JP3728945B2 - フォトレジスト現像廃液からの現像液の回収再利用方法及び装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、フォトレジスト現像廃液からの現像液の回収再利用方法及び装置に関し、特に半導体デバイス(LSI、VLSI等)、液晶ディスプレイ(LCD)、プリント基板等の電子部品の製造工程等で発生するフォトレジスト現像廃液からの現像液の回収再利用方法及び装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体デバイス、液晶ディスプレイ等の電子部品などの製造分野において、製品の高集積度化や微細化が急速に進んでいる。例えば、これらの電子部品の製造過程にはフォトリソグラフィー工程が含まれ、この工程では、ウェハやガラス基板等の基板上にフォトレジストの皮膜を形成し、その所定部分に光等を照射し、現像液で現像することによって微細なパターンを形成する。ここで、フォトレジスト類は、露光部分が現像液に対して可溶化するポジ形フォトレジストと、逆に露光部分が現像液に対して不溶化するネガ形フォトレジストに大別される。半導体デバイスや液晶ディスプレイ等の電子部品の製造分野では主にポジ形フォトレジストが使用され、該ポジ形フォトレジスト用の現像液としては、有機アルカリである水酸化テトラメチルアンモニウム(以下、時に「TMAH」と略す)や水酸化トリメチル(2−ヒドロキシエチル)アンモニウム(即ち、コリン)等の水酸化テトラアルキルアンモニウム(テトラアルキルアンモニウムヒドロオキシドで、以下、時に「TAAH」と略す)の水溶液が通常使用されている。なお、ネガ型フォトレジストの現像液としては有機溶剤系現像液が主流であるが、アルカリ現像液を用いるものもある。
【0003】
被現像体であるフォトレジストは疎水性物質であるが、TMAH等のTAAHの水溶液は親水性であるため、両者の界面での親和性が悪くなる。TAAH水溶液とフォトレジストとの界面でのこのような低親和性のため、通常のアルカリ現像液としてのTAAH水溶液で微細パターンを効果的に現像することは困難であった。この問題を解決するために、既に界面活性剤入りのアルカリ現像液が市販、実用化されている〔例えば、東京応化工業(株)製の商品名「NMD−W」で市販されている現像液〕。
【0004】
一方、上述のフォトリソグラフィー工程においてTAAH水溶液をアルカリ現像液として用いる現像工程から排出される廃液(「フォトレジスト現像廃液」と言い、時に「現像廃液」と略称する)は、溶解したフォトレジストとTAAHを含み、無害化処理が難しく、その環境に対する悪影響から、TAAHを回収再利用することが望まれており、アルカリ現像液(以下、時に「現像液」と言う)を回収再生するための様々な方法が試みられている。このような方法としては、例えば、電気透析や電解による方法(特開平7−328642号公報、特開平5−17889号公報)、陰イオン交換樹脂を用いる方法(特開平10−85741号公報)、電気透析や電解とイオン交換樹脂の組み合わせによる方法(特願平9−334800号)、中和と電解の組み合わせによる方法(特開平7−41979号公報)、活性炭による方法(特開昭58−30753号公報)、ナノフィルトレーション膜(NF膜)による方法(特願平10−10025号)などが挙げられる。
【0005】
しかし、これらの方法で回収されたTAAH含有現像液には界面活性物質が殆ど含まれないので、強い親水性の溶液となる。新品の現像液中に界面活性剤が含まれている場合でも、回収TAAH含有現像液の界面活性剤濃度は少なくとも減少するため、新品の現像液と同等の界面活性効果は得られず、そのままでは同一の現像工程に現像液として再利用することができないといった問題点がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明は、現像廃液から回収したTAAH含有溶液の界面活性効果(濡れ性)を適正に調整、管理し、フォトレジストの(微細)パターンを安定して効果的に現像することのできる再生現像液を与えるフォトレジスト現像廃液からの現像液の回収再利用方法及び装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明は、フォトレジスト現像廃液からフォトレジスト等の不純物を分離し、水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液を回収し、それを再利用するに当たって、回収された水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液と界面活性物質を混合することを包含し、且つ、前記界面活性物質が、フォトレジスト現像廃液又はそれに由来するフォトレジスト含有処理液に含まれるフォトレジストであることを特徴とするフォトレジスト現像廃液からの現像液の回収再利用方法を提供するものである。
【0008】
TAAHを含む現像液は親水性で、フォトレジストは疎水性のため、両者の界面での親和力は弱い。そのため、現像パターンが微細になるにつれて、フォトレジスト膜の水平方向だけでなく深さ方向に対しても効果的に現像が行えなくなる。この点に鑑みて現像液の表面張力を弱めるために、前述した様に、界面活性剤等の界面活性物質を添加した現像液もある。一方、TAAHを含む現像液を用いる現像工程から排出される現像廃液には溶解フォトレジスト成分が含まれ、このフォトレジスト成分は水溶性の高分子物質であるため界面活性作用を持つ。
【0009】
しかし、従来のTAAH含有現像液の回収再利用方法では、フォトレジスト成分を含めた界面活性物質の一部または全部を除去してしまう。これを、該方法に用いることができる個々の単位操作に関連して説明すると、下記の通りである。(1)フォトレジストや界面活性剤等の界面活性物質は、比較的高分子であるため、例え電荷を有していても、電気透析や電解で余りイオン交換膜等の隔膜を通って移動せず、殆ど濃縮されない。特に非イオン系界面活性物質では、僅かに拡散移動が見られるのみである。(2)電荷を有する界面活性物質は、イオン交換樹脂で除去される。(3)一般に、界面活性物質は活性炭に吸着される。(4)界面活性物質は、高分子であるため、ナノフィルターでは濃縮水側に除去される。
【0010】
そこで、本発明によれば、フォトレジスト成分を含めた界面活性物質が除去された回収現像液と、界面活性物質であるフォトレジストの適量を混合し、所定の表面張力に調整した後、現像液として再利用する。
【0012】
即ち、フォトレジスト現像廃液に含まれる溶解フォトレジスト成分は界面活性作用を有することから、フォトレジスト成分を始めとする界面活性物質を除去した回収現像液(TAAH溶液)に、フォトレジスト現像廃液又はそれに由来するフォトレジスト含有処理液等のフォトレジスト含有溶液を添加し、所定の表面張力に調整した後、再生現像液として再利用する。
【0013】
本発明においては、フォトレジストが紫外部及び可視部に吸収を持つこと(特開平10−207082号公報)を利用して、紫外可視光吸光光度計を用いてフォトレジスト(界面活性物質)濃度を調整管理することができるので好都合である。勿論、フォトレジスト濃度測定機器は、紫外可視光吸光光度計に限られず、フォトレジスト濃度を測定できる機器であれば、如何なるものでもよい。
【0014】
従来の方法等により回収されたTAAH含有溶液と、フォトレジスト現像廃液又はそれに由来するフォトレジスト含有処理液等のフォトレジスト含有溶液を混合する再生現像液調整方法としては、例えば、回収TAAH含有溶液とフォトレジスト含有溶液を混合した後、或いは混合しながらTAAH濃度の調整を行う方法、回収TAAH含有溶液及びフォトレジスト含有溶液それぞれのTAAH濃度を調整してから両溶液を適正な割合で混合する方法が挙げられるが、これらの方法に限定されない。TAAH濃度の調整には、(超)純水及び/又はTAAH又はその水溶液〔以下、「TAAH(水溶液)」と記す〕を用いる。
【0015】
また、回収TAAH含有溶液と混合して界面活性効果を付与するためのフォトレジスト現像廃液又はそれに由来するフォトレジスト含有処理液等のフォトレジスト含有溶液にNa、Fe、Al等の金属不純物が多く含まれる場合は、水素イオン形(H形)又はテトラアルキルアンモニウムイオン形(TAA形)陽イオン交換樹脂やキレート樹脂でこれらの金属不純物を除去した後、回収TAAH含有溶液と混合するのが好ましい。
【0016】
次に、フォトレジスト現像廃液について説明する。現像廃液には、通常、溶解したフォトレジストとTAAHが含有されている。但し、一般に、廃液(廃水)は工場によって異なってくるものであり、何が混入してくるか分からず、また、場合によっては他の廃水と混合されることがあり得るので、TAAHの水酸化物イオンの一部が他種の陰イオンに置換されてテトラアルキルアンモニウム(以下、時に「TAA」と略す)の塩となっていることもあり得る。このような現像廃液は、通常は、pH値12〜14のアルカリ性を呈しており、フォトレジストは、アルカリ性の現像廃液中でそのカルボキシル基、フェノール性水酸基等の酸基によりTAAイオンとの塩の形で溶解している。
【0017】
