JP2005194273A - アリールスルホニウム塩、その重合性組成物および重合法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、一般的には、アリールスルホニウム塩、アリールスルホニウム塩を含有する照射重合性組成物、およびその重合法に関する。
アリールスルホニウム塩は、コーティング、接着剤、インク、フォトレジスト、または3Dステレオリソグラフィーに広く応用され、長年にわたり諸産業に用いられている。アリールスルホニウム塩は、その高感光性により、モノマー、ダイマー、オリゴマーおよび関連ポリマーの重合を開始させる強酸の光化学源となり得る。光重合業における光開始剤およびリソグラフィ技術における光酸発生剤としてのアリールスルホニウム塩の商品化は大成功であることが判明している。
しかし、最近、アリールスルホニウム塩は、光硬化プロセスにおける副産物としてのベンゼンの発ガン物質疑惑が判明したために、その使用が制限されている。ベンゼン放出アリールスルホニウム塩のベンゼンの悪評判によりアリールスルホニウム塩の使用が抑制されているので、新規アリールスルホニウム塩の「ベンゼンフリーな」代替物を見出す必要性が生じている。
例えば、非特許文献1および2は、アリールスルホニウム塩の照射メカニズムを報告している。それらの報告によると、ベンゼンは、アリールスルホニウム塩の紫外光照射中にフェニル−硫黄結合が切断された結果放出される。さらに、その硫黄原子に隣接するフェニル基にメチル基が結合しているアリールスルホニウム塩を照射すると、ベンゼンの代わりにトルエンが発生し得ることも記載されている。
現在使用されているある種の低分子量アリールスルホニウム塩、例えば、トリス(4−メチルフェニル)スルホニウム塩やトリス(4−クロロフェニル)スルホニウム塩は、照射中にベンゼンを含まない残留物を生じ得るが、波長の長い紫外光は吸収できず、無色の生成物を生じる。重点的にアリールスルホニウム塩の独自の合成法に取り組んだ特許がいくつかあり、例えば、特許文献1は、1957年に1つの従来型アリールスルホニウム塩合成法を開示しているが、現在に至るまで「ベンゼンフリー」問題に取り組んだものはない。
米国特許第2,807,648号明細書
ハーカー(Haker )ら、「トリアリールスルホニウム塩の光化学(Photochemistry of Triarylsulfonium Salts)」、ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ誌(J.Am.Chem.Soc.)、1990年、第112巻、p.6004−6015
タッロ(Turro )ら、「光CIDNPおよびナノ秒レーザーフラッシュ光分解によるトリアリールスルホニウム塩の光分解に関する研究(Photo-CIDNP and Naonosecond Laser Flash Photolysis Studies on the Photodecomposition of Triarylsulfonium Salts)」、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー誌(J.Org.Chem. )、1992年、第57巻、p.4179−4184)
したがって、適用要件と環境要件を共に満たす発光特性および比較的広い吸収スペクトルを有するベンゼンフリーアリールスルホニウム塩が依然として求められている。
上記問題点を解決するために、請求項1に記載の発明は、式(I):
R1−R12の置換基は、独立に、水素原子、直鎖または分岐C1−C12アルキル基、およびC3−C12環状アルキル基からなる群から選択され;
各フェニル基は、独立に、前記アルキル基および前記環状アルキル基からなる群から選択される少なくとも1つの置換基を有し;
X−およびY−は独立にアニオンを表す)
によって表されるアリールスルホニウム塩を要旨とする。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のアリールスルホニウム塩において、前記アニオンが、SbF6 −、PF6 −、AsF6 −、BF4 −、B(C6F5)4 −、CF3SO3 −、ClO4 −およびFSO3 −からなる群から選択されることを要旨とする。
請求項3に記載の発明は、請求項1に記載のアリールスルホニウム塩において、前記置換基が、同じフェニル基に隣接する前記アルキル基2つを結合して形成されたアルキレン基を含んでなることを要旨とする。
請求項4に記載の発明は、請求項1に記載のアリールスルホニウム塩において、前記アルキル基がメチル基を含んでなることを要旨とする。
