DE2123702C3 - Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes - Google Patents

Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes

Info

Publication number
DE2123702C3
DE2123702C3 DE2123702A DE2123702A DE2123702C3 DE 2123702 C3 DE2123702 C3 DE 2123702C3 DE 2123702 A DE2123702 A DE 2123702A DE 2123702 A DE2123702 A DE 2123702A DE 2123702 C3 DE2123702 C3 DE 2123702C3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
light
transfer material
sensitive
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE2123702A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2123702B2 (de
DE2123702A1 (de
Inventor
Helga 6202 Wiesbaden-Biebrich Sikora
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst AG filed Critical Hoechst AG
Priority to DE2123702A priority Critical patent/DE2123702C3/de
Priority to NLAANVRAGE7205946,A priority patent/NL173892C/xx
Priority to US251351A priority patent/US3884693A/en
Priority to IT50169/72A priority patent/IT965783B/it
Priority to AT410172A priority patent/AT320684B/de
Priority to ES402589A priority patent/ES402589A1/es
Priority to BE783297A priority patent/BE783297A/xx
Priority to AR241931A priority patent/AR192639A1/es
Priority to JP4685872A priority patent/JPS5640824B1/ja
Priority to GB2215372A priority patent/GB1388144A/en
Priority to DD163085A priority patent/DD99022A5/xx
Priority to ZA723244A priority patent/ZA723244B/xx
Priority to BR3016/72A priority patent/BR7203016D0/pt
Priority to AU42236/72A priority patent/AU468311B2/en
Priority to FR7216960A priority patent/FR2137799B1/fr
Priority to CA141,957A priority patent/CA1006741A/en
Publication of DE2123702A1 publication Critical patent/DE2123702A1/de
Publication of DE2123702B2 publication Critical patent/DE2123702B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2123702C3 publication Critical patent/DE2123702C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F3/00—Colour separation; Correction of tonal value
    • G03F3/10—Checking the colour or tonal value of separation negatives or positives
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/092—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes gemäß Oberbegriffdes Anspruchs 1.
Ein derartiges Verfahren ist z.B. aus der US-Patentschrift 34 69 982 bekannt. Es wird insbesondere für die Herstellung von Ätzschutzschichten für kopierte Schaltungen, Tieldruckformen oder zum Formteilätzen verwendet und hat für derartige Anwendungen erhebliche Vorteile gegenüber dem sonst üblichen Aufbringen der Photoresiststhicht aus einer Lösung oder Dispersion. Die Schichtübertragung erfolgt in der Weise, daß die freiliegende oder durch Abziehen einer gegebenenfalls vorhandenen Deckfolie freigelegte Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht unter Erwärmen und Druck auf die endgültige Unterlage laminiert und der temporäre Schichtträger, im allgemeinen eine transparente Kunststoffolie, nach dem Belichten von der lichtempfindlichen Schicht abgezogen wird.
Ein Nachteil dieses Schichtübertragungsverfahrens ist darin begründet, daß das Laminieren der lichtempfindlichen Schicht mit der zu ätzenden Unterlage unter Erwärmen erfolgen muß, um eine ausreichende Haftung zu erzielen. Damit später der temporäre Schichtträger von der lichtempfindlichen Schicht abgezogen werden kann, muß er stets weniger an der lichtempfindlichen Schicht haften als der endgültige Schichtträger. Da während des Laminierens die lichtempfindliche Schicht erweicht bzw. klebrig wird, kann auch ihre Haftung am temporären Schichtträger zunehmen, wodurch unter Umständen beim Abziehen die lichtempfindliche Schicht beschädigt werden kann.
Die Belichtung der Schicht erfolgt im allgemeinen durch die temporäre Schichtträgerfolie hindurch, ehe diese abgezogen wird. Daher tritt beim Kontaktkopieren ein erheblicher Verlust an Auflösungsvermögen auf, der durch den Abstand zwischen Vorlage und lichtempfindlicher Schicht bedingt ist w'enn m«n die Trägerfolie vor dem Belichten abzieht, wird zwar ein direkter Kontakt und damit die Voraussetzung für optimale Schärfe der Kopie erreicht. In diesem Fall verklebt jedoch sehr häufig die Vorlage mit der durch das Laminieren erweichten lichtempfindlichen Schicht und läßt sich nicht mehr sauber von dieser !rennen.
Ein ähnliches Verfahren wird in der DE-OS 20 46 115 beschrieben. Dort wird ein wasserdurchlässiger temporärer Schichtträger verwendet und zwischen temporärem Schichtträger und lichtempfindlicher Schicht eine dünne Trennschicht angebracht, die in Wasser oder der Entwickleriösung löslich ist. Die Übertiagung erfolgt in der Weise, daß nach dem Verbinden der lichtempfindlichen Schicht mit dem endgültigen Träger das Laminat mit Wasser oder Entwickler gewaschen und dadurch die Trennschicht aufgelöst und der temporäre Schichtträger entfernt wird. Bei diesem Verfahren wird aber der Vorteil der trockenen Übertragung wieder aufgegeben. Selbst wenn das Laminieren trocken, also unter Druck und Erwärmen erfolgt, verbleibt nach dem Ablösen des temporären Schichtträgers die freie, klebrige Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht, die zusätzlich durch das Auswaschen angequollen ist. Die oben geschilderten Probleme bei der Kontaktbelichtung bestehen deshalb bei diesem Verfahren fort.
Aufgabe der Erfindung war es, ein trocken, d. h. öhre Anwendung von Lösungsmitteln arbeitendes Schichtübertragungsverfahren zu finden, das ein Kopieren ohne Schärfeverlust und ein einwandfreies Abtrennen der Vorlage ermöglicht.
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes, bbei dem man ein lichtempfindliches Übertragungsmaterial aus einem temporären Schichtträger, einer dünnen Trennschicht, die bei Erwärmen auf Temperaturen bis zu 1500C nicht klebrig wird und an einer lichtempfindlichen thermoplastischen Schicht stärker haftet als an dem temporären Schichtträger, einer lichtempfindlichen thermoplastischen Schicht - und ggfs. einer Deckfolie, nach Abstreifen der ggfs. vorhandenen Deckfolie - durch Druck und Erwärmen auf einen endgültigen Schichtträger auflaminiert, die lichtempfindliche thermoplastische Schicht belichtec und entwickelt.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß man den temporären Schichtträger nach dem Auflaminieren des Übertragungsmaterials auf den endgültigen Schichtträger und vor dem Belichten ohne vorherige Einwirkung eines Lösungsmittels von der lichtempfindlichen thermoplastischen Schicht abzieht.
Durch die in dem erfindungsgemäß verwendeten Material enthaltene Trennschicht wird erreicht, daß
sich der temporäre Schichtträger unter Erhaltung der Trennschicht sauber abziehen läßt Da die freigelegte Oberfläche derTrennschicht wederbei dem Laminieren noch beim Abziehen des Schichtträgers erweicht oder klebrig wird, kann sie wie jede andere lichtempfindliche Schicht, die nicht vor dem Kopieren erwärmt wird, im engen Kontakt mit der Vorlage belichtet werden. Da die Trennschicht sehr dünn, d. h. 0,1 bis 5 um, vorzugsweise 0,5 bis 2 &mgr;&idiagr;&eegr; stark ist, hat sie praktisch keinen Verlust an Auflösungsvermögen mehr zur Folge. Sie wird bei Anwendung eines geeigneten Entwicklers zusammen mit den bei der Belichtung löslich gebliebenen bzw. löslich gewordenen Schichtteilen entfernt.
Die Trennschicht kann aus Substanzen mit sehr unterschiedlicher Natur bestehen. Ihre Löslichkeitseigenschaften werden zweckmäßig auf die der lichtempfindlichen Schicht abgestimmt. Wenn diese mit organischen Lösungsmitteln oder deren Dämpfen entwickelt werden soll, sc-i'.te auch die Trennschicht in diesen Lösungsmitteln ioslich oder mindestens quellbar sein. Das gleiche gilt für die bevorzugt verwendeten, mit wäßrigen oder wäßrig-alkalischen Lösungen entwickelbaren Schichten. In jedem Falle sollte die Trennschicht in der verwendeten Entwicklerlösung löslich oder quellbar sein.
Zur Herstellung der Trennschicht sind vorzugsweise hochpolymere organische Substanzen geeignet, da sich mit ihnen besonders gleichmäßige Schichten der erforderlichen geringen Stärke herstellen lassen. Es können natürliche und synthetische hochpolymere Stoffe verwendet werden, insoesondere solche mit aliphatischer Kette, bei denen höchstens 50% d-r Einheiten aromatische Substituenten enthalten. Beispiele für geeignete hochpolymere Stoffe sind: Gelatin·· Celluloseäther, wie Carboxymethylcellulose oder Hydroxyäthylcellulose. Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Polyacrylsäure, Styrol-Maleinsäure-Mischpolymerisate, Vinyläther-Maleinsäureanhydrid-Mischpolymerisate, Polyacrylsäureester, Polymethacrylsäureester und Maleinatharze.
Die Trennschicht kann aber auch ganz oder teilweise aus niedermolekularen filmbildenden organischen Substanzen bestehen, z.B. aus Netzmitteln wie Saponin, wasserlöslichen Kohlenhydraten wie Saccharose, solange diese Substanzen beim Erwärmen auf Temperaturen bis zu 1500C nicht klebrig werden bzw. erweichen.
Wenn als lichtempfindliche Schicht eine gegen Sauerstoff empfindliche photopolymerisierbare Schicht verwendet werden soll, wird zweckmäßig eine Trennschicht verwendet, die für Luftsauerstoff wenig durchlässig ist. Hierfür sind z. B. Schichten aus Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Gelatine, Mischpolymerisaten von Methylvinyläther und Maleinsäureanhydrid, aus Saponin und Rohrzucker geeignet.
Als lichtempfindliche Schichten eignen sich sowohl negativ als auch positiv arbeitende Systeme. Es kommen z.B. Photopolymerschichten, photovernetzbare Schichten, mit Chinondiaziden, Diazoniumverbindungen oder Aziden sensibilisierte Schichten oder mit bestimmten Heterocyclen sensibilisierte Polymerisatschichten in Betracht.
