JPS6323910A - 光硬化性樹脂組成物 - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 8
- -1 melamine acryl compound Chemical class 0.000 claims abstract description 49
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 claims abstract description 20
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 14
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 5
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 4
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 claims 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 5
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 abstract description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 53
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 53
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 6
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 3
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RBGUKBSLNOTVCD-UHFFFAOYSA-N 1-methylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C RBGUKBSLNOTVCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BNCADMBVWNPPIZ-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n,4-n,4-n,6-n,6-n-hexakis(methoxymethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound COCN(COC)C1=NC(N(COC)COC)=NC(N(COC)COC)=N1 BNCADMBVWNPPIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOSPVUKRNAQARI-UHFFFAOYSA-N 2-n-(trimethoxymethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound COC(OC)(OC)NC1=NC(N)=NC(N)=N1 AOSPVUKRNAQARI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N Diphenyl disulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SSC1=CC=CC=C1 GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- RWNKSTSCBHKHTB-UHFFFAOYSA-N Hexachloro-1,3-butadiene Chemical compound ClC(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)Cl RWNKSTSCBHKHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 2
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000011120 plywood Substances 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- WVFBDVFCOCLEFM-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,4,4-pentachlorobuta-1,3-diene Chemical compound ClC(Cl)=CC(Cl)=C(Cl)Cl WVFBDVFCOCLEFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVWPVABZQQJTPL-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylcyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 MVWPVABZQQJTPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKTHWBDUPFSENX-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dimethylphenyl)propan-2-ylazanium bromide Chemical compound CC1=C(C(=CC=C1)C(C)(C)[NH3+])C.[Br-] SKTHWBDUPFSENX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKKQLOUBFINSIB-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2,2-triphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 CKKQLOUBFINSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(2-methylphenyl)-2-phenylethanone Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GASMGDMKGYYAHY-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenehexanamide Chemical compound CCCCC(=C)C(N)=O GASMGDMKGYYAHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YICILWNDMQTUIY-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenepentanamide Chemical compound CCCC(=C)C(N)=O YICILWNDMQTUIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLTLLZLEJKRETK-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n,4-n,4-n,6-n-pentamethoxy-6-n-methyl-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound