DE1547849A1 - Lichtempfindliche Masse - Google Patents

Description

FMC C(APORATION. 633 Third Avenue« NeIr York, N.Y./U.8.A. Lichtempfindliche Hasse

Die vorliegende Erfindung betrifft die Photosensibillsierung von Vorpolynerlsatnassen und bezieht sich insbesondere auf ohemisohe Massen zur Herstellung von photographischen Reliefbildern, die Insbesondere in den graphischen Gewerben verwendet werden, beispielsweise für Druckplatten, gedruckt· Schaltbretter, Namensschilder und chemische PrKsverfahren·

Bs ist in der photo-MOhanisohen Reproduktionstechnik bekennt» verschieden» Materialien* wie beispielsweise Bichromate enthaltenden Schellack, Bichroeat-enthaltenden Polyvinyl· alkohol, Polyvinylalkoholsiintalureester und ähnliche ungesättigte Polymerisate zur Bildung von Reserve- bzw. Widerstandsbildern auf verschiedenen Substraten oder Trägern« wie beispielsweise Kupfer, nlt Kupfer überzogenen Plastikfolien, Aluminium, Stahl, Messing, Bronze und andere Metallen sowie auch Glas und Kunststoffen, zu verwenden.

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BAD ORIGINAL

Bichrooat-enthaltender Schellack, Biohroaat-enthaltender Polyvinylalkohol und Biohroaat-enthaltendea Polyvinylbutyral besitzen Jedoch begrenzte Haltbarkelten« βο dafl der Blohromt-Seneibillsator in eines getrennten Behälter gelagert und «it de» filmbildenden Polymerisat unmittelbar vor der Verwendung verwischt werden au3.

Polyvinylalkohalzlatsäureester und ähnliche ungesättigte Bsterpolyaerisate erleiden, wenn si· einem chealsah aktiven Lieht auagesetst werden, eine Sohmunpfung, ao daß si· für Anwendung«zwecke, bei denen ea auf feine Details ankooet, nur eine begrenzte Verwendungsaögliohkeit besitzen.

Es besteht daher ein Bedarf an liohteeprindliohen Massen» die durch die Wiedergabe von Details, bessere oheeisohe Beständigkeit, lange Lagerungsfihigkeit und Reproduzierbarkeit von Charge zu Charge gekenn zeichnet sind und sieh ferner dadurch auszeichnen, daB sie sieh In einer einzigen Verpackung abpacken lassen und nach de« Ätzen leicht ent· fernbar sind. Bs besteht ferner ein Bedarf nach Höht· empfindlichen Pllaaassen, die nicht in-nennenswerter Heise sohruqpfen» wenn sie einer ohealsoh aktiven Strahlung ausgesetzt werden« und die bei Bedarf wiederholt gewaschen und geatzt werden können, ohne daB dabei Bilddetails in nachteiliger Weise verändert werden oder eine Unterschneidung des Reliefbildes erfolgt.

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BAD ORIGINAL

Bs ist daher ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein neue· lichtempfindlich·» Polymer!sat-Reservierungs- bat. beoknlttel zu eohaffen.

Bin weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung liegt in der Schaffung eines Verfahrene zur Photosenslbilisierung von Vorpolynerisaten»

Ferner hat sieh die vorliegende Erfindung die Entwicklung einer lichtempfindlichen Kasse sum Ziel gesetzt, die in eine· einsigen Behälter zusammen mit dea erforderlichen Photoinitiator verpackt werden kann» eine lange Legerungefthlgkelt besitzt und einzigartige chemische, physikalische und elektrische Eigenschaften besltst·

Außerdee fällt in den Hahaen der vorliegenden Erfindung die Schaffung einer lichtempfindlichen Masse« die in einfacher Weise dadurch entfernt werden kann» dafi sie einige Hinuten in ein Lösungsmittel eingetaucht und abgespült wird·

Als zur Erfindung angehörig 1st auch die Entwicklung einer lichtempfindlichen Nasse zu sehen« die vor der Verwendung weder verwischt oder erhitzt noch enealeoh behandelt werden ■ufi, und die es erwäglloht* Metalle und andere Oegenstttnde ■it eine« Vorttbersug su versehen und lange Zeit zu lagern.

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Ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung 1st die Schaffung einer πtab!lon lichtempfindlichen Masse, die unter dem Einfluß chemisch aktiver Strahlen vernetzt werden kann und einon haftbaren überzug bildet« der eine gute WKrtnebeständlgkeit, ein geringen Pcmohtigkeitsabsorp" tlonsvermögen und eine gute Widerstandsfähigkeit gegen SKuren, Alkalien und organische Lösungsmittel benitzt.

Ein anderes wichtiges Ziel der vorliegenden Erfindung 1st die Entwicklung vorsenslblllsierter lithographisch.? Druckplatten, wobei eine Grundplatte mit den erflndungs» gemHften lichtempfindlichen Nassen Überzogen wird.

ErfindungsgemäS wird ein Vorpolymerisat eines ungesättigten Carbonsäureester^ mit wenigstens 2 Kohlenet off «Kohlenstoffdoppelbindungen, von denen jeweils eine durch eine Allyl» estergruppe gestellt wird, alt einem Initiator oder Sensibilislerungeaittel vereinigt und in einem geeigneten lösungsmittel gelöst. Zu derartigen ITorpolymerlsaten sind Vorpolymerisate von Al laxestem ungesättigter einbasischer Carbonsäuren odei? Vorpolyaserisate von Ally !estern alii I a« tischer oder aromatischer CarbonEüuf^n mit 2 odar mehr Allylgruppen zu zählen.

Als SensibilisieyimggHiifetel miQ CdE solches vezwendet werden^ welches sine chsüiisch zUMr® S1jj?ahi'.ing ©bsorbiert

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BAD ORIGINAL

so daß ea in freie Radikale disoziiert, die die Polymer! -»ation des Vorpolysierinats in den unlöaliohfm und iuiachmalabaren Zustand begünstigen. Als geeignete Sensibi]isiaiungs» Mittel habsn nich folgende Verbindungen erwiesen» Aoyloinftther» wie beispieleweise der Methyl» und XthylUfeher von Benzoin« TetraalkyXdlarainophenylketone, wie beispieleweise 4»4· -Bis (dl methylamine»)»femzophenon un 1 h, h' -Bis(diäthylamiir ) benzophenon« sowie Blsol-inthraohinonylaminoanthraohinone» wie beispielsweise 1, ^Bi* (l-anthrachino^lamino )-anthraohinon und l,5"Bie(l-anthr*ohinonylaaino)»antßraohinon_J( oder KoBbinationen dieser Verbindungen. Andere geeignet« SenelbllisierungsBilttel sind mehsfeernlge Chinone» die kein· Hydroxyl-» SuIfο-, Carboxyl» oder AKinogruppen besitzen» wie beispielsweis« !»S-Bensanthraohiiion und a-Methylantiira» Ghinon, einkernige Chinone, dl· keine iiydrocqrl-·* 3ulfo-_s Carboxyl- oder Aninogruppen besitzen» wie beispielswoiso 2,5^r'I>lphenyl-p-öhiiion_i vlolsuile Ketmldonylverbindungea, wi« beispielswel»? Ben^.l* sowie Aryisssfchylen&ioxyverbindungen» di· wenieat#Tis ein» Aldehyd- odor Ketogruppe enthalten» wobei das Kohlag&stoffatos» d©^ JtldeSiyd- odmv Keto« gruppe an dem Beazolring slt^t. Die ^rylg3ethy3,eniioxy-

müssen frei von SuIf©-„ Carboxyl- odöff Asiinct« seini ermähnt seien betispielsi^aiss Fiperonal» Piperoin, 3_a4»B?sthy.iendioj?^chall£on w$ä ^»e»M3thyIendioxy-

Folgendo" Vsi^sfoisd«ii3©a habsa sieh als geeignet

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BAD OR}GlfcIAt

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azoline» wie beispielsweise l-Hethyl-2»ao9t3flraethylen-3·» naphthoselenazolin» substituierte ß»Benzothiazoline, wie beispielsweise 3^<BMethyl~2*>benzoylmethylenbenzothiazolin, substituierte 0«Naphthothias5oline, wie beispielsweise 1 »Methyl -2-benzoyItnetvhylen- 3-naphthothiazol in» Anthrone , wie beispielsweise Anthron» Benzanthrone» wie beispielsweise Benz~2-äthylb3nzanthron und 7-H«Benx(de)>anthrac«n" 7-on sowie Azabsnzanthrone» wie beispielsweise 2-Keto->« o» thyl -1, >»dlazabenzanthrone.

