JPS6020735B2 - 剥離現像可能な感光材料を用いる画像形成方法 - Google Patents

剥離現像可能な感光材料を用いる画像形成方法

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JPS6020735B2
JPS6020735B2 JP51076742A JP7674276A JPS6020735B2 JP S6020735 B2 JPS6020735 B2 JP S6020735B2 JP 51076742 A JP51076742 A JP 51076742A JP 7674276 A JP7674276 A JP 7674276A JP S6020735 B2 JPS6020735 B2 JP S6020735B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は画像形成方法に関し、更に詳しくは活性光線露
光により接着力変化を誘起する感光性組成物と薄膜を有
する材料を用いて剥離現像により薄膜画像を形成する方
法に関するものである。
薄膜、例えば真空蒸着法により製造した金属薄膜と感光
性樹脂を組合せた材料を用いて、緑式現像処理により画
像を形成させ、その画像を例えば写真画像、印刷版画像
及びレリーフ画像として用いる方法は広く知られている
c これらのうちで画像露光後の湿式現像処理に属する
方法、及びそのための材料もたとえば特公昭49一38
435号、椿開昭48一65928号、特公昭50一5
053号および特関昭51一15422号などの各公報
に記載されており、広く知られたものである。これらの
方法は一般的には支持体上に金属等の薄膜層を設け、さ
らにその上に感光層を設けた材料を原画を通して活性光
線を用いて露光することにより画像を感光層に感光させ
しかる後に現像液で処理して露光部もしくは非露光部感
光層を除去し、感光層の画像を得る。更にその後に薄膜
溶解液で処理することにより感光層が除去された部分の
薄膜を溶解、除去して原画に対応した薄膜画像を得る。
これらの方法は非画像部の感光層除去、及び薄膜層除去
の二回の煩雑な湿式処理を行う欠点があった。これら二
格湿式処理の欠点を改良する材料及び方法がたとえば袴
開昭48一65927号、特関昭50−2925号およ
び特開昭50一13972ぴ号などの各公報に記載され
ている。これらの方法は一般的には支持体上に薄膜層を
設け、これにその上に感光層を設けた材料を原画を通し
て活性光線に露光することにより、画像を感光層に感光
させ、しかる後に現像液で処理することにより露光部も
しくは非露光部の感光層と薄膜層を一格で除去して薄膜
画像を得る。従釆のこれらの湿式現像方式はいずれも露
光部と未露光部の現像液に対する溶解性の違いを利用し
て感光層及び薄膜層を除去する行程を含み込むため、現
像液温度の制御、現像液の疲労に伴う交磯等の煩雑を作
業を含し、更に公害性の点でも大きな欠点を有していた
湿式現像方式が有するこれらの欠点を改良する一方法と
して感光層の乾式現像処理に属する一方法として剥離現
像処理による方法およびそのための材料がたとえば特公
昭38−9663号、特公昭43一22901号、特開
昭47一7728号、特関昭47−336323号、特
公昭48−43126号および侍関昭49一12302
1号などの各公報に記載されており、広く知られたもの
である。
これらの方法は一般的には支持体上に感光性組成物より
なる感光層設け、これにその上にうすし、透明プラスチ
ックフィルムを設けた材料を原画を通して活性光線を用
いて露光することにより画像を感光層に感光させ、しか
る後に透明プラスチックフィルムを剥離することにより
透明プラスチックフィルム上および支持体上に各々対応
する陰画と陽画を形成する方法である。また他の一般的
な方法としてはうすし、透明なプラスチックフィルムの
上に感光性組成物よりなる感光層を設け、これを金属、
ガラス、プラスチック、紙などの基体上に密着して蔭層
し、原画を通して活性光線を用いて露光することにより
画像を感光層に感光させ、しかる後に透明プラスチック
フィルムを剥離することにより基体上および透明プラス
チックフィルム上に各々対応する陰画と陽画を形成する
方法がある。このような剥離現像方式は画像形成段階に
おいて処理操作が簡便で、さらに著しい特長として処理
そのものがほぼ無公害であるので強い関○が持たれてい
る。しかしこれら従来の各公報に記載されている材3料
及び剥離現像方法では透明プラスチックフィルムを剥離
することにより機械的強度の大きな支持体上に設けた露
光部もしくは非露光部感光層のみを支持体から除去し、
感光層による画像を形成することを目的としていた。
また、支持体と感光層3の間に金属薄膜層を設けて、剥
離現像方式により原画に対応して選択的に感光層のみを
薄膜層から除去する方法の例が特開昭50−13972
0に記載されているが、この方法では剥離シートと感光
層の間の接着力、感光層と薄膜層の間の接着力の各々夕
が、感光層のみが薄膜層から原画に対応して除去される
ように作用しているために、薄膜層を感光層と共に支持
体から原画に対応して剥離除去することはできなかった
。以上の理由から、支持体上に談支持体より剥離可能で
あり、かつ該支持体に比べて機械的強度の小さな蒸着膜
等の薄膜を設け、該薄膜層を俊露光後に感光層と共に選
択的に除去して原画に対応した薄膜画像を形成する方法
は現在まで見出されていなかった。本発明者らは、薄膜
による画像を完全乾式化するための材料と方法を鋭意研
究していたところ、感光層と支持体の間に接着性層を設
け、更に薄膜の製造方法と膜厚等を適宜に選択組合せる
ことに0より、像露光後、支持体より薄膜層を感光層と
共に原画に対応して選択的に剥離し、現像、薄膜画像形
成過程を完全に乾式化するための好ましい感光材料及び
それを用いる画像形成方法を見出し、本発明に到達した
ものである。
タ 艮Pち、本発明は下部支持体の上に後述の感光性組
成物と異なる物質からなる薄層及び光分解性ジアゾ化合
物またはアジド化合物を含む感光性組成物の層をこの順
に有する感光性積層物を活性光線を用いて画像露光した
後に、該感光性積層物と上0記支持体の上に接着性組成
物の層を有する接着性積層物とを上記画像露光した感光
性組成物の層と該接着性組成物の層とが互いに隣接する
