JPS5830754A - 平版印刷用原版 - Google Patents
平版印刷用原版Info
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- JPS5830754A JPS5830754A JP12909081A JP12909081A JPS5830754A JP S5830754 A JPS5830754 A JP S5830754A JP 12909081 A JP12909081 A JP 12909081A JP 12909081 A JP12909081 A JP 12909081A JP S5830754 A JPS5830754 A JP S5830754A
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
零発−は党又は熱により製版される平版印刷用原版に関
する。
する。
平版印刷用原版の代表例としてはＰ８版及び電子写真版
がある。 ｐｓ版（ｐｒ＊ｓ＠ｎａｉｔ１ｇ＠ｄ ｐ
ｌａｔｅ）拡凱水化処理したアルミニウム、亜鉛等の親
水性支持体上に一す♂ニル珪皮酸エスデｙ１メタクリル
酸メチル〜アクリル化グリシジルアクリル鐵エステル〜
アクリｐニトリル共重合体、トリエチレングリー−ルジ
アクリレート、アルコール可溶性共重合ボリアミド〜Ｎ
、Ｎ’−メチレンぜスアクリルア叱ド混合系、環化ポリ
イノプレン〜２，６−ジ（４′−アジドベンザル）シク
ロヘキサノン混合系、ノ４ラジアゾフェニルア電ンΦノ
受ツホルムアルデヒド縮重會物等のネガ鳳感光性樹脂（
又は感光性化合物ン或いはキノンジアジド系樹脂のよう
なポジ朧感光性樹脂を含む画像形成層を設けたもので、
製版はネガ渥感光性樹脂を用い次場合はｗ儂露光により
、露光部に横かけ反応又は分解反応を起こさせて不溶化
させるか或いは露光前とは全く異なる溶解度に変化させ
穴径、一般ＫＶ機溶剤で処理（ｆｉｌｌ）して露光部を
溶出せしめ、ζうして非露光部をネガ＊偉として残すこ
とによ９行なわれる。ポジ世感光性樹脂を用いた場合も
同様な方法で製版が行なわれるが、この場合はネガ聾と
は逆に露光部が分解し、現偉によって溶出すると同時に
、非露光部が化学変化を起こして不溶化し、ポジＩ［ｍ
を形成する。
がある。 ｐｓ版（ｐｒ＊ｓ＠ｎａｉｔ１ｇ＠ｄ ｐ
ｌａｔｅ）拡凱水化処理したアルミニウム、亜鉛等の親
水性支持体上に一す♂ニル珪皮酸エスデｙ１メタクリル
酸メチル〜アクリル化グリシジルアクリル鐵エステル〜
アクリｐニトリル共重合体、トリエチレングリー−ルジ
アクリレート、アルコール可溶性共重合ボリアミド〜Ｎ
、Ｎ’−メチレンぜスアクリルア叱ド混合系、環化ポリ
イノプレン〜２，６−ジ（４′−アジドベンザル）シク
ロヘキサノン混合系、ノ４ラジアゾフェニルア電ンΦノ
受ツホルムアルデヒド縮重會物等のネガ鳳感光性樹脂（
又は感光性化合物ン或いはキノンジアジド系樹脂のよう
なポジ朧感光性樹脂を含む画像形成層を設けたもので、
製版はネガ渥感光性樹脂を用い次場合はｗ儂露光により
、露光部に横かけ反応又は分解反応を起こさせて不溶化
させるか或いは露光前とは全く異なる溶解度に変化させ
穴径、一般ＫＶ機溶剤で処理（ｆｉｌｌ）して露光部を
溶出せしめ、ζうして非露光部をネガ＊偉として残すこ
とによ９行なわれる。ポジ世感光性樹脂を用いた場合も
同様な方法で製版が行なわれるが、この場合はネガ聾と
は逆に露光部が分解し、現偉によって溶出すると同時に
、非露光部が化学変化を起こして不溶化し、ポジＩ［ｍ
を形成する。
一方、電子写真版は親木化処理したアルζエクム蒸着フ
ィルムのような親水′性導電性支持体上に光導電性徴化
亜鉛及び樹脂結着剤を含む光導電層を設けたもので、製
版は通常の電子写真妹に従って帯電、画倫露光した後、
