JPH1070233A - マルチ電子デバイス・パッケージ - Google Patents
マルチ電子デバイス・パッケージInfo
- Publication number
- JPH1070233A JPH1070233A JP9181474A JP18147497A JPH1070233A JP H1070233 A JPH1070233 A JP H1070233A JP 9181474 A JP9181474 A JP 9181474A JP 18147497 A JP18147497 A JP 18147497A JP H1070233 A JPH1070233 A JP H1070233A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit layer
- substrate
- conductive circuit
- electronic device
- solder ball
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/3121—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
- H01L23/3128—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation the substrate having spherical bumps for external connection
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/12—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/10—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers
- H01L25/105—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45147—Copper (Cu) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/10—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers
- H01L2225/1005—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/1011—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
- H01L2225/1017—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support
- H01L2225/1023—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support the support being an insulating substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/10—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers
- H01L2225/1005—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/1011—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
- H01L2225/1017—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support
- H01L2225/1035—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support the device being entirely enclosed by the support, e.g. high-density interconnect [HDI]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/10—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers
- H01L2225/1005—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/1011—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
- H01L2225/1047—Details of electrical connections between containers
- H01L2225/1058—Bump or bump-like electrical connections, e.g. balls, pillars, posts
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/10—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers
- H01L2225/1005—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/1011—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
- H01L2225/1076—Shape of the containers
- H01L2225/1088—Arrangements to limit the height of the assembly
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/10—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers
- H01L2225/1005—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/1011—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
- H01L2225/1094—Thermal management, e.g. cooling
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L24/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01013—Aluminum [Al]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01078—Platinum [Pt]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1515—Shape
- H01L2924/15153—Shape the die mounting substrate comprising a recess for hosting the device
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/15165—Monolayer substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1517—Multilayer substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
- H01L2924/15311—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1532—Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1532—Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate
