DE2843762A1 - Offsetdruckplatte - Google Patents
OffsetdruckplatteInfo
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- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
- G03F7/0955—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer one of the photosensitive systems comprising a non-macromolecular photopolymerisable compound having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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Description
u.Z.: M 860
Case: DB 54
Case: DB 54
POLYCHROME Corporation
On the Hudson, Yonkers, New York, V.St.A.
10
" Offsetdruckplatte "
■15 Die überwiegende Mehrzahl der heute hergestellten lichtempfindlichen
Offsetdruckplatten besitzt als Grundlage eine Aluminiumplatte, die jedoch, wie sich im Lauf der
Jahre herausstellte, bestimmte Nachteile aufweist.· die das direkte Aufbringen der lichtempfindlichen Beschichtung
verhindern. Es wurde festgestellt, daß beim direkten Aufbringen des lichtempfindlichen Gemisches auf die Aluminiumplatte, anschließender Belichtung und Entfernung der Nichtbildbereiche
zur Herstellung einer Offsetdruckplatte die erhaltene Druckplatte zahlreiche unerwünschte Eigenschaften
aufweist, die ihre technische Verwendung in der Druckindustrie ausschließen. Zu den Nachteilen solcher Platten
zählt die Tatsache, daß die Nichtbildbereiche, von denen beim Entwickeln die Beschichtung entfernt wurde, nicht die
nötigen hydrophilen und oliophoben Eigenschaften aufweisen, und daß deshalb beim Drucken Unsauberkeiten im Hintergrund
auftreten, die auf den Kopien erscheinen. Außerdem weist das Aluminium als" ziemlich weiches Metall nicht die Festigkeit
seigenschaften auf, die beim Drucken über längere Zeit
erforderlich sind, wobei mindestens etwa 100 000 Kopien verlangt werden. Ferner besitzt die Aluminiümoberflache
Eigenschaften, die es schwierig machen, eine feste Haftung
L· 9098 15/1039 · - _i
-A-
zwischen dem lichtempfindlichen Gemisch und der Aluminiumplatte zu erreichen. Deshalb tritt eine Ablösung der Bildbereiche
der Platte von der Aluminiumoberfläche auf, wodurch die gedruckten Kopien unvollständig werden.
Aus diesen Gründen ist es bei der Herstellung von vorsensibilisierten
Offsetdruckplatten auf Aluminiumbasis günstig, die Oberfläche der Metallplatte mit einer schützenden Zwischenschicht
zu behandeln, die der dabei erhaltenen Offsetdruckplatte günstige Eigenschaften verleiht. Es ist bereits
bekannt, die Oberfläche der Metallplatte, auf die die lichtempfindliche Beschichtung aufgetragen werden soll, die
nach der Belichtung und Entwicklung die Druckoberfläche der Druckplatte werden soll, mit einer Zwischenschicht zu versehen,
die eine feste Haftung mit der Metallplatte und mit der lichtempfindlichen Beschichtung ergibt.
Es ist bereits eine Anzahl von Verfahren zur Herstellung von langlebigen Offsetdruckplatten durch Aufbringen einer
Zwischenschicht bekannt, die bei den erfindungsgemäßen Druckplatten
verwendet werden können. Aus den US-PSen 3 160 506, 3 136 636, 2 &46 683 und 2 922 715 sind verschiedene Stoffe,
die sich als haftfähige Zwischenschicht auf den Platten eignen, und Verfahren zum Aufbringen dieser Stoffe
bekannt. Die gegenwärtig am häufigsten technisch verwendeten Stoffe für haftfähige Zwischenschichten sind Alkalimetallsilikat-,
Kieselsäure7 Alkalizirkoniumfluorid- und Fluorozxrkoniümsäurelösungen. Solche Stoffe verbessern beträchtlich
die Haftung der lichtempfindlichen Beschichtung auf der darunter liegenden Metallplatte, die sonst im allgeme.inen
eine unzureichende Affinität für die Beschichtung aufzuweisen pflegt. Von 'den verschiedenen bekannten haft-
- fähigen Stoffen .sind die Metallfluoride der Metalle der
Gruppe IV-B des Periodensystems sowie deren komplexe Alkalimetallsalze
und die Säuren davon bevorzugt. Besonders bevorzugt sind zur Herrichtung von Aluminiumplatten zur Auf-
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nähme einer lichtempfindlichen Beschichtung die aus den
ÜS-PSen 3 160 506 und 2 946 683 bekannten Alkalizirkoniumfluoride, wie Kaliumzirkoniumhexafluorid, und Fluorozirko-
niumsäure.