かかる他種の陰イオンとしては、工場によって異なるが、例えば、弗化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、炭酸イオン、炭酸水素イオン、硫酸イオン、硫酸水素イオン、硝酸イオン、燐酸イオン、燐酸水素イオン、燐酸二水素イオン等の無機陰イオン、及び、蟻酸イオン、酢酸イオン、蓚酸イオン等の有機陰イオンを挙げることができる。炭酸イオン、炭酸水素イオンは、空気中の炭酸ガスが現像廃液中に溶け込んで少量存在することが多い。なお、後述する様な電解により得られる濃縮液では、水酸化物イオンが通常TAAイオンの対イオンとなるので、得られるTAAHの溶液をフォトレジストアルカリ現像液として再利用するに支障を生じる程、水酸化物イオン以外の陰イオンの量が多い場合は、少なくとも電解の工程をTAAH溶液回収方法に含めれば良い。
【0018】
現像廃液中のTAAHは、各種電子部品の製造等の際に使用するフォトレジストの現像液に用いられるアルカリであり、例えば、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、水酸化メチルトリエチルアンモニウム、水酸化トリメチルエチルアンモニウム、水酸化ジメチルジエチルアンモニウム、水酸化トリメチル(2−ヒドロキシエチル)アンモニウム(即ち、コリン)、水酸化トリエチル(2−ヒドロキシエチル)アンモニウム、水酸化ジメチルジ(2−ヒドロキシエチル)アンモニウム、水酸化ジエチルジ(2−ヒドロキシエチル)アンモニウム、水酸化メチルトリ(2−ヒドロキシエチル)アンモニウム、水酸化エチルトリ(2−ヒドロキシエチル)アンモニウム、水酸化テトラ(2−ヒドロキシエチル)アンモニウム等(特に、前二者及びコリン)を挙げることができる。
【0019】
このような現像廃液からフォトレジスト等の不純物を分離し、TAAH溶液を回収する方法としては、種々の方法があるが、フォトレジスト現像廃液に対して、電気透析及び電解の少なくとも一つの方法でTAAHを濃縮する濃縮精製工程(A)(特開平7−328642号公報、特開平5−17889号公報)、陰イオン交換体(精製の観点から、陰イオン交換樹脂が好ましく、OH形であるのが望ましい)、または、上記陰イオン交換体及びH形及びTAA形の少なくとも一方の陽イオン交換樹脂と接触処理するイオン交換処理工程(B)(特開平10−85741号公報、特願平9−334800号)、および、ナノフィルトレーション膜(NF膜)によりTAAHを主として含む透過水を得るNF膜分離処理工程(C)(特願平10−10025号)から選ばれる少なくとも一つの工程を含む方法であるのが好ましい。これらの工程を複数行う場合は、その順序は任意であり、例えば、目的に応じて適正な順序を選べばよい。上記工程(A)、(B)及び(C)は、いずれも不純物を除去することができ、現像廃液又はそれに由来するTAAH含有処理液を精製することができる工程であり、中でも特に工程(B)は可及的に不純物を除去するために望ましい工程である。また、上記工程(A)は、TAAHを濃縮することができる。
【0020】
また、濃縮精製工程(A)とは異なり現像廃液又はそれに由来するTAAH含有処理液を精製することができる工程ではないが、逆浸透膜処理や蒸発の少なくとも一つの濃縮方法でTAAH等を濃縮する濃縮工程を行ってもよい。現像廃液は、通常、洗浄水(リンス水)などでTAAH濃度が低くなっているので、現像廃液又はそれに由来するTAAH含有処理液に対して逆浸透膜処理、蒸発、電気透析、電解などの少なくとも一つの方法でTAAHを濃縮する濃縮工程をTAAH溶液回収方法に含めるのが好ましい。但し、逆浸透膜処理や蒸発ではTAAHと同時にフォトレジスト等の不純物も濃縮されるのに対して、電気透析や電解は、フォトレジスト等の不純物が同時に濃縮されないのでTAAH純度が高くなるという特徴がある。
【0021】
これらの濃縮方法の複数を併用する場合は、順序は特に限定されず任意である。しかし、例えば、逆浸透膜処理や蒸発を先に行い、電気透析や電解を後で行えば、電気透析や電解の際の電流効率の向上、被処理液量の減少に伴う電気透析装置や電解装置の小型化とランニングコストの低減、印加電圧の低減、TAAH回収率の向上等の利点を得ることができる(特願平9−334800号)。この場合に、蒸発及び/又は逆浸透膜処理の工程は、イオン交換処理工程(B)やNF膜分離処理工程(C)をも行う場合には、その前後のいずれの段階でもよい。なお、蒸発の凝縮水や逆浸透膜処理の透過水はフォトレジストやTAAHが殆ど含まれていないので、工程水等として用いることができる。また、逆浸透膜処理の場合は、逆浸透膜の劣化を少なくする観点から被処理液のpH値9〜12の条件下で行うのが好ましい。
【0022】
高純度の再生現像液を得る観点から、工程(B)で用いる陰イオン交換体としては、陰イオン交換樹脂が好ましく、特にOH形の陰イオン交換樹脂が望ましく、また、Na等の不純物を除去できるH形及びTAA形の少なくとも一方の陽イオン交換樹脂と併用するのが望ましい。また、陰イオン交換樹脂に代えて他の陰イオン交換体を用いることができる場合もある。
【0023】
なお、現像廃液又はそれに由来するTAAH含有処理液〔例えば、工程(A)や工程(C)を経た処理液〕を陰イオン交換樹脂と接触させると、TAAHに由来する競合水酸化物イオンの存在にも拘わらず、廃液又は処理液中のフォトレジストを陰イオン交換樹脂に吸着させ、高選択的に除去することができる。その理由は、次のように考えられる。即ち、アルカリ現像フォトレジストはノボラック樹脂を母体樹脂とするものが主流で、このノボラック樹脂は多数のベンゼン環を有しており、陰イオン交換樹脂として、例えば、特にスチレン系のベンゼン環を有する陰イオン交換樹脂等を用いた場合には、静電的相互作用に加えて、ベンゼン環同士の親和(疎水的)相互作用により、効率的且つ高選択的にフォトレジストを除去することができると考えられる。
【0024】
NF膜分離処理工程(C)は多段に行ってもよい(特願平10−10025号)。この工程(C)では、フォトレジスト等の不純物を主として含む濃縮液とTAAHを主として含む透過液が得られる。NF膜分離処理工程(C)に用いられるNF膜は、分画分子量が100〜1000の範囲内で、且つ、0.2%(重量/容積)の塩化ナトリウム水溶液を被処理液として25℃で分離処理した時の塩化ナトリウムの阻止率(除去率)が90%以下の特性を有する分離膜である。
【0025】
フォトレジスト現像廃液又はそれに由来するTAAH含有溶液をNF膜で処理すると、TAAHはNF膜を透過してその殆どが透過液中に入って来るが、フォトレジストは余り又は殆どNF膜を透過せず、大部分は濃縮液側に残存して濃縮される。また、イオン交換処理工程(B)では除去の難しいFe、Al等の金属成分やシリカ等の不純物も或る程度は濃縮液側に除去できる(NF膜を透過する量は少ない)。
【0026】
NF膜分離処理工程(C)により大部分の不純物が除去された透過液が得られるので、例えば、イオン交換処理や電気透析及び/又は電解などの工程を後段で行う場合は、該後段の工程における不純物の負荷を低減でき、精製コストを低減することができる。なお、NF膜分離処理工程(C)は、低コスト且つ操作が容易な工程である。
【0027】
現像廃液からフォトレジスト等の不純物を分離し、TAAH溶液を回収する方法に組み込むことができる工程としては、例えば、現像廃液又はそれに由来するTAAH含有処理液を活性炭と接触させてフォトレジストを除去する活性炭処理工程(特開昭58−30753号公報)、現像廃液又はそれに由来するTAAH含有処理液をキレート樹脂と接触させてFe、Al等の一部の金属不純物を除去するキレート樹脂処理工程(特願平10−265581号)などを挙げることができる。このような工程は、上述の工程の少なくとも一つと組み合わせることができ、その場合、各工程の順序は任意である。
【0028】
また、現像廃液からフォトレジスト等の不純物を分離し、TAAH溶液を回収するその他の方法としては、現像廃液を中和+固液分離工程、オゾン、過酸化水素又は紫外線照射による有機物分解工程及び電解による濃縮工程にこの順で供する方法(特開平4−41979号公報、特開平5−17889号公報、特開平5−106074号公報)、現像廃液を中和+固液分離工程及び電解による濃縮工程にこの順で供する方法などを挙げることができる。この場合、中和+固液分離によりフォトレジストの大部分が除去され、中和により生じたTAA塩は電解によりTAAHに戻る。これらの方法で得られるTAAH含有溶液の純度が不十分である場合には、更に、前述の工程(A)、(B)、(C)やキレート樹脂処理工程などの少なくとも一つの工程を後段で行ってもよく、また、上記TAAH含有溶液のTAAH濃度が低い場合には、蒸発や逆浸透膜処理の工程を後段で行ってもよい。
【0029】
次に、工程(A)として行ってもよい電気透析の原理を図9を参照しつつ説明する。なお、TAAイオンの対イオンが水酸化物イオン(以下、「OHイオン」と略す)であるTAAHの通常の場合について説明する。
【0030】
