JPS59219307A - 硬化性組成物 - Google Patents
硬化性組成物Info
- Publication number
- JPS59219307A JPS59219307A JP59098905A JP9890584A JPS59219307A JP S59219307 A JPS59219307 A JP S59219307A JP 59098905 A JP59098905 A JP 59098905A JP 9890584 A JP9890584 A JP 9890584A JP S59219307 A JPS59219307 A JP S59219307A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- composition according
- anion
- hydroperoxide
- arene
- oxidizing agent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F4/00—Polymerisation catalysts
- C08F4/40—Redox systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F4/00—Polymerisation catalysts
- C08F4/42—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors
- C08F4/72—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors selected from metals not provided for in group C08F4/44
- C08F4/80—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors selected from metals not provided for in group C08F4/44 selected from iron group metals or platinum group metals
- C08F4/82—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors selected from metals not provided for in group C08F4/44 selected from iron group metals or platinum group metals pi-Allyl complexes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Polymerization Catalysts (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Dental Preparations (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、 a)カチオンおよび/またはラジカル
重合性物質、b)鉄(It)−芳香族−錯体およびC)
酸化剤からなる硬化性組成物、そのような材料の光の照
射による重合方法、その組成物でコーティングした材料
および用途(こ関する。
重合性物質、b)鉄(It)−芳香族−錯体およびC)
酸化剤からなる硬化性組成物、そのような材料の光の照
射による重合方法、その組成物でコーティングした材料
および用途(こ関する。
カチオン重合性有機物質の照射誘起重合に適した光開始
剤として、例えばヨードニウム塩、スルホニウム塩およ
びジアゾニウム塩が文献によって知られている(例えば
、ドイツ公報2518639号、J、Po7y、8ci
、、 Polymer Chemtstry Bd、+
17 。
剤として、例えばヨードニウム塩、スルホニウム塩およ
びジアゾニウム塩が文献によって知られている(例えば
、ドイツ公報2518639号、J、Po7y、8ci
、、 Polymer Chemtstry Bd、+
17 。
1059 (1979)、 Makromol 、
Chem、 、 5uppl 、 3 。
Chem、 、 5uppl 、 3 。
348 (1979)、 ドイツ公開公報252048
9.2854011および3021376号、米国特許
明細書4210449号、英国特許出願2046269
A号参照)。それらは比較的吸収域が深色性(約190
〜400nm)のために、着色多項性炭化水素例えばペ
リレン染料、芳香族アミン、ベンゾインアルキルエーテ
ルまたはアルコキシアセトフェノンのような増感剤をカ
チオン重合性ンステムの光の作用下での硬化に使用する
必要がある0 このような光開始剤含有ソステムの熱硬化は、銅−1錫
−1鉄−またはコバルト−塩、チオフェノール類、アス
コルビン酸等のような還元剤の存在下で行われる。ある
研究によって、メタロセン錯体が増感剤を一緒に用いる
ことを必要としないカチオン重合性有機物質用の光開始
剤となることが判明した。この物質は直接高温で、また
は光を作用させた後、照射温度以上の温度で硬fヒさせ
ることができる。重合を一層低い温度で行うことができ
るか、または照射と重合熱による固有の熱(こまっての
み実施できるかすれば好都合であろう。
9.2854011および3021376号、米国特許
明細書4210449号、英国特許出願2046269
A号参照)。それらは比較的吸収域が深色性(約190
〜400nm)のために、着色多項性炭化水素例えばペ
リレン染料、芳香族アミン、ベンゾインアルキルエーテ
ルまたはアルコキシアセトフェノンのような増感剤をカ
チオン重合性ンステムの光の作用下での硬化に使用する
必要がある0 このような光開始剤含有ソステムの熱硬化は、銅−1錫
−1鉄−またはコバルト−塩、チオフェノール類、アス
コルビン酸等のような還元剤の存在下で行われる。ある
研究によって、メタロセン錯体が増感剤を一緒に用いる
ことを必要としないカチオン重合性有機物質用の光開始
剤となることが判明した。この物質は直接高温で、また
は光を作用させた後、照射温度以上の温度で硬fヒさせ
ることができる。重合を一層低い温度で行うことができ
るか、または照射と重合熱による固有の熱(こまっての
み実施できるかすれば好都合であろう。
またカチオン、ラジカルまたはこの2つの機構による重
合性有機物質を同時に光開始剤を用いて光の作用下で重
合できることが望ましい。
合性有機物質を同時に光開始剤を用いて光の作用下で重
合できることが望ましい。
この発明の課題は、こ11らの要件を充たす硬化性組成
物を調製することにある。
物を調製することにある。
本発明の対象は、
a)ラジカルもしくはカチオン重合性物質、これらの物
質の混合物またはラジカルおよびカチオン重合性物質、 b)式I [(R1)(R2Feu)a]+a1(LQ□)−9′
′(1)〔式中、aは1または2であり、qは1,2ま
たは3であり、Lは2価乃至7価の金属または非金属を
表わし、Qはハロゲン原子であり、mはLとqの値の和
に相当する整数であり B+はπ−アレンであり、R2
はπ−アレンのアニオンである。〕で示される少なくと
も1種類の鉄化合物、および C)少なくとも1種類の酸化剤としての電子受容体を含
有する硬化性組成物である。
質の混合物またはラジカルおよびカチオン重合性物質、 b)式I [(R1)(R2Feu)a]+a1(LQ□)−9′
′(1)〔式中、aは1または2であり、qは1,2ま
たは3であり、Lは2価乃至7価の金属または非金属を
表わし、Qはハロゲン原子であり、mはLとqの値の和
に相当する整数であり B+はπ−アレンであり、R2
はπ−アレンのアニオンである。〕で示される少なくと
も1種類の鉄化合物、および C)少なくとも1種類の酸化剤としての電子受容体を含
有する硬化性組成物である。
π−アレンR1としては具体的には、炭素原子数が6〜
24の芳香族基または炭素原子数が3〜20のへテロ芳
香族基が挙げられ、これらの基はハロゲン原子、好まし
くは塩素または臭素原子、またはC,−C8−アルキル
、C2−08−アルケニル、C2−08−フルキニル、
C,−C8−アルコキン、ソアノ、C,−C8−アルキ
ルチオ、C2−C6−モノ炭酸アルキルエステル、フェ
ニル、C2−C,−アルカノイルまたはベンゾイル基の
ような同一または異なる1価の基1個または複数個によ
って置換されていてもよい。これらのπ−アレン基は単
核、縮合多核または縮合していない多核ンステムでよく
、後者の未縮合多核システムの場合には複数の核は直接
結合するかまたは−S−もしくは一〇−のような架橋基
を介して結合していてもよい。
24の芳香族基または炭素原子数が3〜20のへテロ芳
香族基が挙げられ、これらの基はハロゲン原子、好まし
くは塩素または臭素原子、またはC,−C8−アルキル
、C2−08−アルケニル、C2−08−フルキニル、
C,−C8−アルコキン、ソアノ、C,−C8−アルキ
ルチオ、C2−C6−モノ炭酸アルキルエステル、フェ
ニル、C2−C,−アルカノイルまたはベンゾイル基の
ような同一または異なる1価の基1個または複数個によ
って置換されていてもよい。これらのπ−アレン基は単
核、縮合多核または縮合していない多核ンステムでよく
、後者の未縮合多核システムの場合には複数の核は直接
結合するかまたは−S−もしくは一〇−のような架橋基
を介して結合していてもよい。
π−アレンのアニオンR2としては、前述のπ−アレン
のアニオン、例えばインデニルアニオンおよび特【こソ
クロペンタジエニルアニオンが挙ケラれ、これらのアニ
オンもC+−Cs−アルキル、C2−Cs−711iケ
ニル、C2−C8−アルキニル、C2−C6−モノ炭酸
アルキルエステル、ンアノ、C2−c、−アルカノイル
またはベンゾイル基のような同一または異なる1価の基
1個または複数個(こよって置換されていてもよい。
のアニオン、例えばインデニルアニオンおよび特【こソ
クロペンタジエニルアニオンが挙ケラれ、これらのアニ
オンもC+−Cs−アルキル、C2−Cs−711iケ
ニル、C2−C8−アルキニル、C2−C6−モノ炭酸
アルキルエステル、ンアノ、C2−c、−アルカノイル
またはベンゾイル基のような同一または異なる1価の基
1個または複数個(こよって置換されていてもよい。
アルキル、アルコキン、アルキルチオ、モノカルボン酸
アルキルエステルおよびアルカノイル置換基は直鎖状で
も分岐状でもよい。代表的なアルキル、アルコキン、ア
ルキルチオ、モノ炭酸アルキルエステル乃至アルカノイ
ル置換基は、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、5ee−ブチル、tert−ブチル
、n−ペンチル、n−ヘキシルおよびn−オクチル、メ
トキシ、エトキン、n−プロポキン、イングロポキン、
n−ブトキン、n−へキソロキンおよびn−オクチロキ
シ、メチルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、イソ
プロピルチオ、n−ブチルチオ、n−ペンチルチオおよ
びn−ヘキシルチオ、炭酸メチル、−エチル、−n−プ
ロピル、−イソプロピル、−n・−ブチルおよび−n−
ペンチルエステル乃至アセチル、プロピオニル、ブチリ
ルおよびバレロイルである。この場合アルキル部分の炭
素原子数が1〜4および特にlまたは2のアルキル、ア
ルコキシ、アルキルチオおよびモノ炭酸アルキルエステ
ル基並びに炭素原子数が2または3のアルカノイル基が
好ましい0置換されているπ−アレンまたは置換されて
いるπ−アレンのアニオンとしては、前記した置換基特
に塩素または臭素原子、メチル、エチル、メトキン、エ
トキン、ンアノ、炭酸メチルまたは一エチルエステル基
およびアセチル基1個または2個を有するものが好まし
い。
アルキルエステルおよびアルカノイル置換基は直鎖状で
も分岐状でもよい。代表的なアルキル、アルコキン、ア
ルキルチオ、モノ炭酸アルキルエステル乃至アルカノイ
ル置換基は、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、5ee−ブチル、tert−ブチル
、n−ペンチル、n−ヘキシルおよびn−オクチル、メ
トキシ、エトキン、n−プロポキン、イングロポキン、
n−ブトキン、n−へキソロキンおよびn−オクチロキ
シ、メチルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、イソ
プロピルチオ、n−ブチルチオ、n−ペンチルチオおよ
びn−ヘキシルチオ、炭酸メチル、−エチル、−n−プ
ロピル、−イソプロピル、−n・−ブチルおよび−n−
ペンチルエステル乃至アセチル、プロピオニル、ブチリ
ルおよびバレロイルである。この場合アルキル部分の炭
素原子数が1〜4および特にlまたは2のアルキル、ア
ルコキシ、アルキルチオおよびモノ炭酸アルキルエステ
ル基並びに炭素原子数が2または3のアルカノイル基が
好ましい0置換されているπ−アレンまたは置換されて
いるπ−アレンのアニオンとしては、前記した置換基特
に塩素または臭素原子、メチル、エチル、メトキン、エ
トキン、ンアノ、炭酸メチルまたは一エチルエステル基
およびアセチル基1個または2個を有するものが好まし
い。
ヘテロ芳香族π−アレンとしてはS−1N−および/ま
たは〇一原子を有するシステムが適している。S−およ
び/または〇一原子を有するヘテロ芳香族が好ましい。
たは〇一原子を有するシステムが適している。S−およ
び/または〇一原子を有するヘテロ芳香族が好ましい。
適当なπ−アレンの例はベンゼン、トルエン、キシレン
、エチルベンゼン、メトキシベンゼン、エトキンベンゼ
ン、ジメトキンベンゼン、p−クロルトルエン、クロル
ベンゼン、フロムベンゼン、ジクロルベンゼン、エチル
ベンゼン、トリメチルベンゼン、トリメトキンベンゼン
、ナフタリン、1,2−ジヒドロナフタリン、1.2,
3.4−テトラヒドロナフタリン、メチルナフタリン、
メトキンナフタリン、エトキンナフタリン、クロルナフ
タリン、ブロムナフタリン、ビフェニル、インデン、ビ
フェニレン、フルオレン、フノエ1ナントレン、アント
ラセン、9 、10−ジヒドロアントラセン、トリフェ
ニレン、ピレン、ナフタセン、コロネン、チオフェン、
クロメン、キサンチン、チオキサンチン、ベンゾチオフ
ェン、ナフトチオフェン、チアントレ・ン、ジフエニレ
ンオキンド、ジフェニレンスルフィド、アクリジンおよ
びカルバゾールである。
、エチルベンゼン、メトキシベンゼン、エトキンベンゼ
ン、ジメトキンベンゼン、p−クロルトルエン、クロル
ベンゼン、フロムベンゼン、ジクロルベンゼン、エチル
ベンゼン、トリメチルベンゼン、トリメトキンベンゼン
、ナフタリン、1,2−ジヒドロナフタリン、1.2,
3.4−テトラヒドロナフタリン、メチルナフタリン、
メトキンナフタリン、エトキンナフタリン、クロルナフ
タリン、ブロムナフタリン、ビフェニル、インデン、ビ
フェニレン、フルオレン、フノエ1ナントレン、アント
ラセン、9 、10−ジヒドロアントラセン、トリフェ
ニレン、ピレン、ナフタセン、コロネン、チオフェン、
クロメン、キサンチン、チオキサンチン、ベンゾチオフ
ェン、ナフトチオフェン、チアントレ・ン、ジフエニレ
ンオキンド、ジフェニレンスルフィド、アクリジンおよ
びカルバゾールである。
置換されているπ−アレンアニオンの例は、メチル−、
エチル−1n−7’口ピルーおよびn−ブチル−シクロ
ペンタジェンのアニオン、ジメチルシクロペンタジェン
、シクロペンタジエンヵルボン酸メチル−および−エチ
ルエステル並びにアセチルンクロペンタジエン、フロピ
オニルンクロベンタジェン、ンアノソクロペンタシェン
およヒペンゾイルシクロペンタジエンのアニオンである
。
エチル−1n−7’口ピルーおよびn−ブチル−シクロ
ペンタジェンのアニオン、ジメチルシクロペンタジェン
、シクロペンタジエンヵルボン酸メチル−および−エチ
ルエステル並びにアセチルンクロペンタジエン、フロピ
オニルンクロベンタジェン、ンアノソクロペンタシェン
およヒペンゾイルシクロペンタジエンのアニオンである
。
好ましいアニオンは置換されていないインデンおよび特
に置換されていないシクロペンタジェンのアニオンであ
る。
に置換されていないシクロペンタジェンのアニオンであ
る。
好ましいのは、aは1であり、R′はベンゼン、トルエ
ン、キシレン、メトキンベンゼン、クロルベンゼン、p
−クロルトルエン、ナフタリン、メチルナフタリン、ク
ロルナフタリン、メトキシナフタリン、ビフェニル、イ
ンデン、ピレン、ペリレンまたはジフェニレンスルフィ
ドであす、R2ハシクロペンタジェン′、アセチルシク
ロペンタジエ7.1−f−ルンクロペンタジェン、フェ
ニルン、クロペンタジェジまたはインデンである。
ン、キシレン、メトキンベンゼン、クロルベンゼン、p
−クロルトルエン、ナフタリン、メチルナフタリン、ク
ロルナフタリン、メトキシナフタリン、ビフェニル、イ