Die Xonsentration des Senslbllislerungswlttels in der FhotoreservierungSGtaQse hängt von der empfindlichen poljraeren Verbindung ab* d.h. von de« vorliegenden Yorpolyiaerisat. Zn Falle von Diallylisophthalat als Vorpolyaerisat werden ungefXhr 1 » 20Ji* vorzugsweise 1,5& bezogen auf da« Qewicht des Vorpolyaerisats» l_Jf4-Bis(l-anthrachinoi^rlft»ino)-anthraehinon verwendet. Slnig« Senslbillslerungsaltt·!, wi· beispielsweise ρ, ρ'-substituierte Bensophenone» s.B. 4_#4'-Bia(diiBetfrylaBdno)«benzoplsenon* verursachen in einer Hang« von weniger als 1,5% eine er&ablieti· Steigerung der Bepfindllohkeit gegenüber ahöadsch aktiven Licht. Der Sen« slblllsator wis*d durch die eheiaisch aktive Strahlung angeregt und initiiert seinerseits die Polviserisation. Man nlstat an» daS der Beaktionsaechajulsaius in ä&v Weise abläuft» daß tlex- SöiislblliBatöit^s dui?ah Δ1© oheiaisoh aktive Strahlung odor ύίπ'-ßh abB^^eiö^fee Siiu^Is la ivQhi

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BAD ORIGINAL

worauf diese die Vernetzung des Vorpolymerieafee initiieren und dieses derait unlöslich reichen.

DIo Zugabe des Senaibillsafrttw zu den All,YlvarpolyiDorlea« ten steigert deren AktivitHt gegenüber chemisoh aktiven Strahlungen um ά&η 100- bis 200«faohe. B$:l dor Belichtung polymeriuiereii die Filing genügend- schnell... so daß sie bei herkumiflllohon PlafcfcenliüirßtöllungeverfaJirön vertfeüdet werden können.

AHylÄöter» die 2 oder !r*ehr imgesättigfce uiuppen enthalten« wie beiepielew@iu@ die Manocster ungesättigter sauren, sowie Allylester aliptatlsoher oSei⁹ aromatiüoher Carboneäuren^ die'2 ©^®^ «saw Allyl gruppen .beei teen, können in hitxehärtbare fcra© üii^ewandelt werden, die ®in© gute Lösungsmlttelteetitiii^isit« Z&i^keit, HMrte und eine auageseiohnet© DiE»!ssi@KSS8tebilitK b@aitsen# tion dieser Estsr !«!Μ in S%uf@si erfolgen.

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SAD 0RK3INAL

gehorteten. Irreversiblen, unlöoliohen und unsohaelzbaren festen Stoffes beendet.

Beispiele für geeignete Vorpolywerlsate aindt

a) Allylester ungesättigter einbasischer Säuren, die den

allgeeeinen Formeln °_τ^2η·Ί^{ίΰ0ΰίι odep} "Αη-ΐΛ"⁰⁰® ^βη*" sprechen» wie beispielsweise Allylacrylat, Allylchloraorylat, Allyleethaoryljat, AlIyJ oroton«t, ZiciksKureallyleeter, Clnnamalessigelfureailylester, Brenzsohlelms&ureallylester und Allylfurulylaorylat. Ea 1st darauf hinzuweisen, daß In den angegebene Formeln Jeweils R eine Ally !gruppe, η eine g&iise Sshi von 1 bis ©iQsehll®i31ieh 17k $ 1 oder 2 und X ein Halogeimtom* eine Hsrdro^l·», Phenyl«« substituierte Phenyl- ®umr Furfurylgruppe oder ein® hll&l- oder Alkoxy« gruppe alt l*t Kohlenstoffatomen bedeuten.

b) Gopolyiaerisate von Allylester ungesättigter einbasischer Säuren* wie bsispielsifeise Allylmethae^Iat salt Butadien^ Ailylwethacrjrlat mit Methylaettiaorylat« Allyliaethaorylat mit Styrol, Allylm@thaorylat nsit ¥iisyiiSenehlorid_f Allyl» orotonat Bit MethylTOthacrylat, AIlylcrotosmt alt Styrol, Allylorotonat mit Vinylchlorid« Ailylerotonat mit Vinyl« acetat, Allylorotonat alt Vinylideasfolfögldj Allylorotonat iBit DKthylenglyk^lGmleat, Zletea%ir@allylest®r mit Vinylidenchlorid, ZiatsSureallylester »it Styrol« ZlatsKureallylester mit den Sster aus BsfnsteinsKure und SSiütalkohol, Brens«

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BAD ORIGiNAt

schleinsttureallylester mit Styrol und BranzuohlelrasMuraallylester »it Vinylidenchlorid,

c) Allylester aliphatiacher Carbonsäuren mit 2 oder mehr iUlyi&t'uppan, die einer ά&ν naohstehend angegebenen Voramln entspreohon*

, „(COOH),

Diallyloxalat, Diallylsaaloimt, Diallylaebecat, Diallyliaaloat, DialIyIi'umarat, Diallylitaconat, DIallylfcartrat, üiallylüarbouat, ülallyladipat, Trlallyloitrat, Trlallyloarballylat, Dialiylaalat und ßlallyl oitracon&t.

d) CopolyiMrlsate von Allyle«tem aliphatlaoher CarbonoMurenmit 2 oder mohr Allylgruppen, wie belspielaweiee Diallyloxalat mit Vinyllilenohlorld, Diallyloxalat sit Styrol, Dlallylealonat alt Vinylidenchlorid, l>iallylauooinat ait Vinylacetat, Diallyleuocinat »ifc Vinylidenchlorid, Diallylauooinat alt Polyvinylacetat, Diallyladipat mit Vinylictenohlorid, Biallylsebaoat alt Vinylidenohlorld, mallylioale«t Hethylöethivorylat, Diallyliaaleat mit Styrol« Diallylmit Vinylidenchlorid,und DlaLlylcarbonat islt Methyl-

mit

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BAD

i' * s J-'

Allylgruppen, wobei dor aromatische Ring der Säure ein einfacher Ring sein kann, beispielsweise Phenyl oder Cyanurat, oder aus einem koitdansierfcnn Hing bestehen iccim, wie beispialswaiee Haphthyl oder Phenanthrylj Beispiele fUr zur Herstellung der gtmüiasohten Vorpolymorieafce geeignet· Beter sinaj Diallylisophthalat, D iriallylayamsrat, Hallitheäui*©triallyl*»ater» aiiuretetraallylester o.dgl,.

f) Copolymer Lao,tu arostatlBeher Carbonsäuren, die 2 Allylgruppen besifcjssn, lai'c anderen ungesättigten Verbindungen* wie aie unter b) und d) bei der Aufzählung der Allylester aufgeführt wurden.

