DE954127C - Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Platten und aus ihnen Druckplatten - Google Patents
Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Platten und aus ihnen DruckplattenInfo
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Description
AUSGEGEBEN AM 13. DEZEMBER 1956
T 10736 IVa/5? d
Die Erfindung bezieht sich auf Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Platten und Entwickeln dieser Platten zu Druckplatten sowie auf
diese lichtempfindlichen Platten selbst, aus denen durch Belichten und Lösen der nicht belichteten
Stellen der Platte (Entwickeln) Druckplatten bzw. Zwischenplatten hergestellt werden. Die lichtempfindliche
Platte,gemäß der Erfindung besteht aus einer oder besitzt eine Schicht aus einem Gemisch
eines linearen, synthetischen löslichen· Polyamids und eines Stoffes, der bei Einwirkenlassen von
Licht und/oder Wärme die Löslichkeit des Polyamids gegenüber Lösungsmitteln erniedrigt, insbesondere
durch Vernetzung oder mehrere solcher Stoffe, und vorzugsweise einem lichtsensiblen
Katalysator oder mehreren und gegebenenfalls einem Zusatzstoff oder mehreren.
Die Platte bzw. die Oberfläche der Platte wird an gewünschten Stellen der Einwirkung von Licht
belichteten und/oder erhitzten, schwerlöslich gewordenen Teile der Platte bzw. der Oberfläche der
Platte wird nach dem Belichten und/oder Erhitzen der Einwirkung eines Lösungsmittels ausgesetzt,
das das unbelichtete Polyamid löst, während die belicheten und/oder erhitzten, schwerlöslich gewor- as
denen Teile der Platte bzw., der Oberfläche der Platte nicht gelöst werden und Druckflächen bilden
können.
Die synthetischen, linearen Polyamide (unter dem geschützten Warenzeichen Nylon bekannt)
sind thermoplastische Körper und löslich in vielen üblichen organischen Lösungsmitteln. Der Wert
dieser Polyamide, die zu Fasern, Fäden, Filmen z. B. durch Spritzpressen verarbeitet werden können,
ist insbesondere in der Textilindustrie und in verwandten Industrien bekannt. Für manche
Verwendungszwecke sind nun die charakteristisehen Eigenschaften der Polyamide weniger oder
gar nicht erwünscht, so daß versucht wurde, die Löslichkeit dieser Polyamide zu vermindern und
den Schmelzpunkt zu erhöhen.
So ist bekannt, synthetische lineare Polyamide mit einem ionisierten Salz bzw. Ammoniumbichromat
zwecks Verringerung der Löslichkeit und Erhöhung des Schmelzpunktes zu behandeln. Unter
den Verwendungsmöglichkeiten solcher unlöslich gemachter Polyamide ist ihre Verwendung als
Überzug photolithographischer Platten bekanntgeworden, bei denen Teile des Überzuges selektiv
durch Bestrahlen der Platte unmöglich gemacht werden.
Die Erfindung beruht auf der Erkenntnis, daß
as die Löslichkeit der belichteten synthetischen,
linearen Polyamide wesentlich vermindert werden kann durch Umsetzen mit einer ungesättigten, zur
Bildung von Vernetzungen fähigen Verbindung, wodurch die Herstellung von Druckplatten aus
synthetischen, linearen Polyamiden ermöglicht wird. Die lichtempfindliche Platte gemäß der Erfindung
besteht also aus einem solchen Gemisch oder besitzt einen Überzug aus einem solchen Gemisch.
Das Verfahren zur Bildung einer ein Relief zeigenden Druckplatte gemäß der Erfindung aus
der lichtempfindlichen Platte gc.näß der Erfindung
besteht in dem Belichten bzw. Bestrahlen bestimmter gewünschter Teile eines lichtempfindlichen Gemisches
eines in einer Entwicklerlösung löslichen synthetischen, linearen Polyamids und einer geringen
Menge einer ungesättigten Verbindung mit mindestens zwei CH2 =<X- Gruppen, von denen
— wenn nur zwei solcher Gruppen vorliegen — mindestens eine eine andere Art als eine Allylgruppe
ist, aus der die lichtempfindliche Platte oder eine Schicht der Platte besteht. Das Polyamid
wird in den belichteten Teilen unlöslich, wonach nicht belichtetes lösliches Polyamid weggewaschen
wird. Unter Belichten ist im folgenden das Behandeln der Platte bzw. der Plattenoberfläche mit
Lichtstrahlen und/oder anderen Strahlen verstanden.