ンデン、ピレン、ペリレンまたはジフェニレンスルフィ
ドであす、R2ハシクロペンタジェン′、アセチルシク
ロペンタジエ7.1−f−ルンクロペンタジェン、フェ
ニルン、クロペンタジェジまたはインデンである。
特に好ましいのは、aが1であり Blが16−ピレン
または16−ナフタリンであり、R2が一一シクロペン
タジェンのアニオンである式Iの錯体であるO 適当な金属または非金属pの例は、sb%Fe 。
または16−ナフタリンであり、R2が一一シクロペン
タジェンのアニオンである式Iの錯体であるO 適当な金属または非金属pの例は、sb%Fe 。
an1’Bi 1At、 Ga、 In%Ti %Z
r、 Sc%v1Cr%Mnおよび0unce、Pr、
およびNdのようなランタニドまたはTh、Pa、υま
たはNp のようなアクチニドである。適当な非金属
は特にBlPおよびAs である。Lは2%As、B
、7たはsbが好ましいが、特に好ましいのはPである
。ハロゲン原子QとしてはCt およ、び特ζこFが好
ましい。
r、 Sc%v1Cr%Mnおよび0unce、Pr、
およびNdのようなランタニドまたはTh、Pa、υま
たはNp のようなアクチニドである。適当な非金属
は特にBlPおよびAs である。Lは2%As、B
、7たはsbが好ましいが、特に好ましいのはPである
。ハロゲン原子QとしてはCt およ、び特ζこFが好
ましい。
錯体アニオン[LQm )−Q は例えばBF;−、
PF;、Aa F 6−18 b Fa−1FeCL4
−18nCt6 %5bCA6およびB i C1Bで
ある。特fこ好ましい錯体アニオンは5bF6−1BF
、−1AsF6−およびPF6−である。
PF;、Aa F 6−18 b Fa−1FeCL4
−18nCt6 %5bCA6およびB i C1Bで
ある。特fこ好ましい錯体アニオンは5bF6−1BF
、−1AsF6−およびPF6−である。
式■の化合物は公知であるかまたは類似の方法によって
製造することができる。
製造することができる。
酸化剤としての電子受容体には有機ハイドロパーオキサ
イド、有機過酸またはキノンが好ましいものとして挙げ
られる。
イド、有機過酸またはキノンが好ましいものとして挙げ
られる。
例は、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイ
ドロパーオキサイド、トリフェニレン・チルハイドロパ
ーオキサイド、テトラリンハイドロパーオキサイド、α
−メチルテトラリンハイドロパーオキサイド、デカリン
ハイドロパーオキサイド、過安息香酸、m−クロル過安
息香酸またはベンゾキノンである。
ドロパーオキサイド、トリフェニレン・チルハイドロパ
ーオキサイド、テトラリンハイドロパーオキサイド、α
−メチルテトラリンハイドロパーオキサイド、デカリン
ハイドロパーオキサイド、過安息香酸、m−クロル過安
息香酸またはベンゾキノンである。
本発明による硬化性組成物に対して適したカチオン重合
性有機物質は、例えば下記のようなものが挙げられ、こ
れらは単独でも、また少なくとも2成分の混合物として
も用いられる。
性有機物質は、例えば下記のようなものが挙げられ、こ
れらは単独でも、また少なくとも2成分の混合物として
も用いられる。
■、 カチオン機構(こよって重合しうるエチレン性不
飽和化合物。これ(こは下記の1〜3のものがある。
飽和化合物。これ(こは下記の1〜3のものがある。
1、 七ノーおよびジオレフィン、例えばイソフチジン
、フタジエン、イソプレン、スチレン、α−メチルスチ
レン、ジビニルベンゼン、N−ビニルピロリドン、N−
ビニルカルバゾールおよびアクロレイン。
、フタジエン、イソプレン、スチレン、α−メチルスチ
レン、ジビニルベンゼン、N−ビニルピロリドン、N−
ビニルカルバゾールおよびアクロレイン。
2、 ビニルエーテル、例エバメチルビニルエーテル、
イソブチルビニルエーテル、トリメチロールプロパンl
−IJビニルエーテル、エチレンクリコールジビニルエ
ーテル;環状ビニルエーテル、例えば3,4−ジヒドI
コー2−ホルミルー2H−ピラン (アクロレインニ量
体)および2−ヒドロキソメチル−3,4−ジヒドロ−
2H−ピランの3,4−ジヒドロ−2H−ヒ−y y−
2−カルボン酸ニスデル。
イソブチルビニルエーテル、トリメチロールプロパンl
−IJビニルエーテル、エチレンクリコールジビニルエ
ーテル;環状ビニルエーテル、例えば3,4−ジヒドI
コー2−ホルミルー2H−ピラン (アクロレインニ量
体)および2−ヒドロキソメチル−3,4−ジヒドロ−
2H−ピランの3,4−ジヒドロ−2H−ヒ−y y−
2−カルボン酸ニスデル。
3、 ビニルエステル、例えばビニルアセテートおよび
ビニルステアレート。
ビニルステアレート。
■、カチオン重合性へテロ頃状化合物、例えばエチレン
オキサイド、プロピレンオキザイド、エピクロルヒドリ
ン、1価アルコールまたはフェノールのクリソジルエー
テル例えはn・−ブチルグリンジルエーテル、n−オク
チルグリンジルエーテル、フェニルクリンジルエーテル
オヨびクレジルグリソジルエーデル;クリソジルアクリ
レート、クリソジルメタクリレート、スチレンオギザイ
ドおよびンクロヘキセンオキサイド;オキセクン例えば
3,3−ジメチルオキセタンおよび3,3−ジー (ク
ロルメチル)−オギセタン;テトラヒドロフラン;ジオ
キソラン、トリオキサンおよび1,3.6−1−リオキ
サシクロオクタン;β−プロピオラクトン、γ−バレロ
ラクトンおよびε−カプロラクトンのようなラクトン;
エチレンスルフィドおよびプロピレンスルフィドのよう
なチイラン;N−アンルアゼチジン例えばN−ベンゾイ
ルアゼチジンのようなアセチジンおよびアセチジンとジ
イソノアネート例えばトルイレン−2,4−および−2
゜6−ジイツシアナートおよび4,4′−ジアミノジフ
ェニルメタンジイソンアナートとのアダクト;側鎖中に
グリシジル基を有する線状および分岐状ポリマー、例え
ばポリアクリレートおよびポリメタクリレ−ドーグリソ
ジルエステルのホモポリマーおよびコポリマー。
オキサイド、プロピレンオキザイド、エピクロルヒドリ
ン、1価アルコールまたはフェノールのクリソジルエー
テル例えはn・−ブチルグリンジルエーテル、n−オク
チルグリンジルエーテル、フェニルクリンジルエーテル
オヨびクレジルグリソジルエーデル;クリソジルアクリ
レート、クリソジルメタクリレート、スチレンオギザイ
ドおよびンクロヘキセンオキサイド;オキセクン例えば
3,3−ジメチルオキセタンおよび3,3−ジー (ク
ロルメチル)−オギセタン;テトラヒドロフラン;ジオ
キソラン、トリオキサンおよび1,3.6−1−リオキ
サシクロオクタン;β−プロピオラクトン、γ−バレロ
ラクトンおよびε−カプロラクトンのようなラクトン;
エチレンスルフィドおよびプロピレンスルフィドのよう
なチイラン;N−アンルアゼチジン例えばN−ベンゾイ
ルアゼチジンのようなアセチジンおよびアセチジンとジ
イソノアネート例えばトルイレン−2,4−および−2
゜6−ジイツシアナートおよび4,4′−ジアミノジフ
ェニルメタンジイソンアナートとのアダクト;側鎖中に
グリシジル基を有する線状および分岐状ポリマー、例え
ばポリアクリレートおよびポリメタクリレ−ドーグリソ
ジルエステルのホモポリマーおよびコポリマー。
前記した重合性化合物の中で特に重要なものはエポキシ
樹脂および特にジーおよびポリエポキシドおよび架橋し
たエポキシ樹脂の製造に使用されるエポキシ樹脂プレポ
リマーである。ジーおよびポリエポキシドは脂肪族、脂
環族または芳香族化合物のいずれでもよい。そのような
化合物の例は、脂肪族もしくは脂環族ジオールまたはポ
リオールのグリ/ジルエーテルおよびβ−メチルグリソ
ジルエーテル、例えばエチレングリコール、プロパン−
1,2−ジオール、プロパン−1,3−ジオール、ブタ
ン−1,4−ジオール、ジエチレングリコール、ポリエ
チレンクリコール、ポリフロピレンゲリコール、グリセ
リン、トリメチロールプロパンまたは1゜4−ジメチロ
ールソクロヘキサンまたは2,2−ビス−(4−ヒドロ
キシンクロヘキソル)−プロパンおよびN、N−ビス−
(2−ヒドロキンエチル)−アニリンのクリソジルエー
テルおよびβ−メチルクリソンルエーテル;ジーおよび
ポリフェノール例えばレゾル7ン、4.4’−ジヒドロ
キソジフェニルメタン、4 、4’−ジヒドロキソジフ
ェニル−2、2−フロパン、ノボラックおよび1 、
]、 、 2 、2−テI・ラキスー(4−ヒドロキン
フェニル)−エタンのクリソジルエーテルである。その
他の例はN−グリシジル化合物、例えはエチレン尿素、
l、3−プロピレン尿素または5−ジメチルオタントイ
ンまたは4,4′−メチレン−5,5′−テトラメチル
ジヒダントインのジグリソジル化合物、またはトリグリ
ンジルインシアヌレートのような化合物である。
樹脂および特にジーおよびポリエポキシドおよび架橋し
たエポキシ樹脂の製造に使用されるエポキシ樹脂プレポ
リマーである。ジーおよびポリエポキシドは脂肪族、脂
環族または芳香族化合物のいずれでもよい。そのような
化合物の例は、脂肪族もしくは脂環族ジオールまたはポ
リオールのグリ/ジルエーテルおよびβ−メチルグリソ
ジルエーテル、例えばエチレングリコール、プロパン−
1,2−ジオール、プロパン−1,3−ジオール、ブタ
ン−1,4−ジオール、ジエチレングリコール、ポリエ
チレンクリコール、ポリフロピレンゲリコール、グリセ
リン、トリメチロールプロパンまたは1゜4−ジメチロ
ールソクロヘキサンまたは2,2−ビス−(4−ヒドロ
キシンクロヘキソル)−プロパンおよびN、N−ビス−
(2−ヒドロキンエチル)−アニリンのクリソジルエー
テルおよびβ−メチルクリソンルエーテル;ジーおよび
ポリフェノール例えばレゾル7ン、4.4’−ジヒドロ
キソジフェニルメタン、4 、4’−ジヒドロキソジフ
ェニル−2、2−フロパン、ノボラックおよび1 、
]、 、 2 、2−テI・ラキスー(4−ヒドロキン
フェニル)−エタンのクリソジルエーテルである。その
他の例はN−グリシジル化合物、例えはエチレン尿素、
l、3−プロピレン尿素または5−ジメチルオタントイ
ンまたは4,4′−メチレン−5,5′−テトラメチル
ジヒダントインのジグリソジル化合物、またはトリグリ
ンジルインシアヌレートのような化合物である。
工業的な意義を有する他のグリシジル化合物はカルボン
酸、特にジーおよびポリカルボン酸のグリシジルエステ
ルである。その例はコノ1り酸、アジピン酸、アゼライ
ン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、テトラ−
およびヘキサヒドロフタル酸、イソフタル酸またはトリ
メリット酸、または二量比した脂肪酸のグリシジルエス
テルである。
酸、特にジーおよびポリカルボン酸のグリシジルエステ
ルである。その例はコノ1り酸、アジピン酸、アゼライ
ン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、テトラ−
およびヘキサヒドロフタル酸、イソフタル酸またはトリ
メリット酸、または二量比した脂肪酸のグリシジルエス
テルである。
グリシジル化合物とは異なるポリエポキンドの例は、ビ
ニルソクロヘキセンおよびシンクロペンタジェンのジエ
ポキンド、3− (3’、 4’−エポキシンクロヘ
キシル)−8,9−エポキシ−2,4−ジオキサスピロ
〔5,51ウンデカン、3.4−エポキンンクロヘキサ
ンカルボン酸の3’、4’−エポキシンクロヘキンルメ
チルエステル、ブタジエンジエポキンドまたはイソプレ
ンジエポキソド、エポキシfヒしたリノール酸誘導体ま
たはエポキシ化したポリブタジェンである。
ニルソクロヘキセンおよびシンクロペンタジェンのジエ
ポキンド、3− (3’、 4’−エポキシンクロヘ
キシル)−8,9−エポキシ−2,4−ジオキサスピロ
〔5,51ウンデカン、3.4−エポキンンクロヘキサ
ンカルボン酸の3’、4’−エポキシンクロヘキンルメ
チルエステル、ブタジエンジエポキンドまたはイソプレ
ンジエポキソド、エポキシfヒしたリノール酸誘導体ま
たはエポキシ化したポリブタジェンである。
好ましいエポキン樹脂は予め延長してあってもよい2価
のフェノールまたは2価の炭素原子数2〜4の脂肪族ア
ルコールのジグリソジルエーテルであり、特に好ましい
のは予め延長してあってもよい2,2−ビス−(4−ヒ
ドロキソフェニル)−プロパンおよ−びビス−(4−ヒ
ドロキンフェニル)−メタンのジグリシジルエーテルで
ある。
のフェノールまたは2価の炭素原子数2〜4の脂肪族ア
ルコールのジグリソジルエーテルであり、特に好ましい
のは予め延長してあってもよい2,2−ビス−(4−ヒ
ドロキソフェニル)−プロパンおよ−びビス−(4−ヒ
ドロキンフェニル)−メタンのジグリシジルエーテルで
ある。
カチオン重合性化合物としては、更(こ以下のものが挙
げられる: ■、メチロール化合物; 1、 アミドまたはアミド状化合物、例えば環状尿素〔
エチレン尿素(イミダシリン−2−オン)、ヒダントイ
ン、ウロン (テトラヒドロ−オキジアジン−4−オン
)、1.2−プロピレン尿素(4−メチルイばダシリジ
ン−2−オン)、1゜3−プロピレン尿素(ヘキサヒド
ロ−2H−ピリミド−2−オン)、ヒドロキシプロピレ
ン尿素(5−ヒト9キン−へキサヒドロ−2H−ピリミ
ド−2−オン)、1,3.5−メラミン〕およびアセト
グアナミン、ペンジグアナ場ン、アセトグアナミン等の
ポリトリアジンのN−ヒドロキシメチル−1N−メトキ
シメチル−1N−n−ブトキシ−メチル−およびN−ア
セトキンメチル誘導体のようなアミノプラスト。
げられる: ■、メチロール化合物; 1、 アミドまたはアミド状化合物、例えば環状尿素〔
エチレン尿素(イミダシリン−2−オン)、ヒダントイ
ン、ウロン (テトラヒドロ−オキジアジン−4−オン
)、1.2−プロピレン尿素(4−メチルイばダシリジ
ン−2−オン)、1゜3−プロピレン尿素(ヘキサヒド
ロ−2H−ピリミド−2−オン)、ヒドロキシプロピレ
ン尿素(5−ヒト9キン−へキサヒドロ−2H−ピリミ
ド−2−オン)、1,3.5−メラミン〕およびアセト
グアナミン、ペンジグアナ場ン、アセトグアナミン等の
ポリトリアジンのN−ヒドロキシメチル−1N−メトキ
シメチル−1N−n−ブトキシ−メチル−およびN−ア
セトキンメチル誘導体のようなアミノプラスト。
所望の場合には、N−ヒドロキンメチルおよびN−アル
コキシメチル−またはN−ヒドロキンメチルおよびN−
アセトキンメチル基を有するアミノプラスト (例えば
、ヒドロキソル基1〜3個がメチル基でエーテル化され
ているヘキサメチロールメラミン)を使用することがで
きるO アミノプラストとしては、尿素、ウロン、ヒダントイン
またはメラミンとホルムアルデヒドとの縮合生成物およ
びそのような縮合生成物の炭素原子数1〜4の1価脂肪
族アルコールによる部分エーテル化または完全エーテル
化生成物が好ましい0 2、フェノールプラスト 好ましいフェノールプラストはフェノール類とアルデヒ
ドとから製造されるレゾールである。適当ナラエノール
類には、フェノール自体、レゾルシン、2,2−ビス−
(p−ヒドロキンフェニル)−プロパン、p−クロルフ
ェノール、それぞれの炭素原子数が1〜9のアルキル基
1個才たは2個によって置換されているフエ、ノール例
えば0−lm−およびp−クレゾール、キシレノール類
、p−t−ブチルフェノールおよびp−ノニルフェノー
ル並びにフェニル置換フェノール特にp−フェニルフェ
ノールがある。フェノールと縮合させるアルデヒドはホ
ルムアルデヒドが好ましいが、アセトアルテヒドおよび
フルフラールのような他のアルデヒドも挙げられる。所
望の場合にはこのような硬化性フェノール/アルデヒド
樹脂の混合物を使用することができる。
コキシメチル−またはN−ヒドロキンメチルおよびN−
アセトキンメチル基を有するアミノプラスト (例えば
、ヒドロキソル基1〜3個がメチル基でエーテル化され
ているヘキサメチロールメラミン)を使用することがで
きるO アミノプラストとしては、尿素、ウロン、ヒダントイン
またはメラミンとホルムアルデヒドとの縮合生成物およ
びそのような縮合生成物の炭素原子数1〜4の1価脂肪
族アルコールによる部分エーテル化または完全エーテル
化生成物が好ましい0 2、フェノールプラスト 好ましいフェノールプラストはフェノール類とアルデヒ
ドとから製造されるレゾールである。適当ナラエノール
類には、フェノール自体、レゾルシン、2,2−ビス−
(p−ヒドロキンフェニル)−プロパン、p−クロルフ
ェノール、それぞれの炭素原子数が1〜9のアルキル基
1個才たは2個によって置換されているフエ、ノール例
えば0−lm−およびp−クレゾール、キシレノール類
、p−t−ブチルフェノールおよびp−ノニルフェノー
ル並びにフェニル置換フェノール特にp−フェニルフェ
ノールがある。フェノールと縮合させるアルデヒドはホ
ルムアルデヒドが好ましいが、アセトアルテヒドおよび
フルフラールのような他のアルデヒドも挙げられる。所
望の場合にはこのような硬化性フェノール/アルデヒド
