eine Beschichtung der Zusammensetzung und mit den physikalischen Eigenschaften gemäß Tabelle 2 mit der gleichen Vorrichtung wie in Beispiel 1 aufgetragen (in allen folgenden Beispielen, sofern nichts anderes angegeben wird, wird die gleiche Vorrichtung verwendet).

BeSchichtungsmenge, BeSchichtungsgeschwindigkeit und Vorrichtung entsprachen denen in Beispiel 3·

Mach Beschichtung und Trocknung wurden die in den Beispielen 1 und 2 erhaltenen BeSchichtungen geprüft,und es wurde gefunden, daß die Beschichtungen die gleichen unebenen Muster aufwiesen, wie die Oberflächenmuster der Beschichtungsrolle, und daß die lichtempfindliche Schicht unbeschädigt war.

Die Zeit, die notwendig war, diese lichtempfindlichen Druckplatten in innigen Kontakt mit einem Originalbild nach der Vakuum-, adhäsionsmethode zu bringen, wurde auf 1/3 bis 1/4 des Wertes reduziert, der mit lichtempfindlichen Druckplatten benötigt wird, wenn sie diese unebenen Muster nicht aufweisen.

Beispiel 5

Eine 0,3 mm dicke Aluminiumplatte wurde gereinigt, indem sie 3 Minuten in eine 10 %-ige Lösung Natriumtriphosphat in Wasser bei 80⁰C eingetaucht, mit Wasser gewaschen und dann 1 Minute in 70 %-ige Salpetersäure bei 25° C eingetaucht wurde. Nach dem Waschen wurde die Aluminiumplatte 3 Minuten in eine 2 ?£-ige Lösung von Kaliumfluorozirkonat in Wasser bei 80⁰C eingetaucht, mit Wasser gewaschen und getrocknet. Auf diese Aluminiumplatte wrde

609836/0680 original inspected

eine Lösung aufgeschichtet, die die folgende Zusammensetzung besaß, die dann getrocknet wurde und die lichtempfindliche Schicht bildete. Die BeSchichtungsmenge betrug 500 mg/m , Trockengewicht nach Trocknung.

2-Diazo-1-naphthol-5-sulfonsäureester von Polyhydroxyphenyl
(gemäß US-PS 3 635 709) 5g

Cyclohexan 80 g

Auf diese lichtempfindliche Schicht wurde eine Lösung

ο der folgenden Zusammensetzung in Mengen von 0,3 g/m (Trockengewicht nach Trocknung) aufgeschichtet und getrocknet.

Wasser 100 g

Metorase 60 SH-50'(Hydroxypropyl-

methylcellulose, von Shinetsu Chemical Industrial Co., Ltd; Hydroxypropoxylierung; 7-12 Mol.-%, Methoxylierung: 28-30 Mol.-%) 5 g-

Syloid-266 (SiO_?, mittlerer

Partikeldurchmesser: 2,7, von Fuji-

Davison Chemical Co., Ltd.) 2 g

Eine Beschichtung wurde derart hergestellt, daß die Höhe der beschichteten Bereiche 5 Vi de** Durchmesser der beschichteten Bereiche 20 u, der Abstand zwischen beschichteten Bereichen 100 u betrug und die Form der beschichteten Bereiche zylindrisch

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OFHQlNAL INSPECTED

Die notwendige Zeit, die lichtempfindliche Druckplatte in innigen Kontakt mit einem Originalbild nach der Vakuumad-.häsionsmethode zu bringen, betrug 15 bis 20 Sekunden; wenn diese Beschichtung nicht ausgebildet wird, beträgt die Zeit 60 Sekunden oder mehr« Hierdurch wird deutlich, daß die Verwendung der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Druckplatte ganz merklich die Zeit vermindert, die benötigt wird, um die Platte in innigen Kontakt mit einem Originalbild zu bringen.

Eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte wurde 2 Minuten dem Licht einer 3i> Ampere-Kohlenbogenlampe in einer Entfernung von 70 cm ausgesetzt und entwickelt, indem sie 1 Minute bei 25°C in eine 5 %-ige Lösung Natriumtriphosphat in Wasser eingetaucht wurde und indem die Oberfläche vorsichtig mit absorbierender Baumwolle abgerieben wurde (Entwicklungsmethoden beispielsweise gemäß US-PS 3 635 709 sind ebenfalls geeignet).