ように穣層し、該積層と同時またはその後に加熱し、つ
いで前記支持体の一を剥離して該上部支持体、該接着性
組成物の層及び該感光性組成物の層とともに該画像露光
時の露光部分に対応する領域における該薄膜の厚味方向
の全部又は一部を上記画像露光に対応して選択的に該感
光性組成物の層に接着した状態で除去する画像形成方法
である。
本発明の原理は以下のように記述される。
本発明の感光材料を構成する非露光領域の感光層に接し
た薄膜層と下部支持体間の接着力が「薄膜層と感光層間
の接着力、接着性組成物と感光層間の接着力、接着性組
成物層と上部支持体間の接着力及・び薄膜層、感光層、
接着性組成物層の各々の凝集力のいずれよりも大きく、
かつ露光された領域の感光層に接した薄膜層と下部支持
体間の接着力が上記の接着力もしくは凝集力のいずれか
一つよりも小さくなり、像露光後の下部支持体又は上部
支持体の剥離により露光部の薄膜層の厚味方向の全体又
はその一部が感光層と共に原画に対応して選択的に除去
され、下部支持体上に原画に対して薄膜の陽画が得られ
、上部支持体上には陰画が得られる。本発明の感光材料
に活性光線を露光することにより、上述の接着力変化を
誘起させるために、感光性組成物は露光により感光層と
接着性組成物層、感光層と薄膜層の間の接着力もしくは
各層の凝集力を変化させるものである必要があり、光分
5解反応を含む光化学反応をおこす感光材料が用いられ
る。
さらに望ましい接着力のバランスを調節するために、例
え‘ま後述する接着性組成物の層中の粘着力付与剤の種
類及び添加量変化等の操作を行う必要がある。
ZO以上述べた所から明らかなご
とく、本発明の感光材料及びそれを用いる画像形成方法
は、下部支持体と上部支持体及びそれらの間におかれた
薄膜層、感光層、接着性組成物層からなる積層物を使用
し、単に上部支持体あるいは下部支持体を剥離Zすると
いう手段を採用するものであるが、この手段のみによっ
てパターン作製という目的を達成するためには薮着性組
成物層、感光層、薄膜層等の材質の組合せ及び薄膜等の
製造方法が本発明の目的を達成し得るように選択せられ
ねばならない。2この組合せ、製造方法について極めて
多数のものが考えられる。
要するに本発明においては象露光後に原画に対応して下
部支持体上の薄膜層が剥離により、簾露光時の露光部分
が選択的に下部支持体上より除去される現象を発見し、
これを利用し2て極めて簡便な手段で現像液を全く使用
することなく行いうる薄膜画像作製方法を提供するもの
である。本発明に用いられる上部支持体及び下部支持体
の各々の性質は像露光の方法により異なる。
嫁霧3光を感光層の側からおこなう場合には、下部支持
体は感光層の感光波長城の光線に対して透明、不透明い
ずれでもよい。さらに上部支持体は活性光線に対して透
明、不透明いずれでもよい。
また下部支持体上の薄膜層が感光層の感光波長域の光線
に対して透明である場合、優麗光を下部支持体を通して
おこなうこともできる。この場合には下部支持体は活性
光線に対して透明である必要があるが、上部支持体は透
明、不透明いずれでもよい。前述の磯露光の方法何如に
かかわらず、少くとも上部支持体または下部支持体のい
ずれか一方は剥離操作を行うために可嬢性の支持体であ
る必要がある。本発明の感光材料に画像露光をする場合
、安価で強い光量が得られる光源、例えば水銀灯、キセ
ノン灯等は近紫外域から可視域にかけて強い光線を発す
る。
また像露光する光学装置の光学系にガラスを用いること
が一般的に多いことから、本発明に用いられる感光性組
成物は約29mmの近紫外城から約65仇mまでの可視
域の範囲内に感光波長域を有するもので適している。そ
のため下部支持体側から像露光するときは、下部支持体
は、約29仇mから可視城の光線に対して50%以上、
好ましくは65%以上の透過率を有する透明な支持体で
あることが望ましい。本発明に用いられる可携‘性を有
しかつ活性光線に対して透明な支持体としては、薄ガラ
スの他に最も適したものとして透明プラスチックフィル
ムがある。
透明プラスチックフィルムの代表例としては、ポリアミ
ド、ポリオレフィン、ビニル重合ポリマー、ポリエステ
ルおよびセルロースのような高重合体からなるフィルム
が好適である。それらの具体例としては、ポリへキサメ
チレンセバカミド(6,10−ナイロン)、ポリへキサ
メチレンアジポアミド(6,6−ナイロン)、ポリカプ
ラミド(6−ナイロン)、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリビニルクロリド、ポリビニルアルコール、ポリ
スチレン、ポリテトラフルオロエチレタン、ビニルクロ
リドービニリデンクロリド共重合物、スチレンービニル
アセテート共重合物、ポリエチレンテレフタレート、エ
チレンテレフタレートーエチレンイソフタレートコポリ
エステル、セルロースジアセテート、セルローストリア
セテーoト、セルロースプロピオネート、セルロースア
セテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレ
ート、ビスコースレーョン等のフィルムがある。透明プ
ラスチックフィルムの厚さは剥離現像時にフィルムが破
壊することないこ剥離する強度夕を有する厚さより大き
ければよい。一般的には透明プラスチックフィルムの厚
さは10材のから2肌までの範囲であり、好ましくは1
5山机から0.5脚までの範囲である。これらの可捺性
支持体の表面をコロナ放電、紫40外線照射、火焔処理
、粗面化等の予備処理をすることもできる。
更に感光材料の目的に応じて、活性光線の透過を著しく
妨げない染料・顔料を添加して着色透明にすることもで
きる。
また本発明に用いられる活性光線に対して透明で、硬い
支持体の例として、石英ガラス、ソーダガラス等のガラ
スがあげられる。
また本発明で用いられる可孫性で活性光線に対して不透
明な支持体には、紙の如く元来不透明なもののほか透明
フィルムに染料や酸化チタンの如き顔料等を加えたもの
、或は特公昭47−19068号公報に記載されている
ような方法で表面処理したプラスチックフィルム、更に
はカーボンブラック、染料等を加えて完全に遮光性とし
た紙、プラスチックフィルム等も含まれる。また支持体
表面をコロナ放電、紫外線照射、火焔処理等の予備処理
をすることもできる。更に本発明に用いられる不透明で