Synthetische, lineare Polyamide, die gemäß der Erfindung behandelt werden können, sind bekannt
und z. B. beschrieben in den USA.-Patentschriften 2,071250, 2071253, 2130523, 2320088, 2430860
und 2441057, wie z.B. c-Caprolactam-Polymere,
Sebacinsäure-Hexamethylendiamin-Polymere, Adipinsäure-Hexamethylendiamin-Poiymere
und die vier Komponenten ε-Caprolactam-Sebacinsäure-Adipinsäure-Hexamethylendiamin-Polymere.
Das Polyamid muß mit der ungesättigten Verbindung mischbar in dem Entwickler löslich sein; als Entwickler
wird üblicherweise siedender Methylalkohol verwendet. Das Reaktionsprodukt des Polyamids
und der ungesättigten Verbindung muß in dem Entwickler unter den Bedingungen des Entwickeins
hinreichend unlöslich sein, derart, daß es durch ein Entwickeln während 30 Minuten nicht wesentlich
angegriffen wird.
Wie oben ausgeführt, muß die mit dem Polyamid zur Umsetzung gebrachte Verbindung mindestens
zwei CH2 =C<(- Gruppen enthalten. Eine
Verbindung mit zwei Allylgruppen, d. h. den Gruppen CHj = CHCH2— als einzigen ungesättigten
Gruppen ist jedoch für die Erfindung nicht brauchbar, während Verbindungen mit drei Allylgruppen
im Sinne der Erfindung wirksam sind. Verbindungen mit zwei CH2 = C<^- Gruppen müssen also,
um wirksam zu sein, mindestens eine ungesättigte Gruppe andere/ Art als die Allylgruppe enthalten.
Wenn die ungesättigten Verbindungen zwei
CH2 = CHCH2 Gruppen enthalten, so ist
zweckmäßig eine andere reaktionsfähige C H2 =
C<(- Gruppe vorhanden. Zum Beispiel ist die Acrylgruppe
CH2= CHC-
eine solche reaktionsfähige CH2 = C<(--Gruppe;
Verbindungen, die zwei Allylgruppen und eine Acrylgruppe enthalten, sind gemäß der Erfindung
wirksam. Die ungesättigte Verbindung soll einen Siedepunkt von mindestens ioo° besitzen,
und vorzugsweise soll der Siedepunkt mindestens so hoch sein wie der von N-Allylacrylamid, damit
unter den Bedingungen des Verfahrens der Erfindung kein wesentliches Verdampfen eintritt.
Den oben dargelegten Bedingungen genügende, praktisch als bei der Erfindung vorzüglich brauchbar
befundene ungesättigte Verbindungen sind z. B. N, N'-Methylenbisacrylamid, N, N' - Methylenbismethacrylamid,
N-Allylacrylamid, N, N-Diallylacrylamid, Äthylendiacrylat und TriaMylcyanurat.
Ein Verfahren zur Herstellung des Gemisches von Polyamid und ungesättigter Verbindung besteht
in dem Bilden einer Lösung der beiden Stoffe in einem organischen Lösungsmittel, ζ. Β. einem
niederen Alkohol, Aufbringen der Lösung auf eine Unterlage in Form eines Films, Verdampfen des
Lösungsmittels und Aussetzen des getrockneten Films dem Licht oder Licht und Wärme. Das Gemisch
kann auch in Form einer Schmelze hergestellt und die Schmelze durch Spritzen bzw.
Spritzpressen in Form von Schichten oder Platten gebracht werden. Entsprechend kann ein Film oder
Gewebe aus Polyamid mit einer Lösung der ungesättigten Verbindung imprägniert werden.
Die Umsetzung des Polyamids und der ungesättigten Verbindung kann durch einfaches Behandeln
des Gemisches der beiden Komponenten mit einer Quelle von Strahlungsenergie — Licht oder Licht
und Wärme — geschehen. Um das optimale Maß der UnlÖslichmachung und eine schnellere Reaktion
zu erhalten, ist es jedoch vorteilhaft, die Reaktion
in Gegenwart eines lichtempfindlichen Photopolymerisationskatalysators
in einer für solche Katalysatoren üblichen Menge durchzuführen. Es können
Katalysatoren, die — wie bekannt — analoge PoIymerisationsreaktionen
unter dem Einfluß von Licht beschleunigen bzw. einleiten, verwendet werden. Zu diesen lichtsensitiven Katalysatoren gehören
— wie bekannt — einige Stoffe, die den Kern
enthalten, in dem die Phenylgruppe Substituenten, wie z. B. die Hydroxylgruppe oder Carboxylreste,
enthalten kann; die Anwendung dieser Stoffe ist — wie gefunden wurde — besonders vorteilhaft.