Die Schicht aus Hydroxypropylmethylcellulose wurde vollständig gelöst und von der Gesamtoberfläche der Platte entfernt, und darüberhinaus wurden die belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht entfernt, wobei ein positives Bild, das dem Originalbild entsprach, erhalten wurde. Die Druckplatte zeigte gleichermaßen gute Druckeigenschaften, d.h., daß kein Einfluß der Beschichtung auf die Druckeigenschaften der lichtempfindlichen Druckplatte festgestellt wurde.

Beispiel 4-

Die Verfahrensweise gemäß Beispiel 3 wurde mit dem Unterschied wiederholt, daß eine Lösung der folgenden Zusammensetzung in trockener BeSchichtungsmenge von 0,15 g/m auf die lichtempfindliche Schicht aufgebracht und zur Bildung der Beschichtung ge-

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trocknet wurde.

Wasser 100 g

Metorase SM-15 (Hethylcellulose

von Shinetsu Chemical Industrial

Co., Ltd.; Methoxylierung:

27,5 - 31,5 Mol.-96) 5 g

Syloid-162 (SiO₂; mittlerer

Partikeldurchmesser: 10u,

der Fuji-Davison Chemical Co., Ltd.) 2 g

Die Beschichtung wurde derart hergestellt, daß die Höhe der beschichteten Bereiche 20 u, der Durchmesser der beschichteten Bereiche 1000 u, der Abstand zwischen den beschichteten Bereichen 10 000 u betrug und die Form der beschichteten Bereiche zylindrisch war.

Die notwendige Zeit, diese lichtempfindlichen Druckplatten in innigen Eontakt mit einem Originalbild nach der Vakuumadhäsionsmethode zu bringen, betrug 20 bis 50 Sekunden.

Aus dieser lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte wurde gemäß Beispiel 3 eine Druckplatte hergestellt und deren Druckeigenschaften, gemessen. Es wurden die gleichen Ergebnisse wie in Beispiel 3 erhalten.

Beispiel 5

Die Verfahrensweise gemäß Beispiel 3 wurde mit dem Unterschied wiederholt, daß eine Lösung der folgenden Zusammensetzung auf

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eine lichtempfindliche Schicht in einer Trockenbeschichtungsmenge von 0,30 g/m aufgeschichtet und zur Bildung der Beschichtung getrocknet wurde.

Wasser 100 g

Polyvinylalkohol (mittleres Molekulargewicht: 15 000) 25 g

Pulveriges Phenolharz (vom Novolak-Typ; mittleres Molekulargewicht: 3000 - 8000;

mittlere Partikelgröße: 20 u) 5 S

Die Beschichtung wurde derart hergestellt, daß die Höhe und der Durchmesser der beschichteten Bereiche 30 bzw. 500 u, der Abstand zwischen den beschichteten Bereichen 2000 u betrug und die Form der beschichteten Bereiche zylindrisch war.

Die Zeit, die benötigt wurde, um diese lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten in innigen Kontakt mit einem Originalbild nach der Yakuumadhäsionsmethode zu bringen, betrug 8 bis 10 Sekunden.

Von dieser lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte wurde eine Druckplatte gemäß Beispiel 3 hergestellt und deren Druckeigenschaften gemessen. Es wurden die gleichen Ergebnisse wie in Beispiel 3 erzielt.

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Beispiel 6

Die Verfahrensweise gemäß Beispiel 3 wurde mit dem Unterschied wiederholt, daß eine Lösung der folgenden Zusammensetzung auf eine lichtempfindliche Schicht in einer Trockenbeschichtungs-

menge von 0,05 g /m ί
tung getrocknet wurde.

menge von 0,05 g /m aufgebracht und zur Bildung der Beschich-

Wasser 100 g

Polyvinylpyrrolidon (mittleres Molekulargewicht: 60 000; 20 g

Polymethylmethacrylatharz (aus pulverisiertem handelsüblichem Harz hergestellt.)

mittlere Partikelgröße 30 n\ mittleres ^ ^

Molekulargewicht: 10 000)

Die Beschichtung wurde derart hergestellt, daß die Höhe und der Durchmesser der beschichteten Bereiche 40 u bzw. 300 u, die Entfernung zwischen den beschichteten Bereichen 3000 u betrug und daß die Form der beschichteten Bereiche zylindrisch war. .. ...