Wesentlich ist es, daß die lichtempfindliche Schicht thermoplastisch ist, d. h. daß sie unter den Bedingungen der Kaschierung, die bei Temperaturen bis zu 1500C vorgenommen wird, erweicht oder klebrig wird. Obwohl ein großer Teil der bekannten lichtempfindlichen Schichten, insbesondere der Photopolymerschichten, diese Eigenschaft von sich aus hat, bedarf ein Teil der bekannten lichtempfindlichen Schichten hierfür einer Modifizierung. Diese kann in einfacher Weise durch Zusatz von thermoplastischen Bindemitteln erfolgen oder bei bereits bindemittelhaltigen Schichten durch Einverleiben von verträglichen Weichmachern. Beispiele für geeignete lichtempfindliche Schichten sind in der USA-Patentschrift 34 69 982 beschrieben.
Von den negativ arbeitenden Schichten sind Tasbesondere die photopolymerisierbaren Schichten geeignet, die im wesentlichen aus einem hochmolekularen Bindemittel, polymerisierbaren ungesättigten Verbindungen und Photoinitiatoren bestehen.
Als polymerisierbare Verbindungen werden Vinyl- oder Vinylidenverbindungen verwendet, die am Licht zu polymerisieren vermögen. Geeignete polymerisierbare Verbindungen sind bekannt und z.B. in den US-Patentschriften 27 60 863 und 30 60 023 beschrieben. Beispiele sind Acryl- und Methacrylsäureester, wie Diglycerindiacrylat, Guajakolglycerinätherdiacrylat, Neopentylglykoldiacrylat, 2,2-Dimethylol-butanol-(3)-diacrylat und Acrylate bzw. Methacrylate hydroxylgruppenhaltiger Polyester. Ferner sind Vorpolymerisate derartiger polymerisierbarer Verbindungen, z.B. Vorpolymerisate von Allylestern, die selbst noch polymerisierbare Gruppen enthalten, als Zusatz zu Photopolymerschichten geeignet. Im allgemeinen werden Verbindungen bevorzugt, die zwei oder mehrere polymerisierbare Gruppen enthalten.
Die Photopolymerschicht enthält ferner mindestens einen Photoinitiator. Geeignete Initiatoren sind z.B. Hydrazone, fünfgliedrige stickstoffhaltige Heterocyclen, Mercaptoverbindungen, Pyrylium- oder Thiopyryliumsalze, mehrkernige Chinone, synergistische Mischungen von verschiedenen Ketonen, Farbstoff/ Redoxsysteme und bestimmte Acridin-, Phenazin- und Chinoxaiinverbindungen.
Die Bindemittel sollten vorzugsweise in wäßrigen Alkalien löslich oder mindestens quellbar sein, damit die Schicht mit den bevorzugten schwach alkalischen Entwicklerlösungen entwickelt werden kann. Geeignet sind z.B. Polyamide, Polyvinylacetate, Polymethylmethacrylate, Polyvinylbutyrale, ungesättigte Polyester, Styrol/Maleinsäureanhydrid-Mischpolymerisate, Maleinatharze und Terpenphenolharze.
Den lichtempfindlichen Schichten könner ferner Farbstoffe, Pigmente, Polymerisationsinhibitoren, Farbbildner und Wasserstoffdonatoren zugesetzt werden. Weitere geeignete negativ arbeitende Schichten werden z. B. aus hochmolekularen Zimtsäurederivaten und Chalkonverbindungen und mit Aziden oder Diazoniumsalzen lichtempfindlich gemachten vernetzbaren Bindemitteln erhalten.
Als positiv arbeitende Schichten kommen vor allem solche aus Chinondiaziden und Harzen in Betracht, von denen mindestens ein Teil alkalilöslich sein sollte. Derartige Schichten sind z. B. in den deutschen Patentschriften 9 38 233 und 9 60 335 beschrieben. Weiterhin sind positiv arbeitende Schichten gut geeignet, die hochmolekulare thermoplastische Polymerisate, besonders solche mit sauren Substituenten, wie
Carbonsäure-, Phosphonsäure-,
Sulfonsäure- oder
N-Arylsulfbnyl-urethangruppen,
und mehrkernigeN-heterocyclische Verbindungen, z.B. 9-Phenyl-acridin,
9,10-Dimethyl-beiiz(a)phenazin,
1 l-Methoxy-dibenz(a,c)phenazin,
6,4',4"-Trimethoxy-2,3-diphenyl-chinoxalia und
2,3-Bis-(4'-methoxy-phenyl)-5,6-dihydro-pyrazin.
s als Sensibilisatoren enthalten.
Die Photoresistschichten können je nach ihrem Verwendungszweck 1 bis 60 fiin stark sein. Wenn sie auf Kupfer enthaltende Unterlagen laminiert werden sollen, können sie zur Verbesserung der Haftung kleine Mengen organischer Schwefelverbindungen, z.B. 2-Mercapto-benzthiazol, enthalten.
Auf der Seite der Photoresistschicht, die mit der Trennschicht überzogen ist, befindet sich der blatt- bzw. bahnförmige biegsame temporäre Schichtträger. Er kann aus transparentem Material, z.B. Kunststoffolie oder Transparentpapier, oder aus opakem Material, z. B. pigmentierten Kunststoffolien, Papier oder Metallfolien, bestehen. Im Gegensatz zu dem bekannten Schichtübertragungsmaterial kann es sogar von Vorteil sein, wenn er gegenüber aktinischer Strahlung undurchlässig ist, weil sich dann in Kombination .uit einer ebenfalls undurchlässigen Deckfolie auf der anderen Seite der Schicht ein Material herstellen läßt, das bis zum Abtrennen der Deckfolie oder des Trägers ohne Gefahr bei Tageslicht gehandhabt werden kann. In vielen Fällen ist es vorteilhaft, Folien aus bestimmten Kunststoffen, z. B. Polyesterfolien, zu verwenden, die infolge ihrer besonderen mechanischen Eigenschaften, wie Biegsamkeit, Maßbeständigkeit, besonders glatter Oberfläche und geringer Haftung, für diesen Zweck hervorragend geeignet sind.
Der temporäre Schichtträger kann je nach seiner Beschaffenheit und der Art der übrigen Bestandteile des Schichtübertragungsmaterials eine Stärke von 5 bis zu mehreren Hundert um haben, wobei Stärken von 20 bis 100 &mgr;&eegr;&igr; im allgemeinen bevorzugt werden.
Vorzugsweise trägt die Photoresistschicht bei der Lagerung auf der dem Schichtträger gegenüberliegenden Sei.i zum Schutz gegen Verunreinigung und Beschädigung eine dünne Deckfolie. Die Deckfolie kann aus gleichen oder ähnlichen Materialien bestehen wie der Schichtträger, braucht jedoch nicht unbedingt dimensionsstabil zu sein und muß sich leichter von der Schicht trennen lassen als der Schichtträger. Ais Deckfolienmaterial sind z.B. Silikonpapier, Polyolefin- oder Polytetrafluoräthylenfolien geeignet. Die Stärke der Deckfolie kann 5 bis 100 um betragen.
Das erfindungsgemäß verwendete Schichtübertragungsmaterial wird nergestellt, indem man entweder auf den temporären Schichtträger eine Lösung des Trennjchichtmaterials aufbringt, trocknet und darauf die Photoresistschicht aus einem Lösungsmittel aufbringt, das die Trennschicht nicht löst, oder den Schichtträger mit der Trennschicht und die Deckfolie mit der lichtempfindlichen Schicht beschichtet und beide Blätter miteinander kaschiert. Das Schichtübertragungsmaterial ist in diesem Zustand sehr lange lagerfähig und unempfindlich.
Die Anwendung des Schichtübertragungsmaterials geschieht folgendermaßen: Der mit der Photoresistschicht zu überziehende endgültige Schichtträger wird gereinigt, die Deckfolie des Schichtübertragungsmaterials wird entfernt und die Photoresistschicht: unter Druck und Erwärmen auf den endgültigen Schichf.träger kaschiert. Das kann in der in der US-Patentschrift 34 69 982 beschriebenen Weise geschehen. Darauf wird der temporäre Schichtträger abgezogen und die Photoresistschicht in bekannter Weise im Kontakt unter einer Vorlage belichtet und dann entwickelt. Die Entwicklung erfolgt in ebenfalls bekannter Weise durch Überwischen mit einem Lösungsmittel oder einer Entwicklerlösung, bevorzugt einer wäßrig-alkalischen Lösung, oder durch Behandeln mit Lösungsmitteldampf.
Der endgültige Schichtträger kann nun an den freigelegten Stellen in üblicher Weise geätzt, galvanisch oder stromlos metallisiert oder anodisiert werden.
Hauptanwendungsgebiet des erfindungsgemäßen Verfahrens ist die Herstellung von kopierten Schaltungen, Tief- oder Hochdmckformen, Namensschildern, von integrierten Schaltkreisen, sowie die Mikroelektronik und das Formteilätzen.
Die folgenden Beispiele erläutern Ausfuhrungsformen des erfindungsgemäß verwendeten Schichtübertragungsmaterials und des erfindungsgemäßen Verfahrens. Gewichtsteile (Gt.) und Volumteile (Vt.) stehen im Verhältnis von g zu ecm. Die den Beispielen vorausgehenden Rezepte I bis IX sin'! Beschichtungslösungen, die zur Herstellung von Ir^nnschichten für das erfindungsgemäß verwendete Material verwendet wurden.
Rezept I
5,5 Gt. Gelatine
0,035 Gt. Natriumalkylarylsulfonat 1,82 Gt. Äthanol
92,645 Gt. Wasser
Rezept II
1,5 Gt. Polyvinylalkohol
0,15 Gt. äthoxylierter Phosphorsäureoleylester
48,5 Gt. Wasser
Rezept III
1,0 Gi.
üarboxymcthylcc'lu'osc
0,1 Gt. Natriumaikylarylsulfonat
99,0 Gt. Wasser
Rezept IV
5,0 Gt. Saponin
95,0 Gt. Wasser
0,02 Gt. Äthylviolett
Rezept V
5,0 Gt. Rohrzucker
5,0 Gt. Carboxymethylcellulose
0,5 Gt. Sorbinsäure
5,0 Gt. Saponin
484,5 Gt. Wasser
Rezept VI
3,0 Gt. Mischpolymerisat von Methylvinyl-
äther und Maleinsäureanhydrid
0,3 Gt. Saponin
97,0 Gt. Wasser
Rezept VII
10,0 Gf. Styrol/Maleinsäure-Mischpolymerisat
mit dem mittleren Molekulargewicht
1500 und der Säurezahl 300
1,0 Gt. 1,4-Butandiol
89,0 Gt. Äthylenglykolmonoliutyläther
Rezept VIII
5,0 Gt. .vlaleinatharz mit einem Schmelzpunkt von 126-1400C und einer Säurezahl von etwa 165
95,0 Gt. Äthylenglykolmonoäthyläther
Rezept IX
3Gt.
97Gt.
Polybutylmethacrylat
Äthylenglykolmonoäthyläther
Beispiel 1
Eine Beschichtungslösung aus
1,4 Gt. 1,1,1-Trimethylol-äthan-triacrylat,
1,4 Gt. eines Methylmethacrylat/Methacrylsäure-Mischpolymerisats mit dem mittleren Molekulargewicht 40000 und einer Säurezahl von 90-115,
0,2 Gt. 1,6-Di-hydroxyäthoxy-hexan,
0,05 Gt. 9-Phenyl-acridin,
0,05 Gt. 2-Mercapto-benzthiazol,
0,02 Gt. Supranolbiau GL(C.I.5O335) und
13,0 Gt. Äthylenglykolmonoäthyläther
wird auf eine 37 &mgr;&iacgr;&tgr;&igr; dicke, biaxial verstreckte Polyäthylenterephthalatfolie, die mit einer 0,5-1 &mgr;&idiagr;&eegr; dicken Trennschicht aus Gelatine (Rezept I) versehen ist, aufgeschleudert und getrocknet. Die so erhaltene Oberfläche wird anschließend mit einer 25 &mgr;&idiagr;&eegr; starken Deckfolie aus Polyäthylen unter leichtem Druck bei Zimmertemperatur kaschiert. Die lichtempfindliche Schicht kann in dieser Sandwichform sehr lange aufbewahrt bzw. verschickt werden.
Zur Herstellung einer Ätzschutzschicht wird wie folgt gearbeitet: Die von der Konservierung befreite Kupferoberfläche einer Kupfer/Al-Bimetallplatte wird durch Reiben mit Schlämmkreide aufgerauht, mit Trichloräthylen entfettet und durch 30 Sekunden Tauchen in l,5%ige Salpetersäure von ihrer Oxidschicht befreit.