- H01L2924/15321—Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate being a ball array, e.g. BGA
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1532—Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate
- H01L2924/1533—Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate the connection portion being formed both on the die mounting surface of the substrate and outside the die mounting surface of the substrate
- H01L2924/15331—Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate the connection portion being formed both on the die mounting surface of the substrate and outside the die mounting surface of the substrate being a ball array, e.g. BGA
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Combinations Of Printed Boards (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 集積回路,メモリ・チップなどのようなマル
チ電子デバイスを収容する改良した電子デバイス・パッ
ケージを提供する。 【解決手段】 この電子デバイス・パッケージ10は、
第1の基板12と第2の基板22との間に配置された伝
熱および導電プレーン30を有している。第1の電子デ
バイス36は、第1の基板の開口18内でプレーンの第
1の面32に取り付けられ、第2の電子デバイス40
は、第2の基板の開口28内でプレーンの第2の面34
に取り付けられている。電子デバイス・パッケージは、
電子デバイス・パッケージを第3の回路化基板に電気的
に接続し物理的に取り付けるために、第2の基板に設け
られた半田ボール66,68,70,72,74,76
を有し、電子デバイスを積層構造の第2の電子デバイス
10′に電気的に接続し物理的に取り付けるために、第
1の基板に設けられた半田ボール90,92,94,9
6,98,100を有している。
チ電子デバイスを収容する改良した電子デバイス・パッ
ケージを提供する。 【解決手段】 この電子デバイス・パッケージ10は、
第1の基板12と第2の基板22との間に配置された伝
熱および導電プレーン30を有している。第1の電子デ
バイス36は、第1の基板の開口18内でプレーンの第
1の面32に取り付けられ、第2の電子デバイス40
は、第2の基板の開口28内でプレーンの第2の面34
に取り付けられている。電子デバイス・パッケージは、
電子デバイス・パッケージを第3の回路化基板に電気的
に接続し物理的に取り付けるために、第2の基板に設け
られた半田ボール66,68,70,72,74,76
を有し、電子デバイスを積層構造の第2の電子デバイス
10′に電気的に接続し物理的に取り付けるために、第
1の基板に設けられた半田ボール90,92,94,9
6,98,100を有している。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、集積回路,メモリ
・チップなどのようなマルチ電子デバイスのための電子
デバイス・パッケージに関する。
・チップなどのようなマルチ電子デバイスのための電子
デバイス・パッケージに関する。
【0002】
【従来の技術】マルチチップ・モジュール(multi
ple chip module;MCM)構造は、小
さい領域内で、集積回路またはメモリ・チップのような
電子デバイスの数を増大させる必要性に答えたものであ
る。初期の段階では、MCM技術は、チップまたはダイ
を、パッケージされていない裸の状態で、Z軸に沿って
ではなくXY面において接続していた。現在では、MC
M技術は、Z軸に沿った、裸チップの相互接続および積
層を可能にしている。この種の3次元MCMパッケージ
ングは、2次元のマルチチップ基板よりも、高いチップ
密度および小さい要求相互接続密度を与える。このよう
な3次元マルチチップ・モジュールの1つの例について
は、米国特許第5,222,014号明細書を参照され
たい。このような構造は、チップ密度を非常に改善した
が、このような構造について以下の点でさらなる改善が
必要とされる。すなわち、熱の取扱いを改善し、および
マルチチップ・モジュールのプロファイルをさらに縮小
し、換言すれば、マルチチップから発生した熱を処理し
放散させながら、チップ密度をさらに増大させることで
ある。
ple chip module;MCM)構造は、小
さい領域内で、集積回路またはメモリ・チップのような
電子デバイスの数を増大させる必要性に答えたものであ
る。初期の段階では、MCM技術は、チップまたはダイ
を、パッケージされていない裸の状態で、Z軸に沿って
ではなくXY面において接続していた。現在では、MC
M技術は、Z軸に沿った、裸チップの相互接続および積
層を可能にしている。この種の3次元MCMパッケージ
ングは、2次元のマルチチップ基板よりも、高いチップ
密度および小さい要求相互接続密度を与える。このよう
な3次元マルチチップ・モジュールの1つの例について
は、米国特許第5,222,014号明細書を参照され
たい。このような構造は、チップ密度を非常に改善した
が、このような構造について以下の点でさらなる改善が
必要とされる。すなわち、熱の取扱いを改善し、および
マルチチップ・モジュールのプロファイルをさらに縮小
し、換言すれば、マルチチップから発生した熱を処理し
放散させながら、チップ密度をさらに増大させることで
ある。
【0003】2次元MCMの他の欠点は、バーン・イン
中に生じる。バーン・インは、欠陥チップまたはダイを
選別し、およびMCMの各ダイが、良品ダイ(know
ngood die;KGD)であることを確認するた
めに行われる。バーン・インの際に、2次元MCMが不
合格になると、全モジュールを、コストのかかる除去手
順を用いて、廃棄または修理しなければならない。この
手順では、欠陥ダイは、取り除かれ、良品ダイと置き換
えられる。したがって、2次元MCM内のダイの数が増
大するにつれて、機能モジュールの歩留りが低くなる。
2次元MCMを積層して、3次元MCMを作製すること
によって、各2次元MCM層を、別々にテストして、バ
ーン・インし、各2次元MCM層および層内のダイが、
良品ダイであることを確認できる。したがって、機能3
次元モジュールの歩留りは、同一のチップ密度または回
路密度を有する2次元モジュールよりも大きい。また、
MCMレベルでバーン・インを実行することによって、
各ダイの良品ダイ・テストを避けることができる。
中に生じる。バーン・インは、欠陥チップまたはダイを
選別し、およびMCMの各ダイが、良品ダイ(know
ngood die;KGD)であることを確認するた
めに行われる。バーン・インの際に、2次元MCMが不
合格になると、全モジュールを、コストのかかる除去手
順を用いて、廃棄または修理しなければならない。この
手順では、欠陥ダイは、取り除かれ、良品ダイと置き換
えられる。したがって、2次元MCM内のダイの数が増
大するにつれて、機能モジュールの歩留りが低くなる。
2次元MCMを積層して、3次元MCMを作製すること
によって、各2次元MCM層を、別々にテストして、バ
ーン・インし、各2次元MCM層および層内のダイが、