CON(C)C1=NC(N(OC)OC)=NC(N(OC)OC)=N1 DLTLLZLEJKRETK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFVIYKFKUYBKTP-UHFFFAOYSA-N 2-n-(methoxymethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound COCNC1=NC(N)=NC(N)=N1 KFVIYKFKUYBKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQONHSKXPSDNLZ-UHFFFAOYSA-N 2-n-(tributoxymethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound CCCCOC(OCCCC)(OCCCC)NC1=NC(N)=NC(N)=N1 DQONHSKXPSDNLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical class OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N Tert-Butylhydroquinone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=CC=C1O BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010021119 Trichosanthin Proteins 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical group CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCNKJQRMNYNDBI-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)butyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CC)COC(=O)C(C)=C GCNKJQRMNYNDBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUOBEAZXHLTYLF-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CC)COC(=O)C=C TUOBEAZXHLTYLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USDJGQLNFPZEON-UHFFFAOYSA-N [[4,6-bis(hydroxymethylamino)-1,3,5-triazin-2-yl]amino]methanol Chemical compound OCNC1=NC(NCO)=NC(NCO)=N1 USDJGQLNFPZEON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGCOKJWKWLYHTG-UHFFFAOYSA-N [[4,6-bis[bis(hydroxymethyl)amino]-1,3,5-triazin-2-yl]-(hydroxymethyl)amino]methanol Chemical compound OCN(CO)C1=NC(N(CO)CO)=NC(N(CO)CO)=N1 YGCOKJWKWLYHTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYDYRFPJJJPJFE-UHFFFAOYSA-N [[4,6-bis[bis(hydroxymethyl)amino]-1,3,5-triazin-2-yl]amino]methanol Chemical compound OCNC1=NC(N(CO)CO)=NC(N(CO)CO)=N1 SYDYRFPJJJPJFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPOBRXPULIDDX-UHFFFAOYSA-N [[4-amino-6-(hydroxymethylamino)-1,3,5-triazin-2-yl]amino]methanol Chemical compound NC1=NC(NCO)=NC(NCO)=N1 SUPOBRXPULIDDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEAJVJTWVRAPED-UHFFFAOYSA-N [[4-amino-6-[bis(hydroxymethyl)amino]-1,3,5-triazin-2-yl]-(hydroxymethyl)amino]methanol Chemical compound NC1=NC(N(CO)CO)=NC(N(CO)CO)=N1 WEAJVJTWVRAPED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- REQPQFUJGGOFQL-UHFFFAOYSA-N dimethylcarbamothioyl n,n-dimethylcarbamodithioate Chemical compound CN(C)C(=S)SC(=S)N(C)C REQPQFUJGGOFQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940086559 methyl benzoin Drugs 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002990 phenothiazines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- QCTJRYGLPAFRMS-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoic acid;1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound OC(=O)C=C.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 QCTJRYGLPAFRMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明の光硬化性樹脂組成物は、立体模様を有する印刷
や塗装物を得る際に紙、フィルムに防水性を付与する樹
脂あるいはホログラム製造時に用いる樹脂、転写フィル
ム形成用樹脂として有用である。
や塗装物を得る際に紙、フィルムに防水性を付与する樹
脂あるいはホログラム製造時に用いる樹脂、転写フィル
ム形成用樹脂として有用である。
〔従来技術)
■エポキシアクリレートやアクリルウレタン等のエチレ
ン性不飽和基を有する光重合性化合物を、田)エチレン
グリコールジアクリレート、トリメチロールプロパント
リアクリレート等の重合性不飽和単量体で希釈し、これ
に(C)光増感剤を配合した光硬化性樹脂をバインダー
とし、これに顔料、レベリング剤等を配合した光硬化性
インクを用いて樹脂フィルムや樹脂射出成型品上に印刷
を施こすことが行われている。。
ン性不飽和基を有する光重合性化合物を、田)エチレン
グリコールジアクリレート、トリメチロールプロパント
リアクリレート等の重合性不飽和単量体で希釈し、これ
に(C)光増感剤を配合した光硬化性樹脂をバインダー