樹脂の混合物を使用することができる。
好ましいレゾールはフェノール、p−クロルフェノール
、レゾルシンまたは0−lm−またはp−クレゾールと
ホルムアルデヒドとの縮合生成物である。
、レゾルシンまたは0−lm−またはp−クレゾールと
ホルムアルデヒドとの縮合生成物である。
適当なラジカル重合性有機物質は特にモノ−またはポリ
エチレン性不飽和化合物である。例はスチレン、ビニル
ピリジン、ビニルアセテート、ジビニルベンゼン、ビニ
ルエーテル、アクリルアミド、メタクリルアミド、ビス
アクリルアミド、ビスメタクリルアミド、不飽和ポリエ
ステル、特にマレイン酸をベースとするものである。好
ましい物質はアクリル酸および/またはメタクリル酸と
線状または分岐状アルコール、ポリオール乃至七ノーま
たはポリアミンとのエステルまたはアミドである。ポリ
オールおよびポリアミンについては部分エステルの形の
ものでもよい。
エチレン性不飽和化合物である。例はスチレン、ビニル
ピリジン、ビニルアセテート、ジビニルベンゼン、ビニ
ルエーテル、アクリルアミド、メタクリルアミド、ビス
アクリルアミド、ビスメタクリルアミド、不飽和ポリエ
ステル、特にマレイン酸をベースとするものである。好
ましい物質はアクリル酸および/またはメタクリル酸と
線状または分岐状アルコール、ポリオール乃至七ノーま
たはポリアミンとのエステルまたはアミドである。ポリ
オールおよびポリアミンについては部分エステルの形の
ものでもよい。
ポリアミンの例はエチレン、プロピレン−、ブチレン、
ヘキンジンージアミン、フェニレンシア□′ミン、ベン
ジレンジアミン、ナフチレンシアミン、ジエチレントリ
アミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノエチルエー
テルである。ポリオールの例は線状および分岐状のアル
キレンジオール(エチレン−、プロピレン、ブチレン−
、ペンチジンー、ヘキシレン−、オクチレンジオール等
)、ポリオキサアルキレンジオール(ジエチレン−およ
びトリエチレングリコールおよび分子量が200〜50
0のポリエチレングリコール等)、t、4’−ジヒドロ
キンシクロヘキサン、1,4−ジ(ヒドロキソメチル)
−シクロヘキサン、ジヒドロキシベンセン、ヒドロキソ
メチルフェノール、1.2゜3−トリヒドロキンプロパ
ン1.1 、2 、4.−1−リヒドロキンブタン、ト
リメチロールプロパンのようなトリオール、ペンタエリ
トリット、ジペンタエリトリットおよびヒドロキソル末
端基を有する低分子量ポリエステルである。
ヘキンジンージアミン、フェニレンシア□′ミン、ベン
ジレンジアミン、ナフチレンシアミン、ジエチレントリ
アミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノエチルエー
テルである。ポリオールの例は線状および分岐状のアル
キレンジオール(エチレン−、プロピレン、ブチレン−
、ペンチジンー、ヘキシレン−、オクチレンジオール等
)、ポリオキサアルキレンジオール(ジエチレン−およ
びトリエチレングリコールおよび分子量が200〜50
0のポリエチレングリコール等)、t、4’−ジヒドロ
キンシクロヘキサン、1,4−ジ(ヒドロキソメチル)
−シクロヘキサン、ジヒドロキシベンセン、ヒドロキソ
メチルフェノール、1.2゜3−トリヒドロキンプロパ
ン1.1 、2 、4.−1−リヒドロキンブタン、ト
リメチロールプロパンのようなトリオール、ペンタエリ
トリット、ジペンタエリトリットおよびヒドロキソル末
端基を有する低分子量ポリエステルである。
適当なアルコールおよびモノアミンは、例えばメタノー
ル、エタノール、グロパノール、ブタノール、ペンタノ
ール、ヘキサノール、ヘキサノール、オククノール、2
−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、フェノー
ル、グリンドール、メチルアミン、ジメチルアミン、エ
チルアミンである。
ル、エタノール、グロパノール、ブタノール、ペンタノ
ール、ヘキサノール、ヘキサノール、オククノール、2
−エチルヘキサノール、シクロヘキサノール、フェノー
ル、グリンドール、メチルアミン、ジメチルアミン、エ
チルアミンである。
アニオンおよびラジカル重合性有機物質は、例えば前記
のアニオン乃至ラジカル重合性物質の混合物である0エ
ポキン樹脂との混合物が好ましい。
のアニオン乃至ラジカル重合性物質の混合物である0エ
ポキン樹脂との混合物が好ましい。
またエポキシ樹脂とアクリル酸、メタクリル酸またはこ
れらの酸混合物との部分エステルも適当である。
れらの酸混合物との部分エステルも適当である。
鉄化合物b)および酸化剤C)は重合性有機物質に対し
て0.1〜15重量%、好ましくは0.5〜10重量%
の量で組成物中に含有せしめることができる。鉄化合物
b)と酸化剤C)との重量比はに10〜5:1、好まし
くは1:5〜1:1とすることができる。
て0.1〜15重量%、好ましくは0.5〜10重量%
の量で組成物中に含有せしめることができる。鉄化合物
b)と酸化剤C)との重量比はに10〜5:1、好まし
くは1:5〜1:1とすることができる。
本発明による組成物は、例えば均一液体混合物として、
または均一もしくは不均一ガラス状の形として得られる
。均一ガラス状の生成物は公知の方法で、例えば所望に
より暗所または赤色光下で適当な溶剤を加えて、固体重
合性有機物質を液状とし、ガラス転移温度以上の温度に
加熱し、成分b)およびC)を添加し、生成した混合物
を冷却することによって得ることができる。所望の場合
(こは、このようにして得られたガラス状生成物を次い
で粉末状にすることができる。不均一ガラス状生成物は
、例えば粉末状のガラス状重合性物質を成分b)および
C)と混合することにより得ることができる。
または均一もしくは不均一ガラス状の形として得られる
。均一ガラス状の生成物は公知の方法で、例えば所望に
より暗所または赤色光下で適当な溶剤を加えて、固体重
合性有機物質を液状とし、ガラス転移温度以上の温度に
加熱し、成分b)およびC)を添加し、生成した混合物
を冷却することによって得ることができる。所望の場合
(こは、このようにして得られたガラス状生成物を次い
で粉末状にすることができる。不均一ガラス状生成物は
、例えば粉末状のガラス状重合性物質を成分b)および
C)と混合することにより得ることができる。
本発明〔こよる組成物は比較的暗いところ、例えは赤色
光の下では室温で安定であり、旋って貯蔵安定性がある
。この組成物は直接加熱して硬化することかできるが、
その加勢温度は成分b)およびC)の融点または分解点
近くの温度が好都合である。
光の下では室温で安定であり、旋って貯蔵安定性がある
。この組成物は直接加熱して硬化することかできるが、
その加勢温度は成分b)およびC)の融点または分解点
近くの温度が好都合である。
本発明による組成物の重要な長所は、照射によって硬化
でき、その際通常は完全な硬化が発生した反応熱【こよ
って起こり、外部加熱が必要でないことである。しかし
、例えば反応時間を短縮したいときには露光後ζこ外部
から加熱するのが好都合なこともある。
でき、その際通常は完全な硬化が発生した反応熱【こよ
って起こり、外部加熱が必要でないことである。しかし
、例えば反応時間を短縮したいときには露光後ζこ外部
から加熱するのが好都合なこともある。
本発明の他の対象は、従ってラジカルもしくはカチオン
重合性有機物質、これらの物質の混合物またはラジカル
およびカチオン重合性物質を光開始剤の存在下で照射し
、かつ所望により加熱して重合する方法において、光開
始剤が a)式I C(R’)(R”Pel1)B )+a’(LQJ−’
(1)〔式中、aは1または2であり、qは1
,2または3であり、Lは2価乃至7価の金属または非
金属であり、Qはハロゲン原子であり、mはLとqとの
値の和に相当する整数であり B+はπ−アレンであす
、R2はπ−アレンのアニオンである。〕で示される少
なくとも1種類の鉄化合物およびb)少なくとも1種類
の酸化剤としての電子受容体の混合物であることを特徴
とし、かつ所望によりその後加熱して重合反応を完結せ
しめることを特徴とする重合方法である。
重合性有機物質、これらの物質の混合物またはラジカル
およびカチオン重合性物質を光開始剤の存在下で照射し
、かつ所望により加熱して重合する方法において、光開
始剤が a)式I C(R’)(R”Pel1)B )+a’(LQJ−’
(1)〔式中、aは1または2であり、qは1
,2または3であり、Lは2価乃至7価の金属または非
金属であり、Qはハロゲン原子であり、mはLとqとの
値の和に相当する整数であり B+はπ−アレンであす
、R2はπ−アレンのアニオンである。〕で示される少
なくとも1種類の鉄化合物およびb)少なくとも1種類
の酸化剤としての電子受容体の混合物であることを特徴
とし、かつ所望によりその後加熱して重合反応を完結せ
しめることを特徴とする重合方法である。
硬化性混合物の照射は電子線または化学変化を起こす光
、好ましくは波長が200〜600nmで強度が150
〜5000Wの光で行なうのが好都合である。光源とし
ては、例えばキセノンランプ、アルゴンランプ、タング
ステンランプ、炭素アーク光、ハロゲン化金属ランプお
よび金属アーク光(低圧、中圧および高圧水銀ランプ等
)が適当である。ハロゲン化金属ランプまたは高圧水銀
ランプにより照射を行うことが好、ましい。照射時間は
、例えば重合性有機物質、光源の種類および光源と照射
する物質との距離等の種々のファクターにより異なる。
、好ましくは波長が200〜600nmで強度が150
〜5000Wの光で行なうのが好都合である。光源とし
ては、例えばキセノンランプ、アルゴンランプ、タング
ステンランプ、炭素アーク光、ハロゲン化金属ランプお
よび金属アーク光(低圧、中圧および高圧水銀ランプ等
)が適当である。ハロゲン化金属ランプまたは高圧水銀
ランプにより照射を行うことが好、ましい。照射時間は
、例えば重合性有機物質、光源の種類および光源と照射
する物質との距離等の種々のファクターにより異なる。
照射時間は10〜60秒が好ましい0照射した組成物の
加熱は一般的に慣用されている炉で行うことができる。
加熱は一般的に慣用されている炉で行うことができる。
短時間の加熱または反応時間が必要な場合には、加熱を
例えばIR−光線、IR−レーザーまたはマイクロ波装
置による照射によって行うことができる。重合温度は室
温から約80℃までの範囲である。
例えばIR−光線、IR−レーザーまたはマイクロ波装
置による照射によって行うことができる。重合温度は室
温から約80℃までの範囲である。
本発明による組成物は、また更に重合性物質の技術にお
いて公知の通常の添加剤を含有することができる。この
ような添加剤の例は、顔料、染料、充填剤および強化剤
、ガラス繊維その他の繊維、耐炎剤、帯電防止剤、融合
剤、酸化防止剤および耐光剤、並びに一般に用いられて
いる光開始剤、例エバアセトフェノン、アソルホスフイ
ノオキサイドまたは芳香族ケトンである。エポキシ樹脂
の最終的な特性を改善するために多官能性ヒドロキンル
化合物例えばドイツ公開公報2639395号に記載さ
れているようなものを使用することができる。
いて公知の通常の添加剤を含有することができる。この
ような添加剤の例は、顔料、染料、充填剤および強化剤
、ガラス繊維その他の繊維、耐炎剤、帯電防止剤、融合
剤、酸化防止剤および耐光剤、並びに一般に用いられて
いる光開始剤、例エバアセトフェノン、アソルホスフイ
ノオキサイドまたは芳香族ケトンである。エポキシ樹脂
の最終的な特性を改善するために多官能性ヒドロキンル
化合物例えばドイツ公開公報2639395号に記載さ
れているようなものを使用することができる。
暗所における貯蔵安定性を高めるために、ニトリルアミ
ド、ラクトンまたは尿素誘、導体のように弱い有機塩基
を硬化性組成物に含有せしめることができる。予期しな
い露光による反応を避けるために、少量のUV吸収剤お
よび/または有機染料を添加することができる。
ド、ラクトンまたは尿素誘、導体のように弱い有機塩基
を硬化性組成物に含有せしめることができる。予期しな
い露光による反応を避けるために、少量のUV吸収剤お
よび/または有機染料を添加することができる。
本発明による組成物は通常の方法に従って支持材料の少
なくとも表面上(こ塗布することができる。
なくとも表面上(こ塗布することができる。
コーティングされた材料もまた本発明の対象である。適
当な支持体は、例えば金属または半導体、例えばスチー
ル、アルミニウム、銅、カドミウム、亜鉛、ケイ素、並
びにセラミック、ガラス、プラスチック、紙および木材
である。コーティングされた材料は露光によって保護層
および不動態層を製造するために用いられるが、これら
の層もまた本発明の対象である。
当な支持体は、例えば金属または半導体、例えばスチー
ル、アルミニウム、銅、カドミウム、亜鉛、ケイ素、並
びにセラミック、ガラス、プラスチック、紙および木材
である。コーティングされた材料は露光によって保護層
および不動態層を製造するために用いられるが、これら
の層もまた本発明の対象である。
露光の際に、フォトマスクを介して層の一部のみを照射
すると、未露光部を次に適当な溶剤を用いて除去するこ
とができる。コーティングされた材料は従って印刷版の
製造、特に印刷回路の製造のための写真記録材料として
並びにはんだ付停止塗料として適している。写真記録材
料としての用途も本発明の対象である。
すると、未露光部を次に適当な溶剤を用いて除去するこ
とができる。コーティングされた材料は従って印刷版の
製造、特に印刷回路の製造のための写真記録材料として
並びにはんだ付停止塗料として適している。写真記録材
料としての用途も本発明の対象である。
本発明の組成物は、また接着剤として、または接合剤、
充填剤あるいは繊維を強化する結合剤および層状構成体
を製造するために使用することができる。
充填剤あるいは繊維を強化する結合剤および層状構成体
を製造するために使用することができる。
本発明による組成物は特に増感剤を使用しなくても高い
感光性を有し、従って短かい露光時間で硬化させること
ができる。露光時に同時にカチオンおよびアニオン性と
して作用する開始剤が得られることは重合性物質の応用
範囲を広げること番こなる。この際酸化剤がまず露光(
こよって作用し、照射によって硬化が可能となることは
驚くべきことである。一般に照射の作用による硬化が外
部からの加熱なしに起ることは非常に都合のよいことで
ある。
感光性を有し、従って短かい露光時間で硬化させること
ができる。露光時に同時にカチオンおよびアニオン性と
して作用する開始剤が得られることは重合性物質の応用
範囲を広げること番こなる。この際酸化剤がまず露光(
こよって作用し、照射によって硬化が可能となることは
驚くべきことである。一般に照射の作用による硬化が外
部からの加熱なしに起ることは非常に都合のよいことで
ある。
下記の実施例により更に詳しく本発明を説明する0
実施例1−11:
式■の化合物50μmol とエポキソ樹脂12あた
り酸化剤250μmol とを含有する溶液を2.5
■をアルミニウム製ポット中で0℃にて10100OW
H高圧ランプで照射する。ポットを閉じて微分−走査熱
量計(DSC−30、メトラー社製)に移し、20℃/
分の加熱速度で加熱する。測定項目は発熱反応の開始(
Tstart ) ;発生反応エンタルピー(ΔE)お
よび最大反応エンタルピーの温度(Tmax)である。
り酸化剤250μmol とを含有する溶液を2.5
■をアルミニウム製ポット中で0℃にて10100OW
H高圧ランプで照射する。ポットを閉じて微分−走査熱
量計(DSC−30、メトラー社製)に移し、20℃/
分の加熱速度で加熱する。測定項目は発熱反応の開始(
Tstart ) ;発生反応エンタルピー(ΔE)お
よび最大反応エンタルピーの温度(Tmax)である。
エボキン樹脂として下記の1)〜3)を使用する。
■)エホキン含量5.2当量/kfの工業用ビスフェノ
ール−A−ジクリソジルエーテル 2)次式 で示される工業用脂環族エボキソ 3)エポキン含量4.8当量/kLi のグリソジル
比クレゾールーノボラック 成分と結果を下記の表に総括する。重合が室温で開始し
、開始幅度より極く僅かしか高くない低温で完全Qこ進
行することがわかる。
ール−A−ジクリソジルエーテル 2)次式 で示される工業用脂環族エボキソ 3)エポキン含量4.8当量/kLi のグリソジル
比クレゾールーノボラック 成分と結果を下記の表に総括する。重合が室温で開始し
、開始幅度より極く僅かしか高くない低温で完全Qこ進
行することがわかる。
実施例12:
工業用ビスフェノール−A−ジグリシジルエーテル(エ
ポキシ含量:5.2当量/”q)2F、(16−ナフタ
リン)−(η5−ソクロペンタジエニル)−鉄(It)
−へキサフルオロホスフE −ト0.1m molおよ
びクメンハイドロパーオキサイド0.5mmolからな
る溶液を25μのドクターで銅−コーティングエポキシ