親油性トナーで現像して行なわれる。
ィルムのような親水′性導電性支持体上に光導電性徴化
亜鉛及び樹脂結着剤を含む光導電層を設けたもので、製
版は通常の電子写真妹に従って帯電、画倫露光した後、
親油性トナーで現像して行なわれる。
ｐｇ＠は工業印刷から軽印刷まで巾広く用いられている
が、感光波長が近紫外域にしかない次め露光１穏は、銀
塩フィルムで一度リスフィルムを調製し九後、このフィ
ルムを密着透過焼きする必要があるので、複雑で高価な
印刷版となってしまう。ｔ＊、ｉ像の際、有機溶剤を使
用する（アルカリ現像もしくは水現像できるものもある
が）ため、一般に公害上問題となる。
が、感光波長が近紫外域にしかない次め露光１穏は、銀
塩フィルムで一度リスフィルムを調製し九後、このフィ
ルムを密着透過焼きする必要があるので、複雑で高価な
印刷版となってしまう。ｔ＊、ｉ像の際、有機溶剤を使
用する（アルカリ現像もしくは水現像できるものもある
が）ため、一般に公害上問題となる。
一方、電子写真版はＰＳ版のようにリスフィルムを使用
せずに製版可能であるが、製版工程が複雑であｐ、消耗
品の交換を必要とするなどの問題がある。また形成され
るｍ偉はトナーの粒子俸であるため、ＰＳ版に比べると
、＋１ｍ品質に劣る。
せずに製版可能であるが、製版工程が複雑であｐ、消耗
品の交換を必要とするなどの問題がある。また形成され
るｍ偉はトナーの粒子俸であるため、ＰＳ版に比べると
、＋１ｍ品質に劣る。
また最近ではコンピューター、ファクシミリ郷の利用に
伴ない、これら機器の出力信号、即ち熱や光モードで製
版できる原版又は材料が要求されているが、従来の原版
又は材料にはとの要求に応じられるものはなかった。
伴ない、これら機器の出力信号、即ち熱や光モードで製
版できる原版又は材料が要求されているが、従来の原版
又は材料にはとの要求に応じられるものはなかった。
本発明の第一〇目的は従来のＰＳ版中篭子写真版におけ
る種々の問題を解決し得る平版印刷用原版を提供するこ
とである。
る種々の問題を解決し得る平版印刷用原版を提供するこ
とである。
本発明の第二の目的はＩｉｌ儂状の露光又は熱印加とい
う簡便な方法で製版可能な平版印刷用原版を提供するこ
とである。
う簡便な方法で製版可能な平版印刷用原版を提供するこ
とである。
本発明の第三の目的はコンピューター、７アクシぐν等
の出力信号によっても製版可能な平版印刷用原版を提供
することである。
の出力信号によっても製版可能な平版印刷用原版を提供
することである。
即ち本発明の原版は親水性支持体上にオド２ゾリウム塩
と光還元剤又鉱熱還元剤とを生成分とする両偉形成層を
設けてなることを特徴とするものである。
と光還元剤又鉱熱還元剤とを生成分とする両偉形成層を
設けてなることを特徴とするものである。
本発明で使用されるオド２ゾリウム塩を一般式で示せば
、次のようになる。
、次のようになる。
１
（但しＲ，、Ｒ，ｆｉ各々アリール基又はヘデロ璋基を
表わし、Ｒ１はアルキル基、アリール基、ヘテ四環基、
カルバミル基、カルｉキシエステル基、メルカプト基、
ヒドロキシ基、アミ７基、カルバミル基、スルホン基又
はスルホンアミド基を表わし、ｘｏはＢｒ、Ｃ７ｌ又は
ＢＦ、 を懺わす。ン 或いは ｘｅ ｘｅ 〔但しＲ４＋ Ｒ１ｔ Ｒ・、Ｒテ、Ｒ畠ｔ Ｒ１？
Ｒ１４及びＲ１５は各々アリール基スはへテロ環基を表
わし、Ｒ，ｏ。
表わし、Ｒ１はアルキル基、アリール基、ヘテ四環基、
カルバミル基、カルｉキシエステル基、メルカプト基、
ヒドロキシ基、アミ７基、カルバミル基、スルホン基又
はスルホンアミド基を表わし、ｘｏはＢｒ、Ｃ７ｌ又は
ＢＦ、 を懺わす。ン 或いは ｘｅ ｘｅ 〔但しＲ４＋ Ｒ１ｔ Ｒ・、Ｒテ、Ｒ畠ｔ Ｒ１？
Ｒ１４及びＲ１５は各々アリール基スはへテロ環基を表
わし、Ｒ，ｏ。