Hauptvertreter dieser Gruppe von lichtempfindlichen Katalysatoren mit dem angegebenen Kern
bzw. der angegebenen Konfiguration sind Benzophenon, 4-Hydroxybenzophenon, Orthobenzoylbenzoesäure,
Benzil, Benzoin, Benzaldehyd, Benzoinacetat, Acetophenon und ähnliche Stoffe. Andere Ketoverbindungen, wie Butandion, können
ebenfalls verwendet werden; ebenso auch Benzoylperoxyd.
Die Verhältnismenge des Polyamids und der ungesättigten Verbindung kann z. B. nach Wunsch
bzw. je nach den Bedingungen variiert werden; für gewöhnlieh liegen die Mengenverhältnisse der
Stoffe im Gemisch in dem Bereich von etwa 99 bis etwa 75 %, vorzugsweise 90 bis 85 °/o Polyamid
zu etwa ι bis 25%, vorzugsweise etwa 5 bis io°/o
der ungesättigten Verbindung; unter Prozent sind Gewichtsprozente zu verstehen.
Bei Verwendung eines Katalysators zur Beschleunigung der Reaktion ist dessen Konzentration
für gewöhnlich gering und liegt vorzugsweise irn Bereich von etwa 0,01 Gewichtsprozent Katalysator
bis etwa 10% Katalysator, z.B. 5%, bezogen auf das Gemisch von Polyamid und ungesättigter
Verbindung. Für gewöhnlich wird etwa ι %> verwendet. Die Menge hängt von dem
gewünschten Grad des Abschirmens ab. Der Katalysator schirmt das Licht ab und verhindert also
ein zu tiefes Eindringen des Lichtes in das Material, so daß durch Bemessung der Menge ein einfacher
Weg zur Bestimmung der Tiefe des Reliefs der Platte gegeben ist.
Wenn der verwendete Katalysator besonders lichtempfindlich ist, wird die Reaktion vorzugsweise
durch Behandeln des Gemisches mit einer Lichtquelle durchgeführt. Ultraviolettes Licht ist
im allgemeinen wirksamer als übliches Licht. Die für die von dem Licht eingeleitete bzw. beförderte
Reaktion benötigte Zeit hängt wesentlich von der Menge des verwendeten Katalysators, der Reaktionsfähigkeit
des Gemisches, der gewünschten Relieftiefe der Platte und den Reaktionsbedingungen
ab; unter üblichen Bedingungen ist eine Zeit von ι bis 30 Minuten und auch bis zu mehreren
Stur--1t,,j. notwendig. Eine geringe Belichtungszeit
erg 1 Dt eine geringe Relief tiefe der Platte.
Wenn kein Katalysator verwendet wird, wird die Reaktion ebenfalls durch Einwirkenlassen von
Licht durchgeführt, jedoch sind hier üblicherweise längere Belichtungszeiten notwendig, und der
Grad der möglichen Unlöslichmachung ist normalerweise nicht so hoch wie bei Verwendung eines
Katalysators.
Charakteristisch für die Wirkung des Vorgehens nach der Erfindung ist die erhebliche Erhöhung des
Schmelzpunktes des Polyamids bzw. der Polyamidkomposition.
Die Erfindung kann zur Herstellung von Platten oder Filmen, die vollkommen aus der lichtempfindlichen
Komposition bestehen, verwendet werden. Hierbei liegt also ein durch und durch lichtempfindliches
Material vor. Nach der Erfindung können auch Platten von beliebiger Grundlage benutzt
werden, auf die Filme oder Überzüge der Komposition des lichtempfindlich gemachten Polyamids
auf irgendeine bekannte Weise aufgebracht sind. Als Platten können z. B. Metallplatten verwendet
werden oder Metallbleche oder Platten bzw. Folien oder Filme aus Kunstharzen und Cellulosederivaten,
ferner Gewebe, Papierschichten, Leder usw. Die Verwendung der ganz aus der lichtempfindlichen
Polyamidkomposition bestehenden Platten, Folien oder Filme oder der mit einer Schicht der
Komposition bedeckten Platten, Folien oder Filme ist in allen Fällen möglich, in denen photochemische
Vorgänge ausgenutzt werden, d. h. in der Photographie, bei photomechanischen Reproduktionsverfahren,
in der Lithographie und beim Tiefdruck. Speziell können die nach der Erfindung hergestellten
Produkte verwendet werden beim Offsetdruck, beim Seidenrasterdruck, bei Klotzplatten bzw. beim
Klotzverfahren, bei Überzügen von Schablonen, zur Herstellung von zahlreichen Umdrucken bzw.