とし、これに顔料、レベリング剤等を配合した光硬化性
インクを用いて樹脂フィルムや樹脂射出成型品上に印刷
を施こすことが行われている。。
これら光硬化性樹脂組成物の囚成分は、一般に常温(2
0〜30℃)で液状を呈し、これを紙、樹脂、金属等の
基材上に塗布した後、光硬化を行わない限りは紙、フィ
ルム等を巻き取ったり、重ね合せたりすることができな
い欠点がある。また、光硬化した樹脂層を有する紙、フ
ィルムに、エンボス加工等の模様付け、印刷、塗装、樹
脂ラミネート等の後加工を施すことはできない欠点があ
る。
0〜30℃)で液状を呈し、これを紙、樹脂、金属等の
基材上に塗布した後、光硬化を行わない限りは紙、フィ
ルム等を巻き取ったり、重ね合せたりすることができな
い欠点がある。また、光硬化した樹脂層を有する紙、フ
ィルムに、エンボス加工等の模様付け、印刷、塗装、樹
脂ラミネート等の後加工を施すことはできない欠点があ
る。
後加工ができる光硬化性樹脂として、(4)成分が常温
で固体である(イ)高分子量のエポキシ樹脂とアクリル
酸を反応させて得られたエポキシアクリレートまたは(
ロ)特殊なアクリルメラミン化合物が知られており、こ
れを含有する光硬化性樹脂は塩ビレザーフオーム製造に
用いる工程剥離紙にパターン模様を付す樹脂として利用
されている(特開昭58−156099号、同59−1
17537号)。
で固体である(イ)高分子量のエポキシ樹脂とアクリル
酸を反応させて得られたエポキシアクリレートまたは(
ロ)特殊なアクリルメラミン化合物が知られており、こ
れを含有する光硬化性樹脂は塩ビレザーフオーム製造に
用いる工程剥離紙にパターン模様を付す樹脂として利用
されている(特開昭58−156099号、同59−1
17537号)。
しかし、0)のエポキシアクリレートは光硬化樹脂の耐
擦傷性、表面硬度、印刷インクに対する耐薬品性がこれ
ら転写紙、ホログラムの製造用樹脂としては不足である
。後者(ロ)のアクリルメラミン化合物は、工程剥離紙
の製造に用いることを念頭に開発されたために、硬化皮
膜の硬度、耐擦傷性、耐水性、耐薬品性、中でもメタノ
ールやエタノールなどの耐アルコール性が劣っていると
いう欠点がある。
擦傷性、表面硬度、印刷インクに対する耐薬品性がこれ
ら転写紙、ホログラムの製造用樹脂としては不足である
。後者(ロ)のアクリルメラミン化合物は、工程剥離紙
の製造に用いることを念頭に開発されたために、硬化皮
膜の硬度、耐擦傷性、耐水性、耐薬品性、中でもメタノ
ールやエタノールなどの耐アルコール性が劣っていると
いう欠点がある。
本発明は、後者(ロ)の樹脂の硬度、耐擦傷性、耐水性
、耐アルコール性の欠点を改良するためになされたもの
で、本発明の光硬化性樹脂組成物を基材に塗布した後、
乾燥して有機溶剤を飛散ζせてタンク性のない固体の光
硬化性樹脂層を基材上に設けることにより、巻き取り、
重ね合せ、エンボス加工、印刷、塗装、ラミネートなど
の後加工を可能とさせ、ついで、光照射(を子線、紫外
線)により固体の光硬化樹脂層を完全に硬化させて強靭
で、硬度、耐熱性、耐擦傷性、耐水性、耐薬品性、基材
に対する密着性に優れた樹脂層を有する加工品(ホログ
ラム、転写紙、エンボス加工装飾品)を製造することが
できた。
、耐アルコール性の欠点を改良するためになされたもの
で、本発明の光硬化性樹脂組成物を基材に塗布した後、
乾燥して有機溶剤を飛散ζせてタンク性のない固体の光
硬化性樹脂層を基材上に設けることにより、巻き取り、
重ね合せ、エンボス加工、印刷、塗装、ラミネートなど
の後加工を可能とさせ、ついで、光照射(を子線、紫外
線)により固体の光硬化樹脂層を完全に硬化させて強靭
で、硬度、耐熱性、耐擦傷性、耐水性、耐薬品性、基材
に対する密着性に優れた樹脂層を有する加工品(ホログ
ラム、転写紙、エンボス加工装飾品)を製造することが
できた。
本発明は、
(4)成分:
(a)成分ニ
一般式
式中、R′はそれぞれHまたは炭素数1〜4の炭化水素
基を示し、RFiメチル基、フェニル基、−N (CH
20R’)2(R’はそれぞれ上記R′と同一またr′
i、gるHまたは炭素数1〜4の炭化水素基)、(Yは
−CH,OR’または水素、R′はそれぞれ上記R′と
同一または異なるHiたは炭素数1〜4の炭化水素基) で示されるメラミン系化合物 1モル(′b
)成分: 分子量が500以下の多価アルコール 1.5〜4当量(水酸基1個を1当量とする) (C)成分ニ アクリルアミド、α−低級アルキル置換アクリルアミド
より選ばれたアミド系化合物1〜4.5モル (d)成分: 分子中に少なくとも1個の水酸基と少なくとも2個のア
クリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基を有
する重合性化合物 Q、01〜2当量(水酸基1個を1当量とする) 上記(a)、(b)、(c)および(d)成分を上記割
合で反応させて得られる20℃で固体のメラミンアク1
1ル化合物 10〜90重量%(
B)成分: 上記■成分を溶解する非反応性有機溶剤90〜10重量
% (O成分: 光増感剤 上記(4)成分の0.05〜5重量多 上記(4)、(B)および(C)成分を含有する光硬化
性樹脂組成物を提供するものである。
基を示し、RFiメチル基、フェニル基、−N (CH
20R’)2(R’はそれぞれ上記R′と同一またr′
i、gるHまたは炭素数1〜4の炭化水素基)、(Yは
−CH,OR’または水素、R′はそれぞれ上記R′と
同一または異なるHiたは炭素数1〜4の炭化水素基) で示されるメラミン系化合物 1モル(′b
)成分: 分子量が500以下の多価アルコール 1.5〜4当量(水酸基1個を1当量とする) (C)成分ニ アクリルアミド、α−低級アルキル置換アクリルアミド
より選ばれたアミド系化合物1〜4.5モル (d)成分: 分子中に少なくとも1個の水酸基と少なくとも2個のア
クリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基を有
する重合性化合物 Q、01〜2当量(水酸基1個を1当量とする) 上記(a)、(b)、(c)および(d)成分を上記割
合で反応させて得られる20℃で固体のメラミンアク1
1ル化合物 10〜90重量%(
B)成分: 上記■成分を溶解する非反応性有機溶剤90〜10重量
% (O成分: 光増感剤 上記(4)成分の0.05〜5重量多 上記(4)、(B)および(C)成分を含有する光硬化
性樹脂組成物を提供するものである。
(2)成分のアクリルメラミン化合物:(4)成分のア
クリルメラミン化合物は、特開昭59−117537号
公報に掲載されている(a)メラミン化合物と、(bl
多価アルコールと、(ctアクリル系アミドと、(d)
−0H基と、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイ
ルオキシ基を有する重合性化合物を上記割合で原料とし
て用い、これに触媒を混合し、50〜150℃、好まし
くは80〜130℃で2〜20時間反応させるとと九よ
し得られる。
クリルメラミン化合物は、特開昭59−117537号
公報に掲載されている(a)メラミン化合物と、(bl
多価アルコールと、(ctアクリル系アミドと、(d)
−0H基と、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイ
ルオキシ基を有する重合性化合物を上記割合で原料とし
て用い、これに触媒を混合し、50〜150℃、好まし
くは80〜130℃で2〜20時間反応させるとと九よ
し得られる。
上記<8)成分のメチロール化メラミン化合物およびア
ルキルエーテル化メラミン化合物の具体例といくつかを
示せば、次の通りである。ヘキサメチロールメラミン、
ペンタメチロールメラミン、テトラメチロールメラミン