プレート上に塗布する。5000Wハロゲン化金属燈に
より30秒間露光した後、粘着性のないアセトンに耐性
のフィルムが得らイする〇実施例13: クメンハイドロパーオキサイドに代えてt−ブチルハイ
ドロパーオキサイドを用いて実施例12を繰返す。同じ
結果が得られる。
ポキシ含量:5.2当量/”q)2F、(16−ナフタ
リン)−(η5−ソクロペンタジエニル)−鉄(It)
−へキサフルオロホスフE −ト0.1m molおよ
びクメンハイドロパーオキサイド0.5mmolからな
る溶液を25μのドクターで銅−コーティングエポキシ
プレート上に塗布する。5000Wハロゲン化金属燈に
より30秒間露光した後、粘着性のないアセトンに耐性
のフィルムが得らイする〇実施例13: クメンハイドロパーオキサイドに代えてt−ブチルハイ
ドロパーオキサイドを用いて実施例12を繰返す。同じ
結果が得られる。
実施例14:
ポリエステルアクリレート48部、ブタンジオールジア
クリレート32部およびシンクロペンタジェニルオキシ
エチルアクリレート20部、(16−2−プロピルベン
ゼン)−(η5−シクロペンタジェニル)鉄(It)−
へキサフルオロホスフェート0.1mmolおよびt−
ブチルハイド、ロバ−オキサイド0.5 m molか
らなる溶液を50μドクターでガラスプレート上に塗布
する。100OWハロゲンランプで照射(30秒、約5
0crnの距離)した後、粘着性のないフィルムが得ら
れる。
クリレート32部およびシンクロペンタジェニルオキシ
エチルアクリレート20部、(16−2−プロピルベン
ゼン)−(η5−シクロペンタジェニル)鉄(It)−
へキサフルオロホスフェート0.1mmolおよびt−
ブチルハイド、ロバ−オキサイド0.5 m molか
らなる溶液を50μドクターでガラスプレート上に塗布
する。100OWハロゲンランプで照射(30秒、約5
0crnの距離)した後、粘着性のないフィルムが得ら
れる。
特許出願人
チバーガイギー アクチェンゲゼルンヤフト代理人
若 林 忠
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) a)ラジカルもしくはカチオン重合性物質、
これらの物質混合物またはラジカルおよびカチオン重合
性物質、 b)式I [(R’)(R,”Fe )B:l (LQml−
q(1)〔式中、aは1または2であり、qは1,2ま
たは3であり、Lは2価乃至7価の金属または非金属を
表わし、Qは/Sロゲン原子であり、mはLとqの値の
和Oこ相当する整数であり、R1はπ−−アレンであり
、R2はπ−アレンのアニオンを表わす。〕 で示される少なくとも1種類の鉄[ヒ合物、および C)少なくとも1種類の酸化剤としての電子受容体を含
有する硬化性組成物。 (2) TL’が炭素原子数6〜24の芳香族基また
は炭素原子数3〜20のへテロ芳香族基を表わし、これ
らの基は置換されていないかまたは同一あるいは異なる
ハロゲン原子、ci−s−アルキル、C,、−C8−ア
ルケニル、C2−C8−アルキニル、C1−8−アルコ
キシ、ンアノ、c、−8−アルキルチ:t、 C2−6
−モノ炭酸エステル、フェニル、C2−5−アルカノイ
ルまたはベンゾイル基1個または複数個によって置換さ
れている特許請求の範囲第1項に記載の組成物。 (3)R2が炭素原子数6〜24の芳香族π−アレンの
アニオンまたは炭素原子数3〜20のへテロ芳香族π−
アレンのアニオンを表わし、これらのアニオンは置換さ
れていないかまたは同一もしくは異なるC1−8−アル
キル、C2−C8−アルケニル、C2−08−アルキニ
ル、C2−6−モノ炭酸エステル、ソアノS C2−5
−アルカノイルまたはベンゾイル基1個または複数個に
よって置換されている特許請求の範囲第1項に記載の組
成物。 (4)aが1であり、R1がベンゼン、トルエン、キシ
レン、メトキンベンゼン、クロロベンゼン、p−クロロ
トルエン、クメン、ナフタリン、メチルナフタリン、ク
ロロナフタリン、メトキンナフタリン、ビフェニル、イ
ンデン、ピレン、ペリレンまたはジフェニレンであり、
fL2がンクロペンタジエン、アセチルンクロペンタジ
エン、メチルンクロペンタジエン、フェニルンクロペン
タジエンまたはインデンのアニオンである特許請求の範
囲第1項に記載の組成物。 (5)aが1であり、R1がη6−ピレンまたはη6−
ナフタリンであり B2がη5−ンクロペンタジエンの
アニオンである特許請求の範囲第1項に記載の組成物。 (6) CLQm ]−]qSbF6−1BF’、−
==As F 6−またはPF6−である特許請求の範
囲第1項に記載の組成物。 (7)酸化剤が有機ハイドロパーオキサイド、有機過酸
またはキノンである特許請求の範囲第1項に記載の組成
物。 (8)酸化剤がt−ブチルハイドロパーオキサイド、ク
メンハイドロパーオキサイド、トリフェニルメチルハイ
ドロパーオキサイド、テトラリンハイドロパーオキサイ
ド、α−メチルテトラリンハイドロパーオキサイド、デ
カリンハイドロパーオキサイド、過安息香酸、m−クロ
ル過安息香酸またはベンゾキノンである特許請求の範囲
第7項に記載の組成物。 (9) カチオン重合性有機物質がエポキシ樹脂であ
る特許請求の範囲第1項に記載の組成物。 (10) ラジカル重合性物質がモノエチレン性また
はポリエチレン性不飽和化合物である特許請求の範囲第
1項に記載の組成物。 αυ アニオンおよびラジカル重合性物質が、エポキシ
樹脂と七ノーもしくはポリエチレン性不飽和化合物との
混合物またはエポキシ樹脂とアクリル酸、メタクリル酸
もしくはこれらの酸混合物との部分エステルである特許
請求の範囲第1項(こ記載の組成物。 αり 鉄化合物b)及び酸化剤C)が重合性有機物質(
こ対して0.1〜15重量%の量で含有されている特許
請求の範囲第1項に記載の組成物。 03 鉄化合物b)と酸化剤C)との比が1:10〜
5:1である特許請求の範囲第12項をこ記載の組成物
。 α4 ラジカルもしくはカチオン重合性物質、これらの
物質の混合物またはラジカルおよびカチオン重合性物質
を光開始剤の存在下で光を照射しかつ所望により加熱し
て重合する方法(こおいて光開始剤がa)式I 〔(R?) (R2Fe”)a)+a!−(LQm)−
9(I )〔式中、aは1または2であり、qは1,2
または3であり、Itは2価乃至7価の金属または非金
属を表わし、Qはハロゲン原子であり、mはLとqの値
の和に和尚する整数であり B+はπ−アレンであり、
R2はπ−アレンのアニオンである。〕で示される少な
くとも1種類の鉄化合物およびb)酸化剤としての少な
くとも1種類の電子受容体の混合物であることを特徴と
し、かつ所望によってその後熱を加えて重合反応を完結
せしめることを特徴とする重合方法0a■ 支持体上に
特許請求の範囲第1項に記載の組成物の層を設けてなる
ことを特徴とするコーティング材料。 (16) 保護層の製造のためのおよび写真記録材料
としての特許請求の範囲第15項に記載のコーティング
材料〇 、(17> 特許請求の範囲第15項に記載の材料を
、所望Gこより加熱して光マスクを介して照射し、次い
で未露光部分を現像剤で除去゛することを特徴とする写
真レリーフ像の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH269183 | 1983-05-18 | ||
CH2691/83-1 | 1983-05-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59219307A true JPS59219307A (ja) | 1984-12-10 |
JPH0639483B2 JPH0639483B2 (ja) | 1994-05-25 |
Family
ID=4239405
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59098905A Expired - Lifetime JPH0639483B2 (ja) | 1983-05-18 | 1984-05-18 | 硬化性組成物 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5073476A (ja) |
EP (1) | EP0126712B1 (ja) |
JP (1) | JPH0639483B2 (ja) |
KR (1) | KR920005529B1 (ja) |
AT (1) | ATE24243T1 (ja) |
AU (1) | AU573219B2 (ja) |
BR (1) | BR8402336A (ja) |
CA (1) | CA1269791A (ja) |
DE (1) | DE3461677D1 (ja) |
ES (1) | ES532965A0 (ja) |
ZA (1) | ZA843733B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1586460A1 (en) | 2004-04-12 | 2005-10-19 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc. | Planographic printing plate material and preparing process of planographic printing plate |
Families Citing this family (238)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0094915B1 (de) * | 1982-05-19 | 1987-01-21 | Ciba-Geigy Ag | Härtbare, Metallocenkomplexe enthaltende Zusammensetzungen, daraus erhältliche aktivierte Vorstufen und deren Verwendung |
EP0152377B1 (de) * | 1984-02-10 | 1987-12-09 | Ciba-Geigy Ag | Härtbare Zusammensetzung und deren Verwendung |
US4786569A (en) * | 1985-09-04 | 1988-11-22 | Ciba-Geigy Corporation | Adhesively bonded photostructurable polyimide film |
WO1988002879A1 (en) * | 1986-10-14 | 1988-04-21 | Loctite Corporation | VISIBLE LIGHT CURABLE FREE RADICAL COMPOSITIONS CONTAINING pi-ARENE METAL COMPLEXES |
DE3879278D1 (ja) * | 1987-06-05 | 1993-04-22 | Ciba-Geigy Ag, Basel, Ch | |
US4950696A (en) * | 1987-08-28 | 1990-08-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy-induced dual curable compositions |
US5147900A (en) * | 1987-08-28 | 1992-09-15 | Minnesosta Mining And Manufacturing Company | Energy-induced dual curable compositions |
DE3880642T2 (de) * | 1987-12-08 | 1993-11-18 | Mitsui Petrochemical Ind | Zusammensetzung , mit aktiven Strahlen härtbar, und Medium für die optische Registrierung mit dieser gehärteten Zusammensetzung. |
US4920182A (en) * | 1987-12-18 | 1990-04-24 | Ciba-Geigy Corporation | Epoxy resin compositions containing polyester flexibilizer and metallocene complex initiator |
US4985340A (en) * | 1988-06-01 | 1991-01-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy curable compositions: two component curing agents |
CA1340758C (en) * | 1988-06-01 | 1999-09-21 | Robert J. Devoe | Energy curable compositions: single component curing agents |
DE3832032A1 (de) * | 1988-09-21 | 1990-03-22 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
US4954414A (en) * | 1988-11-08 | 1990-09-04 | The Mead Corporation | Photosensitive composition containing a transition metal coordination complex cation and a borate anion and photosensitive materials employing the same |
DE69029104T2 (de) | 1989-07-12 | 1997-03-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | Polysiloxane und positiv arbeitende Resistmasse |
JP2775880B2 (ja) * | 1989-08-21 | 1998-07-16 | ブラザー工業株式会社 | 転写記録媒体 |
CA2048232A1 (en) * | 1990-09-05 | 1992-03-06 | Jerry W. Williams | Energy curable pressure-sensitive compositions |
US5212210A (en) * | 1992-03-18 | 1993-05-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy curable compositions having improved cure speeds |
US5667893A (en) * | 1992-10-09 | 1997-09-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Substrate coated or impregnated with flexible epoxy composition |
US5385955A (en) * | 1992-11-05 | 1995-01-31 | Essilor Of America, Inc. | Organosilane coating composition for ophthalmic lens |
FR2702485B1 (fr) * | 1993-03-10 | 1995-04-14 | Rhone Poulenc Chimie | Compositions à base de polyorganosiloxanes réticulables par voie cationique et leur utilisation dans le domaine de l'antiadhérence papier, de la protection des fibres optiques et des circuits imprimés. |
US5494943A (en) * | 1993-06-16 | 1996-02-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Stabilized cationically-curable compositions |
US5744557A (en) * | 1993-06-16 | 1998-04-28 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy-curable cyanate/ethylenically unsaturated compositions |
