DE954127C - Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Platten und aus ihnen Druckplatten - Google Patents

Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Platten und aus ihnen Druckplatten

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DE954127C
DE954127C DET10736A DET0010736A DE954127C DE 954127 C DE954127 C DE 954127C DE T10736 A DET10736 A DE T10736A DE T0010736 A DET0010736 A DE T0010736A DE 954127 C DE954127 C DE 954127C
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photosensitive
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Bayberry Lane
Robert M Leekley
Robert L Sorensen
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Description

AUSGEGEBEN AM 13. DEZEMBER 1956
T 10736 IVa/5? d
Die Erfindung bezieht sich auf Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Platten und Entwickeln dieser Platten zu Druckplatten sowie auf diese lichtempfindlichen Platten selbst, aus denen durch Belichten und Lösen der nicht belichteten Stellen der Platte (Entwickeln) Druckplatten bzw. Zwischenplatten hergestellt werden. Die lichtempfindliche Platte,gemäß der Erfindung besteht aus einer oder besitzt eine Schicht aus einem Gemisch eines linearen, synthetischen löslichen· Polyamids und eines Stoffes, der bei Einwirkenlassen von Licht und/oder Wärme die Löslichkeit des Polyamids gegenüber Lösungsmitteln erniedrigt, insbesondere durch Vernetzung oder mehrere solcher Stoffe, und vorzugsweise einem lichtsensiblen Katalysator oder mehreren und gegebenenfalls einem Zusatzstoff oder mehreren.
Die Platte bzw. die Oberfläche der Platte wird an gewünschten Stellen der Einwirkung von Licht belichteten und/oder erhitzten, schwerlöslich gewordenen Teile der Platte bzw. der Oberfläche der Platte wird nach dem Belichten und/oder Erhitzen der Einwirkung eines Lösungsmittels ausgesetzt, das das unbelichtete Polyamid löst, während die belicheten und/oder erhitzten, schwerlöslich gewor- as denen Teile der Platte bzw., der Oberfläche der Platte nicht gelöst werden und Druckflächen bilden können.
Die synthetischen, linearen Polyamide (unter dem geschützten Warenzeichen Nylon bekannt) sind thermoplastische Körper und löslich in vielen üblichen organischen Lösungsmitteln. Der Wert dieser Polyamide, die zu Fasern, Fäden, Filmen z. B. durch Spritzpressen verarbeitet werden können, ist insbesondere in der Textilindustrie und in verwandten Industrien bekannt. Für manche Verwendungszwecke sind nun die charakteristisehen Eigenschaften der Polyamide weniger oder gar nicht erwünscht, so daß versucht wurde, die Löslichkeit dieser Polyamide zu vermindern und den Schmelzpunkt zu erhöhen.
So ist bekannt, synthetische lineare Polyamide mit einem ionisierten Salz bzw. Ammoniumbichromat zwecks Verringerung der Löslichkeit und Erhöhung des Schmelzpunktes zu behandeln. Unter den Verwendungsmöglichkeiten solcher unlöslich gemachter Polyamide ist ihre Verwendung als Überzug photolithographischer Platten bekanntgeworden, bei denen Teile des Überzuges selektiv durch Bestrahlen der Platte unmöglich gemacht werden.
Die Erfindung beruht auf der Erkenntnis, daß
as die Löslichkeit der belichteten synthetischen, linearen Polyamide wesentlich vermindert werden kann durch Umsetzen mit einer ungesättigten, zur Bildung von Vernetzungen fähigen Verbindung, wodurch die Herstellung von Druckplatten aus synthetischen, linearen Polyamiden ermöglicht wird. Die lichtempfindliche Platte gemäß der Erfindung besteht also aus einem solchen Gemisch oder besitzt einen Überzug aus einem solchen Gemisch. Das Verfahren zur Bildung einer ein Relief zeigenden Druckplatte gemäß der Erfindung aus der lichtempfindlichen Platte gc.näß der Erfindung besteht in dem Belichten bzw. Bestrahlen bestimmter gewünschter Teile eines lichtempfindlichen Gemisches eines in einer Entwicklerlösung löslichen synthetischen, linearen Polyamids und einer geringen Menge einer ungesättigten Verbindung mit mindestens zwei CH2 =<X- Gruppen, von denen — wenn nur zwei solcher Gruppen vorliegen — mindestens eine eine andere Art als eine Allylgruppe ist, aus der die lichtempfindliche Platte oder eine Schicht der Platte besteht. Das Polyamid wird in den belichteten Teilen unlöslich, wonach nicht belichtetes lösliches Polyamid weggewaschen wird. Unter Belichten ist im folgenden das Behandeln der Platte bzw. der Plattenoberfläche mit Lichtstrahlen und/oder anderen Strahlen verstanden.
Synthetische, lineare Polyamide, die gemäß der Erfindung behandelt werden können, sind bekannt und z. B. beschrieben in den USA.-Patentschriften 2,071250, 2071253, 2130523, 2320088, 2430860 und 2441057, wie z.B. c-Caprolactam-Polymere, Sebacinsäure-Hexamethylendiamin-Polymere, Adipinsäure-Hexamethylendiamin-Poiymere und die vier Komponenten ε-Caprolactam-Sebacinsäure-Adipinsäure-Hexamethylendiamin-Polymere. Das Polyamid muß mit der ungesättigten Verbindung mischbar in dem Entwickler löslich sein; als Entwickler wird üblicherweise siedender Methylalkohol verwendet. Das Reaktionsprodukt des Polyamids und der ungesättigten Verbindung muß in dem Entwickler unter den Bedingungen des Entwickeins hinreichend unlöslich sein, derart, daß es durch ein Entwickeln während 30 Minuten nicht wesentlich angegriffen wird.