5
5
In der US-PS 2 714 066 ist die Verwendung einer siliciumhaltigen Zwischenschicht auf der Oberfläche der Aluminiumplatte
beschrieben, die die Haftung des lichtempfindlichen Gemisches
auf der Oberfläche der Aluminiumplatte bewirkt.
Dieses Verfahren kann jedoch das Problem der Haftfestigkeit
nicht vollständig lösen, da die Haftung zwischen dem lichtempfindlichen
Gemisch und der Aluminiumplatte nicht stark genug ist, um einer langen Druckdauer zu widerstehen und
außerdem zu Abnutzung und Funktionsunfähigkeit im Verlauf
längerer Zeit neigt.
Ferner ist die Herstellung von Offsetdruckplatten durch
Aufbringen eines Diazoharzes auf eine Aluminiumplatte sowie die Herstellung von Offsetdruckplatten durch Beschichten
einer Aluminiumplatte mit einer photopolymerisierbaren Schicht bekannt. In der US-PS 3 905 815 ist schließlich
die Herstellung einer Offsetdruckplatte mit einer doppelten
Beschichtung auf einer Aluminiumplatte beschrieben. Diese doppelte Schicht besteht aus einer ersten Schicht aus
einem Diazoharz und einer zweiten Schicht aus einem Photopolymerisat-Harz .
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine verbesserte Offsetdruckplatte zu schaffen, die eine besonders lange Druckdauer
aufweist und während dieser verlängerten Lebensdauer eine verbesserte Bildklarheit und saubere Druckeigenschaften
besitzt, so daß während der gesamten Druckdauer schärfere Kopien erhalten werden.
Diese Aufgabe wird durch den überraschenden Befund gelöst, daß eine Offsetdruckplatte mit erheblich verbesserter Lagerfähigkeit,
verlängerter Druckdauer und verbesserter Klarheit der gedruckten Kopien erhalten werden kann, wenn eine
L
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— S —
■j lichtempfindliche, für den Offsetdruck geeignete, vorzugsweise
wasserlösliche Diazoverbindung direkt auf die Oberfläche einer Metallplatte aufgebracht und diese Schicht dann
anschließend mit einem lichtempfindlichen, lösungsmittellöslichen,
für den Offsetdruck geeigneten photopolymerisierbaren Gemisch beschichtet wird. Vorzugsweise werden Aluminiumplatten
verwendet; es eignen sich jedoch auch andere Metalle, wie Zink oder Kupfer. Die Metallplatte kann in bekannter
Weise vorbehandelt, beispielsweise gekörnt, geätzt .jQ oder anodisch oxidiert, oder mit einer der vorstehend erwähnten
Zwischenschichten versehen sein.
Die Erfindung betrifft somit den in den Patentansprüchen
gekennzeichneten Gegenstand.
Die erfindungsgemäße Offsetdruckplatte enthält somit zwei
lichtempfindliche Schichten. Der Aufbau besteht aus einer Schicht aus einem Diazoharz auf mindestens einer Oberfläche
der Platte. Auf dem Diazoharz befindet sich eine zweite Schicht aus einem photopolymerisierbaren Gemisch. Als
Diazoverbindung für die untere Schicht der erfindungsgemäßen
Druckplatte eignen sich sämtliche bekannten lichtempfindlichen
Diazoverbindungen. Die photopolymerisierbare Schicht besteht aus mindestens einer monomeren oder oligomeren,
olefinisch ungesättigten Verbindung mit einejr _Punkti_onalir
tat, die größer als Ϊ, vorzugsweise größer als 2 ist, die durch radikalisch
initiier-/ _ _ ..__ .._
" tte Polymerisation zu einem Hdchpolymeren polymerisiert werden
kann, einem Photoinitiator, einem Acrylnitril-Butadien-Styrolharz,
einem Celluloseharz und einem Acrylharz.
Die erfindungsgemäße Offsetdruckplatte besitzt eine besonders
lange Lebensdauer und hohe Bildauflösung.
