JPS60135402A - 重合性組成物 - Google Patents
重合性組成物Info
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- JPS60135402A JPS60135402A JP59254927A JP25492784A JPS60135402A JP S60135402 A JPS60135402 A JP S60135402A JP 59254927 A JP59254927 A JP 59254927A JP 25492784 A JP25492784 A JP 25492784A JP S60135402 A JPS60135402 A JP S60135402A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G85/00—General processes for preparing compounds provided for in this subclass
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は陽イオン性重合性材料、ヒドロキシ化合物及び
芳香族ヨードシル塩からなる組成物に関する。本発明は
さらに化学線式たは熱による該組成物の重合、並ひに印
刷版及び印刷回路の製造の除の表面塗料としての、及び
接着剤としての該組成物の使用法にも関する。
芳香族ヨードシル塩からなる組成物に関する。本発明は
さらに化学線式たは熱による該組成物の重合、並ひに印
刷版及び印刷回路の製造の除の表面塗料としての、及び
接着剤としての該組成物の使用法にも関する。
化学線による有機材料の重合の誘起が望ましいことは良
く知られている。その様な方法により、例えば毒性及び
/または引火性の溶媒の使用並びにそれに付随する汚染
及び回収費用の問題を回避できる。
く知られている。その様な方法により、例えば毒性及び
/または引火性の溶媒の使用並びにそれに付随する汚染
及び回収費用の問題を回避できる。
光重合は、樹脂組成物の不溶化を限られた範囲、即ち照
射されるべき範囲に限定することを可能KL、その結果
印刷回路及び印刷版の製造を可能にし、基材の接着を所
望の地帯に限定することを可能にする。さらに照射方法
は加熱段階及びそれに伴う冷却段階を含む方法よυもし
ばしば連速である。
射されるべき範囲に限定することを可能KL、その結果
印刷回路及び印刷版の製造を可能にし、基材の接着を所
望の地帯に限定することを可能にする。さらに照射方法
は加熱段階及びそれに伴う冷却段階を含む方法よυもし
ばしば連速である。
陽イオン性重合性材料、ヒドロキシ化合物及び芳香族ヨ
ードニウム塩光重合触媒からなる光重合性組成物は開示
されている。ヒドロキソ化合物の存在は光重合された組
成物の柔軟性を改良する。
ードニウム塩光重合触媒からなる光重合性組成物は開示
されている。ヒドロキソ化合物の存在は光重合された組
成物の柔軟性を改良する。
合衆国特許wJ4256828号明細書にポリエポキシ
ド、少なくとも1個の水酸基を有する有機材料、及び光
重合剤として次式I: 〔式中、 Ar’ 及1J: Ar” ハフェニル基、チェニル基
、フラニル基またはピラゾリル基の様な炭素原子数4な
いし20の芳香族基を表わし、 2は酸素原子もしくは硫黄原子、または次式、Rは炭素
原子数6ないし2Oのアリール基または炭素原子数2な
いし20のアシル基を表わす)で表わされる基、炭素原
子間の結合、または次式・R1−C−R”(式中、R1
及びR2は各々水素原子、炭素原子数1ないし4のアル
キル基または炭素原子数2ないし4のアルケニル基を表
わす)で表わされる基を表わし、 nは0または1を表わし、そして X−はテトラフルオロホウ酸イオ/、ヘキサフルオロリ
フ酸イオ/、ヘキサフルオロ砒酸イオンまたはへキサフ
ルオロア/チモ/#!イオノを表わす〕で表わされる芳
香族ヨードニラム塩からなる光重合性組成物が記載され
ている。
ド、少なくとも1個の水酸基を有する有機材料、及び光
重合剤として次式I: 〔式中、 Ar’ 及1J: Ar” ハフェニル基、チェニル基
、フラニル基またはピラゾリル基の様な炭素原子数4な
いし20の芳香族基を表わし、 2は酸素原子もしくは硫黄原子、または次式、Rは炭素
原子数6ないし2Oのアリール基または炭素原子数2な
いし20のアシル基を表わす)で表わされる基、炭素原
子間の結合、または次式・R1−C−R”(式中、R1
及びR2は各々水素原子、炭素原子数1ないし4のアル
キル基または炭素原子数2ないし4のアルケニル基を表
わす)で表わされる基を表わし、 nは0または1を表わし、そして X−はテトラフルオロホウ酸イオ/、ヘキサフルオロリ
フ酸イオ/、ヘキサフルオロ砒酸イオンまたはへキサフ
ルオロア/チモ/#!イオノを表わす〕で表わされる芳
香族ヨードニラム塩からなる光重合性組成物が記載され
ている。
合衆国特許第4090936号明細iIKエポキシド基
を平均1ないし13個有する有機拐料、ガラス転移温度
が一20℃ないし105℃の範囲にある相溶性有機ポリ
マー、アクリレートまたはメタクリレートポリマーであ
る有機ポリマ〜、スチレンとアリルアルコールもしくは
ポリビニルブチラールとの共重合体、及び式Iの芳4M
ヨードニウム塩でもあり得る芳香族錯塩光重合剤からな
る光硬化性液体組成物が開示されている。
を平均1ないし13個有する有機拐料、ガラス転移温度
が一20℃ないし105℃の範囲にある相溶性有機ポリ
マー、アクリレートまたはメタクリレートポリマーであ
る有機ポリマ〜、スチレンとアリルアルコールもしくは
ポリビニルブチラールとの共重合体、及び式Iの芳4M
ヨードニウム塩でもあり得る芳香族錯塩光重合剤からな
る光硬化性液体組成物が開示されている。
ある種の触媒の存在下での陽イオン性重合性材料の熱活
性硬化剤としての芳香族ヨードニウム塩の使用法は開示
されており、例えば触媒として銅塩ト了スコルビ/酸、
アスコルビン酸塩、第一錫塩もしくは活性α−ヒドロキ
シ化合物との混合物t”使用する方法が合衆国特許第4
192924号明細誓に、そして触媒として過酸化物を
使用する方法が合衆国特許第4!174751号明細書
に開示されている。
性硬化剤としての芳香族ヨードニウム塩の使用法は開示
されており、例えば触媒として銅塩ト了スコルビ/酸、
アスコルビン酸塩、第一錫塩もしくは活性α−ヒドロキ
シ化合物との混合物t”使用する方法が合衆国特許第4
192924号明細誓に、そして触媒として過酸化物を
使用する方法が合衆国特許第4!174751号明細書
に開示されている。
F、 M、 BeringerとP、 Bodlaen
derによるJ 、 Urg。
derによるJ 、 Urg。
Chem、、1968,55.2981−4の文献Km
々のジアリールヨードシル塩及びその製造方法が記載さ
れている。しかしながらこの文iEKは化学線を照射し
た際もしくは他の有機材料の存在下で加熱した際の該塩
の挙動に関する指摘は記載されておらず、該塩の効用に
ついても何ら指摘されていない。
々のジアリールヨードシル塩及びその製造方法が記載さ
れている。しかしながらこの文iEKは化学線を照射し
た際もしくは他の有機材料の存在下で加熱した際の該塩
の挙動に関する指摘は記載されておらず、該塩の効用に
ついても何ら指摘されていない。
篤くべきことに本発明において芳1族ヨードシル塩がエ
ポキシドまたは他の陽イオン性重合性材料、及びヒドロ
キシ化合物からなる組成物の重合の光重合剤として作用
すること、並びに該塩がある種の触媒の存在下でその様
な組成物の熱活性重合剤として作用することが見出され
た。上記の従来技術の文献のいずれもヨードシル塩がこ
れらの価値ある特性を有することを指摘していない。
ポキシドまたは他の陽イオン性重合性材料、及びヒドロ
キシ化合物からなる組成物の重合の光重合剤として作用
すること、並びに該塩がある種の触媒の存在下でその様
な組成物の熱活性重合剤として作用することが見出され
た。上記の従来技術の文献のいずれもヨードシル塩がこ
れらの価値ある特性を有することを指摘していない。
本発明の組成物の芳香族ヨードンル1iL1よ、従来技
術の組成物中のヨードニウム塩が通常紙しい条件を含む
いくつかに分かれた異なる経路を要することと比較して
、一般的にはるかに容易に製造することができる。ある
型の陽イオン性重合性材料、特Kg111!式エボホン
ドfP脂全含有する組成物の場合、本発明の組成物はヨ
ードニウム塩全含翁する対応する組成物よりも迅速に光
重合してより柔軟性の重合生成物全供給することができ
る。ヨードニウム塩を用いる陽イオン性重合性材料物に
ついては通常、ビスフェノール金ベースとするエポキシ
ド他脂ヲ含有する組hX、物よりも脂環式エポキシド樹
脂を含有する組成物の方が反応性が高い。この反応性の
違いは芳香族ヨードゾル塩を用いて重合した組成物の場
合にさらに顕著になる。
術の組成物中のヨードニウム塩が通常紙しい条件を含む
いくつかに分かれた異なる経路を要することと比較して
、一般的にはるかに容易に製造することができる。ある
型の陽イオン性重合性材料、特Kg111!式エボホン
ドfP脂全含有する組成物の場合、本発明の組成物はヨ
ードニウム塩全含翁する対応する組成物よりも迅速に光
重合してより柔軟性の重合生成物全供給することができ
る。ヨードニウム塩を用いる陽イオン性重合性材料物に
ついては通常、ビスフェノール金ベースとするエポキシ
ド他脂ヲ含有する組hX、物よりも脂環式エポキシド樹
脂を含有する組成物の方が反応性が高い。この反応性の
違いは芳香族ヨードゾル塩を用いて重合した組成物の場
合にさらに顕著になる。
従って1本発明は
四 陽イオン性重合性材料、
(B150℃以上の温度で加熱したと亀にラジカルを生
ずる化合物以外の、少なくとも1個のアルコール性水酸
基を有する非エポキシド系壱機ヒトaキ/化合物、及び (0次式■: (式中、R3及びR(は同一または異なって各各炭素原
子数4ないし25の1価の芳香族基を表わし、 Xは1,2または3を表わし、セして が−はX価のグロト/酸の陰イオンを表わすンで表わさ
れる芳香族ヨードシル塩からなる重合性組成物に関する
。
ずる化合物以外の、少なくとも1個のアルコール性水酸
基を有する非エポキシド系壱機ヒトaキ/化合物、及び (0次式■: (式中、R3及びR(は同一または異なって各各炭素原