Ale "Vorpolyaerisat" wird dta lösliche und sohnelzbare Produkt der ersten Polyroerisationssfcufe bezeichnet, welche a bei weiteren Ternatzungasohritten ein unluslichee und un« sohioelsbares Endpolyoerisafc ergibt* Bei der Herstellung derartleer Vorpolyuerlsat· werden die aonoperon Materialien auf herkömmlich· Meise unter Qcwinnung einer Löaurig ·1ΐι·8 lösllchtn PolymtriBafcs in dea Monom*reit polymerisiert, und zwar bis au eines Punkt kurz vor der Oelblldusg, die dann auftritt, wenn das Flolakulargewichb des Pol^iserisats den Punkt erreloht* bei walehsai ®a in ü&m hiommrmn utiluslioh 1st. Dlaa® Polf/msrlsatlüsiiaigen $iop83^H> weKisii dann In ©ine IMamiQßmi tWL ISslloha Vorpoiymisrißatfi'aktipn und äas rBiait* Ms3 lttinn diüpch Bshantllung 90985-0/11 69

BAD ORIGINAL?^-"""^: - ^f'

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!•ueongsaittel erfolgen« tolanes das Konomere löst und
das Polywerisafc auaflUlt* .oder dureh Aawettdung anderer
Haflnahaen, dureh die ein l&slichea Vorpolynisriiafc gewonnen wird, welches im wsiwnVlleihen frei ·?<:η tUnomsvum let. Ein typisches Verfahren ?mp. Abtreimung ätrartiger Polyaerlsate wird In der US-Patontsahrift ? 0^0 34l tjesohrleben. Diese Yorpolyatrioat« aind feste Stoffe, die wenig oder keine Honomtren enthalten! sie können in dieser Form beliebig lange gelagert werden» da Katalysatoren und entweder Wäret® oder ohenisofc aktives Licht
sie in ü±® \ml%$lldw ftora

la SwMneiähuQg mit Scan IMutertt

libepsogene

I>ie Figur« dargestell Stufen

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durch di® in-Figur 2.

Allylestern

whü äem Allyl@ster»

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@ia» Carbon«

BAD QRK3JNAL

-Xg-

säuren oder aromatischer Säuren« die 2 oder mehr Allylgruppen besitzen« können durch gesteuerte partielle Polymerisation des monomeren Allylesters hergestellt werden. Beispielsweise wird das flüssige Monomere in das Vorpolymerieat durch Erhitzen in einem geeigneten lösungsmittel in Gegenwart eines Peroxydkatalysators hergestellt« wobei die Polymerisation nicht bis zur Beendigung durchgeführt wird.

Die Polymerisation sollte dann abgestoppt werden« wenn praktisch die ganze Änderung des spezifischen Gewichtes stattgefunden hat, vorzugsweise bei einer Jodzahl von 56 bis 64. Die Reaktion wird an diesem Punkt durch Abkühlung und Zugabo eines Inhibitors abgestoppt. Das Vorpolynterlsat wird dann aus dem Lösungsmittel abgetrennt« gewaschen und getrocknet. Dabei wird ein weißes Pulver erhalten« welches bei der Lösung in einem geeigneten Lösungsmittel, wie bei» spielsweise einem Keton« eine Wasserballe Lösung ergibt.

Die lichtempfindliche Harzmasse kann als feste Stoff mischung vorliegen« z.B. in Form eines getrockneten Oberzugs« oder als Lösung der Materialien In einem geeigneten organischen Lösungsmittel oder in einer Lösungsmlttelmisohung. Zu guten Lösungsmitteln für die Vorpolymerisate sind folgende Verbindungen zu zählent

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1. EStOr₁. wie beispielsweise Isobutylacetat, Butyl«·"oarbitol"· aoetat, Allylacetat, Bufcyl«-"<!ellosQlve^M~aeetat, Äthylacstit und Methyl-"oellosolve^ll-acefcat■.../.

2. Katone, wie beispielsweise Acetophenon» Diacetonalkohol, Diisobutylketon, Methylisobutylketon und Isophoron.

3. Ölykoläther« wie beispielsweise Äthyienglykoiinethyläther, Diäthylenglylcolmethyläther und Propylenglykolsaethylather.

4. Chloriarte Löisungsmittel, arl« 'beispielsweise 1,1,X-Tri-* chlorüthan, TrichlorKthylan und Methylenchlorid. .

Das beschrieben· Vorpolyiaerieatharz hat di« eelt«n· Eigenschaft, daß sein· Polymerisation zu «!ήθη beetinettn Zeitpunkt abgestoppt werden kannj außerdem kann es in fester Pore auagefÄllt »rerden, bei Zin»»rtet«peratür gelagert werden und gewünschtenfeile anschließend unter Eineatz von Peroxyden undAnwendung von Wärm· und Druck oder erflndungsgemäß durch chemisch aktive Strahlung in einen unschmelzbaren festen Stoff urogQwandelt werden.

Das erhaltene Vorpolymarisat besitzt fUmbildende Eigenschaften, sine ausgeseicimste Chorals ehe Widerstandsfähigkeit sowohl gegen Säuren als auöh gagön Alkalien SöMle eine aus=

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BAD ORIGINÄR :,:!;, 3'S

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gezeichnete PeuehtigkeitsbestUndigkäit; ferner zeigt es bei der weiteren Vernetzung unter der Einwirkung eines oheadBch aktiven Lichtes eine sehr geringe Schrumpfung. Daher 1st es ein Ideales Material zur Verwendung als Reservierungsmittel bei der Herstellung gedruckter Schaltbretter sowie Halbleiterelemente} außerdem eignet es sich zur chemischen MikrofrHaung sowie zur Herstellung vorsensibillslerter Druckplatten. Die Lösung aus dent AlIyIvorpolymerisat und einem Lösungsmittel ergibt nach der Trocknung einen nioht-kl«brlg«n Pil«, der während der Bestrahlung für tinea innigen Kontakt alt photographischen Ma: Man geeignet ist« Die Masken kleben nicht an dem getrockneten Überzug an.

Durch Vorschrumpfen der Polymerlsatmaase vor der Verwendung ist e* müglioh, bei gedruckten Schaltungen, cheaiechen Frleverfahren o,dgl, Details gröfleneMflig gonau wiederzugeben, da wtfhrend der weiteren Vernetzung des Allylestervorpolywrisats bei der Bestrahlung mit chemisch aktivem Lieht eine minimale Schrumpfung auftritt« Dies 1st deshalb der Fall, da die Allyleetervorpolyawrtsate vorher bis am de« Punkt verarbeitet wurden, bei welche» praktisch die ganze Xnderung des spezifischen Gewichtes stattgefunden hat« so daß sichergestellt ist, daß bei der Bestrahlung mit cheailsch aktivem Licht nur eine aohr geringe Schrumpfung 'd, Dias beflsufcet, dafl bei ins Detail gehenden Fein-

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BAD ORIGINAL

Arbeiten die Sohrunpfung in de» photographischen Negativ nicht kompensiert werden muQ.

Bin weiterer Vorteil liegt in der Tatsache_t daa das Vor'»" polymerisat zusammen odt den Sensibilisatoren lange vor der Bestrahlung aufgelöst tferden 'kann und dennoch eine ausgezeichnete Stabilität und eine Jenge LageruugsfHhigkeit besitzt.