良品ダイであることを確認できる。したがって、機能3
次元モジュールの歩留りは、同一のチップ密度または回
路密度を有する2次元モジュールよりも大きい。また、
MCMレベルでバーン・インを実行することによって、
各ダイの良品ダイ・テストを避けることができる。
【0004】
【課題を解決するための手段】したがって、本発明は、
第1の面と、対向する第2の面とを有する第1の基板を
備え、この第1の基板は、第1の開口と、第1の基板の
第1の面に形成された第1の導電回路層とを備えるマル
チ電子デバイス・パッケージに関係している。電子デバ
イス・パッケージは、さらに、第1の面と、対向する第
2の面とを有する第2の基板とを有し、この第2の基板
は、第2の開口と、第2の基板の第2の面に形成された
第2の導電回路層とを有している。第1の面と、対向す
る第2の面とを有する伝熱および導電プレーンを備えて
いる。このプレーンは、第1の基板と第2の基板との間
に配置され、第1および第2の開口を覆っている。第1
の電子デバイスは、第1の開口内に配置され、第1の導
電回路層に電気的に接続されるように、プレーンの第1
の面に取り付けられている。電子デバイス・パッケージ
は、さらに、第2の開口内に配置され、プレーンの第2
の面に取り付けられた第2の電子デバイスを備えてい
る。この第2の電子デバイスは、第2の導電回路層に電
気的に接続され、第1の導電回路層は、第2の導電回路
層に電気的に接続されている。第1の導電回路層は、第
2の電子デバイス・パッケージに電気的に接続されるよ
うに構成され、第2の導電回路層は、第3の外部回路化
基板に電気的に接続されるように構成されている。
第1の面と、対向する第2の面とを有する第1の基板を
備え、この第1の基板は、第1の開口と、第1の基板の
第1の面に形成された第1の導電回路層とを備えるマル
チ電子デバイス・パッケージに関係している。電子デバ
イス・パッケージは、さらに、第1の面と、対向する第
2の面とを有する第2の基板とを有し、この第2の基板
は、第2の開口と、第2の基板の第2の面に形成された
第2の導電回路層とを有している。第1の面と、対向す
る第2の面とを有する伝熱および導電プレーンを備えて
いる。このプレーンは、第1の基板と第2の基板との間
に配置され、第1および第2の開口を覆っている。第1
の電子デバイスは、第1の開口内に配置され、第1の導
電回路層に電気的に接続されるように、プレーンの第1
の面に取り付けられている。電子デバイス・パッケージ
は、さらに、第2の開口内に配置され、プレーンの第2
の面に取り付けられた第2の電子デバイスを備えてい
る。この第2の電子デバイスは、第2の導電回路層に電
気的に接続され、第1の導電回路層は、第2の導電回路
層に電気的に接続されている。第1の導電回路層は、第
2の電子デバイス・パッケージに電気的に接続されるよ
うに構成され、第2の導電回路層は、第3の外部回路化
基板に電気的に接続されるように構成されている。
【0005】本発明は、また、第1の面と、対向する第
2の面とを有する第1の基板を備え、第1の面が、第1
の面から第1の基板内へ拡がる第1の凹部を有するマル
チ電子デバイス・パッケージに関係する。第1の導電回
路層は、第1の基板の前記第1の面に形成され、第2の
導電回路層は、第1の基板の前記第2の面に形成され、
第2の導電回路層は、第1の導電回路層に電気的に接続
され、第2の導電回路層は、第3の外部回路化基板に電
気的に接続されるように構成されている。電子デバイス
は、さらに、第1の開口内に配置されるように、第1の
基板に取り付けられた第1の電子デバイスを備えてい
る。この第1の電子デバイスは、第1の導電回路層に電
気的に接続されている。第1の面と、対向する第2の面
とを有する第2の基板を備え、第2の基板の第2の面に
第3の導電回路層が形成されている。電子デバイス・パ
ッケージは、さらに、第2の基板に接続された第2の電
子デバイスを備えている。この第2の電子デバイスは、
第3の導電回路層に電気的に接続され、第1の基板と第
2の基板とは、共通界面に沿って接合され、第2の電子
デバイスと第2の基板の第2の面とは、第1の電子デバ
イスと第1の基板の第1の面に対面し、第1の導電回路
層は、第3の導電回路層に電気的に接続されている。
2の面とを有する第1の基板を備え、第1の面が、第1
の面から第1の基板内へ拡がる第1の凹部を有するマル
チ電子デバイス・パッケージに関係する。第1の導電回
路層は、第1の基板の前記第1の面に形成され、第2の
導電回路層は、第1の基板の前記第2の面に形成され、
第2の導電回路層は、第1の導電回路層に電気的に接続
され、第2の導電回路層は、第3の外部回路化基板に電
気的に接続されるように構成されている。電子デバイス
は、さらに、第1の開口内に配置されるように、第1の
基板に取り付けられた第1の電子デバイスを備えてい
る。この第1の電子デバイスは、第1の導電回路層に電
気的に接続されている。第1の面と、対向する第2の面
とを有する第2の基板を備え、第2の基板の第2の面に
第3の導電回路層が形成されている。電子デバイス・パ
ッケージは、さらに、第2の基板に接続された第2の電
子デバイスを備えている。この第2の電子デバイスは、
第3の導電回路層に電気的に接続され、第1の基板と第
2の基板とは、共通界面に沿って接合され、第2の電子
デバイスと第2の基板の第2の面とは、第1の電子デバ
イスと第1の基板の第1の面に対面し、第1の導電回路
層は、第3の導電回路層に電気的に接続されている。
【0006】本発明は、また、第1の面と、対向する第
2の面とを有する第1の基板と;第1の基板の第1の面
に形成された第1の導電回路層と;第1の基板の第2の
面に形成された第2の導電回路層とを備え、第2の導電
回路層は、第1の導電回路層に電気的に接続され、第2
の導電回路層は、第3の外部回路化基板に電気的に接続
されるように構成されている。電子デバイス・パッケー
ジは、さらに、第1の基板に取り付けられ、第1の導電
回路層に電気的に接続された第1の電子デバイスと;第
1の面と、対向する第2の面とを有する第2の基板と;
第2の基板の第1の面に形成された第3の導電回路層
と;第2の基板に接続され、第3の導電回路層に電気的
に接続された第2の電子デバイスと;第2の基板の第2
の面に形成され、第3の導電回路層に電気的に接続され
た第4の導電回路層と;第1の電子デバイスと、第1の
導電回路層の少なくとも一部を覆うカプセル封止部とを
備えている。第2の基板は、第2の基板の第2の面から
第2の基板内に拡がる凹部を有し、第1の基板と第2の
基板とは、共通界面に沿って接合され、第2の基板の第
2の面は、第1の基板の第1の面に対面し、カプセル封
止部の少なくとも一部は、凹部内に拡がり、これにより
第2の基板の第2の面と第1の基板の第1の面との間の
距離を小さくする。
2の面とを有する第1の基板と;第1の基板の第1の面
に形成された第1の導電回路層と;第1の基板の第2の
面に形成された第2の導電回路層とを備え、第2の導電
回路層は、第1の導電回路層に電気的に接続され、第2
の導電回路層は、第3の外部回路化基板に電気的に接続
されるように構成されている。電子デバイス・パッケー
ジは、さらに、第1の基板に取り付けられ、第1の導電
回路層に電気的に接続された第1の電子デバイスと;第
1の面と、対向する第2の面とを有する第2の基板と;
第2の基板の第1の面に形成された第3の導電回路層
と;第2の基板に接続され、第3の導電回路層に電気的
に接続された第2の電子デバイスと;第2の基板の第2
の面に形成され、第3の導電回路層に電気的に接続され
た第4の導電回路層と;第1の電子デバイスと、第1の
導電回路層の少なくとも一部を覆うカプセル封止部とを
備えている。第2の基板は、第2の基板の第2の面から
第2の基板内に拡がる凹部を有し、第1の基板と第2の
基板とは、共通界面に沿って接合され、第2の基板の第
2の面は、第1の基板の第1の面に対面し、カプセル封
止部の少なくとも一部は、凹部内に拡がり、これにより
第2の基板の第2の面と第1の基板の第1の面との間の
距離を小さくする。
【0007】本発明の主な利点は、従来のマルチチップ