図9に示したように、陰極101と陽極102の間には陽イオン交換膜103と陰イオン交換膜104が交互に並べられて複数のセルを構成している。セルに送られたTAAH及びフォトレジストを含有する原液(現像廃液又はそれに由来するTAAH含有溶液)中のTAAHは、陽イオンとしてのTAAイオン(TAA+)と陰イオンとしてのOHイオンに解離しているため、陰極101と陽極102間に直流電流が印加されるとTAAイオンは陽イオン交換膜103を通って陰極側に移動するが次の陰イオン交換膜104で殆ど阻止され、一方、OHイオンは陰イオン交換膜104を通って陽極側に移動するが次の陽イオン交換膜103で殆ど阻止されるため、或るセルではTAAHが濃縮され、該セルに隣接するセルではTAAHが減少することになる。即ち、陰イオン交換膜104を陰極101に面した側に有するセル(A)は濃縮セルとして機能し、ここではTAAHが濃縮されて濃縮液となり、陰イオン交換膜104を陽極102に面した側に有するセル(B)は脱塩セルとして機能し、ここではTAAHが減少して脱塩液となる。原液中のフォトレジストはイオン交換膜を殆ど通らないため濃縮セル及び脱塩セルをそのまま通過して濃縮液中及び脱塩液中に残留する。
【0031】
上述の説明で明らかなように、図9に示したように脱塩セル及び濃縮セルの両方に原液を通液した場合は、濃縮液中にもフォトレジストがそのまま残留することとなるが、濃縮セル側ではTAAHのみが濃縮されるのであってフォトレジストは濃縮されないので、濃縮液中のフォトレジストは原液中の濃度とほぼ同じであり、この点において、電気透析法はTAAHのみでなくフォトレジスト等の不純物も同時に濃縮されてしまう蒸発法や逆浸透膜法とは明らかに相違する。
【0032】
アルカリ現像液として再利用できる高純度のTAAHの溶液を再生回収する場合は、電気透析で各種不純物をなるべく含まない濃縮液を得ることが好ましく、そのためには、脱塩セル側に原液を通液し、濃縮セル側に(超)純水又は各種不純物を含まない低濃度のTAAH溶液〔例えば、(超)純水に新品のTAAHを少量溶解させた液〕等の電解質溶液を通液するのが好ましい。しかし、濃縮セルにも原液を送る場合、脱塩廃液として排出される排水の量(容積)が減少する点では有利である。また、脱塩廃液として排出される排水の量を減少しつつ高純度のTAAH溶液を得る方法として、TAAH及びフォトレジストを含有する原液をNF膜で処理して得られる透過液を濃縮セルに送り、原液又はNF膜処理で得られる濃縮液を脱塩セルに送ることも好適である。いずれにしても電気透析で得られる脱塩液を、そのまま又は必要に応じてイオン交換樹脂処理やキレート樹脂処理等の適当な精製処理後、界面活性物質としてのフォトレジスト源として用いることができる。
【0033】
電気透析装置は、一般的に使用されているものを使用でき、これに使用されるイオン交換膜としては、陽イオンと陰イオンを選択的に分離できるものであれば特に限定されず、例えば、アシプレックス〔旭化成工業(株)製〕、セレミオン〔旭硝子(株)製〕、ネオセプタ〔徳山曹達(株)製〕、イオンクラッドEDSメンブレン〔ポール(株)製〕、ナフィオン(デュポン社製)等を挙げることができる。また、イオン交換膜の特性も、一般的なものでよい。
【0034】
電気透析装置の構造は、特に限定されず、例えば、陽イオン交換膜と陰イオン交換膜とを、脱塩される液の流入孔及び流出孔、濃縮される液の流入孔及び流出孔が設けられているガスケットで適当な間隔を保って交互に複数積層して複数のセルを構成し、両端を一組の電極で挟んで電気透析装置を構成すればよい。
【0035】
また、電気透析装置としては、上記一般的な構造のものに限られず、例えば、特開平6−299385号公報に開示されている様に、陽イオン交換膜と陰イオン交換膜との間にバイポーラ膜を隔膜として配した構造のものも使用することができる。
【0036】
なお、使用する電極としては、例えば、陽極としては、ニッケル、炭素、ステンレス鋼、あるいは白金やイリジウムで被覆されたチタン電極等を、また、陰極としてはステンレス鋼、ニッケル、あるいは白金やイリジウムで被覆されたチタン電極等を使用することができる。これらの陽極、陰極は、板状、棒状、網状、多孔板状等のいずれの形状でもよい。
【0037】
ここで、陰イオン交換膜の代わりに、耐アルカリ性が陰イオン交換膜より優れるポリビニールアルコール系等の中性膜を用いてもよい。中性膜はイオン性官能基の無い単なる高分子膜であるが、これはTAAイオンを通すもののその透過性は陽イオン交換膜より低いので、両者間の輸率の差を利用してTAAイオンの電気透析による濃縮を行うことができるのである。但し、中性膜を陰イオン交換膜の代わりに用いた時は、陰イオン交換膜の場合に比べて電流効率は悪くなる。
【0038】
上述のような電気透析は一段で行ってもよいが、例えば、特開平7−328642号公報に開示されるような循環方式や多段処理方式を採ることもでき、また、回分式であっても連続式であっても、また、半回分式であってもよい。
【0039】
次に、工程(A)として行ってもよい電解の原理を図10を参照しつつ説明する。なお、TAAイオンの対イオンが水酸化物イオン(以下、「OHイオン」と略す)であるTAAHの通常の場合について説明する。
【0040】
図10に示したように、陰極121と陽極122の間には陽イオン交換膜123が配置され、陰極セル(C)と陽極セル(D)を構成している。陽イオン交換膜は、理屈の上では陽イオンしか通さない〔実際は僅かにフォトレジスト(R−)を含めた陰イオン等も通す〕。陽極セル(D)に原液(現像廃液又はそれに由来するTAAH含有溶液)を通液し、一方、陰極セル(C)には、例えば、(超)純水又は各種不純物を含まない低濃度のTAAH溶液〔例えば、(超)純水に新品のTAAHを少量溶解させた液〕等の電解質溶液を濃縮用液として通液する。原液中のTAAHはTAAイオン(TAA+)とOHイオン(OH−)に解離しているため、陰極121と陽極122の間に直流電流を印加すると、TAAイオンは陽イオンであるので陰極(−)側に移動し陽イオン交換膜123を通って陰極セル(C)に入る。陰極121上では水(H2O←→H++OH−)の水素イオン(H+)が電子(e−)を受け取り、水素ガス(H2)を生じ、残った陰イオンであるOHイオン(OH−)は、陽極セル(D)から陰極セル(C)に入ってきたTAAイオンの対イオンとなりTAAHを生成する。従って、電解が進行すると陰極セル(C)中ではTAAHが濃縮されることとなる。この意味で、陰極セル(C)は濃縮セルとして機能する。一方、陽極122上では、TAAHのOHイオン(OH−)が電子(e−)を放出し、酸素ガス(O2)と水とになる。この意味では、陽極セル(D)は脱塩セルとして機能し、脱塩液(TAAイオンが希薄になった「希薄液」)を生じる。
【0041】
電解で得られる脱塩液を、そのまま又は必要に応じてイオン交換樹脂処理やキレート樹脂処理等の適当な精製処理後、界面活性物質としてのフォトレジスト源として用いることができる。
【0042】
なお、原液中にCl−やBr−等のOH−より電気分解されやすいイオン種が含まれているとCl2やBr2等のガスが生じる。この場合、特開昭57−155390号公報に開示されているように、陽極セルを更に陰イオン交換膜で区分し陽極側の区分セルに水酸化アンモニウム等のアルカリ物質を添加しておくと、中和によりCl2やBr2等のガスの発生が防止できる。SO4 2-やNO3 -の場合はOH−より電気分解され難いので、OH−の方が電気分解されO2が発生し、H2SO4やHNO3等が残る。
【0043】
また、陽イオン交換膜を用いる代わりに2枚の親水化処理した多孔質テフロン膜等の中性膜を使用し、陽極室、中間室及び陰極室を設け、中間室に原液を通しても電解を行うことができる(特開昭60−247641号公報)。
【0044】
更に純度の高いTAAH濃縮液を得たい場合には、陰極と陽極の間に陽イオン交換膜を複数枚(好ましくは2枚)配置して、陽極側のセル(陽極セル)に原液を通液し、陰極側のセル(陰極セル)及び中間セルには、例えば、(超)純水又は各種不純物を含まない低濃度のTAAH溶液〔例えば、(超)純水に新品のTAAHを少量溶解させた液〕等の電解質溶液を濃縮用液(TAAH回収用液)として通液すると、多段にTAAHを精製することになり、陰極セルからは高純度のTAAH濃縮液が得られる。
【0045】
なお、電解において使用する電極としては、前記電気透析の場合と同様な材質のものを使用することができる。また、電解においても、電気透析の場合と同じ様な循環方式や多段処理方式、また、回分式や半回分式、あるいは連続式を採ることもできる。
【0046】
なお、ここで「濃縮液」、「脱塩液」とは、TAAH含有量が増加するか減少するかによって使い分けられる用語であり、どちらのTAAH濃度が高いか低いかを示すものではない。
【0047】
工程(B)で用いてもよい陰イオン交換樹脂(望ましくはOH形陰イオン交換樹脂)としては、処理効率の点で繊維状や粒状等のスチレン系やアクリル系等の陰イオン交換樹脂が好ましく、あるいは、これらの複数の種類を任意の割合で混合もしくは積層して用いても良いが、前述の様に、特にフォトレジスト除去効率の点ではスチレン系陰イオン交換樹脂が好ましい。なお、アクリル系陰イオン交換樹脂は、(メタ)アクリル酸やそのエステル類をジビニールベンゼン(DVB)等で架橋したものである。また、弱塩基性や中塩基性の陰イオン交換樹脂も用いることができるが、フォトレジスト除去効率の点で強塩基性陰イオン交換樹脂が好ましい。
【0048】
工程(B)で用いてもよいH形やTAA形陽イオン交換樹脂としては、処理効率の点で繊維状や粒状等のスチレン系やアクリル系等の陽イオン交換樹脂が好ましく、また、弱酸性陽イオン交換樹脂でも強酸性陽イオン交換樹脂のいずれでも良く、あるいは、これらの複数の種類を任意の割合で混合もしくは積層して用いても良い。
【0049】