Die AHylestervorpolyraerlsate ungesättigter einbasischer Säuren und die Allyleetervorpolymerlsate aliphatiacher und aromatischer Polycarbonsäuren mit 2 oder mehr WIy !gruppen neigen dazu, sich bei einer mehrmonatigen Lagerung bei Umgebung«temperatur in getroaknetem Zustand weiter zu vernetzen. Diese weitere Vernetzung ändert die Löslichkeite« eigenschaften des Vorpolynerlsats, indem die VorpolyraerieatviakoeitHt in einem Lusungsmlttel, wie beispielsweise Hethyllsoaaiylketon, bis zu den Unlüsllohkeitspunkt erhöht wird. Beispielsweise iat ein frisch hergestelltes Vorpoly« aerisat aus Diallylroslonat mit einer Jodzahl von 56 bis 64 in Xylol löslich. Bei der Lagerung in trockenem Zustand bei Umgebungstemperatur in Abwesenheit von Luft tritt bis zu einer Zeltspanne von 6 Monaten keine n&rkllohe Änderung der Löslichkeit auf. Wird das Vorpolymerisat jedoch der Luft ausgesetzt, wobei die !Temperatur oberhalb 29^CC (85⁰F) gehalten wird, dann erreicht das Vorpolyraerisat den Punkt,

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BAD ORJGIMAL

an de« es weder in Methyiisoaagriketon noch in einem stärkeren Lusungsioittei, trie beispielsweise MothylKthylketc,., löslich ist.

Wird das frisch hergestellte Vorpolyinerisat zuerst in Methylieoasglketon* Xylol oder eines) anderen geeigneten Lösungsmittel zusammen mit dea Sensibilisator gelöst« dann wird die Khderung des Vorpolyaerlsats aufgehalten· was eine sehr lange £agerungsf£Ehigkeit zur Folge hat.

Wie oben bereits ausgeführt, hingt die Konzentration des Sensibilisator« von de« Vorpolyeerieat ab, d.h. von dessen B«pf£ndliohkeit. In Falle des Ällylisophthalatvorpolyascii« sats können ungefähr 1 bis 20 Oew.£, vorzugsweise 1,5 Oew.fi, eines Sensibilisator wie ^Hethyl-2-beiizoyleethylenbenzothiasolin verwendet werden. Ein ähnliches Verhältnis hat sich bei aliphatischen Vorpolvnerisaten, wie beispielsweise Biallylaalonat, als geeignet erwiesen. Soweit bekannt ist, verläuft der SensibilisierungsaeohanlsMus in den aroaatisohen und aliphatischen Vorpolyaserisatsyste» auf Ähnliche Welse. Der Sensibilisator wird durch eine chemisch aktive Strahlung angeregt und beschleunigt seinerseits die Polymerisation. Dies ist deshalb der fall, da der Sensibilisator durch die chemisch aktive Strahlung oder durch ab~ sortierte Energie in freie Radikale disosilert. Die freien Radikale Initiieren die Polymerisation des VorpolyaerieatBo

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Die folgend®» Beispiele erläutern die Erfindung, ohne sie zu öeseorttateen·

Eine fcypisehö Reeervleruii^Kittelforimilienu^« die zur Herstellung von Belief bilden^ auf Kupfer~ oder Druckplatten geeignet 1st* wird wie folgt hergestellt:

Älljlaetimui7latvorpol>'3a©rle*t 1,5 g Hethylisolxitylketon 2„§ g G«illö»olv*ai3etat S,5 6

Benzil 0,05 β

0»01 g

Die Katerialtsft tmrdeii tmter leiohteai W&roeeinfluß bi« sup Auflösung vereisoht. Di* Lösung wixHl dann filtriert und ist *ßßohli*ö«nd sur Yenfendung bereit. Bei der E»r« stellung dieser jdK»toeapfindlioiien Reservierungsmasse lot es vorxuaiei»n_# Hethyloelloeolveac«tat als Entwickler su verwenden» obwohl Ketone, wie beisplelsweiee Hathyläthjplketon, oder onlorierte I^Ssungsadttel» trie belspielsweiae Triohloräthylen» «benfalle einseset^t werden können.

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- as -

sines ¥-cri>oly.aöri,v'r^F--, aus ©ine® Copolymesleafc eines «rintv uaeMll&fcigten Säure, wie beispielsweise AllylwethAcrylafcj »it ätyrcl, Mird in einer Hisohung

unter lßlahfc*is h^aimzn ma Mkomn gelöst

0,4i a Ben2o£nae&ti3flather di^icfc der HarslSsung

sind Ms ^u-r Auflösung sit dieser v«r»leoht. Nach dea ΪΙϋ^ΐΦϊ^α iat die Maaaa fertig sur Anwendung»

Be3.gpft.ei

Xy5 &	ÖI.ÄlLXyl.suGöijMit-ArorpolyHÄr'iSÄt	mall,l»l„t-Vorpoly«ri,at
5.0 at	iiettiirÜeoAfiQfUceton	M»thylisofteylk«ton
0*04 ι	I Plpwonal	4,%i-Bia(diieethyl»aino)b«n»oph«Ron
0«0S g 4,%'-Bifis(c!lBMsfehylaeino}b«Jiizophenon
1*5 β	Vorpolyaaerieat eines Copoiypwrieate
5*0 g	Mftleat »it liet&ylBÄÖiaorylAt
0,2 S	C*}loeclreaoetÄt
Beispiel 5
1*5 g
5.0g
0,02 ι

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BAD ORIGINAL :ί'

154 784 S

> 19 -

Belapifl 6

!.*§ g Torpolyaexdsat "aus«ines CJ©p©lya»a?i»at «us BftrnetelaeÄurealI_tTl«eter alt

S₃O g Metisylisoöatyllcetoh

2,0 g Xylol

1*0 g CellOBOl'/dftce tat

Die MRterialien werden unter l^i^tit^ lfl3t<sMM»5.&f3.«S vermischt, bis «lies gelüst iföfc. IML^ i^mwwf w,lrd ßitnn filtriert, worauf sie für elaie-ymmidttiiB tw@i& ist* Bei dl·« ser lichtwcpf!Etlichen Reserviezin^ewuM« ifird voFXutgeweiee Xylol als Bntwiekl^r verwenöefe, ©laföhl Keto»·« wie beispielsweise Methyl ätbylkefcon* oder cMori erfce Löeujageaitttl, wie beispielsweise TrichXorEfchylen, ebenfalls eln- gesetst worden Wkmm,

Beispiel 8

2,* g eines Vorpolyeerisata aus eines Axiallyleeter, wie beispielsweise Diallylieophthalat, deeaen Herstellung nfechstehend noch besehrieben wird» werden in einer Mischung aus 5* Og Methylisobutylkefcon und 5»0 g; Cellosolveaoetat unter

BAOORKSIhJAt

- 80 -

leichte« Srw&raen und Rühren gelöst. Dann werden 0«10 g Benzil und 0,01 g ρ,ρ'-dntafchylaminobensopherton direkt zu der Harzlösung gageben und Ms zur AuflOeung mit dieser verwischt. Nach der Plltrierung ist die Masse sur Anwendung bereit.

Ba sind keine besonderen MaSnahnen zur Auflösung der Materialien erforderlich! nach des Filtrieren der erhaltenen Lösung ist diese zur Anwendung bereit.