Zur Verbesserung der Haftung wird sie mit einer 2%igen alkoholischen Lösung von 2-Mercapto-beni.-thiazol behandelt. Dann entfernt man die Polyäthylendeckfolie des lichtempfindlichen Materials und laminiert die Oberfläche der freigelegten Photoresistschicht auf die trockene Metalloberfläche. Als nächstes wird die Polyesterträgerfolie abgezogen. Belichtet wird 1 Minute unter einer Negativvorlage mit einer 5 KW Xenon-Punktlichtlampe entwickelt mit einer wäßrig-alkalischen Lösung (ph 11,3), die aus
15,0 Gt. Natriummetasilikat-Nonahydrat,
3,0 Gt. Polyglykol 6000,
0,6 Gt. Lävulinsäure,
0,3 Gt. Strontiumhydroxid-Octahydrat und
1000 Gt. Wasser
besteht, und danach mit einer Eisen-III-chloridätzlösung 2,5—3 Minuten geätzt.
Nach Entfernung der Ätzschutzschicht mit Methylenchlorid ist die Kupfer/Al-Bimetallplatte drackfertig.
Anstelle des Polyester-Trägers können auch nicht transparente Materialien, z.B. Papier, Metallfolien oder pigmentierte Folien, als Trägermaterial Anwendung finden. Die Verarbeitung bleibt in diesen Fällen die gleiche.
Beispiel 2
Eins Beschichtungslösung aus
1,4 GL eines Mischpolymerisats aus Methylmethacrylat und N-(p-Toluolsulfonyl)-Carbaminsäure-(/?-methacryloyloxy)-äthylester im Gewichtsverhältnis 65 : 35 (Säurezahl 60).
2,0 Gt. eines Hexamethacrylats, das durch Umsetzung von Pentaerythrittrimethacrylat mit Sebazinsäuredichlorid erhalten wurde,
0,1 Gt. 6,4',4"-Trimethoxy-2,3-diphenylchinoxalin,
0,05 Gt. 2-Mereapto-benzthiazol, 0,02 Gt. Supranolbiau GL(CI. 50 335) und 19,0 Gt. Äthylenglykolmonoäthyläther
wird auf eine 37 &mgr;&eegr;&igr; dicke, biaxial verstreckte Polyäthylenterephthalatfolie, die mit einer 1-2 am dicken Schicht von Gelatine (Rezept I) versehen ist, aufgeschleudert und getrocknet
Diese Oberfläche wird dann mit einer 25 &mgr;&iacgr;&tgr;&igr; dicken Deckfolie aus Polyäthylen unter leichtem Druck kaschiert.
Zur Herstellung einer kopierten Schaltung wird wie folgt gearbeitet:
Die von der Konservierung befreite Kupferoberfläche eines Trägers, der aus einer Kunststoffplatte mit aufkaschierter Kupferhaut besteht, wird durch Reiben mit Schlämmkreide aufgerauht, mit Trichloräthylen entfettet, durch Tauchen in l,5%ige Salpetersäure von seiner OxidschictJt befreit und zur Verbesserung der Haftung mit einer 2%igen alkoholischen Lösung von 2-Mercapto-benzthiazol behandelt.
Dann entfernt man die Polyäthylendeckfolie des lichtempfindlichen Materials und laminiert die freigelegte Oberfläche der Photopolymerschicht auf die trockene Metalloberfläche. Anschließend wird die Polyesterfolie abgezogen. Man belichtet unter einer Negativvorlage 3 Minuten mit einem Röhrenbelichtungsgerät, das auf einer Fläche von 60 X 60 crn 13 Leuchtstoffröhren von 40 W angeordnet enthält, und entwickelt 1 Minute mit dem in Beispiel 1 beschriebenen Entwickler.
Geätzt wird 20 Minuten mit einer Eisen-III-chloridlösung von 42° Be.
Beispiel 3 Eine Beschichtungslösung aus
2,5 Gt. eines Mischpolymerisats aus Methylmethacrylat und Methacrylsäure mit dem mittleren Molekulargewicht 32 000 und der Säurezahl 137,
0,01 Gt. Supranolbiau GL(CI. 50 335), 0,2 Gt. 9-Phenyl-acridin,
0,25 Gt Polyoxyäthylen-sorbitan-monolaurat und
7,5 Gt. Äthylenglykolmonoäthyläther
wird auf eine 37 um dicke, biaxial verstreckte Polyesterfolie, die eine 1-2 &mgr;&idiagr;&eegr; dicke Trennschicht aus Carboxymethylcellulose (Rezept &Pgr;&Ggr;) trägt, aufgebracht und nach dem Trocknen mit einer Polyäthylenfolie kaschiert.
Zur Herstellung einer Ätzschutzschicht wird die Kupferoberfläche eines Trägers, der aus einer Kunststoffplatte mit aufkaschierter Kupferhaut besteht und die entsprechend Beispiel 2 vorbehandelt wurde, mit der lichtempfindlichen Schicht nach Abziehen der Polyäthylendeckfolie unter Erwärmen laminiert
Dann wird die Polyesterfolie abgezogen und die lichtempfindliche Schicht unter einer Positiwörlage
10 Minuten mit einem Röhrenbelichtungsgerät wie in Beispiel 2 belichtet. Entwickelt wird 2'/2 Minuten mit Äthylenglykolmonoäthyläther, der etwa 10% Wasser und etwa 1G% konz. Schwefelsäure enthält. Danach ätzt man 15 Minuten mit einer Eisen-III-chloridätzlösung von 42° Be.
Die Ätzschutzschicht kann durch Behandeln mit alkohol entfernt werden.
Beispiel 4
Eine Beschichtungslösung aus
3,0 Gt. 2,3,4-Trihydroxy-benzophenonester der Naphthochinone 1,2)-diazid-(2)-5-suI-fonsäure,
10,0 Gt. m-Kresol-Formaldehyd-Novolak
80,0Vt. Butylacetat,
1,3 Gt. Dibutylphthalat und
0,3 Ut. Methylviolett BB (Schultz Farbstofftabellen, 7. Ausgabe, I.Band (1931), Seite 327, Nr. 783)
wird auf eine 37 &mgr;&eegr;&igr; dicke, biaxial verstreckte Polyesterfolie, die mit einer 1 -2 &mgr;&idiagr;&eegr; dicken Trennschicht von Carboxymethylcellulose (Rezept III) versehen ist, aufgebracht und getrocknet (Trockenschichtgewicht: 10 g/m2).
Die Ätzschutzschicht wird entsprechend den vorangehenden Beispielen hergestellt. Dazu laminiert man eine Kupferoberfiäche mit der lichtempfindlichen 'schicht und zieht die Trägerfolie aus Polyester ab. Dann belichtet man 6 Minuten unter einer Positivvorlage mit einer 8 KW Xenonlampe und entwickelt anschließend mit 10-15%iger wäßriger Trinatriumphosphatlösung. Geätzt wird mit einer FeCl3-Lösung von 42° Be.
Beispiel 5
Eine Beschichtungslösung aus
70,0 Gt. 1,1,1-Trimethylol-äthantriacrylat,
70,0 Gt. eines Mischpolymerisats aus Methylmethacrylat und Methacrylsäure mit dem mittleren Molekulargewicht 40000 und der Säurezahl 90-115,
-10,0 Gt. Diäthylenglykolmonohexyläther,
2,0 Gt. 9-Phenyl-acridin,
1,25 Gt. 4-Dimethylamino-benzalaceton,
5,0 Gt. Supranolblau GL(CI. 50 335) und
325,0 Gt. Äthylenglykolmonoäthyläther
wird auf eine 25 &mgr;&idiagr;&eegr; dicke, biaxial verstreckte Polyesterfolie, die mit einer 1-2 u.m dicken Trennschicht aus Polyvinylalkohol (Rezept II) versehen ist, abgeschleudert. Nach dem Trocknen beträgt das Schichtgewicht 17 g/m2. Anschließend wird die Oberfläche zum Schutz gegen Staub mit einer Polyäthylenfolie kaschiert.
Zur Identifizierung erhält dieses Übertragungsmaterial die Bezeichnung X.
Zum Vergleich wird die gleiche Beschichtungslösung direkt auf eine 25 &mgr;&pgr;&igr; dicke Polyesterfolie aufgebracht; das Material erhält die Bezeichnung Y. Es ähnelt in seinem Aufbau den Beispielen des US-Patentes 34 69 982. Das Gewicht der lichtempfindlichen Schicht beträgt ebenfalls 17 g/m2. Zum Schutz wird die Schichtoberfläche wiederum mit einer 25 &mgr;&idiagr;&eegr; dicken Polyäthylenfolie laminiert.
Zur Prüfung des Auflösungsvermögens verfahrt man wie folgt:
Man entfernt in beiden Fällen die Polyäthylendeckfolie und laminiert die freigelegte Oberfläche unter leichtem Druck bei etwa 12O0C aufgebürstetes Aluminium, dessen Rauhtiefe 2,5 &mgr;&idiagr;&eegr; beträgt.
Im Falle von X wird nun die Polyesterfolie entfernt.
Dann belichtet man beide Proben 1 Minute unter einer Gittertestplatte, die zur Messung des Auflösungsvermögens verwendet wird.
Als Lichtquelle dient eine Xenonpunktlichtlampe entsprechend Beispiel 1.
Die Probe X wird sofort, die Probe Y nach dem Entfernen der Polyesterträgerfolie mit dem unter Beispiel 1 beschriebenen Entwickler zur Differenzierung der BiId- und Nichtbildsteilen iiberwischt. Anschließend wird mit Wasser abgespült und getrocknet.
Das Auflösungsvermögen beträgt für
X: 20,8 Linien/mm (Konstante 0,048 mm)
Y: 0,98 Linien/mm (Konstante 1,02 mm).
Beispiel 6
Eine Beschichtungslösung aus
8,0 Gt. Trimethylolpropantriacrylat,
14,0 Gt. Maleinatharz,
0,2 Gt. 6,4',4"-Trimethoxy-2,3-diphenylchinoxa-
lin,
0,1 Gt. Tri-[4-(3-methyl-phenylamino)-phenyl]-
methylacetat,
30,0 Gt. Äthylenglykolmonomethyläther
wird durch Aufschleudern auf eine mit Polyvinylalkohol (Rezept II) beschichtete Polyesterfolie zu einem Schichtgewicht von von 20 g/m2 aufgetragen.
Dann laminiert man die gesäuberte Kupferoberfläche eines Trägers, der aus einer Kunststoffplatte mit aufkaschierter Kupferhaut besteht, mit dem hergestellten Übertragungsmaterial, zieht die Polyesterlblie von dem Laminat ab und belichtet die Photopolymerschicht unter einer Negativvorlage 1 Minute entsprechend Beispiel 1. Entwickelt wird durch Überwischen mit der in Beispiel 1 angegebenen Lösung, danach wird 30 Minuten mit einer Eisen-III-Chloridlösung von42° Be geätzt.
Beispiel 7
Eine Beschichtungslösung aus
60,0 Gt. Äthylenglykolmonoäthyläther,
14,0 Gt. Trimethylolpropantriacrylat,
14,0 Gt. eines Mischpolymerisats aus Methylmethacrylat und Methacrylsäure mit dem mittleren Molekulargewicht 35 000 und einer Säurezahl von ungefähr 125, 2,0 Gt. Diäthylenglykolmonohexyläther,
0,2 Gt. 9-Phenyl-acridin,
0,07 Gt. 4-Dimethylamino-benzalaceton,
0,2 Gt. des in B eispiel 6 angegeb enen Farbstoffs
und
1,4 Gt. eines Mischpolymerisats aus Styrol und Maleinsäureanhydrid mit dem mittleren Molekulargewicht 1500, der Säurezahl 300 und der Erweichungstemperatur 12O0C
wird auf eine mit Polyvinylalkohol (Rezept &Pgr;) beschichtete Hart-PVC-Foiie zu einem Schichtgewieht von 17,5 g/m2 aufgetragen.
Nun laminiert man die lichtempfindliche Schicht auf
anodisiertes Aluminium, dessen Oxidschicht mit Supranolblau GL(CI. 50355) angefärbt ist, zieht die Trägerfolie ab und belichtet unter einer Positivvorlage 1,5 Minuten entsprechend Beispiel 1. Entwickelt wird ebenfalls wie in Beispiel 1 und dann mit 20%iger wäßriger Natronlauge 45 Sekunden geätzt. Nach dem Entfernen der Ätzschutzschicht mit Methyläthylketon ist ein kontrastreiches bild zu erkennen, das als Namensschild Verwendung finden kann.
Beispiel 8
Ein Übertragungsmaterial entsprechend Beispiel 7 wird auf eine ebene, mit Aceton entfettete Glasscheibe laminiert, die Polyesterträgerfolie abgezogen und die lichtempfindliche Schicht unter einer kontrastreichen Strichvorlage 3 Minuten entsprechend Beispiel 1 belichtet, dann mit der dort angeführten Lösung entwickelt. Danach wird 3 Minuten nachbelichtet und die
UUtgOll/gllf \Jia3UU^JUULtlb Ulli TU /UIgW nuUIIgWi 1 IUVI'
wasserstoffsäure 2 Minuten geätzt. Dann spült man mit Wasser ab und entfernt die Ätzschutzschicht mit Methyläthylketon.
Beispiel 9