In der ersten Stufe des Verfahrens zur Herstellung der erfindungsgemäßen
Offsetdruckplatte wird eine Metallplatte,
beispielsweise aus Zink, Kupfer oder besonders bevorzugt
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•j aus Aluminium und dessen Legierungen, die gegebenenfalls nach
bekannten Körnungs- und/oder fitz- und/oder anodischen Oxidationsverfahren vorbehandelt wurde, und außerdem gegebenenfalls
mit einer als Zwischenschicht für Offsetdruckplatten
geeigneten Verbindung behandelt wurde, mit einer Schicht aus einer für den Offsetdruck geeigneten, lichtempfindlichen,
vorzugsweise wasserlöslichen Diazoverbindung beschich-■ tet. Anschließend wird auf das derart vorbeschichtete
Substrat eine Schicht aus einem für den Offsetdruck geeig-.
-jo neten photopolymerisierbaren Gemisch aufgebracht. Als Zwischenschicht
für die erfindungsgemäße Offsetdruckplatte eignen sich wäßrige Lösungen von Alkalisilikaten, Kieselsäure,
den Fluoriden der Metalle der Gruppe IV-B des Periodensystems, deren komplexen Alkalimetallsalzen und den Säuren
davon, Polyacrylsäure, Alkalimetallζirkoniumfluoriden, wie
Kaliumzirkoniumhexafluorid oder Fluorozirkoniumsäure. in
Konzentrationen von 0,5 bis 20 Volumenprozent- Diese Lösungen können beispielsweise durch Aufsprühen, Bürsten oder
Tauchbeschichten aufgebracht werden.
Spezielle Beispiele für bevorzugte Diazoharze, die sich
zur Verwendung bei der Herstellung der erfindungsgemäßen
Offsetdruckplatte für die dem Substrat am nächsten liegende
Schicht eignen und die nach bekannten Verfahren hergestellt werden, sind nachstehend aufgeführt.
Aromatische Diazoverbindungen, wie das Umsetzuhgsprodukt
von Paradiazodiphenylamin mit Paraformaldehyd; Azidopyrene, wie 1-Azidopyren, 6-Nitro-1-azidopyren,
1,6-Diazidopyren, 1,8-Diazidopyren, i-Propyonyl-6-azidopyren,
i-Acetyl-6-azidopyren, 1-n-Butyryl-6-azidopyren, i-n-Propionyl-O-brom-6-azidopyren und. 8-n-Propionyl-1,6-diazidopyren;
4-Diazo-diphenylamin-Sulfat
1-Diazo-4-N,N-dimethylaminobenzol-Zinkchlorid:
1-Diazo-4-N,N-dimethylaminobenzol-Zinkchlorid:
1-Diazo-4-N,N-diäthylaminQbenzol-Zinkchlorid
1 -Diazo^rN-äthyl-N-hydroxyäthylaminobenzoi-i /2-Zinkchio'rid
1-Diazo-^-N-methyl-N-hydroxyäthylaminobenzol-i/2-Zinkchlorid
l_ J
909815/1039
.. 1-Diazo-2,5-diäthoxy-4-benzoylaminobenzol-1 /2-Zinkchlorid
1-Diazo-4-N-benzylaminobenzol-i/2-Zinkchlorid
1-Diazo-4-N,N-dimethylaminobenzol-Borfluorid
1-Diazo-4-morpholinobenzol-i/2-Zinkchlorid
1-Diazo-4-morpholinobenzol-Borfluorid
1-Diazo-2,5-dimethoxy-4-p-tolylmercaptobenzol-1/2-Zinkchlorid
1-Diazo-2-äthoxy-4-N,N-dimethylaminobenzol-1/2-Zinkchlorid
p-Diazo-dimethylanilin-1/2-Zinkchlorid
1-Diazo-4-N,N-diäthylaminobenzol-i/2-Zinkchlorid
1-Diazo-2,5-dibutoxy-4-morpholinobenzol-Sulfat
1-Diazo-2,.5-diäthoxy-4-morpholinobenzol-1/2-Zinkchlorid
1-Diazo-2,5-dimethoxy-4-morpholinobenzol-Zinkchlorid
1-Diazo-2,5-diäthoxy-4-morpholinobenzol-Borfluorid
Natriumsalz von 2-Diazo-1-naphthol-5-sulfonsäure , 1-Diazo-4-N,N-diäthylaminobenzol-Borfluorid
1-Diazo-2,5-diäthoxy-4-p-tolylmercaptobenzol-1/2-Zinkchlorid
1 -Diazo-S-äthoxy^-N-methyl-N-benzylaminobenzol-1 /2-Zinkchlorid
1-Diazo-3-chlor-4-N,N-diäthylaminobenzol-1/2-Zinkchlorid
1-Diazo-3-chlor-4-N,N-diäthylaminobenzol-1/2-Zinkchlorid
2Q 1-Diazo-3-methyl~4-pyrrolidinobenzol-chlorid-Zinkchlorid
1 -Diazo-S-methyl^-pyrrolidinobenzol-Borf luorid
1-Diazo-2-chlor-4-N,N-'dimethylaraino-5-methoxybenzol-Borfluorid
1-Diazo-3-methoxy-4-pyrrolidinobenzol-Zinkchlorid Kondensationsprodukt von 4-Diazo-diphenylamin-Sulfat und Formaldehyd-Zinkchlorid.