・モジュール構造よりも、増大したチップ密度,低い全
体プロファイル,大きな放熱性能を有するマルチ電子デ
バイス・パッケージである。
・モジュール構造よりも、増大したチップ密度,低い全
体プロファイル,大きな放熱性能を有するマルチ電子デ
バイス・パッケージである。
【0008】また、本発明は、MCMの製造に良品ダイ
(KGD)の必要性を排除できる利点を与えるものであ
る。
(KGD)の必要性を排除できる利点を与えるものであ
る。
【0009】
【発明の実施の形態】図1および図2は、本発明のマル
チ電子デバイス・パッケージ10を示す。マルチ電子デ
バイス10は、また、ボール・グリッド・アレイ(BG
A)パッケージとして知られている。マルチ電子デバイ
ス10は、第1の面14と、対向する第2の面16とを
有する第1の基板12を備えている。基板12は、絶縁
材料、すなわち、ガラス布に含浸されたエポキシ樹脂よ
りなるプリ・ペグ(pre−peg)のような非導電性
材料である。第1の基板12は、第1の開口18を有し
ている。導電回路20の第1の層は、第1の基板12の
第1の面14に形成されている。マルチ電子デバイス・
パッケージ10は、さらに、第1の面24と、対向する
第2の面26とを有する第2の基板22を備えている。
第2の基板22は、第2の開口28を有している。第1
の面32と、対向する第2の面34とを有する伝熱およ
び導電プレーン30が、設けられている。プレーン30
は、第1の基板12と第2の基板22との間に設けら
れ、第1および第2の開口18,28を覆っている。プ
レーン30は、好ましくは、銅箔シートであるが、アル
ミニウムなどのような他の伝熱および導電材料で構成で
きることがわかる。第1の電子デバイス36を、プレー
ン30の第1の面32に取り付ける。この場合、第1の
電子デバイス36は、第1の開口18内に配置される。
第1の電子デバイス36は、第1の導電回路層20に電
気的に接続される。第1の電子デバイス36は、集積回
路,メモリ・チップ,および/またはコンタクト38
a,38bを有する半導体ダイのような、いかなる電気
的コンポーネントとすることもできる。
チ電子デバイス・パッケージ10を示す。マルチ電子デ
バイス10は、また、ボール・グリッド・アレイ(BG
A)パッケージとして知られている。マルチ電子デバイ
ス10は、第1の面14と、対向する第2の面16とを
有する第1の基板12を備えている。基板12は、絶縁
材料、すなわち、ガラス布に含浸されたエポキシ樹脂よ
りなるプリ・ペグ(pre−peg)のような非導電性
材料である。第1の基板12は、第1の開口18を有し
ている。導電回路20の第1の層は、第1の基板12の
第1の面14に形成されている。マルチ電子デバイス・
パッケージ10は、さらに、第1の面24と、対向する
第2の面26とを有する第2の基板22を備えている。
第2の基板22は、第2の開口28を有している。第1
の面32と、対向する第2の面34とを有する伝熱およ
び導電プレーン30が、設けられている。プレーン30
は、第1の基板12と第2の基板22との間に設けら
れ、第1および第2の開口18,28を覆っている。プ
レーン30は、好ましくは、銅箔シートであるが、アル
ミニウムなどのような他の伝熱および導電材料で構成で
きることがわかる。第1の電子デバイス36を、プレー
ン30の第1の面32に取り付ける。この場合、第1の
電子デバイス36は、第1の開口18内に配置される。
第1の電子デバイス36は、第1の導電回路層20に電
気的に接続される。第1の電子デバイス36は、集積回
路,メモリ・チップ,および/またはコンタクト38
a,38bを有する半導体ダイのような、いかなる電気
的コンポーネントとすることもできる。
【0010】第2の電子デバイス40を、プレーン30
の第2の面34に取り付ける。このとき、第2の電子デ
バイスが、第2の開口28内に配置されるようにする。
第2の電子デバイス40は、第2の基板22の第2の面
26に形成された第2の導電回路層27に、コンタクト
38c,38dを経て接続される。第1の導電回路層2
0は、第2の導電回路層27に電気的に接続され、およ
び第1の導電回路層20は、第2の電子パッケージ1
0′に電気的に接続されるように構成される。また、第
2の導電回路層27は、第3の外部回路化基板(図示せ
ず)に電気的に接続されるように構成される。第2の電
子パッケージ10′は、マルチ電子デバイス・パッケー
ジ10と同じであるとして仮想線で示されているが、第
2の電子パッケージ10′は、従来技術で既に述べた構
造および/または図3〜6で説明される構造のような種
々の形態を採ることもできる。
の第2の面34に取り付ける。このとき、第2の電子デ
バイスが、第2の開口28内に配置されるようにする。
第2の電子デバイス40は、第2の基板22の第2の面
26に形成された第2の導電回路層27に、コンタクト
38c,38dを経て接続される。第1の導電回路層2
0は、第2の導電回路層27に電気的に接続され、およ
び第1の導電回路層20は、第2の電子パッケージ1
0′に電気的に接続されるように構成される。また、第
2の導電回路層27は、第3の外部回路化基板(図示せ
ず)に電気的に接続されるように構成される。第2の電
子パッケージ10′は、マルチ電子デバイス・パッケー
ジ10と同じであるとして仮想線で示されているが、第
2の電子パッケージ10′は、従来技術で既に述べた構
造および/または図3〜6で説明される構造のような種
々の形態を採ることもできる。
【0011】図1および2において、マルチ電子デバイ
ス・パッケージ10は、さらに、複数のメッキ・スルー
ホール42,44,46,48,50,52を有してい
る。これらスルーホールは、第1および第2の基板1
2,22とプレーン30とを貫通し、第1および第2の
導電回路層20,27を電気的に接続する。第2の導電
回路層27は、複数の半田ボール・パッド54,56,
58,60,62,64を有している。半田ボール6
6,68,70,72,74,76は、半田ボール・パ
ッド54,56,58,60,62,64にそれぞれ接
続すなわち半田づけされ、技術上周知のように、第2の
導電回路層27を、第3の外部回路化基板(図示せず)
に電気的に接続する。第2の電子パッケージ10′は、
少なくとも以下の部品を有している。すなわち、第1の
面24′と、この面に対向する第2の面26′とを有す
る第4の基板22′;第4の基板22′の′2の面2
6′に形成された第3の導電回路層27′;第4の基板
22′に接続され、および第3の導電回路層27′に電
気的に接続された第3の電子デバイス40′である。第
2の電子デバイス・パッケージ10′は、マルチ電子デ
バイス・パッケージ10の頂部上に積層されて、取り付
けられている。第3の導電回路層27′は、複数の半田
ボール・パッド54′,56′,58′,60′,6
2′,64′を有している。第1の導電回路層20は、
第3の導電回路層27′の各半田ボール・パッド5
4′,56′,58′,60′,62′,64′に対応
する半田ボール・パッド78,80,82,84,8
6,88を有している。半田ボール90,92,94,
96,98,100は、各半田ボール・パッド54′,
56′,58′,60′,62′,64′にそれぞれ接
続され、および対応する各半田ボール・パッド78,8
0,82,84,86,88に接続されて、マルチ電子
デバイスパッケージ10を第2の電子パッケージ10′
に取り付け、第1の導電回路層20を第3の導電回路層
27′に電気的に接続する。マルチ電子デバイス・パッ
ケージ10は、さらに、金または銅のような導電材料で
作られたボンディング・ワイヤ102a,102b,1
02c,102dを有している。ボンディング・ワイヤ
102a,102bは、第1の電子デバイス36のコン
タクト38a,38bと、第1の導電回路層20との間
に接続され、第1の電子デバイス36を、第1の導電回
路層20に電気的に接続する。ボンディング・ワイヤ1
02c,102dは、第2の電子デバイス40のコンタ
クト38c,38dと、第2の導電回路層27との間に
接続され、第2の電子デバイス40を、第2の導電回路