Ein Übertragungsmaterial wird mit der in Beispiel 7 beschriebenen Beschichtungslösung unter Einstellung eines Trockenschichtgewichts von 5,5 g/m2 hergestellt und dann auf einen von der Konservierung befreiten Messing/Chrom-Druckplattenträger laminiert. Die Trägerfolie wird abgezogen und die lichtempfindliche Schicht unter einer Positivvorlage 3 Minuten entsprechend Beispiel 1 belichtet. Dann wird wie in Beispiel 1 entwickelt und das freigelegte Chrom mit einer Lösung aus 42,4% CaCl2, 9,8% ZnCl2, 10,8% HCl und 37% H2O innerhalb von 2 Minuten weggeätzt und Ätzschutzschicht mit Metbyläthylketon entfernt. Anschließend ■wird mit l%iger Phosphorsäure überwischt und mit Fettfarbe eingefärbt. Die Mehrmetallplatte ist in dieser Form druckfertig.
Beispiel 10
Eine Beschichtungslösung aus
60,0 Gt. Äthylenglykolmonoäthyläther,
14,0 Gt. Trimethylolpropantriacrylat,
14,0 Gt. eines Mischpolymerisats aus Methylmethacrylat und Methacrylsäure mit dem mittleren Molekulargewicht 35 000 und einer Säurezahl von etwa 125,
0,2 Gt. 1,2-Benzacridin,
2,0 Gt. Diäthylenglykolmonohexyläther,
0,07 Gt. 4-Dimethylamino-benzalaceton,
0,2 Gt. 2-Mercapto-benzoxazol und
0,2 Gt. desinBeispiel6angegebenenFarbstoffs
wird auf eine mit Polyvinylalkohol (Rezept II)beschichtete Polystyrolfolie zu einem Trockenschichtgewicht von 17,0 g/m2 aufgetragen.
Nun laminiert man die lichtempfindliche Schicht auf rostfreien Stahl, der mit Aceton entfettet wurde, zieht die Trägerfolie ab und belichtet unter einer Negatiworlage 3 Minuten entsprechend Beispiel 1. Entwickelt wird durch Überwischen mit der Lösung nach Beispiel 1, geätzt mit Eisen-IÜ-chloridlösung von 42° Be (3 Minuten bei 80°C), mit 30%iger Salpetersäure kurz überwischt, mit Wasser abgespült und die Ätzschuizschicht abschließend mit Methyläthylketon entfernt.
Das entstandene Reliefbild ist etwa 200 &mgr;&pgr;&igr; tief und kann als Druckform verwendet Werden.
Beispiel 11
45
50 Ein Übertragungsmaterial entsprechend Beispiel 10 wird auf einen mit Scheuersand angerauhten Polyacetalbogen laminiert, die Trägerfolie abgezogen und die lichtempfindliche Schicht unter einer Strichvorlage 3 Minuten entsprechend Beispiel 1 belichtet. Dann wird wie in Beispiel 1 entwickelt und die freigelegte Oberfläche mit konzentrierter Salzsäure 30 Minuten geätzt. Man spült mit Wasser ab und entfernt die Ätzschutzschicht mit Methyläthylketon. Das entstandene Reliefbild ist etwa 100 &mgr;&idiagr;&eegr; tief und kann als Druckform verwendet werden.
Beispiel 12
Ein Übertragungsmaterial entsprechend Beispiel 10 wird auf eine gesäuberte Einstufen-Zinkätzplatte laminiert, die Trägerfolie abgezogen und die lichtempfindliche Schicht unter einer Negativvorlage 2 Minuten entsprechend Beispiel 1 belichtet. Danach wird mit dem in Beispiel 1 angegebenen Entwickler entwickelt und die freigelegte Zinkoberfläche 5 Minuten mit 6%iger Salpetersäure geätzt. Die so entstandene Form eignet sich für den Buchdruck.
Beispiel 13
Der Beschichtungslösung von Beispiel 7 werden 0,2 Gt. des Umsetzungsproduktes aus 1 Mol 2,2,4-Trimethyl-hexamethylendiisocyanat und 2 Mol Isopropanol zugesetzt, und die Lösung wird auf eine mit Polyvinylalkohol beschichtete Polyesterfolie (Rezept II) aufgetragen und getrocknet. Schichtgewicht: 18 g/m2. Nun laminiert man die lichtempfindliche Schicht auf eine von der Konservierung befreite Aluminium/Kupfer/ Chrom-Trimetallplatte unter leichtem Druck bei etwa 120°C. Dann wird die Trägerfolie abgezogen und die lichtempfindliche Schicht unter einer Positivvorlage 3 Minuten entsprechend Beispiel 1 belichtet. Es wird wie dort beschrieben entwickelt und danach das Chrom mit einer Schnellätzlösung entsprechend Beispiel 9 3 Minuten geätzt. Die Ätzschutzschicht wird mit Methyläthylketon entfernt, die Plattenoberfläche mit l%iger Phosphorsäure überwischt und mit Fettfarbe eingefärbt. Die Trimetallplatte ist in dieser Form druckfertig.
Beispiel 14
Eine Beschichtungslösung aus
5,6 Gt. des Umsetzungsproduktes aus 1 Mol 2,2,4 -Trimethyl - hexamethylendiisocyanat und 2 Mol 2-Hydroxy-äthylmethacrylat,
5,6 Gt. eines Terpolymerisats aus Methylmethacrylat, n-Hexylmethacrylat und Methacrylsäure (Gewichtsverhältnis 150 : 750 : 360) mit einer Säurezahl von 173-178,
0,5 Gt. Triäthylenglykoldiacetat,
0,1 Gt. 9-Phenyl-acridin,
0,06 Gt. des in Beispiel 6 angegebenen Farbstoffs
und
30,0 GL Äthylenglykolmonoäthyläther
wird auf eine mit Polyvinylalkohol (Rezept &Pgr;) beschichtete Celluloseacetatfolie aufgetragen und getrocknet. Das Schichtgewicht beträgt 17,6 g/m2. Die Herstellung einer kopierten Schaltung erfolgt entsprechend Beispiel 6.
Beispiel 15
Eine Beschichtungslösung entsprechend Beispiel 10 wird auf eine Polyäthylenfoüe zu einem Trockenschichtgewicht von 17,5 g/m2 aufgetragen.
In einem zweiten Arbeitsgang wird eine Lösung entsprechend Rezept VII auf 25 &mgr;&idiagr;&eegr; starke Polyesterfolie aufgetragen und getrocknet. Trockenschichtgewicht: 1-2 g/m2.
Nun laminiert man die lichtempfindliche Schicht auf die ebenfalls wäßrig-alkalisch entwickelbare Trennschicht und erhält ein Übertragungsmaterial, das entsprechend den zuvor beschriebenen Beispielen zur Herstellung einei Ätzschutzschicht verwendet werden kann.
Beispiel 16
Eine 100 &mgr;&idiagr;&eegr; dicke pigmentierte Hart-PVC-Folie und ein mit Polyäthylen beschichtetes Papier, das auf diese Weise wasserfest gemacht wurde, werden mit einer Lösung nach R.ezept II beschichtet ur.d getrocknet.
Darauf wird die unter Beispiel 7 angeführte Beschichtungslösung aufgeschleudert, dabei kann das Trockenschichtgewicht je nach Bedarf zwischen 12 und 60 g/m2 eingestellt werden. Die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht schützt man durch Laminierung mit einer 25 &mgr;&idiagr;&eegr; dicken Polyäthylenfolie gegen Staub.
Zur Herstellung einer Ätzschutzschicht geht man ähnlich den anfangs beschriebenen Beispielen vor.
Beispiel 17
Eine Beschichtungslösung aus
1,4 Gt. des in Beispiel 1 beschriebenen Bindemittels,
1.4 Gt. Trimethylolpropantriacrylat,
0,04 Gt. 9-Phenyl-acridin,
0,1 Gt. Methylphthalyläthylglykolat,
3,25 Gt. Äthylenglykolmonoäthyläther,
1.5 Gt. Aceton und
0,48 Gt. einer Pigmentdispersion, die durch Vermählen von
16,0 Gt. Monastralblau B (CI. Pigment
Blue: 15),
10,0 Gt. des in Beispiel 1 beschriebenen
Bindemittels und
1,0 Gt. Dioctylester der Natriumsulfo-
bernsteinsäure sowie
85,0 Gt. Äthylenglykolmonoäthyläther hergestellt wurde,
wird auf eine 75 &mgr;&idiagr;&eegr; dicke, biaxial verstreckte Polyäthylenterephthalatfolie, die mit einer 1-2 &mgr;&tgr;&eegr; dicken Trennschicht aus Polyvinylalkohol (Rezept II) versehen ist, mit Hilfe eines Drahtrakels aufgetragen und getrocknet. Das Trockenschichtgewicht beträgt 13 g/m2.
Die Herstellung einer Ätzschutzschicht erfolgt wie in den zuvor beschriebenen Beispielen.
Beispiel 18
Eine Beschichtungslösung aus
8,0 Gt. eines Präpolymeren des Diallylisophthalats, hergestellt nach US-Patentschrift 30 30 341,
2,0 Gt. Pentaerythrittriacrylat,
90,0 Gt. Xylol und
0,5 Gt. eines Gemisches aus Anisil, Michlers Keton und Xanthon im Gewichtsverhältnis 1 : 1 : 4
wird auf eine 37 &mgr;&idiagr;&eegr; dicke, biaxial verstreckte Polyestprfolie, die mit einer 1-2 &mgr;&idiagr;&eegr; dicken Schicht aus Polybutylmethacrylat (Rezept IX) versehen ist, mit Hilfe eines Drahtrakels aufgebracht und getrocknet.
Zur Herstellung einer kopierten Schaltung wird wie folgt gearbeitet:
Man laminiert das oben beschriebene Scnichtübertragungsmaterial auf eine gesäuberte Kupferoberfläche eines Trägers, der aus einer mit Glasfasern verstärkten Kunststoffplatte mit aufkaschierter Kupferhaut besteh* f zieht die Polyesterfolie ab und belichtet 1 Minute unter einer Negativvorlage mit dem in Beispiel 1 beschriebenen Gerät. Entwickelt wird eine Minute durch Tauchen in Xylol, dann spritzt man mit Xylol ab und trocknet mh. >·5 warmer Luft. Geätzt wird 20 Minuten mit einer Eisen-Ul-chloridlösung von 42° Be. Man entfernt das Resistbild durch Sprühen mit warmem Methylenchlorid
Beispiel 19
Eine Beschichtungslösung aus
15,00 Gt. Mischpolymerisat aus Methyimethacrylat, Butylmethacrylat und acryliertem Glycidylmethacrylat 1:1:1, hergestellt nach Beispiel 9 der US-Patentschrift 34 18 295,
2,34 Gt. Triäthylenglykoldiacrylat,
1,41 Gt. 2-tert.-Butyl-anthrachinon und
100,00 Gt. Trichlorethylen
wird auf 25 &mgr;&pgr;&igr; dickes Polypropylen, das mit einer 1-2 &mgr;&eegr;&igr; dicken Trennschicht eines Maleinatharzes (Rezept Viii) versehen ist, aufgetragen und getrocknet. Das Schichtgewicht der lichtempfindlichen Schicht beträgt etwa 8 g/m2.
Nun wird die Oberfläche durch Laminieren mit Polyäthylenfoüe gegen Staub und mechanische Beschädigung geschützt.
Zur Herstellung einer Ätzschutzschicht arbeitet man ähnlich wie in den zuvor beschriebenen Beispielen.
Beispiel 20
Der Vorteil einer Trennschicht wird durch folgenden Versuch demonstriert:
Man entfernt die Polyäthylenschutzfolie eines
Schichtübertragungsmaterials nach US-Patentschrift 34 69 982 und laminiert die freigelegte SUiichtoberfläche auf einen gesäuberten Kupferträger in der vom Hersteller empfohlenen Weise.
Belichtet wird entsprechend Beispiel 5 unter einer Gittertestplatte, daran anschließend mit Trichloräthylen entwickelt. Das Auflösungsvermögen beträgt 5 Linien/mm (Konstante 0,200).
In einem zweiten Versuch wird ähnlich verfahren, nur daß die Polyesterträgerfolie vor der Belichtung abgezogen wird. In diesem Fall liegt die Vorlage direkt auf der Schichtoberfläche auf.
Es wird wie oben belichtet und entwickelt. Will man
nun die Auflösung bestimmen, so stellt man fest, daß die Gitterelemente nicht die gleiche Stärke (= Tiefe) haben bzw. während des Entwicklungsvorganges teilweise ganz abgewaschen wurden.
Die Uneinheitlichkeit des Resistbildes läßt also die Bestimmung des Auflösungsvermögens nicht zu.
Dieses Ergebnis ist darauf zurückzuführen, daß die Vorlage während des Belichtungsvorgangs zum Teil auf der Schichtoberfläche aufgeklebt war, wodurch eine unterschiedliche Härtung der Bildstellen erfolgte.
Dieses Erscheinungsbild ist charakteristisch für alle thermoplastischen lichtempfindlichen Schichten.