Wie oben ausgeführt, muß die mit dem Polyamid zur Umsetzung gebrachte Verbindung mindestens zwei CH2 =C<(- Gruppen enthalten. Eine Verbindung mit zwei Allylgruppen, d. h. den Gruppen CHj = CHCH2— als einzigen ungesättigten Gruppen ist jedoch für die Erfindung nicht brauchbar, während Verbindungen mit drei Allylgruppen im Sinne der Erfindung wirksam sind. Verbindungen mit zwei CH2 = C<^- Gruppen müssen also, um wirksam zu sein, mindestens eine ungesättigte Gruppe andere/ Art als die Allylgruppe enthalten. Wenn die ungesättigten Verbindungen zwei
CH2 = CHCH2 Gruppen enthalten, so ist
zweckmäßig eine andere reaktionsfähige C H2 = C<(- Gruppe vorhanden. Zum Beispiel ist die Acrylgruppe
CH2= CHC-
eine solche reaktionsfähige CH2 = C<(--Gruppe; Verbindungen, die zwei Allylgruppen und eine Acrylgruppe enthalten, sind gemäß der Erfindung wirksam. Die ungesättigte Verbindung soll einen Siedepunkt von mindestens ioo° besitzen, und vorzugsweise soll der Siedepunkt mindestens so hoch sein wie der von N-Allylacrylamid, damit unter den Bedingungen des Verfahrens der Erfindung kein wesentliches Verdampfen eintritt.
Den oben dargelegten Bedingungen genügende, praktisch als bei der Erfindung vorzüglich brauchbar befundene ungesättigte Verbindungen sind z. B. N, N'-Methylenbisacrylamid, N, N' - Methylenbismethacrylamid, N-Allylacrylamid, N, N-Diallylacrylamid, Äthylendiacrylat und TriaMylcyanurat.
Ein Verfahren zur Herstellung des Gemisches von Polyamid und ungesättigter Verbindung besteht in dem Bilden einer Lösung der beiden Stoffe in einem organischen Lösungsmittel, ζ. Β. einem niederen Alkohol, Aufbringen der Lösung auf eine Unterlage in Form eines Films, Verdampfen des Lösungsmittels und Aussetzen des getrockneten Films dem Licht oder Licht und Wärme. Das Gemisch kann auch in Form einer Schmelze hergestellt und die Schmelze durch Spritzen bzw. Spritzpressen in Form von Schichten oder Platten gebracht werden. Entsprechend kann ein Film oder Gewebe aus Polyamid mit einer Lösung der ungesättigten Verbindung imprägniert werden.
Die Umsetzung des Polyamids und der ungesättigten Verbindung kann durch einfaches Behandeln des Gemisches der beiden Komponenten mit einer Quelle von Strahlungsenergie — Licht oder Licht und Wärme — geschehen. Um das optimale Maß der UnlÖslichmachung und eine schnellere Reaktion zu erhalten, ist es jedoch vorteilhaft, die Reaktion
in Gegenwart eines lichtempfindlichen Photopolymerisationskatalysators in einer für solche Katalysatoren üblichen Menge durchzuführen. Es können Katalysatoren, die — wie bekannt — analoge PoIymerisationsreaktionen unter dem Einfluß von Licht beschleunigen bzw. einleiten, verwendet werden. Zu diesen lichtsensitiven Katalysatoren gehören — wie bekannt — einige Stoffe, die den Kern
enthalten, in dem die Phenylgruppe Substituenten, wie z. B. die Hydroxylgruppe oder Carboxylreste, enthalten kann; die Anwendung dieser Stoffe ist — wie gefunden wurde — besonders vorteilhaft. Hauptvertreter dieser Gruppe von lichtempfindlichen Katalysatoren mit dem angegebenen Kern bzw. der angegebenen Konfiguration sind Benzophenon, 4-Hydroxybenzophenon, Orthobenzoylbenzoesäure, Benzil, Benzoin, Benzaldehyd, Benzoinacetat, Acetophenon und ähnliche Stoffe. Andere Ketoverbindungen, wie Butandion, können ebenfalls verwendet werden; ebenso auch Benzoylperoxyd.
Die Verhältnismenge des Polyamids und der ungesättigten Verbindung kann z. B. nach Wunsch bzw. je nach den Bedingungen variiert werden; für gewöhnlieh liegen die Mengenverhältnisse der Stoffe im Gemisch in dem Bereich von etwa 99 bis etwa 75 %, vorzugsweise 90 bis 85 °/o Polyamid zu etwa ι bis 25%, vorzugsweise etwa 5 bis io°/o der ungesättigten Verbindung; unter Prozent sind Gewichtsprozente zu verstehen.
Bei Verwendung eines Katalysators zur Beschleunigung der Reaktion ist dessen Konzentration für gewöhnlich gering und liegt vorzugsweise irn Bereich von etwa 0,01 Gewichtsprozent Katalysator bis etwa 10% Katalysator, z.B. 5%, bezogen auf das Gemisch von Polyamid und ungesättigter Verbindung. Für gewöhnlich wird etwa ι %> verwendet. Die Menge hängt von dem gewünschten Grad des Abschirmens ab. Der Katalysator schirmt das Licht ab und verhindert also ein zu tiefes Eindringen des Lichtes in das Material, so daß durch Bemessung der Menge ein einfacher Weg zur Bestimmung der Tiefe des Reliefs der Platte gegeben ist.