陽イオン交換樹脂は、通常、H形かNa形で市販されており、このような陽イオン交換樹脂(Na形の場合はH形とした後)を、その使用に先立って、予めTAA形とすることによって、陽イオン交換樹脂に通液する通液初期に、TAAHが陽イオン交換樹脂に吸着されて、処理液中のその濃度が低下するという現象の発生を防止することができる。即ち、陽イオン交換樹脂としては、H形のままでも用いることができるが、TAA形として用いるのが好ましい。但し、完全なTAA形陽イオン交換樹脂ではなくて、一部H形となっているものでも良く、また、H形陽イオン交換樹脂とTAA形陽イオン交換樹脂を任意の割合で混合もしくは積層して用いても良い。
【0050】
陰イオン交換樹脂も陽イオン交換樹脂も、その使用に際して溶出物が無いように、アルカリ水溶液、酸水溶液の交互処理後、(超)純水で充分洗浄したものを用いるのが好ましい。
【0051】
イオン交換樹脂として陰イオン交換樹脂と陽イオン交換樹脂のどちらを用いるか、または、両方を用いるかは、回収されるTAAH溶液の用途との関連における該溶液中に残留する陰イオン類及び陽イオン類等の各種不純物の許容量によって決めればよい。但し、例えば、上述のように、半導体デバイス、液晶ディスプレイ、プリント基板等の電子部品の製造用の現像液として回収TAAH溶液と界面活性物質を混合して用いる場合には、陰イオン交換樹脂及び陽イオン交換樹脂の両方を用いるのが望ましい。
【0052】
陰イオン交換樹脂と陽イオン交換樹脂の両方をイオン交換樹脂として用いる場合は、陰イオン交換樹脂と陽イオン交換樹脂を混合した混合イオン交換樹脂としてカラム又は塔中に充填して用いても良いが、陰イオン交換樹脂を上流側に、陽イオン交換樹脂を下流側にカラム又は塔中に積層充填して用いるのが好ましい。しかし、現像廃液を予め多段式の電気透析等で処理したために濃縮液中にフォトレジストが少量しか残存しない場合や、元々現像廃液中にフォトレジストが少量しか存在しない場合等においては、上流側に陽イオン交換樹脂、下流側に陰イオン交換樹脂を配置しても差し支えない。また、陰イオン交換樹脂を上流側のカラム又は塔に充填し、陽イオン交換樹脂を下流側のカラム又は塔に充填し、個別に配置して用いることもでき、この場合は、長時間の運転によって、イオン交換容量が減少したり、劣化した方のイオン交換樹脂のみを容易に交換することができ、便利である。このように別カラム(別塔)方式の場合、両者の間に他の単位処理装置を配置することもできる。
【0053】
上流側に陰イオン交換樹脂、下流側に陽イオン交換樹脂を配置する場合の利点は、陰イオン交換樹脂からは極微量のアミン類が溶出することが考えられるので、下流側に陽イオン交換樹脂を配置することで、この溶出アミン類を捕捉することができることなどである。
【0054】
工程(C)で用いてもよいNF膜としては、例えば、日東電工(株)製のNTR−7410、NTR−7450、NTR−725HF、NTR−7250、NTR−729HF、NTR−769SR、東レ(株)製のSU−200S、SU−500、SU−600、フィルムテック社製のNF−45、NF−55、NF−70、NF−90、デサリネーション社製のDESAL−5L、DESAL−5K、トライセップ社製のTS−80、フルッドシステム社製のTFC−S等を挙げることができる。
【0055】
フォトレジストの濃縮液側への分離除去を主な目的としたNF膜としては、その表面が負に帯電した膜を使用するのが好ましい。現像廃液やそれに由来するTAAH含有処理液〔例えば、工程(A)や工程(B)を経たTAAH含有処理液〕中では、通常フォトレジストは陰イオンとして存在しているので、表面が負に帯電したNF膜によればフォトレジストの阻止率(除去率)が向上し、且つ、NF膜面上へのフォトレジストの付着によるファウリング(汚染)が起き難い。また、この場合は、陰イオン系界面活性剤入りの現像廃液やそれに由来するTAAH含有処理液の場合も効果的に陰イオン系界面活性剤を濃縮液側に分離除去できる。また、一般に、NF膜は非イオン系界面活性剤や陽イオン系界面活性剤等も濃縮液側に分離除去することもできる。また、現像廃液やそれに由来するTAAH含有処理液の性状(例えば、界面活性剤が含まれる場合はその種類)に応じて、表面が正に帯電したNF膜や中性のNF膜を使用しても良いことは言うまでも無い。この様にNF膜で分離したフォトレジストや界面活性剤等を含む濃縮液を、そのまま又は必要に応じてイオン交換樹脂処理やキレート樹脂処理等の適当な精製処理後、界面活性物質源として用いることもできる。
【0056】
一般に、NF膜は、高pH液には比較的弱いため、この寿命を長くするためには、NF膜の被処理液のpHは、必要に応じて9.5〜12、好ましくは9.5〜11に調整するのが望ましい。NF膜の微粒子不純物等による目詰まりの虞を避けるためには、NF膜の前段に孔径25μm以下の保安フィルターを設けるのが好ましい。これは、NF膜分離処理工程(C)をどの段階で行う場合でも同様である。また、NF膜の被処理液のTAAH濃度が高くなると、ナノフィルターの運転圧が上昇したり、pHが高くなるに伴いNF膜の寿命が短くなったりするので、注意が必要である。
【0057】
また、NF膜分離処理で得られる濃縮液にまだTAAHが多量に含まれている場合は、TAAHの回収率を上げるために、後段でこの濃縮液を精製するための各種工程を行って、再生現像液の用途によっては或る程度の精製度まで、また、場合によっては上記のような電子部品の製造工程等で再生現像液を再利用できる高精製度まで、精製してもよい。
【0058】
また、NF膜分離処理で得られる透過液(以下、時に「NF透過液」と言う)はかなり純度の高いTAAH溶液であるので、これを電気透析や電解の濃縮用液(TAAH回収用液)として電気透析装置や電解装置の濃縮セルに通液し、一方、NF膜分離処理で得られる濃縮液(以下、時に「NF濃縮液」と言う)にかなりの量のTAAHが残存していれば、このNF濃縮液を電気透析や電解の原液(TAAHが脱塩される液)として上記の電気透析装置や電解装置の脱塩セルに通液してもよい(特願平10−10025号)。この場合、濃縮用液として(超)純水を用いる代わりにNF透過液を用いるので、脱塩廃液として排出される排水の量を低減することができる点で有利である。さらに、電気透析や電解によって濃縮用液(TAAH回収用液)側に移動させるTAAH量が少なくなり、ランニングコストの低減や装置の小型化が図れるという利点もある。電気透析装置や電解装置から脱塩廃液として排出される上記排水がフォトレジストや界面活性剤等を高濃度に含む液であれば、前述の様に、そのまま又は必要に応じて適当な精製工程を経て、界面活性物質源として用いることもできる。
【0059】
例えば、イオン交換処理や電気透析及び/又は電解等の精製工程を行う場合、この精製工程をNF膜分離処理工程の後段で行う方が前段で行うよりも、NF透過液の純度がかなり高いので、このような精製工程に用いる精製装置の負荷を低減する観点からは好ましい。しかし、例えば、NF膜分離処理工程の目的が少量の不純物(特にイオン交換処理では除去し難いFeやAl等の金属成分及びシリカ等の不純物成分等)を或る程度除去する場合には、イオン交換処理や電気透析及び/又は電解等の精製工程をNF膜分離処理工程の前段で行ってもよい。また、場合によっては、NF膜分離処理工程の前段と後段の両方で上記のような精製工程を行っても良いことは言うまでもないことである。また、元々現像廃液中の不純物濃度が低い場合、再生現像液の純度が低くても良い用途の場合等は、NF透過液に対して、イオン交換処理を行わず、NF膜分離処理工程の後段で蒸発、逆浸透膜処理、電気透析及び電解の少なくとも一つの方法でTAAHを濃縮したり、また、新品の濃厚なTAAH溶液を加えてTAAH濃度調整等を行ってもよい。
【0060】
キレート樹脂処理工程で用いることができるキレート樹脂としては、例えば、イミノ二酢酸型、イミノプロピオン酸型、アミノメチレンホスホン酸型等のアミノホスホン酸型、ポリアミン型、N−メチルグルカミン型等のグルカミン型、アミノカルボン酸型、ジチオカルバミン酸型、チオール型、アミドキシム型、ピリジン型などの各種のキレート樹脂類を挙げることができる。これらの中でも、イミノ二酢酸型、イミノプロピオン酸型、アミノメチレンホスホン酸型、ポリアミン型、N−メチルグルカミン型のキレート樹脂類が好ましい。イミノ二酢酸型キレート樹脂としては、例えば、ローム・アンド・ハース社製のアンバーライトIRC−718を挙げることができ、イミノプロピオン酸型キレート樹脂としては、例えば、ミヨシ油脂(株)製のエポラスMX−8を挙げることができ、アミノメチレンホスホン酸型キレート樹脂としては、例えば、ローム・アンド・ハース社製のデュオライトC−467を挙げることができ、ポリアミン型キレート樹脂としては、例えば、住友化学工業(株)製のスミキレートMC−10や三菱化学(株)製のダイヤイオンCR−20を挙げることができ、N−メチルグルカミン型キレート樹脂としては、例えば、ローム・アンド・ハース社製のアンバーライトIRA−743を挙げることができる。
【0061】
キレート樹脂は多価の金属イオン類に対する選択性が高く、再生現像液を再利用するに際して問題となる微量不純物はいずれも多価の金属イオン類〔Fe(II)、Fe(III) 、Al(III) 等〕であるので、キレート樹脂と現像廃液又はそれに由来するTAAH含有溶液とを接触処理させることにより、これらの多価の金属イオン類を効果的に除去できる。また、界面活性物質源として用いる現像廃液又はそれに由来するフォトレジスト含有処理液等のフォトレジスト含有溶液から上記の多価金属イオン類を除去する目的でキレート樹脂を用いることもできる。使用したキレート樹脂を再生するには、塩酸等の酸で該キレート樹脂を処理してH形キレート樹脂とし、(超)純水で洗浄して塩酸等の酸を洗い落とし、好ましくはTAAH水溶液でTAA形キレート樹脂として、再利用する。