Die Zeit, die benötigt wurde, um diese lichtempfindliche lithographische Druckplatte nach der Vakuumadhäsionsmethode in innigen Kontakt mit einem Originalbild zu bringen, betrug 10 bis 12 Sekunden.

Aus dieser lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte wurde eine Druckplatte gemäß Beispiel 3 hergestellt und deren Druckeigenschaften gemessen. Es wurden die gleichen Ergebnisse wie

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in Beispiel 3 erreicht.

Beispiel 7

Eine 0,3 mm dicke Aluminiumplatte wurde entfettet, indem sie bei 80°C 1 Minute in eine 10 %-ige Lösung von Natriumtriphosphat in Wasser eingetaucht wurde; nach dem Vaschen mit Wasser wurde sie in üblicher Weise mit Sand gekörnt, indem sie mit einer Nylonbürste gebürstet wurde, während eine Lösung, die aus einer Dispersion von Bimsstein in Wasser hergestellt wurde, darüberfloss. Nach Waschen mit Wasser wurde die Aluminiumplatte 3 Minuten bei 75°C in eine 5 %-ige Lösung von JIS Nr. 3 Natriumsilicat (SiOp/Na^O (molares Verhältnis) = 3i1 "bis 3*3) in. Wasser eingetaucht. Die Aluminiumplatte wurde dann mit Wasser gewaschen und getrocknet. Dann wurde auf die Aluminiumplatte eine Lösung der folgenden.Zusammensetzung in einer Trockengewichtsmenge von 1 g/m geschichtet und zur Bildung einer lichtempfindlichen Schicht getrocknet.

Schellack 10 g

Polyvinylacetat (mittleres Molekulargewicht: 60000 bis 100000) 1 g

Eondensationsprodukt von Hexafluorphosphat von 4— Diazo-^'-methoxyphenylamin und Formaldehyd (ca. äquimolar;
Kondensationsgrad ca. 3-6 Verhältnis) 3 δ

Methylenblau 0,3 g

Methanol 200 g

Furfurylalkohol 50 g

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Auf diese lichtempfindliche Schicht wurde dann eine Lösung der folgenden Zusammensetzung in einer Trockengewichtsmenge

von 0,05 g/m geschichtet, die dann getrocknet wurde ,

Wasser 100 g

enzymmodifizierte Stärke 10 g

Die Beschichtung wurde derart hergestellt, daß die Höhe und der Durchmesser der beschichteten Bereiche 3 V- bzw. 50 V j die Entfernung zwischen den beschichteten Bereichen 5OO H betrug, und die beschichteten Bereiche zylindrische IPorm aufwiesen.

Die Zeit, die benötigt wurde, um diese lichtempfindliche lithographische Druckplatte in innigen Kontakt mit einem Originalbild nach der Vakuumadhäsionsmethode zu bringen, betrug JO bis 40 Sekunden. Wenn eine solche Beschichtung jedoch nicht ausgebildet wurde, betrug die Zeit 60 Sekunden oder mehr. Die lichtempfindliche lithographische Druckplatte wurde in innigem Kontakt mit dem Originalbild mit Licht aus einer 30 Ampere-Kohlebogenlampe bei einer Entfernung von 70 cm und einer Dauer von 2 Minuten belichtet. Die Platte wurde dann entwickelt, indem sie eine Minute bei 2O⁰C in einen Entwickler der folgenden Zusammensetzung eingetaucht und mit einem weichen Tuch abgerieben vmrde. Die Beschichtung war völlig entfernt und, darüberhinaus, waren die unbelichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht ebenfalls vollständig entfernt. Auf diese Veise wurde eine Druckplatte erhalten. Zwischen einer Druckplatte aus einer lichtempfindlichen Druckplatte ohne Beschichtung und dieser Druckplatte bestand hinsichtlich der Wirksamkeit keinerlei Unterschied.