Ｒ１１ｔ Ｒ１１及びＲ１１はアルキル基、アリール基
、ヘテ四環基、カルバミル基、カルゼキシエステル基、
メルカプト基、ヒドロキシ基、アＺ）基、カルバミル基
、スルホン基、スルホンアミド基を表わし、ＸｏはＢｒ
、 ＣＩ又はＢＦ。
、ヘテ四環基、カルバミル基、カルゼキシエステル基、
メルカプト基、ヒドロキシ基、アＺ）基、カルバミル基
、スルホン基、スルホンアミド基を表わし、ＸｏはＢｒ
、 ＣＩ又はＢＦ。
を我わす。（但しＲ□６は水素又はＣＨ，、ＯＣＲ，又
はＣＩを表わし、またｎは１〜５の整数を表わす。）〕 前記一般ｇ（Ｉ）〜側で示されるテトラゾリウム塩はい
ずれも水溶性、且つ有機溶媒不溶性で、無色〜淡黄色を
呈するが、励起状態においてプロトン供与体よシプロト
／引き抜き反応によって還元され、ホルマザン構造をと
ることにより、赤色に発色すると共に水不溶性且つ有機
溶媒に可溶となる。なおテトラゾリウム塩が水溶性、且
つ有機溶媒不溶性なのは第３窒素が４級化によりイオン
化しているからであり、一方、その還元生成物であるホ
ルマザンが水不溶性、且つ有機溶媒可溶性なのはアゾ色
素構造をとる殊らと考えられる。いずれにしてもこ還元
反応は一般式（Ｉ）のテトラゾリウム塩の場合、次のよ
うに進むと考えられる。
はＣＩを表わし、またｎは１〜５の整数を表わす。）〕 前記一般ｇ（Ｉ）〜側で示されるテトラゾリウム塩はい
ずれも水溶性、且つ有機溶媒不溶性で、無色〜淡黄色を
呈するが、励起状態においてプロトン供与体よシプロト
／引き抜き反応によって還元され、ホルマザン構造をと
ることにより、赤色に発色すると共に水不溶性且つ有機
溶媒に可溶となる。なおテトラゾリウム塩が水溶性、且
つ有機溶媒不溶性なのは第３窒素が４級化によりイオン
化しているからであり、一方、その還元生成物であるホ
ルマザンが水不溶性、且つ有機溶媒可溶性なのはアゾ色
素構造をとる殊らと考えられる。いずれにしてもこ還元
反応は一般式（Ｉ）のテトラゾリウム塩の場合、次のよ
うに進むと考えられる。
テトラゾリウム塩は、生化学における還元性酵素の確認
、還元性糖の確認のための指示薬として広く用いられて
いるが、これは無色〜淡黄色のものがプロトン存在下（
例えばＳｌ（＃ＩＥ）において非常に低い酸化還元電位
で、赤色を呈し、一度還元生成し友ホルマザンは空気酸
化を受けにくいという２つの利点がある次めである。
、還元性糖の確認のための指示薬として広く用いられて
いるが、これは無色〜淡黄色のものがプロトン存在下（
例えばＳｌ（＃ＩＥ）において非常に低い酸化還元電位
で、赤色を呈し、一度還元生成し友ホルマザンは空気酸
化を受けにくいという２つの利点がある次めである。
本発明者はテトラゾリウム塩における以上のような性状
及び利点に着目し、鋭意研究し九結果、本発明に到達し
た。
及び利点に着目し、鋭意研究し九結果、本発明に到達し
た。
本発明に有効なテトラゾリウム塩の具体例は以下の通り
である。まず一般式（Ｉ）の７’）ラゾリウム塩につい
ては表−１に例示する。
である。まず一般式（Ｉ）の７’）ラゾリウム塩につい
ては表−１に例示する。
（以下余白）
＋ ＋＋１−＋−１ｍ ｍ ＋＋＋１
＋＋１ − へ へ へ Ｎ 〜こ
れらＯ′ｙ″トラゾリクム塩は下記反応式で示す公知の
合成法によって容易に合成される。
＋＋１ − へ へ へ Ｎ 〜こ
れらＯ′ｙ″トラゾリクム塩は下記反応式で示す公知の
合成法によって容易に合成される。
下記の文献に詳しく記載されている。
８．８．Ｋａｒｍａｒｋ＠ｒ、ム、Ｇ、ＩＣ，Ｐ＠ａｒ
ｓ＊、Ａ、Ｍ、８＠１１１ｍｍｎ：Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈ＠
ｗ、ｔ ２５，５７５ （１９６０）Ｐ、Ｆｒ１ｓ＋ｅ
： Ｂ＠ｒ、１２４，４１７Ｂ （１８？ ５ン末