層27に電気的に接続する。ボンディング・ワイヤ10
2a,102b,102c,102dを、既知のワイヤ
・ボンディング技術を用いて、コンタクト38a,38
b,38c,38dおよび第1,第2の導電回路層2
0,27に接続することができる。マルチ電子デバイス
・パッケージ10は、さらに、電子デバイス36,ボン
ディング・ワイヤ102a,102b,第1の導電回路
層20の一部を覆う好ましくはエポキシ樹脂で作られた
第1のカプセル封止部104と、第2の電子デバイス4
0,ボンディング・ワイヤ102c,102d,第2の
導電回路層27の一部を覆う好ましくはエポキシ樹脂で
作られた第2のカプセル封止部106とを有している。
第1のカプセル封止部104を、第2の電子パッケージ
10′に関係したカプセル封止部に結合し、第1の電子
パッケージ10を、第2の電子パッケージ10′に物理
的に接続することができる。図示していないが、第1お
よび第2のカプセル封止部104,106を、第1の電
子パッケージ10を包む単一の一体形カプセル封止部の
形態を採ることもできる。
ス・パッケージ10は、さらに、複数のメッキ・スルー
ホール42,44,46,48,50,52を有してい
る。これらスルーホールは、第1および第2の基板1
2,22とプレーン30とを貫通し、第1および第2の
導電回路層20,27を電気的に接続する。第2の導電
回路層27は、複数の半田ボール・パッド54,56,
58,60,62,64を有している。半田ボール6
6,68,70,72,74,76は、半田ボール・パ
ッド54,56,58,60,62,64にそれぞれ接
続すなわち半田づけされ、技術上周知のように、第2の
導電回路層27を、第3の外部回路化基板(図示せず)
に電気的に接続する。第2の電子パッケージ10′は、
少なくとも以下の部品を有している。すなわち、第1の
面24′と、この面に対向する第2の面26′とを有す
る第4の基板22′;第4の基板22′の′2の面2
6′に形成された第3の導電回路層27′;第4の基板
22′に接続され、および第3の導電回路層27′に電
気的に接続された第3の電子デバイス40′である。第
2の電子デバイス・パッケージ10′は、マルチ電子デ
バイス・パッケージ10の頂部上に積層されて、取り付
けられている。第3の導電回路層27′は、複数の半田
ボール・パッド54′,56′,58′,60′,6
2′,64′を有している。第1の導電回路層20は、
第3の導電回路層27′の各半田ボール・パッド5
4′,56′,58′,60′,62′,64′に対応
する半田ボール・パッド78,80,82,84,8
6,88を有している。半田ボール90,92,94,
96,98,100は、各半田ボール・パッド54′,
56′,58′,60′,62′,64′にそれぞれ接
続され、および対応する各半田ボール・パッド78,8
0,82,84,86,88に接続されて、マルチ電子
デバイスパッケージ10を第2の電子パッケージ10′
に取り付け、第1の導電回路層20を第3の導電回路層
27′に電気的に接続する。マルチ電子デバイス・パッ
ケージ10は、さらに、金または銅のような導電材料で
作られたボンディング・ワイヤ102a,102b,1
02c,102dを有している。ボンディング・ワイヤ
102a,102bは、第1の電子デバイス36のコン
タクト38a,38bと、第1の導電回路層20との間
に接続され、第1の電子デバイス36を、第1の導電回
路層20に電気的に接続する。ボンディング・ワイヤ1
02c,102dは、第2の電子デバイス40のコンタ
クト38c,38dと、第2の導電回路層27との間に
接続され、第2の電子デバイス40を、第2の導電回路
層27に電気的に接続する。ボンディング・ワイヤ10
2a,102b,102c,102dを、既知のワイヤ
・ボンディング技術を用いて、コンタクト38a,38
b,38c,38dおよび第1,第2の導電回路層2
0,27に接続することができる。マルチ電子デバイス
・パッケージ10は、さらに、電子デバイス36,ボン
ディング・ワイヤ102a,102b,第1の導電回路
層20の一部を覆う好ましくはエポキシ樹脂で作られた
第1のカプセル封止部104と、第2の電子デバイス4
0,ボンディング・ワイヤ102c,102d,第2の
導電回路層27の一部を覆う好ましくはエポキシ樹脂で
作られた第2のカプセル封止部106とを有している。
第1のカプセル封止部104を、第2の電子パッケージ
10′に関係したカプセル封止部に結合し、第1の電子
パッケージ10を、第2の電子パッケージ10′に物理
的に接続することができる。図示していないが、第1お
よび第2のカプセル封止部104,106を、第1の電
子パッケージ10を包む単一の一体形カプセル封止部の
形態を採ることもできる。
【0012】図3および図4は、本発明のマルチ電子デ
バイス・パッケージ300の第2の実施例を示す。マル
チ電子デバイス・パッケージ300は、第1の面314
と、対向する第2の面316とを有する第1の基板31
2を備えている。第1の面314は、第1の凹部318
を有し、この凹部は、第1の面314から第1の基板3
12内に部分的に拡がっている。第1の導電回路層32
0は、第1の基板312の第1の面314に形成されて
いる。第2の導電回路層322は、第1の基板312の
第2の面316に形成されている。第2の導電回路層3
22は、1つ以上のメッキ・スルーホール324a,3
24bを経て、第1の導電回路層320に電気的に接続
されている。第2の導電回路層322は、第3の外部回
路化基板(図示せず)に電気的に接続できるように構成
されている。第1の電子デバイス326は、第1の凹部
318内に配置されている。第1の電子デバイス326
は、コンタクト327a,327bを経て、第1の導電
回路層320に電気的に接続されている。マルチ電子デ
バイス・パッケージ300は、さらに、第1の面330
と、対向する第2の面332とを有する第2の基板32
8とを備えている。図1および図2のマルチ電子デバイ
ス・パッケージ10におけるように、第1および第2の
基板312,328は、好ましくはガラス布に含浸され
たエポキシ樹脂よりなるペレ・ペグである。第3の導電
回路層334は、第2の基板328の第2の面332に
形成されている。コンタクト327c,327dを有す
る第2の電子デバイス336は、第3の導電回路層33
4に電気的に接続されている。第1および第2の基板3
12,328は、共通の界面に沿って互いに接合され
る。この場合、第2の電子デバイス336と、第2の基
板328の第2の面332とは、第1の電子デバイス3
26と、第1の基板312の第1の面314とに対面し
ている。第1の導電回路層320は、第3の導電回路層
334に電気的に接続されている。メッキ・スルーホー
ル324a,324bは、第1の基板312を貫通し、
第1および第2の導電回路層320,322を電気的に
接続する。第2の導電回路層322は、複数の半田ボー
ル・パッド338,340,342,344,346,
348,350を有している。
バイス・パッケージ300の第2の実施例を示す。マル
チ電子デバイス・パッケージ300は、第1の面314
と、対向する第2の面316とを有する第1の基板31
2を備えている。第1の面314は、第1の凹部318
を有し、この凹部は、第1の面314から第1の基板3
12内に部分的に拡がっている。第1の導電回路層32
0は、第1の基板312の第1の面314に形成されて
いる。第2の導電回路層322は、第1の基板312の
第2の面316に形成されている。第2の導電回路層3
22は、1つ以上のメッキ・スルーホール324a,3
24bを経て、第1の導電回路層320に電気的に接続
されている。第2の導電回路層322は、第3の外部回
路化基板(図示せず)に電気的に接続できるように構成
されている。第1の電子デバイス326は、第1の凹部
318内に配置されている。第1の電子デバイス326
は、コンタクト327a,327bを経て、第1の導電
回路層320に電気的に接続されている。マルチ電子デ
バイス・パッケージ300は、さらに、第1の面330