請求項5に記載の発明は、請求項1に記載のアリールスルホニウム塩において、前記アリールスルホニウム塩がそのままの形態であるか、溶液に溶解されていることを要旨とする。
請求項5に記載の発明は、請求項1に記載のアリールスルホニウム塩において、前記アリールスルホニウム塩がそのままの形態であるか、溶液に溶解されていることを要旨とする。
請求項6に記載の発明は、請求項5に記載のアリールスルホニウム塩において、前記溶媒が、アルキルカーボネート、ラクタム、ケトンおよびラクトンからなる群から選択されることを要旨とする。
請求項7に記載の発明は、式(I):
R1−R12の置換基は、独立に、水素原子、直鎖または分岐C1−C12アルキル基、およびC3−C12環状アルキル基からなる群から選択され;
各フェニル基は、独立に、前記アルキル基および前記環状アルキル基からなる群から選択される少なくとも1つの置換基を有し;
X−およびY−は、独立に、SbF6 −、PF6 −、AsF6 −、BF4 −、B(C6F5)4 −、CF3SO3 −、ClO4 −およびFSO3 −からなる群から選択されるアニオンを表す)
によって表されるアリールスルホニウム塩を要旨とする。
請求項8に記載の発明は、請求項7に記載のアリールスルホニウム塩において、前記置換基が、同じフェニル基に隣接する前記アルキル基2つを結合して形成されたアルキレン基を含んでなることを要旨とする。
請求項9に記載の発明は、請求項7に記載のアリールスルホニウム塩において、前記アルキル基がメチル基を含んでなることを要旨とする。
請求項10に記載の発明は、請求項7に記載のアリールスルホニウム塩において、前記
アリールスルホニウム塩がそのままの形態であるか、溶液に溶解されていることを要旨とする。
請求項10に記載の発明は、請求項7に記載のアリールスルホニウム塩において、前記
アリールスルホニウム塩がそのままの形態であるか、溶液に溶解されていることを要旨とする。
請求項11に記載の発明は、請求項10に記載のアリールスルホニウム塩において、前記溶媒が、アルキルカーボネートまたはラクトンからなる群から選択されることを要旨とする。
請求項12に記載の発明は、照射重合性組成物であって、カチオン重合性モノマーと、式(I):
R1−R12の置換基は、独立に、水素原子、直鎖または分岐C1−C12アルキル基、およびC3−C12環状アルキル基からなる群から選択され;
各フェニル基は、独立に、前記アルキル基および前記環状アルキル基からなる群から選択される少なくとも1つの置換基を有し;
X−およびY−は独立にアニオンを表す)
によって表されるアリールスルホニウム塩とを含んでなる組成物を要旨とする。
請求項13に記載の発明は、請求項12に記載の組成物において、前記アニオンが、SbF6 −、PF6 −、AsF6 −、BF4 −、B(C6F5)4 −、CF3SO3 −、ClO4 −およびFSO3 −からなる群から選択されることを要旨とする。
請求項14に記載の発明は、請求項12に記載の組成物において、前記カチオン重合性モノマーがエポキシド基を含んでなることを要旨とする。
請求項15に記載の発明は、請求項12に記載の組成物において、前記カチオン重合性モノマーがエチレン性不飽和基を含んでなることを要旨とする。
請求項15に記載の発明は、請求項12に記載の組成物において、前記カチオン重合性モノマーがエチレン性不飽和基を含んでなることを要旨とする。
請求項16に記載の発明は、請求項12に記載の組成物において、アリールスルホニウム塩が組成物中のモノマーの約0.1〜約10重量%であることを要旨とする。
請求項17に記載の発明は、請求項12に記載の組成物において、前記置換基が、同じフェニル基に隣接する前記アルキル基2つを結合して形成されたアルキレン基を含んでなることを要旨とする。
請求項17に記載の発明は、請求項12に記載の組成物において、前記置換基が、同じフェニル基に隣接する前記アルキル基2つを結合して形成されたアルキレン基を含んでなることを要旨とする。
請求項18に記載の発明は、請求項12に記載の組成物において、前記アルキル基がメチル基を含んでなることを要旨とする。
請求項19に記載の発明は、照射重合性組成物の重合法であって、
カチオン重合性モノマーと、式(I):
請求項19に記載の発明は、照射重合性組成物の重合法であって、
カチオン重合性モノマーと、式(I):
R1−R12の置換基は、独立に、水素原子、直鎖または分岐C1−C12アルキル基、およびC3−C12環状アルキル基からなる群から選択され;
各フェニル基は、独立に、前記アルキル基および前記環状アルキル基からなる群から選択される少なくとも1つの置換基を有し;