子数4ないし25の1価の芳香族基を表わし、 Xは1,2または3を表わし、セして が−はX価のグロト/酸の陰イオンを表わすンで表わさ
れる芳香族ヨードシル塩からなる重合性組成物に関する
。
さらに本発明は
(II(Al 111イオン性重合性材料、(B150
℃以上の温度で加熱したときにラジカルを生ずる化合物
以外の、少なくとも1個のアルコール性水酸基を有する
非エポキシド系准機ヒトaキ7化合物、及び 軒゛)次式■゛ (式中、R3及びR4は同一または異なって各各要素原
子数4ないし25の1価の芳香族基を表わし、 Xは1,2または3を表わし、そして が−はX価のプロトン酸の陰イオ/を表わす)で表わさ
れる芳香族ヨードシル塩力・らなる組成物をヨードシル
塩を活性化する様な波長の放射線に組成物が重合するま
で暴結すること、及び/または fil 該組成物を、ヨードシル塩の触媒としてのσ)
ld−プロ7り遷移金属の塩または錯体、錫酸塩、有機
過酸化物または50℃以上の温度で加熱すると遊離ラジ
カルを生ずる活性化α−ヒドロキシ化合物の存在下で組
成物が重合するまで加熱することを特徴とする重合性材
料の製造方法を提供する。
℃以上の温度で加熱したときにラジカルを生ずる化合物
以外の、少なくとも1個のアルコール性水酸基を有する
非エポキシド系准機ヒトaキ7化合物、及び 軒゛)次式■゛ (式中、R3及びR4は同一または異なって各各要素原
子数4ないし25の1価の芳香族基を表わし、 Xは1,2または3を表わし、そして が−はX価のプロトン酸の陰イオ/を表わす)で表わさ
れる芳香族ヨードシル塩力・らなる組成物をヨードシル
塩を活性化する様な波長の放射線に組成物が重合するま
で暴結すること、及び/または fil 該組成物を、ヨードシル塩の触媒としてのσ)
ld−プロ7り遷移金属の塩または錯体、錫酸塩、有機
過酸化物または50℃以上の温度で加熱すると遊離ラジ
カルを生ずる活性化α−ヒドロキシ化合物の存在下で組
成物が重合するまで加熱することを特徴とする重合性材
料の製造方法を提供する。
陽イオン性重合性材料四は例えば、オキセタ/もしくは
テトラヒドロフラノの様な環状エーテル、ラクト/の様
な遠吠エステル、エチレンスルフィドの様なエピスルフ
ィド、ビニルエーテル、メチル/もしくはビニルカルバ
ゾールの様などニルモノマー、またはビニルプレポリマ
ーであり得る。好ましい(イ)はエチレン才手7ド、プ
ロピレンオキ7ド、もしくはエポキシド樹脂の様fA1
.2−エポキソド、フェノールブラスト、尿累−ホルム
アルデヒドもしくはメラミ/−ホルムアルデヒド樹脂の
様な一1ミノブラスト。
テトラヒドロフラノの様な環状エーテル、ラクト/の様
な遠吠エステル、エチレンスルフィドの様なエピスルフ
ィド、ビニルエーテル、メチル/もしくはビニルカルバ
ゾールの様などニルモノマー、またはビニルプレポリマ
ーであり得る。好ましい(イ)はエチレン才手7ド、プ
ロピレンオキ7ド、もしくはエポキシド樹脂の様fA1
.2−エポキソド、フェノールブラスト、尿累−ホルム
アルデヒドもしくはメラミ/−ホルムアルデヒド樹脂の
様な一1ミノブラスト。
またti環状ビニルエーテルである。とりわけ好ましい
陽イl′ノ+!+重合性材料は、6.4−エボキシンク
ロヘキシルメチル−s1.aT−エポキシンク口ヘキサ
ンカルボキ7レート及びその6.6′−ジメチル訪導体
、エチレングリコールビス(3,4−エポキシ7り口ヘ
キサ7カルボキシレ−ト)、ビス(5,4−エポキシ/
りUヘキシルメチル)アジペート、ジンク12べ/タジ
エ/ジオキサイド及びビニシンクロヘキセ/ジオキサイ
ドの様なm11式エポキシド樹脂、前駆していてもよい
1,4−ブタ/ジオール及びジエチレングリコールの様
な多価アルコール及び2.2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)フロパ/及ヒフェノール−フルデヒドノボラッ
クの様す多価フェノールのポリグリ7ジルエーテル、3
.4−ジヒドロ−2月−ビラ/−2−イ、vメチル(5
,4−ジヒドロ−2H−ビラン−2−カルホキ/レート
)の様なジヒドロビラン&金含む環状ビニルエーテル、
並びにフェノール−ホルムアルデヒドレゾールである。
陽イl′ノ+!+重合性材料は、6.4−エボキシンク
ロヘキシルメチル−s1.aT−エポキシンク口ヘキサ
ンカルボキ7レート及びその6.6′−ジメチル訪導体
、エチレングリコールビス(3,4−エポキシ7り口ヘ
キサ7カルボキシレ−ト)、ビス(5,4−エポキシ/
りUヘキシルメチル)アジペート、ジンク12べ/タジ
エ/ジオキサイド及びビニシンクロヘキセ/ジオキサイ
ドの様なm11式エポキシド樹脂、前駆していてもよい
1,4−ブタ/ジオール及びジエチレングリコールの様
な多価アルコール及び2.2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)フロパ/及ヒフェノール−フルデヒドノボラッ
クの様す多価フェノールのポリグリ7ジルエーテル、3
.4−ジヒドロ−2月−ビラ/−2−イ、vメチル(5
,4−ジヒドロ−2H−ビラン−2−カルホキ/レート
)の様なジヒドロビラン&金含む環状ビニルエーテル、
並びにフェノール−ホルムアルデヒドレゾールである。
陽イオ/性爪合性相科の2種以上の混合物も使用し得る
。
。
ヒドロキシ化合物の)は通常一種以上の50℃以上の温
度で加熱すると遊離ラジカルを生ずる様な他の基で活性
化されていない第一もしくは第二アルコール注水酸基t
−)Mするエポキシド樹脂有機材料である。ヒドロネジ
化合物の混合物を使用できる。モノヒドロキシ化合物、
特に分子量が60ないし250の化合物はある擁の用途
、例えば低粘度のコーチ7グ組成物の製造に有用である
。適するモノヒドロキシ化合物の例として1−ブタノー
ル、1−オクタツール、1−デカノール、シクロヘキサ
ノール及びシクロヘキシルメタノールの様なアルカノー
ル、ベンジルアルコールの様なアルアルキルアルコール
、2−メトキシエタノール、2−エトキンエタノール及
び2−ブトキンエタノールの様なアルキレングリコール
のモノアルキルエーテル、並びにポリオキシエチレン及
びポリオキシグロピレ/グリコールのメチル及びエチル
エーテルの様なポリオキシアルキレングリコールのモノ
アルキルエーテルが挙げられる。
度で加熱すると遊離ラジカルを生ずる様な他の基で活性
化されていない第一もしくは第二アルコール注水酸基t
−)Mするエポキシド樹脂有機材料である。ヒドロネジ
化合物の混合物を使用できる。モノヒドロキシ化合物、
特に分子量が60ないし250の化合物はある擁の用途
、例えば低粘度のコーチ7グ組成物の製造に有用である
。適するモノヒドロキシ化合物の例として1−ブタノー
ル、1−オクタツール、1−デカノール、シクロヘキサ
ノール及びシクロヘキシルメタノールの様なアルカノー
ル、ベンジルアルコールの様なアルアルキルアルコール
、2−メトキシエタノール、2−エトキンエタノール及
び2−ブトキンエタノールの様なアルキレングリコール
のモノアルキルエーテル、並びにポリオキシエチレン及
びポリオキシグロピレ/グリコールのメチル及びエチル
エーテルの様なポリオキシアルキレングリコールのモノ
アルキルエーテルが挙げられる。
一般的に2個以上の第−及び/または第二アルコール性
水酸基を有するヒドロキシ化合物が好ましい。適するポ
リヒドロキシ化合物は1゜4−ブタンジオールの様なジ
オール及びクリセロールの様なトリオールである。好ま
シイポリヒドロキシ化合物の分子量は少なくとも100
であシ、好ましくは500以上である。その様な分子量
を有する適する化合物の例として、ポリオキシエチレン
、ポリオキシグロビレノ及ヒポリオキシテトラメチレン
グリコール及びトリオールの様なポリオキシアルキレ/
グリコール及びトリオール、ポリエビクロロヒドリノ、
水酸基を末端基とするポリカプロラクト/、ヒドロキシ
アルキルアクリレート及びメタクリレートのポリマー、
アリルアルコールとスチレンの様などニルモノマーとの
コポリマー、ポリビニルアルコール、ヒドロキシプロピ
ルセルロース、並びに水酸基含有ポリビニルアセタール
が挙げられる。
水酸基を有するヒドロキシ化合物が好ましい。適するポ
リヒドロキシ化合物は1゜4−ブタンジオールの様なジ
オール及びクリセロールの様なトリオールである。好ま
シイポリヒドロキシ化合物の分子量は少なくとも100
であシ、好ましくは500以上である。その様な分子量
を有する適する化合物の例として、ポリオキシエチレン
、ポリオキシグロビレノ及ヒポリオキシテトラメチレン
グリコール及びトリオールの様なポリオキシアルキレ/
グリコール及びトリオール、ポリエビクロロヒドリノ、
水酸基を末端基とするポリカプロラクト/、ヒドロキシ
アルキルアクリレート及びメタクリレートのポリマー、
アリルアルコールとスチレンの様などニルモノマーとの
コポリマー、ポリビニルアルコール、ヒドロキシプロピ
ルセルロース、並びに水酸基含有ポリビニルアセタール
が挙げられる。
他の適するポリヒドロキシ化合物は、エボキ7ド樹脂(
低分子量のエポキシド樹脂、特に多価フェノールのポリ
グリ7ジルエーテル全前駆することにより、例えば二価
フェノールもしくはジカルボ/酸と反応させることによ
り得ることができる)をフェノール性水酸基、カルボキ
シル基、第一もしくは第ニアばノ基、才たけメルカプト
基の様なエポキシド基と反応しやすい基を1個以上含有
する化合物の過剰量と反応させることにより製造される
第二アルコール性水酸基を含有する物質である。
低分子量のエポキシド樹脂、特に多価フェノールのポリ
グリ7ジルエーテル全前駆することにより、例えば二価
フェノールもしくはジカルボ/酸と反応させることによ
り得ることができる)をフェノール性水酸基、カルボキ
シル基、第一もしくは第ニアばノ基、才たけメルカプト
基の様なエポキシド基と反応しやすい基を1個以上含有
する化合物の過剰量と反応させることにより製造される
第二アルコール性水酸基を含有する物質である。
さらに適するポリヒドロキシ化合物はフェノールーホル
ムアルデヒドレソ−kL7)様f! 、フェノールを過
剰量のアルデヒドと反応させることにより得られるフェ
ノール性レゾールである。
ムアルデヒドレソ−kL7)様f! 、フェノールを過
剰量のアルデヒドと反応させることにより得られるフェ
ノール性レゾールである。
フェノールーホルムアルテヒドレグールヲ本発明の組成