【0062】
不純物の除去の点では、キレート樹脂とイオン交換樹脂とを組み合わせて使用するのが好ましく、キレート樹脂の使用はイオン交換樹脂の使用の前でも後でも良く、また、これらは単床(別床)及び混床のいずれの形で使用しても良い。回収TAAH含有溶液の純度を高める目的では、キレート樹脂+陰イオン交換樹脂、キレート樹脂+陰イオン交換樹脂+陽イオン交換樹脂又はキレート樹脂+陽イオン交換樹脂の組み合わせであるが、界面活性物質源としてのフォトレジスト含有溶液の純度を高める目的では、キレート樹脂+陽イオン交換樹脂の組み合わせとするのが望ましい。なお、キレート樹脂と両イオン交換樹脂とを組み合わせる場合は、陰イオン交換樹脂(陽イオン交換樹脂)→キレート樹脂→陽イオン交換樹脂(陰イオン交換樹脂)の順であっても良い。
【0063】
再生現像液を得るに際してTAAH含有溶液を高純度化するためにキレート樹脂やイオン交換樹脂を用いるに当たっては、キレート樹脂やイオン交換樹脂への負荷を下げるには、その使用の前段でNF膜を使用するのが好ましいが、更にTAAH含有溶液の高純度化を図る目的でキレート樹脂やイオン交換樹脂の使用の後段でNF膜を使用することもできる。
【0064】
本発明を実施する装置(システム)において、必要に応じて設ける少なくともTAAHを含む溶液を貯蔵するか又は滞留させることを目的とする水槽(タンク)は、その中に窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガスを導入(パージ)するような構造とすることが好ましく、この場合、水槽(タンク)内の不活性ガスの圧力が外気(大気)圧よりも高く保たれる構造とするのが更に好ましく、不活性ガスを導入する水槽(タンク)に水封装置を付設するのが特に好ましい(特開平10−165933号公報)。これは、TAAH(=TAA+OH−)は強アルカリであるため、TAAHを含む溶液が外気(大気)と接触して大気中の炭酸ガス(CO2)が溶け込み、炭酸水素テトラアルキルアンモニウム(TAA+HCO3 -)や炭酸テトラアルキルアンモニウム〔(TAA+)2CO3 2-〕へと変化するのを防止すると共に、該溶液中への大気中からの他の不純物(CO2以外の酸性ガスや酸化性ガス等の各種ガス類、塵、ゴミ、金属類、塩類等)の混入を防止する等のためである。現像廃液又はそれに由来するフォトレジスト含有処理液を回収TAAH溶液に添加する界面活性物質源として用いるに際して、大気中からの不純物の混入防止を図る目的で同様の手段を採るのも好ましい。この様な手段は、特に半導体デバイス等の電子部品製造用現像液として再生現像液を使用する際に望まれることである。
【0065】
また、本発明の方法を実施する装置(システム)において、現像廃液、その各種のTAAH含有処理液及びフォトレジスト含有処理液のフォトレジスト濃度の測定機器〔例えば、吸光分光分析器、(紫外可視光)吸光光度計〕、または、更にそれらのTAAH濃度の測定機器(例えば、pH滴定装置、電位差滴定装置、導電率計、超音波濃度計)を備えた分析管理装置を必要に応じて適所に設けるのも好ましい(特開平10−207082号公報)。また、必要に応じて、少なくとも冷却機能を有する温度調節器を適所に設けたり、また、システムの後段にTAAH濃度調節器を設けて、現像装置に再生現像液を供給するようにするのも好ましい(特願平9−309583号)。
【0066】
回収TAAH溶液に適量のTAAH及び/又は(超)純水を添加し、再生現像液として現像工程に用いるに当たって、最終的なTAAH濃度の測定管理を行うには、例えば、pH滴定装置、電位差滴定装置、導電率計や超音波濃度計等のTAAH濃度測定機器、好ましくは導電率計や超音波濃度計を利用することができる。なお、導電率計は、使用濃度周辺では導電率に対してTAAH濃度が支配的で直線的な相関をもって測定できることを利用したものである。また、超音波濃度計は、超音波の溶液中の伝搬速度、該溶液の密度及び体積弾性率に基本的関係があること、体積弾性率と密度が該溶液の濃度及び温度に依存することを利用し、超音波伝搬速度及び温度を測定して溶液の濃度を求める測定機器である。
【0067】
更に、本発明を実施するためのシステムの最後段またはその近くに膜処理装置を設置しても良く、この場合、元々現像廃液中に存在する微粒子を除去できると共に、ポンプ、電気透析装置や電解装置、キレート樹脂、イオン交換樹脂等から微粒子が混入してきても、これを確実に除去できるので好ましい。これは、回収TAAH溶液についてもフォトレジスト含有処理液についても適用できるが、再生現像液を現像工程へ送る前に該再生現像液に適用するのが好ましい。
【0068】
上記膜処理装置としては、0.03〜1μm程度の細孔径を有するポリエチレン(PE)製フィルター、ポリプロピレン(PP)製フィルターやポリテトラフルオロエチレン(PTFE)製フィルターを用いた精密濾過膜処理装置や、限外濾過膜処理装置等を挙げることができ、目的に合わせて適切な膜処理装置を選択し、使用することができる。また、これらの膜処理装置の代わりにナノフィルターを用いることもできる。
【0069】
以上述べてきた本発明の方法を実施するに好適な装置の例として、本発明は、フォトレジスト現像廃液からフォトレジスト等の不純物を分離し、水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液を回収する回収精製装置、(好ましくは陽イオン交換樹脂処理及び/又はキレート樹脂処理装置で処理された)フォトレジスト現像廃液の一部及び/又は上記回収精製装置からのフォトレジスト含有回収廃液の少なくとも一部と上記回収精製装置で回収された上記水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液とを混合し、且つ、これらに必要に応じて(超)純水及び/又は水酸化テトラアルキルアンモニウムを補給して再生現像液を得る再生現像液調整装置を含み、上記再生現像液を現像装置に供給する様に構成されていることを特徴とするフォトレジスト現像廃液からの現像液の回収再利用装置をも提供する。ここで、「回収精製装置」は、現像廃液からフォトレジスト等の不純物を分離し、TAAH溶液を回収する方法における上述した各種の工程の単位装置の少なくとも一つを含む。この現像液回収再利用装置を用いると、工場において現像液を循環・再利用することができる。
【0070】
この現像液回収再利用装置は、上記再生現像液調整装置に付設され、且つ、上記再生現像液のフォトレジスト濃度を測定する測定機器と上記再生現像液のTAAH濃度を測定する測定機器とを備えた循環ライン、および、該フォトレジスト濃度及び該TAAH濃度の測定値を入力値として演算し、回収TAAH溶液、好ましくは陽イオン交換樹脂処理及び/又はキレート樹脂処理装置で処理されたフォトレジスト現像廃液の一部及び/又は上記回収精製装置からのフォトレジスト含有回収廃液の少なくとも一部、および、(超)純水及び/又はTAAH(水溶液)の各流量を所望の値に制御する制御器を更に含むことが望ましい。これにより、工場における現像液の循環・再利用が自動化できる。
【0071】
本発明の方法を実施するに好適な装置の他の例として、本発明は、フォトレジスト現像廃液からフォトレジスト等の不純物を分離し、水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液を回収する回収精製装置、回収された上記水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液に必要に応じて(超)純水及び/又は水酸化テトラアルキルアンモニウムを補給して所望の水酸化テトラアルキルアンモニウム濃度の第1再生現像液を得る第1再生現像液調整装置、(好ましくは陽イオン交換樹脂処理及び/又はキレート樹脂処理装置で処理された)フォトレジスト現像廃液の一部及び/又は上記回収精製装置からのフォトレジスト含有回収廃液の少なくとも一部に必要に応じて(超)純水及び/又は水酸化テトラアルキルアンモニウムを補給して所望の水酸化テトラアルキルアンモニウム濃度のフォトレジスト含有第2再生現像液を得る第2再生現像液調整装置、上記第1再生現像液と上記第2再生現像液とを混合する混合器を含み、混合再生現像液を現像装置に供給する様に構成されていることを特徴とするフォトレジスト現像廃液からの現像液の回収再利用装置をも提供する。ここで、「回収精製装置」は、現像廃液からフォトレジスト等の不純物を分離し、TAAH溶液を回収する方法における上述した各種の工程の単位装置の少なくとも一つを含む。この現像液回収再利用装置を用いると、工場において現像液を循環・再利用することができる。
【0072】
この現像液回収再利用装置は、上記第1再生現像液及び上記第2再生現像液の各流量を測定するそれぞれの流量計、上記第2再生現像液のフォトレジスト濃度を測定する測定機器、上記混合再生現像液のフォトレジスト濃度を測定する測定機器、および、上記の各流量、上記の各フォトレジスト濃度の測定値を入力値として演算し、上記第1再生現像液及び上記第2再生現像液の各流量を上記混合再生現像液のフォトレジスト濃度が所望の値となる様に制御する制御器を更に含むことが望ましい。これにより、工場における現像液の循環・再利用が自動化できる。