X−およびY−は独立にアニオンを表す)
によって表されるアリールスルホニウム塩とを混合して照射重合性組成物を形成するステップと、
前記照射重合性組成物をその重合開始に十分なほど電磁波に曝露するステップとを含んでなる方法を要旨とする。
請求項20に記載の発明は、請求項19に記載の方法において、前記電磁波が約200
〜約500nmの波長を有することを要旨とする。
請求項21に記載の発明は、請求項19に記載の方法において、前記アニオンが、SbF6 −、PF6 −、AsF6 −、BF4 −、B(C6F5)4 −、CF3SO3 −、ClO4 −およびFSO3 −からなる群から選択されることを要旨とする。
〜約500nmの波長を有することを要旨とする。
請求項21に記載の発明は、請求項19に記載の方法において、前記アニオンが、SbF6 −、PF6 −、AsF6 −、BF4 −、B(C6F5)4 −、CF3SO3 −、ClO4 −およびFSO3 −からなる群から選択されることを要旨とする。
請求項22に記載の発明は、請求項19に記載の方法において、前記置換基が、同じフェニル基に隣接する前記アルキル基2つを結合して形成されたアルキレン基を含んでなることを要旨とする。
請求項23に記載の発明は、請求項19に記載の方法において、前記アルキル基がメチル基を含んでなることを要旨とする。
請求項24に記載の発明は、請求項19に記載の方法において、前記カチオン重合性モノマーが酸に不安定な部分を含んでなることを要旨とする。
請求項24に記載の発明は、請求項19に記載の方法において、前記カチオン重合性モノマーが酸に不安定な部分を含んでなることを要旨とする。
請求項25に記載の発明は、請求項19に記載の方法において、前記カチオン重合性モノマーがエポキシド基を含んでなることを要旨とする。
請求項26に記載の発明は、請求項19に記載の方法において、前記カチオン重合性モノマーがエチレン性不飽和基を含んでなることを要旨とする。
請求項26に記載の発明は、請求項19に記載の方法において、前記カチオン重合性モノマーがエチレン性不飽和基を含んでなることを要旨とする。
請求項27に記載の発明は、請求項19に記載の方法において、前記アリールスルホニウム塩が、組成物中のモノマーの約0.1〜10重量%であることを要旨とする。
本発明は、該当する硫黄原子に隣接する各フェニル基に少なくとも1つのアルキル基または環状アルキル基が結合しているアリールスルホニウム塩、該アリールスルホニウム塩を含有する照射重合性組成物、および該照射重合性組成物の重合法を提供する。このアリールスルホニウム塩は、照射しても、発ガン物質の疑いがあるベンゼンを発生しない。
本発明は、該当する硫黄原子に隣接する各フェニル基に少なくとも1つのアルキル基または環状アルキル基が結合しているアリールスルホニウム塩、該アリールスルホニウム塩を含有する照射重合性組成物、および該照射重合性組成物の重合法を提供する。このアリールスルホニウム塩は、照射しても、発ガン物質の疑いがあるベンゼンを発生しない。
本発明の概念は、アリールスルホニウム塩の各フェニル基が少なくとも1つのメチル、任意の他のアルキル基、または環状アルキル基を有する場合、照射中の残留物は、トルエン、任意の他のアルキルベンゼンまたは環状アルキルベンゼンであり、毒性の強いベンゼンではないであろうというものである。したがって、以下の詳細な説明は、光誘起生成物がベンゼンフリーであるアリールスルホニウム塩、該ベンゼンフリーアリールスルホニウム塩を含有する照射重合性組成物および該照射重合性組成物を用いた重合法を中心とする。
(a)アリールスルホニウム塩およびその合成
本発明のアリールスルホニウム塩は、式(I):
本発明のアリールスルホニウム塩は、式(I):
によって表される。
式(I)および(II)におけるR1−R12の置換基は、独立に、水素、またはアルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、デシル、または、環状アルキル基、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどであるのが好ましい。これらの置換基はいずれも、炭素−硫黄に関して、オルト、メタまたはパラ位置にあってよい。さらに、同じフェニル基に隣接する任意の2つのアルキル基は互いに結合してアルキレンブリッジを形成可能であり、その結果、その構造は、式(I)または(II)中に環を有し得る。いずれにせよ、式(I)および(II)の硫黄原子に結合している各フェニル基は、独立に、光分解において非ベンゼン(ベンゼンでないもの)を発生するという特性の役目を果たすアルキル基または環状アルキル基を少なくとも1つ有する。さらに、X−およびY−は独立にアニオンである。好ましい例としては、SbF6 −、PF6 −、AsF6 −、BF4 −、B(C6F5)4 −、CF3SO3 −、ClO4 −またはFSO3 −が挙げられるが、それらには限定されない。