硬い支持体としては金属、例えば銅、アルミニウム、亜
鉛、鉄、ステンレス合金、黄鋼など、陶器などの焼結物
等の硬い支持体を用いることもできる。
金属支持体を用いるときには表面酸化(例えば陽極酸化
)、粗面化(例えば砂目立て、ケミカルエッチング)等
の予備処理をすることもできる。 2本発明に用い
られる下部支持体上の薄膜層の材料は、剥離操作により
下部支持体から感光層と共に原画に対応して選択的に除
去されるように適当な凝集力、及び下部支持体と薄膜層
、薄膜層と感光層の間にそれぞれ適当な接着力を有して
いれば2その材料の種類は特に限定されない。薄膜層材
料は、目的に応じて金属、無機化合物、有機化合物の中
から適宜選択される。金属としては、例えば鉄、アルミ
ニウム、錫、鉛、金、銀、ニッケル、カドニゥム、クロ
ム、亜鉛、マグネシウム等があ3り、またそれらの金属
を含有する合金を用いることもできる。無機化合物とし
ては例えば酸化錫、酸化クロム、酸化鉄、酸化アルミニ
ウム、酸化亜鉛、酸化銅等の金属酸化物、臭化銀、硫化
錫、硫化銀、碗3化亜鉛等の塩類、枇素、硫黄、ゲルマ
ニウム、テルル等のカルコゲン族元素を含む焼結物であ
るカルコゲンガラス、金属酸化物の糠結物(例えばフェ
ライト)等があげられる。
更に有機化合物としては例えば染料、顔料等のチ着色材
、ポリN−ビニルカルバゾール等のポリマー類があげら
れる。
また、薄膜層としては上述の金属、無機化合物、又は有
機化合物を高分子物質に分散又は溶解した材料を用いて
もよい。本発明に用いられる薄膜層の製造方法は、目的
に応じて、例えば真空蒸着法、スパッタリング、電子ビ
ーム蒸着法、塗布法および無電解〆ッキ法等、薄膜製造
方法として公知の種々の方法の中から材料の性質と目的
に応じて適宜選択すればよい。
本発明に用いられる感光性組成物は光分解性ジアゾ化合
物またはアジド化合物と高分子結合剤とからなるものが
使用される。
感光性物質である光0分解性ジアゾ化合物またはアジド
化合物は高分子結合剤に比べて低分子物質なため、下部
支持体より薄膜を除去するために必要とされる凝集力を
有しない。従って、この凝集力を付与する為に高分子結
合剤が併用される。好ましい光分解性ジアゾタ化合物ま
たはアジド化合物としては、例えばoーキノンジアジド
、ベンゼンジアゾニウムクロリド等のジアゾ化合物、1
ーアジドナフタリンー4−スルホニルクロリド、pーア
ジドアニソール等のアジド化合物が含まれる。高分子結
合剤としては、例えばェポキシポリマ−、不飽和ポリエ
ステル等の熱硬化性ポリマー又は例えばポリ塩化ビニル
、塩素化ポリエチレン等のポリ塩素化炭化水素、ポリス
チレン等のビニル重合ポリマー、ポリエチレンテレフタ
レート等のポリエステル、ポリブタジエン、ポリエチレ
ンオキシド等の熱可塑性ポリマーのいずれにも限定され
ない。
但し、後述する実施例で示される如く、高分子結合剤と
して熱可塑性ポリマーを用い、上部支持体上の接着層が
、下部支持体、薄膜層、感光層からなる積層物の感光層
に接するように重ねてラミネートして積層物を構成する
際に加熱、もしくはラミネート後に加熱すると、良候な
結果が得られる。本発明に用いられる感光性組成物層に
は、感光波長城を長波長側に広げ、更には像露光時間を
短縮する目的の上で増感剤の添加が必須又は好ましい。
この目的のために使用される増感剤は、材料の種類を目
的によって従来公知のものから適宜選択される。例えば
アジト化合物に対してはピリリウム塩、1−ニトロピレ
ン等、更に例えば重合性不飽和結合を有するアクリル酸
ェステル類の糟感剤に対してはペンゾフェノン、ベンジ
ル等のカルボニル化合物、アゾビスィソブチロニトリル
等のアゾ化合物、四臭化炭素、2−ナフタリンスルホニ
ルクロリド等のハロゲン化合物等が好適に使用されるこ
とが例えば角田隆弘著「感光性樹脂」(印刷学会出版部
、1972王発行、東京)に記載されている。本発明に
用いられる感光性組成物中には、材料の保存安定性を改
良する目的で必要に応じて保存安定化剤を添加すること
もできる。
さらに本発明に用いられる感光性組成物中には、必要に
応じて、後述する接着性組成物層中に含まれる粘着付与
剤及び可塑剤と同様の粘着付与Z剤及び可塑剤を適宜添
加することができる他、着色剤を添加することができる
着色剤としては、例えばフタロシアニン系顔料、アゾ顔
料等の顔料や、トリフェニルメタン系染料、アントラキ
ノン系染料の染料などがあるが、使用される着色剤が感
光性物質の吸収波長の光を吸収しないものが好ましい。
本発明に用いられる感光性組成物は溶媒に溶かして塗布
液となし、これを前述の下部支持体上の薄膜上に塗布し
、乾燥して塗膜して用いるのが一般的である。
塗布液の溶媒としては、感光性組成物を溶解すると共に
、下部支持体上の薄膜層を著しく損傷しないことが必要
である。例えば、下部支持体上の薄膜材料が金属もしく
は無機化合物の場合には、例えばエチルアルコール、メ
チルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエ
チルケトンなどの如きケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル等のェステル類、トルェン、キシレンなどの如き芳香
族炭化水素類等の通常用いられる溶剤の中から感光性組
成物に好適な溶剤を選択すればよいが、下部支持体上の
薄膜材料が有機物を含む場合には、例えば薄膜層の熔解
、勝潤等による薄膜層と感光層の混合等の薄膜層の著し
い損傷が生じないように溶剤を注意深く選択する必要が
ある。また、薄膜層と該感光性組成物層の中間に、下部
支持体上に設けた薄膜層とは異なる薄い層を設けて、感
光層の塗布を行い易くすることも可能である。本発明に
用いられる接着性組成物は高分子物質と粘着付与剤とを
必須の成分として含有する組成物を用いることができる
高分子物質としてはゴム系高分子物質、セルロース系高
分子物質およびビニル系高分子物質がある。ゴム系高分
子物質の例としては、天然ゴム、ブタジェンスチレンゴ
ム、イソブチレンイソプレンゴム、ポリクロロプレン、
ポリブチル、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ブタジ
ェンアクリロニトリルゴム、塩化ゴム、シリコーンゴム
等がある。セルロース系高分子物質の例としては、エチ