物の陽イオン性重合性材料四として使用する場合、異な
るレゾールもしくはレゾール以外の化合物であるヒドロ
キシ化合物[F])が含まれなければならない。
物の陽イオン性重合性材料四として使用する場合、異な
るレゾールもしくはレゾール以外の化合物であるヒドロ
キシ化合物[F])が含まれなければならない。
特に好ましいヒドロキシ化合物はメチレ/−アリルアル
コールコポリマー、フェノール−ホルムアルデヒドレゾ
ール並びに2.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フ
ロハ/テ前駆シていても良い2.2−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)プロパ/のジグリシジルエーテル4を過
剰量の一価もしくは二価のフェノール、トリワはフェノ
ールもしくは2.2〜ビス(4−ヒドロキシフェニル)
プロパ/と反応させて得られる第二アルコール性水酸基
含有樹脂である。
コールコポリマー、フェノール−ホルムアルデヒドレゾ
ール並びに2.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フ
ロハ/テ前駆シていても良い2.2−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)プロパ/のジグリシジルエーテル4を過
剰量の一価もしくは二価のフェノール、トリワはフェノ
ールもしくは2.2〜ビス(4−ヒドロキシフェニル)
プロパ/と反応させて得られる第二アルコール性水酸基
含有樹脂である。
本発明の組成物に含まれるヒドロキシ化合物(131の
量は、ヒドロキシ化合物と陽イオン性重合性材料との適
合性及び重合生成物に要求される物理的性質に依存して
かなり広い範囲にわたって変化させ得る。通常、モノヒ
ドロキソ化合物を使用する場合、エボ本シトもしくは他
の陽イオン性重合性相料の当量あたり0.001 ない
し02当指のヒドロキソ化合物を供給する量で用いられ
、ポリヒドロキシ化合物を使用する場合、陽イオノ性重
合性材料の当量あたり1001ないし10当量のヒドロ
キシ化合物を供給する量で用いられる。特に好ましい組
成物は陽イオン性重合性材料の当量あたり0.8ないし
12当量のヒドロキソ化合物を有する好ましいポリヒド
ロキシ化合物を含有する。
量は、ヒドロキシ化合物と陽イオン性重合性材料との適
合性及び重合生成物に要求される物理的性質に依存して
かなり広い範囲にわたって変化させ得る。通常、モノヒ
ドロキソ化合物を使用する場合、エボ本シトもしくは他
の陽イオン性重合性相料の当量あたり0.001 ない
し02当指のヒドロキソ化合物を供給する量で用いられ
、ポリヒドロキシ化合物を使用する場合、陽イオノ性重
合性材料の当量あたり1001ないし10当量のヒドロ
キシ化合物を供給する量で用いられる。特に好ましい組
成物は陽イオン性重合性材料の当量あたり0.8ないし
12当量のヒドロキソ化合物を有する好ましいポリヒド
ロキシ化合物を含有する。
前記式11のジアリールヨードシルmにおいて、R3及
びR4は好ましくは同一であり、所望により置換された
モノ−、ジー、もしくはトリー単元素環もしくは複素環
式芳香族基である。適する複素環式芳香族基の例として
チェニル基、フリル基、ピリジル基、及びビラジイル基
が挙げられる。適する三環式芳香族基の例としてア/ト
!J/14.フヱナノトリル基、及ヒフルオレニル基が
挙げられ、適するj1L環式及び二環式芳香族基はフェ
ニル基及びナフチル基並びに次式■:(式中、Ylは炭
素原子間の結合、エーテル性酸素原子、またL次式ニー
(、”H,−もしくは−C(CHi)z−で表わされる
基を表わす)で表わされる基である。とれらの芳香族基
は所望によシ照射もしくは加熱した時に酸などの遊離を
妨げない1個以上の原子または基で置換されていてもよ
い。その様な典型的な置換基としては炭素原子数1ない
し4のアルキル基及びアルコキシ基、ニトロ基、並びに
ハロゲン原子が含まれる。R3及びR4は好ましくは各
々所望によりf&換されたフェニル基、特に未置換また
は炭素原子数1ないし4のアルキル基、とりわけメチル
基もしくはインプロピル基、ハロゲノ原子、とりわけフ
ッ素原子、もしくはニトロ基で置換されたフェニル基が
挙けられる。
びR4は好ましくは同一であり、所望により置換された
モノ−、ジー、もしくはトリー単元素環もしくは複素環
式芳香族基である。適する複素環式芳香族基の例として
チェニル基、フリル基、ピリジル基、及びビラジイル基
が挙げられる。適する三環式芳香族基の例としてア/ト
!J/14.フヱナノトリル基、及ヒフルオレニル基が
挙げられ、適するj1L環式及び二環式芳香族基はフェ
ニル基及びナフチル基並びに次式■:(式中、Ylは炭
素原子間の結合、エーテル性酸素原子、またL次式ニー
(、”H,−もしくは−C(CHi)z−で表わされる
基を表わす)で表わされる基である。とれらの芳香族基
は所望によシ照射もしくは加熱した時に酸などの遊離を
妨げない1個以上の原子または基で置換されていてもよ
い。その様な典型的な置換基としては炭素原子数1ない
し4のアルキル基及びアルコキシ基、ニトロ基、並びに
ハロゲン原子が含まれる。R3及びR4は好ましくは各
々所望によりf&換されたフェニル基、特に未置換また
は炭素原子数1ないし4のアルキル基、とりわけメチル
基もしくはインプロピル基、ハロゲノ原子、とりわけフ
ッ素原子、もしくはニトロ基で置換されたフェニル基が
挙けられる。
適するzX−で表わされる陰イオ/は酢酸イオン及びト
リフルオロ酢酸イオ/の様な有機カルボッ酸から誘導さ
れるイオノ、次式:Y−80,H(式中、Yは脂肪族、
芳香族もしくは脂肪族で置換された芳養族基を表わし、
好ましくは炭素原子数1ないし20であり、1個以上の
ハロゲノ原子で置換されていてもよい)で表わされる有
機スルホ/酸から誘導されるイオ/、例えばメタ/スル
ホン酸イオン、ベンゼノスルポン酸イオ/、トルエアー
p−スルホ/酸イオノ、及びトリフルオロメタ/スルボ
/Mイオ/、及ヒ特に無機酸から誘導されるイオン、典
型的にはフッ素イオン、塩素イオン及び芙素イオ/の様
す/−ロ))’ 7 (オノ、ヨウ素酸イオ/の61j
ハロゲ/#lイオノ、過塩素酸イオンの様な過ハロゲン
酸イオン、さらに硝酸イオン、硫酸イオン、硫酸水素イ
オ/、す/酸イオン、す/酸水素イオン、並びにペンタ
フルオロヒドロキシア/チモン酸イオン及び次式:MQ
、、(式中、Mは金属原子もしくはメタロイド原子を表
わし、Qはハロゲン原子を表わし、WはMの原子価より
も1以上多い4ないし6の整数を表わす)で表わされる
イオノの様な錯イオンである。
リフルオロ酢酸イオ/の様な有機カルボッ酸から誘導さ
れるイオノ、次式:Y−80,H(式中、Yは脂肪族、
芳香族もしくは脂肪族で置換された芳養族基を表わし、
好ましくは炭素原子数1ないし20であり、1個以上の
ハロゲノ原子で置換されていてもよい)で表わされる有
機スルホ/酸から誘導されるイオ/、例えばメタ/スル
ホン酸イオン、ベンゼノスルポン酸イオ/、トルエアー
p−スルホ/酸イオノ、及びトリフルオロメタ/スルボ
/Mイオ/、及ヒ特に無機酸から誘導されるイオン、典
型的にはフッ素イオン、塩素イオン及び芙素イオ/の様
す/−ロ))’ 7 (オノ、ヨウ素酸イオ/の61j
ハロゲ/#lイオノ、過塩素酸イオンの様な過ハロゲン
酸イオン、さらに硝酸イオン、硫酸イオン、硫酸水素イ
オ/、す/酸イオン、す/酸水素イオン、並びにペンタ
フルオロヒドロキシア/チモン酸イオン及び次式:MQ
、、(式中、Mは金属原子もしくはメタロイド原子を表
わし、Qはハロゲン原子を表わし、WはMの原子価より
も1以上多い4ないし6の整数を表わす)で表わされる
イオノの様な錯イオンである。
上記式MQ′v、で表わされる陰イオンは、好ましくは
へキサフルオロア/チモ/酸イオ/、へキサクロロアン
チモン酸イオ/、へキサフルオロ砒酸イオン、ペンタク
ロロビスマス酸イオ/、テトラクロロ鉄酸イオノ、へキ
サクロロ錫酸イオ/、テトラフルオロホウ+!イオ/、
またはへキサフルオロリン酸イオノの様なアノチモ/、
砒素、ビスマス、鉄、鉛、ホウ素、及びり/の、l−’
IJハロゲ/化物である。テトラフルオロホウ酸イオ
/及びへキサフルオロリン酸イオ/が特に好ましい。
へキサフルオロア/チモ/酸イオ/、へキサクロロアン
チモン酸イオ/、へキサフルオロ砒酸イオン、ペンタク
ロロビスマス酸イオ/、テトラクロロ鉄酸イオノ、へキ
サクロロ錫酸イオ/、テトラフルオロホウ+!イオ/、
またはへキサフルオロリン酸イオノの様なアノチモ/、
砒素、ビスマス、鉄、鉛、ホウ素、及びり/の、l−’
IJハロゲ/化物である。テトラフルオロホウ酸イオ
/及びへキサフルオロリン酸イオ/が特に好ましい。
陽イオン性東合性月科は式Hの過当なジアリールヨード
シル塩の存在下で化学線に暴露または加熱することKよ
り重合され得る。しかしながら、該材料はこれらのどの
塩によっても重合するわけではない。材料の精密な性質
及びが−で表わされる陰イオンの性質は重要であり、効
果的な結果を得る為に選択されなければならない。陽イ
オン性重合性材料と適する陰イオ/との適合は硬化また
は陽イオン性重合性組成物の重合の技術分野における当
該技術者の知識の範囲内で充分である。例えば有機カル
ボ/酸、有機スルホ/酸、及び無機酸から誘導される陰
イオンtl−含有する塩、特に酢酸塩、トリフルオロ酢
酸塩、メタ/スルホ/酸塩、べ/ゼ/スルホ/酸塩、ト
ルエ/−p−スルホノ酸塩、トリフルオロメタノスルホ
/酸塩、フーノ化物、塩化物、ホウ化物、ヨウ化物、過
塩素酸塩、硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、IJ ン酸塩
またはり/酸水素塩はフェノールホルムアルデヒド樹1
1旨の様なフェノールプラスト及び原木−ホルムアルデ
ヒド及ヒメラミノーホルムアルデヒド樹脂の様ナアミノ
プラストの硬化に適している。金属/・ロゲ/化物また
はメタロイドハロゲノ化物の陰イオンを含有する塩はエ
ポキシド樹脂もしくはエピスルフィド樹脂の硬化または
重合性モノ−1゜2−エポキシド、モノエピスルフィド
またはビニルエーテルの重合に適している。ヨードニウ
ム塩の存在下で熱または化学線により重合し得る他の物
質は式■で表わされる適当なジアリールヨードシル塩の