1-Diazo-3-methoxy-4-pyrrolidinobenzol-Zinkchlorid Kondensationsprodukt von 4-Diazo-diphenylamin-Sulfat und Formaldehyd-Zinkchlorid.
Ferner eignen sich die bei J. Kosar, Light-Sensitive Systems, John Wiley and Sons, New York 1965, S. 201 bis 214 aufge-Q0
führten Diazoverbindungen.
Die Diazoverbindung wird mit einem Beschichtungsgewicht von etwa 0,005 bis 0,075, vorzugsweise von etwa O,01 bis
0,03 mg/cm2 aufgebracht.
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■j Das neue photopolyraerisierbare Gemisch, das die obere Schicht
der erfindungsgemäßen Offsetdruckplatte darstellt, besteht
aus einer monomeren oder oligomeren, olefinisch ungesättigten Verbindung mit einer Funktionalität, die größer als 1
und vorzugsweise größer als 2 ist, und die durch radikalisch initiierte Polymerisation zu einem Hochpolymeren polymerisieren
kann, einem Photoinitiator, der freie Radikale erzeugen kann, einem Acrylnitril-Butadien-Styrolharz zur Erzeugung
einer Druckoberfläche mit hoher Schlagfestigkeit,
■IQ einem Acrylharz, das der Oberfläche Dauerhaftigkeit verleiht
und die Gleichmäßigkeit der Schicht fördert, und einem Celluloseharz, das die Verwendung einer wäß-rigen Entwicklungslösung
nach der Belichtung möglich macht. Zusätzlich zu diesen Bestandteilen können dem Gemisch weitere an sich
bekannte Komponenten zugesetzt werden, wie Füllstoffe, beispielsweise feinteiliges Siliciumdioxid, Streckmittel, Polymerisationsinhibitoren
und farbgebende Mittel. Ferner werden alle vorstehend genannten Bestandteile mit einem geeigneten
Lösungsmittelsystem vermischt. Spezielle Beispie-Ie für verwendbare Lösungsmittel sind Äthylenglykolmonomethyläther,
Äthylenglykolmonomethylatheracetat, Methyläthylketon,
n-Butanol, Äthylendichlorid, Methylenchlorid und Methanol in Mengen von etwa 1 bis 10 % des photopolymerisierbaren
Gemisches.
Die monomeren oder oligomeren, olefinisch ungesättigten Verbindungen
stellen etwa 20 bis 60, vorzugsweise etwa 40 bis 50 Gewichtsprozent des Gemisches der oberen Schicht dar. Sie enthalten mindestens 1, vorzugsweise
mindestens 2 olefinisch ungesättigte Bindungen, oder sind Gemische mit durchschnittlich mindestens einer olefinisch ungesättigten Bindung.
Spezielle Beispiele für verwendbare monomere oder oligomere olefinisch
ungesättigte Verbindungen sind ungesättigte Polyurethan- oder Epoxy-Oligomere, sowie polyfunktionelle, olefinisch ungesättigte Epoxide,
Urethane, Polyester oder Polyäther, Allylacrylat, Acrylsäureanhydrid, Allylmethacrylat, Butandiol-diacrylat, Butandiol-dimethacrylat, Diäthylenglykol-diacrylat,
Äthylendiacrylat, Glycerintriacrylat, Methacryl-
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■Ι säureanhydrid, Methallylacrylat, Methallylmethacrylat,
Pentaerythrittetraacrylat, Pentaerythrittetramethacrylat
und Pentaerythrittriacrylat. Diese polyfunktionellen Monomeren
und Oligomeren können gegebenenfalls mit monofunktionellen Verbindungen wie Glycidylacrylat, Glycidylmethacrylat,
Acrylnitril, HydroxyäthyIacrylat, Methacrylsäure, Methacrylnitril
oder Methylchloracrylat, vermischt sein.