、トリメチロールメラミン、ジメチロールメラミン、ヘ
キサメトキシメチルメラミン、ペンタメトキシメチルメ
ラミン、テトラメトキシメチルメラミン、トリメトキシ
メチルメラミン、トリブトキシメチルメラミン、ヘキサ
エトキシメチルメラミン、ペンタエトキシメチルメラミ
ン、テトラエトキシメチルメラミン、トリメトキシメチ
ル−ジェトキシメラミン、トリエトキシメチル−ジブト
キシメチルメラミン、ヘキサプロポキシメチルメラミン
、トリプロポキシメチルメラミン、ジブトキシメチルメ
ラミン、トリメトキシメチルメラミン、ジェトキシメラ
ミン、ヘキサブトキシメチルメラミン、モノメトキシメ
チルメラミン、テトラブトキシメチルメラミン、テトラ
メトキシメチルメラミン、メチルグアナミン、ジメトキ
シメチルグアナミン、ジブトキシメチルグアナミン、モ
ノメトキシメチルグアナミン、トリプロポキシメチルグ
アナミン、テトラブトキシメチルグアナミン、ベンゾグ
アナミン、テトラブトキシメチルグアナミン、ジブトキ
シメチル−ベンゾグアナミンおよびこれらの混合物。
ルキルエーテル化メラミン化合物の具体例といくつかを
示せば、次の通りである。ヘキサメチロールメラミン、
ペンタメチロールメラミン、テトラメチロールメラミン
、トリメチロールメラミン、ジメチロールメラミン、ヘ
キサメトキシメチルメラミン、ペンタメトキシメチルメ
ラミン、テトラメトキシメチルメラミン、トリメトキシ
メチルメラミン、トリブトキシメチルメラミン、ヘキサ
エトキシメチルメラミン、ペンタエトキシメチルメラミ
ン、テトラエトキシメチルメラミン、トリメトキシメチ
ル−ジェトキシメラミン、トリエトキシメチル−ジブト
キシメチルメラミン、ヘキサプロポキシメチルメラミン
、トリプロポキシメチルメラミン、ジブトキシメチルメ
ラミン、トリメトキシメチルメラミン、ジェトキシメラ
ミン、ヘキサブトキシメチルメラミン、モノメトキシメ
チルメラミン、テトラブトキシメチルメラミン、テトラ
メトキシメチルメラミン、メチルグアナミン、ジメトキ
シメチルグアナミン、ジブトキシメチルグアナミン、モ
ノメトキシメチルグアナミン、トリプロポキシメチルグ
アナミン、テトラブトキシメチルグアナミン、ベンゾグ
アナミン、テトラブトキシメチルグアナミン、ジブトキ
シメチル−ベンゾグアナミンおよびこれらの混合物。
本発明で対象とするのに特に適したものは、式(I)で
R′が水素またはメチル基、Rが−N (C1(2OC
R,) 2またはフェニル基のものである。
R′が水素またはメチル基、Rが−N (C1(2OC
R,) 2またはフェニル基のものである。
次に、(b)成分の分子量が500以下の多価アルコー
ルトシてハ、エチレングリコール、グロビレングリコー
ル、■、2−ブタンジオール、1.3−ブタンジオール
、1.4−ブタンジオール、1.5−ベンタンジオール
、l、6−ヘキサンジオール等の脂肪族のアルキレンジ
グリコール;トリメチロールプロパン、ペンタエリスリ
トール等の水酸基を3個以上有する脂肪族系多価アルコ
ール;ジエチレンクリコール、シフロビレングリコール
、ポリエチレンクリコール、ポリプロピレングリコール
等のポリオキシアルキレングリコール;ビスフェノール
Aのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド2
〜4モル付加物;シクロヘキサンジメタツール、ノルボ
ルネンジメタツール、トリシクロデカンジメタツール等
の脂環構造を有する二価アルコール等が挙げられる。多
価アルコールの分子量がSOOを越えるときは得られる
樹脂の融点が低く、溶剤を除去した後の光硬化性樹脂の
乾燥性が十分でない。
ルトシてハ、エチレングリコール、グロビレングリコー
ル、■、2−ブタンジオール、1.3−ブタンジオール
、1.4−ブタンジオール、1.5−ベンタンジオール
、l、6−ヘキサンジオール等の脂肪族のアルキレンジ
グリコール;トリメチロールプロパン、ペンタエリスリ
トール等の水酸基を3個以上有する脂肪族系多価アルコ
ール;ジエチレンクリコール、シフロビレングリコール
、ポリエチレンクリコール、ポリプロピレングリコール
等のポリオキシアルキレングリコール;ビスフェノール
Aのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド2
〜4モル付加物;シクロヘキサンジメタツール、ノルボ
ルネンジメタツール、トリシクロデカンジメタツール等
の脂環構造を有する二価アルコール等が挙げられる。多
価アルコールの分子量がSOOを越えるときは得られる
樹脂の融点が低く、溶剤を除去した後の光硬化性樹脂の
乾燥性が十分でない。
(C)成分のアクリルアミドおよびα−低級アルキル置
換アクリルアミドとしては、アクリルアミド、メタクリ
ルアミド、α−プロピルアクリルアミド、α−ブチルア
クリルアミド、およびこれらの混合物が一般に適当であ
る。α−低級アルキル基としては、一般に炭素数1〜4
のものが適当である。
換アクリルアミドとしては、アクリルアミド、メタクリ
ルアミド、α−プロピルアクリルアミド、α−ブチルア
クリルアミド、およびこれらの混合物が一般に適当であ
る。α−低級アルキル基としては、一般に炭素数1〜4
のものが適当である。
これらの混合物も使用可能である。
更罠、(d)成分の分子中に少なくとも1個の水酸基と
、少なくとも2個のアクリロイルオキ7基またはメタク
リロイルオキシ基を有する重合性化合物としては、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエ
リスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリト
ールペンタメタクリレート、トリペンタエリスリトール
テトラアクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ
メタクリレート、トリペンタエリスリトールペンタアク
リレート、トリペンタエリスリトールペンタメタクリレ
ート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメ
チロールプロパンジメタアクリレート、ジトリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパ
ントリアクリレート等が挙げられ、又これらの混合物も
使用可能である。
、少なくとも2個のアクリロイルオキ7基またはメタク
リロイルオキシ基を有する重合性化合物としては、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエ
リスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリト
ールペンタメタクリレート、トリペンタエリスリトール
テトラアクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ
メタクリレート、トリペンタエリスリトールペンタアク
リレート、トリペンタエリスリトールペンタメタクリレ
ート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメ
チロールプロパンジメタアクリレート、ジトリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパ
ントリアクリレート等が挙げられ、又これらの混合物も
使用可能である。
次に各成分の仕込比について記載する0(a)成分のメ
チロール化メラミン化合物またはアルキルエーテル化メ
ラミン化合物またはアルキルエーテル化メラミン化合物
1モルに対するΦ)成分の多価アルコールの仕込割合は
1.5〜4当量(−OH基1モル相尚を1当量とする)