製造手順は、反応物質を塩化アルミニウムと混合して混合物を形成するステップと、その後該混合物を一塩化硫黄および塩素ガスと反応させて塩化アリールスルホニウム混合物を形成するステップとを含む。好ましい使用反応物質は、直鎖もしくは分岐アルキルベンゼン、例えば、トルエン、t−ブチルベンゼン、または環状アルキルベンゼン、例えば、シクロブチルベンゼン、シクロペンチルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、シクロヘプ
チルベンゼン、シクロプロピルメチルベンゼン、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレンなどから選択される。さらに、一塩化硫黄と反応させるステップにおいて、本発明は、塩素ガス添加前に一塩化硫黄が完全に反応してしまうまでに1時間またはそれ以上続く。次いで、塩化アリールスルホニウムが生成したら、SbF6 −、PF6 −、AsF6 −、BF4 −、B(C6F5)4 −、CF3SO3 −、ClO4 −またはFSO3 −などのアニオンを有する反応物質を含有する溶液を添加して反応させる。次いで、アリールスルホニウム塩の沈殿物が得られるが、これは、そのままの形態で保存してもよいし、溶媒に溶解させてもよい。溶媒としては、アルキルカーボネート、ラクタム、ラクトンまたはケトンが挙げられるが、プロピレンカーボネートおよびカプロラクトンが好ましい。
チルベンゼン、シクロプロピルメチルベンゼン、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレンなどから選択される。さらに、一塩化硫黄と反応させるステップにおいて、本発明は、塩素ガス添加前に一塩化硫黄が完全に反応してしまうまでに1時間またはそれ以上続く。次いで、塩化アリールスルホニウムが生成したら、SbF6 −、PF6 −、AsF6 −、BF4 −、B(C6F5)4 −、CF3SO3 −、ClO4 −またはFSO3 −などのアニオンを有する反応物質を含有する溶液を添加して反応させる。次いで、アリールスルホニウム塩の沈殿物が得られるが、これは、そのままの形態で保存してもよいし、溶媒に溶解させてもよい。溶媒としては、アルキルカーボネート、ラクタム、ラクトンまたはケトンが挙げられるが、プロピレンカーボネートおよびカプロラクトンが好ましい。
本発明のアリールスルホニウムの合成には、トルエンおよびPF6 −が最も好ましい反応物質である。実験の他の詳細は以下の実施例に記載する。
(b)本発明のアリールスルホニウム塩を含有する照射重合性組成物
この照射重合性組成物は、本発明のアリールスルホニウム塩と、カチオン重合性モノマーとからなる。ある種の特定の目的用には、上記に加えて、当業者が選択し得る他のモノマーまたは添加剤、例えば、安定剤、顔料、もしくは界面活性剤を含めてもよい。
(b)本発明のアリールスルホニウム塩を含有する照射重合性組成物
この照射重合性組成物は、本発明のアリールスルホニウム塩と、カチオン重合性モノマーとからなる。ある種の特定の目的用には、上記に加えて、当業者が選択し得る他のモノマーまたは添加剤、例えば、安定剤、顔料、もしくは界面活性剤を含めてもよい。
本発明のカチオン重合性モノマーには、ビニルエステルモノマー、エポキシ樹脂、ケトン、ラクトン、オキセタン、アクロレイン、スピロオルトカーボネート、スピロオルトエステル、フェノールホルムアルデヒド樹脂などが含まれる。そのなかで最も好ましいのはエポキシ樹脂とビニルエステルモノマーである。
代表的なビニルエステルモノマーには、アルキルビニルエーテル化合物、例えば、メチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、アリールビニルエーテル、例えば、フェニルビニルエーテル、p−メトキシフェニルビニルエーテルが挙げられ、少なくとも1つのエチレン性不飽和基を含む。エポキシ樹脂の代表的な例には、エポキシ化ノボラックポリマー、エピクロロヒドリンなどのハロエポキシアルカンとビスフェノールAなどの多核二価フェノールとに由来するポリエポキシドが含まれる。所望なら、それらのエポキシドの混合物を用いてもよい。この照射重合性組成物において、式(I)および(II)で表されるアリールスルホニウム塩は、この組成物中のモノマーの約0.1〜10重量%、好ましくは0.6〜5重量%である。この割合は、電磁波の種類や線量、および他の要素、例えば、所望の硬化時間、温度、湿度、または塗り厚によって決定される。