Wenn der verwendete Katalysator besonders lichtempfindlich ist, wird die Reaktion vorzugsweise durch Behandeln des Gemisches mit einer Lichtquelle durchgeführt. Ultraviolettes Licht ist im allgemeinen wirksamer als übliches Licht. Die für die von dem Licht eingeleitete bzw. beförderte Reaktion benötigte Zeit hängt wesentlich von der Menge des verwendeten Katalysators, der Reaktionsfähigkeit des Gemisches, der gewünschten Relieftiefe der Platte und den Reaktionsbedingungen ab; unter üblichen Bedingungen ist eine Zeit von ι bis 30 Minuten und auch bis zu mehreren Stur--1t,,j. notwendig. Eine geringe Belichtungszeit erg 1 Dt eine geringe Relief tiefe der Platte.
Wenn kein Katalysator verwendet wird, wird die Reaktion ebenfalls durch Einwirkenlassen von Licht durchgeführt, jedoch sind hier üblicherweise längere Belichtungszeiten notwendig, und der Grad der möglichen Unlöslichmachung ist normalerweise nicht so hoch wie bei Verwendung eines Katalysators.
Charakteristisch für die Wirkung des Vorgehens nach der Erfindung ist die erhebliche Erhöhung des Schmelzpunktes des Polyamids bzw. der Polyamidkomposition.
Die Erfindung kann zur Herstellung von Platten oder Filmen, die vollkommen aus der lichtempfindlichen Komposition bestehen, verwendet werden. Hierbei liegt also ein durch und durch lichtempfindliches Material vor. Nach der Erfindung können auch Platten von beliebiger Grundlage benutzt werden, auf die Filme oder Überzüge der Komposition des lichtempfindlich gemachten Polyamids auf irgendeine bekannte Weise aufgebracht sind. Als Platten können z. B. Metallplatten verwendet werden oder Metallbleche oder Platten bzw. Folien oder Filme aus Kunstharzen und Cellulosederivaten, ferner Gewebe, Papierschichten, Leder usw. Die Verwendung der ganz aus der lichtempfindlichen Polyamidkomposition bestehenden Platten, Folien oder Filme oder der mit einer Schicht der Komposition bedeckten Platten, Folien oder Filme ist in allen Fällen möglich, in denen photochemische Vorgänge ausgenutzt werden, d. h. in der Photographie, bei photomechanischen Reproduktionsverfahren, in der Lithographie und beim Tiefdruck. Speziell können die nach der Erfindung hergestellten Produkte verwendet werden beim Offsetdruck, beim Seidenrasterdruck, bei Klotzplatten bzw. beim Klotzverfahren, bei Überzügen von Schablonen, zur Herstellung von zahlreichen Umdrucken bzw. Schriften, bei lithographischen Platten, Reliefplatten und Gravurplatten. Der Ausdruck Druckplatte umfaßt also alle diese Arten von Platten und Zwischenplatten.
Eine typische Art der Anwendung der Erfindung sei veranschaulicht an einem Herstellungsverfahren einer lichtempfindlichen Platte und aus ihr einer Druckplatte. Dabei wird eine Platte, üblicherweise aus Metall oder einem anderen entsprechenden dünnen Material, mit einem Film des licht- no empfindlichen Gemisches von Polyamid und einer copolymerisierbaren monomeren ungesättigten Verbindung bedeckt oder eine Platte aus diesem Gemisch hergestellt; die Oberfläche der Platte wird dann dem Licht ausgesetzt, und zwar durch ein aufgelegtes Negativbild mit durchsichtigen und undurchsichtigen Stellen bzw. Teilen, z. B. auf einem Film oder einer Glasplatte. Das Licht bewirkt die Umsetzung, die die Stellen der Oberfläche unterhalb der durchsichtigen Teile des Bildes unlöslieh macht, während die Teile unterhalb der undurchsichtigen Teile des Bildes, die also gegen das Licht geschützt sind, löslich bleiben. Die löslichen Stellen der Oberfläche werden dann durch einen Entwickler entfernt, die unlöslichen, erhabenen Teile des Überzuges ergeben das ge-
wünschte Bild, so daß zusammen mit dem Material der Grundlage eine Reliefplatte gebildet wird. (Wenn eine bimetallische Grundlage verwendet wird, so kann der restliche Überzug zur Bildung einer lithographischen Platte entfernt werden.) Die Platte kann mit Druckfarbe eingefärbt und direkt in üblicher Weise als Reliefdruckplatte verwendet werden. Bei Herstellung einer Gravurplatte bzw. Gravure wird naturgemäß' ein Positivbild aufgelegt.
Es ist bekanntgeworden, ein flüssiges Monomeres, z. B. in einer zwei Glasplatten aufweisenden Zelle oder auf einer Platte, die durch das Monomere aufgequollen ist, durch ein Bild hindurch zu belichten und auf diese Weise das Monomere zu polymerisieren zu einem festen Stoff, der denn mittels Wärme oder Lösungsmitteln zu einer Reliefplatte entwickelt werden kann.· Gegenüber diesem Vorgehen wird gemäß der Erfindung der
ao Fortschritt erreicht, daß eine nicht mehr feuchte, sondern eine fast trockene Schicht auf der Platte verwendet wird, die leichter zu handhaben ist, wobei außerdem die Umsetzung des Polyamids mit der ungesättigten Verbindung gemäß der Erfindung
as normalerweise eine weniger lange Belichtung erfordert als die Polymerisation des flüssigen Monomeren nach dem Stande der Technik.