ルセルロース、ブチルセルロース、ベンジルセルロース
、ニトロセルロース、セルロースジアセテート、セルロ
ースプロピオネート、セルロースアセテートプロピオネ
ート、セルロースアセテートブチレート等がある。0ビ
ニル系高分子物質としては、ポリ塩化ビニル、ポリアク
リル酸、ポリアクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル
、ポリアクリル酸プチル、ポリメタアクリル酸、ポリメ
タァクリル酸メチル、ポリビニルエーテル、ポリビニル
アセタールおよびこょれらの共重合物等がある。
粘着付与剤の例としてはガムロジン、ウッドロジン、水
素添加ロジン、アビェチン酸メチル、アビェチン酸メチ
ル水素添加物、アビェチン酸ジェチレングリコール、2
−ヒドロアビェチン酸ジェ0チレングリコール、ロジン
のモノエチレングリコールエステル、ロジンのペンタエ
リトリトールエステル、ロジンのグリセリンエステル、
ロジンのメタノールェステル、前記のロジンのェステル
の水素添加物、クマロンィンデン樹脂、アルキド樹夕脂
、テルベン樹脂(たとえばポリ(1,8−p−メンタジ
ェン))、キシレン樹脂、ェポキシ樹脂、テルベンフヱ
ノール樹脂、ポリブデン、ポリベンテン、ダンマー、コ
ーパル、動物性油脂、植物性油脂、鉱物油などがある。
0 ゴム系高分子物質およびビニル系高分子物質を用い
る場合には、さらに同時に可塑剤を接着剤組成物中に含
有させる必要がある。可塑性の例としては、ジメチルフ
タレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、
ジオクチルフタレータト、ジシクロヘキシルフタレート
、ジメチルグリコールフタレート、ブチルフタリルブチ
ルグリコレート、トリエチレングリコール、塩化ジフェ
ニル、ジイソブチルアジベート、ジメチルセ/ゞケート
等がある。0 粘着性組成物には、さらに必要に応じて
、酸化防止剤、着色剤、無機および有機の充填剤などを
含有させることができる。
接着性組成物はベンゼン、トルェン、エチルベンゼン、
キシレン等の芳香族炭化水素、ベンタン、シクoヘキサ
ン、オクタン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水
素、メチルエーテル、エチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロ
ロメタン、ジクロロェタン、クロロベンゼン等のハロゲ
ン化炭化水素等に代表される溶媒に溶解させて溶液とし
て、公知の方法により上部支持体上に塗布し、乾燥して
用いるのが一般的である。溶媒を除去した後の接着性組
成物の層の厚さは0.5仏のから50ぶれまでの範囲、
好ましくは1仏のから20仏のまでの範囲である。接着
性組成物の層を設けた支持体として最も容易に用いるも
のとしては、市販の感圧接着性のセロハンテープまたは
シート、紙テープまたはシート、布テ−プ、ポリエステ
ルテープ、またはシート、ポリ塩化ビニルテープまたは
シート等がある。次に本発明に用いる材料の一般的な作
製手順を説明する。
作製手順は次の方法に限定されるのではなく、当業者が
熟知する公知の方法を応用して適宜に変更することも本
発明の材料の作製方法に含まれるのである。すでに述べ
たごとくして下部支持体上に薄膜層と感光性組成物の層
を設けた感光性積層物を画像露光後、接着性組成物の層
を表面上に設けた支持体からなる接着性積層物を、感光
性組成物の層と接着性組成物の層とが相接するようにし
て、適宜に圧力をかけて一体に積層する。
この際に材料のすべての部分の積層が均一におこなわれ
るようにラミネータを用いることが好ましい。積層する
際の温度は0℃から150qoまでの範囲であればさし
つかえないが、好ましくはl5ooから100ooまで
の範囲である。ラミネート温度が常温以下で行なわれる
場合には、次いで薄膜層と感光層の間の接着力、感光層
と接着性層の間の接着力等を調節するために材料が加熱
される。更にこの加熱処理を、目的に応じて活性光線露
光の際に材料と熱板を密着させたり、赤外線照射等の方
法によりおこなうこともできる。ついで可榛性上部支持
体もしくは可操性下部支持体を材料から剥離することに
より現像が行なわれる。以上の操作手順により剥離され
た上部支持体上には、原画の透明部分に対応する薄膜層
が残留して上部支持体上に原画に対応する陰画が得られ
、下部支持体上に原画に対応する陽画が形成される。上
述の操作手順から明らかなように、本発明は下部支持体
上に設けた薄膜層を画像状に剥離することにより、従来
試みられていなかった画像形成過程の完全乾式化に初め
て成功した方法を提供するものである。
また、従来の湿式現像方法に比較して、無公害、簡便な
現像操作等の点で大きな長所を有していると共に、更に
本発明の方法によって得られた画像は、薄膜層材料を選
択することにより写真画像の用塗以外に、非常に広範囲
の用途に用いられることも大きな長所である。例えば薄
膜層材料として銅、アルミニウム等の金属を用いればプ
リント回路用導電性パターン、鉄、ニッケルークロム合
金等を用いれば電気抵抗体パターン、ニッケル、クロム
、フェライト等の強磁性体を用いれば磁性パターン、酸
化錫等の透明金属酸化物を用いれば透明電極パターン、
酸化亜塩、カルコゲンガラス等の光半導体を用いれば光
半導体電極パターン等の機能を持った薄層画像、他に平
版凸版およびグラビア等の印刷用刷版等を用いることが
できる。また、本発明は、後述する実施例で示される如
く、感光層の結合剤の種類を変えたり、画像形成操作を
変えること等により従来の湿式現像方法では困難であっ
た中間調画像を得ることができることでも大きな長所を
有している。
以下に本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。
実施例 1 ポリ酢酸ビニル(ダイセル■製、セビアンA・タイプ0
0&平均重合度3000)500の9と下記構造式のジ
アゾニウム塩の400雌をアセトン/メタノール(lv
ol/5vol)混合溶媒12の‘に溶解した。
厚さ50山舵のポリエチレンテレフタレート支持体(下
部支持体)上に設けたアルミニウムの真空蒸着膜層(蒸
着膜層5肌m)上に、上記の感光液を塗布榛に用いて塗
布して感光性積層物を作製した。80qC、10分間乾