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Methanol 10 g

Wasser 80 g

Natriumhydroxid 1 g

Beispiel 8

Auf die Aluminiumplatte gemäß Beispiel 3> die einer Oberflächenbehandlung gemäß Beispiel 1 ausgesetzt wurde, wurde eine Lösung in einer Trockengewichtmenge von 0,12 g/m der folgenden Zusammensetzung aufgetragen und zur Bildung einer lichtempfindlichen Schicht getrocknet.

p-Toluolsulfonat des Kondensationsprodukts von p-Diazodiphenylamin und Formaldehyd 1 g

Äthylendichiοrid (ca. äquimolares Verhältnis; Kondensationsgrad ca. 3-6) 100 g

Methanol · 100 g

Auf diese lichtempfindliche Schicht wurde eine Lösung der folgenden Zusammensetzung aufgetragen:

Polyvinylformal (mittleres Molekulargewicht ca. 100000) 4- g

Phthalocyaninblau 1 g

Ithylendichlorid 500 g Monochlorbenzol 20 g

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Das Gesamtgewicht der zuvor hergestellten Beschichtung und der lichtempfindlichen Schicht nach Trocknung betrug 0,31 g/m , Auf diese Schicht wurde eine Lösung der folgenden Zusammensetzung aufgetragen und getrocknet:

Wasser 100 g

Hydroxypropylmethylcellulose

(wie in Beispiel 3) 15 g

Syloid-161 (SiO₂, mittlere Partikelgröße 7 V¹J von Fuji-Davis on Chemical
Co., Ltd.) 5 g

In diesem Fall betrugen Höhe und Durchmesser der beschichteten Bereiche 10 η bzw. 400Ou, der Abstand zwischen den beschichteten Bereichen 30 000 u, und die beschichteten Bereiche besaßen zylindrische Form, und die BeSchichtungsmenge als Trockengewicht betrug 0,15 g/^m ·

Die auf diese Weise erhaltene lichtempfindliche lithographische Druckplatte konnte nach der Vakuumadhäsionsmethode in 20 bis 30 Sekunden in innigen Kontakt mit einem Originalbild gebracht werden. Andererseits dauerte es 60 bis 70 Sekunden, wenn eine lichtempfindliche Druckplatte verwendet wurde, die nicht erfindungsgemäß beschichtet war.

Die lichtempfindliche Druckplatte, die in innigen Kontakt mit dem Originalbild gebracht worden war, wurde eine Minute mit Licht einer 35 Ampere-Kohlenbogenlampe in einer'Entfernung von 70 cm belichtet und dann entwickelt, indem sie 1 Minute bei

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2O⁰C in einen Entwickler eingetaucht wurde, der aus Isopropyl-"älkohol/Wasser im Volumenverhältnis von 2 : 1 bestand, und indem die Oberfläche behutsam mit absorbierender Baumwolle abgerieben wurde. Die Beschichtung wurde von der gesamten Platte entfernt, ebenso wie die unbelichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht und die darauf befindliche Polyvinylformalschicht. Andererseits verblieben die belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht und die darauf befindliche Polyvinylformalschicht ohne Beschädigung auf der Platte.

Diese Druckplatte ergab 50 000 und mehr Druckblätter guter Qualität; sie zeigte gleiche Eigenschaften und Verhalten wie die Druckplatte, die aus einer lichtempfindlichen Druckplatte ohne erfindungsgemäße Beschichtung hergestellt wurde.

Beispiel 9

Zu 53 .g (0,5 Mol) Diäthylenglykol wurden 197 g (1,05 Mol) Xylylendiisocyanat zugegeben, die dann 2 Stunden bei 80⁰C bei Normaldruck miteinander umgesetzt wurden.Zu der gebildeten Mischung wurden 390 g (1,0 Mol) Hydroxyäthyltetrahydrophthalylacrylat (OH-Wert 146; mittleres Molekulargewicht 390) entsprechend der Formel

und 0,30 g 2,6-Di-tert.-butylkresol als Polymerisationsinhibitor zugegeben, die dann bei Normaldruck 8 Stunden bei 80⁰C miteinander umgesetzt wurden, während Luft durchgeblasen wurde, um eine. Divinylurethanverbindung herzustellen, die einen verbleibenden Isocyanatwert von 4,8 besaß.