、好ましくは2〜3当量であり、(C)成分のアクリル
アミド系化合物の仕込割合は1〜4.5モル、好ましく
は2〜4モルである。(d)成分の水酸基と、アクリロ
イルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基を有する化
合物の仕込割合は0.01〜2当量(−OH基1モル相
尚な1当量とする)、好ましくは0.1〜l尚量である
0 (a)成分のメラミン系化合物1モルに対する(b)成
分の多価アルコールの仕込量が1.5当量未満であると
得られる樹脂は、反応溶媒、例えばシクロヘキサノン、
ジオキサンに対する溶解性に欠ケ、樹脂が反応中に析出
する。逆に4当量を越えると得られる樹脂の高分子化が
進み過ぎ、反応液の粘度が高くなりすぎ攪拌が困難とな
る。
チロール化メラミン化合物またはアルキルエーテル化メ
ラミン化合物またはアルキルエーテル化メラミン化合物
1モルに対するΦ)成分の多価アルコールの仕込割合は
1.5〜4当量(−OH基1モル相尚を1当量とする)
、好ましくは2〜3当量であり、(C)成分のアクリル
アミド系化合物の仕込割合は1〜4.5モル、好ましく
は2〜4モルである。(d)成分の水酸基と、アクリロ
イルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基を有する化
合物の仕込割合は0.01〜2当量(−OH基1モル相
尚な1当量とする)、好ましくは0.1〜l尚量である
0 (a)成分のメラミン系化合物1モルに対する(b)成
分の多価アルコールの仕込量が1.5当量未満であると
得られる樹脂は、反応溶媒、例えばシクロヘキサノン、
ジオキサンに対する溶解性に欠ケ、樹脂が反応中に析出
する。逆に4当量を越えると得られる樹脂の高分子化が
進み過ぎ、反応液の粘度が高くなりすぎ攪拌が困難とな
る。
また、(a)成分のメラミン系化合物1モルに対する(
C)成分の仕入量が1モル未満では得られる樹脂の融点
を80℃以上とすることはできない。樹脂が常温で液状
または粘稠なものであるとき、もしくは樹脂の融点が5
0℃以下と低いときは、基材上にコーティングした後、
乾燥により有機溶剤を飛散させて、光硬化樹脂層を得、
次いでこの層にエンボス等の後加工する際、エンボシン
グロールやプレス板に樹脂が付着し、パターニングが鮮
明に行われない。また、(d)成分の仕込量が0.01
当量未溝では得られる樹脂の硬化皮膜の硬度、耐擦傷性
、耐水性、耐アルコール性が十分に発揮しない。又2当
量以上では反応中に高分子化が進み過ぎ、反応液の粘度
が高くなりすぎ攪拌が困難となる0 (a)、(b)、(C)および(d)成分の反応は適当
な溶媒の存在下に行なう。この溶媒としては、反応に関
して不活性なものであることが必要である0かかる溶媒
としてはたとえばベンゼン、トルエン、キシレン、テト
ラリン等の炭化水素、シクロヘキサノン、ジオキサン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等があげ
られる0又、これらの混合物を用いてもかまわない0 そして、触媒としては、カルボン酸とアルカノールとか
らエステルを形成させるのに有効な酸が一般(=適当で
あるが、特に好ましいものはパラトルエンスルホン酸で
代表される有機酸からなるものである。触媒使用量は、
たとえばパラトルエンスルホン酸の場合は各成分の合計
量に対して1100pp〜1重を係程度、好ましくは1
000〜50o o ppm程度、であるのがふつうで
ある。
C)成分の仕入量が1モル未満では得られる樹脂の融点
を80℃以上とすることはできない。樹脂が常温で液状
または粘稠なものであるとき、もしくは樹脂の融点が5
0℃以下と低いときは、基材上にコーティングした後、
乾燥により有機溶剤を飛散させて、光硬化樹脂層を得、
次いでこの層にエンボス等の後加工する際、エンボシン
グロールやプレス板に樹脂が付着し、パターニングが鮮
明に行われない。また、(d)成分の仕込量が0.01
当量未溝では得られる樹脂の硬化皮膜の硬度、耐擦傷性
、耐水性、耐アルコール性が十分に発揮しない。又2当
量以上では反応中に高分子化が進み過ぎ、反応液の粘度
が高くなりすぎ攪拌が困難となる0 (a)、(b)、(C)および(d)成分の反応は適当
な溶媒の存在下に行なう。この溶媒としては、反応に関
して不活性なものであることが必要である0かかる溶媒
としてはたとえばベンゼン、トルエン、キシレン、テト
ラリン等の炭化水素、シクロヘキサノン、ジオキサン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等があげ
られる0又、これらの混合物を用いてもかまわない0 そして、触媒としては、カルボン酸とアルカノールとか
らエステルを形成させるのに有効な酸が一般(=適当で
あるが、特に好ましいものはパラトルエンスルホン酸で
代表される有機酸からなるものである。触媒使用量は、
たとえばパラトルエンスルホン酸の場合は各成分の合計
量に対して1100pp〜1重を係程度、好ましくは1
000〜50o o ppm程度、であるのがふつうで
ある。
囚成分を得る反応系には、アクリルアミド系化合物、お
よび水酸基(−OH)とアクリロイルオキシ基またはメ
タクリロイルオキシ基を有する化合物が反応体として、
又生成物中にエチレン性不飽和結合が存在するから、そ
の重合を防止することが一般に必要である。
よび水酸基(−OH)とアクリロイルオキシ基またはメ
タクリロイルオキシ基を有する化合物が反応体として、
又生成物中にエチレン性不飽和結合が存在するから、そ
の重合を防止することが一般に必要である。
このようなエチレン性不飽和結合の重合防止に関しては
種々の化合物が知られており、本発明でも合目的的な任
意のものを使用することができる。
種々の化合物が知られており、本発明でも合目的的な任
意のものを使用することができる。
具体的には、たとえばフェノール系化合物、アミン系化
合物がある。フェノール系化合物を用いた時の空気は、
これを反応系に吹込むと重合防止作用を延長させる外に
生成アルカノール(R’OH)の留去を促進することが
できるから、反応系への空気の吹込みは好ましいことで
ある。
合物がある。フェノール系化合物を用いた時の空気は、
これを反応系に吹込むと重合防止作用を延長させる外に
生成アルカノール(R’OH)の留去を促進することが
できるから、反応系への空気の吹込みは好ましいことで
ある。
この反応は、種々の操作態様に従って実施することがで
きる。具体的には、たとえば、攪拌装置、冷却器および
空気吹込装置の付属した反応器に(a)、(b)、(C
)および(d)成分と触媒、溶媒とを仕込み、少量の空
気を反応系(液相部)に吹込みながら徐々に昇温させる
。
きる。具体的には、たとえば、攪拌装置、冷却器および
空気吹込装置の付属した反応器に(a)、(b)、(C
)および(d)成分と触媒、溶媒とを仕込み、少量の空
気を反応系(液相部)に吹込みながら徐々に昇温させる
。
反応系温度が80℃前後から水またはアルカノール(R
’OH)の留出が始まり、100〜120℃程度まで昇
温させてアルカノールの留出が止まるまで加熱を続けて
、反応を終了させる。
’OH)の留出が始まり、100〜120℃程度まで昇
温させてアルカノールの留出が止まるまで加熱を続けて
、反応を終了させる。
この製造により得られる成分囚の樹脂は次の一般式(m
)〜(X)等で示されるエチレン性不飽和結合を有する
樹脂の混合物である。
)〜(X)等で示されるエチレン性不飽和結合を有する
樹脂の混合物である。
(v)
(VI)
(〜ill)
(i)
(LX)
〔式中2 バーCH2NHCOCR’=C)I2.−C
H,OR’ 。
H,OR’ 。
−R+X)n、 R” 、 R”はHまたは炭素数1〜
4のアルキル基、Rは水酸基とアクリロイルオキシまた