US5514728A (en) * | 1993-07-23 | 1996-05-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Catalysts and initiators for polymerization |
ES2147777T3 (es) * | 1993-09-16 | 2000-10-01 | Ciba Sc Holding Ag | Compuestos vinileter con grupos funcionales adicionales, distintos de vinileter, y su utilizacion en la formulacion de compuestos reticulables. |
US5670590A (en) * | 1994-05-06 | 1997-09-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy polymerizable compositions, homopolymers and copolymers of oxazolines |
TW418215B (en) | 1995-03-13 | 2001-01-11 | Ciba Sc Holding Ag | A process for the production of three-dimensional articles in a stereolithography bath comprising the step of sequentially irradiating a plurality of layers of a liquid radiation-curable composition |
JPH0954437A (ja) | 1995-06-05 | 1997-02-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 化学増幅型ポジレジスト組成物 |
DE59802875D1 (de) * | 1997-06-30 | 2002-03-14 | Siemens Ag | Initiatoren für die kationische Polymerisation |
ATE212734T1 (de) * | 1997-06-30 | 2002-02-15 | Siemens Ag | Reaktionsharzmischungen und deren verwendung |
KR20010021846A (ko) | 1997-07-21 | 2001-03-15 | 베르너 훽스트, 지크프리트 포트호프 | 방사선 경화성 충전 조성물의 점도 안정화 |
US6482868B1 (en) | 1998-12-31 | 2002-11-19 | 3M Innovative Properties Company | Accelerators useful for energy polymerizable compositions |
US6133335A (en) | 1998-12-31 | 2000-10-17 | 3M Innovative Properties Company | Photo-polymerizable compositions and articles made therefrom |
US6265459B1 (en) | 1998-12-31 | 2001-07-24 | 3M Innovative Properties Company | Accelerators useful for energy polymerizable compositions |
EP1075030B1 (de) * | 1999-08-04 | 2005-04-06 | Siemens Aktiengesellschaft | Isolierter bandförmiger Supraleiter mit oxidischem Hoch-Tc-Supraleitermaterial sowie Verfahren zur Isolation des Supraleiters |
EP1227781B9 (en) | 1999-10-28 | 2006-03-08 | 3M Innovative Properties Company | Dental materials with nano-sized silica particles |
US6387981B1 (en) | 1999-10-28 | 2002-05-14 | 3M Innovative Properties Company | Radiopaque dental materials with nano-sized particles |
US6376590B2 (en) | 1999-10-28 | 2002-04-23 | 3M Innovative Properties Company | Zirconia sol, process of making and composite material |
US6572693B1 (en) | 1999-10-28 | 2003-06-03 | 3M Innovative Properties Company | Aesthetic dental materials |
US6730156B1 (en) | 1999-10-28 | 2004-05-04 | 3M Innovative Properties Company | Clustered particle dental fillers |
US6635689B1 (en) | 2000-06-26 | 2003-10-21 | 3M Innovative Properties Company | Accelerators for cationic polymerization catalyzed by iron-based catalysts |
US7192681B2 (en) | 2001-07-05 | 2007-03-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive photosensitive composition |
JP4748938B2 (ja) | 2002-01-31 | 2011-08-17 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 歯科ペースト、歯科物品、および方法 |
US7521168B2 (en) | 2002-02-13 | 2009-04-21 | Fujifilm Corporation | Resist composition for electron beam, EUV or X-ray |
US7449146B2 (en) * | 2002-09-30 | 2008-11-11 | 3M Innovative Properties Company | Colorimetric sensor |
US20040062682A1 (en) * | 2002-09-30 | 2004-04-01 | Rakow Neal Anthony | Colorimetric sensor |
US6841333B2 (en) * | 2002-11-01 | 2005-01-11 | 3M Innovative Properties Company | Ionic photoacid generators with segmented hydrocarbon-fluorocarbon sulfonate anions |
US7771915B2 (en) | 2003-06-27 | 2010-08-10 | Fujifilm Corporation | Two-photon absorbing optical recording material and two-photon absorbing optical recording and reproducing method |
JP4612999B2 (ja) | 2003-10-08 | 2011-01-12 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP4448705B2 (ja) | 2004-02-05 | 2010-04-14 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 |
JP2005309359A (ja) | 2004-03-25 | 2005-11-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ホログラム記録材料、ホログラム記録方法、光記録媒体、3次元ディスプレイホログラムおよびホログラフィック光学素子。 |
US7553670B2 (en) * | 2004-04-28 | 2009-06-30 | 3M Innovative Properties Company | Method for monitoring a polymerization in a three-dimensional sample |
JP4396443B2 (ja) | 2004-08-18 | 2010-01-13 | コニカミノルタエムジー株式会社 | 感光性平版印刷版の製造方法及び使用方法 |
JP4524154B2 (ja) | 2004-08-18 | 2010-08-11 | 富士フイルム株式会社 | 化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
US7504193B2 (en) | 2004-09-02 | 2009-03-17 | Fujifilm Corporation | Positive resist composition and pattern forming method using the same |
JP4469692B2 (ja) | 2004-09-14 | 2010-05-26 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 |
WO2006061981A1 (ja) | 2004-12-09 | 2006-06-15 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 光硬化性インクを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置、また、光硬化性インクを用いたインクセット、インクジェット記録方法及びインクジェット記録装置 |
TWI530759B (zh) | 2005-01-24 | 2016-04-21 | 富士軟片股份有限公司 | 適用於浸漬曝光之正型光阻組成物及使用它之圖案形成方法 |
JP4452632B2 (ja) | 2005-01-24 | 2010-04-21 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 |
JP4562537B2 (ja) | 2005-01-28 | 2010-10-13 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 |
JP4439409B2 (ja) | 2005-02-02 | 2010-03-24 | 富士フイルム株式会社 | レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
EP1698937B1 (en) | 2005-03-04 | 2015-12-23 | FUJIFILM Corporation | Positive resist composition and pattern-forming method using the same |
US20060204732A1 (en) | 2005-03-08 | 2006-09-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Ink composition, inkjet recording method, printed material, method of producing planographic printing plate, and planographic printing plate |
JP4579019B2 (ja) | 2005-03-17 | 2010-11-10 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 |
EP1720072B1 (en) | 2005-05-01 | 2019-06-05 | Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. | Compositons and processes for immersion lithography |
JP4724465B2 (ja) | 2005-05-23 | 2011-07-13 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 |
JP4861767B2 (ja) | 2005-07-26 | 2012-01-25 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 |
JP4580841B2 (ja) | 2005-08-16 | 2010-11-17 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP4695941B2 (ja) | 2005-08-19 | 2011-06-08 | 富士フイルム株式会社 | 液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
DE602006003029D1 (de) | 2005-08-23 | 2008-11-20 | Fujifilm Corp | Härtbare Tinte enthaltend modifiziertes Oxetan |
JP4757574B2 (ja) | 2005-09-07 | 2011-08-24 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版 |
TWI403843B (zh) | 2005-09-13 | 2013-08-01 | Fujifilm Corp | 正型光阻組成物及使用它之圖案形成方法 |
JPWO2007052470A1 (ja) | 2005-11-01 | 2009-04-30 | コニカミノルタエムジー株式会社 | 平版印刷版材料、平版印刷版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版の印刷方法 |
US7728050B2 (en) | 2005-11-04 | 2010-06-01 | Fujifilm Corporation | Curable composition, ink composition, inkjet recording method, printed matter, method for producing planographic printing plate, planographic printing plate and oxetane compound |
TWI443461B (zh) | 2005-12-09 | 2014-07-01 | Fujifilm Corp | 正型光阻組成物、用於正型光阻組成物之樹脂、用於合成該樹脂之化合物及使用該正型光阻組成物之圖案形成方法 |
ATE496766T1 (de) | 2006-03-03 | 2011-02-15 | Fujifilm Corp | Härtbare zusammensetzung, tintenzusammensetzung, tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und flachdruckplatte |
US7767143B2 (en) * | 2006-06-27 | 2010-08-03 | 3M Innovative Properties Company | Colorimetric sensors |
JP4911456B2 (ja) | 2006-11-21 | 2012-04-04 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に用いられる高分子化合物、該高分子化合物の製造方法及びポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 |
JP4554665B2 (ja) | 2006-12-25 | 2010-09-29 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ現像用リンス液 |