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Diese Divinylurethanverbindung in Mengen von 60 Teilen, 40 Teile Celluloseacetathydrogenphthalat, CAP (Handelsname für ein Produkt von Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) Phthalsäuregehalt 32 Gew.-%), 1 Teil Benzoinäthyläther als Sensibilisator, 0,05 Teile 4,4-TMobis(3-methyl-6-tert.-butylphenol) als Inhibitor für Wärmepolymerisation und 0,025 Teile Methylenblau wurden in 40 Teilen Aceton und 30 Teilen Methanol als Lösungsmittel gelöst; die gebildete Lösung wurde bei 40⁰C einen Tag und eine Nacht stehengelassen, um Entschäumung zu bewirken. Die derart entschäumte Lösung wurde auf eine 0,3 mm starke sandgekörnte Aluminiumplatte aufgebracht und zur Bildung einer lichtempfindlichen Schicht mit einer Filmdicke von 0,6 mm getrocknet. Auf diese lichtempfindliche Schicht wurde eine Lösung der folgenden Zusammensetzung und in einer Trockenge-

wichtsmenge von 1,5 g/m aufgebracht und getrocknet.

Wasser 100 g

Polyvinylpyrrolidon (mittleres Molekulargewicht: 10000 - 100000) 15 g

In diesem Pail betrugen Höhe und Durchmesser der beschichteten Bereiche 3 # bzw. 100 u, der Abstand zwischen den beschichteten Bereichen 100Ou, und die beschichteten Bereiche besaßen zylindrische Gestalt, während die Beschichtungsmenge (Trockengewicht) 0,08 g/m betrug.

Diese lichtempfindliche lithographische Druckplatte konnte nach der Vakuumadhäsionsmethode in 30 bis 40 Sekunden in innigen Eontakt mit einem Originalbild gebracht werden. Diese lichtempfindliche lithographische Druckplatte in Kontakt mit dem

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Originalbild wurde mit einem Printer, in dem 20 Watt-chemische lampen (IL-20 BL, Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd.) in 6 cm-Intervallen angeordnet waren, 10 Minuten belichtet. Die Druckplatte wurde entwickelt, indem sie 1 bis 3 Minuten bei 30⁰C in einen Entwickler der folgenden Zusammensetzung eingetaucht wurde, und indem anschließend die Oberfläche behutsam mit adsorbierender Baumwolle abgerieben wurde.

Isopropanol 0,5 g

Natriumhydroxid 0,2 g

Wasser 100 g

Die Beschichtung wurde von der gesamten Platte entfernt; darüberhinaus wurden die unbelichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht entfernt. Auf diese Weise wurde eine Druckplatte guter Qualität erhalten. Erfindungsgemäß werden deshalb die folgenden neuen Wirkungen erreicht:

1) Da eine Beschichtung, die ein unebenes Muster aufweist, auf der Oberfläche einer lichtempfindlichen Druckplatte ausgebildet werden kann, ist es möglich, nach der Vakuumadhäsionsmethode in kurzer Zeit ein Originalbild mit einer lichtempfindlichen Druckplatte in innigen Kontakt zu bringen, wobei die für den Adhäsionsschritt notwendige Zeit erheblich vermindert wird, während gleichzeitig die Bildung verschwommener Bilder wegen unvollständiger Adhäsion vermieden wird.

2), Da die Beschichtung mit dem unebenen Muster auf der Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte aufgebracht wird, bleibt die lichtempfindliche Schicht unbeschädigt, wenn lichtempfindliche Druckplatten übereinandergelegt werden; darüber-

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hinaus tritt das Problem nicht auf, daß, wenn lichtempfindliche Druckplatten in nahen Eontakt miteinander geraten, diese nur -schwer zu handhaben sind.

3) Da die Beschichtung auf der Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte mittels einer Beschichtungswalze aus elastischem Gummi und mit einem darauf befindlichen unebenem Muster"hergestellt wird, wird die lichtempfindliche Schicht nicht beschädigt.

3) Da die Prägewalze als Auftragungswalze (applicator roll) verwendet wird, und die Beschichtungslosung einmal auf die Beschichtungswalze mit dem unebenem Muster auf der Oberfläche durch die Prägewalze übertragen und dann auf einen Träger übertragen wird, ist es. möglich, eine Beschichtung mit den gleichen unebenen Mustern wie die Oberflächenmuster der Beschichtungswalze auf dem Träger zu erzeugen, ohne daß schwierige Bedingungen beim Abstreifen mittels einer Klinge an der Prägerolle einzuhalten sind.