Claims (6)

Patentansprüche:
1. Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes, bei dem man ein lichtempfindliches Übertragungsmaterial aus einem temporären Schichtträger, einer dünnen Trennschicht, die bei Erwärmen auf Temperaturen bis zu 1500C nicht klebrig wird und an einer lichtempfindlichen thermoplastischen Schicht stärker haftet als an dem temporären Schichtträger, einer lichtempfindlichen thermoplastischen Schicht — ggfs. einer Deckfolie, nach Abstreifen der ggfs. vorhandenen Deckfolie - durch Druck und Envärmen auf einen endgültigen Schichtträger auflaminiert, die lichtempfindliche thermoplastische Schicht belichtet und entwickelt, dadurch gekennzeichnet, daß man den temporären Schichtträger nach dem Auflaminieren des Übertragungsmaterials auf den endgültigen Schichtträger und vor dem Belichten ohne vorherige Einwirkung eines Lösungsmittels von der lichtempfindlichen thermoplastischen Schicht abzieht.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man ein Übertragungsmaterial mit einer Trennschicht verwendet, die in wäßriger oder wäßrig-alkalischen Lösungen löslich oder quellbar ist, und daß man die belichtete lichtempfindliche Schicht mit einer wäßrigen oder wäßrig-alkalischen Lösung entwickelt.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man ein Übertragungsmaterial mit einer Trennschicht verwendet, die für Luftsauerstoff wenig durchlässig ist.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man ein Ubertragungsmaterial mit einer Trennschicht verwendet, die aus einer hochpolymeren organischen Substanz mit aliphatischer Kette besteht, die höchstens 50% Einheiten mit aromatischen Substituenten enthält.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man ein Übertragungsmaterial mit einem temporären Schichtträger verwendet, der aus einer transparenten Kunststoffolie besteht.
6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man ein Ubertragungsmaterial verwendet, dessen lichtempfindliche thermoplastische Schicht eine photopolymerisierbare Schicht ist.
DE2123702A 1971-05-13 1971-05-13 Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes Expired DE2123702C3 (de)