Schriften, bei lithographischen Platten, Reliefplatten und Gravurplatten. Der Ausdruck Druckplatte
umfaßt also alle diese Arten von Platten und Zwischenplatten.
Eine typische Art der Anwendung der Erfindung sei veranschaulicht an einem Herstellungsverfahren
einer lichtempfindlichen Platte und aus ihr einer Druckplatte. Dabei wird eine Platte, üblicherweise
aus Metall oder einem anderen entsprechenden dünnen Material, mit einem Film des licht- no
empfindlichen Gemisches von Polyamid und einer copolymerisierbaren monomeren ungesättigten
Verbindung bedeckt oder eine Platte aus diesem Gemisch hergestellt; die Oberfläche der Platte wird
dann dem Licht ausgesetzt, und zwar durch ein aufgelegtes Negativbild mit durchsichtigen und undurchsichtigen
Stellen bzw. Teilen, z. B. auf einem Film oder einer Glasplatte. Das Licht bewirkt die
Umsetzung, die die Stellen der Oberfläche unterhalb der durchsichtigen Teile des Bildes unlöslieh
macht, während die Teile unterhalb der undurchsichtigen Teile des Bildes, die also
gegen das Licht geschützt sind, löslich bleiben. Die löslichen Stellen der Oberfläche werden dann
durch einen Entwickler entfernt, die unlöslichen, erhabenen Teile des Überzuges ergeben das ge-
wünschte Bild, so daß zusammen mit dem Material der Grundlage eine Reliefplatte gebildet wird.
(Wenn eine bimetallische Grundlage verwendet wird, so kann der restliche Überzug zur Bildung
einer lithographischen Platte entfernt werden.) Die Platte kann mit Druckfarbe eingefärbt und direkt
in üblicher Weise als Reliefdruckplatte verwendet werden. Bei Herstellung einer Gravurplatte bzw.
Gravure wird naturgemäß' ein Positivbild aufgelegt.
Es ist bekanntgeworden, ein flüssiges Monomeres, z. B. in einer zwei Glasplatten aufweisenden
Zelle oder auf einer Platte, die durch das Monomere aufgequollen ist, durch ein Bild hindurch zu
belichten und auf diese Weise das Monomere zu polymerisieren zu einem festen Stoff, der denn
mittels Wärme oder Lösungsmitteln zu einer Reliefplatte entwickelt werden kann.· Gegenüber diesem
Vorgehen wird gemäß der Erfindung der
ao Fortschritt erreicht, daß eine nicht mehr feuchte, sondern eine fast trockene Schicht auf der Platte
verwendet wird, die leichter zu handhaben ist, wobei außerdem die Umsetzung des Polyamids mit
der ungesättigten Verbindung gemäß der Erfindung
as normalerweise eine weniger lange Belichtung erfordert
als die Polymerisation des flüssigen Monomeren nach dem Stande der Technik.
Die folgenden Beispiele veranschaulichen die Erfindung; Teile und Prozentsätze sind stets in
Gewicht ausgedrückt. - ■
Ein dünnes Blech von anodisiertem Aluminium wird auf eine heiföe Platte unter Halten einer Temperatur
von 35° gelegt. Eine Nylongießlösung wird durch Mischen folgendermaßen, hergestellt: 125,2 g
einer i5°/oigen Lösung eines Polymeren von J£-Caprolactam,
Adipinsäure, Sebacinsäure und Hexamethylendiamin in Äthylalkohol (die Lösung enthält
18,8 g Polyamid), 188 g N, N'-Methylembisacrylamid,
0,5 g Benzophenon.
Unter Verwendung einer Spritzvorrichtung bzw. Ziehvorrichtung mit 0,05 Zoll werden vier Filme
einer über dem anderen auf das Aluminiumblech gegossen. Zwischen dem Aufbringen der vier Filme
wird ein Verdampfen des Lösungsmittels während etwa ι Stunde gestattet. Nach dem Trocknen des
letzt aufgebrachten Films derart, daß die Oberfläche nicht mehr klebt, wird der Verbundkörper
aus Polyamidfilm und Aluminium von der warmen Platte weggenommen, und es werden verschiedene
Teile der Fläche unter Vakuum den Strahlen eines Kohlelichtbogens während 30 Minuten durch zwei
Negativtransparente ausgesetzt. Das eine Negativ ist ein 120-Zeilen-Halbtonbild, und das zweite
Negativ ist ein Teil einer Photodrucktype. Während des Belichtens wird die Platte unter einem
Vakuum von ewta 29 Zoll Quecksilber gehalten. Die belichtete Platte wird dann in einen Behälter
gelegt und 15 Minuten bei iio° Fahrenheit mit
einer Entwicklerlösung gespült, die aus einer CaI-ciumchloridlösung
in Äthylalkohol von einem spezifischen Gewicht von 0,95 besteht.