燥後の感光層の厚さは4Aのであった。
この感光材料の感光層の上に画像を有する透明原稿を密
着して、超高圧水銀灯(250W、ウシオ電機■製)を
用いて30伽の距離で29秒間露光した。次いで積水化
学■製のポリエステルを支持体(上部支持体)とする接
着性積層物(接着テープ、セキスィ ポリェステルフィ
ルムNo.20)を画像露光後の感光層上に12000
に加熱したロールを用いてラミネートした。室温(2才
0)に冷却後、接着性積層物を剥離することにより、下
部支持体の上に原稿に対応したアルミニゥム蒸着膜の陽
画が、接着性積層物の上に原稿に対応したアルミニゥム
蒸着膜の陰画が形成されていた。得られた画像はほとん
ど可視光線を通さず、コントラストの高いものであった
。実施例 2 ポリエチレンオキシド(明成化学■製、アルコックスE
−30、平均分子量40万)500の9と下記構造式の
ジアゾニゥム塩200松9をジメチルホルムアミド13
.5のこ溶解した。
この感光液を実施例1で用いたのと同じアルミニウム真
空蒸着膜層上に塗布棒を用いて塗布して感光性積層物を
作製した。
80o0、10分間乾燥後の感光層の膜さは5ムのであ
った。
この感光層の上に画像を有する透明原稿を密着して、実
施例1と同じ方法により30秒間露光した。次いで実施
例1で用いた接着性積層物を画像露光した感光層上に室
温(23q○)で、加圧ロールを用いてラミネートした
。この積層物(感光材料)を恒温乾燥機の中で1000
0、1分間加熱後、室温(23℃)放置して冷却した。
ただちに接着性積層物を剥離することにより、下部支持
体の上に原稿に対応したアルミニウム燕着膜の陽画が、
接着性積層物の上に原稿に対応した蒸着膜の陰画が形成
されていた。得られた画像は実施例1と同機に良好であ
った。実施例 3ポリ塩化ビニル(日本ゼオン欄製、ゼ
オン25、軟化」点10000)500の9と下記構造
式のジアゾニゥム塩200雌をテトラヒドロフラン14
外こ溶解した。
この感光液を実施例1で用いたのと同じアルミニウム蒸
着膜の上に塗布棒を用いて塗布し、恒温乾燥機中で50
こ0、1び分間乾燥して感光性積層物を作製した。乾燥
後の感光層膜厚は3山肌であった。この感光層の上に画
像を有する透明原稿を密着して、実施例1と同じ方法に
より3岬砂・露光した。
次いで実施例1で用いた接着性積層物(接着テープ)を
画像露光した感光層上に室温(23qC)下、加圧ロー
ルを用いてラミネートした。この積層物(感光材料)を
恒温乾燥機の中で100oo、1分間加熱後、室温放置
して冷却した。ただちに接着テープを剥離することによ
り、下部支持体の上に原稿に対応したアルミニゥム蒸着
膜の陽画が、接着性積層物の上に原稿に対応した蒸着膜
の陰画が形成されていた。得られた画像は実施例1と同
様に良好であった。実施例 4 ポリ塩化ビニル(日本ゼオン■製、ゼオン25、軟化点
10000)500の9と下記構造式のジアジド化合物
200雌をテトラヒドロフラン14のこ溶解した。
この感光液を実施例1で用いたのと同じアルミニウム真
空蒸着族層上に塗布榛を用いて塗布して感光性積層物を
作製した。8000、10分間乾燥後の感光層の膜厚は
3仏仇であった。
この感光層の上に画像を有する透明原稿を密着して、実
施例1と同じ方法により3の抄間露光した。次いで実施
例1で用いた接着性積層物(接着テープ)を画像露光し
た感光層上に室温(2yo)下、加圧ロールを用いてラ
ミネートした。この積層物(感光材料)を恒温乾燥機の
中で10000、1分間加熱後、室温(2y0)放置し
て冷却した。ただちに接着性積層物を剥離することによ
り、下部支持体の上に原稿に対応したアルミニゥム蒸着
膜の陽画が、接着性積層物の上に原稿に対応した蒸着膜
の陰画が形成されていた。得られた画像は実施例1と同
様に良好であった。実施例 5 実施例4で用いたポリ塩化ビニル500のpと下記構造
式のジアジド化合物200の9をテトラヒドロフラン1
4夕を溶解した。
この感光液を実施例1で用いたのと同じアルミニウム真
空蒸着膜層上に塗布榛を用いて塗布して感光性積層物を
作製した。
8000、10分間乾燥後の感光層の膜厚は3Aのであ
った。
この感光層の上に画像を有する透明原稿を密着して、実
施例1と同じ方法により3の砂、間露光した。次いで実
施例1で用いた接着性積層物(接着テープ)を画像露光
した感光層上に室温(23oo)下、加圧ロールを用い
てラミネートした。この積層物(感光材料)を、陣温乾
燥機の中で10000、1分間加熱後、室温(23oo
)放置して冷却した。ただちに接着テープを剥離するこ
とにより、下部支持体の上に原稿に対応したアルミニウ
ム蒸着膜の陽画が、接着性積層物の上に原稿に対応した
蒸着膜の陰画が形成されていた。得られた画像は実施例
1と同機に良好であった。実施例 6 実施例5で作製したポリエチレンテレフタレートフィル
ム上のアルミニウム真空蒸着膜層と感光層とを有する感
光性積層物を用いて、中間調を有するネガのハロゲン化
銀写真画像を感光層に密着させ、実施例1と同じ方法に
より3栃砂間露光した。
次いで実施例1で用いた接着性積層物(接着テープ)を
画像露光した感光層上に室温(24qo)で加圧ロール
を用いてラミネートした。この積層物を熱板により10
0℃、1分間加熱後、室温(24℃)放置して冷却した
。ただちに接着性積層物を剥離することにより、下部支
持体の上に原稿に対応した中間調を有するアルミニゥム
蒸着膜の陽画が、接着性積層物の上に原稿に対応した中
間議を有するアルミニウム蒸着膜の陰画がそれぞれ形成
されるてし、た。実施例 7 厚さ50ム仇のポリエチレンテレフタレートフィルム(
下部支持体)の上に真空蒸着法により膜厚100肌仏の
ニッケル蒸着膜を作製した。
この蒸着膜層上に実施例5で用いた感光液を塗布棒を用
いて塗布して感光性積層物を作製した。5000、1唯
了間乾燥後の感光層の膜厚は3一肌であった。
この0感光層の上に画像を有する原稿を密着して、実施
例1と同じ方法により3の抄間露光した。次いで実施例
1で用いた接着性積層物(接着テープ)を画像露光した
感光層上に室温(230o)下、加圧ロールを用いてラ
ミネ−トした。この積層物(感光材タ料)を垣温乾燥機
の中で100oo、1分間加熱後、室温(23oo)放
置して冷却した。ただちに接着テープを剥離することに