Priority Applications (16)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2123702A DE2123702C3 (de) 1971-05-13 1971-05-13 Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes
NLAANVRAGE7205946,A NL173892C (nl) 1971-05-13 1972-05-03 Werkwijze ter vervaardiging van een kopie op een uiteindelijke drager.
US251351A US3884693A (en) 1971-05-13 1972-05-08 Light-sensitive transfer material
AT410172A AT320684B (de) 1971-05-13 1972-05-10 Lichtempfindliches Schichtübertragungsmaterial
ES402589A ES402589A1 (es) 1971-05-13 1972-05-10 Un procedimiento para la produccion de una copia sobre un soporte.
BE783297A BE783297A (fr) 1971-05-13 1972-05-10 Materiel de transfert de couche photosensible
IT50169/72A IT965783B (it) 1971-05-13 1972-05-10 Materiale di trasporto di strato fotosensibile
GB2215372A GB1388144A (en) 1971-05-13 1972-05-11 Light-sensitive transfer material
AR241931A AR192639A1 (es) 1971-05-13 1972-05-11 Material de transferencia fotosensible y procedimiento para la produccion de copias sobre este
JP4685872A JPS5640824B1 (de) 1971-05-13 1972-05-11
ZA723244A ZA723244B (en) 1971-05-13 1972-05-12 Light-sensitive transfer material
BR3016/72A BR7203016D0 (pt) 1971-05-13 1972-05-12 Material para transferencia de camadas sensiveis a luz e processo para obtencao de copias com emprego desse materia
AU42236/72A AU468311B2 (en) 1971-05-13 1972-05-12 Light-sensitive transfer material
DD163085A DD99022A5 (de) 1971-05-13 1972-05-12
FR7216960A FR2137799B1 (de) 1971-05-13 1972-05-12
CA141,957A CA1006741A (en) 1971-05-13 1972-05-12 Light-sensitive transfer material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2123702A DE2123702C3 (de) 1971-05-13 1971-05-13 Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2123702A1 DE2123702A1 (de) 1972-11-16
DE2123702B2 DE2123702B2 (de) 1979-11-08
DE2123702C3 true DE2123702C3 (de) 1988-05-26