Sowohl das Druckbuchstabenbild als auch das Halbtonrelief sind in der Polyamidschicht gebildet.
An den Stellen des Drucktypenbilds ist die Ätztiefe über 0,02 Zoll zwischen den Reihen der
Buchstaben. Ein seitliches Anätzen oder Unterschneiden in diesen tiefgeätzten Stellen ist nicht
festzustellen, und die Seitenwände der Druckbuchstäben haben Pyramidenform mit den breiteren
Abmessungen am Boden der geätzten Höhlungen. Die Platte wird mit Druckfarbe eingefärbt und mit
ihr wie mit einer Buchdruckplatte gedruckt.
75 Beispiel-2
Es wird eine äthylalkoholische Lösung der folgenden Bestandteile hergestellt: 18 Teile du-Pont-Nylon,
Typ 6501, 2 Teile N, N'-Methylenbisacrylamid,
1 Tail Benzophenon.
Diese Lösung wird auf eine auf 320 gehaltene Glasplatte gegossen und mittels eines Abstreifers
bzw. einer Ziehvorrichtung von 0,024 Zoll glattgestrichen bzw. -gezogen.. ,Der Film bleibt stehen,
bis die Oberfläche keine Kle.brigkeit mehr aufweist. Die Hälfte des gegossenen Films wird dann unter
Vakuum dem Licht eines Kohlebogens während 30 Minuten ausgesetzt. Der Rest des Films wird
gegen Licht geschützt aufgehoben. Es werden dann Stücke des belichteten und des unibelichteten Films
bei 6o° im Ofen getrocknet, gewogen und dann in kochenden Methylalkohol, „während 4Minuten eingelegt.
Die beiichtete Probe wird aus dem Methanol herausgenommen, im Ofen bei 60 ° getrocknet
und wieder gewogen. Der Film hat nur 15 % seines ursprünglichen Gewichtes während der Methanolbehandlung
verloren. Der nicht belichtete Film jedoch löst sich schnell nach dem Einlegen in das siedende
Methanol völlig auf, so daß also der Gewichtsverlust 100 °/o beträgt. Der· dem Licht ausr
gesetzte Film ist klar, stark und biegsam. Beim Legen eines kleinen Stückes des belichteten Films
auf eine heiße Platte, zusammen mit einer Probe von reinem Nylon, schmilzt das reine Nylon, während
der belichtete Film gemäß der Erfindung weder schmilzt noch seine Form verliert.
Um zu zeigen, daß die Unlöslichmachung gemäß Beispiel 2 nicht lediglich auf den Gehalt an Benzophenon
zurückgeht, kann aus einer Äthylalkohollösung, die 18 Teile Nylon und 1 Teil Benzophenon
enthält, ein zweiter Film hergestellt werden. Nach Belichtung des gegossenen Films wie im Beispiel
2 lösen sich sowohl der belichtete als auch der unbelichtete Teil des gegossenen Films rasch in
kochendem Methylalkohol.
Es wird ein Film gemäß dem Verfahren des Beispiels 2 hergestellt mit dem Unterschied, daß die
Menge an Benzophenon auf 0,2 Teile vermindert wird. Der Film wird dann wie im Beispiel 2 belichtet,
getrocknet, gewogen und siedendem Methylalkohol ausgesetzt. Der belichtete Teil des Films
venliert lediglich 17,5% seines ursprünglichen Ge-
wichtes während der Methanoibehandlung, während der unbelichtete Teil sich rasch löst.
B e i sp i el 4
Es wird ein Film gemäß dem Verfahren des Beispiels 2 hergestellt mit dem Unterschied, daß
das Benzophenon ersetzt wird durch 1 Teil Benzoylperoxyd. Der Film wird dann belichtet gemäß
dem Vorgehen des Beispiels 2, und kleine Teile des belichteten Films werden bei 6o° im Ofen getrocknet,
gewogen und in siedendes Methanol gegeben. Der belichtete Teil des Films zeigt einen Gewichtsverlust
von 39°/o, während der nicht belichtete Teil sich völlig auflöst, also einen Gewichtsverlust von
100% zeigt.