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Claims

Patentansprüche

/i. !Lichtempfindliche Druckplatte mit einer Beschichtung, Niaaurch gekennzeichnet, daß sie ein unebenes

Muster aufweist, das "bei der Entwicklung entfernbar ist und • in dem auf der Oberfläche beschichtete und unbeschichtete Bereiche vorliegen.
2. Lichtempfindliche Druckplatte nach Anspruch 1,dadurch gekennzeichnet , daß die beschichteten Bereiche etwa 2 bis etwa 40 u hoch sind.
3. Lichtempfindliche Druckplatte nach Anspruch 1 und/oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß die Breite der beschichteten Bereiche etwa 20 bis etwa 10000 η beträgt.
4. Lichtempfindliche Druckplatte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3» dadurch gekennzeichnet , daß der Abstand zwischen den benachbart liegenden beschichteten Bereichen etwa 50 bis etwa 100000 u beträgt.
5. Lichtempfindliche Druckplatte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet , daß die Oberflächenrauhheit bzw. -körnung, ausgedrückt durch den Hcü.a-Vert, etwa 0,05 his etwa 20 u beträgt.

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6. Lichtempfindliche Druckplatte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 5? dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung durch Aufbringen einer Lösung gebildet wird, die durch Auflösen von Gummi-Arabikum, Leim, Gelatine, Kasein, Cellulosen, Stärke, Polyvinylalkohol, Polyäthylenoxid, Polyacrylsäure, Polyacrylamid, Polyvinylmethyläther, Epoxiharz, Phenolharz, Polyamiden oder Polyvinylbutyral oder Gemischen aus mindestens zwei dieser Verbindungen in einem Lösungsmittel hergestellt wurde.
7· Lichtempfindliche Druckplatte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtungslösung mindestens ein Mattierungsmittel enthält.
8. Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Druckplatte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 7> dadurch gekennzeichnet, daß mit einer Prägewalze eine Beschichtungslösung aufgenommen wird, daß mit einer Abstreifvorrichtung überschüssige Beschichtungslösung von der Prägewalze abgestreift wird, daß die Beschichtungslösung auf eine Beschichtungswalze aus einem elastischen Material mit einem auf deren Oberfläche befindlichen feinen unebenen Muster übertragen wird, und die sich in der gleichen Richtung und mit gleicher Geschwindigkeit wie die Prägewalze dreht, und daß die auf die Beschichtungswalze übertragene Beschichtungslösung auf einen Träger übertragen wird, der sich mit gleicher Geschwindigkeit und in gleicher Richtung wie die Beschichtungswalze bewegt.

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9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Prägewalze mit einem feinen unebenen regelmäßigen Muster auf der Oberfläche verwendet.
10. Verfahren nach Anspruch 8 und/oder 9> dadurch g ekennzeichnet, daß man eine Beschichtungswalze verwendet, deren Oberflächenmuster größer als das der Präge walze ist.
11. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Prägewalze verwendet, deren unebenes Muster eine Größe von etwa 74-/U "bis etwa 595/u aufweist.
12. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 8 bis

11, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Beschichtungswalze verwendet, deren unebenes Muster eine Größe von etwa 250 Ai bis etwa 2 mm aufweist.
13. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 8 bis

12, dadurch gekennzeichnet, daß der Klemmdruck zwischen der Prägewalze und der Beschichtungswalze etwa 10 bis etwa 200 kg/m beträgt.
14. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 8 bis

13, dadurch gekennzeichnet, daß der Klemmdruck zwischen der Beschichtungswalze und dem Träger durch eine Gegenwalze aufrechterhalten wird und daß der Klemmdruck zwischen der Beschichtungswalze und der Gegenwalze etwa 1 bis^;etwa 20 kg/m beträgt.

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15· Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 8 bis 14, dadurch gekennzeichnet , daß man etwa

2
0,05 bis etwa 2 g/m ( Gewicht nach Trocknung) der Beschichtungslösung auf die Oberfläche der lichtempfindlichen Druckplatte aufträgt.

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