と、対向する第2の面332とを有する第2の基板32
8とを備えている。図1および図2のマルチ電子デバイ
ス・パッケージ10におけるように、第1および第2の
基板312,328は、好ましくはガラス布に含浸され
たエポキシ樹脂よりなるペレ・ペグである。第3の導電
回路層334は、第2の基板328の第2の面332に
形成されている。コンタクト327c,327dを有す
る第2の電子デバイス336は、第3の導電回路層33
4に電気的に接続されている。第1および第2の基板3
12,328は、共通の界面に沿って互いに接合され
る。この場合、第2の電子デバイス336と、第2の基
板328の第2の面332とは、第1の電子デバイス3
26と、第1の基板312の第1の面314とに対面し
ている。第1の導電回路層320は、第3の導電回路層
334に電気的に接続されている。メッキ・スルーホー
ル324a,324bは、第1の基板312を貫通し、
第1および第2の導電回路層320,322を電気的に
接続する。第2の導電回路層322は、複数の半田ボー
ル・パッド338,340,342,344,346,
348,350を有している。
【0013】マルチ電子デバイス・パッケージ300
は、さらに、半田ボール352,354,356,35
8,360,362,364を有している。これら半田
ボールは、それぞれ、各半田ボール・パッド338,3
40,342,344,346,348,350に接続
され、第2の導電回路層322を、第3の外部回路化基
板(図示せず)に電気的に接続する。第1の導電回路層
320は、複数の半田ボール・パッド366,368,
370,372,374,376を有している。第3の
導電回路層334は、第1の導電回路層320の各半田
ボール・パッド366,368,370,372,37
4,376に対応する各半田ボール・パッド378,3
80,382,384,386,388を有している。
半田ボール390,392,394,396,398,
400は、各半田ボール・パッド366,368,37
0,372,374,376および対応する半田ボール
・パッド378,380,382,384,386,3
88にそれぞれ接続され、第1の基板312を、共通の
界面に沿って、第2の基板328に取り付け、第3の導
電回路層334に電気的に接続する。ボンディング・ワ
イヤ402a,402bは、第1の電子デバイス326
のコンタクト327a,327bと、第1の導電回路層
320との間に接続されるワイヤである。ボンデイング
・ワイヤ402c,402dは、第2の電子デバイス3
36のコンタクト327c,327dと、第3の導電回
路層334との間に接続されるワイヤである。このよう
にして、第1の電子デバイス326は、第1の導電回路
層320に電気的に接続され、第2の電子デバイス33
6は、第3の導電回路層334に電気的に接続される。
マルチ電子デバイス・パッド300は、さらに、好まし
くはエポキシ樹脂よりなる第1のカプセル封止部40
4、第2のカプセル封止部406とを有している。第1
のカプセル封止部404は、第1の電子デバイス326
と、第1の凹部318と、ボンディング・ワイヤ402
a,402bと、第1の導電回路層320の少なくとも
一部とを覆っている。第2のカプセル封止部406は、
第2の電子デバイス336と、ボンデイングワイヤ40
2c,402dと、第3の導電回路層334の少なくと
も一部とを覆っている。第1のカプセル封止部404
は、第2のカプセル封止部406に接合され、第1の基
板312を第2の基板328に取り付ける。第2の基板
328は、さらに、開口408と、伝熱プレーン410
とを有している。この伝熱プレーン410は、第2の基
板328の第1の面330に接続され、開口408を覆
っている。第2の電子デバイス336は、開口408で
伝熱プレーン410に取り付けられている。このように
して、第2の電子デバイス336は、プレーン410を
経て、第2の基板328に接続されている。プレーン4
10は、第1および第2の電子デバイス326,336
から発生する熱を拡散する。さらに、基板312,32
8は、埋込まれた伝熱および/または導電プレーンを有
することができる。
は、さらに、半田ボール352,354,356,35
8,360,362,364を有している。これら半田
ボールは、それぞれ、各半田ボール・パッド338,3
40,342,344,346,348,350に接続
され、第2の導電回路層322を、第3の外部回路化基
板(図示せず)に電気的に接続する。第1の導電回路層
320は、複数の半田ボール・パッド366,368,
370,372,374,376を有している。第3の
導電回路層334は、第1の導電回路層320の各半田
ボール・パッド366,368,370,372,37
4,376に対応する各半田ボール・パッド378,3
80,382,384,386,388を有している。
半田ボール390,392,394,396,398,
400は、各半田ボール・パッド366,368,37
0,372,374,376および対応する半田ボール
・パッド378,380,382,384,386,3
88にそれぞれ接続され、第1の基板312を、共通の
界面に沿って、第2の基板328に取り付け、第3の導
電回路層334に電気的に接続する。ボンディング・ワ
イヤ402a,402bは、第1の電子デバイス326
のコンタクト327a,327bと、第1の導電回路層
320との間に接続されるワイヤである。ボンデイング
・ワイヤ402c,402dは、第2の電子デバイス3
36のコンタクト327c,327dと、第3の導電回
路層334との間に接続されるワイヤである。このよう
にして、第1の電子デバイス326は、第1の導電回路
層320に電気的に接続され、第2の電子デバイス33
6は、第3の導電回路層334に電気的に接続される。
マルチ電子デバイス・パッド300は、さらに、好まし
くはエポキシ樹脂よりなる第1のカプセル封止部40
4、第2のカプセル封止部406とを有している。第1
のカプセル封止部404は、第1の電子デバイス326
と、第1の凹部318と、ボンディング・ワイヤ402
a,402bと、第1の導電回路層320の少なくとも
一部とを覆っている。第2のカプセル封止部406は、
第2の電子デバイス336と、ボンデイングワイヤ40
2c,402dと、第3の導電回路層334の少なくと
も一部とを覆っている。第1のカプセル封止部404
は、第2のカプセル封止部406に接合され、第1の基
板312を第2の基板328に取り付ける。第2の基板
328は、さらに、開口408と、伝熱プレーン410
とを有している。この伝熱プレーン410は、第2の基
板328の第1の面330に接続され、開口408を覆
っている。第2の電子デバイス336は、開口408で
伝熱プレーン410に取り付けられている。このように
して、第2の電子デバイス336は、プレーン410を
経て、第2の基板328に接続されている。プレーン4
10は、第1および第2の電子デバイス326,336
から発生する熱を拡散する。さらに、基板312,32
8は、埋込まれた伝熱および/または導電プレーンを有
することができる。
【0014】図5および図6には、本発明のマルチ電子
デバイス・パッケージ500の第2の実施例を示す。マ
ルチ電子デバイス・パッケージ500は、第1の面51
4と、対向する第2の面516とを有する第1の基板5
12を備えている。第1の導電回路層518は、第1の
基板512の第1の面514に形成されている。第2の
導電回路層520は、第1の基板512の第2の面51
6に形成されている。第2の導電回路層520は、第1
の導電回路層518に電気的に接続されている。第2の
導電回路層520は、第3の外部回路化基板(図示せ
ず)に電気的に接続できるように構成されている。コン
タクト523a,523bを有する第1の電子デバイス
522は、第1の基板512に取り付けられ、第1の導
電回路層518に電気的に接続されている。また、第1
の面526および第2の面528を有する第2の基板5
24が含まれている。第3の導電回路層530は、第2