(c)本発明の重合性組成物を用いた重合法
式(I)および(II)で表される本発明のアリールスルホニウム塩を含有する照射重合性組成物を、電磁波に曝露して重合させることができる。一般に、本発明の組成物は、25℃で1〜100,000センチポワズの粘度を有する液体か、適当な溶媒に溶かした固体である。6秒〜数分間以内の電磁波の下で、紫外光の強さがアリールスルホニウム塩の反応性を誘起するのに十分なので、組成物は、(通常、「不粘着性」として知られている)指触乾燥状態または溶媒不溶性となる。好ましい電磁波波長は200〜500nmであり、特に紫外線が最も好ましい。したがって、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、キセノンランプ、炭素アークランプなどが電磁波源の候補である。
式(I)および(II)で表される本発明のアリールスルホニウム塩を含有する照射重合性組成物を、電磁波に曝露して重合させることができる。一般に、本発明の組成物は、25℃で1〜100,000センチポワズの粘度を有する液体か、適当な溶媒に溶かした固体である。6秒〜数分間以内の電磁波の下で、紫外光の強さがアリールスルホニウム塩の反応性を誘起するのに十分なので、組成物は、(通常、「不粘着性」として知られている)指触乾燥状態または溶媒不溶性となる。好ましい電磁波波長は200〜500nmであり、特に紫外線が最も好ましい。したがって、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、キセノンランプ、炭素アークランプなどが電磁波源の候補である。
(d)照射によるカチオン重合における残留ベンゼンの測定
キャリヤーガスとしてヘリウムを有するフレームイオン化検出器を備えた自動ヘッドスペースガスクロマトグラフにより、照射によるカチオン重合における残留ベンゼンの測定を実施する。用意したサンプルを計量してヘッドスペースバイアルに封入し、150℃で30分間平衡状態に保って該固体からベンゼンを放出させる。上記時間および温度は、固相と気相の間でベンゼンを平衡状態に保つのに十分であることが判明している。3種の異なるレベルのベンゼン/メタノール溶液を用いてサンプルをスパイクし、次いで、標準的
な加算計算を実施してサンプル中のベンゼンを定量化する。
キャリヤーガスとしてヘリウムを有するフレームイオン化検出器を備えた自動ヘッドスペースガスクロマトグラフにより、照射によるカチオン重合における残留ベンゼンの測定を実施する。用意したサンプルを計量してヘッドスペースバイアルに封入し、150℃で30分間平衡状態に保って該固体からベンゼンを放出させる。上記時間および温度は、固相と気相の間でベンゼンを平衡状態に保つのに十分であることが判明している。3種の異なるレベルのベンゼン/メタノール溶液を用いてサンプルをスパイクし、次いで、標準的
な加算計算を実施してサンプル中のベンゼンを定量化する。
本発明は以下に示されているいくつかの好ましい実施例を有する。
トルエン580gを入れた500ml三つ口丸底フラスコに、塩化アルミニウム210g(1.6mol)を加える。該溶液を攪拌して約10℃に冷ます。次いで、温度を13〜18℃に維持しながら、該溶液に一塩化硫黄100g(0.74mol)をゆっくり加える。約1時間反応させた後、温度を13〜18℃に維持しながら、該溶液中に塩素200gを吹き込む。塩素添加後、溶液をフラスコに入れた氷600g中に注ぎ、全固体が溶解するまで攪拌する。次いで、溶液を30分間静置して下側の生成物層を分離し、次いで、この生成物層を硫酸溶液(600gの水中50gのH2SO4)、続いて水酸化ナトリウム溶液(100gの水中20gのNaOH)で連続抽出する。次いで、抽出して得た下側の生成物層を別のフラスコに入れた水600ml中に注ぐ。その後、該混合物に、KPF6含有溶液(水400ml中KPF6110g)を加え、攪拌すると、沈殿が生じる。収量は340gであり、溶液からの濾過後の収率は80%である。分析結果:融点:98〜112℃、質量スペクトル:m/z:427(100%)、785(35%)、305(20%)、639(5%)。