Die folgenden Beispiele veranschaulichen die Erfindung; Teile und Prozentsätze sind stets in
Gewicht ausgedrückt. - ■
Beispiel 1
Ein dünnes Blech von anodisiertem Aluminium wird auf eine heiföe Platte unter Halten einer Temperatur von 35° gelegt. Eine Nylongießlösung wird durch Mischen folgendermaßen, hergestellt: 125,2 g einer i5°/oigen Lösung eines Polymeren von J£-Caprolactam, Adipinsäure, Sebacinsäure und Hexamethylendiamin in Äthylalkohol (die Lösung enthält 18,8 g Polyamid), 188 g N, N'-Methylembisacrylamid, 0,5 g Benzophenon.
Unter Verwendung einer Spritzvorrichtung bzw. Ziehvorrichtung mit 0,05 Zoll werden vier Filme einer über dem anderen auf das Aluminiumblech gegossen. Zwischen dem Aufbringen der vier Filme wird ein Verdampfen des Lösungsmittels während etwa ι Stunde gestattet. Nach dem Trocknen des letzt aufgebrachten Films derart, daß die Oberfläche nicht mehr klebt, wird der Verbundkörper aus Polyamidfilm und Aluminium von der warmen Platte weggenommen, und es werden verschiedene Teile der Fläche unter Vakuum den Strahlen eines Kohlelichtbogens während 30 Minuten durch zwei Negativtransparente ausgesetzt. Das eine Negativ ist ein 120-Zeilen-Halbtonbild, und das zweite Negativ ist ein Teil einer Photodrucktype. Während des Belichtens wird die Platte unter einem Vakuum von ewta 29 Zoll Quecksilber gehalten. Die belichtete Platte wird dann in einen Behälter gelegt und 15 Minuten bei iio° Fahrenheit mit einer Entwicklerlösung gespült, die aus einer CaI-ciumchloridlösung in Äthylalkohol von einem spezifischen Gewicht von 0,95 besteht.
Sowohl das Druckbuchstabenbild als auch das Halbtonrelief sind in der Polyamidschicht gebildet. An den Stellen des Drucktypenbilds ist die Ätztiefe über 0,02 Zoll zwischen den Reihen der Buchstaben. Ein seitliches Anätzen oder Unterschneiden in diesen tiefgeätzten Stellen ist nicht festzustellen, und die Seitenwände der Druckbuchstäben haben Pyramidenform mit den breiteren Abmessungen am Boden der geätzten Höhlungen. Die Platte wird mit Druckfarbe eingefärbt und mit ihr wie mit einer Buchdruckplatte gedruckt.
75 Beispiel-2
Es wird eine äthylalkoholische Lösung der folgenden Bestandteile hergestellt: 18 Teile du-Pont-Nylon, Typ 6501, 2 Teile N, N'-Methylenbisacrylamid, 1 Tail Benzophenon.
Diese Lösung wird auf eine auf 320 gehaltene Glasplatte gegossen und mittels eines Abstreifers bzw. einer Ziehvorrichtung von 0,024 Zoll glattgestrichen bzw. -gezogen.. ,Der Film bleibt stehen, bis die Oberfläche keine Kle.brigkeit mehr aufweist. Die Hälfte des gegossenen Films wird dann unter Vakuum dem Licht eines Kohlebogens während 30 Minuten ausgesetzt. Der Rest des Films wird gegen Licht geschützt aufgehoben. Es werden dann Stücke des belichteten und des unibelichteten Films bei 6o° im Ofen getrocknet, gewogen und dann in kochenden Methylalkohol, „während 4Minuten eingelegt. Die beiichtete Probe wird aus dem Methanol herausgenommen, im Ofen bei 60 ° getrocknet und wieder gewogen. Der Film hat nur 15 % seines ursprünglichen Gewichtes während der Methanolbehandlung verloren. Der nicht belichtete Film jedoch löst sich schnell nach dem Einlegen in das siedende Methanol völlig auf, so daß also der Gewichtsverlust 100 °/o beträgt. Der· dem Licht ausr gesetzte Film ist klar, stark und biegsam. Beim Legen eines kleinen Stückes des belichteten Films auf eine heiße Platte, zusammen mit einer Probe von reinem Nylon, schmilzt das reine Nylon, während der belichtete Film gemäß der Erfindung weder schmilzt noch seine Form verliert.
Beispiel 2a
Um zu zeigen, daß die Unlöslichmachung gemäß Beispiel 2 nicht lediglich auf den Gehalt an Benzophenon zurückgeht, kann aus einer Äthylalkohollösung, die 18 Teile Nylon und 1 Teil Benzophenon enthält, ein zweiter Film hergestellt werden. Nach Belichtung des gegossenen Films wie im Beispiel 2 lösen sich sowohl der belichtete als auch der unbelichtete Teil des gegossenen Films rasch in kochendem Methylalkohol.
Beispiel 3
Es wird ein Film gemäß dem Verfahren des Beispiels 2 hergestellt mit dem Unterschied, daß die Menge an Benzophenon auf 0,2 Teile vermindert wird. Der Film wird dann wie im Beispiel 2 belichtet, getrocknet, gewogen und siedendem Methylalkohol ausgesetzt. Der belichtete Teil des Films venliert lediglich 17,5% seines ursprünglichen Ge-
wichtes während der Methanoibehandlung, während der unbelichtete Teil sich rasch löst.