【0073】
本発明の方法を実施するに好適な簡易装置の例として、本発明は、現像廃液槽兼再生現像液調整槽を含む再生現像液調整装置、および、上記現像廃液槽兼再生現像液調整槽からの溶液からフォトレジスト等の不純物を分離し、水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液を回収する回収精製装置を含み、上記水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液を上記現像廃液槽兼再生現像液調整槽に返送し、上記現像廃液槽兼再生現像液調整槽中の溶液と混合し、且つ、これらに必要に応じて(超)純水及び/又は水酸化テトラアルキルアンモニウムを補給して再生現像液を調整し、上記再生現像液を現像装置に供給する様に構成されていることを特徴とするフォトレジスト現像廃液からの現像液の回収再利用装置をも提供する。ここで、「回収精製装置」は、現像廃液からフォトレジスト等の不純物を分離し、TAAH溶液を回収する方法における上述した各種の工程の単位装置の少なくとも一つを含む。この現像液回収再利用装置を用いると、工場において現像液を循環・再利用することができる。
【0074】
この現像液回収再利用装置は、上記再生現像液調整装置に付設され、且つ、上記現像廃液槽兼再生現像液調整槽中の溶液のフォトレジスト濃度を測定する測定機器と上記現像廃液槽兼再生現像液調整槽中の該溶液の水酸化テトラアルキルアンモニウム濃度を測定する測定機器とを備えた循環ライン、および、該フォトレジスト濃度及び該水酸化テトラアルキルアンモニウム濃度の測定値を入力値として演算し、(好ましくは陽イオン交換樹脂処理及び/又はキレート樹脂処理装置で処理された)フォトレジスト現像廃液の少なくとも一部、上記水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液、必要に応じて上記回収精製装置からの(好ましくは陽イオン交換樹脂処理及び/又はキレート樹脂処理装置で処理された)フォトレジスト含有回収廃液の少なくとも一部、および、(超)純水及び/又は水酸化テトラアルキルアンモニウムの各流量を所望の値に制御する制御器を更に含むことが望ましい。これにより、工場における現像液の循環・再利用が自動化できる。
【0075】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の好ましい実施の形態について図1〜図8を参照しつつ説明するが、本発明がこれらに限定されるもので無いことは言うまでもない。なお、以下の各図で、「TAAH回収精製装置」には、電気透析装置及び/又は電解装置、イオン交換処理装置、ナノフィルター、キレート樹脂処理装置等のTAAH回収精製用の各種単位装置が目的に応じて組み込まれている。
【0076】
図1は、本発明を実施する基本的装置の一例のブロック図である。現像装置からの現像廃液を必要に応じて現像廃液槽に一旦貯留後、TAAH回収精製装置に送り、回収精製されたTAAH溶液を得る。このTAAH溶液を再生現像液調整装置に送り、ここで界面活性物質であるフォトレジストと混合し、必要に応じて(超)純水及び/又はTAAH(水溶液)を補給し、上記TAAH溶液と混合し、界面活性物質濃度とTAAH濃度を調整し、再生現像液を得る。この再生現像液を現像装置に送り、現像工程で再利用する。なお、補給するTAAH(水溶液)としては、通常、新品が用いられるが、他の工程から回収精製されたTAAH溶液を用いてもよい。また、TAAH回収精製装置からの余分の廃液(電気透析や電解の脱塩液やNF膜処理のNF濃縮液等)は、場合によっては現像廃液槽からの余分の現像廃液と共に廃水ラインを通じて廃水として排出される。
【0077】
図2は、本発明を実施する基本的装置の他の一例のブロック図である。現像装置からの現像廃液を必要に応じて現像廃液槽に一旦貯留後、その一部をTAAH回収精製装置に送ると共に、他の一部をフォトレジスト含有溶液槽に送り、必要に応じて該他の一部の現像廃液とTAAH回収精製装置からのフォトレジスト含有回収廃液(例えば、電気透析や電解の脱塩液やNF膜処理のNF濃縮液等)の少なくとも一部を混合する。但し、フォトレジスト含有溶液槽には現像廃液のみ、または、TAAH回収精製装置からのフォトレジスト含有回収廃液のみを送る様にすることもできる。フォトレジスト含有溶液槽からのフォトレジスト含有溶液を界面活性物質としてのフォトレジスト源として、好ましくは陽イオン交換樹脂及び/又はキレート樹脂処理装置を経由して、再生現像液調整装置に送り、ここでTAAH回収精製装置からのTAAH回収精製溶液と混合し、必要に応じて(超)純水及び/又はTAAH(水溶液)を補給し、フォトレジスト濃度とTAAH濃度を調整し、再生現像液を得る。この再生現像液を現像装置に送り、現像工程で再利用する。
【0078】
なお、図2において、「フォトレジスト含有溶液槽」は必要に応じて設けられるものであり、省略することもできる。「フォトレジスト含有溶液槽」を省略した場合は、現像廃液槽内の現像廃液あるいはTAAH回収精製装置からの回収廃液を直接、または、陽イオン交換樹脂及び/又はキレート樹脂処理装置を経由して、再生現像液調整装置に送るようにすればよい。また、補給するTAAH(水溶液)としては、通常、新品が用いられるが、他の工程から回収精製されたTAAH溶液を用いてもよい。また、TAAH回収精製装置からの余分の廃液(電気透析や電解の脱塩液やNF膜処理のNF濃縮液等)は、場合によっては現像廃液槽からの余分の現像廃液やフォトレジスト含有溶液槽からの余分のフォトレジスト含有溶液と共に廃水ラインを通じて廃水として排出される。
【0079】
図3は、本発明を実施する基本的装置の更に他の一例のブロック図である。現像装置からの現像廃液を必要に応じて現像廃液槽に一旦貯留後、TAAH回収精製装置に送り、得られたTAAH回収精製溶液を再生現像液調整装置に送り、ここで必要に応じて(超)純水及び/又はTAAH(水溶液)を補給、混合し、所望のTAAH濃度(TMAHの場合、約2.4重量%)に調整して再生現像液を得る。一方、(超)純水、TAAH(水溶液)及び界面活性物質であるフォトレジストを現像液調整装置で混合し、所望のTAAH濃度(TMAHの場合、約2.4重量%)に調整して新品現像液を得る。得られた再生現像液と新品現像液を混合器に送り、混合して所望の界面活性物質濃度の調整現像液として、現像装置に送り、現像工程で利用する。また、補給するTAAH(水溶液)としては、通常、新品が用いられるが、他の工程から回収精製されたTAAH溶液を用いてもよい。また、TAAH回収精製装置からの余分の廃液(電気透析や電解の脱塩液やNF膜処理のNF濃縮液等)は、場合によっては現像廃液槽からの余分の現像廃液と共に廃水ラインを通じて廃水として排出される。
【0080】
図4は、本発明を実施する基本的装置の更に他の一例のブロック図である。現像装置からの現像廃液を必要に応じて現像廃液槽に一旦貯留後、その一部をTAAH回収精製装置に送ると共に、他の一部をフォトレジスト含有溶液槽に送り、必要に応じて該他の一部の現像廃液とTAAH回収精製装置からのフォトレジスト含有回収廃液(例えば、電気透析や電解の脱塩液やNF膜処理のNF濃縮液等)の少なくとも一部を混合する。但し、フォトレジスト含有溶液槽には現像廃液のみ、または、TAAH回収精製装置からのフォトレジスト含有回収廃液のみを送る様にすることもできる。フォトレジスト含有溶液槽からのフォトレジスト含有溶液を界面活性物質としてのフォトレジスト源として、好ましくは陽イオン交換樹脂及び/又はキレート樹脂処理装置を経由して、第2再生現像液調整装置に送り、必要に応じて(超)純水及び/又はTAAH(水溶液)を補給し、所望のTAAH濃度(TMAHの場合、約2.4重量%)に調整してフォトレジスト含有第2再生現像液を得る。一方、TAAH回収精製装置から得られたTAAH回収精製溶液を第1再生現像液調整装置に送り、ここで必要に応じて(超)純水及び/又はTAAH(水溶液)を補給、混合し、所望のTAAH濃度(TMAHの場合、約2.4重量%)に調整して第1再生現像液を得る。得られた第1再生現像液と第2再生現像液を混合器に送り、混合して所望のフォトレジスト濃度の再生現像液として、現像装置に送り、現像工程で再利用する。なお、前記図2の場合と同様に、フォトレジスト含有溶液槽は必要に応じて設けられるもので、省略することもできる。また、補給するTAAH(水溶液)としては、通常、新品が用いられるが、他の工程から回収精製されたTAAH溶液を用いてもよい。また、TAAH回収精製装置からの余分の廃液(電気透析や電解の脱塩液やNF膜処理のNF濃縮液等)は、場合によっては現像廃液槽からの余分の現像廃液やフォトレジスト含有溶液槽からの余分のフォトレジスト含有溶液と共に廃水ラインを通じて廃水として排出される。
【0081】