Die Celluloseharze stellen etwa 4 bis 50, vorzugsweise ■|0 etwa 10 bis 20 Gewichtsprozent des Gemisches der oberen
Schicht dar. Spezielle Beispiele für verwendbare Celluloseharze sind Cellulose, Celluloseacetat, Celluloseacetatbutyrat,
Äthylcellulose, Hydroxyäthylcellulose, Celluloseacetatphthalat
und Celluloseharze, die Ester von Dicarbonsäuren sind.
Die Acrylharze stellen etwa 4 bis 50, vorzugsweise etwa 10 bis 25 Gewichtsprozent des Gemisches der oberen Schicht
dar. Spezielle Beispiele für besonders geeignete Acrylharze sind die Homo- und Copolymerisate von Methylmethacrylat.
Die Acrylharze können auch durch Nylon- oder Polyurethanharze ersetzt sein.
Das Acrylnitril-Butadien-Styrolterpolymerisat stellt etwa 2 bis 25, vorzugsweise etwa 3 bis 10 Gewichtsprozent des
Gemisches der oberen Schicht dar.
3evorzugte Photoinitiatoren sind Benzophenon, Michler's
Keton und o-Chlorhexaarylbiimidazole, beispielsweise Hexao-chlorphenylbiimidazol
(vgl. ÜS-PSen 3 479 185 und 3 549 367)-. Diese Stoffe sind einzeln oder in Gemischen verschiedener
Zusammensetzung in nachstehend angegebenem Gewichtsverhältnis in dem Gemisch der oberen Schicht enthalten:
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-- .11 -
möglicher bevorzugter
Bereich Bereich
Benzophenon 0,5 bis 15 % 1 bis 3 %
Michler's Keton 0,5 bis 15 % 1 bis 3 %
o-Chlorhexarylbiimidazol bis 15 % 1 bis 3 %
Weitere geeignete Photoinitiatoren sind Benzil, Benzoinäther, die in der
US-PS 3 905 815 beschriebenen benzoin-substituierten Äther sowie 2,2-Dimethoxy-2-pheny!acetophenon
und p-tert.-Butyltrichloracetophenon. Es können
jedoch auch andere bekannte Photoinitiatoren verwendet werden.
Als farbgebende Mittel für das Beschichtungsgemisch der .erfindungsgemäßen Offsetdruckplatte eignen sich alle im
Color Index aufgeführten Stoffe, die die Wirkungsweise der
Beschichtung nicht wesentlich beeinflussen. Bevorzugte
farbgebende Mittel .sind Farbstoffe t..jpnd besondere !bevorzugt
sind sulfonierte Phthalocyanin-Pigmente in einer
Menge von etwa 0,25 bis 3, besonders bevorzugt von etwa 1 bis 3 % des Beschichtungsgemisches.
Spezielle Beispiele für verwendbare Polymerisationsinhibitoren sind das Natriumsalz von p-Phenolsulfat, p-Methoxyphen
<>lhydrochinon, hydroxybutyliertes Toluol und hydroxybutyliertes
Anisol in einer Menge von etwa 0,05 bis 1, vorzugsweise von etwa 0,1 bis 0,4 % des Beschichtungsgemisches.
Ein typisches Lösungsmittelsystem für die Bestandteile des
Beschichtungsgemisches besteht aus etwa 3 Teilen Äthylenglykolmonomethyläther und etwa 10 Teilen Methylätbylketon.
Es eignet sich jedoch auch eine Vielzahl anderer Lösungsmittelsysteme.
Das die obere Schicht der erfindungsgemäßen Offsetdruckplatte
darstellende Gemisch wird vorzugsweise mit einem Beschichtungsgewicht von etwa 0,1 bis 0,65 mg/cm2 aufgebracht.