はメタクリロイルオキシ基を含む化合物のアルコール残
基、Xはアクリロイルオキシ基もしくはメタクリロイル
オキシ基、nは2〜アルコ一ル価数から水酸基価数を差
し引いた整数を示す。〕 この(4)成分の樹脂を本発明の組成物として供せる場
合は、反応C:用いた溶媒を除去せずにそのまま使用し
てもよいし、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の
貧溶媒で(4)成分の樹脂を沈殿させ、乾燥後、粉末固
体に単離して使用してもよい。
4のアルキル基、Rは水酸基とアクリロイルオキシまた
はメタクリロイルオキシ基を含む化合物のアルコール残
基、Xはアクリロイルオキシ基もしくはメタクリロイル
オキシ基、nは2〜アルコ一ル価数から水酸基価数を差
し引いた整数を示す。〕 この(4)成分の樹脂を本発明の組成物として供せる場
合は、反応C:用いた溶媒を除去せずにそのまま使用し
てもよいし、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の
貧溶媒で(4)成分の樹脂を沈殿させ、乾燥後、粉末固
体に単離して使用してもよい。
■)有機溶剤:
ω)成分の有機溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素、メチルイソブチルケトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジオキサン、
テトラヒドロフラン等が挙げられる。これら有機溶剤は
乾燥時の揮散が容易となる沸点が100〜160℃のも
ので、かつ、親水性も有するシクロヘキサノン、ジオキ
サン、メチルエチルケトン、メチルインブチルケトンが
好ましい。
シレン等の芳香族炭化水素、メチルイソブチルケトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジオキサン、
テトラヒドロフラン等が挙げられる。これら有機溶剤は
乾燥時の揮散が容易となる沸点が100〜160℃のも
ので、かつ、親水性も有するシクロヘキサノン、ジオキ
サン、メチルエチルケトン、メチルインブチルケトンが
好ましい。
(C)光増感剤:
(Ω成分の光増感剤としては、既に紫外線硬化型塗料の
光増感剤として用いられている各種の光増感剤、例えば
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α−
メチルベンゾイン、α−フェニルベンゾイン等のベンゾ
イン系化合物:アントラキノン、メチルアントラキノン
等のアントラキノン系化合物;ベンジル;ジアセチル;
アセトフェノン、ベンゾフェノン等の7エニルケトン化
合物;ジフェニルジスルフィド、テトラメチルチウラム
スルフィド等のスルフ、イド化合物:a−クロルメチル
ナフタリン;アントラセンおよびヘキサクロロブタジェ
ン、ペンタクロロブタジェンなどのハロゲン化炭化水素
などが挙げられる。
光増感剤として用いられている各種の光増感剤、例えば
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α−
メチルベンゾイン、α−フェニルベンゾイン等のベンゾ
イン系化合物:アントラキノン、メチルアントラキノン
等のアントラキノン系化合物;ベンジル;ジアセチル;
アセトフェノン、ベンゾフェノン等の7エニルケトン化
合物;ジフェニルジスルフィド、テトラメチルチウラム
スルフィド等のスルフ、イド化合物:a−クロルメチル
ナフタリン;アントラセンおよびヘキサクロロブタジェ
ン、ペンタクロロブタジェンなどのハロゲン化炭化水素
などが挙げられる。
任意成分:
本組成物に加えて、ハイドロキノン、t−ブチルハイド
ロキノン、カテコール、ハイドロキノンモノメチルエー
テルなどのフェノール類;ベンゾキノン、ジフェニルベ
ンゾキノンなどのキノン類;フェノチアジン類;銅類な
どの重合防止剤を配合すると貯蔵安定性が向上する。更
に、必要に応じて、促進剤、粘度調節剤、界面活性剤、
消泡剤等の各種助剤を配合してもよい。また、スチレン
・ブタジェンラバー等の高分子体を配合することも可能
である〇 (組成比] 囚成分とCB)成分の配合割合は、(4)成分の樹脂が
10〜90重量%、好ましくは35〜70重量%、(Ω
成分が90〜10重量%、好ましくは65〜30重量%
である。
ロキノン、カテコール、ハイドロキノンモノメチルエー
テルなどのフェノール類;ベンゾキノン、ジフェニルベ
ンゾキノンなどのキノン類;フェノチアジン類;銅類な
どの重合防止剤を配合すると貯蔵安定性が向上する。更
に、必要に応じて、促進剤、粘度調節剤、界面活性剤、
消泡剤等の各種助剤を配合してもよい。また、スチレン
・ブタジェンラバー等の高分子体を配合することも可能
である〇 (組成比] 囚成分とCB)成分の配合割合は、(4)成分の樹脂が
10〜90重量%、好ましくは35〜70重量%、(Ω
成分が90〜10重量%、好ましくは65〜30重量%
である。
Ω成分の光増感剤は、(4)成分の0.01〜5重量%
、好ましくは0.05〜15〜1重量%で使用される。
、好ましくは0.05〜15〜1重量%で使用される。
促進剤は(4)成分の0.05〜55〜5重量%。
本発明の組成物は、基材への含浸あるいは塗布を容易と
するため25℃の粘度が30〜s、o o 。
するため25℃の粘度が30〜s、o o 。
センチボイズとなるように一般に調製される。
(加工品の製造)
本発明の光硬化性組成物は、金属板、紙、ポリエチレン
テレフタレート等の基材に塗布、または含浸され、次い
で(B)成分の有機溶剤が飛散する温度、例えば100
〜165℃に設定した加熱炉内に0.1〜1分導いて乾
燥させて光硬化性樹脂層を基材上に形成させ、この光硬
化性樹脂層にスタンパ−によりバターニングを行ない、
ついで紫外線、電子線等を照射して樹脂を光硬化させ、
この光硬化した樹脂上にアルミニワムな蒸着させること
によりホログラムが形成される。
テレフタレート等の基材に塗布、または含浸され、次い
で(B)成分の有機溶剤が飛散する温度、例えば100
〜165℃に設定した加熱炉内に0.1〜1分導いて乾
燥させて光硬化性樹脂層を基材上に形成させ、この光硬
化性樹脂層にスタンパ−によりバターニングを行ない、
ついで紫外線、電子線等を照射して樹脂を光硬化させ、
この光硬化した樹脂上にアルミニワムな蒸着させること
によりホログラムが形成される。
また、予じめオフセット印刷した塗工砥の表面に光硬化
性樹脂組成物を塗布し、乾燥後、光硬化性樹脂をエンボ
ス加工した後に光硬化させてレリーフを形成させて立体
的な地図やポスターを製造することができる。
性樹脂組成物を塗布し、乾燥後、光硬化性樹脂をエンボ
ス加工した後に光硬化させてレリーフを形成させて立体
的な地図やポスターを製造することができる。
更に、ポリエチレンテレフタレート製の剥離フィルム上
に光硬化性樹脂組成物を塗布し、乾燥後、光硬化性樹脂
上に絵柄を印刷し、ついで印刷面上にホットスタンプ剤
を塗布した後、合板、ABSシート、亜鉛板等の基材を
ホットスタンプ割面に貼合し、熱転写ロールにより基材
上に転写させ、剥離フィルムを除去し、露呈した光硬化
性樹脂層を光硬化させることにより絵柄を基材に転写し
たフィルム、金属板等が製造できる。
に光硬化性樹脂組成物を塗布し、乾燥後、光硬化性樹脂
上に絵柄を印刷し、ついで印刷面上にホットスタンプ剤
を塗布した後、合板、ABSシート、亜鉛板等の基材を
ホットスタンプ割面に貼合し、熱転写ロールにより基材
上に転写させ、剥離フィルムを除去し、露呈した光硬化
性樹脂層を光硬化させることにより絵柄を基材に転写し
たフィルム、金属板等が製造できる。
エンボス加工は例えば金属ロールとペーパーロールより
なる1対のエンボスロールを使用して通常の方法で、例