B e i sp i el 4
Es wird ein Film gemäß dem Verfahren des Beispiels 2 hergestellt mit dem Unterschied, daß das Benzophenon ersetzt wird durch 1 Teil Benzoylperoxyd. Der Film wird dann belichtet gemäß dem Vorgehen des Beispiels 2, und kleine Teile des belichteten Films werden bei 6o° im Ofen getrocknet, gewogen und in siedendes Methanol gegeben. Der belichtete Teil des Films zeigt einen Gewichtsverlust von 39°/o, während der nicht belichtete Teil sich völlig auflöst, also einen Gewichtsverlust von 100% zeigt.
Beispiel 5
Ein gezogener Film wird gegossen und getrocknet gemäß dem Verfahren des Beispiels 2 unter Verwendung einer Äthylalkohollösung, die 18 Teile Polyamid und 2 Teile N, N'-Methylenbisacrylamid enthält. Ein Teil des Films wird dann auf 1150C während 4 Minuten in siedendes Methylalkohol getaucht. Nach dem Trocknen und Wägen des Films zeigt es sich, daß 60% des ursprünglichen Gewichtes während der Methanolbehandlung verlorengeht. Ein unerhitzter Teil des gleichen Films löst sich dagegen rasch in siedendem Methylenalkohol.
Beispiele
Es wird gemäß dem Verfahren des Beispiels 5 vorgegangen, jedoch wird der Film an Stelle des Erhitzens 30 Minuten dem Licht eines Kohlebogens ausgesetzt. Der belichtete Teil des gegossenen Films ergibt einen Gewichtsverlust von 80 % nach der Behandlung mit siedendem Methylalkohol, während der unbelichtete Teil des Films sich rasch in siedendem Methylalkohol löst.
B e i s ρ i e 1 7
Ein gezogener Film wird gemäß dem Verfahren des Beispiels 2 aus einer Äthylalkohollösung, die 18 Teile du-Pont-Nylon, Typ 6501, 2 Teile N'N-Methylenbisacrylamid und 1 Teil Benzoylperoxyd enthält, hergestellt. Ein kleiner Teil der Glasplatte und des Films wird in einem Ofen während 4 Stunden auf 105 ° C erhitzt. Der Film wird dann gewogen und in siedendes Methanol während 4 Minuten eingetaucht, getrocknet und wieder gewogen. Der Gewichtsverlust des erhitzten Films beträgt nur 35%, .während der nicht erhitzte Film sich rasch in siedendem Methylalkohol löst. Der erhitzte Film ist klar, fest und biegbar; beim Legen eines kleinen Stückes des erhitzten Films auf eine heiße Platte zusammen mit einer Probe von reinem Nylon schmilzt der Nylonfilm, während der erhitzte Film gemäß der Erfindung weder schmilzt noch seine Form verliert.
Beispiel 7a
Um zu zeigen, daß das Unlöslichmachen nicht lediglich dem Benzoylperoxyd zuzuschreiben ist, kann ein zweiter gezogener Film hergestellt werden aus einer Äthylalkohollösung, die 18 Teile Nylon und 1 Teil Benzoylperoxyd enthält. Dieser Film wird ebenfalls auf 1050 während 4 Stunden erhitzt und dann in siedendes Methanol eingetaucht. Er löst sich rasch.
Beispiel 8 Beispiel 9 Beispiel 10 Beispiel 11
Gemäß Beispiel 2 wird auf Glas ein Film gegossen unter Verwendung einer Äthyladkohollösung, die 18 Teile Polyamid, 2 Teile N, N'Methylenbisacrylamid und 1 Teil Orthobenzoylbenzoesäure enthält. Der belichtete Teil des Films verliert lediglich 22,5 seines ursprünglichen Gewichtes beim Eintauchen in siedendes Methanol während 4 Minuten, während der unbelichtete Teil des Films sich rasch löst. Der belichtete Teil des Films ist klar, fest und biegsam und schmilzt nicht auf einer heißen Platte.
Gemäß dem Verfahren des Beispiels 2 wird aus einer Äthylalkohollösung, die 18 Teile du-Pont-Nylon 6501, 2 Teile N, N'-Methylenbisacrylamid und ι Teil Benzil enthält, ein Film hergestellt und belichtet. Der belichtete Teil des Films verliert go beim Behandeln mit siedendem Methanol während 4 Minuten) nur 29 % an Gewicht, während der nicht belichtete Teil des Films sich rasch löst.
Gemäß· dem Verfahren des Beispiels 2 wird aus einer Äthylalkohollösung, die 18 Teile Polyamid, 2 Teile N, N'-Methylenbisacrylamid und 1 Teil 4-Hydroxybenzophenon enthält, ein Film her- 10ό gestellt und belichtet.
Beim Eintauchen des belichteten Teils des Films in siedendes Methanol während 4 Minuten ist der Gewichtsverlust nur 23%, während der nicht belichtete Teil des Films sich rasch löst. Der belichtete Teil des Films ist klar, fest und biegsam und schmilzt nicht beim Auflegen auf eine heiße Platte.