存在下で化学線により、または該塩及び触媒Q1の存在
下で熱により重合し得る。
シル塩の存在下で化学線に暴露または加熱することKよ
り重合され得る。しかしながら、該材料はこれらのどの
塩によっても重合するわけではない。材料の精密な性質
及びが−で表わされる陰イオンの性質は重要であり、効
果的な結果を得る為に選択されなければならない。陽イ
オン性重合性材料と適する陰イオ/との適合は硬化また
は陽イオン性重合性組成物の重合の技術分野における当
該技術者の知識の範囲内で充分である。例えば有機カル
ボ/酸、有機スルホ/酸、及び無機酸から誘導される陰
イオンtl−含有する塩、特に酢酸塩、トリフルオロ酢
酸塩、メタ/スルホ/酸塩、べ/ゼ/スルホ/酸塩、ト
ルエ/−p−スルホノ酸塩、トリフルオロメタノスルホ
/酸塩、フーノ化物、塩化物、ホウ化物、ヨウ化物、過
塩素酸塩、硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、IJ ン酸塩
またはり/酸水素塩はフェノールホルムアルデヒド樹1
1旨の様なフェノールプラスト及び原木−ホルムアルデ
ヒド及ヒメラミノーホルムアルデヒド樹脂の様ナアミノ
プラストの硬化に適している。金属/・ロゲ/化物また
はメタロイドハロゲノ化物の陰イオンを含有する塩はエ
ポキシド樹脂もしくはエピスルフィド樹脂の硬化または
重合性モノ−1゜2−エポキシド、モノエピスルフィド
またはビニルエーテルの重合に適している。ヨードニウ
ム塩の存在下で熱または化学線により重合し得る他の物
質は式■で表わされる適当なジアリールヨードシル塩の
存在下で化学線により、または該塩及び触媒Q1の存在
下で熱により重合し得る。
組成物中のジアリールヨードシル塩の含有量は、硬化ま
たは光重合を行なう為には触媒量のみで良いので、通常
は重要な問題ではない。一般的に陽イオ/性重合性材料
へ)の重敞に対して(101重量%ないし10重量%、
好ましくはα5ないし5重量憾の量で使用される。
たは光重合を行なう為には触媒量のみで良いので、通常
は重要な問題ではない。一般的に陽イオ/性重合性材料
へ)の重敞に対して(101重量%ないし10重量%、
好ましくはα5ないし5重量憾の量で使用される。
式■のジアリールヨードシル塩はF 、M、 Ber
inger及びP、 Bodlaender Kよる上
記の文献に記載されている方法と類似の方法により製造
され得る。
inger及びP、 Bodlaender Kよる上
記の文献に記載されている方法と類似の方法により製造
され得る。
式■のヨードアレーンは過酢酸により式■の対応するヨ
ードキシアレ−7Km化される。このヨ−ドキシアレー
/もしくは2種のヨードキシアレーンの混合物をアルカ
リ金属の水酸化物で処理すると式■のヨードシル水酸化
物が得られ、これを二酸化炭素で処理して式■の化合物
の炭酸塩に転化する。この水酸化物または炭酸塩を次式
: HxZで表わされる酸で処理すると(その様な酸が
存在する場合)、所望の塩が生成する。
ードキシアレ−7Km化される。このヨ−ドキシアレー
/もしくは2種のヨードキシアレーンの混合物をアルカ
リ金属の水酸化物で処理すると式■のヨードシル水酸化
物が得られ、これを二酸化炭素で処理して式■の化合物
の炭酸塩に転化する。この水酸化物または炭酸塩を次式
: HxZで表わされる酸で処理すると(その様な酸が
存在する場合)、所望の塩が生成する。
(ヨードノル水酸化物を直接中和した場合、最初に炭酸
塩に転化した場合よりも所望の塩の収率が低いことがあ
る。)その様な酸が存在しない場合、または取扱いが困
Mな場合は、水酸化物または炭酸塩を例えば酢酸または
トリフルオロ酢酸で処理して、対応する式■の酢酸塩抜
たは式■のトリフルオロ酢酸塩を形成することもできる
。これらの塩を酸HxZのアルカリ金属塩もしくはアン
モニウム塩、例えばり/酸塩、ヘキサフルオロリノ酸、
テトラクロロ鉄酸塩またはへキサフルオロア/チモ/酸
塩で処理すると複分解して所望の弐Bの生成物を得る。
塩に転化した場合よりも所望の塩の収率が低いことがあ
る。)その様な酸が存在しない場合、または取扱いが困
Mな場合は、水酸化物または炭酸塩を例えば酢酸または
トリフルオロ酢酸で処理して、対応する式■の酢酸塩抜
たは式■のトリフルオロ酢酸塩を形成することもできる
。これらの塩を酸HxZのアルカリ金属塩もしくはアン
モニウム塩、例えばり/酸塩、ヘキサフルオロリノ酸、
テトラクロロ鉄酸塩またはへキサフルオロア/チモ/酸
塩で処理すると複分解して所望の弐Bの生成物を得る。
これらの反応は下記の式で示される。
ヘキサフルオロアンチモン酸イオンは固体のヘキサフル
オロアンチモン酸ナトリウムもしくはカリウム全ヨード
シル酢酸もしくはトリフルオロ酢酸の水溶液に添加する
ことにより合成で。
オロアンチモン酸ナトリウムもしくはカリウム全ヨード
シル酢酸もしくはトリフルオロ酢酸の水溶液に添加する
ことにより合成で。
きる。ナトリウムまたはカリウム塩を最初に水に溶解す
ると加水分解するので単離さ扛る生成物はヒドロキシペ
ンタフルオロアンチモネート(Zx=SbFs(OH)
J f h ル。
ると加水分解するので単離さ扛る生成物はヒドロキシペ
ンタフルオロアンチモネート(Zx=SbFs(OH)
J f h ル。
本発明の組成物を光争合する場合、該組成物はラジカル
発生剤または光増感剤全含有していても良い。本発明者
らはその様な適当な促進剤の投与によって硬化速度が上
がり、その為より短い照射時間及び/またはより低出力
の化学線源音用いることが可能になることを見出した。
発生剤または光増感剤全含有していても良い。本発明者
らはその様な適当な促進剤の投与によって硬化速度が上
がり、その為より短い照射時間及び/またはより低出力
の化学線源音用いることが可能になることを見出した。
!旨に好ましいラジカル発生illは芳香族カルボニル
化合物である。該化合物はエナレン系の不飽和化合物の
ラジカル取合のために使用されてきたが、陽イオン性の
本合金促進するというのは壽〈べき事実である、。
化合物である。該化合物はエナレン系の不飽和化合物の
ラジカル取合のために使用されてきたが、陽イオン性の
本合金促進するというのは壽〈べき事実である、。
適する芳香族カルボニル化合物は芳香族ジケトンのケタ
ール、特に次式゛ 〔式中、 I(8は水素原子、炭素原子数1ないし5のアルキル基
、炭素原子数2もしくは3のアルケニル基、炭素原子数
7ないし9のアルアルキル基、炭素原子数8ないし9の
アルアルケニル基、または次式: (CH2)m−ピで
表わされる基を表わし、 F6は次式: −CH2CH(l(’)−または−CH
,CH()t’)CI−1,−で茨わ:8扛る基を衣わ
し、It7はハ(lゲン原子ま7’CU次式 −01t
’ 、 −8)t’ 。
ール、特に次式゛ 〔式中、 I(8は水素原子、炭素原子数1ないし5のアルキル基
、炭素原子数2もしくは3のアルケニル基、炭素原子数
7ないし9のアルアルキル基、炭素原子数8ないし9の
アルアルケニル基、または次式: (CH2)m−ピで
表わされる基を表わし、 F6は次式: −CH2CH(l(’)−または−CH
,CH()t’)CI−1,−で茨わ:8扛る基を衣わ
し、It7はハ(lゲン原子ま7’CU次式 −01t
’ 、 −8)t’ 。
−0IL” 、 −8)L” 、−0(、’0)L’も
しくは−cuuWで表わされる基を表わし、 mは1,2.またFi3’frffわし、k8は炭素原
子数1ないし4のアルキル基を表わし、 1t″はハロゲン原子または炭素原子数1ない(718
のアルキル基金表わし、そして 1(IQ 、 1tII、及びI(12は未箭換または
ハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基もし
くはアルコキシ基、及びフェニル基から選ばれる511
〜以下の1i換基で置換された]xニル基を表わす〕で
表わさtLる化合物である。
しくは−cuuWで表わされる基を表わし、 mは1,2.またFi3’frffわし、k8は炭素原
子数1ないし4のアルキル基を表わし、 1t″はハロゲン原子または炭素原子数1ない(718
のアルキル基金表わし、そして 1(IQ 、 1tII、及びI(12は未箭換または
ハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基もし
くはアルコキシ基、及びフェニル基から選ばれる511
〜以下の1i換基で置換された]xニル基を表わす〕で
表わさtLる化合物である。
式Xの化合物の例として、ベンジルジメチルケタール
ベンジルジエチルケタール、ベンジルジ(2−メトキシ
エチル)ケタール、及ヒベンジルジ(2−クロロエーテ
ル)ケタールカ挙ケらrLる、式Xの化合物の例として
、2−フェニル−2−ベンゾイル−4−メチル−1,6
−シオキシラン及び2−フェニル−2−ベンゾイル−1
,5−ジオキサンが挙げられる。その様な芳香族カルボ
ニル化合物として特に好ましいのはベンジルジメチルケ
タールである。
ベンジルジエチルケタール、ベンジルジ(2−メトキシ
エチル)ケタール、及ヒベンジルジ(2−クロロエーテ
ル)ケタールカ挙ケらrLる、式Xの化合物の例として
、2−フェニル−2−ベンゾイル−4−メチル−1,6
−シオキシラン及び2−フェニル−2−ベンゾイル−1
,5−ジオキサンが挙げられる。その様な芳香族カルボ
ニル化合物として特に好ましいのはベンジルジメチルケ
タールである。
上記式Xまたは上記式Xの化付物は合衆国特許第419
0602号に記載されており、該文献ではメチルアクリ
レート、マレイン酸全ヘースとするスチレン含有ポリエ
ステル、及びジアリルフタレートプ1/ポリマーの様な
エチレン系の不飽和化合物の先取合または光架橋の為に
使用さn、ている。
0602号に記載されており、該文献ではメチルアクリ
レート、マレイン酸全ヘースとするスチレン含有ポリエ
ステル、及びジアリルフタレートプ1/ポリマーの様な
エチレン系の不飽和化合物の先取合または光架橋の為に
使用さn、ている。
光反応促進剤としての使用に適する他の物質は次式
(3
(1
%式%
〔式中。
1t10は旧制で定義した怠味を表わし、)(13及び
に”1St各々1価の脂肪族、脂環式、もしくは芳香脂
肪族(aral 1phatic)の基を衣ゎすか、i
たけ結合している炭素原子と一緒になってシクロアルギ