Family

ID=5807731

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2123702A Expired DE2123702C3 (de) 1971-05-13 1971-05-13 Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes

Country Status (16)

Country Link
US (1) US3884693A (de)
JP (1) JPS5640824B1 (de)
AR (1) AR192639A1 (de)
AT (1) AT320684B (de)
AU (1) AU468311B2 (de)
BE (1) BE783297A (de)
BR (1) BR7203016D0 (de)
CA (1) CA1006741A (de)
DD (1) DD99022A5 (de)
DE (1) DE2123702C3 (de)
ES (1) ES402589A1 (de)
FR (1) FR2137799B1 (de)
GB (1) GB1388144A (de)
IT (1) IT965783B (de)
NL (1) NL173892C (de)
ZA (1) ZA723244B (de)

Families Citing this family (59)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4544619A (en) * 1970-03-03 1985-10-01 Shipley Company Inc. Photosensitive laminate
US4530896A (en) * 1970-03-03 1985-07-23 Shipley Company Inc. Photosensitive laminate
GB1507704A (en) * 1974-04-23 1978-04-19 Du Pont Photopolymerisable compositions
US4191572A (en) * 1975-06-03 1980-03-04 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for image reproduction using multilayer photosensitive element with solvent-soluble layer
JPS5917414B2 (ja) * 1975-10-07 1984-04-21 村上スクリ−ン （株） スクリ−ン版用感光性組成物及び感光膜
US4273857A (en) 1976-01-30 1981-06-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polymeric binders for aqueous processable photopolymer compositions
JPS6020735B2 (ja) * 1976-06-28 1985-05-23 富士写真フイルム株式会社 剥離現像可能な感光材料を用いる画像形成方法
DE2652942C3 (de) * 1976-11-22 1979-05-31 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Zweikomponenten-Diazotypiematerial
GB2000874B (en) 1977-07-12 1982-02-17 Asahi Chemical Ind Process for producing image and photosensitive element therefor and method of producing printed circuit board
JPS5420719A (en) * 1977-07-15 1979-02-16 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive material for image formation and image formation method
JPS6049301B2 (ja) * 1977-12-06 1985-11-01 富士写真フイルム株式会社 画像形成方法
DE2758575A1 (de) * 1977-12-29 1979-07-05 Hoechst Ag Lichtempfindliches schichtuebertragungsmaterial
US4321105A (en) * 1978-07-03 1982-03-23 Standex International Corporation Method of producing embossed designs on surfaces
WO1980001321A1 (en) * 1978-12-25 1980-06-26 N Smirnova Dry film photoresist
US4353978A (en) 1979-08-14 1982-10-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polymeric binders for aqueous processable photopolymer compositions
JPS57208556A (en) 1981-06-18 1982-12-21 Nippon Paint Co Ltd Photosensitive printing plate material
US4366227A (en) * 1981-06-26 1982-12-28 Polaroid Corporation Diffusion transfer film unit
US4448873A (en) * 1982-03-18 1984-05-15 American Hoechst Corporation Negative working diazo contact film
DE3236560A1 (de) * 1982-10-02 1984-04-05 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches schichtuebertragungsmaterial und verfahren zur herstellung einer photoresistschablone
JPH0656486B2 (ja) * 1983-07-27 1994-07-27 日本製紙株式会社 多色画像の形成方法およびこれに使用するための多色画像形成用材料
DE3409888A1 (de) * 1984-03-17 1985-09-19 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und dessen verwendung in einem verfahren zum herstellen einer druckform oder einer gedruckten schaltung
US4650738A (en) * 1984-10-22 1987-03-17 American Hoechst Corporation Negative working diazo color proofing method
US4659642A (en) * 1984-10-22 1987-04-21 American Hoechst Corporation Positive working naphthoquinone diazide color proofing transfer process
DE3447355A1 (de) * 1984-12-24 1986-07-03 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Vernetzbares harz, lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial auf basis dieses vernetzbaren harzes sowie verfahren zur herstellung einer flachdruckplatte mittels dieses lichtempfindlichen aufzeichnungsmaterials
EP0214304B1 (de) * 1985-02-26 1994-05-04 Sumitomo Chemical Company, Limited Polarisierender film
US4596757A (en) * 1985-04-05 1986-06-24 American Hoechst Corporation Photopolymerizable dual transfer negative working color proofing system
DE3736980A1 (de) * 1987-10-31 1989-05-18 Basf Ag Mehrschichtiges, flaechenfoermiges, lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3803457A1 (de) * 1988-02-05 1989-08-17 Basf Ag Flaechenfoermiges lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3827245A1 (de) * 1988-08-11 1990-02-15 Hoechst Ag Photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
US5001036A (en) * 1989-03-03 1991-03-19 E. I. Du Pont De Nemours And Company Multi-layer peel-apart photosensitive reproduction element containing a photorelease layer
US5360693A (en) * 1989-03-20 1994-11-01 Siemens Aktiengesellschaft Positive o-quinone diazide photoresist containing base copolymer utilizing monomer having anhydride function and further monomer that increases etch resistance
US5028511A (en) * 1989-05-30 1991-07-02 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for preparing a precolored image using photosensitive reproduction element containing a photorelease layer
DE4202282A1 (de) * 1991-01-29 1992-08-20 Fuji Photo Film Co Ltd Lichtempfindliches uebertragungsmaterial und bilderzeugungsverfahren
JP2873889B2 (ja) 1991-01-29 1999-03-24 富士写真フイルム株式会社 感光性転写材料及び画像形成方法
US5258236A (en) * 1991-05-03 1993-11-02 Ibm Corporation Multi-layer thin film structure and parallel processing method for fabricating same
JPH0580503A (ja) * 1991-06-25 1993-04-02 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性転写材料及び画像形成方法
US5298361A (en) * 1991-08-30 1994-03-29 Minnesota Mining And Manufacturing Company Light-sensitive article containing migration-resistant halomethyl-1,3,5-triazine photoinitiator
DE69325296T2 (de) * 1992-02-29 2000-02-24 Agfa-Gevaert N.V., Mortsel Bildaufzeichnungselement, als photoempfindliches Element eine photopolymerisierbare Zusammensetzung enthaltend
DE4243912A1 (de) * 1992-04-09 1993-10-14 Fuji Photo Film Co Ltd Lichtempfindliches Übertragungsmaterial und Bilderzeugungs-Verfahren unter Verwendung desselben
JP2832409B2 (ja) * 1992-06-09 1998-12-09 富士写真フイルム株式会社 光重合性樹脂材料及びこれを用いたプリント回路の作成方法
US6479193B1 (en) * 1992-06-30 2002-11-12 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Optical recording film and process for production thereof
JP3108251B2 (ja) * 1993-07-08 2000-11-13 富士写真フイルム株式会社 感光性転写材料
DE4430680A1 (de) 1994-08-29 1996-03-07 Hoechst Ag Lichtempfindliches Gemisch
DE4446196A1 (de) * 1994-12-23 1996-06-27 Basf Lacke & Farben Mehrschichtiges, flächenförmiges, lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Druckplatten
US5645963A (en) * 1995-11-20 1997-07-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method for making color filter elements using laminable colored photosensitive materials
US6117610A (en) * 1997-08-08 2000-09-12 Kodak Polychrome Graphics Llc Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use
DE19715169A1 (de) * 1997-04-11 1998-10-15 Basf Drucksysteme Gmbh Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichungungsmaterial
US6596391B2 (en) * 1997-05-14 2003-07-22 Honeywell International Inc. Very ultra thin conductor layers for printed wiring boards
DE69808587T2 (de) * 1997-11-27 2003-07-10 Agfa-Gevaert, Mortsel Strahlungsempfindliches Material mit einem mehrschichtigen Trägermaterial
DE19859623A1 (de) 1998-12-23 2000-08-24 Basf Drucksysteme Gmbh Photopolymerisierbare Druckformen mit Oberschicht zur Herstellung von Reliefdruckformen
JP2003098674A (ja) * 2001-09-21 2003-04-04 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性平版印刷版
JP4076845B2 (ja) * 2002-11-21 2008-04-16 富士フイルム株式会社 感光性転写材料
WO2008093643A1 (ja) * 2007-01-31 2008-08-07 Hitachi Chemical Company, Ltd. 感光性エレメント
US20090191491A1 (en) * 2008-01-28 2009-07-30 John Ganjei Method of Creating an Image in a Photoresist Laminate
KR20120055754A (ko) * 2010-11-22 2012-06-01 한국전자통신연구원 클리세 및 그의 제조방법
US9439291B2 (en) 2010-12-16 2016-09-06 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive element, method for forming resist pattern, and method for producing printed circuit board
CN103959169B (zh) * 2011-11-30 2017-05-17 互应化学工业株式会社 版膜形成用部件
CN102799070B (zh) * 2012-08-27 2014-03-05 珠海市能动科技光学产业有限公司 双层涂布的负性光致抗蚀干膜
TWI592760B (zh) * 2014-12-30 2017-07-21 羅門哈斯電子材料韓國有限公司 與經外塗佈之光致抗蝕劑一起使用之塗層組合物