Ein gezogener Film wird gegossen und getrocknet gemäß dem Verfahren des Beispiels 2 unter
Verwendung einer Äthylalkohollösung, die 18 Teile Polyamid und 2 Teile N, N'-Methylenbisacrylamid
enthält. Ein Teil des Films wird dann auf 1150C
während 4 Minuten in siedendes Methylalkohol getaucht. Nach dem Trocknen und Wägen des
Films zeigt es sich, daß 60% des ursprünglichen Gewichtes während der Methanolbehandlung verlorengeht.
Ein unerhitzter Teil des gleichen Films löst sich dagegen rasch in siedendem Methylenalkohol.
Es wird gemäß dem Verfahren des Beispiels 5 vorgegangen, jedoch wird der Film an Stelle des
Erhitzens 30 Minuten dem Licht eines Kohlebogens ausgesetzt. Der belichtete Teil des gegossenen
Films ergibt einen Gewichtsverlust von 80 % nach der Behandlung mit siedendem Methylalkohol,
während der unbelichtete Teil des Films sich rasch in siedendem Methylalkohol löst.
B e i s ρ i e 1 7
Ein gezogener Film wird gemäß dem Verfahren des Beispiels 2 aus einer Äthylalkohollösung, die
18 Teile du-Pont-Nylon, Typ 6501, 2 Teile N'N-Methylenbisacrylamid
und 1 Teil Benzoylperoxyd enthält, hergestellt. Ein kleiner Teil der Glasplatte
und des Films wird in einem Ofen während 4 Stunden auf 105 ° C erhitzt. Der Film wird dann
gewogen und in siedendes Methanol während 4 Minuten eingetaucht, getrocknet und wieder gewogen.
Der Gewichtsverlust des erhitzten Films beträgt nur 35%, .während der nicht erhitzte Film sich
rasch in siedendem Methylalkohol löst. Der erhitzte Film ist klar, fest und biegbar; beim Legen eines
kleinen Stückes des erhitzten Films auf eine heiße Platte zusammen mit einer Probe von reinem
Nylon schmilzt der Nylonfilm, während der erhitzte Film gemäß der Erfindung weder schmilzt
noch seine Form verliert.
Um zu zeigen, daß das Unlöslichmachen nicht lediglich dem Benzoylperoxyd zuzuschreiben ist,
kann ein zweiter gezogener Film hergestellt werden aus einer Äthylalkohollösung, die 18 Teile Nylon
und 1 Teil Benzoylperoxyd enthält. Dieser Film wird ebenfalls auf 1050 während 4 Stunden
erhitzt und dann in siedendes Methanol eingetaucht. Er löst sich rasch.
Gemäß Beispiel 2 wird auf Glas ein Film gegossen unter Verwendung einer Äthyladkohollösung,
die 18 Teile Polyamid, 2 Teile N, N'Methylenbisacrylamid und 1 Teil Orthobenzoylbenzoesäure
enthält. Der belichtete Teil des Films verliert lediglich 22,5 seines ursprünglichen Gewichtes beim
Eintauchen in siedendes Methanol während 4 Minuten, während der unbelichtete Teil des Films sich
rasch löst. Der belichtete Teil des Films ist klar, fest und biegsam und schmilzt nicht auf einer
heißen Platte.
Gemäß dem Verfahren des Beispiels 2 wird aus einer Äthylalkohollösung, die 18 Teile du-Pont-Nylon
6501, 2 Teile N, N'-Methylenbisacrylamid und ι Teil Benzil enthält, ein Film hergestellt und
belichtet. Der belichtete Teil des Films verliert go beim Behandeln mit siedendem Methanol während
4 Minuten) nur 29 % an Gewicht, während der nicht belichtete Teil des Films sich rasch löst.
Gemäß· dem Verfahren des Beispiels 2 wird aus einer Äthylalkohollösung, die 18 Teile Polyamid,
2 Teile N, N'-Methylenbisacrylamid und 1 Teil 4-Hydroxybenzophenon enthält, ein Film her- 10ό
gestellt und belichtet.
Beim Eintauchen des belichteten Teils des Films in siedendes Methanol während 4 Minuten ist der
Gewichtsverlust nur 23%, während der nicht belichtete Teil des Films sich rasch löst. Der belichtete
Teil des Films ist klar, fest und biegsam und schmilzt nicht beim Auflegen auf eine heiße Platte.
Es wird eine Lösung von 1,5 Teilen Polyamid, 0,4 Teilen N, N'-Diallylacrylamid und 0,47 Teilen
Benzophenon hergestellt. Eine Glasplatte wird auf eine heiße Platte von 35 ° aufgelegt. Es werden
unter Verwendung einer Abziehvorrichtung von 0,024 Zoll zwei Filme gegossen, einer über dem
anderen, eine Stunde nach dem anderen. Der Film wird dann getrocknet, bis die Oberfläche nicht
mehr klebrig ist.