Beispiel 9

1,5 g Blallyliacphthalat-Vorpalyeeriaat 5,0 g Methylisobuty!keton

0,01 g 4,4^t»Bls(die»th7laa)ino)benzophenon

Beispiel 10

1,5 S TriaelllthsSiiretriallirlester-Vorpolyaerieet 5,0 g Cellosolveaoetat 0,01 g 4,4ⁱ

Beispiel 11 1,3 g 2,5 g Xylol 2,5 g Isopropylaoetat 0,01 4,#^t-Bis(dieethylaiiino)ben«>phenon

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BAD ORiOJNAl

-Sl-

I>ie Aryialljl-VotTpolyawrtamtö sind in der Photoreservie» rvmgS5sa5S« austauschbar und können duroh dieselben Initiatoren soasibilieiart werden. Bei den nachstehenden Beispielen wenden versohiedene Sensibilisatoren susaoaen mit

verwendetί die angegebenen Sensibillaasind Jedoch nicht auf die Vorpolymerisate aus Diallyl«

BeisDiel	12
1*5	S Iiallj
	S Hethyl
2,5	S Toluol
0,2	g Beniil
Bei»Di*l

1»5

8*5 β foluol 0,25 «

Beispiel lh

1*5 8 M*llflieophthalali-V©rfiol3reerieatJ 5.0 g

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s.-i,-

BAD ORIGINAL

1*5 i 2#© g 3#0 g BAaeefeaatlfeutol 0*2 g

2,0 £ 1*0 S

13 β

f «ο β 1,0 g 0,09 8 2-Keto»>»»th3rl~l_s>-dla«ib«nzftnfchroii

1,0 g C«llo#0Xv*ft<s*fc*t

909850/1 BAD ORIGINAL

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Das Verfahren zur PrMparierung einer Trägerplatte mit einer photopolyaerisierbaren überzugsmasse besteht aus folgenden Stufen:

Bas liohteepflndliohe Material wird auf die dureh Eintauchen, Aufsprühe«« überziehen mittels Halsen oder Kittels anderer her&cun»liefä®r Iforrlehtungen vorgenommen. Die nasse» Überzogene Platte wird ß^öhnUch sur Erzielung einer gleichraäSigen Filedieke ablaufen gelassen ©der geschleudert. Nach des Trocknen feai Slweerfetepei'atus· oder leic-nt eriiötiter Temperatur bei gedüopften Licht trlrd die Platte In innigen Kontakt alt einem piiotosraphischen Negativ gebracht und eine« chenissh aktiven Meist Ausgesetzt. Geeignet» Lichtquellen sind QueckelXberöanpflatapen KohleliGhtbogen alt hoher Intensität, Die schwanken von de« Bruehtail visier 'mnut· ^ie su einigen Minuten bei einer Entfernung von 60 bs». ^O ,m (2 bzw. 5 feet). Das chealsch aktive Licht poIjrMerisi«rt dan getrooknsten überzug und «acht ihn daait in bestiaeiten organisehen ■itteln unlöslich„ Die bestrahlte Platt« wird dann durch weniger als eine Minute dauerndes Blntauchen bei Ziwr»rte«- peratur in ein organisches Lusungsttittel« wl« beispielsweise Jtyiol oder 1,1^1-TriohlorXthaß, entwickelt. Bein Eintauchen löst das organlache LÖaungsaittal die nicht belichteten Steilen des Oberzugs» während die belichteten Stellen unversehrt auf der Tragerplatte zurückbleiben. Das transparente Bild des photographischen Negative wird auf diese Welse exakt als Reservebild aus der Trägerplatte re-

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- 2% produsiert.

Nach der Entwicklung kann das Reservebild, welches normalerweise transparent und farblos ist und daher schwierig zu erkennen ist, durch weniger als eine Minute andauerndes Eintauchen In ein Färbebad, welches einen synthetischen Farbstoff in einem verträglichen organieohen Lösungsmittel enthalt, gefärbt »erden· SohlIeBIioh wird die Platte unter fließende« Wasser gewaschen und getrocknet.

Sollen die nicht durch das Reeervehild geschützten MetallgrundflMehen ge&tst werden, dann wird die Platte in ein geeignetes saures oder alkalisches ftediu« eingetaucht. Eleen(III)-ohlorid und iUMonlUfipereulfat sind übliche Stsungs*· ■dttel für Kupfer; AluHiniuw wird sowohl Kittels Matriusahydroxyd als auch in verdünnter SalseKure auf «lektrolytisch·» Wege geätzt * Bei anderen Verfahren dient das Heserrebiid ale Zwischenstufe für Blektroplattierungevorgaxige sowie für Verdatnpfungs-Pllmbildungsvsrfahreni es kann ferner als opaker FiIa für Bilder aus transparenten Objekten als Kenn« seiohnung verwendet «erden oder sur Erzielung von dekorativen Wirkungen dienen. Beim Photofrlleen, welches ein relativ neues Verfahren £ur Herstellung kleiner exakter Metallteile at» dünnen Metallfolien darstellt, wird asm Beservebild auf beide Seiten der Folie in genau ebereinstlKnender Bast-Stellung Aufgebracht« Das Metalllttsungsmittel wird dann auf beide Seiten sur Bntfernong von unerwünschte« Metall ein« wlrtcn .*«.«,. _909850/1169

BADORIÖINAL

Dl· beigefügtenZeichnungen erläutern dl· Verwendung der beschriebenen lichtempfindlichen Reeervlerunganasse . bei einen Verfahren sur Herstellung gedruekter Schalttafeln. Die Figur 1 sslgt eine Tafel 11, die eine Deckschicht 12 ■it einer Dloice von 0,055 Mi (0,001* inen) aus Kupfer besitzt, die auf eine Grundplatte aus einer pbenolisohen Masse BdLt einer Dicke von 1,5 »α (0,060 inch)» so wie sie gewöhnlich bei der Herstellung von gedruokten Schaltungen verwendet wird» aufgeschichtet ist. Die Tafel 11 sollte mit einen abreibend wirkenden Reinigungsmittel gesKubert und getrocknet werden»

Die Figur 2 1st ein Querschnitt durch die Tafel 11, naohden die beschriebene lichtempfindlich* Iteservienuigsaasse auf die Oberfläche der Kupfer«οnicht 12 unter Bildung der Schicht 14 aufgetragen wurde. Die Auftragung erfolgte durch übergießen, wobei überschüssige Mengen an Reservierungealttel durch einige Minuten dauernde» vertikale« Halten der Tafel abflieeen gelassen werden. Der überzug wird dann duroh 10 Minuten dauerndes einbringen der Tafel 11 in einen Ofen Ht einer Temperatur von ungefaar 50*C (125*») getrooknet. Maoh der Intfemunc aus den Ofen 1st der übersug glatt, gltnsend und hart.

Die Figur 3 »eigt, wie eine Maske 15» die ein pbotographisohes **gativ einer elektrlseben Sohalfamg «ein kann, auf die liohtespflndliahe3ohieht 1% aufgslegt ist. Die Konbinatlon

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BAD kC ^:D

wird dann in den Vakuumrahioen einer Druckmaschine eingelegt und eine bis drei Hinuten lang Bit einer stark intensiven Ifahlelichtbogenstrahlung aus einer Entfernung von 60 οία bestrahlt« so wie dies durch die Pfeile 21 vor* ansohaulioht wird. Ein Lioht nit 3200 - 4000 Angströneinheiten ist sehr zufriedenstellen. Nach der Bestrahlung wird die Tafel entfernt und der Überzug durch 30 Sekunden dauernde vertikale Einbringung in einen Tank mit Methyl» Kthy!keton enttriokelt. Die Tafel wird dann herausgenommen und 30 Sekunden lang in einen streiten Tank eingetaucht· der eine Farbstofflösung in einen organischen Lösungsmittel enthält» uaj das normalerweise transparente Reservebild sichtbar zu machen·

Di» Figur 4 zeigt die Tafel nach der Spülung in Hasser zur Entfernung von anhaftender ReservemlttellBsung und Uberaohüselge« Farbstoff sowie nach der abeohlieSenden Trocknung durch leichte SrwÄrsMßg.