レン基金表わしてもよく、1(156戻素原子間の結合
ま1ζは2価の有機ラジメノルを表わし。
に”1St各々1価の脂肪族、脂環式、もしくは芳香脂
肪族(aral 1phatic)の基を衣ゎすか、i
たけ結合している炭素原子と一緒になってシクロアルギ
レン基金表わしてもよく、1(156戻素原子間の結合
ま1ζは2価の有機ラジメノルを表わし。
1(16は水酸基またはアミ7基、捷たはそれらの基の
エーテル化もしくはンリル化されたもの金表わし、 1t17は2価の7ミノ基、エーテル基、または70キ
シ基を表わし、 R” u lIj’4k +’J 化学結合4 ft
u −CH2−k N ワシ、そして R”I−1−U−、−8−+ −802−、−CH,−
、t タu −C(CHI )2− k表わす〕で表わ
される芳香族−脂肪族ケトンを包含する。
エーテル化もしくはンリル化されたもの金表わし、 1t17は2価の7ミノ基、エーテル基、または70キ
シ基を表わし、 R” u lIj’4k +’J 化学結合4 ft
u −CH2−k N ワシ、そして R”I−1−U−、−8−+ −802−、−CH,−
、t タu −C(CHI )2− k表わす〕で表わ
される芳香族−脂肪族ケトンを包含する。
これらの化合物、好ましくは2−了りルオキシー2−メ
チルプロピオフェノン、2−ペンジルオキシ−2−メチ
ル−プロピオフェノン、2−ヒドロキシ−2−ノナルー
p−フェノキンプロピオフェノン、1−ベンゾイル/り
ロヘキサノール、1−ペンゾイルシクロベ:/タノール
、及びビス(4−(α−ヒドロキシイソブチリル)フェ
ニル)エーテル全包含する化合物群はエチレン系の不飽
和化合物の光重合触媒として、並びにポリオレフィン光
架橋剤として合衆国特許願第4308400号明細%に
記e、されている。
チルプロピオフェノン、2−ペンジルオキシ−2−メチ
ル−プロピオフェノン、2−ヒドロキシ−2−ノナルー
p−フェノキンプロピオフェノン、1−ベンゾイル/り
ロヘキサノール、1−ペンゾイルシクロベ:/タノール
、及びビス(4−(α−ヒドロキシイソブチリル)フェ
ニル)エーテル全包含する化合物群はエチレン系の不飽
和化合物の光重合触媒として、並びにポリオレフィン光
架橋剤として合衆国特許願第4308400号明細%に
記e、されている。
弐■の塩の光取含率を増加するために使用され得る他の
化合物として次式: 〔式中、l?は塩素原子またはイソプロピル基もしくは
単玉ブチル基の様な炭素原子数111いし6のアルキル
橘を表わす〕で表わされる2−1f換チオキサントンが
挙げられる。
化合物として次式: 〔式中、l?は塩素原子またはイソプロピル基もしくは
単玉ブチル基の様な炭素原子数111いし6のアルキル
橘を表わす〕で表わされる2−1f換チオキサントンが
挙げられる。
式x■の化合物、特に2−クロロ化合物はエーテル系の
不飽和化合物の光重合触媒として、並びにポリオレフィ
ンの光架橋剤として産業的に使用されている。
不飽和化合物の光重合触媒として、並びにポリオレフィ
ンの光架橋剤として産業的に使用されている。
本発明においては好1しくけ式■のシア17 +ルヨー
ドシル塩の1iに対して60ないし125チ、とりわけ
50ないし1o o @@’Aの光促進剤全含有する。
ドシル塩の1iに対して60ないし125チ、とりわけ
50ないし1o o @@’Aの光促進剤全含有する。
本発明の組成物ハサらにポリアリーレン(例えばベリー
レン及び9,10−シェドキンアントラセン)、ポリア
リールポリエン、2,5−ジアリールイソベンゾフラン
、礼5−ジアリールフラン、2I5−ジアリールチオフ
ラン、2,5−ジアリールヒロール、 2. s−シ゛
γリールシクロペンタジェン、ポリTリールフェニレン
、クマリン、及びポリアリール−2−ビシゾリンの様な
光増感剤金含有しても良い。
レン及び9,10−シェドキンアントラセン)、ポリア
リールポリエン、2,5−ジアリールイソベンゾフラン
、礼5−ジアリールフラン、2I5−ジアリールチオフ
ラン、2,5−ジアリールヒロール、 2. s−シ゛
γリールシクロペンタジェン、ポリTリールフェニレン
、クマリン、及びポリアリール−2−ビシゾリンの様な
光増感剤金含有しても良い。
本開明の組成物が実質的に熱のみで重合されるとき、該
組成物はヨードシル塩の触媒としてd−ブロックの遷移
金属の塩もしくは錯体、第一錫塩有機過酸化物ま7′c
は50℃以上の温度で加熱すると遊離ラジカルを生ずる
活性化α−ヒドロキシ化合物を含有する。
組成物はヨードシル塩の触媒としてd−ブロックの遷移
金属の塩もしくは錯体、第一錫塩有機過酸化物ま7′c
は50℃以上の温度で加熱すると遊離ラジカルを生ずる
活性化α−ヒドロキシ化合物を含有する。
本発明の硬化性組成物に触媒(D+として使用され得る
有機過酸化物は過酸化ジクミル、第三ブチルパーベンゾ
エート、第三ブチルパーオキサイド、及び特にベンゾイ
ルパーオキサイドを包含する。好ましい第一錫塩は塩化
第一錫である。
有機過酸化物は過酸化ジクミル、第三ブチルパーベンゾ
エート、第三ブチルパーオキサイド、及び特にベンゾイ
ルパーオキサイドを包含する。好ましい第一錫塩は塩化
第一錫である。
触媒(1)lは好ましくはd−ブロックの遷#金属の塩
もしくは錯体またはα−ヒドロキシ化合物である。d−
ブロック遷移金属はスカンジウムから亜鉛までの第一遷
移元素の列、及びイア)リウムからカドミウムまでの第
二遷移元素の列の金属である。塩または錯体を触媒(+
))として使用するのに好ましいd−ブロック遷s曾m
i−を亜鉛、コバルト、クロム、鉄、さらに特に好まし
くは銅である。塩Fi塩化物、酢酸塩、トリクロロ酢酸
塩、ナフテン酸塩、オクタン酸塩、及びシュウ酸塩の様
な有機酸もしくは鉱酸の塩である。適する錯体はπ−軌
道錯体、分子内錯塩を生成する配位子で生成する錯体、
並びにアルデヒド、ケトン、カルボキシアミド、及び脂
肪族アミノモノカルボン酸及びアミノポリカルボン酸で
ある。特に好ましい錯体は1,6−ジケトン、例えばア
セチルアセトン、その同族体、例えばベンゾイルアセト
ン及び七の誘導体、例えばエチルアセトアセテートと杉
成されるものである。
もしくは錯体またはα−ヒドロキシ化合物である。d−
ブロック遷移金属はスカンジウムから亜鉛までの第一遷
移元素の列、及びイア)リウムからカドミウムまでの第
二遷移元素の列の金属である。塩または錯体を触媒(+
))として使用するのに好ましいd−ブロック遷s曾m
i−を亜鉛、コバルト、クロム、鉄、さらに特に好まし
くは銅である。塩Fi塩化物、酢酸塩、トリクロロ酢酸
塩、ナフテン酸塩、オクタン酸塩、及びシュウ酸塩の様
な有機酸もしくは鉱酸の塩である。適する錯体はπ−軌
道錯体、分子内錯塩を生成する配位子で生成する錯体、
並びにアルデヒド、ケトン、カルボキシアミド、及び脂
肪族アミノモノカルボン酸及びアミノポリカルボン酸で
ある。特に好ましい錯体は1,6−ジケトン、例えばア
セチルアセトン、その同族体、例えばベンゾイルアセト
ン及び七の誘導体、例えばエチルアセトアセテートと杉
成されるものである。
活性化されたα−ヒドロキシ化合物は、カルボニル基の
様な活性基に対してα位の炭素原子に結合する水酸基も
しくは水酸基を結合している炭素原子に結合する水酸基
を督し、加熱によりラジカルを生成する化合物である。
様な活性基に対してα位の炭素原子に結合する水酸基も
しくは水酸基を結合している炭素原子に結合する水酸基
を督し、加熱によりラジカルを生成する化合物である。
、i4する活性化α−ヒト自ギ/化合物にアスコルビン
酸アノロイン及びベンツ゛インの様なケトン、並びにピ
ナコール及びその同族体の様な活性化さJしたジオール
、とりわけベンズピナコール會包言1−る。
酸アノロイン及びベンツ゛インの様なケトン、並びにピ
ナコール及びその同族体の様な活性化さJしたジオール
、とりわけベンズピナコール會包言1−る。
所望により、−緒に使用できる触媒(D)、例えばアセ
チル酢酸第一銅もしくは安息香酸第二銅の様な遷移金属
の塩ま7′cは錯体をアスコルビン酸またはベンズピナ
コールと共に使用できる。
チル酢酸第一銅もしくは安息香酸第二銅の様な遷移金属
の塩ま7′cは錯体をアスコルビン酸またはベンズピナ
コールと共に使用できる。
触媒(D)の量は重要ではないが使用されるジアリール
ヨードシル塩の重量に対して通常10ないし150重i
%である。
ヨードシル塩の重量に対して通常10ないし150重i
%である。
本発明の組成物に投与され得る他の物質として、希釈剤
、シリカ、タルク、ガラスミクロバルーン(glass
rnicroballoon)、粘土、粉末状金属も
しくは酸化亜鉛の様な充填剤、アスベストの様な粘度指
数改良剤、ゴム、粘治何与、剤並びに顔料が挙げられる
。
、シリカ、タルク、ガラスミクロバルーン(glass
rnicroballoon)、粘土、粉末状金属も
しくは酸化亜鉛の様な充填剤、アスベストの様な粘度指
数改良剤、ゴム、粘治何与、剤並びに顔料が挙げられる
。
本発明の組成物に適当な波長の化学線に暴露すると、ヨ
ードシル塩光反応促進剤が外見−には酸全遊離して活性
化さ才り、組成物の重合、並びに組成物がエポキシド樹
脂またはフェノール系樹脂の様な硬化性陽イオン性中会
性物WJを77有する場合には架欄ヲ誘引する。本発明
のガ法に使用さすしる化学線は紫外脚のみでも、または
紫外部とq机部の両方のスペクトルを有する波長の化学
線でも良い。イ11成物にスペクトルのoJ視部にも反
応しやすい様に染料を営むこともできる。適する染料は
会衆国特許願第4026705号明細書に記載さtして
おり、通常はアクリジンイエo−(acridine
yellow)、アクリ ジンオレンジ(acridi
ne orange)、ホスフィンIt (phosp
hinel()、ベンゾフラヴ(y (benzofl
avin)、セトフラヴ4 ンi’ (setorla
vin ’l’)、並びにそ11らの混合物である。
ードシル塩光反応促進剤が外見−には酸全遊離して活性
化さ才り、組成物の重合、並びに組成物がエポキシド樹
脂またはフェノール系樹脂の様な硬化性陽イオン性中会
性物WJを77有する場合には架欄ヲ誘引する。本発明
のガ法に使用さすしる化学線は紫外脚のみでも、または
紫外部とq机部の両方のスペクトルを有する波長の化学
線でも良い。イ11成物にスペクトルのoJ視部にも反
応しやすい様に染料を営むこともできる。適する染料は