Die überzogene Glasplatte wird dann in Hälften iao geteilt, und die eine Hälfte wird im Vakuum einem
Kohlenbogen in einer Entfernung von 4 Fuß ausgesetzt. Der belichtete und der unbelichtete Teil
der Glasplatte wird im Ofen bei 6o° getrocknet, gewogen und in siedendes Methylalkohol während
4 Minuten" eingetaucht. Der nicht belichtete Teil
des Films wird rasch gelöst. Der belichtete Teil wird aus dem Methanol entfernt, im Ofen bei 6o°
getrocknet und wieder gewogen. Der Gewichtsverlust des belichteten Teils beträgt nur 44%).
Es wurde wie bei Beispiel 11 vorgegangen mit
dem Unterschied, daß das N'N-Diallylacrylamid ersetzt wird durch diiegileiche Gewichtsmenge N-Allylacrylamid.
Der Gewichtsverlust des belichteten Teils des Films beträgt nur 26,5%, während der
unbelichtete Teil des Films sich rasch in siedendem Methanol löst.
Es wird nach Beispiel 11 vorgegangen mit dem Unterschied, daß das N, N-Diallylacrylamid durch
die gleiche Gewichtsmerige des Diacrylesters von Äthylenglycol ersetzt wird. Der Gewichtsverlust des
ao belichteten Teils des Films beträgt 60,9%, während der unbelichtete Teil sich rasch löst.
Es wird gemäß Beispiel 11 vorgegangen mit dem Unterschied, daß das N, N-Diallylacrylamid ersetzt
wird durch die gleiche Gewichtsmenge Trillylcyanurat. Der belichtete Teil .des Films erleidet einen
Gewichtsverlust von 63,8%, während der unibelichtete
Teil des Films sich rasch löst.
Es wird gemäß Beispiel 2 vorgegangen mit dem Unterschied, daß das Benzophenon durch die
gleiche Gewichtsmenge Benzoinacetat ersetzt wird. Der belichtete Teil des Films zeigt einen Gewichtsverlust
von nur 19,3% nach dem Eintauchen in siedendes Methanol während 4 Minuten. Der unbelichtete
Teil des Films löst sich rasch in siedendem Methanol.
Es wird gemäß Beispiel 2 vorgegangen mit dem Unterschied, daß das Benzophenon ersetzt wird
durch die gleiche Gewichtsmenge 2, 3-Butandion. Der belichtete Teil des Films zeigt einen Gewichtsverlust
von 58% nach dem Eintauchen in siedendes Methanol während 4 Minuten, während der unbelichtete
Teil des Films sich rasch in siedendem Methanol löst.
Es wird gemäß Beispiel 2 vorgegangen mit dem Unterschied, daß das Benzophenon ersetzt wird
durch die gleiche Gewichtsmenge Acetophenon. Der Gewichtsverlust des Films beträgt nach dem Eintauchen
in siedendes Methanol während 4 Minuten nur 3i,3°/o, während der nicht belichtete Teil des
Films rasch gelöst wird.
60
60
Es wird gemäß Beispiel 2 vorgegangen mit dem Unterschied, daß das Benzophenon ersetzt wird
durch die gleiche Gewichtsmenge Benzaldehyd. Der belichtete Teil des Films zeigt einen Gewichtsverlust
von nur 26,2% nach Eintauchen in siedendes Methanol während 4 Minuten, während der nicht
belichtete Teil des Films rasch gelöst wird.
Zu 2,5 g trockenem Polyamid in Pudverform werden o, 14 g Benzophenonpulver und 0,27 g Diallylacrylamid
zugegeben. Unter kräftigem Rühren werden 4 ml wasserfreier Äther dem Gemisch einverleibt.
Nach dem Trocknen während 1 Stunde wird das trockene Pulver dann in eine auf 1500 C
erhitzte Form gegeben und unter einen Druck von p.s.i. gesetzt, bis die Form auf Raumtemperatur
gekühlt ist. Ein klarer, fester Nylonblock wird aus der Form genommen. Dieser Nylonblock
wird dann wie die Platte im Beispiel 1 belichtet und entwickelt. Auf dem Nylonblock haben sich Drucktypenreliefs
gebildet von einer Höhe von etwa 0,01 Zoll. Die Platte wird dann mit Druckfarbe
eingefärbt, und es wird wie von einem Druckblock gedruckt.