Die Tafel ist in diese· Zustand zum Xtsen bereit} auf ihrer Kupferoberfllohe ist das Bild der elektrischen Schaltung, welohes aus eine· File aus «ins« trookenen, harten und polyaerlslerten Beservieruncswittel besteht. We nloht duroli das Reservebild b^eokte Oberf lloh· besteht aus blanke· Kupfer.

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BAD ORIGINAL

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Die Figur 5 selgt die Tafel nach der Entfernung des blanken Kupfers durch ein geeignetes saures Ktzsiittel. Die Tafel kann in eine Sprüh-Kfczündvorrichtung» wie sie norM&lerwelae in der Industrie verwendet wird» die eine !lösung aus Bl8en(III)-ohlorid auf der Oberfläche versprüht» eingebracht werden. Die Bisen (III )~cklorld-Kon2enfc rat ion, ncraalerweise durch das spezifische 0ewloht wiedergegeben« kann 38* Baume betragen. Binnen einiger Minuten wird das nioht-gesQhtttzte Kupfer auf der Tafeloberfl&she vollständig weggeltst· Die Tafel wird dann entfernt.und gründlich sur Entfernung von Spuren KIa«n(lII )~ühlori.<i gewaschen und ansohlleSend getrooknet·

Die Figur 6 zeigt die Platte nach der Eintauchung in ein Lösungsmittel, wie beispielsweise trichlorethylen oder HethylKthylketoji, um das Reserveblld aufsuweiohen« welehes duroh Behandlung mit eine» wilden« abreibend wirkenden Reinigungsmittel entfernt werden kann* wobei dia elektrische Schaltung aus Kupfer surüokbleibt· Das fertiggestellte Schaltbrett kamt in heiSen Hasser gespult und getrocknet werden« " ■ . ■ .-■-■:

Vorstehend wurde also geseigt, wie bestitnate Massen« welche ITorpol^eerisate von Ally !estern ungesilttigter einbasischer SKiiren, Vorpolyaerisate von Copolyaeriemten aus Allylestern ungesättigter 'einbasischer Säuren, Yorpolynerisate von Allylester^ aliphatleeher CarbonaSuren und

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• BAD ORIGINAL

aroaatleoher Carbonsäuren nit 2 oder mehr Allylgruppen und Yorpolytaerisate von Copolynsriaaten aus Allylester» allphatischer und aromatischer Carbonsäuren mit 2 oder csehr Allylgruppen, darstellen und bestirntste SensibilisieruitgS" ■ittelp die dl« Idohtenpfindllohkeit dieser Terbindungsklasse steigern, bei der Herstellung gedruckter Schalttafeln verwendet werden können.

Die beschriebene Photoreservlerungsaiasse ist ferner fUr die Herstellung von Offset-Bmokplattesi geeignet, wobei sie viele Vorteile gegenüber den derzeit verwendeten diasosenaibilisierten Platten« die gegen Luftfeuchtigkeit espfindlioh sind und einen unteren übersug auf dem Hetallsubstrat erfordern* um das Metall an einer Umsetzung alt den Diazolüateriftl und der damit, verbundenen Härtung au hindern» durch welche die Bignung zum Druoken verloren geht» bietet« Zusätzlich haftet den Diaso->!4aterialien der Nachteil ar.. das «ü.t ihnen weniger lang gedruckt werden kann? außerdem erfordern sie naoh der Entwicklung die Aufbringung «irma geeigneten (fbersugs« vm !unsere Pruokzeiten asu emugliohen.

Die erfindungsgemiiee Photoreservierungsmasse wird nicht duroh Hetallsubetrate beeinflußt, sogar nicht» wenn diese aus Aluniniuas bestehen. Daher 1st bei der Herstellung von Druckplatten kein unterer übersug erforderlich. Zustellen werden ex&rse lange Druckseiten erwöglicht, ohne daß dabei eise spezielle Behandlung naoh der Entwicklung erforderlieh

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BAD "

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• 89--

•wKre.

IMLe Herstellung mn Eteuofcplatten erfolgt derart, dad das entfettete MetaXlftleen alt der erfiiidungeeea&een Photo« resei^ierußgitraiitesii ügiersogin* gatroelmet und» s&t einer geeigneten Maske oder eine« negativ versehen, einer aktiven Stranlusig «lasgesetsit wird» worauf di® Entwicklung duroh Bintauelien in ein geeiertes ItSsungsnittel erfolgt; ansohüeeenä an die Erjtwiöiatuig wird ;ndt Wasser gesptSXt und setrocikiset« Dann wird sife einem Tiseh eine veMtinnte PhosphoreJfox^iösüßg jusf äi« Ouerflissbe aufgetragen, vm die exponiert· ^li£Biniuaotserfigotse wasserec^pf äiigllob tu «sushen· Die Fhotoreeesiri®r%in^aft88» sohütst das von ihr Metall vor der

Ifilivend des Druok»na niswt das fntili^tnd» AliaB£niua Wasser auf, wfihrenä di® erfindungs@eiiiie Hasse« di« infolge ihrer Eiohtpoiaritltfc aufnah«»fä1iis für finten isst« fints aufniant. Bl# starke Hafttme der

an des ilet@llsul»itrat und di© halm d«r FholmresvrvierunsesAee« eine langt KnsulaSauer. Kaelietehsitä HiTa di·

i unter Verwendung de?

g& p ü&saen antmnd ναα Sei-

splelen

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Druckplatten Beispiel 19

Eine typische Foraulleruxig für «ine photcaanaibilieierte üuerzugslusimg* dl· *ur Herstellung von Druckplatten verwendet wird» lat wie folgt?

12 g BlallylisophtMlat-yorpolynierlsat (Dapon H) 55 g Xylol 33 g Pentagon 0»! β Benxll 0,1 g metOer¹· 0,4 g

Da· Vorpolywsrieat wird In deM Xylol gelöst und die Lösung zur Batfernung uniSsllolisr Fraktionen durch Filtration oder Z«ntrlfugl®re& gereinigt» Die PhotoeeneiMI,!-

Beasil, monier'·: Keton ws& Xanthon- werden in PentozoK @el(8st und gründlich Kit ύ»ν Polyserieftt-1 liming versleoht. Sie Qbersugail^tins 1st dsan fUr die Verwendung bereit.

Diese tusung wird «ittele eines

fahren zur Irseugung eine« einfeeitliehen ubtrsuge· «it einer Stirb» von 2_g$K p. (l eil) auf ein aufgetragen. Naoh der yerdaapfusag eines Teil« des Löeungs-•Ittel« wird die Platte 5 Kiimten lang auf $0*C (185*F) erhltst, UBi den gröeten fell des restliehen Losungsaittels

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BAD

zu entfernen* Mach den Abkühlen liegt der liohtenpfindllohe Überzug als farbloser» trockener FlIn auf der Metall« oberfläche vor.

BjLe Überzogene Platte wird bei gedlErapfter Beleuchtung, so wie sie normalerweise bei der Plattenherstellung vorherrscht, bearbeitet.