永栄−：集結、 ７９，８０３，８５０ （１１１５９
）８、ム、Ｌｏｍ＠ｎｏｓｅｖ、 Ｉ 、Ｎ、 （Ｔ＠
ｔｓｏｖａ、Ｙｔｓ、ム、Ｒｙｂａｋｏｖａ：Ｊ、Ａｎ
ａｌ、Ｃｈ＠ｗ、ＩＪ８８Ｂ、２１．２０６（１９６６
）用瀬 晃： Ｊａｐａｎ Ａｎａｌ、１６．１８６４
（１９６？ンＪＰｉｓ＠ｂ＠ｒ：ムｎｎ、、１９０，１
１８（１８７８）Ｋｕｈｎ、ＲｔＭｕｒｉｌｎｇ、Ｈ：
Ｃｈ＠ｗ、ｌｉ＠ｒ、、８６，８５８（１９５３ンＣｈ
＊ｍ１ｍｍ１ Ｒ＊ｖ１＠ｖｇ、５５，３３５〜４８Ｂ
また、これらの一部はＥａｓｔｍａｎｎ Ｏｒｇａｎｉ
ｃＣ３ｌ＠ｍ１ａａｌｓ社、 Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｈ＠
ｍ１ｏａ１社及び東京化数社より市販されている。
ｓ＊、Ａ、Ｍ、８＠１１１ｍｍｎ：Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈ＠
ｗ、ｔ ２５，５７５ （１９６０）Ｐ、Ｆｒ１ｓ＋ｅ
： Ｂ＠ｒ、１２４，４１７Ｂ （１８？ ５ン末
永栄−：集結、 ７９，８０３，８５０ （１１１５９
）８、ム、Ｌｏｍ＠ｎｏｓｅｖ、 Ｉ 、Ｎ、 （Ｔ＠
ｔｓｏｖａ、Ｙｔｓ、ム、Ｒｙｂａｋｏｖａ：Ｊ、Ａｎ
ａｌ、Ｃｈ＠ｗ、ＩＪ８８Ｂ、２１．２０６（１９６６
）用瀬 晃： Ｊａｐａｎ Ａｎａｌ、１６．１８６４
（１９６？ンＪＰｉｓ＠ｂ＠ｒ：ムｎｎ、、１９０，１
１８（１８７８）Ｋｕｈｎ、ＲｔＭｕｒｉｌｎｇ、Ｈ：
Ｃｈ＠ｗ、ｌｉ＠ｒ、、８６，８５８（１９５３ンＣｈ
＊ｍ１ｍｍ１ Ｒ＊ｖ１＠ｖｇ、５５，３３５〜４８Ｂ
また、これらの一部はＥａｓｔｍａｎｎ Ｏｒｇａｎｉ
ｃＣ３ｌ＠ｍ１ａａｌｓ社、 Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｈ＠
ｍ１ｏａ１社及び東京化数社より市販されている。
ｔた一般式（Ｉｔ）〜面のテトラゾリウム塩の具体例を
異−２〜４に示す。
異−２〜４に示す。
（以下余白）
１１ − 磯 梃 Ｉｋ 職
職 −販 職 坂 職ｍｍｕｇｓ
ｇａｕａａｗｒｕｍｍｕ ｌ ＋ ＋ φ坦 Ｆ−Ｉ Ｍ−Ｐ−１１−１ｐｍ ｌ−１＋−＋
＋ｍ−Ｎ Ｎ一般式（Ｉｔ）のテトラゾリウ
ム塩は下記の反応式で示す合成法によって合成される。
職 −販 職 坂 職ｍｍｕｇｓ
ｇａｕａａｗｒｕｍｍｕ ｌ ＋ ＋ φ坦 Ｆ−Ｉ Ｍ−Ｐ−１１−１ｐｍ ｌ−１＋−＋
＋ｍ−Ｎ Ｎ一般式（Ｉｔ）のテトラゾリウ
ム塩は下記の反応式で示す合成法によって合成される。
（以下余白）
一般式ｌのテトラゾリウム塩は下記の反応式で示す合成
法によって合成される。
法によって合成される。
（以下余白）
なお嚢−４のテトラゾリウム塩はＡｌｄｒｉｃｈＣｈ＠
ｍ１ｅａ１社より市販されている。
ｍ１ｅａ１社より市販されている。
いずれにしても一般式（ＩＩ）〜■のブト２ゾリウム塩
蝶、例えばＳ、８．Ｋａｒｍａｒｋ＠ｒ、Ａ、Ｇ、Ｅ、
Ｐ＠ａｒｓｅ。
蝶、例えばＳ、８．Ｋａｒｍａｒｋ＠ｒ、Ａ、Ｇ、Ｅ、
Ｐ＠ａｒｓｅ。
ム、Ｕ、８＠ｌｉｇｍａｎ：Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈ＠ｗ、、
２５，３７５（，１９８りあるいは、Ｃｈ＠ｍ１ｃａ
ｌ Ｒ＠Ｙｌ＠Ｗｌ、５５，３３５〜４８３ に記載
の方法によって合成することができる。
２５，３７５（，１９８りあるいは、Ｃｈ＠ｍ１ｃａ
ｌ Ｒ＠Ｙｌ＠Ｗｌ、５５，３３５〜４８３ に記載
の方法によって合成することができる。
一般式■のテトラゾリウム塩は下記の反応式で示す合成
法によって合成される。
法によって合成される。
あるいは、
次に、光還元剤及び熱還元剤について説明する。光還元
剤又は熱還元剤とはＷＩ儂状の露光もしくは熱印加によ