図5は、本発明を実施するに当たって用いる再生現像液調整槽を含む再生現像液調整装置の一例の構成を示すフロー図である。この装置は、例えば、図2の基本的装置(システム)に好ましく組み込むことができる。再生現像液調整槽には、TAAH含有回収精製溶液、好ましくは陽イオン交換樹脂及び/又はキレート樹脂処理したフォトレジスト含有溶液、(超)純水、TAAH(水溶液)がそれぞれの自動調節弁Vを介して供給される様になっている。また、再生現像液調整槽にはレベルセンサーLSが取り付けられており、これにより液面の高さを検出する。吸光光度計等のフォトレジスト濃度測定器A及び導電率計や超音波濃度計等のTAAH濃度測定器Bを備えた循環ラインが再生現像液調整槽に付設され、再生現像液調整槽中の再生現像液のフォトレジスト濃度とTAAH濃度を測定する。この循環ラインに再生現像液の攪拌の機能を持たせることもできる。液面の高さの検出値及びフォトレジスト濃度とTAAH濃度の測定値は制御器に入力され、これらの入力値に基づいてこの制御器からそれぞれの自動調節弁V及びポンプPを制御する信号値が出力される。図5において、制御用の配線は破線で示される。このようにして調整された再生現像液を必要に応じて現像液槽に送り、一旦貯留後、現像装置に送り、再利用する。
【0082】
図6は、本発明を実施するに当たって用いる再生現像液調整用混合器を含む再生現像液調整装置の一例の構成を示すフロー図である。この装置は、例えば、図4の基本的装置(システム)に好ましく組み込むことができる。混合器には、所望のTAAH濃度(TMAHの場合、約2.4重量%)に調整した回収精製溶液(図4についての説明で、第1再生現像液に相当)、および、好ましくは陽イオン交換樹脂及び/又はキレート樹脂処理したフォトレジスト含有溶液に必要に応じて(超)純水やTAAH(水溶液)を加えて所望のTAAH濃度(TMAHの場合、約2.4重量%)に調整したフォトレジスト含有TAAH溶液(図4についての説明で、第2再生現像液に相当)がそれぞれの自動調節弁Vを介して供給される様になっている。吸光光度計等のフォトレジスト濃度測定器A1及び流量計(flow indicator)FI−1で調整フォトレジスト含有TAAH溶液のフォトレジスト濃度と流量を測定し、測定値を制御器に入力する。一方、流量計FI−2で調整回収精製溶液の流量を測定し、測定値を制御器に入力する。また、混合器から得られる再生現像液のフォトレジスト濃度を吸光光度計等のフォトレジスト濃度測定器A2で測定し、測定値を制御器に入力する。それぞれの測定値を入力された制御器は、調整回収精製溶液及び調整フォトレジスト含有TAAH溶液のラインにそれぞれ取り付けられた流量調節弁Vを制御し、再生現像液のフォトレジスト濃度が所望の値になる様に制御する。図6において、制御用の配線は破線で示され、ポンプはPで示される。このようにして調整された再生現像液を現像液槽に送り、一旦貯留後、現像装置に送り、再利用する。
【0083】
なお、前記の図5又は図6の実施形態においては、現像液槽から現像装置への送液手段としてポンプを用いたが、ポンプを使用せずに、現像液槽をN2ガス等で加圧することによって送液してもよい。また、図5あるいは図6において、現像液槽は必要に応じて設けられるものであり、省略することもできる。
【0084】
図7は、本発明を実施する簡易な基本的装置の一例のブロック図である。現像装置からの現像廃液の少なくとも一部を再生現像液調整装置の現像廃液槽兼再生現像液調整槽に送り、その一部をTAAH回収精製装置に送る。なお、他の余分な現像廃液が生じたり、現像廃液のTAAH濃度が低い時等には、これを廃水として直接的に廃水ラインを通して排出する様に構成してもよいが、かかる廃水ラインは必ずしも必要ではない。TAAH回収精製装置からのTAAH回収精製溶液を現像廃液槽兼再生現像液調整槽に返送し、必要に応じて(超)純水及び/又はTAAH(水溶液)を補給し、フォトレジスト濃度とTAAH濃度を調整し、槽内の溶液を再生現像液として調整する。この再生現像液を現像装置に送り、現像工程で再利用する。TAAH回収精製装置からのフォトレジスト含有廃液(例えば、電気透析や電解の脱塩液やNF膜処理のNF濃縮液等)の少なくとも一部を、好ましくは陽イオン交換樹脂及び/又はキレート樹脂処理装置を経由して、現像廃液槽兼再生現像液調整槽に返送する様に構成してもよいが、この現像廃液槽兼再生現像液調整槽には界面活性物質源としてのフォトレジスト含有現像廃液が直接的に現像装置から流入しているので、必ずしも上記の様な構成としなくてもよく、フォトレジスト含有回収廃液を廃水として廃水ラインを通して排出する様に構成するのが簡易である。必要時に又は必要に応じて現像廃液槽兼再生現像液調整槽から余分の溶液を廃水として廃水ラインを通して排出してもよい。
【0085】
図8は、図7の基本的装置を自動化した装置の一例を示すフロー図である。即ち、図8の装置では、現像廃液槽兼再生現像液調整槽には、現像廃液、TAAH含有回収精製溶液、(超)純水、TAAH(水溶液)がそれぞれの自動調節弁Vを介して供給される様になっている。必要に応じて、好ましくは陽イオン交換樹脂及び/又はキレート樹脂処理したフォトレジスト含有廃液をその自動調節弁Vを介して現像廃液槽兼再生現像液調整槽に返送する様に構成してもよい。また、現像廃液槽兼再生現像液調整槽にはレベルセンサーLSが取り付けられており、これにより液面の高さを検出する。吸光光度計等のフォトレジスト濃度測定器C及び導電率計や超音波濃度計等のTAAH濃度測定器Dを備えた循環ラインが現像廃液槽兼再生現像液調整槽に付設され、現像廃液槽兼再生現像液調整槽中の溶液のフォトレジスト濃度とTAAH濃度を測定する。この循環ラインに再生現像液の攪拌の機能を持たせることもできる。液面の高さの検出値及びフォトレジスト濃度とTAAH濃度の測定値は制御器に入力され、これらの入力値に基づいてこの制御器からそれぞれの自動調節弁V及びポンプPを制御する信号値が出力される。図8において、制御用の配線は破線で示される。その他は、図7について説明したことと同じなので、重複した説明は省略する。
【0086】
【実施例】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明がこれらの実施例に限定されるもので無いことは言うまでもない。なお、以下の実施例で、TMAH濃度はイオンクロマト分析法、フォトレジスト濃度は紫外可視光吸光光度計を用いた吸光光度分析法で測定し〔但し、290nmでの測定吸光度(フォトレジスト由来の吸収)のまま記載した〕、Na濃度は原子吸光光度法によって測定した。
【0087】
実施例1
LCD製造工程から排出されたフォトレジスト現像廃液から電気透析装置及びイオン交換処理装置(混床)を用いてTMAHを回収精製した。
【0088】
この現像廃液の水質は、TMAH濃度が8600mg/L(リットル)、290nmでの吸光度が3.48、Na濃度が510μg/Lであった。
【0089】
この現像廃液を原液として電気透析装置によって超純水(濃縮用液)中にTMAHの分離、濃縮、回収を循環方式で行い、回収液を得た。電気透析装置としては、旭化成工業(株)製マイクロ・アシライザーG3を使用した。この電気透析装置では、陽イオン交換膜アシプレックスK−501〔旭化成工業(株)製〕、陰イオン交換膜の代わりに中性膜アシプレックスPVA#100〔旭化成工業(株)製〕を使用した。また、電極としては、陽極、陰極ともチタン基板に白金メッキを施したものを使用した。
【0090】
次いで、前もって新品のTMAH水溶液を通液することによりTMA形(テトラメチルアンモニウムイオン形)とした陽イオン交換樹脂アンバーライト200C(ローム・アンド・ハース社製)と強塩基性陰イオン交換樹脂アンバーライトIRA−900(ローム・アンド・ハース社製、OH形)を混床で充填したカラムに通液してイオン交換処理を行って上記回収液を精製し、TMAH濃度22700ppm、290nmでの吸光度(フォトレジスト由来の吸収)が0.01未満、Na濃度10ppb未満のTMAH溶液を得た。更に、このTMAH溶液に界面活性剤を含まない半導体グレードの25重量%TMAH試薬を添加し、TMAH濃度23800ppm、290nmでの吸光度が0.01未満、Na濃度10ppb未満のTMAH濃度調整溶液を得た。
【0091】
一方、上記現像廃液を予めTMA形に調整した陽イオン交換樹脂アンバーライト200Cを充填したカラムに通液し、イオン交換処理した後、界面活性剤を含まない半導体グレードの25重量%TMAH試薬を添加し、TMAH濃度23800ppm、290nmでの吸光度が3.25、Na濃度10ppb未満のフォトレジスト含有処理液を得た。
【0092】
上記の方法で得られたTMAH濃度調整溶液及びフォトレジスト含有処理液を適当な割合で混合して、フォトレジストの濃度を調整し、フォトレジスト濃度調整混合液を調整した。
【0093】
界面活性剤を含まない新品TMAH溶液、TMAH濃度調整溶液及びフォトレジスト濃度調整混合液の各液をガラス板上に塗布形成したフォトレジスト塗膜上に滴下し、滴下1分後の接触角を測定した。結果を表1に示す。なお、表1で、「新品液」は上記新品TMAH溶液を表し、「調整溶液」はTMAH濃度調整溶液を表し、「混合液」はフォトレジスト濃度調整混合液を表し、「TMAH」はTMAH重量%を表し、「吸光度」は紫外可視光吸光光度計を用いて290nmで測定した値である。
【0094】
【表1】
【0095】
現像廃液に溶解して含まれるフォトレジストは界面活性作用があるため、その濃度が高くなる(290nmでの吸光度が高くなる)程、混合液(再生現像液)とフォトレジスト塗膜との接触角が小さくなることを、表1は示している。このことより、界面活性物質としてフォトレジストを回収TMAH溶液に添加し、その濃度を調整することにより、任意の表面張力を有する現像液が再生できることが分かる。