Es wird eine Lösung von 1,5 Teilen Polyamid, 0,4 Teilen N, N'-Diallylacrylamid und 0,47 Teilen Benzophenon hergestellt. Eine Glasplatte wird auf eine heiße Platte von 35 ° aufgelegt. Es werden unter Verwendung einer Abziehvorrichtung von 0,024 Zoll zwei Filme gegossen, einer über dem anderen, eine Stunde nach dem anderen. Der Film wird dann getrocknet, bis die Oberfläche nicht mehr klebrig ist.
Die überzogene Glasplatte wird dann in Hälften iao geteilt, und die eine Hälfte wird im Vakuum einem Kohlenbogen in einer Entfernung von 4 Fuß ausgesetzt. Der belichtete und der unbelichtete Teil der Glasplatte wird im Ofen bei 6o° getrocknet, gewogen und in siedendes Methylalkohol während 4 Minuten" eingetaucht. Der nicht belichtete Teil
des Films wird rasch gelöst. Der belichtete Teil wird aus dem Methanol entfernt, im Ofen bei 6o° getrocknet und wieder gewogen. Der Gewichtsverlust des belichteten Teils beträgt nur 44%).
Beispiel 12
Es wurde wie bei Beispiel 11 vorgegangen mit dem Unterschied, daß das N'N-Diallylacrylamid ersetzt wird durch diiegileiche Gewichtsmenge N-Allylacrylamid. Der Gewichtsverlust des belichteten Teils des Films beträgt nur 26,5%, während der unbelichtete Teil des Films sich rasch in siedendem Methanol löst.
Beispiel 13
Es wird nach Beispiel 11 vorgegangen mit dem Unterschied, daß das N, N-Diallylacrylamid durch die gleiche Gewichtsmerige des Diacrylesters von Äthylenglycol ersetzt wird. Der Gewichtsverlust des ao belichteten Teils des Films beträgt 60,9%, während der unbelichtete Teil sich rasch löst.
Beispiel 14
Es wird gemäß Beispiel 11 vorgegangen mit dem Unterschied, daß das N, N-Diallylacrylamid ersetzt wird durch die gleiche Gewichtsmenge Trillylcyanurat. Der belichtete Teil .des Films erleidet einen Gewichtsverlust von 63,8%, während der unibelichtete Teil des Films sich rasch löst.
Beispiel 15
Es wird gemäß Beispiel 2 vorgegangen mit dem Unterschied, daß das Benzophenon durch die gleiche Gewichtsmenge Benzoinacetat ersetzt wird. Der belichtete Teil des Films zeigt einen Gewichtsverlust von nur 19,3% nach dem Eintauchen in siedendes Methanol während 4 Minuten. Der unbelichtete Teil des Films löst sich rasch in siedendem Methanol.
Beispiel 16
Es wird gemäß Beispiel 2 vorgegangen mit dem Unterschied, daß das Benzophenon ersetzt wird durch die gleiche Gewichtsmenge 2, 3-Butandion. Der belichtete Teil des Films zeigt einen Gewichtsverlust von 58% nach dem Eintauchen in siedendes Methanol während 4 Minuten, während der unbelichtete Teil des Films sich rasch in siedendem Methanol löst.
Beispiel 17
Es wird gemäß Beispiel 2 vorgegangen mit dem Unterschied, daß das Benzophenon ersetzt wird durch die gleiche Gewichtsmenge Acetophenon. Der Gewichtsverlust des Films beträgt nach dem Eintauchen in siedendes Methanol während 4 Minuten nur 3i,3°/o, während der nicht belichtete Teil des Films rasch gelöst wird.
60
Beispiel 18
Es wird gemäß Beispiel 2 vorgegangen mit dem Unterschied, daß das Benzophenon ersetzt wird durch die gleiche Gewichtsmenge Benzaldehyd. Der belichtete Teil des Films zeigt einen Gewichtsverlust von nur 26,2% nach Eintauchen in siedendes Methanol während 4 Minuten, während der nicht belichtete Teil des Films rasch gelöst wird.
Beispiel 19
Zu 2,5 g trockenem Polyamid in Pudverform werden o, 14 g Benzophenonpulver und 0,27 g Diallylacrylamid zugegeben. Unter kräftigem Rühren werden 4 ml wasserfreier Äther dem Gemisch einverleibt. Nach dem Trocknen während 1 Stunde wird das trockene Pulver dann in eine auf 1500 C erhitzte Form gegeben und unter einen Druck von p.s.i. gesetzt, bis die Form auf Raumtemperatur gekühlt ist. Ein klarer, fester Nylonblock wird aus der Form genommen. Dieser Nylonblock wird dann wie die Platte im Beispiel 1 belichtet und entwickelt. Auf dem Nylonblock haben sich Drucktypenreliefs gebildet von einer Höhe von etwa 0,01 Zoll. Die Platte wird dann mit Druckfarbe eingefärbt, und es wird wie von einem Druckblock gedruckt.

Claims (14)

  1. PATENTANSPRÜCHE:
    i. Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Platten und aus ihnen Druckplatten, dadurch gekennzeichnet, daß eine Platte aus oder überzogen mit einem lichtempfindlichen Gemisch eines synthetischen, linearen Polyamids, das in einer Entwicklerlösung löslich ist, und einer geringen Menge einer ungesättigten Verbindung, die mindestens zwei CH2 =C<(-Gruppen enthält, von denen bei Vorhandensein von nur zwei solchen Gruppen mindestens eine eine andere Gruppe als die Allylgruppe ist, hergestellt, Strahlen, insbesondere Lichtstrahlen, unter Überführen des Polyamids in unlösliche Form in den belichteten Teiilen ,ausgesetzt und unbelichtetes lösliches Polyamid ausgewaschen wird.