会衆国特許願第4026705号明細書に記載さtして
おり、通常はアクリジンイエo−(acridine
yellow)、アクリ ジンオレンジ(acridi
ne orange)、ホスフィンIt (phosp
hinel()、ベンゾフラヴ(y (benzofl
avin)、セトフラヴ4 ンi’ (setorla
vin ’l’)、並びにそ11らの混合物である。
本発明の方法に使用さrLる化学線の好ましい波長は2
00ないし600 nm、特に200ないし400nr
nの範囲内である。この波長範囲内の化学?#全放射す
る適当な化学#M詠の市販の装置からの選択は光重合の
分野の技術者には慣例の操作である。
00ないし600 nm、特に200ないし400nr
nの範囲内である。この波長範囲内の化学?#全放射す
る適当な化学#M詠の市販の装置からの選択は光重合の
分野の技術者には慣例の操作である。
触媒(D[−含有する本発明の組成物(Lllは50℃
以上、好ましくは80℃ないし180℃の範囲の温度に
加熱すると急速に重付する。組成物は1ないし200分
間、好ましくは1ないし50分間持続して加熱する。
以上、好ましくは80℃ないし180℃の範囲の温度に
加熱すると急速に重付する。組成物は1ないし200分
間、好ましくは1ないし50分間持続して加熱する。
本発明の組成物が硬化性陽イオン性重合性H科、特にエ
ポキシド鋼面もしくはフェノプラストを含有する場合、
該組成物Cま照射によって部分的に硬化し、加熱により
゛ボ全に硬化する。
ポキシド鋼面もしくはフェノプラストを含有する場合、
該組成物Cま照射によって部分的に硬化し、加熱により
゛ボ全に硬化する。
2段階の硬化方法の場合、糾)酸物はヨードシル塩によ
る熱硬化全促進する為の触WfI濁tたは硬化性材料の
為の他の熱活性化硬化剤のどちらかを含有することがで
きる。その様な熱活性化硬化剤は公知であり、特足の硬
化性材料に適する熱硬化剤の選択は、硬化方法と同様に
肖業界に周知の技術の範囲内にある。熱硬化全包含する
次の段階で拐料が部分的に硬化さ扛fc状態が望まれる
場合は、当然ながら、熱硬化剤によって光ボ合化生成物
の実質的な硬化がおこる温度以下の温度で照射すること
が1要である。
る熱硬化全促進する為の触WfI濁tたは硬化性材料の
為の他の熱活性化硬化剤のどちらかを含有することがで
きる。その様な熱活性化硬化剤は公知であり、特足の硬
化性材料に適する熱硬化剤の選択は、硬化方法と同様に
肖業界に周知の技術の範囲内にある。熱硬化全包含する
次の段階で拐料が部分的に硬化さ扛fc状態が望まれる
場合は、当然ながら、熱硬化剤によって光ボ合化生成物
の実質的な硬化がおこる温度以下の温度で照射すること
が1要である。
この様にしてエポキシド(II4脂及びフェノプラスト
全含有する本光明のAJ4成物酸物段階で硬化すること
ができる。フェノプラストがヨードシル塩の影響下では
重合しないノボラックである場合、エポキシド樹脂また
は環状ビニルエーテルの様なヨードシル塩の影響下で重
合する材料と共に使用する。最初に組成物をエポキシド
樹脂またはフェノプラスト(場合によってはフェノプラ
ストがレゾールであることもある)の潜在的な熱硬化架
橋剤の存在下で化学線に暴露することにより部分的に硬
化されたB状態に硬化し、第2段階で、部分的に硬化さ
れた組成物を硬化が完結する様に加熱する。この様にし
て液体または半固体の組成物′に製造することができ、
該組成物に照射して固化させながら成型または支持体の
含1tk実施できる。固化された本体はその後所望によ
り加熱して樹脂の硬化を完結することができる。
全含有する本光明のAJ4成物酸物段階で硬化すること
ができる。フェノプラストがヨードシル塩の影響下では
重合しないノボラックである場合、エポキシド樹脂また
は環状ビニルエーテルの様なヨードシル塩の影響下で重
合する材料と共に使用する。最初に組成物をエポキシド
樹脂またはフェノプラスト(場合によってはフェノプラ
ストがレゾールであることもある)の潜在的な熱硬化架
橋剤の存在下で化学線に暴露することにより部分的に硬
化されたB状態に硬化し、第2段階で、部分的に硬化さ
れた組成物を硬化が完結する様に加熱する。この様にし
て液体または半固体の組成物′に製造することができ、
該組成物に照射して固化させながら成型または支持体の
含1tk実施できる。固化された本体はその後所望によ
り加熱して樹脂の硬化を完結することができる。
適するエポキシド樹脂の熱活性化架橋剤としてポリカル
ボン酸無水物、アミン、特にエチルアミン、トリメチル
アミン、及びn−オクチルジメチルアミ/の様な第一も
しくは第三脂肪族アミンと三フッ化ホウ素もしくは三塩
化ホウ素との複合体、潜在性二7フ化ホウ素キレートが
挙げられる。芳養族ポリアミン及びイミタ゛ゾールは、
恐らく遊離した酸触媒とそ11らのアミンとの反応によ
る、望ましくない結果が得られるので通常は好ましくな
い。ジシアンジアミドは比較的粗粒な状態で供給すると
う捷く使用できる。
ボン酸無水物、アミン、特にエチルアミン、トリメチル
アミン、及びn−オクチルジメチルアミ/の様な第一も
しくは第三脂肪族アミンと三フッ化ホウ素もしくは三塩
化ホウ素との複合体、潜在性二7フ化ホウ素キレートが
挙げられる。芳養族ポリアミン及びイミタ゛ゾールは、
恐らく遊離した酸触媒とそ11らのアミンとの反応によ
る、望ましくない結果が得られるので通常は好ましくな
い。ジシアンジアミドは比較的粗粒な状態で供給すると
う捷く使用できる。
ノボラックの為の適する熱活性架橋剤はへキサメチレン
テトラミン及びパラホルムである。
テトラミン及びパラホルムである。
光重合後の熱硬化に必要な温度及び加熱時間、並びに熱
活性硬化剤の比率は慣用の実験方法により、容易に見出
され、並びにエポキシド樹脂及びフェノールアルデヒド
樹脂の熱硬化に関する既に良く知られている方法から容
易に応用できる。
活性硬化剤の比率は慣用の実験方法により、容易に見出
され、並びにエポキシド樹脂及びフェノールアルデヒド
樹脂の熱硬化に関する既に良く知られている方法から容
易に応用できる。
エポキシド基またはフェノール性水酸基を有する樹脂全
含有し、光重合後に熱硬化できる組成物は多層印刷回路
の製造に特に有用である。
含有し、光重合後に熱硬化できる組成物は多層印刷回路
の製造に特に有用である。
本発明の組成物は表面コーチングとして使用しても良い
。該組成物はスチール、アルミニウム、銅、カドミウム
、亜鉛、紙、または木の様な基材に、好ましくは液体と
して施用し、照射または加熱できる。マスク會通して照
射することによりコーチング全部分的に光重合し、照射
していない部分kM媒で洗浄して、光重合した不溶性の
部分を随所に残したまま重合していない部分を除去する
ことができる。この様にして本発明の組成物を印刷板及
び印刷回路の製造に用いることができる。光重合性組成
物から印刷板及び印刷回路を製造する方法は良く知られ
ている。
。該組成物はスチール、アルミニウム、銅、カドミウム
、亜鉛、紙、または木の様な基材に、好ましくは液体と
して施用し、照射または加熱できる。マスク會通して照
射することによりコーチング全部分的に光重合し、照射
していない部分kM媒で洗浄して、光重合した不溶性の
部分を随所に残したまま重合していない部分を除去する
ことができる。この様にして本発明の組成物を印刷板及
び印刷回路の製造に用いることができる。光重合性組成
物から印刷板及び印刷回路を製造する方法は良く知られ
ている。
本発明の組成物はまた、接着剤としても使用し得る。層
状の組成物を2つの対象物の表面の間にはさみ、二次照
射及び/または加熱により完全に重合する。光取合金適
用するときは、当然lから、対象物の少なくとも一方が
化学線が透過しないカラスもしくは他の4A料である必
要がある。
状の組成物を2つの対象物の表面の間にはさみ、二次照
射及び/または加熱により完全に重合する。光取合金適
用するときは、当然lから、対象物の少なくとも一方が
化学線が透過しないカラスもしくは他の4A料である必
要がある。
本発明の組成物はまた。シート成型化合物全包言する愼
維強化傳合相料の製造に有用である。
維強化傳合相料の製造に有用である。
該組成物は織布もしくは不織布の形態で一方向性の長さ
である強化繊維(ストランド、フィラメント及びホイス
カーを包含する)、またはチョップトストランド、特に
ガラス、ホウ素、ステンレススチール、タングステン、
アルミナ、シリコン、カーバイド、アスベスト、カリウ
ムチタネートホイスカー、ポリ(m−フェニレンインフ
タルアミド)、ポリ(p−フェニレンテレフタルアミド
)もしくはポリ(p−ベンズアミド)の様な芳香族ポリ
アミド、ポリエチレン。
である強化繊維(ストランド、フィラメント及びホイス
カーを包含する)、またはチョップトストランド、特に
ガラス、ホウ素、ステンレススチール、タングステン、
アルミナ、シリコン、カーバイド、アスベスト、カリウ
ムチタネートホイスカー、ポリ(m−フェニレンインフ
タルアミド)、ポリ(p−フェニレンテレフタルアミド
)もしくはポリ(p−ベンズアミド)の様な芳香族ポリ
アミド、ポリエチレン。
ポリプロピレン、またはカーボンに直接、持続して、ま
たは回分式に施用できる。該組成物がエポキシド樹脂の
様な熱硬化材料金含有する場合、含浸した繊維材料は照
射して光重合し、組成物全同化することによりブレブレ
グラ製造し、場合によってはプレプレグを加圧下で、所
望により他のプレプレグもしくは繊維層と共に加熱して
硬化された繊維強化複合絹料kn造することもできる。
たは回分式に施用できる。該組成物がエポキシド樹脂の
様な熱硬化材料金含有する場合、含浸した繊維材料は照
射して光重合し、組成物全同化することによりブレブレ
グラ製造し、場合によってはプレプレグを加圧下で、所
望により他のプレプレグもしくは繊維層と共に加熱して
硬化された繊維強化複合絹料kn造することもできる。
本発明の組成物はパテ及び充填剤の製造に有用である。
該組成物は、被覆すべき製品全液体組成物中で浸漬し、
取出した後、粘着性の被覆全照射して光重合しくこれに
よって固化する)、続いて所望により加熱する浸清被榎
として使用し得る。
取出した後、粘着性の被覆全照射して光重合しくこれに
よって固化する)、続いて所望により加熱する浸清被榎
として使用し得る。
もう1つの施用方法として、液体の状態である該組成物
のII ’に固化する捷で照射してフィルム接着剤′f