n−ブチルベンゼン298gを入れた500ml三つ口丸底フラスコに、塩化アルミニウム121g(0.89mol)を加える。該溶液を攪拌して約10℃に冷ます。次いで、温度を13〜18℃に維持しながら、溶液に一塩化硫黄50g(0.37mol)をゆっくり加える。約1時間反応させた後、温度を13〜18℃に維持しながら、溶液中に塩素46gを吹き込む。塩素添加後、フラスコに入れた氷300g中に溶液を注ぎ、全固体が溶解するまで攪拌する。次いで、溶液を30分間静置して下側の生成物層を分離し、次いで、この生成物層を硫酸溶液(300gの水中25gのH2SO4)、続いて水酸化ナトリウム溶液(50gの水中10gのNaOH)で連続抽出する。次いで、抽出して得た下側の生成物層を別のフラスコに入れた水300ml中に注ぐ。その後、該混合物に、KPF6含有溶液(200mlの水中55gのKPF6)を加え、攪拌すると、沈殿が生じる。収量は203.1gであり、溶液からの濾過後収率は75%である。分析結果:質量スペクトル:m/z:543.33(100%)、595.27(52%)、431.27(23%)、1037.20(9%)。
1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン500gを入れた500ml三つ口丸底フラスコに、塩化アルミニウム121g(0.89mol)を加える。該溶液を攪拌して約15℃に冷ます。次いで、温度を20〜25℃に維持しながら、溶液に一塩化硫黄50g(0.37mol)をゆっくり加える。約1時間半反応させた後、温度を20〜25℃に維持しながら、溶液中に塩素60gを吹き込む。塩素添加後、溶液をフラスコに入れた氷300g中に注ぎ、全固体が溶解するまで攪拌する。次いで、溶液を30分間静置して下側の生成物層を分離し、次いで、この生成物層を硫酸溶液(360gの水中30gのH2SO4)、続いて水酸化ナトリウム溶液(50gの水中10gのNaOH)で連続抽出する。次いで、抽出して得た下側の生成物層を別のフラスコに入れた水300ml中に注ぐ。その後、該混合物に、KPF6含有溶液(200mlの水中55gのKPF6)を加え、攪拌すると、沈殿が生じる。収量は161.2gであり、溶液からの濾過後収率は66%である。分析結果:質量スペクトル:m/z:425.27(100%)、426.27(33%)、479.27(18%)、587.13(3%)。
(テスト実施例)
(1)光硬化テスト
アリールスルホニウム塩をプロピレンカーボネートに溶かして40重量%溶液を調製する。次いで、溶液0.1gをEB 1500(ユーシービー社(UCB)のエポキシモノマー)1.8g、Tone(登録商標)−0301(ダウ社(DOW)のポリオール)0.2gおよびL7604(ウイトコ社(Witco)の界面活性剤)0.004gと混合して組成物を形成する。次いで、該組成物をアルミニウムプレート上に塗布して、厚さ3μmの薄膜を形成し、該薄膜を以下の条件下に重合させる:
UV照射装置:
ランプ:Fusion(登録商標)F300シリーズ、120W/cm(80w/インチ)Dバルブ;
コンベア速度:60m/分;
照射時間:1秒。
(1)光硬化テスト
アリールスルホニウム塩をプロピレンカーボネートに溶かして40重量%溶液を調製する。次いで、溶液0.1gをEB 1500(ユーシービー社(UCB)のエポキシモノマー)1.8g、Tone(登録商標)−0301(ダウ社(DOW)のポリオール)0.2gおよびL7604(ウイトコ社(Witco)の界面活性剤)0.004gと混合して組成物を形成する。次いで、該組成物をアルミニウムプレート上に塗布して、厚さ3μmの薄膜を形成し、該薄膜を以下の条件下に重合させる:
UV照射装置:
ランプ:Fusion(登録商標)F300シリーズ、120W/cm(80w/インチ)Dバルブ;
コンベア速度:60m/分;
照射時間:1秒。
(2)ベンゼン残留物テスト
硬化ポリマー0.08〜0.12gを、20mlヘッドスペースキャップバイアルに計量装入する。バイアルをクリンプシールし、硬化ポリマーを30分間150℃で加熱する。以下の条件下にヘッドスペースガスクロマトグラフィーを用いて硬化ポリマーを分析する:
ヘッドスペースサンプラーHS−40を接続したパーキンエルマー社(Perkin-Elmer)のAutoSystem GCまたはフレームイオン化検出器を備えた同等物;
キャピラリーカラム:30m×0.25IDmm×1.0μm膜厚のJ&W DB−5;
キャリヤーガス:ヘリウム 約1.8981kg/cm2(27psi)ヘッド圧;
オーブン温度:30℃で3分、次いで5℃/分→75℃、次いで25℃→260℃ 8分間保持;
スプリットベント:44ml/分;
注入口温度:240℃;
検出器温度:280℃;
このテスト結果を表1に示す。