  2. 2. Verfahren gemäß Anspruch 1, gekennzeichnet durch die Zümischung zumindest eines strahlenempfindlichen Katalysators.
  3. 3. Verfahren gemäß Anspruch 2, gekennzeichnet durch die Verwendung von Benzoylperoxyd als Katalysator.
  4. 4. Verfahren gemäß Anspruch 2, gekennzeichnet durch die Verwendung einer lichtempfindlichen Verbindung, mit der Konfiguration
    als Katalysator.
  5. 5. Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als ungesättigte Verbindung N, N'-Methylenbisacrylamid verwendet wird.
  6. 6. Verfahren gemäß Anspruch ι oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als ungesättigte Verbindung Triallylcyanurat verwendet wird.
  7. 7. Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als ungesättigte Verbindung N-Allylacrylamid verwendet wird.
  8. 8. Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als ungesättigte Verbindung N, N-Diallylacrylamid verwendet wird.
  9. 9. Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als ungesättigte Verbindung Äthylendiacrylat verwendet wird.
  10. 10. Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als ungesättigte Verbindung N' N'^Methylenbisrnethacrylamid. verwendet wird.
  11. 11. Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Platte gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Gemisch von Polyamid und ungesättigter Verbindung sowie - vorzugsweise Katalysator zu einer Platte, einem Film oder Block gegossen, gezogen, gepreßt, gespritzt oder spritzgepreßt wird.
  12. 12. Verfahren zur Herstellung einer licht-..empfindlichen Platte gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Gemisch von Polyamid und ungesättigter Verbindung sowie vorzugsweise Katalysator auf eine Grundlage, ζ. ΒΛ aus Metall, als Überzug oder in Form von mehreren Überzügen übereinander aufgebracht wird.
  13. 13. Verfahren zur Herstellung einer Druck-, platte gemäß Ansprüchen 11 oder 12, gekennzeichnet durch Belichten durch ein · Negativoder Positivbild mit Kohlebogenlicht, zweckmäßig im Vakuum, und Lösen der unbelichteten Teile der Oberfläche, z. B. durch siedendes Methanol, bis zur gewünschten Ätztiefe.
  14. 14. Lichtempfindliche durch Belichten und Entwickeln in Druckplatten überführbare Platten zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch ι bis 13, gekennzeichnet durch eine lichtempfindliche Oberflächenschicht aus einem unbelichteten Gemisch mit 99 bis 75%, vorzugsweise 95 bis 90% eines synthetischenlinearen löslichen Polyamids und 1 bis 25%, vorzugsweise 5 bis 10% einer ungesättigten Verbindung mit zwei CH2 = C<^- Gruppen, von denen eine bei Vorliegen von zwei Gruppen eine Gruppe anderer Art als die Allylgruppe ist, und vorzugsweise 0,01 bis 10% (gerechnet auf das Gemisch des Polyamids und der ungesättigten Verbindung) eines photosensiblen Katalysators.
    In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentschrift Nr. 807 894.
    © 609 530/288 6.56 (609 705 12.56)
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NL (4) NL94817C (de)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1098197B (de) * 1957-04-22 1961-01-26 Time Inc Verwendung von Polymerisationsinhibitoren in bei Einwirkung von Licht vernetzenden Form- und UEberzugsmassen
DE1104691B (de) * 1957-10-30 1961-04-13 Du Pont Bei Lichtzutritt haertende Formmasse
DE1200130B (de) * 1955-08-22 1965-09-02 Du Pont Photopolymerisierbare Schicht zur Herstellung von Reliefbildern oder Druckformen
DE1205386B (de) * 1955-10-03 1965-11-18 Du Pont Photopolymerisierbare Schicht zur Herstellung von Reliefbildern oder Druckformen
DE1262775B (de) * 1956-04-12 1968-03-07 Du Pont Photopolymerisierbare Masse zur Herstellung von Druckklischees
DE1772271B1 (de) * 1967-04-26 1971-06-09 Time Inc Lichtvernetzbare,ein lineares Polyamid enthaltende Gemische

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE572579A (de) * 1957-10-31 1900-01-01
DE1244581B (de) * 1959-04-06 1967-07-13 Basf Ag Verfahren zur fotomechanischen Herstellung von Druckformen und Oberflaechenreliefs aus Hochpolymeren
NL287134A (de) * 1959-08-05
US3352675A (en) * 1964-04-02 1967-11-14 Gen Aniline & Film Corp Photopolymerization of vinyl monomers by means of ferric salts of organic acids
US3452182A (en) * 1964-07-24 1969-06-24 Polaroid Corp Photographic products and processes
DE1522469C3 (de) * 1966-09-02 1975-12-18 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Verfahren zum Herstellen von Reliefdruckformen
US3561358A (en) * 1966-10-10 1971-02-09 Xerox Corp Gravure imaging system
US3474071A (en) * 1967-03-10 1969-10-21 Time Inc Photosensitive polycarbonamides
US3516828A (en) * 1967-08-28 1970-06-23 Basf Ag Production of printing plates
US3645732A (en) * 1969-05-19 1972-02-29 Keuffel & Esser Co Etching alcohol-soluble nylon with aqueous solutions
US3635711A (en) * 1969-06-06 1972-01-18 Grace W R & Co Method and automated apparatus for photocomposing