CN101610749B (zh) | 2006-12-28 | 2013-01-02 | 3M创新有限公司 | 牙科填料及方法 |
JP2008189776A (ja) | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Fujifilm Corp | 活性放射線硬化型重合性組成物、インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法、及び平版印刷版 |
EP2110253B1 (en) | 2007-02-09 | 2018-09-12 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Inkjet head, inkjet printer, and inkjet recording method |
JP4905786B2 (ja) | 2007-02-14 | 2012-03-28 | 富士フイルム株式会社 | レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
EP1962139A1 (en) | 2007-02-23 | 2008-08-27 | FUJIFILM Corporation | Negative resist composition and pattern forming method using the same |
JP2008208266A (ja) | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Fujifilm Corp | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、および平版印刷版 |
JP5162290B2 (ja) | 2007-03-23 | 2013-03-13 | 富士フイルム株式会社 | レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
US8088566B2 (en) | 2007-03-26 | 2012-01-03 | Fujifilm Corporation | Surface-treating agent for pattern formation and pattern-forming method using the surface-treating agent |
US7592118B2 (en) | 2007-03-27 | 2009-09-22 | Fujifilm Corporation | Positive resist composition and pattern forming method using the same |
US8182975B2 (en) | 2007-03-28 | 2012-05-22 | Fujifilm Corporation | Positive resist composition and pattern forming method using the same |
EP1975714A1 (en) | 2007-03-28 | 2008-10-01 | FUJIFILM Corporation | Positive resist composition and pattern forming method |
EP1975716B1 (en) | 2007-03-28 | 2013-05-15 | Fujifilm Corporation | Positive resist composition and pattern forming method |
US20080241745A1 (en) | 2007-03-29 | 2008-10-02 | Fujifilm Corporation | Negative resist composition and pattern forming method using the same |
JP5039622B2 (ja) | 2007-03-30 | 2012-10-03 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 |
JP5159141B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-03-06 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版 |
JP4982228B2 (ja) | 2007-03-30 | 2012-07-25 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 |
EP2138898B1 (en) | 2007-04-13 | 2014-05-21 | FUJIFILM Corporation | Method for pattern formation, and use of resist composition in said method |
EP1980911A3 (en) | 2007-04-13 | 2009-06-24 | FUJIFILM Corporation | Pattern forming method, resist composition to be used in the pattern forming method, negative developing solution to be used in the pattern forming method and rinsing solution for negative development to be used in the pattern forming method |
JP4617337B2 (ja) | 2007-06-12 | 2011-01-26 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法 |
JP2009020510A (ja) | 2007-06-15 | 2009-01-29 | Fujifilm Corp | パターン形成用表面処理剤、及び該処理剤を用いたパターン形成方法 |
JP2008311474A (ja) | 2007-06-15 | 2008-12-25 | Fujifilm Corp | パターン形成方法 |
JP2009009047A (ja) | 2007-06-29 | 2009-01-15 | Fujifilm Corp | パターン形成方法 |
US8088550B2 (en) | 2007-07-30 | 2012-01-03 | Fujifilm Corporation | Positive resist composition and pattern forming method |
JP5066405B2 (ja) | 2007-08-02 | 2012-11-07 | 富士フイルム株式会社 | 電子線、x線又はeuv用レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 |
JP5103316B2 (ja) | 2007-08-03 | 2012-12-19 | 富士フイルム株式会社 | 新規なスルホニウム化合物を含有するポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び新規なスルホニウム化合物 |
US7923196B2 (en) | 2007-08-10 | 2011-04-12 | Fujifilm Corporation | Positive resist composition and pattern forming method using the same |
JP5449675B2 (ja) | 2007-09-21 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物 |
JP5111039B2 (ja) | 2007-09-27 | 2012-12-26 | 富士フイルム株式会社 | 重合性化合物、重合開始剤、および染料を含有する光硬化性組成物 |
JP4911469B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-04-04 | 富士フイルム株式会社 | レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 |
US8240838B2 (en) | 2007-11-29 | 2012-08-14 | Fujifilm Corporation | Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed material |
JP5150296B2 (ja) | 2008-02-13 | 2013-02-20 | 富士フイルム株式会社 | 電子線、x線またはeuv用ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 |
US9046773B2 (en) | 2008-03-26 | 2015-06-02 | Fujifilm Corporation | Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method using the same, polymerizable compound and polymer compound obtained by polymerizing the polymerizable compound |
US8454152B2 (en) | 2008-06-23 | 2013-06-04 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Ink jet recording device and ink jet recording method |
JP5244711B2 (ja) | 2008-06-30 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP5997873B2 (ja) | 2008-06-30 | 2016-09-28 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP5746818B2 (ja) | 2008-07-09 | 2015-07-08 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP5383133B2 (ja) | 2008-09-19 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法 |
ATE541905T1 (de) | 2008-09-26 | 2012-02-15 | Fujifilm Corp | Tintenzusammensetzung und tintenaufzeichnungsverfahren |
JP5461809B2 (ja) | 2008-09-29 | 2014-04-02 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
US8888262B2 (en) | 2008-11-07 | 2014-11-18 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Actinic energy radiation curable inkjet ink and inkjet recording method |
JP2010115791A (ja) | 2008-11-11 | 2010-05-27 | Konica Minolta Ij Technologies Inc | 画像形成装置 |
EP2356517B1 (en) | 2008-12-12 | 2017-01-25 | FUJIFILM Corporation | Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the same |
JP2010235911A (ja) | 2009-03-11 | 2010-10-21 | Konica Minolta Ij Technologies Inc | 活性エネルギー線硬化型インクジェットインク、インクジェット記録方法及び印刷物 |
JP5964007B2 (ja) | 2009-04-02 | 2016-08-03 | コニカミノルタ株式会社 | 活性エネルギー線硬化型インクジェットインク、インクジェット記録方法及び印刷物 |
JP5783687B2 (ja) * | 2009-06-23 | 2015-09-24 | 住友化学株式会社 | 樹脂及びレジスト組成物 |
US8592129B2 (en) * | 2009-08-31 | 2013-11-26 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Resin, resist composition and method for producing resist pattern |
JP2011074365A (ja) * | 2009-09-02 | 2011-04-14 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
US9063414B2 (en) | 2010-07-28 | 2015-06-23 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Photoresist composition |
US9016846B2 (en) | 2010-08-19 | 2015-04-28 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Actinic energy radiation curable inkjet ink and actinic energy radiation curable inkjet recording method |
JP6195692B2 (ja) | 2010-08-30 | 2017-09-13 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法並びに新規化合物及び樹脂 |
JP2012087294A (ja) | 2010-09-21 | 2012-05-10 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターン製造方法 |
JP5824320B2 (ja) | 2010-10-26 | 2015-11-25 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5824321B2 (ja) | 2010-10-26 | 2015-11-25 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5879834B2 (ja) | 2010-11-15 | 2016-03-08 | 住友化学株式会社 | 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
WO2012077736A1 (ja) | 2010-12-10 | 2012-06-14 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | インクジェット記録装置 |
JP6088133B2 (ja) | 2010-12-15 | 2017-03-01 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5829940B2 (ja) | 2011-02-25 | 2015-12-09 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5898521B2 (ja) | 2011-02-25 | 2016-04-06 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5947051B2 (ja) | 2011-02-25 | 2016-07-06 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6034026B2 (ja) | 2011-02-25 | 2016-11-30 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5898520B2 (ja) | 2011-02-25 | 2016-04-06 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5829941B2 (ja) | 2011-02-25 | 2015-12-09 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5829939B2 (ja) | 2011-02-25 | 2015-12-09 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5947053B2 (ja) | 2011-02-25 | 2016-07-06 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6034025B2 (ja) | 2011-02-25 | 2016-11-30 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