【0096】
【発明の効果】
本発明によれば、界面活性物質として現像廃液に溶解して含まれるフォトレジストを現像廃液から回収されたTAAH溶液と混合し、界面活性物質濃度を適当に調整することにより、任意の表面張力を有する再生現像液が得られる。そのため、各々の現像工程に適した再生現像液を現像廃液から回収でき、再利用することができる。
【0097】
半導体デバイス、液晶ディスプレイ、プリント基板等の特に不純物を嫌う電子部品の製造等に用いる再生現像液を得る目的でフォトレジスト現像廃液を再生処理するに当たっては、例えば、NF膜分離処理、電気透析及び/又は電解、イオン交換処理、キレート樹脂接触処理工程等の精製処理工程を適当に組み合わせ、回収されたTAAH溶液と現像廃液又はNF膜分離処理、電気透析及び/又は電解等の工程から得られるフォトレジスト含有処理液、或いはこれを必要に応じて精製処理して得たフォトレジスト含有液等の界面活性物質源を混合し、所望の表面張力を有する再生現像液を回収し、現像工程に再利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明を実施する基本的装置の一例のブロック図である。
【図2】図2は、本発明を実施する基本的装置の他の一例のブロック図である。
【図3】図3は、本発明を実施する基本的装置の更に他の一例のブロック図である。
【図4】図4は、本発明を実施する基本的装置の更に他の一例のブロック図である。
【図5】図5は、本発明を実施するに当たって用いる再生現像液調整槽を含む再生現像液調整装置の一例の構成を示すフロー図である。
【図6】図6は、本発明を実施するに当たって用いる再生現像液調整用混合器を含む再生現像液調整装置の一例の構成を示すフロー図である。
【図7】図7は、本発明を実施する簡易な基本的装置の一例のブロック図である。
【図8】図8は、図7の基本的装置を自動化した装置の一例を示すフロー図である。
【図9】図9は、本発明の方法で行ってもよい電気透析の原理の説明図である。
【図10】図10は、本発明の方法で行ってもよい電解の原理の説明図である。
Claims (10)
- フォトレジスト現像廃液からフォトレジスト等の不純物を分離し、水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液を回収し、それを再利用するに当たって、回収された水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液と界面活性物質を混合することを包含し、且つ、前記界面活性物質が、フォトレジスト現像廃液又はそれに由来するフォトレジスト含有処理液に含まれるフォトレジストであることを特徴とするフォトレジスト現像廃液からの現像液の回収再利用方法。
- 紫外可視光吸光光度計を用いて前記界面活性物質としてのフォトレジストの濃度の調整と管理を行うことを特徴とする請求項1に記載のフォトレジスト現像廃液からの現像液の回収再利用方法。
- フォトレジスト現像廃液からフォトレジスト等の不純物を分離し、水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液を回収する方法が、前記フォトレジスト現像廃液に対して、電気透析及び電解の少なくとも一つの方法で水酸化テトラアルキルアンモニウムを濃縮する濃縮精製工程(A)、陰イオン交換樹脂及び/又はH形及びテトラアルキルアンモニウムイオン形(TAA形)の少なくとも一方の陽イオン交換樹脂と接触処理する工程(B)、および、ナノフィルトレーション膜(NF膜)により水酸化テトラアルキルアンモニウムを主として含む透過水を得るNF膜分離処理工程(C)から選ばれる少なくとも一つの工程を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載のフォトレジスト現像廃液からの現像液の回収再利用方法。
- フォトレジスト現像廃液からフォトレジスト等の不純物を分離し、水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液を回収する回収精製装置、および、フォトレジスト現像廃液の一部及び/又は前記回収精製装置からのフォトレジスト含有回収廃液の少なくとも一部と前記回収精製装置で回収された前記水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液とを混合し、且つ、これらに必要に応じて純水又は超純水及び/又は水酸化テトラアルキルアンモニウムを補給して再生現像液を得る再生現像液調整装置を含み、前記再生現像液を現像装置に供給する様に構成されていることを特徴とするフォトレジスト現像廃液からの現像液の回収再利用装置。
- 前記再生現像液調整装置に付設され、且つ、前記再生現像液のフォトレジスト濃度を測定する測定機器と前記再生現像液の水酸化テトラアルキルアンモニウム濃度を測定する測定機器とを備えた循環ライン、および、該フォトレジスト濃度及び該水酸化テトラアルキルアンモニウム濃度の測定値を入力値として演算し、前記水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液、フォトレジスト現像廃液の一部及び/又は前記回収精製装置からのフォトレジスト含有回収廃液の少なくとも一部、および、純水又は超純水及び/又は水酸化テトラアルキルアンモニウムの各流量を所望の値に制御する制御器を更に含むことを特徴とする請求項4に記載のフォトレジスト現像廃液からの現像液の回収再利用装置。
- フォトレジスト現像廃液からフォトレジスト等の不純物を分離し、水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液を回収する回収精製装置、回収された前記水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液に必要に応じて純水又は超純水及び/又は水酸化テトラアルキルアンモニウムを補給して所望の水酸化テトラアルキルアンモニウム濃度の第1再生現像液を得る第1再生現像液調整装置、フォトレジスト現像廃液の一部及び/又は前記回収精製装置からのフォトレジスト含有回収廃液の少なくとも一部に必要に応じて純水又は超純水及び/又は水酸化テトラアルキルアンモニウムを補給して所望の水酸化テトラアルキルアンモニウム濃度のフォトレジスト含有第2再生現像液を得る第2再生現像液調整装置、および、前記第1再生現像液と前記第2再生現像液とを混合する混合器を含み、混合再生現像液を現像装置に供給する様に構成されていることを特徴とするフォトレジスト現像廃液からの現像液の回収再利用装置。
- 前記第1再生現像液及び前記第2再生現像液の各流量を測定するそれぞれの流量計、前記第2再生現像液のフォトレジスト濃度を測定する測定機器、前記混合再生現像液のフォトレジスト濃度を測定する測定機器、および、前記の各流量及び前記の各フォトレジスト濃度の測定値を入力値として演算し、前記第1再生現像液及び前記第2再生現像液の各流量を前記混合再生現像液のフォトレジスト濃度が所望の値となる様に制御する制御器を更に含むことを特徴とする請求項6に記載のフォトレジスト現像廃液からの現像液の回収再利用装置。
- 現像廃液槽兼再生現像液調整槽を含む再生現像液調整装置、および、前記現像廃液槽兼再生現像液調整槽からの溶液からフォトレジスト等の不純物を分離し、水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液を回収する回収精製装置を含み、前記水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液を前記現像廃液槽兼再生現像液調整槽に返送し、前記現像廃液槽兼再生現像液調整槽中の溶液と混合し、且つ、これらに必要に応じて純水又は超純水及び/又は水酸化テトラアルキルアンモニウムを補給して再生現像液を調整し、前記再生現像液を現像装置に供給する様に構成されていることを特徴とするフォトレジスト現像廃液からの現像液の回収再利用装置。
- 前記再生現像液調整装置に付設され、且つ、前記現像廃液槽兼再生現像液調整槽中の溶液のフォトレジスト濃度を測定する測定機器と前記現像廃液槽兼再生現像液調整槽中の該溶液の水酸化テトラアルキルアンモニウム濃度を測定する測定機器とを備えた循環ライン、および、該フォトレジスト濃度及び該水酸化テトラアルキルアンモニウム濃度の測定値を入力値として演算し、フォトレジスト現像廃液の少なくとも一部、前記水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液、必要に応じて前記回収精製装置からのフォトレジスト含有回収廃液の少なくとも一部、および、純水又は超純水及び/又は水酸化テトラアルキルアンモニウムの各流量を所望の値に制御する制御器を更に含むことを特徴とする請求項8に記載のフォトレジスト現像廃液からの現像液の回収再利用装置。
- フォトレジスト現像廃液の一部及び/又は前記回収精製装置からのフォトレジスト含有回収廃液の少なくとも一部をその使用前に予め精製処理する陽イオン交換樹脂処理及び/又はキレート樹脂処理装置を更に含むことを特徴とする請求項4から9のいずれかに記載のフォトレジスト現像廃液からの現像液の回収再利用装置。
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