硬化ポリマー0.08〜0.12gを、20mlヘッドスペースキャップバイアルに計量装入する。バイアルをクリンプシールし、硬化ポリマーを30分間150℃で加熱する。以下の条件下にヘッドスペースガスクロマトグラフィーを用いて硬化ポリマーを分析する:
ヘッドスペースサンプラーHS−40を接続したパーキンエルマー社(Perkin-Elmer)のAutoSystem GCまたはフレームイオン化検出器を備えた同等物;
キャピラリーカラム:30m×0.25IDmm×1.0μm膜厚のJ&W DB−5;
キャリヤーガス:ヘリウム 約1.8981kg/cm2(27psi)ヘッド圧;
オーブン温度:30℃で3分、次いで5℃/分→75℃、次いで25℃→260℃ 8分間保持;
スプリットベント:44ml/分;
注入口温度:240℃;
検出器温度:280℃;
このテスト結果を表1に示す。
Claims (27)
- 前記アニオンが、SbF6 −、PF6 −、AsF6 −、BF4 −、B(C6F5)4 −、CF3SO3 −、ClO4 −およびFSO3 −からなる群から選択される、請求項1に記載のアリールスルホニウム塩。
- 前記置換基が、同じフェニル基に隣接する前記アルキル基2つを結合して形成されたアルキレン基を含んでなる、請求項1に記載のアリールスルホニウム塩。
- 前記アルキル基がメチル基を含んでなる、請求項1に記載のアリールスルホニウム塩。
- 前記アリールスルホニウム塩がそのままの形態であるか、溶液に溶解されている、請求項1に記載のアリールスルホニウム塩。
- 前記溶媒が、アルキルカーボネート、ラクタム、ケトンおよびラクトンからなる群から選択される、請求項5に記載のアリールスルホニウム塩。
- 前記置換基が、同じフェニル基に隣接する前記アルキル基2つを結合して形成されたアルキレン基を含んでなる、請求項7に記載のアリールスルホニウム塩。
- 前記アルキル基がメチル基を含んでなる、請求項7に記載のアリールスルホニウム塩。
- 前記アリールスルホニウム塩がそのままの形態であるか、溶液に溶解されている、請求項7に記載のアリールスルホニウム塩。
- 前記溶媒が、アルキルカーボネートまたはラクトンからなる群から選択される、請求項10に記載のアリールスルホニウム塩。
- 前記アニオンが、SbF6 −、PF6 −、AsF6 −、BF4 −、B(C6F5)4 −、CF3SO3 −、ClO4 −およびFSO3 −からなる群から選択される、請求項12に記載の組成物。
- 前記カチオン重合性モノマーがエポキシド基を含んでなる、請求項12に記載の組成物。
- 前記カチオン重合性モノマーがエチレン性不飽和基を含んでなる、請求項12に記載の組成物。
- アリールスルホニウム塩が組成物中のモノマーの約0.1〜約10重量%である、請求項12に記載の組成物。
- 前記置換基が、同じフェニル基に隣接する前記アルキル基2つを結合して形成されたアルキレン基を含んでなる、請求項12に記載の組成物。
- 前記アルキル基がメチル基を含んでなる、請求項12に記載の組成物。
- 照射重合性組成物の重合法であって、
(a)カチオン重合性モノマーと、式(I):
R1−R12の置換基は、独立に、水素原子、直鎖または分岐C1−C12アルキル基、およびC3−C12環状アルキル基からなる群から選択され;
各フェニル基は、独立に、前記アルキル基および前記環状アルキル基からなる群から選択される少なくとも1つの置換基を有し;
X−およびY−は独立にアニオンを表す)
によって表されるアリールスルホニウム塩とを混合して照射重合性組成物を形成するステップと、
(b)前記照射重合性組成物をその重合開始に十分なほど電磁波に曝露するステップとを含んでなる方法。 - 前記電磁波が約200〜約500nmの波長を有する、請求項19に記載の方法。
- 前記アニオンが、SbF6 −、PF6 −、AsF6 −、BF4 −、B(C6F5)4 −、CF3SO3 −、ClO4 −およびFSO3 −からなる群から選択される、請求項19に記載の方法。
- 前記置換基が、同じフェニル基に隣接する前記アルキル基2つを結合して形成されたアルキレン基を含んでなる、請求項19に記載の方法。
- 前記アルキル基がメチル基を含んでなる、請求項19に記載の方法。
- 前記カチオン重合性モノマーが酸に不安定な部分を含んでなる、請求項19に記載の方法。
- 前記カチオン重合性モノマーがエポキシド基を含んでなる、請求項19に記載の方法。
- 前記カチオン重合性モノマーがエチレン性不飽和基を含んでなる、請求項19に記載の方法。