US9243007B2 (en) | 2011-03-30 | 2016-01-26 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Organopolysiloxane, method for producing the same, and curable resin composition containing the organopolysiloxane |
JP5852490B2 (ja) | 2011-04-07 | 2016-02-03 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6005964B2 (ja) | 2011-04-07 | 2016-10-12 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5934536B2 (ja) | 2011-04-07 | 2016-06-15 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6022788B2 (ja) | 2011-04-07 | 2016-11-09 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
EP2703173A4 (en) | 2011-04-27 | 2014-10-01 | Konica Minolta Inc | INK JET PRINTING DEVICE |
JP5985898B2 (ja) | 2011-07-19 | 2016-09-06 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6130631B2 (ja) | 2011-07-19 | 2017-05-17 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5977594B2 (ja) | 2011-07-19 | 2016-08-24 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5886696B2 (ja) | 2011-07-19 | 2016-03-16 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5977593B2 (ja) | 2011-07-19 | 2016-08-24 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5977595B2 (ja) | 2011-07-19 | 2016-08-24 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5912912B2 (ja) | 2011-07-19 | 2016-04-27 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6013797B2 (ja) | 2011-07-19 | 2016-10-25 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6189020B2 (ja) | 2011-07-19 | 2017-08-30 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5996944B2 (ja) | 2011-07-19 | 2016-09-21 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6130630B2 (ja) | 2011-07-19 | 2017-05-17 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6013799B2 (ja) | 2011-07-19 | 2016-10-25 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6013798B2 (ja) | 2011-07-19 | 2016-10-25 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5990041B2 (ja) | 2011-07-19 | 2016-09-07 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
CN104144788B (zh) | 2012-03-01 | 2016-06-29 | 柯尼卡美能达株式会社 | 喷墨记录方法 |
US9090080B2 (en) | 2012-05-01 | 2015-07-28 | Konica Minolta, Inc. | Image formation device |
JP5957377B2 (ja) * | 2012-12-27 | 2016-07-27 | Jxエネルギー株式会社 | 熱媒体組成物 |
JP6183455B2 (ja) | 2013-03-29 | 2017-08-23 | コニカミノルタ株式会社 | 画像形成装置 |
KR20160003641A (ko) | 2013-04-30 | 2016-01-11 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 폴리(벤족사진)의 제조 방법 |
EP3058013B1 (en) | 2013-10-16 | 2018-01-31 | 3M Innovative Properties Company | Benzoxazine polymerization |
JP6576162B2 (ja) | 2014-08-25 | 2019-09-18 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6595255B2 (ja) | 2014-08-25 | 2019-10-23 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6541508B2 (ja) | 2014-08-25 | 2019-07-10 | 住友化学株式会社 | 塩、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6615536B2 (ja) | 2014-08-25 | 2019-12-04 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6507065B2 (ja) | 2014-08-25 | 2019-04-24 | 住友化学株式会社 | 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6596263B2 (ja) | 2014-08-25 | 2019-10-23 | 住友化学株式会社 | 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
US9519218B2 (en) | 2014-09-16 | 2016-12-13 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Resin, resist composition and method for producing resist pattern |
JP6533724B2 (ja) | 2014-09-16 | 2019-06-19 | 住友化学株式会社 | 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
US9671691B2 (en) | 2014-09-16 | 2017-06-06 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Resin, resist composition and method for producing resist pattern |
JP6706890B2 (ja) | 2014-09-16 | 2020-06-10 | 住友化学株式会社 | 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6541526B2 (ja) | 2014-09-16 | 2019-07-10 | 住友化学株式会社 | 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
US9405191B2 (en) | 2014-09-16 | 2016-08-02 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Resin, resist composition and method for producing resist pattern |
JP6585471B2 (ja) | 2014-11-11 | 2019-10-02 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6688041B2 (ja) | 2014-11-11 | 2020-04-28 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6670591B2 (ja) | 2014-11-11 | 2020-03-25 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6684075B2 (ja) | 2014-11-11 | 2020-04-22 | 住友化学株式会社 | 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6664932B2 (ja) | 2014-11-14 | 2020-03-13 | 住友化学株式会社 | 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6721319B2 (ja) | 2014-11-26 | 2020-07-15 | 住友化学株式会社 | ノニオン性化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6782070B2 (ja) | 2014-11-26 | 2020-11-11 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6761657B2 (ja) | 2015-03-31 | 2020-09-30 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
US10365560B2 (en) | 2015-03-31 | 2019-07-30 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Resist composition and method for producing resist pattern |
US9740097B2 (en) | 2015-03-31 | 2017-08-22 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Resist composition and method for producing resist pattern |
JP6910108B2 (ja) | 2015-03-31 | 2021-07-28 | 住友化学株式会社 | 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6769735B2 (ja) | 2015-05-12 | 2020-10-14 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
CN107735427B (zh) | 2015-06-09 | 2021-06-04 | 3M创新有限公司 | 铵盐催化的苯并噁嗪聚合 |
JP6864994B2 (ja) | 2015-06-26 | 2021-04-28 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物 |
JP6883954B2 (ja) | 2015-06-26 | 2021-06-09 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物 |
JP6782102B2 (ja) | 2015-06-26 | 2020-11-11 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物 |
JP6963979B2 (ja) | 2016-12-14 | 2021-11-10 | 住友化学株式会社 | 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP7042598B2 (ja) | 2016-12-14 | 2022-03-28 | 住友化学株式会社 | 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
US11214635B2 (en) | 2017-02-08 | 2022-01-04 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Compound, resin, resist composition and method for producing resist pattern |
JP7283883B2 (ja) | 2017-11-09 | 2023-05-30 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
US11820735B2 (en) | 2018-04-12 | 2023-11-21 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern |
US11378883B2 (en) | 2018-04-12 | 2022-07-05 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern |
JP7269093B2 (ja) | 2018-05-29 | 2023-05-08 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP2020029451A (ja) | 2018-08-17 | 2020-02-27 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP7341787B2 (ja) | 2018-08-27 | 2023-09-11 | 住友化学株式会社 | 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP7389622B2 (ja) | 2018-11-20 | 2023-11-30 | 住友化学株式会社 | 塩、クエンチャー、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP7412186B2 (ja) | 2019-01-18 | 2024-01-12 | 住友化学株式会社 | 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP7471828B2 (ja) | 2019-01-18 | 2024-04-22 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP7492842B2 (ja) | 2019-03-25 | 2024-05-30 | 住友化学株式会社 | 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
TW202108567A (zh) | 2019-05-17 | 2021-03-01 | 日商住友化學股份有限公司 | 鹽、淬滅劑、抗蝕劑組成物及抗蝕劑圖案的製造方法 |