Die Platte wird alt einer Negatlvwaske oder eine» trans« parenten Film bedeckt und sdttels eines Kohlellohtbogons· einer QueeksllberdaiapflaiRpe oder eimr anderen Quelle ultravlottenHöht«» bestrahlt. Naoh der Bestrahlung wird die Platte zur Entfernung des nicht gehlrteten Polymerisats eatMiakelt, indeai die Platte alt Xylol, 1,1,1-Trichlorethane Hethyltitbylket&n,. üfeicnloräthy len eder einer Mischung aimiieher Iiösungssdttei bedeckt wird. Die Kontakt seit rar de« Wegsptllen der fintwleklungeieeung alt Wasser betrügt ungeflter eine Minute. Das Bild, das sieh aus dea liehteehirteten Bars susasaiensetst, ist mt diese« Zeitpunkt slehtbas»· Sas gehirtete Polyaerisatbild ist hydrophob und ItSt Wasser abperlen, während die Metallplatte, von der das loaliohe liQht&Kftflndliebje Polymerisat entfernt wurde, Tollstfindig dureh Waeeer benetst ist. Mach der Spülung wird das über-SQhüssige Wasser entfernt und die Platte ansölilieSeiid sät einer herkOAalichen Öiaaai*rabioua;-Lö»ung und Verdünnter Phosp^orftiure bedeckt» Eine Entwioklungstinte auf öl tomate» die das gehärtete Polymerisat benetst oder su diesen, eine

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BAD

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Affinität besitzt, wird als nächstes Über die Platte gerieben» im das Bild für Korrekturen sichtbar »erden zu lassen. Eine saubore, scharfgezeichnete« sohaumfreie Platte, die bei einem Iithographi sehen Druckverfahren zur Herstellung einer Vielzahl von Drucken verwendet werden kann» 1st das Ergebnis*

Xn der beschriebenen Welse wurde ein® Platte aiit einem Bild hergestellt* das sich aus Linien, BalhttSnen und gitterartigen Tintenf liehen zueaswnsmefcate;? diese Platte wurde In einer lithographischen Of fs«t «»Presse verwendet. Nach 350 000 sotiarfenso klaren Drucken bestand die einsige fest» stellbare Abnützung darin» a&Q die Punktstruktur etwas abgewetzt war, wobei keine Aufrauhtmg oder Abblltterung der Blldstruktur festgestellt werden konnte.

Beispiel 20

Bin zweiter Plattantyp besteht aus einem "Sandwich" aus Aluminium* eine« "Substrat"-überzug» einem lichtempfindlichen Dl&zo-tlbsrsug sowie eine» Überzug aus einem liehterapfindli-

Nach der la der US«Patentschrift 2 714 066 bssohriebenen Welse wurde eine Grundplatte hergestellt« indem eine Alumisiiumplatte alt glatter Oberfläche alt einer TrinfttriiaaiphosphatljSsung behandelt wurde» die ansehlleSend mit verdünnter SKure neutralisiert waA mit wasser weggespült wurde.

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BAD

Platt« wurde dann mit einer wässrigen Natrlunaillkatlueung behandelt und erneut sauber gewaschan; anschließend erfolgte eine Überziehung mit einen anfangs wasserlöslichen liohteapfindllohen Biaso-(p^dlaisodlphe&ylaedn-försaaldehyd)-aara· Die Platte wurde dann »it der in Beispiel 19 beschriebenen in der dort angegebenen Welse übersoMohtet·

Sowohl die Allyl- als auoh die Diazo-tlberztlge sind lieht» empfindlioh. Naoh der Bestrahlung «it Lieht« wobei ein gitterartiges Negativ aufgelegt tdLrdj erhärten beide Schiebten. Die nloht-gemlü&ete Diasureerblndung bleibt wasserlöalloh. Zur Bntwloklung der belichteten Platte wird eine Emulsion der naohstehez^l angegebenen Zusaisanensetzung über die Platte gegossen und mittel« eines Soimmaamm Über ihrer Oberflieh« glatt gestrichen*

(Siedeberaioh ISO - 177*6 (250 - 5$ö*F), 23 K_eB. Ho· 00 - 90)

Vasser 75

Triton H~10© 3

Auf diese Weiäs g«n%t ee_e einige üimtten zu UBi die £ileht*ge&8rteten li@ht#a^findl£ohen Materialien xa

entfernen» H&olt einer kur^ir* Ifftsaerepfülin^ wird ein» aiag·« sitixerte QuMKli^iufig über der Platte yerstrlehen. Als nSenctes

wird Tinte aufgetragen» vm das Drußkbläd in Erssheiniang tre ten SUL lassen.

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■ ■ . . ■ *

BAD ORIGINAL· ν ν .-..-

GtemäS diese» Beispiel wird eine Entwicklung ermöglicht, die so einfach und auf herkSnaaiche Welse durchzuführen ist, wie jene, die für eine in norimler Weise vorsensibillsierte oder durch Wischen aufgetragene (wipe «on) Siasoplatte verwendet wird, nichtsdestoweniger «mist diese Platte alle Vorteile hinsichtlich chemischer MiderstAHdsfShlgkeit und Widerstand&fJBilgkelt gegen Abrieb auf, und »war deshalb, da ihre Oberflächenschicht &us eine» gehärteten Allyl-Vorpolyaerisat besteht. Obwohl der Slaxo-Obaraug dafür bekannt let, dad er bei» Lagern gegen waeserdaatpf eepfindlieh ist, besltst die neue Platte diesen Maehteil nioht, da Si« Diasosohioht gegen Feuo&Ugtotit duroh eine aus ein·« Allylübersug bestehende SohiGht gesohUtst ist.

Beispiel 21

Eine photosensiteLlielerts Bfallithsibiretnallylester-Vorpoljfnerisatlusung wurde in der in Beispiel 19 für Diallylisophthalat besQhriebentn Weis· hsTeeetellt. Äaoh <J*r Auftragung dieses ISbersugs auf ein Aluainiuniubstrat wurde dieses duroh «inen draukeil (step wsdgs) hindisroh bellehteti die belichtete Platte wurde naah ämr In Beispiel 19 beschriebenen Weis« eatwiok&lt und »it einer sohsfarseii tinte bestrichea. Bei einer 1 Minute äauemden Bestrahlung In einer PlattenherstellungsVorrichtung (Modell Mu-Aro FSlBh) wurd« «lsi·

(sensitivity guide nuebsr) ron 3 erhalten.

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BAD ORlGifiÄtT " :

gg

Dasselbe Verfahren wurde mittels eines Triallyicyanurat-Vorpatymerleats dureiigeftShrt. Die eenslMllsierte übersugslOsung wurde siaoh der in Beispiel 19 beschriebenen Arbeitsweise hergestellt. Öle Belichtung und Entwicklung der Platte sowie deren weitere Verarbeitung wurden wie in Beispiel 19

Bei einer Bestrahlung unter den in Beispiel S3, besohrlebenen Bedingungen wurde eine Emptindliohkeitsleltsahl von 11 erhalten« was darauf hindeutet« das dieser übersug etwas liohtes^fiiiälioher 1st als der in Beispiel 21 verwendete Ubersug.

Beispiel 23 Aue den naohstehend angegebenee Beetandteilen wurde eine .

photosensibillslerte forpoiyiwtrleatiasmne hergestelltt

12,0 g Diallf lterephthalat-Vorpolsmerisat *0»0 g 3CyIoI

12,0 g Pentoxon

O₉OS g 4_r%⁽-Bi8Cdi^ttirl««li»)bensoiilieBon

0,4 g Benxophenon

0,5 g Benail

Bas ßiallylterephthalat-Vorpolynexlsat wurde in Xylol und Pentoxon gelöst« worauf die Z«5eung «uroh einen Btichner-Triohter

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BADORtGINAt " """

alt einem Dioalit-PiltermediuK filtriert wurde, bis sie klar war.