ｐプロトンを発生する物質のことを言う。
剤又は熱還元剤とはＷＩ儂状の露光もしくは熱印加によ
ｐプロトンを発生する物質のことを言う。
まず、光還元剤としては、光分解又鉱ｆｔ１ｔ発転位に
よ〕還元剤を生成する公知のものを全て用いることがで
きる。例えば （Ｇ） アシはイン （９）芳香族カルノ々シト （Ｉ） 芳香族ジアゾスルホネート −よ（鵞 （勾 外部水素源キノン（ポリエチレングリコールのよ
うな活性水素原子供給源と組合されるキノン１ｌｉ） 例えば −内部水素源キノン（活性水素原子を内部に有すゐキノ
ン類） 例えば 熱還元剤として杖、分子内に０ＨｆｌＴｏるいは頭！基
を２つ以上持っていて、それらが互にＯ−又はｐ−位に
あるものが有効である。即ち通常の銀塩写真現俸の条件
を満食すものが、本発明の場合も有効である。例えば２
個以上の７エノール基を有する？リフエノール類、モノ
ナフトール類、ビスナフトール類、２個以上の水酸基を
有するがリヒドロキシベンゼン類、２個以上の水酸基を
有するポリヒドロキシナフタレン類、アス３ルピン酸類
、３−ビラゾリドン類、ぜツノリン−５−オン類、ピラ
ゾロン類、フェニレンジアミン類、ヒドロキシルアミン
類、ハイドロキノンモノエーテル類、ヒドロオキサ電ン
酸類、ヒドラジド類、アミドオキシム類、Ｎ−ヒドロキ
シ尿素類などが挙げられる。
よ〕還元剤を生成する公知のものを全て用いることがで
きる。例えば （Ｇ） アシはイン （９）芳香族カルノ々シト （Ｉ） 芳香族ジアゾスルホネート −よ（鵞 （勾 外部水素源キノン（ポリエチレングリコールのよ
うな活性水素原子供給源と組合されるキノン１ｌｉ） 例えば −内部水素源キノン（活性水素原子を内部に有すゐキノ
ン類） 例えば 熱還元剤として杖、分子内に０ＨｆｌＴｏるいは頭！基
を２つ以上持っていて、それらが互にＯ−又はｐ−位に
あるものが有効である。即ち通常の銀塩写真現俸の条件
を満食すものが、本発明の場合も有効である。例えば２
個以上の７エノール基を有する？リフエノール類、モノ
ナフトール類、ビスナフトール類、２個以上の水酸基を
有するがリヒドロキシベンゼン類、２個以上の水酸基を
有するポリヒドロキシナフタレン類、アス３ルピン酸類
、３−ビラゾリドン類、ぜツノリン−５−オン類、ピラ
ゾロン類、フェニレンジアミン類、ヒドロキシルアミン
類、ハイドロキノンモノエーテル類、ヒドロオキサ電ン
酸類、ヒドラジド類、アミドオキシム類、Ｎ−ヒドロキ
シ尿素類などが挙げられる。
これらの光還元剤又は熱還元剤は、水と相溶しうる適幽
な溶媒に溶解もしくは分散し、前記一般式（Ｉ）のテト
ラゾリウム塩あるいは前記一般式（ｎ）〜側のテトラゾ
リウム塩と共に親水性支持体上に塗布乾燥して固液形成
層を設けることにより本発明の平版印刷用原版が得られ
る。なお光還元剤又蝶熱還元剤の使用量はテトラゾリウ
ム塩１モル当９０．２０〜５．００モル程度が適蟲であ
る。
な溶媒に溶解もしくは分散し、前記一般式（Ｉ）のテト
ラゾリウム塩あるいは前記一般式（ｎ）〜側のテトラゾ
リウム塩と共に親水性支持体上に塗布乾燥して固液形成
層を設けることにより本発明の平版印刷用原版が得られ
る。なお光還元剤又蝶熱還元剤の使用量はテトラゾリウ
ム塩１モル当９０．２０〜５．００モル程度が適蟲であ
る。
親水性支持体としては公知のもの、例えば親木化処理を
施し尺アルｉ＝ウム又は亜鉛板、あるいは親水性物質を
コートした紙もしくはフィルム等が使用できる。
施し尺アルｉ＝ウム又は亜鉛板、あるいは親水性物質を
コートした紙もしくはフィルム等が使用できる。
本発明の印刷原版を製版するには原版の画像形成Ｊｉｌ
Ｋ：町視党を固液状に露光□するか、サーマルヘッドの
ような熱的印字手段によってｗ惨状に熱を印加するか、
或いは；ンぜ二一夕やファクシζすＯ出力信号、例えば