の基板524の第1の面526に形成されている。コン
タクト523c,523dを有する第2の電子デバイス
532は、第2の基板524に接続され、第3の導電回
路層530に電気的に接続されている。第4の導電回路
層534は、第2の基板524の第2の面528に形成
されている。第4の導電回路層534は、第3の導電回
路層530に電気的に接続されている。マルチ電子デバ
イス・パッケージ500は、好ましくはエポキシ樹脂よ
りなる第1のカプセル封止部536を有し、この封止部
は、第1の電子デバイス522と、第1の導電回路層5
18の一部とを覆っている。第2の基板524は、凹部
538を有している。この凹部は、第2の基板524の
第2の面528から、第2の基板524内に部分的に拡
がっている。第1および第2の基板512,524は、
共通界面に沿って、互いに接着されている。この場合、
第2の基板524の第2の面528は、第1の基板51
2の第1の面514に対面している。第1のカプセル封
止部536の少なくとも一部は、凹部538内に延び、
第2の基板524の第2の面528と、第1の基板51
2の第1の面514との間の距離を小さくする。
デバイス・パッケージ500の第2の実施例を示す。マ
ルチ電子デバイス・パッケージ500は、第1の面51
4と、対向する第2の面516とを有する第1の基板5
12を備えている。第1の導電回路層518は、第1の
基板512の第1の面514に形成されている。第2の
導電回路層520は、第1の基板512の第2の面51
6に形成されている。第2の導電回路層520は、第1
の導電回路層518に電気的に接続されている。第2の
導電回路層520は、第3の外部回路化基板(図示せ
ず)に電気的に接続できるように構成されている。コン
タクト523a,523bを有する第1の電子デバイス
522は、第1の基板512に取り付けられ、第1の導
電回路層518に電気的に接続されている。また、第1
の面526および第2の面528を有する第2の基板5
24が含まれている。第3の導電回路層530は、第2
の基板524の第1の面526に形成されている。コン
タクト523c,523dを有する第2の電子デバイス
532は、第2の基板524に接続され、第3の導電回
路層530に電気的に接続されている。第4の導電回路
層534は、第2の基板524の第2の面528に形成
されている。第4の導電回路層534は、第3の導電回
路層530に電気的に接続されている。マルチ電子デバ
イス・パッケージ500は、好ましくはエポキシ樹脂よ
りなる第1のカプセル封止部536を有し、この封止部
は、第1の電子デバイス522と、第1の導電回路層5
18の一部とを覆っている。第2の基板524は、凹部
538を有している。この凹部は、第2の基板524の
第2の面528から、第2の基板524内に部分的に拡
がっている。第1および第2の基板512,524は、
共通界面に沿って、互いに接着されている。この場合、
第2の基板524の第2の面528は、第1の基板51
2の第1の面514に対面している。第1のカプセル封
止部536の少なくとも一部は、凹部538内に延び、
第2の基板524の第2の面528と、第1の基板51
2の第1の面514との間の距離を小さくする。
【0015】マルチ電子デバイス・パッケージ500
は、さらに、少なくとも1つのメッキ・スルーホール5
40a,540b,540cを有している。これらスル
ーホールは、第1の基板512を貫通し、第1および第
2の導電回路層518,520を電気的に接続する。さ
らに、電子デバイス・パッケージ500は、さらに、少
なくとも1つのメッキ・スルーホール542a,542
bを有している。これらスルーホールは、第2の基板5
24を貫通し、第3および第4の導電回路層530,5
34を電気的に接続する。第2の導電回路層520は、
複数の半田ボール・パッド544,546,548,5
50,552,554,556を有している。半田ボー
ル558,560,562,564,566,568,
570は、各半田ボール・パッド544,546,54
8,550,552,554,556にそれぞれ接続さ
れ、第2の導電回路層520を第3の外部回路化基板に
電気的に接続し、およびマルチ電子デバイス・パッケー
ジ500を、第3の外部回路化基板に物理的に取り付け
る。第1の導電回路層518は、複数の半田ボール・パ
ッド572,574,576,578,580,582
を有している。第4の導電回路層534は、第1の導電
回路層518の各半田ボール・パッド572,574,
576,578,580,582に対応する半田ボール
・パッド584,586,588,590,600,6
02を有している。半田ボール604,606,60
8,610,612,614は、各半田ボール・パッド
572,574,576,578,580,582およ
び対応する半田ボール・パッド584,586,58
8,590,600,602に接続され、第1の基板5
12を共通界面に沿って、第2の基板524に取り付
け、第1の導電回路層518を、第4の導電回路層53
4に電気的に接続する。
は、さらに、少なくとも1つのメッキ・スルーホール5
40a,540b,540cを有している。これらスル
ーホールは、第1の基板512を貫通し、第1および第
2の導電回路層518,520を電気的に接続する。さ
らに、電子デバイス・パッケージ500は、さらに、少
なくとも1つのメッキ・スルーホール542a,542
bを有している。これらスルーホールは、第2の基板5
24を貫通し、第3および第4の導電回路層530,5
34を電気的に接続する。第2の導電回路層520は、
複数の半田ボール・パッド544,546,548,5
50,552,554,556を有している。半田ボー
ル558,560,562,564,566,568,
570は、各半田ボール・パッド544,546,54
8,550,552,554,556にそれぞれ接続さ
れ、第2の導電回路層520を第3の外部回路化基板に
電気的に接続し、およびマルチ電子デバイス・パッケー
ジ500を、第3の外部回路化基板に物理的に取り付け
る。第1の導電回路層518は、複数の半田ボール・パ
ッド572,574,576,578,580,582
を有している。第4の導電回路層534は、第1の導電
回路層518の各半田ボール・パッド572,574,
576,578,580,582に対応する半田ボール
・パッド584,586,588,590,600,6
02を有している。半田ボール604,606,60
8,610,612,614は、各半田ボール・パッド
572,574,576,578,580,582およ
び対応する半田ボール・パッド584,586,58
8,590,600,602に接続され、第1の基板5
12を共通界面に沿って、第2の基板524に取り付
け、第1の導電回路層518を、第4の導電回路層53
4に電気的に接続する。
【0016】第1のカプセル封止部536は、第2の基
板524、および特に凹部538に接合される。図示し
ないが、第1および第2の基板512,514は、カプ
セル封止される伝熱および導電プレーンを有している。
これらのプレーンは、第1の電子デバイス522および
第2の電子デバイス532によって発生される熱を放散
する。ボンディング・ワイヤ616a,616bは、第
1の電子デバイス522のコンタクト523a,523
bと、第1の導電回路層518との間でワイヤ・ボンデ
ィングされ、第1の電子デバイス522を第1の導電回
路層518に電気的に接続する。また、ボンディング・
ワイヤ616c,616dは、第2の電子デバイス53
2のコンタクト523c,523dと、第3の導電回路
層530との間でワイヤ・ボンデイングされ、第2の電
子デバイス532を第3の導電回路層530に電気的に
接続する。第1のカプセル封止部536は、さらに、第
1の電子デバイス522と第1の導電回路層518との
間に接続されたボンディング・ワイヤ516a,616
bを覆っている。エポキシ樹脂よりなる第2のカプセル
封止部618は、第2の電子デバイス532と、第3の
導電回路層530の少なくとも一部と、第2の電子デバ