DE2061287C3 (de) * 1970-12-12 1981-07-23 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Verfahren zur Herstellung von tiefenvariablen Tiefdruckformen
US4001016A (en) * 1971-05-25 1977-01-04 Agfa-Gevaert, A.G. Polymers which can be cross-linked by photopolymerization
US3900325A (en) * 1972-06-12 1975-08-19 Shipley Co Light sensitive quinone diazide composition with n-3-oxohydrocarbon substituted acrylamide
US3861921A (en) * 1973-01-12 1975-01-21 Horst Hoffmann Subbing layers comprising polyamide and phenolic resin for metal bases of photopolymerizable elements
DE2644986C3 (de) * 1976-10-06 1981-11-19 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Lichtempfindliches Gemisch für die Herstellung von Reliefformen
DE2906902C2 (de) * 1979-02-22 1983-12-22 Wilfried 7014 Kornwestheim Philipp Vorsensibilisierte Tiefdruckplatte
US4563507A (en) * 1982-03-31 1986-01-07 Intera Corporation Treatment of Lewis base polymer with ethylenically unsaturated compound to improve antistatic hygroscopic and dye receptive properties
DE3233912A1 (de) * 1982-09-13 1984-03-15 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Fotolacke zur ausbildung von reliefstrukturen aus hochwaermebestaendigen polymeren
US4617253A (en) * 1984-06-06 1986-10-14 Polaroid Corporation Polymeric pyridinium ylides and products prepared from same
CA2036424A1 (en) * 1990-02-23 1991-08-24 Albert C. Chiang Photopolymer printing plates having a dimpled printing surface
US5260166A (en) * 1992-03-04 1993-11-09 Graphic Controls Corporation Seamless, trilaminate, photopolymer cylindrical printing plate and method of manufacture
CA2130738A1 (en) * 1993-11-01 1995-05-02 Keith Wayne Goossen Method and arrangement for arbitrary angle mirrors in substrates for use in hybrid optical systems
US6742453B1 (en) 1998-07-30 2004-06-01 Mark Alan Borski Printing sleeves and methods for producing same
DE10352447A1 (de) * 2003-11-11 2005-06-16 Dupont Performance Coatings Gmbh & Co Kg Verfahren zur Herstellung einer Klarlackdeckschicht auf Kraftfahrzeugkarossen

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE807894C (de) * 1943-04-14 1951-07-09 Ici Ltd Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1903500A (en) * 1927-08-12 1933-04-11 Du Pont Synthetic rubber and process of its manufacture
US2101107A (en) * 1935-04-26 1937-12-07 Du Pont Molding compositions and process of molding
US2067234A (en) * 1936-03-10 1937-01-12 Du Pont Pigmented granular polymers
US2155591A (en) * 1936-05-02 1939-04-25 Goodrich Co B F Vulcanizable plasticizer
US2484529A (en) * 1944-09-27 1949-10-11 Du Pont Process for altering the properties of solid polymers of ethylene
US2475980A (en) * 1946-04-15 1949-07-12 Eastman Kodak Co Light-sensitive piperine compositions
BE476474A (de) * 1946-10-02
US2548520A (en) * 1947-02-13 1951-04-10 Eastman Kodak Co Copolymers of proteins having unsaturated radicals united therewith
BE492180A (de) * 1948-11-16
US2643958A (en) * 1949-08-03 1953-06-30 Bayer Ag Textile printing paste and method of coating therewith
NL87862C (de) * 1951-08-20
US2742440A (en) * 1952-02-26 1956-04-17 Polymer Corp Method of preparing finely divided polyamides
US2673151A (en) * 1952-03-13 1954-03-23 Pittsburgh Plate Glass Co Photosensitive resin composition
GB826272A (en) * 1956-04-12 1959-12-31 Du Pont Improvements in or relating to photopolymerisable compositions and their uses
US2997391A (en) * 1957-04-22 1961-08-22 Time Inc Photosensitive polyamide resins containing stilbene units in the molecule
US2972540A (en) * 1958-08-05 1961-02-21 Du Pont Photopolymerizable compositions and elements

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE807894C (de) * 1943-04-14 1951-07-09 Ici Ltd Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1200130B (de) * 1955-08-22 1965-09-02 Du Pont Photopolymerisierbare Schicht zur Herstellung von Reliefbildern oder Druckformen
DE1205386B (de) * 1955-10-03 1965-11-18 Du Pont Photopolymerisierbare Schicht zur Herstellung von Reliefbildern oder Druckformen
DE1262775B (de) * 1956-04-12 1968-03-07 Du Pont Photopolymerisierbare Masse zur Herstellung von Druckklischees
DE1098197B (de) * 1957-04-22 1961-01-26 Time Inc Verwendung von Polymerisationsinhibitoren in bei Einwirkung von Licht vernetzenden Form- und UEberzugsmassen
DE1104691B (de) * 1957-10-30 1961-04-13 Du Pont Bei Lichtzutritt haertende Formmasse
DE1772271B1 (de) * 1967-04-26 1971-06-09 Time Inc Lichtvernetzbare,ein lineares Polyamid enthaltende Gemische

Also Published As

Publication number Publication date
US3081168A (en) 1963-03-12
FR1128453A (fr) 1957-01-07
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NL195949A (de)
GB767912A (en) 1957-02-06
NL120473C (de)
BE566967A (de)
CH342841A (de) 1959-11-30
GB875378A (en) 1961-08-16
NL94817C (de)

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