Die Lösung wurde dann durch Zugabe von 4,4'-BIs(dii8ethylaiiiino)-bensophenon* Benzil und Benzophenon sensibilisiert. Sie wurde dann auf einem Aluminiumblech (152 χ 152 mm) vergossen, trocknen gelassen und dann 10 Hinuten in einem Ofen bei einer Temperatur von 45 ·» 45°C (liO - 115*F) getrocknet. Bei der J Hinuten dauernden Bestrahlung mit einer 400 Wafcfc-Queokailberdampflampe (0.B«₉ Typ H 400 ASA Code H-IIS) mit einen konischen Heflektor aus einer Entfernung von 45»7 Qm wurde ein zufriedenstellendes Bild erhalten.

Beispiel g4

Das Beispiel 23 wurde wiederholt« wobei anstelle des Diallylterephthalat-Vorpolyiaeri8&ts ein PyroMelllthsfiuretetraallylester-Vorpoljnseriaat verwendet wurde« Das Pyi'oaelllthetturetetraallylester-Vorpolyraerisat ergab In einer etwas schnelleren Zeit ein zufriedenstellendes Bild.

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Claims (1)

1. Patentansprüche

   1. Lichtempfindliche Masse, die *ur Herstellung von Heaerylerungsisitieiti und vorsexielbilisisrten lithographischen Druckplatten geeignet ist, gafeennseichnet durch λ) ein Vorpolyraerisat eines ungesättigten Carhonsäureesters ai t wenigstens 2 Kohlenstoff-Kohlanittoff-Doppelbinöungen, von denen eine loner durch eine Al Iy!estergruppe gestellt wird, wobei dieses Vorpolyaerieat ein bei Ui^gebtingsteiapera&ur feste», lÖ8ung8jsittell88liGhes Material ist und bei der weiteren Vernetsung unter der Einwirkung von oiieaiso» aktive» Lieht nur eine geringe Sctiruapfuiig erleidet» und b) ein SenslbliisierungsRlttel, welches nach der Absorption von oheniaoh aktiver Strahlung bei Zit»aertemperatur die Polymerisation-des vbrpolyearlsats beselileunigt.

   2· Masse nach Anspruch 1, dadurch geleannselohnet_r dad das Vorpolymeriaat aus der Healctionsikiechung, die durah Folyeeri» satlon des Kesioa&ran erhalten wird ₉ abgetrennt wurde·

   ?. Mrs«· sm&h Anspruch 1» dadurch gel&ennseiohiiet* dafi das Vorpolyaerisst aus der Ee&letioiisadLseliungasgetreniit wurde« die durch partielle Poifnerie&ijion des Hono»ereii_a aus das Voi*pol2nwri3at hergestalJILt wird» erhalten wird.

   4. !tasse nach Anspruch I₉ as&nvuh. getstimxeionnet* dafi das mm der RsaMiomraKLeohuns abgetrennt wurd·,

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   BAD ORIGINAL

   die durch Polymerisation des Monomeren» aus dem das Vorpolymerisat hergestellt wird, erhalten wird.

   5· Hasse nach Anspruch 1, dadurch gekeimz@iohnet» dad das ¥orpolymerlsat von praktisch den g&nseii Honetteren ab« getrennt wurde·

   6. Nasse naoh Anspruch 1» d&dtareh gekennselchnet, daS das _y Vorpolyaerisat aus der Beaktlons^sahuns aus^ifüllt wurde»

   die durch Polymerisation des Vfamxxmimn? au» dem das Vorpolynerlsat hergesteilt wird« erhalten

   7. Masse nach üssspruah 1« dadurch gekeanselohnet» d*3 das Vorpolyaerisat In weaentliohim frei von ftcmoüere« 1st

   3. Nasse aash Acspruah i» dadiarah ^lDfiimseielmct» daS das 3#neibllisienmgß«il.fct«l ai£@ BanmtxMthmtn» ' tuierten Beasopliesioaeii» Bis ehinoaen» Mhricssfii^iii Chine»·!*« niiai&migpi» Chlnomn, aro-■atlsehan a-BIkefconen, eul»titiiiertesä kxylm*btqf!«iwäloxy-

   8u!9etituier^si S-Ii&^äthoeelenasolizieiiji sithstl

   lißen» Anthrossssi» lensanttir<»nist gust AsatoensaathSOiten besteht.

   9· Nut· naeh Äaspnsöh I_fl daduroli g»lt»imselehß«it» daS da»

   aus

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   BAD ORIGINAL

   , 1,2-BensantforeahiQüa,

   iliKm* Bensil* Pip·* roriäl, 6

   Piperoin,

   1-Methyl-2-

   « Asthron, Bwu-2-7<-fi-Bens(de)-anlämioen-7«on oder

   10. Mt·*« moli Anepmoh I, «äsdureh gstonnMiotmet» das Yos^polyjeerleat «tie

   , ltellithe»ur«tnAllyl-

   oder

   XI· Hum· aaoh Aaepruoh l, dftdisroh gmictnnflohntt> 6*0 dhe «ι»

   12* Tojramsibllisiert« lithogrmpiiieels* Druckplatte,

   HvnDSvvwUnvv uU^vIl ^in ^K^wHXQBHbvva^II«β ^eBUB OBjL yBr i^WTlMUnyHJl·ΙιΐΒΊΚ

   «it einer iwsteOMiliohta lltbogti&plilsdiaen Plat««nitsl5eiine in der Lsee ist» Va^r i^etKÄaltna, und eine auf dii C!rundMit«Fiftl befindliche liohteapfindlieb· Nu«· Anspruch i.

   909850/1169 BAD ORIGINAi

   1>· Yoraenslbillsierte lithographische Druckplatte nach Anspruch 12, dadurch gekennseiohnet, daß das Vorpoly*erisat ▼on eine« Monoaeren wie Diallylieophthalat, Diellylterephthalat, Triallylcyanurat, Nellithsltaretrlallyleeter oder Pyrosttlllthsioiretetraallyleater abstaaat·

   14, Vörsensibilisierte lithographlsohe Druckplatt· nach Anspruch 12» dadurch gekennzeichnet, daS das Vörpolyserlsat von Dlallylieophthalat abataaet.

   15· Voreenaibilieierte lithographische Druckplatte naoh Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß das 8ensibilieierungssdttel aus einer Nlsohuns aus Bensll» Kiohler's Keton und Xantbon besteht und des Orundeaterial Alusdniun 1st.

   16. Vorseneibilisierte llthogrmphlsob· Druckplatte naoh Anspruch 12« dadurch gekennzeichnet, dafi eich swlsohsn der QrundsoMcht und der lichtempfindlichen Masse eine eeoaibilleierte Dlasosohloht befindet;·

   17· Terfahren xur Herstellung einer OffiMtt-Druokplatte, dadurch gekennzeichnet, dafi sine Orunddruokplatte ees)KB Anspruch 12 hergestellt wird» diese Platte duroh ein Negativ duroh eine sur Ihsfandlung des exponierten Teils des Filaes in den löeungaBittelunlöellohert Zustand erforderliche Zeltlang beilohtet wird« der Hl« alt eine« Lueungssdttel behandelt wird« «elohes den ungehärteten Teil des Pilaes entfernt, und die Platte «it einen Xtwdttel für llthographlsohe Plat-

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   BAD ORfQiNAL

   . ten und einer tinte zur Herstellung einer Druokplatte behandelt wird« die aus zum Drucken zur Verfügung stehenden Stellen aus ungelöstem Polymerisat und aus nicht zum

   ■ Drucken zur Verfugung stehenden Stellen aus der geätzten Grundplatte besteht*

   9098 50/ 1 169 BADORIGI.NAL

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