JP2020200310A (ja) | 2019-06-04 | 2020-12-17 | 住友化学株式会社 | 塩、クエンチャー、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP7499071B2 (ja) | 2019-06-04 | 2024-06-13 | 住友化学株式会社 | 塩、クエンチャー、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法並びに塩の製造方法 |
JP2021038204A (ja) | 2019-08-29 | 2021-03-11 | 住友化学株式会社 | 塩、クエンチャー、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP2021038203A (ja) | 2019-08-29 | 2021-03-11 | 住友化学株式会社 | 塩、クエンチャー、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP2021130807A (ja) | 2019-12-18 | 2021-09-09 | 住友化学株式会社 | 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法並びに化合物 |
JP2021123580A (ja) | 2020-02-06 | 2021-08-30 | 住友化学株式会社 | カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP2021123579A (ja) | 2020-02-06 | 2021-08-30 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
US11681220B2 (en) | 2020-03-05 | 2023-06-20 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Resist composition and method for producing resist pattern |
US11740555B2 (en) | 2020-03-05 | 2023-08-29 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Resist composition and method for producing resist pattern |
US11675267B2 (en) | 2020-03-23 | 2023-06-13 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Resist composition and method for producing resist pattern |
TW202146383A (zh) | 2020-04-22 | 2021-12-16 | 日商住友化學股份有限公司 | 鹽、酸產生劑、抗蝕劑組成物及抗蝕劑圖案的製造方法 |
JP2021181431A (ja) | 2020-05-15 | 2021-11-25 | 住友化学株式会社 | カルボン酸塩、クエンチャー、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
TW202202476A (zh) | 2020-05-21 | 2022-01-16 | 日商住友化學股份有限公司 | 鹽、酸產生劑、抗蝕劑組成物及抗蝕劑圖案的製造方法 |
JP2021188041A (ja) | 2020-06-01 | 2021-12-13 | 住友化学株式会社 | 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
TW202215157A (zh) | 2020-06-01 | 2022-04-16 | 日商住友化學股份有限公司 | 化合物、樹脂、抗蝕劑組成物及抗蝕劑圖案的製造方法 |
JP2022008152A (ja) | 2020-06-25 | 2022-01-13 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP2022013736A (ja) | 2020-07-01 | 2022-01-18 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP2022075556A (ja) | 2020-11-06 | 2022-05-18 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP2022077505A (ja) | 2020-11-11 | 2022-05-23 | 住友化学株式会社 | カルボン酸塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP2022077982A (ja) | 2020-11-12 | 2022-05-24 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP2022123839A (ja) | 2021-02-12 | 2022-08-24 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP2022164583A (ja) | 2021-04-15 | 2022-10-27 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP2022164585A (ja) | 2021-04-15 | 2022-10-27 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
US20230004084A1 (en) | 2021-05-06 | 2023-01-05 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern |
JP2022183074A (ja) | 2021-05-28 | 2022-12-08 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP2022183077A (ja) | 2021-05-28 | 2022-12-08 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
TW202311315A (zh) | 2021-08-06 | 2023-03-16 | 日商住友化學股份有限公司 | 抗蝕劑組成物及抗蝕劑圖案的製造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3425988A (en) * | 1965-01-27 | 1969-02-04 | Loctite Corp | Polyurethane polyacrylate sealant compositions |
GB1285284A (en) * | 1969-05-26 | 1972-08-16 | Hitachi Ltd | Epoxy resin composition |
US3855040A (en) * | 1972-07-03 | 1974-12-17 | Loctite Corp | Anaerobic compositions |
GB1465200A (en) * | 1973-09-03 | 1977-02-23 | Dainichi Nippon Cables Ltd | Composition for electrical insulation |
US4273668A (en) * | 1977-09-14 | 1981-06-16 | General Electric Company | Arylsulfonium salt-solvent mixtures |
US4343885A (en) * | 1978-05-09 | 1982-08-10 | Dynachem Corporation | Phototropic photosensitive compositions containing fluoran colorformer |
EP0094915B1 (de) * | 1982-05-19 | 1987-01-21 | Ciba-Geigy Ag | Härtbare, Metallocenkomplexe enthaltende Zusammensetzungen, daraus erhältliche aktivierte Vorstufen und deren Verwendung |
IE54465B1 (en) * | 1982-05-26 | 1989-10-25 | Loctite Ltd | Two-part self-indicating adhesive composition |
US4446246A (en) * | 1982-09-09 | 1984-05-01 | Three Bond Co., Ltd. | Catalyst systems for two-pack acrylic adhesive formulations |
US4808638A (en) * | 1986-10-14 | 1989-02-28 | Loctite Corporation | Thiolene compositions on based bicyclic 'ene compounds |
US4857437A (en) * | 1986-12-17 | 1989-08-15 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the formation of an image |
JPH0258528A (ja) * | 1988-08-25 | 1990-02-27 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 活性エネルギー光線硬化型組成物およびこの組成物を用いた光ディスク基板とハブとの接着方法 |
-
1984
- 1984-05-10 US US06/608,753 patent/US5073476A/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-05-14 DE DE8484810232T patent/DE3461677D1/de not_active Expired
- 1984-05-14 EP EP84810232A patent/EP0126712B1/de not_active Expired
- 1984-05-14 AT AT84810232T patent/ATE24243T1/de not_active IP Right Cessation
- 1984-05-16 CA CA000454404A patent/CA1269791A/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-05-17 AU AU28314/84A patent/AU573219B2/en not_active Ceased
- 1984-05-17 BR BR8402336A patent/BR8402336A/pt not_active IP Right Cessation
- 1984-05-17 ZA ZA843733A patent/ZA843733B/xx unknown
- 1984-05-17 ES ES532965A patent/ES532965A0/es active Granted
- 1984-05-17 KR KR1019840002693A patent/KR920005529B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1984-05-18 JP JP59098905A patent/JPH0639483B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1586460A1 (en) | 2004-04-12 | 2005-10-19 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc. | Planographic printing plate material and preparing process of planographic printing plate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5073476A (en) | 1991-12-17 |
ZA843733B (en) | 1985-01-30 |
ATE24243T1 (de) | 1986-12-15 |
EP0126712A1 (de) | 1984-11-28 |
ES8602043A1 (es) | 1985-11-16 |
ES532965A0 (es) | 1985-11-16 |
KR920005529B1 (ko) | 1992-07-06 |
JPH0639483B2 (ja) | 1994-05-25 |
KR840009315A (ko) | 1984-12-26 |
CA1269791A (en) | 1990-05-29 |
AU573219B2 (en) | 1988-06-02 |
EP0126712B1 (de) | 1986-12-10 |
DE3461677D1 (en) | 1987-01-22 |
BR8402336A (pt) | 1984-12-26 |
AU2831484A (en) | 1984-11-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS59219307A (ja) | 硬化性組成物 | |
US5494944A (en) | Hardenable composition and its use | |
US4868288A (en) | Process for preparing metallocene complexes | |
US4997717A (en) | Photocurable abrasives | |
US4849320A (en) | Method of forming images | |
JP2724720B2 (ja) | 硬化性混合物 | |
JPS6150959A (ja) | 脂肪族スルホオキソニウム塩、その製造法及び該化合物を含有する光及び熱重合性組成物 | |
CN1332759A (zh) | 能量聚合组合物用的促进剂 | |
JPS60135402A (ja) | 重合性組成物 | |
JP2004502003A (ja) | エネルギー重合性組成物に有用な促進剤 | |
JPS60184518A (ja) | 硬化可能な組成物及びその使用法 | |
JPH0245641B2 (ja) | Hikarijugoseisoseibutsuoyobisonojugoho | |
JPS63150311A (ja) | 置換ビシクロ[2.2.1]ヘプテ−5−エン−2,3−ジカルボン酸イミドと重合可能なアクリル系物質の混合物を含有する重合可能な組成物 | |
JPS6015650B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
JPH10500153A (ja) | エネルギー重合性組成物、オキサゾリンのホモポリマー及びコポリマー | |
JP2005194273A (ja) | アリールスルホニウム塩、その重合性組成物および重合法 | |
TW434215B (en) | Solid epoxy resins containing Α-glycol groups | |
KR920002487B1 (ko) | 경화성 조성물을 사용한 중합체의 제조방법 | |
JPH09157391A (ja) | チタノセン類を含む硬化性組成物および写真レリーフ画像の形成方法 | |
CA1307002C (en) | Process for preparing metallocene complexes | |
JPS6198761A (ja) | 光硬化性樹脂組成物およびこれを用いたホログラムの複製方法 | |
JPS6323910A (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
GB2034318A (en) | Photopolymerisable compositions, derived coatings and other polymerised products | |
KR100711692B1 (ko) | 광개시제로서 키노이드기를 포함하는 킬레이트 |