レーザー光によって搬送された信号を印加して露光部又
は熱印加部を水不溶化した後、水中に浸漬し、非露光部
又は非熱印加部を溶解水洗すればよい。
Ｋ：町視党を固液状に露光□するか、サーマルヘッドの
ような熱的印字手段によってｗ惨状に熱を印加するか、
或いは；ンぜ二一夕やファクシζすＯ出力信号、例えば
レーザー光によって搬送された信号を印加して露光部又
は熱印加部を水不溶化した後、水中に浸漬し、非露光部
又は非熱印加部を溶解水洗すればよい。
さらに詳細に本発明を説明するために実施例を示す。
実施例１
９．１０−７！ナントレンΦノン（外部水素源キノン）
２Ｘ１０−”モル エチルアルコール／アセトン（１／１容量比）
２ｓｄよりなる混合液を均一に溶解した後、この
溶液を陽極酸化によｐ親水化処理し九１０Ｇμ諷厚のア
ル建ニウム板に乾燥膜厚が２０μ富となるようガラスド
クターで塗布乾燥してＩｉｉ！偉形成層形成層ることに
よｐ平版印刷用原版を得た。
２Ｘ１０−”モル エチルアルコール／アセトン（１／１容量比）
２ｓｄよりなる混合液を均一に溶解した後、この
溶液を陽極酸化によｐ親水化処理し九１０Ｇμ諷厚のア
ル建ニウム板に乾燥膜厚が２０μ富となるようガラスド
クターで塗布乾燥してＩｉｉ！偉形成層形成層ることに
よｐ平版印刷用原版を得た。
このようにして得られた原版にガラスフィルター（＜４
１０ｎｍ）を介して３０αの距離においてｓｏｏｗｏタ
ングステン２ノブからネガ原稿を通して２０秒間露光し
たところ、ｍｆｔ部は赤色に発色して鮮明なポジｗＲｇ
ＩＩが形成された。次にこれを水中に浸漬したところ、
非露光部は洗い流されてアルミニウムの親水面が露出し
、印刷版が得られ次。
１０ｎｍ）を介して３０αの距離においてｓｏｏｗｏタ
ングステン２ノブからネガ原稿を通して２０秒間露光し
たところ、ｍｆｔ部は赤色に発色して鮮明なポジｗＲｇ
ＩＩが形成された。次にこれを水中に浸漬したところ、
非露光部は洗い流されてアルミニウムの親水面が露出し
、印刷版が得られ次。
実施例２
ｍ像形成層用溶液に用い曳テト２ゾリウム塩を下記のテ
トラゾリウム塩： に代えた他は実施例１と同様にして平版印刷用原版を得
た。
トラゾリウム塩： に代えた他は実施例１と同様にして平版印刷用原版を得
た。
以下、実施例１と同じ方法で露光および水洗を行い、赤
色のＩジｌ［ｇｌを有する印刷版を得た。
色のＩジｌ［ｇｌを有する印刷版を得た。
実施例３
１．４−シナ７トール ２×１０ モル
水
１０ｍよりなる混合溶液を用いて＊施例１と同様にして
平版印刷用ｌｉ、版を作成した。
水
１０ｍよりなる混合溶液を用いて＊施例１と同様にして
平版印刷用ｌｉ、版を作成した。
とのようにして得られた原版を市販の７アクＶｉすに付
属するサーマルヘッドＣ１１度２５０’Ｃ）で印字した
ところ、熱印加され７を部分は黒紫色に発色してシャー
プな画偉を形成し次。次にこれを水中に浸漬して非璽像
部を水洗することにより、アル電二りムの親水面が露光
し、印刷版が得られ穴。
属するサーマルヘッドＣ１１度２５０’Ｃ）で印字した
ところ、熱印加され７を部分は黒紫色に発色してシャー
プな画偉を形成し次。次にこれを水中に浸漬して非璽像
部を水洗することにより、アル電二りムの親水面が露光
し、印刷版が得られ穴。
実施例４
ＰＶＡ（分子量５００）Ｃ１１０−水溶液（活性水素原
子供給源） λｓｇＩＪ／フッビン（ぜタ
ミンＢｔ） （外部水素源キノン） ２Ｘ１０ モル５
％ＮａＯＨ水溶液 ｘｏ
ｉｕよりなる混合溶液を用いて実施例１と同様にして平
版印刷用原版を作成した。
子供給源） λｓｇＩＪ／フッビン（ぜタ
ミンＢｔ） （外部水素源キノン） ２Ｘ１０ モル５
％ＮａＯＨ水溶液 ｘｏ
ｉｕよりなる混合溶液を用いて実施例１と同様にして平
版印刷用原版を作成した。