Claims (14)
- PATENTANSPRÜCHE:i. Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Platten und aus ihnen Druckplatten, dadurch gekennzeichnet, daß eine Platte aus oder überzogen mit einem lichtempfindlichen Gemisch eines synthetischen, linearen Polyamids, das in einer Entwicklerlösung löslich ist, und einer geringen Menge einer ungesättigten Verbindung, die mindestens zwei CH2 =C<(-Gruppen enthält, von denen bei Vorhandensein von nur zwei solchen Gruppen mindestens eine eine andere Gruppe als die Allylgruppe ist, hergestellt, Strahlen, insbesondere Lichtstrahlen, unter Überführen des Polyamids in unlösliche Form in den belichteten Teiilen ,ausgesetzt und unbelichtetes lösliches Polyamid ausgewaschen wird.
- 2. Verfahren gemäß Anspruch 1, gekennzeichnet durch die Zümischung zumindest eines strahlenempfindlichen Katalysators.
- 3. Verfahren gemäß Anspruch 2, gekennzeichnet durch die Verwendung von Benzoylperoxyd als Katalysator.
- 4. Verfahren gemäß Anspruch 2, gekennzeichnet durch die Verwendung einer lichtempfindlichen Verbindung, mit der Konfigurationals Katalysator.
- 5. Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als ungesättigte Verbindung N, N'-Methylenbisacrylamid verwendet wird.
- 6. Verfahren gemäß Anspruch ι oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als ungesättigte Verbindung Triallylcyanurat verwendet wird.
- 7. Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als ungesättigte Verbindung N-Allylacrylamid verwendet wird.
- 8. Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als ungesättigte Verbindung N, N-Diallylacrylamid verwendet wird.
- 9. Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als ungesättigte Verbindung Äthylendiacrylat verwendet wird.
- 10. Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als ungesättigte Verbindung N' N'^Methylenbisrnethacrylamid. verwendet wird.
- 11. Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Platte gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Gemisch von Polyamid und ungesättigter Verbindung sowie - vorzugsweise Katalysator zu einer Platte, einem Film oder Block gegossen, gezogen, gepreßt, gespritzt oder spritzgepreßt wird.
- 12. Verfahren zur Herstellung einer licht-..empfindlichen Platte gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Gemisch von Polyamid und ungesättigter Verbindung sowie vorzugsweise Katalysator auf eine Grundlage, ζ. ΒΛ aus Metall, als Überzug oder in Form von mehreren Überzügen übereinander aufgebracht wird.
- 13. Verfahren zur Herstellung einer Druck-, platte gemäß Ansprüchen 11 oder 12, gekennzeichnet durch Belichten durch ein · Negativoder Positivbild mit Kohlebogenlicht, zweckmäßig im Vakuum, und Lösen der unbelichteten Teile der Oberfläche, z. B. durch siedendes Methanol, bis zur gewünschten Ätztiefe.
- 14. Lichtempfindliche durch Belichten und Entwickeln in Druckplatten überführbare Platten zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch ι bis 13, gekennzeichnet durch eine lichtempfindliche Oberflächenschicht aus einem unbelichteten Gemisch mit 99 bis 75%, vorzugsweise 95 bis 90% eines synthetischenlinearen löslichen Polyamids und 1 bis 25%, vorzugsweise 5 bis 10% einer ungesättigten Verbindung mit zwei CH2 = C<^- Gruppen, von denen eine bei Vorliegen von zwei Gruppen eine Gruppe anderer Art als die Allylgruppe ist, und vorzugsweise 0,01 bis 10% (gerechnet auf das Gemisch des Polyamids und der ungesättigten Verbindung) eines photosensiblen Katalysators.In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentschrift Nr. 807 894.© 609 530/288 6.56 (609 705 12.56)
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US41907654A | 1954-03-26 | 1954-03-26 | |
US65430057A | 1957-04-22 | 1957-04-22 | |
US846951A US3081168A (en) | 1954-03-26 | 1959-10-16 | Polyamide photographic printing plate and method of using same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE954127C true DE954127C (de) | 1956-12-13 |
Family
ID=27411217
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DET10736A Expired DE954127C (de) | 1954-03-26 | 1955-03-25 | Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Platten und aus ihnen Druckplatten |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3081168A (de) |
BE (3) | BE566967A (de) |
CH (1) | CH342841A (de) |
DE (1) | DE954127C (de) |
FR (1) | FR1128453A (de) |
GB (3) | GB767912A (de) |
NL (4) | NL94817C (de) |
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- NL NL227112D patent/NL227112A/xx unknown
- NL NL195949D patent/NL195949A/xx unknown
- BE BE566942D patent/BE566942A/xx unknown
- NL NL120473D patent/NL120473C/xx active
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