より、下部支持体の上に原稿に対応したニッケル蒸着膜
の陽画が、接着性積層物の上に原稿に対応した蒸着膜の
陰画が形成さひれていた。得られた画像は実施例1と同
様に良好であった。実施例 8 厚さ50仏ののポリエチレンテレフタレートフィルム(
下部支持体)上に真空蒸着法により膜厚50の仏の銅蒸
着膜を作製した。
この蒸着膜層上に実施例5で用いた感光液を塗布棒を用
いて塗布して感光性積層物を作製した。50こ0、10
分間乾燥後の感光層の膜厚は3山肌であった。
この感光層の上に画像を有する透明原稿を密着して、実
施例1と同じ方法により3硯砂間露光した。次いで実施
例1で用いた接着性積層物(接着テープ)を画像露光し
た感光層上に室温(2yC)下、加圧ロールを用いてラ
ミネートした。この積層物(感光材料)を陣温乾燥機に
中で100午0、1分間加熱後、室温(23℃)放置し
て冷却した。ただちに接着テープを剥離することにより
、下部支持体の上に原稿に対応した蒸着膜の陽画が、接
着性積層物の上に原稿に対応した蒸着膜の陰画が形成さ
れていた。得られた画像は実施例1と同様に良好であっ
た。実施例 9厚さ50仏ののポリエチレンテレフタレ
ートフイルム(下部支持体)の上に真空蒸着法により、
重量組成がニッケル80%、クロム20%の合金からな
る膜厚100の仏のニッケルークロム合金蒸着膜を作製
した。
この蒸着膜層上に実施例6で用いた感光液を塗布榛を用
いて塗布して感光性積層物を作製した。5000、10
分間乾燥後の感光層の膜厚は3山mであった。
この感光層の上に画像を有する原稿を密着して、実施例
1と同じ方法により3硯砂間 夕霧光した。次いで実施
例1で用いた接着性積層物(接着テープ)を画像露光し
た感光層上に室温(2yo)で加圧ロールを用いてラミ
ネートした。この積層物(感光材料)を、垣温乾燥機の
中で10000、1分間加熱後、室温(23o○)放置
して冷Z却した。ただちに接着性積層物を剥離すること
により、下部支持体の上に原稿に対応したニッケル−ク
ロム蒸着膜の陽画が、接着性積層物の上に原稿に対応し
た蒸着膜の陰画が形成されていた。得られた画質は実施
例1と同様に良好であった。 Z実施例 10厚さ50
仏肌のポリエチレンテレフタレートフイルム(下部支持
体)の上に真空蒸着法により枇素20%、硫黄80%の
比率のカルコゲンガラスからなる腰厚100肌仏の力ル
コゲン蒸着膜を作製した。
この蒸着膜層上に実施例5で用いた感光液を塗布棒を用
いて塗布して感光性積層物を作製した。50℃、10分
間乾燥後の感光層の膜厚は3仏仇であった。
この感光層の上に画像を有する透明原稿を密着して、実
施例1と同じ方法により3頃砂間露光した。次いで実施
例1で用いた接着性積層物(接着テープ)を画像露光し
た感光層上に室温(2300)で加圧ロールを用いてラ
ミネートした。この積層物(感光材料)を、垣温乾燥機
の中で10000、1分間加熱後、室温(23qo)放
置して冷却した。ただちに接着性積層物を剥離すること
により、下部支持体の上に原稿に対応した力ルコゲン蒸
着膜の陽画が、接着性積層物の上に原稿に対応した蒸着
膜の陰画が形成されていた。得られた画像は実施例1と
同様に良好であった。実施例 11 下記の組成の接着性組成物の溶液を調製した。
天然ゴム(スモークドシート) log水素添加
ロジンのグリセリンエステル
1M トルエン 60mZ上
記の溶液を厚さ100仏肌のポリエチレンテレタフタレ
ートフィルム(上部支持体)の上に塗布し、9000で
2び分乾燥して接着性積層物を作製した。
乾燥後の接着性組成物の層の厚さは3仏仇であった。こ
の接着性積層物を実施例8と同様にして得た0画像露光
した感光性積層物の感光層の上に加圧ロールを用いてラ
ミネートした。
この積層物(感光材料)を熱板を用いて100℃、2分
間加熱後、室温(2400)放置して冷却した。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 下部支持体の上に後述の感光性組成物と異なる物質
    からなる薄層及び光分解性ジアゾ化合物またはアジド化
    合物と高分子結合剤とからなる感光性組成物の層をこの
    順に有する感光性積層物を活性光線を用いて画像露光し
    た後に、該感光性積層物と上部支持体の上に接着性組成
    物の層を有する接着性積層物とを上記画像露光した感光
    性組成物の層と該接着性組成物の層とが互いに隣接する
    ように積層し、該積層を同時にまたはその後に加熱し、
    ついで前記支持体の一を剥離して該上部支持体、該接着
    性組成物の層及び該感光性組成物の層とともに該画像露
    光時の露光部分に対応する領域における該薄層の厚味方
    向の全部又は一部を選択的に該感光性組成物の層に接着
    した状態で除去することを特徴とする画像形成方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6412525U (ja) * 1987-07-14 1989-01-23

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53140029A (en) * 1977-05-13 1978-12-06 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Working method
US4347300A (en) * 1977-06-02 1982-08-31 Polychrome Corporation Imaging peel apart element employing two photohardenable layers
JPS5479027A (en) * 1977-12-05 1979-06-23 Kimoto Kk Dry picture forming material
JPS5479034A (en) * 1977-12-06 1979-06-23 Fuji Photo Film Co Ltd Image formation method
JPS5858546A (ja) * 1981-10-02 1983-04-07 Kimoto & Co Ltd 製版用感光性マスク材料