- 前記アリールスルホニウム塩が、組成物中のモノマーの約0.1〜10重量%である、請求項19に記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/745,639 US20050148679A1 (en) | 2003-12-29 | 2003-12-29 | Aryl sulfonium salt, polymerizable composition and polymerization method of the same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005194273A true JP2005194273A (ja) | 2005-07-21 |
Family
ID=34574736
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004365194A Pending JP2005194273A (ja) | 2003-12-29 | 2004-12-17 | アリールスルホニウム塩、その重合性組成物および重合法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050148679A1 (ja) |
EP (1) | EP1550654A1 (ja) |
JP (1) | JP2005194273A (ja) |
CN (1) | CN100372833C (ja) |
TW (1) | TW200523248A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8338074B2 (en) * | 2003-06-25 | 2012-12-25 | Cmet Inc. | Actinic radiation-curable stereolithographic resin composition having improved stability |
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CN101466804B (zh) * | 2006-04-13 | 2012-02-22 | 西巴控股有限公司 | 硫鎓盐引发剂 |
KR101700980B1 (ko) * | 2009-02-20 | 2017-01-31 | 산아프로 가부시키가이샤 | 술포늄염, 광산 발생제 및 감광성 수지 조성물 |
CN113264856B (zh) * | 2014-09-26 | 2022-11-22 | 东京应化工业株式会社 | 锍盐、光产酸剂及感光性组合物 |
US10301553B2 (en) | 2017-02-28 | 2019-05-28 | Ecolab Usa Inc. | Use of sulfonium salts as hydrogen sulfide inhibitors |
US10900128B2 (en) | 2018-08-29 | 2021-01-26 | Championx Usa Inc. | Use of sulfonium salts as corrosion inhibitors |
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2003
- 2003-12-29 US US10/745,639 patent/US20050148679A1/en not_active Abandoned
-
2004
- 2004-12-17 JP JP2004365194A patent/JP2005194273A/ja active Pending
- 2004-12-23 TW TW093140246A patent/TW200523248A/zh unknown
- 2004-12-28 CN CNB2004100115213A patent/CN100372833C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-29 EP EP04030936A patent/EP1550654A1/en not_active Withdrawn
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200523248A (en) | 2005-07-16 |
EP1550654A1 (en) | 2005-07-06 |
US20050148679A1 (en) | 2005-07-07 |
CN100372833C (zh) | 2008-03-05 |
CN1651409A (zh) | 2005-08-10 |
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