えば50〜150℃、10〜504/dの圧力で行う。
なる1対のエンボスロールを使用して通常の方法で、例
えば50〜150℃、10〜504/dの圧力で行う。
エンボス加工は片面エンボスで十分であるが、両面エン
ボスでもよい。紙に塗工された光硬化性樹脂は常温で固
体であるため、エンボスロールの温度を該光硬化性樹脂
の軟化点以下に設足することにより樹脂のエンボスロー
ルへの付着は防止される。光硬化性樹脂を硬化させるに
用いる光としては、高エネルギー電離性放射線および紫
外線があげられる。
ボスでもよい。紙に塗工された光硬化性樹脂は常温で固
体であるため、エンボスロールの温度を該光硬化性樹脂
の軟化点以下に設足することにより樹脂のエンボスロー
ルへの付着は防止される。光硬化性樹脂を硬化させるに
用いる光としては、高エネルギー電離性放射線および紫
外線があげられる。
高エネルギー電離性放射線源としては例えば、コツクク
ロフト型加速器、バンデグラーフ型加速器、リニャーア
クセレレーター、ベータトロン、サイクロトロンなどの
加速器によって加速された電子線が工業的に最も便利か
つ経済的に使用されるが、その他に放射性同位元素や原
子炉などから放出されるγ線、X線、α線、β線、中性
子線、陽子線などの放射線も使用出来る。
ロフト型加速器、バンデグラーフ型加速器、リニャーア
クセレレーター、ベータトロン、サイクロトロンなどの
加速器によって加速された電子線が工業的に最も便利か
つ経済的に使用されるが、その他に放射性同位元素や原
子炉などから放出されるγ線、X線、α線、β線、中性
子線、陽子線などの放射線も使用出来る。
紫外線源としては例えば、紫外線螢光灯、低圧水銀灯、
高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯
、太陽灯などがある。
高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯
、太陽灯などがある。
以下、製造例、応用例により本発明の詳細な説明する。
なお、例中の部、チは特に倒起しない限り重量基準であ
る。
る。
本発明における成分囚の樹脂の製造例二製造例1
四つ目フラスコ内に、攪拌機、温度計、冷却器および空
気吹込み用ガラス管を取り付け、このフラスコ内にヘキ
サメトキシメチルメラミン(三井東圧化学製すイメル3
03)390部(1モル)、アクリルアミド248.5
部(3,5モル)、エチレンクリコール45 部(1,
5当z ) 、ヘンタエリスリトールトリアクリレート
216.7部(0,7当量)シクロヘキサノン708部
、パラトルエンスルホン酸2部およびハイドロキノン0
.7部を仕込み、zoov/分の速度で空気を吹込みな
がら徐々に100℃迄昇温させ、同温度に7時間保って
反応を終了させたn 反応終了後、70℃まで冷卸し、重曹302を添加して
この温度で30分間維持した。その後濾紙で濾過して樹
脂溶液を得た。
気吹込み用ガラス管を取り付け、このフラスコ内にヘキ
サメトキシメチルメラミン(三井東圧化学製すイメル3
03)390部(1モル)、アクリルアミド248.5
部(3,5モル)、エチレンクリコール45 部(1,
5当z ) 、ヘンタエリスリトールトリアクリレート
216.7部(0,7当量)シクロヘキサノン708部
、パラトルエンスルホン酸2部およびハイドロキノン0
.7部を仕込み、zoov/分の速度で空気を吹込みな
がら徐々に100℃迄昇温させ、同温度に7時間保って
反応を終了させたn 反応終了後、70℃まで冷卸し、重曹302を添加して
この温度で30分間維持した。その後濾紙で濾過して樹
脂溶液を得た。
この樹脂溶液の粘度は540 Cps (25℃)であ
り、また溶媒を蒸発させた樹脂の融点は108℃であっ
た。
り、また溶媒を蒸発させた樹脂の融点は108℃であっ
た。
製造例2〜20
製造例1において、(a)成分のメラミン系化合物、(
b)成分の多価アルコール、(C)成分のアクリルアミ
ド、(d)成分のOH基とアクリロイルオキシ基もしく
はメタクリロイルオキシ基を有する化合物の種類ならび
に各成分の配合割合を表1のように変更する他は同様に
して表1に示す粘度を示す樹脂溶液を得た。
b)成分の多価アルコール、(C)成分のアクリルアミ
ド、(d)成分のOH基とアクリロイルオキシ基もしく
はメタクリロイルオキシ基を有する化合物の種類ならび
に各成分の配合割合を表1のように変更する他は同様に
して表1に示す粘度を示す樹脂溶液を得た。
参考例1
油化シェルエポキシ@製ビスフェノールAのジグリシジ
ルエーテル”エピコー)1004″(商品名、エポキシ
当量913)464部、アクリル酸37部、ハイドロキ
ノンモノメチルエーテル1部、テトラメチルベンジルア
ンモニウムプロミド5部およびメチルイソブチルケトン
500部を11の4日フラスコ内゛に仕込み、攪拌機、
還流冷却器、空気吹込管および温度計を取りつけ、攪拌
しながら、および空気を2oom1分の割合で吹き込み
ながら加熱して110℃迄昇温した0同温で5時間反応
させて粘度(25℃)が289CpSのエポキシアクリ
レート樹脂溶液を得た。
ルエーテル”エピコー)1004″(商品名、エポキシ
当量913)464部、アクリル酸37部、ハイドロキ
ノンモノメチルエーテル1部、テトラメチルベンジルア
ンモニウムプロミド5部およびメチルイソブチルケトン
500部を11の4日フラスコ内゛に仕込み、攪拌機、
還流冷却器、空気吹込管および温度計を取りつけ、攪拌
しながら、および空気を2oom1分の割合で吹き込み
ながら加熱して110℃迄昇温した0同温で5時間反応
させて粘度(25℃)が289CpSのエポキシアクリ
レート樹脂溶液を得た。
なお、溶媒を除去した該樹脂の融点は75℃であった0
応用例1〜13、比較例1〜7、参考例2前記製造例1
〜20および参考例で得た樹脂溶液100部に、光増感
剤として2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェ
ノン1.5 部を配合シテ光硬化性樹脂組成物を得た。
〜20および参考例で得た樹脂溶液100部に、光増感
剤として2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェ
ノン1.5 部を配合シテ光硬化性樹脂組成物を得た。
(I) レリーフ層の形成の応用例
これら組成物をオフセット印刷をほどこしたコート紙の
表面にマイヤーパーを用いて5t/−の塗布量で塗布し
、150℃で乾燥して(参考例のエポキシアクリレート
は30f/−の塗布量、120℃乾燥〕溶剤を揮散させ
た後、エンボス加工し、次いで水銀灯より発生した紫外
線を照射して光硬化させて透明なレリーフ層をコート紙
表面に形成させた。これにより立体感を有する印刷物が
得られた。これは、レコードジャケット、ポスター、美
術品等に用いることが出来る。
表面にマイヤーパーを用いて5t/−の塗布量で塗布し
、150℃で乾燥して(参考例のエポキシアクリレート
は30f/−の塗布量、120℃乾燥〕溶剤を揮散させ
た後、エンボス加工し、次いで水銀灯より発生した紫外
線を照射して光硬化させて透明なレリーフ層をコート紙
表面に形成させた。これにより立体感を有する印刷物が
得られた。これは、レコードジャケット、ポスター、美
術品等に用いることが出来る。
(6)ホログラム層の形成の応用例
これら組成物を、75μのポリエチレンテレフタレート
フィルム上にロールコーターテ22/−の量塗工し、8
0℃で乾燥して溶剤を揮散させた後、レーザー光を用い
て作ったマスターホログラムから引続き作成したプレス
スタンパ−により150℃で加熱プレスして微細な凸凹
層を形成させた。次いで、水銀灯より発生した紫外線を
照射して光硬化させた。更(二、真空蒸着法によりA!