US4511641A (en) * 1983-02-02 1985-04-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Metal film imaging structure
US5156941A (en) * 1986-06-17 1992-10-20 Kyodo Printing Co., Ltd. Method of producing an optical or magneto-optical recording card and transfer type optical or magneto-optical recording medium
JPH0614414B2 (ja) * 1986-06-17 1994-02-23 共同印刷株式会社 転写型光記録媒体
JP2698346B2 (ja) * 1986-08-14 1998-01-19 キヤノン株式会社 カメラ及びデバッグ装置
US5049476A (en) * 1988-07-18 1991-09-17 Hoechst Celanese Corporation Photopolymerizable, positive working, peel developable, single sheet color proofing system
US4895787A (en) * 1988-07-18 1990-01-23 Hoechst Celanese Corporation Photopolymerizable positive working, peel developable, single sheet color proofing system
US5236806A (en) * 1988-07-18 1993-08-17 Hoechst Celanese Corporation Photopolymerizable, positive working, peel developable, single sheet color proofing system
US5108868A (en) * 1988-10-21 1992-04-28 Hoechst Celanese Corporation Negative working, peel developable, single sheet color proofing method
US5176973A (en) * 1989-09-28 1993-01-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Low optical dot gain pre-press proofs wherein the first down adhesive layer thickness is at least twice that of any additional thin adhesive layer
US4963462A (en) * 1990-01-08 1990-10-16 Hoechst Celanese Corporation Positive working, peel developable, color proofing system having two photosensitive layers
EP0471483A1 (en) * 1990-08-03 1992-02-19 Canon Kabushiki Kaisha Surface reforming method, process for production of printing plate, printing plate and printing process
US5155003A (en) * 1990-11-21 1992-10-13 Polaroid Corporation Thermal imaging medium
US5565303A (en) * 1990-12-19 1996-10-15 Shaw; Sonya Y. Photosensitive printing plate developed by a peel-apart process
US5180599A (en) * 1991-03-08 1993-01-19 Oscar Mayer Foods Corporation Peelable adhesive-based package seal and method of making same
US5227277A (en) * 1991-04-17 1993-07-13 Polaroid Corporation Imaging process, and imaging medium for use therein
US5401607A (en) * 1991-04-17 1995-03-28 Polaroid Corporation Processes and compositions for photogeneration of acid
US5225314A (en) * 1991-04-17 1993-07-06 Polaroid Corporation Imaging process, and imaging medium for use therein
US5294515A (en) * 1991-05-17 1994-03-15 Hoechst Celanese Corporation Photopolymerizable, negative working, peel developable, single sheet color proofing system
JPH07281423A (ja) * 1994-04-07 1995-10-27 Konica Corp 印刷版の製版方法
US6841690B1 (en) * 2002-12-19 2005-01-11 The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Army Polyazido compounds
US7718844B2 (en) * 2004-06-30 2010-05-18 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Absorbent article having an interior graphic