仁のようにして得られ九原版に波長４８８ ｎｍのアル
ゴンイオンレーザ−を！ｉ ｍＪ／ａｄの記録エネルギ
ー密度で照射することによｐ、赤色の発色ａｉｒ偉が形
成され斥。以下、実施例１と同じ方法で水洗を行ない、
印刷版を得た。
ゴンイオンレーザ−を！ｉ ｍＪ／ａｄの記録エネルギ
ー密度で照射することによｐ、赤色の発色ａｉｒ偉が形
成され斥。以下、実施例１と同じ方法で水洗を行ない、
印刷版を得た。
Claims (1)
- １、親水性支持体上にテトツゾリウム塩と光還元剤又は
熱還元剤とを生成分とするｗ偉形成層を設けてなる平版
印刷用１版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12909081A JPS5830754A (ja) | 1981-08-18 | 1981-08-18 | 平版印刷用原版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12909081A JPS5830754A (ja) | 1981-08-18 | 1981-08-18 | 平版印刷用原版 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5830754A true JPS5830754A (ja) | 1983-02-23 |
| JPH0358100B2 JPH0358100B2 (ja) | 1991-09-04 |
Family
ID=15000824
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12909081A Granted JPS5830754A (ja) | 1981-08-18 | 1981-08-18 | 平版印刷用原版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5830754A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02173752A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-05 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 感放射線性組成物 |
| US5337328A (en) * | 1992-05-08 | 1994-08-09 | Sdl, Inc. | Semiconductor laser with broad-area intra-cavity angled grating |
-
1981
- 1981-08-18 JP JP12909081A patent/JPS5830754A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02173752A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-05 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 感放射線性組成物 |
| US5337328A (en) * | 1992-05-08 | 1994-08-09 | Sdl, Inc. | Semiconductor laser with broad-area intra-cavity angled grating |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0358100B2 (ja) | 1991-09-04 |
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