t1g1造し、その後結合すべき2個の表面の間に接層
さゼて置き、この組立物を組成物が完全に架橋するまで
加熱する。このフィルムは例えばポリオレフィンもしく
はポリエステル、またはシリコン剥離剤のコーチングを
有する一ヒルロースペーパーの様な司剥性ノ(クキング
シート全片面に付けて供給することもできる。この組合
わせの取扱いはフイにムが粘着性のべI苗を有する場合
よりもしばしば容易である。こ扛は室温では粘着性であ
るが組成物が完全に架橋する様な加熱条件下では架橋し
て硬質、不溶性、不融性の樹脂となる様な基材でフィル
ムを被偵して製造される。しかしながらし舎ましヲ了;
特に組成物の重合をそれほど時間全開けずに行なうとぎ
はさらに処理を加えることなく適当な粘度金得ることが
できる。、適する被着体は銖、亜鉛、銅、ニッケル、及
びアルミニウムの様な9?、属、セラミック、ガラス並
びにゴムである。
のII ’に固化する捷で照射してフィルム接着剤′f
t1g1造し、その後結合すべき2個の表面の間に接層
さゼて置き、この組立物を組成物が完全に架橋するまで
加熱する。このフィルムは例えばポリオレフィンもしく
はポリエステル、またはシリコン剥離剤のコーチングを
有する一ヒルロースペーパーの様な司剥性ノ(クキング
シート全片面に付けて供給することもできる。この組合
わせの取扱いはフイにムが粘着性のべI苗を有する場合
よりもしばしば容易である。こ扛は室温では粘着性であ
るが組成物が完全に架橋する様な加熱条件下では架橋し
て硬質、不溶性、不融性の樹脂となる様な基材でフィル
ムを被偵して製造される。しかしながらし舎ましヲ了;
特に組成物の重合をそれほど時間全開けずに行なうとぎ
はさらに処理を加えることなく適当な粘度金得ることが
できる。、適する被着体は銖、亜鉛、銅、ニッケル、及
びアルミニウムの様な9?、属、セラミック、ガラス並
びにゴムである。
本発明を下記の実施例によりて説明する。
ヨードシル塩全下記の様に製造する。
ヨードキシベンゼン(472ダ)l規定の水酸化ナトリ
ウム水溶液(40au)に0℃で添加し、醸しく攪拌す
る。2時間後、沈殿したヨウ化ナトリウム’k濾過して
除去し、P液に溶液が中性になるまでニー化炭素會通気
する。1規定の酢酸溶液をわずかに過剰量で添加して二
酸化炭素全遊離する。ジフェニルヨードシルアセテート
モノヒドレートを融点105ないし110℃(分解点)
の白色固体として戸数する。収11は2.761である
。
ウム水溶液(40au)に0℃で添加し、醸しく攪拌す
る。2時間後、沈殿したヨウ化ナトリウム’k濾過して
除去し、P液に溶液が中性になるまでニー化炭素會通気
する。1規定の酢酸溶液をわずかに過剰量で添加して二
酸化炭素全遊離する。ジフェニルヨードシルアセテート
モノヒドレートを融点105ないし110℃(分解点)
の白色固体として戸数する。収11は2.761である
。
このモノヒトレート(187Pl=沸騰水(25m/)
に溶解する。この溶液全脱色用木炭で処理した後熱時濾
過する。六フフ化リン酸カリウムの飽μ↓J 和水溶液それ以上沈殿が生じなくなるまでゅτくり添加
する。その後この混合物を冷却して濾過する。残留物を
室侶、減圧下で五酸化リンを用いて乾燥して、融点12
0ないしi?i0℃(分解点)のジフェニルヨードシル
へキサフルオロホスフェ−)((187F)全得る。
に溶解する。この溶液全脱色用木炭で処理した後熱時濾
過する。六フフ化リン酸カリウムの飽μ↓J 和水溶液それ以上沈殿が生じなくなるまでゅτくり添加
する。その後この混合物を冷却して濾過する。残留物を
室侶、減圧下で五酸化リンを用いて乾燥して、融点12
0ないしi?i0℃(分解点)のジフェニルヨードシル
へキサフルオロホスフェ−)((187F)全得る。
ヨードキシベンゼン(554り)を1規定の水酸化ナト
リウム(300a/)に0℃で添加し、激しく攪拌する
。2時間後、混合物k濾過し、F液に溶液が中性になる
まで二酸化炭素k ym気する。
リウム(300a/)に0℃で添加し、激しく攪拌する
。2時間後、混合物k濾過し、F液に溶液が中性になる
まで二酸化炭素k ym気する。
この炭酸溶液の一部(100sJ)を二酸化炭素の発生
が止むまでツク化ポウ累M(404)でゆっくり処理す
る。さらに酸(2g/)i加え沈殿’t”F取する。沈
殿を氷冷水で洗浄して乾燥すると110ないし120℃
のg囲で融解(分解)するジフェニルヨードシル テト
ラフルオロボレート(2,4y)全得る。
が止むまでツク化ポウ累M(404)でゆっくり処理す
る。さらに酸(2g/)i加え沈殿’t”F取する。沈
殿を氷冷水で洗浄して乾燥すると110ないし120℃
のg囲で融解(分解)するジフェニルヨードシル テト
ラフルオロボレート(2,4y)全得る。
ビス−(4−メチルフェニル)ヨードシル トリフルオ
ロアセテート(1,16y : F、M、Bering
er及びP、13od Iaenderの上記文献に記
載した様に製造する)全沸騰水(1aIRg)に溶解し
、濾過し、F液を六フッ化リン酸カリウム<l149y
)の飽和溶液で処理する。この混合物の約半量1kW!
l去した後、沈殿1kF取する。その沈殿を乾燥して、
融点125℃(分解)ビス(4−メチルフェニル)ヨー
ドシル ヘキサフルオロホスフェート(0,68P)會
得る。
ロアセテート(1,16y : F、M、Bering
er及びP、13od Iaenderの上記文献に記
載した様に製造する)全沸騰水(1aIRg)に溶解し
、濾過し、F液を六フッ化リン酸カリウム<l149y
)の飽和溶液で処理する。この混合物の約半量1kW!
l去した後、沈殿1kF取する。その沈殿を乾燥して、
融点125℃(分解)ビス(4−メチルフェニル)ヨー
ドシル ヘキサフルオロホスフェート(0,68P)會
得る。
ビス(2−メチルフェニル)ヨードシル トリフルオロ
アセテート(0,7y : F、M、Beringer
及びP、Bodlaenderの上記文献に従って製造
する)全沸騰水(25d)に溶解し、水(!l+mQに
六フッ化リン酸カリウム(α45〕)全溶解した水溶液
を添加する。得られた溶1fi、を冷却し、生じた沈殿
を戸数して集め、乾燥して、融点148ないし15℃1
℃(分ys>のビス(2−メチルフェニル)ヨードシル
ヘキサフルオロホスフェート(0,45F)1に得る
。
アセテート(0,7y : F、M、Beringer
及びP、Bodlaenderの上記文献に従って製造
する)全沸騰水(25d)に溶解し、水(!l+mQに
六フッ化リン酸カリウム(α45〕)全溶解した水溶液
を添加する。得られた溶1fi、を冷却し、生じた沈殿
を戸数して集め、乾燥して、融点148ないし15℃1
℃(分ys>のビス(2−メチルフェニル)ヨードシル
ヘキサフルオロホスフェート(0,45F)1に得る
。
ジフェニルヨードシル トリフルオロアセテ−ト (1
,2P : F1MJ3eringer 及び P、B
odlaenderの上記文献の方法に従って製造する
)を熱湯に溶解し、木炭で処理した後、熱時戸遇する。
,2P : F1MJ3eringer 及び P、B
odlaenderの上記文献の方法に従って製造する
)を熱湯に溶解し、木炭で処理した後、熱時戸遇する。
カリウム へキサフルオロアルゼネート(17))の水
溶液をF液に添加して得られた溶液を冷却する。得られ
た白色沈殿を戸取して集め空気中で乾燥して融点135
ないし138℃(分解)のジフェニルヨードシル へキ
サフルオロアルゼネート([164y)金得る。
溶液をF液に添加して得られた溶液を冷却する。得られ
た白色沈殿を戸取して集め空気中で乾燥して融点135
ないし138℃(分解)のジフェニルヨードシル へキ
サフルオロアルゼネート([164y)金得る。
実施例で使用する樹脂は下記のものである。
樹脂1: +、 2−エポキシド含有量が7.3at/
Kqノ5.4−エポキシシクロヘキシルメチル−3′。
Kqノ5.4−エポキシシクロヘキシルメチル−3′。
4′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート。
樹脂2:分子晴が2340、水酸基含有量が356当N
: / K9であり、Mon5anto Chemic
alCompanyの”1tJ100″として購買可能
のスチレン−rリルアルコールコポリマ−6 胡脂53,4−ジヒドロ−2日−ビラン−2=イルメチ
ル3,4−ジヒドロ−211−ビラン−2−カルボキシ
レート。
: / K9であり、Mon5anto Chemic
alCompanyの”1tJ100″として購買可能
のスチレン−rリルアルコールコポリマ−6 胡脂53,4−ジヒドロ−2日−ビラン−2=イルメチ
ル3,4−ジヒドロ−211−ビラン−2−カルボキシ
レート。
fflHIM 4 : 1.2−エポキシド言有搬が5
2当量/Kfである2、2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)−プロパンのジグリシジルエーテル。
2当量/Kfである2、2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)−プロパンのジグリシジルエーテル。
樹脂51,2−エポキシド含有量が95当竜/に9であ
る1、4−ブタンジオールジグリシジルエーテル。
る1、4−ブタンジオールジグリシジルエーテル。
樹fB6 : 2.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル
)プロパンのジグリシジルエーテルi2.2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)プロバント平均分子量が182
0になるまで反応させることKより製造される末端基が
ビスフェノールである樹脂。
)プロパンのジグリシジルエーテルi2.2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)プロバント平均分子量が182
0になるまで反応させることKより製造される末端基が
ビスフェノールである樹脂。
樹脂7 : 1.2−エポキシド含有量が48当量/り
であるビス(’+’−エポキシシクロヘキシルメチル)
アジペート。
であるビス(’+’−エポキシシクロヘキシルメチル)
アジペート。
樹脂8.フェノール:ホルムアルデヒドの比が1:1.