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2650877A (en) * 1949-12-09 1953-09-01 Du Pont Process of producing etched printing plates
NL101499C (de) * 1951-08-20
US2852371A (en) * 1956-11-20 1958-09-16 Eastman Kodak Co Photographic duplicating process
US3057722A (en) * 1958-08-07 1962-10-09 Du Pont Photographic stripping film
NL248860A (de) * 1959-02-27
DE1285876B (de) * 1964-06-16 1968-12-19 Du Pont Fotopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
US3353955A (en) * 1964-06-16 1967-11-21 Du Pont Stratum transfer process based on adhesive properties of photopolymerizable layer
US3408191A (en) * 1964-10-28 1968-10-29 Du Pont Process of double exposing a photo-polymerizable stratum laminated between two supports, said double exposure determining the support which retains the positive image
US3445229A (en) * 1965-05-17 1969-05-20 Du Pont Photopolymerizable compositions,elements,and processes
US3481736A (en) * 1965-06-25 1969-12-02 Du Pont Process for composite color image reproduction by stratum transfer
DE1522515C2 (de) * 1965-08-03 1980-10-09 Du Pont Verfahren zur Herstellung gedruckter Schaltungen
DE1572153B2 (de) * 1966-06-27 1971-07-22 E I Du Pont de Nemours and Co , Wilmington, Del (V St A ) Fotopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
US3526504A (en) * 1966-07-07 1970-09-01 Du Pont Photocrosslinkable elements and processes
GB1128850A (en) * 1966-08-03 1968-10-02 Du Pont Improvements relating to the preparation and use of photo-resists
US3518087A (en) * 1967-04-26 1970-06-30 Eastman Kodak Co Gravure etch resist film
US3469982A (en) * 1968-09-11 1969-09-30 Jack Richard Celeste Process for making photoresists
BE755709A (fr) * 1969-10-29 1971-02-15 Shipley Co Procede d'application d'une reserve photographique sur un support et produit obtenu
DE2009733A1 (de) * 1970-03-03 1971-09-16 Siemens Ag Medizinische Gerategruppe
US3703373A (en) * 1970-06-15 1972-11-21 Eastman Kodak Co Processes and elements for preparation of photomechanical images

Also Published As

Publication number Publication date
FR2137799B1 (de) 1976-08-06
ZA723244B (en) 1973-02-28
AT320684B (de) 1975-02-25
AR192639A1 (es) 1973-02-28
BR7203016D0 (pt) 1973-05-31
AU4223672A (en) 1973-11-15
BE783297A (fr) 1972-11-10
DE2123702B2 (de) 1979-11-08
ES402589A1 (es) 1975-03-16
NL173892B (nl) 1983-10-17
GB1388144A (en) 1975-03-26
US3884693A (en) 1975-05-20
IT965783B (it) 1974-02-11
NL173892C (nl) 1984-03-16
JPS5640824B1 (de) 1981-09-24
CA1006741A (en) 1977-03-15
FR2137799A1 (de) 1972-12-29
DE2123702A1 (de) 1972-11-16
AU468311B2 (en) 1976-01-08
NL7205946A (de) 1972-11-15
DD99022A5 (de) 1973-07-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2123702C3 (de) Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes
DE2347784C3 (de) Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
DE2027467C3 (de) Photopolymerisierbare Kopiermasse
DE2752900C2 (de) Verfahren zum Aufbringen eines trockenen Photoresistfilms auf ein Substrat
DE2830622C2 (de) Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern unter Verwendung dieses Aufzeichnungsmaterials
DE2064080B2 (de) lichtempfindliches Gemisch
DE2358138A1 (de) Positiv oder negativ entwickelbare lichtempfindliche masse
DE3425328A1 (de) Lichtempfindliches gemisch und damit hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE2236941C3 (de) Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
DE3600442A1 (de) Photopolymerisierbare masse
DE2807933A1 (de) Photopolymerisierbares gemisch
EP0650094B1 (de) Lichtempfindliches Material und Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten
DE2446848A1 (de) Behandlungsmittel fuer ein fotorestbild
EP0141921A1 (de) Durch Strahlung polymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Kopiermaterial
DE2448850A1 (de) Verfahren zum aufbringen einer kopierschicht
DE3118884A1 (de) Verfahren zur herstellung von reliefkopien
DE1547849A1 (de) Lichtempfindliche Masse
DE2901956C2 (de) Transparentes, gefärbtes Bildmaterial und Verfahren zu seiner Herstellung
EP0703500B1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckform
EP0413216A2 (de) Photopolymerisierbares Schichtübertragungsmaterial
AT333796B (de) Verfahren zur ubertragung einer trockenen lichtempfindlichen schicht
DE3842448A1 (de) Lichtempfindliches aufzeichnungselement
DE2065914C3 (de) Flexibles, thermoplastisches, lichtempfindliches, vernetzbares positive Bilder lieferndes Gemisch
DE2059431C3 (de) Verfahren zur Direktherstellung positiver Fotoresistbilder
DE2461728A1 (de) Photopolymerisierbares material

Legal Events

Date Code Title Description
8281 Inventor (new situation)

Free format text: BAUER, GEB. SEIDE, SIGRID, DR., LUTRY, CH SIKORA, HELGA, 6202 WIESBADEN-BIEBRICH, DE

C3 Grant after two publication steps (3rd publication)