層をこの上に蒸着してホログラムを形成した。これは、
立体像を写し出す印刷物やディスプレー等に用いること
が出来る。
フィルム上にロールコーターテ22/−の量塗工し、8
0℃で乾燥して溶剤を揮散させた後、レーザー光を用い
て作ったマスターホログラムから引続き作成したプレス
スタンパ−により150℃で加熱プレスして微細な凸凹
層を形成させた。次いで、水銀灯より発生した紫外線を
照射して光硬化させた。更(二、真空蒸着法によりA!
層をこの上に蒸着してホログラムを形成した。これは、
立体像を写し出す印刷物やディスプレー等に用いること
が出来る。
(III)転写フィルムの応用例
これら組成物を、25μのポリエチレンテレフタレート
製剥離フィルム上にグラビア印刷法で塗工し、105℃
で乾燥した後、上にグラビア法で絵柄印刷し、さらにヒ
ートシール用のアクリル系接着剤(ホットスタンプ剤)
を塗工した。合板の上に前記アクリル系接着剤面を下に
してフィルム面側から熱ロールにて熱転写を行なった。
製剥離フィルム上にグラビア印刷法で塗工し、105℃
で乾燥した後、上にグラビア法で絵柄印刷し、さらにヒ
ートシール用のアクリル系接着剤(ホットスタンプ剤)
を塗工した。合板の上に前記アクリル系接着剤面を下に
してフィルム面側から熱ロールにて熱転写を行なった。
次いで、剥離フィルムをはがし、水銀“灯より発生した
紫外線を照射して、表層の樹脂を硬化させた。このもの
は壁材として用いることが出来る。
紫外線を照射して、表層の樹脂を硬化させた。このもの
は壁材として用いることが出来る。
これら加工品の物性を表2に示す。
なお、物性の評価法は次のとおりである。
耐薬品性:
本組成物の硬化表面をメチルエチルケトンを浸みこませ
たガーゼで100回往復させてこすったとき、表面ζ二
異常がなかったものを良好とし、表面に異常を生じ、基
材の表面が露呈したものを不良とした。
たガーゼで100回往復させてこすったとき、表面ζ二
異常がなかったものを良好とし、表面に異常を生じ、基
材の表面が露呈したものを不良とした。
耐アルコール性及び耐水性:
本組成物の硬化表面をメタノール、エタノールおよび水
に常温で24時間接触させたとき、表面(ユ異常がなか
ったものを良好とし、表面にハガレ、フクレなどの異常
を生じ、基材の表面が露呈したものを不良とした0 耐熱性: 本組成物の硬化表面を熱ロールで200℃に加熱し、3
分保持した後の変色、変形等を見た。
に常温で24時間接触させたとき、表面(ユ異常がなか
ったものを良好とし、表面にハガレ、フクレなどの異常
を生じ、基材の表面が露呈したものを不良とした0 耐熱性: 本組成物の硬化表面を熱ロールで200℃に加熱し、3
分保持した後の変色、変形等を見た。
異常のなかったものを良好とし、黄変もしくは変形やハ
クリのおこったものを不良とした。
クリのおこったものを不良とした。
耐擦傷性:
す。oooのスチールウールで本組成物の硬化表面を1
0回こすったとき、表面に何の変化もなかったものを良
好とし、表面が傷つき、白化したものを不良とした。
0回こすったとき、表面に何の変化もなかったものを良
好とし、表面が傷つき、白化したものを不良とした。
(以下余白)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)、(A)成分: (a)成分: 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R′はそれぞれHまたは炭素数1〜4の炭化水素
基を示し、Rはメチル基、 フェニル基、−N(CH_2OR′)_2(R′それぞ
れ上記R′と同一または異なるHまたは炭素数1〜4の
炭化水素基)、または下式で表わされる有機基を示す ▲数式、化学式、表等があります▼ (Yは−CH_2OR′または水素、R′はそれぞれ上
記R′と同一または異なるHまたは炭素数1〜4の炭化
水素基) で示されるメラミン系化合物1モル (b)成分: 分子量が500以下の多価アルコール 1.5〜4当量(水酸基1個を1当量とする) (c)成分: アクリルアミド、α−低級アルキル置換アクリルアミド
より選ばれたアミド系化合物 1〜4.5モル (d)成分: 分子中に少なくとも1個の水酸基と、少なくとも2個の
アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基を
有する重合性化合物 0.01〜2当量(水酸基1個を1当量とする) 上記(a)、(b)、(c)および(d)成分を上記割
合で反応させて得られる20℃で固体のメラミンアクリ
ル化合物 10〜90重量% (B)成分: 上記(A)成分を溶解する非反応性有機溶剤90〜10
重量% (C)成分: 光増感剤 上記(A)成分の0.05〜5重量% 上記(A)、(B)および(C)成分を含有する光硬化
性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61167428A JPH0796578B2 (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | 光硬化性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61167428A JPH0796578B2 (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | 光硬化性樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6323910A true JPS6323910A (ja) | 1988-02-01 |
JPH0796578B2 JPH0796578B2 (ja) | 1995-10-18 |
Family
ID=15849520
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61167428A Expired - Fee Related JPH0796578B2 (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | 光硬化性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0796578B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014192314A1 (ja) | 2013-05-31 | 2014-12-04 | 凸版印刷株式会社 | 転写用積層媒体および印刷物 |
WO2017199982A1 (ja) | 2016-05-16 | 2017-11-23 | 凸版印刷株式会社 | 光学情報媒体及びその製造方法 |
US10471758B2 (en) | 2015-02-03 | 2019-11-12 | Toppan Printing Co., Ltd. | Optical information medium |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6198761A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-17 | Mitsubishi Yuka Fine Chem Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物およびこれを用いたホログラムの複製方法 |
-
1986
- 1986-07-16 JP JP61167428A patent/JPH0796578B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6198761A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-17 | Mitsubishi Yuka Fine Chem Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物およびこれを用いたホログラムの複製方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014192314A1 (ja) | 2013-05-31 | 2014-12-04 | 凸版印刷株式会社 | 転写用積層媒体および印刷物 |
US10059086B2 (en) | 2013-05-31 | 2018-08-28 | Toppan Printing Co., Ltd. | Laminated transfer medium and printed matter |
US10471758B2 (en) | 2015-02-03 | 2019-11-12 | Toppan Printing Co., Ltd. | Optical information medium |
WO2017199982A1 (ja) | 2016-05-16 | 2017-11-23 | 凸版印刷株式会社 | 光学情報媒体及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0796578B2 (ja) | 1995-10-18 |
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