14.25℃における粘1WがO,7Pas、固体含有
率が76チであり、4−トルエンスルポン酸で中和さ′
nたフェノール−ホルムアルデヒドIi Il&。
14.25℃における粘1WがO,7Pas、固体含有
率が76チであり、4−トルエンスルポン酸で中和さ′
nたフェノール−ホルムアルデヒドIi Il&。
実施例1
樹脂1(100部)、樹脂2(100部)及びジフェニ
ルヨードシル へキサフルオロボスフエ−卜(6部)の
混合物を錫板に厚さ8ないし10μm ノフィルムとし
て被覆する。80w/ctnの中圧水銀ランプ全使用し
て20c、の距離でフィルムに2秒間照射して非粘着性
のコーチングを得る。
ルヨードシル へキサフルオロボスフエ−卜(6部)の
混合物を錫板に厚さ8ないし10μm ノフィルムとし
て被覆する。80w/ctnの中圧水銀ランプ全使用し
て20c、の距離でフィルムに2秒間照射して非粘着性
のコーチングを得る。
実施例2
萌脂1(50部)、樹fJ@ 2 (100ill )
、樹脂4(50部)、樹脂5(20部)及びジフェニル
ヨードシル へキサフルオロポスフェート(”WB)の
配合物を錫板主に6ないし8μmの厚さに広げる。実施
例1と同様の方法で照射して5秒後に非粘着性のコーチ
ングr得る。
、樹脂4(50部)、樹脂5(20部)及びジフェニル
ヨードシル へキサフルオロポスフェート(”WB)の
配合物を錫板主に6ないし8μmの厚さに広げる。実施
例1と同様の方法で照射して5秒後に非粘着性のコーチ
ングr得る。
実施例6
1酊脂2(100部)、樹脂!5(100部)及びビス
(4−メチルフェニル)ヨードシル ヘキサフルオロホ
スフェート(6部)の混合物を錫板上に6ないし8μm
の厚さに被覆する。実施例1と同様の方法で照射して2
5秒後に非粘着性のと而を得る、 実施例4 樹脂6 (37,5部)、樹脂1(62,5部)及びジ
フエ=ル:l−トシル ヘキサフルオロアルセネート(
2部)の混合物金錫板上に8ないし10μmの厚さに広
げる。実施例1と同様の方法で照射して6秒後に非粘着
性のコーラング全得る。
(4−メチルフェニル)ヨードシル ヘキサフルオロホ
スフェート(6部)の混合物を錫板上に6ないし8μm
の厚さに被覆する。実施例1と同様の方法で照射して2
5秒後に非粘着性のと而を得る、 実施例4 樹脂6 (37,5部)、樹脂1(62,5部)及びジ
フエ=ル:l−トシル ヘキサフルオロアルセネート(
2部)の混合物金錫板上に8ないし10μmの厚さに広
げる。実施例1と同様の方法で照射して6秒後に非粘着
性のコーラング全得る。
実施例5
樹脂6(50部)、樹脂7(50部)及びジフェニルヨ
ードシル テトラフルオロボレート(5部)の混合物を
錫板主に6ないし8μmの厚さに被覆する。実施例1と
同様の方法で照射して50秒後に非粘着性のコーチング
を得る。
ードシル テトラフルオロボレート(5部)の混合物を
錫板主に6ないし8μmの厚さに被覆する。実施例1と
同様の方法で照射して50秒後に非粘着性のコーチング
を得る。
実施例6
樹脂7(50部)、樹脂8(50部)及びジフェニルヨ
ードシル ヘキサフルオロホスフェート(5部)の混合
物を錫板主に6ないし8μmの厚さに被覆した後、実施
例1と同様の方法で照射する。8秒後に非粘着性のコー
チング金得る。
ードシル ヘキサフルオロホスフェート(5部)の混合
物を錫板主に6ないし8μmの厚さに被覆した後、実施
例1と同様の方法で照射する。8秒後に非粘着性のコー
チング金得る。
実施例7:
樹脂4(100部)、樹脂2(100部)、ジフェニル
ヨードシル へキサフルオロホスフェート(6部)及び
トリクロロ酢酸第二銅(2部)の混合物feコフラー
ベンチ(Kofler benchで加熱する。120
℃の温度におけるゲル時間は15分間と記録された。
ヨードシル へキサフルオロホスフェート(6部)及び
トリクロロ酢酸第二銅(2部)の混合物feコフラー
ベンチ(Kofler benchで加熱する。120
℃の温度におけるゲル時間は15分間と記録された。
実施例8゜
樹脂2(100部)、樹脂4(50部)、樹脂1(50
部)、樹脂5(20部)、ジフェニルヨードシル へキ
サフルオロホスフェート(3部)及びアセチルアセトン
第二銅(1部)の混合物音コフラーホット ヘンナ(K
ofler hot bench)で120℃で加熱す
る。ゲル時間は3+分である。
部)、樹脂5(20部)、ジフェニルヨードシル へキ
サフルオロホスフェート(3部)及びアセチルアセトン
第二銅(1部)の混合物音コフラーホット ヘンナ(K
ofler hot bench)で120℃で加熱す
る。ゲル時間は3+分である。
実施例9;
樹脂1(615部)、樹脂6 (37,5部)、ジフェ
ニルヨードシル へキサフルオロアルセネート(3部)
及び塩化第二鉛の混合物音コフラーホット ベンチで1
80℃で加熱する。ゲル時間は6分間を記録した。
ニルヨードシル へキサフルオロアルセネート(3部)
及び塩化第二鉛の混合物音コフラーホット ベンチで1
80℃で加熱する。ゲル時間は6分間を記録した。
実施例10
樹脂6(50部)、樹脂7(50部)、ジフェニルヨー
ドシル テトラフルオロボレート(5部)及びベンゾイ
ルパーオキサイド(1部)の混合物ヲコフラー ホット
ベンチで150℃で加熱する。ゲル時間は90秒間で
ある。
ドシル テトラフルオロボレート(5部)及びベンゾイ
ルパーオキサイド(1部)の混合物ヲコフラー ホット
ベンチで150℃で加熱する。ゲル時間は90秒間で
ある。
実施例11:
樹脂2(50部)、樹脂3(50部)、ビス(4−メチ
ルフェニル)ヨードシル ヘキサフルオロホスフェート
(5部)及び2−イソプロピルチオキサントン(1部)
の混合物を錫板上に6ないし8μmの厚さのフィルムと
して被覆する。
ルフェニル)ヨードシル ヘキサフルオロホスフェート
(5部)及び2−イソプロピルチオキサントン(1部)
の混合物を錫板上に6ないし8μmの厚さのフィルムと
して被覆する。
80 w/cmの中圧水銀ランプを使用して2ocrn
の距離で照射することKよh15秒後に非粘着性の表向
金得る。
の距離で照射することKよh15秒後に非粘着性の表向
金得る。
実施例12:
樹脂2(50部)、樹脂3(50部)、ビス(2−メチ
ルフェニル)ヨードシル ヘキサフルオロホスフェート
(3部)及び2−イソプロピルチオキサントン(1部)
の混合物を錫板上に6ないし8μmの厚さに被覆する。
ルフェニル)ヨードシル ヘキサフルオロホスフェート
(3部)及び2−イソプロピルチオキサントン(1部)
の混合物を錫板上に6ないし8μmの厚さに被覆する。
実施例11と同様の方法で照射して20秒後に非粘着性
の表向を得る。
の表向を得る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (11(Al 陽イオン性重合性材料、の) 50℃以
上の温度で加熱したときにラジカルを生ずる化合物以外
の、少なくとも1個のアルコール性水酸基を有する非エ
ポキシド系有機ヒドロキシ化合物、及び lC) 次式■: (式中、R3及びR4は同−才たけ異なって各々炭素原
子数4ないし25の1価の芳香族基を表わし、 Xは1.2または5を表わし、そして が−はX価のプロト/酸の陰イオンを表わす)で表わさ
れる芳香族ヨードシル塩からなる重合性組成物。 (2)(5)が脂環式エポキシド樹脂、前駆していても
良い多価アルコールもしくは多価フェノールのポリグリ
シジルヱーデル、ジヒドロピラン基を含有する環状ビニ
ルエーテル、またはフェノール−ホルムアルデヒドレゾ
ールである特許請求の範囲第1項記載の組成物。 (al (81が第−及び/または第二アルコール性水
酸基を2個以上含有し、少なくとも100の分子量を有
する特許請求の範囲第1fj1または第2項のいずれか
111に記載の組成物。 (41(81がポリオキシアルキレングリコールもしく
ハトリオール、ポリエピクロロヒドリ/、水酸基を末端
基とするポリカプロラクト/。 ヒドロキシアルキルアクリレートもしくはヒドロキシア
ルキルメタクリレートの重合体、アリルアルコールとビ
ニルモノマーとの共重合体、ポリビニルアルコール、ヒ
ドロキシグロビルセルロース、水酸基含有ポリビニルア
セタール、エポキシド樹脂をエポキシド基と反応しやす
い1種類以上の基を含有する化合物の過剰量と反応させ
ることにより得られる樹脂、またはフェノール性レゾー
ルである特許請求の範囲第3項記載の組成物。 (5) 上記式jI中、Hs及びR4が所望にfり置換
されたフェニル基を表わす特許請求の範囲第1項ないし
第4項のいずれか1項に記載の組成物。 (6) 上記式■中、zX−で表わされる陰イオンが有
機カルボ/酸、次式:Y−803)1(式中、Yは脂肪
族、芳香族もしくは脂肪族で置換された芳香族基を表わ
し、これらのうちいずれの基も1個以上のハロゲン原子
で置換されて(/ITもよい)で表わされる有機スルホ
ン酸、または無機酸から誘導される特許、請求の範囲第
1ないし第5項のいずれか1項に記載の組成物。 (7) 上記式■中、Z で表わされる陰イオンが、酢
酸イオ/、トリフルオロ酢酸イオ/、メタ/スルホ/酸
イオン、べ/ゼ/スルホ/酸イオ/、トルエン−p−ス
ルホ/酸イオ/+トリフルオロメタンスルホン酸イオ/
、フッ素イオノ、塩素イオ/、臭素イオノ、ヨウ素イオ
/、過塩素酸イオ/、硝酸イオ/、硫酸イオ/、硫酸水
素イオ/、す/酸イオン、リン酸水素イオ/もしくはぺ
/タフルオロヒドロキシア/チモン酸イオン、または次
式: MQ−(式中、Mは金属原子またはメタロイド原
子を表わし、Qはハロゲン原子を表わし、セしてWはM
の原子価より1以上多い4ないしるの整数を表わす)で
表わされる陰イオ/を表わす特許請求の範囲@6項記載
の組成物。 (81上記式H中、zX−で表わされる陰イオンが。 ヘキサフルオロアンチモン酸イオ/、へキ廿りロロア/
チモン酸イオン、ヘキサフルオロ砒酸イオ/、ペノタク
ロロビスマス酸イオ/、テトラクロロ鉄酸イオ/、ヘキ
サクロロ錫酸イオ/、テトラフルオロホウ酸イオンまた
はへキサフルオロリフ酸イオ/である特許請求の範囲第
7項記載の組成物。 (9)い) 屡イオ/性重合性材料、 の) 50℃以上の温度で加熱したときにラジカルを生
ずる化合物以外の、少なくとも1個のアルコール性水酸
基を有する非エポキシド系有機ヒドロキシ化合物、及び ((゛) 次式■: (式中、R3及びR4は同一または異なって各々炭素原
子数4な−し25の1価の芳香族基を表わし、 Xは1.2または5を表わし、そして が−はX価のプロト/酸の陰イオ/を表わす)で表わき
れる芳香族ヨード/ル塩がらなり、さらに光化学ラジカ
ル発生剤または光増感剤を含有する光1合性組成物。 四 陽イオノ性重合性材料、 (Blso℃以上の温度で加熱したときにラジカルを生
ずる化合物以外の、少なくとも111だのアルコール性
水酸!’を有する非エポキシド系有機ヒドロキシ化合物
、 但) 次式「 (式中51(3及び)(4Vi同一または異なって各々
炭#、原子数4ないし25の1価の5f査族基を表わし
、 Xは1.2蔗たけ5を表わし、そして zX=はX価のプロト/酸の段イオ/を表わす)で表わ
される芳香族ヨードシル塩、及び<DI d−プロ・・
Iり遷移金属の塩tたは鉛体。 錫rR塩、有機過酸化物、または50℃以上の温度で7
J0熱すると遊離ラジカルを生ずる活性化α−ヒドロキ
シ化合物からなる熱重合性組成物。 ull (DIが過酸化ジク天ミル、第三ブチルバーべ
/シェード、過酸化第三ブチル、過酸化べ/ジイル、ま
たは亜鉛、コバルト、クロム、鉄または銅の塩もしくは
錯体である特許請求の範囲第10項記載の組成物。 θ′4(IKAII陽イオン性重合性材料、(I3)・
50℃以上の温度で加熱したときにラジカルを生ずる化
合物以外の、少なくとも1個のアルコール性水酸基を有
する非エポキシド系有機ヒドロキシ化合物、及び (Q次式■: (式中、R3及びR4は同一または異なって各々炭素原
子数4ないし25の1価の芳香族基を表わし、 Xは1.2または3を表わし、そして Zx−tj: X 価のプロト/酸の陰イオンを表わす
)で表わされる芳香族ヨードシル塩からなる組成物をヨ
ードモル塩全活性化する様な波長の放射線に組成物が重
合するまで畢露すること、及び/または (11)該組成物を、ヨードンル塩の触媒としての(1
)l d−プロlり遷移金属の塩または錯体、錫酸塩、
44機過酸化物または50℃以上の温度で加熱すると遊
離ラジカルを生ずる活性化α−ヒドロキシ化合物の存在
下で組成物が重合するまで加熱することt−%徴とする
重合性材料の製造方法。
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