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Die fertige Offsetdruckplatte kann in bekannter Weise durch
eine Maske oder Transparenz mit ultravioletter oder sonstiger, chemische Veränderungen hervorrufender Strahlung belichtet
werden. Die belichtete Platte kann danach unter Verwendung einer wäßrigen alkalischen Entwicklerlösung mit
oder ohne Netzmittel in bekannter Weise entwickelt werden.
Das Beispiel erläutert die Erfindung.
10 Beispiel
Eine gekörnte, anodisch oxidierte Aluminiumplatte wird zunächst ir.it dem Umsetzungsprodukt von Paradxazodiphenylamin
und Paraformaldehyd in einem Beschichtungsgewicht von etwa 0,03 mg/cm2 beschichtet. Danach wird auf das vorbeschichtete
Substrat ein Gemisch folgender Zusammensetzung aufgebracht :
Olefinisch ungesättigtes 12 g
Polyurethan-Oligomeres Celluloseacetat-hydrogenphthalat
Acrylnitril-Butadien-Styrol-Terpolymerisat
Polymethylmethacrylat Benzophenon
Michler's Keton
Hexaarylbiimidazol
Michler's Keton
Hexaarylbiimidazol
Natriumsalz von p-Phenolsulfat
Solvent blue 67 (Color Index)
Die vorstehend genannten Bestandteile des Gemisches sind in einem Lösungsmittelsystem aus 60 ml Äthylenglykolmonomethyläther
und 200 ml Methylethylketon gelöst. Das Beschichtungsgewicht beträgt 0,5 mg/cm2-
Die erhaltene Offsetdruckplatte wird durch eine photographische
Transparenz 40 Sekunden mit einer 5 KW-Berkey-UV-Lichtquelle belichtet und danach in einer wäßrigen alkalischen Lösung mit
einem Gehalt an einem Netzmittel und einem Puffer entwickelt. Die dabei erhaltene Offsetdruckplatte ergibt 200 000 brauchbare
Reproduktionen.
9098 15/1 039
4 | g |
2 | g |
6 | g |
0,5 | g |
0,5 | g |
0,5 | g |
0,1 | g |
0,4 | g |
Claims (6)
1. Offsetdruckplatte, bestehend aus einer Metallplatte mit einer Schicht aus einer lichtempfindlichen, für
den Offsetdruck geeigneten, wasserlöslichen Diazoverbindung und einer, weiteren Schicht aus einem für den Offsetdruck
geeigneten, photopolymerisierbaren Gemisch aus
a) einem Acrylnitril-Butadien-Styrolharz,
b) einem Acryl-, Polyurethan- und/oder Nylonharz, c) einem Celluloseharz,
d) einer monomeren oder oligomeren, olefinisch ungesättigten,
radikalisch zu einem Hochpolymeren polymerisierbaren Verbindung und
e) einer bei Bestrahlung freie Radikale erzeugenden Verbindung.
2. Offsetdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das photopolymerisierbare Gemisch außerdem noch in geringerer Menge farbgebende Mittel, Polymerisationsinhibitoren
und Füllstoffe enthält.
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3. Offsetdruckplatte nach Anspruch 1," dadurch gekennzeichnet,
daß das photopolymerisierbare Gemisch die Bestandteile
im folgenden Gewichtsverhältnis enthält: a) 2 bis 25 % Acrylnitril-Butadien-Styrolharz,
b) 4 bis 50 % Acryl-, Polyurethan- und/oder Nylonharz,
c) 4 bis 50 % Celluloseharz
d) 20 bis 60 % monomere oder oligomere, olefinisch ungesättigte,
radikalisch zu einem Hochpolymeren polymerisierbare Verbindung und
e) 0,5 bis 45 % der bei Bestrahlung freie Radikale erzeugenden Verbindung.
4. Offsetdruckplatte nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß das farbgebende Mittel ein Farbstoff, der Polymerisationsinhibitor das Natriumsalz von p-Phenolsulfat
und der Füllstoff feinteiliges Siliciumdioxid ist.
5. Offsetdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß der Photoinitiator Benzophenon, Michler's Keton und/oder ein o-Chlorhexaarylbiimidazol ist.
6. Offsetdruckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß der Photoinitiator aus gleichen^Teilen Benzophenon,
Michler's Keton und einem o-Chlorhexaarylbiimidazol besteht. ! - — - -- - -
■
L 90 9 8 15/1039
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