US20060069360A1 (en) * 2004-09-29 2006-03-30 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Absorbent article with insult indicators
GB0809062D0 (en) * 2008-05-19 2008-06-25 Zbd Displays Ltd Method for patterning a surface using selective adhesion
US9827146B2 (en) * 2011-12-20 2017-11-28 Sarasota Medical Products, Inc. Manufacturing method for wound dressings
US8887981B2 (en) * 2013-03-15 2014-11-18 Raytheon Company Temporary adhesive for component bonding
EP3063593B1 (en) * 2013-10-30 2017-12-27 Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO Substrate comprising an electrical circuit pattern, method and system for providing same
FR3032716B1 (fr) * 2015-02-17 2017-02-24 Bostik Sa Colle contact de polychloroprene a base aqueuse

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3395014A (en) * 1963-06-07 1968-07-30 Du Pont Preparation of printing plates by heat plus a pressure gradient
US3353955A (en) * 1964-06-16 1967-11-21 Du Pont Stratum transfer process based on adhesive properties of photopolymerizable layer
US3526504A (en) * 1966-07-07 1970-09-01 Du Pont Photocrosslinkable elements and processes
JPS49441B1 (ja) * 1968-08-14 1974-01-08
US3671236A (en) * 1968-03-18 1972-06-20 Minnesota Mining & Mfg Presensitized color-proofing sheet
BE757386A (fr) * 1969-10-13 1971-04-13 Du Pont Procede de transfert double pour images photodurcissables
US3703373A (en) * 1970-06-15 1972-11-21 Eastman Kodak Co Processes and elements for preparation of photomechanical images
CA986773A (en) * 1970-10-15 1976-04-06 Allan R.A. Beeber Light-sensitive photographic materials
GB1385183A (en) * 1971-02-26 1975-02-26 Agfa Gevaert Process for the production of half-tone and line-work multi- colour photographic images
DE2123702B2 (de) * 1971-05-13 1979-11-08 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes
US3770438A (en) * 1971-12-09 1973-11-06 J Celeste Photopolymerizable transfer elements
US3782939A (en) * 1972-02-09 1974-01-01 Mining And Mfg Co Dry positive-acting photoresist
US3859094A (en) * 1973-01-05 1975-01-07 Minnesota Mining & Mfg Sheet material useful in image transfer techniques
GB1441982A (en) * 1973-01-18 1976-07-07 Autotype Co Ltd Dry transfer sheets
JPS5821257B2 (ja) * 1974-04-25 1983-04-28 富士写真フイルム株式会社 キンゾクガゾウケイセイザイリヨウ
JPS6032173B2 (ja) * 1974-12-28 1985-07-26 富士写真フイルム株式会社 画像形成法
US4081282A (en) * 1975-11-03 1978-03-28 Seal Incorporated Dry transfer image systems with non-light sensitive frangible layer
US4205989A (en) * 1976-04-14 1980-06-03 Kimoto & Co., Ltd. Dry system image producing element

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6412525U (ja) * 1987-07-14 1989-01-23

Also Published As

Publication number Publication date
US4284703A (en) 1981-08-18
JPS533215A (en) 1978-01-12

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