イス532を第3の導電回路層530に電気的に接続す
るボンディング・ワイヤ616c,616dとを覆って
いる。
板524、および特に凹部538に接合される。図示し
ないが、第1および第2の基板512,514は、カプ
セル封止される伝熱および導電プレーンを有している。
これらのプレーンは、第1の電子デバイス522および
第2の電子デバイス532によって発生される熱を放散
する。ボンディング・ワイヤ616a,616bは、第
1の電子デバイス522のコンタクト523a,523
bと、第1の導電回路層518との間でワイヤ・ボンデ
ィングされ、第1の電子デバイス522を第1の導電回
路層518に電気的に接続する。また、ボンディング・
ワイヤ616c,616dは、第2の電子デバイス53
2のコンタクト523c,523dと、第3の導電回路
層530との間でワイヤ・ボンデイングされ、第2の電
子デバイス532を第3の導電回路層530に電気的に
接続する。第1のカプセル封止部536は、さらに、第
1の電子デバイス522と第1の導電回路層518との
間に接続されたボンディング・ワイヤ516a,616
bを覆っている。エポキシ樹脂よりなる第2のカプセル
封止部618は、第2の電子デバイス532と、第3の
導電回路層530の少なくとも一部と、第2の電子デバ
イス532を第3の導電回路層530に電気的に接続す
るボンディング・ワイヤ616c,616dとを覆って
いる。
【0017】本発明およびその利点を、詳細に説明した
が、本発明の趣旨と範囲から離れることなく、種々の変
更,置換,変形を行うことができることがわかる。
が、本発明の趣旨と範囲から離れることなく、種々の変
更,置換,変形を行うことができることがわかる。
【0018】まとめとして、本発明の構成に関して以下
の事項を開示する。 (1)第1の電子デバイス・パッケージを備え、この第
1の電子デバイス・パッケージは、第1の面と、対向す
る第2の面とを有し、第1の開口を有する第1の基板
と、前記第1の基板の前記第1の面に形成された第1の
導電回路層と、第1の面と、対向する第2の面とを有
し、第2の開口を有する第2の基板と、前記第2の基板
の前記第2の面に形成された第2の導電回路層と、第1
の面と、対向する第2の面とを有し、前記第1の基板と
第2の基板との間に配置され、前記第1および第2の開
口を覆う伝熱および導電プレーンと、前記第1の開口内
に配置され、前記第1の導電回路層に電気的に接続され
るように、前記プレーンの第1の面に取り付けられた第
1の電子デバイスと、前記第2の開口内に配置され、前
記第2の導電回路層に電気的に接続されるように、前記
プレーンの第2の面に取り付けられた第2の電子デバイ
スとを備え、前記第1の導電回路層は、前記第2の導電
回路層に電気的に接続され、前記第1の導電回路層は、
第2の電子デバイス・パッケージに電気的に接続される
ように構成され、前記第2の導電回路層は、第3の外部
回路化基板に電気的に接続されるように構成されてい
る、ことを特徴とするマルチ電子デバイス・パッケー
ジ。 (2)前記第1および第2の基板を貫通し、前記第1の
導電回路層と第2の導電回路層とを電気的に接続する少
なくとも1つのメッキ・スルーホールを、さらに備える
ことを特徴とする上記(1)に記載のマルチ電子デバイ
ス・パッケージ。 (3)前記第2の導電回路層は、複数の半田ボール・パ
ッドを有することを特徴とする上記(1)に記載のマル
チ電子デバイス・パッケージ。 (4)前記各半田ボール・パッドに接続され、前記第2
の導電回路層を、前記第3の外部回路化基板に電気的に
接続する半田ボールをさらに備えることを特徴とする上
記(3)に記載のマルチ電子デバイス・パッケージ。 (5)第2の電子デバイス・パッケージをさらに備え、
この第2の電子デバイス・パッケージは、第1の面と、
対向する第2の面とを有する第3の基板と、前記第3の
基板の前記第2の面に形成された第3の導電回路層と、
前記第3の基板に接続され、前記第3の導電回路層に電
気的に接続された第3の電子デバイスと、をさらに備え
ることを特徴とする上記(1)に記載のマルチ電子デバ
イス・パッケージ。 (6)前記第2の電子デバイス・パッケージは、前記第
1の電子デバイス・パッケージの頂部に積層され、取り
付けられていることを特徴とする上記(5)に記載のマ
ルチ電子デバイス・パッケージ。 (7)前記第3の導電回路層は、複数の半田ボール・パ
ッドを有することを特徴とする上記(6)に記載のマル
チ電子デバイス・パッケージ。 (8)前記第1の導電回路層は、前記第3の導電回路層
の前記各半田ボール・パッドに対応する半田ボール・パ
ッドを有することを特徴とする上記(7)に記載のマル
チ電子デバイス・パッケージ。 (9)前記各半田ボール・パッドおよび対応する半田ボ
ール・パッドに接続され、前記第1の電子デバイス・パ
ッケージと第2の電子デバイス・パッケージとを取り付
け、前記第1の導電回路層を、前記第3の導電回路層に
電気的に接続する半田ボールをさらに備えることを特徴
とする上記(8)に記載のマルチ電子デバイス・パッケ
ージ。 (10)第1の面と、対向する第2の面とを有する第1
の基板を備え、前記第1の面は、前記第1の面から前記
第1の基板内へ拡がる第1の凹部を有し、前記第1の基
板の前記第1の面に形成された第1の導電回路層を備
え、前記第1の基板の前記第2の面に形成された第2の
導電回路層を備え、前記第2の導電回路層は、前記第1
の導電回路層に電気的に接続され、前記第2の導電回路
層は、第3の外部回路化基板に電気的に接続されるよう
に構成され、前記第1の開口内に配置され、前記第1の
導電回路層に電気的に接続されるように、前記第1の基
板に取り付けられた第1の電子デバイスを備え、第1の
面と、対向する第2の面とを有する第2の基板を備え、
前記第2の基板の前記第2の面に形成された第3の導電
回路層を備え、前記第2の基板に接続され、前記第3の
導電回路層に電気的に接続された第2の電子デバイスを
備え、前記第1の基板と第2の基板とは、共通界面に沿
って接合され、前記第2の電子デバイスと前記第2の基
板の第2の面とは、前記第1の電子デバイスと前記第1
の基板の第1の面に対面し、前記第1の導電回路層は、
前記第3の導電回路層に電気的に接続されている、こと
を特徴とするマルチ電子デバイス・パッケージ。 (11)前記第1の基板を貫通し、前記第1の導電回路
層と第2の導電回路層とを電気的に接続する少なくとも
1つのメッキ・スルーホールを、さらに備えることを特
徴とする上記(10)に記載のマルチ電子デバイス・パ
ッケージ。 (12)前記第2の導電回路層は、複数の半田ボール・
パッドを有することを特徴とする上記(10)に記載の
マルチ電子デバイス・パッケージ。 (13)前記各半田ボール・パッドに接続され、前記第
2の導電回路層を、前記第3の外部回路化基板に電気的
に接続する半田ボールをさらに備えることを特徴とする
上記(12)に記載のマルチ電子デバイス・パッケー
ジ。 (14)前記第1の導電回路層は、複数の半田ボール・
パッドを有することを特徴とする上記(10)に記載の
マルチ電子デバイス・パッケージ。 (15)前記第1の導電回路層は、前記第1の導電回路
層の前記各半田ボール・パッドに対応する半田ボール・
パッドを有することを特徴とする上記(14)に記載の
マルチ電子デバイス・パッケージ。 (16)前記各半田ボール・パッドおよび対応する半田
ボール・パッドに接続され、前記第3の基板を前記共通
界面に沿って前記第2の基板に取り付け、前記第1の導
電回路層を、前記第3の導電回路層に電気的に接続する
半田ボールをさらに備えることを特徴とする上記(1
5)に記載のマルチ電子デバイス・パッケージ。 (17)前記第1の電子デバイスと、前記第1の凹部
と、前記第1の導電回路層の少なくとも一部とを覆う第
1のカプセル封止部と、前記第2の電子デバイスと、前
記第3の導電回路層の少なくとも一部を覆う第2のカプ
セル封止部とをさらに備え、前記第1のカプセル封止部
は、前記第2のカプセル封止部に接合され、前記第1の
基板を前記第2の基板に取り付けることを特徴とする上
記(10)に記載のマルチ電子デバイス・パッケージ。 (18)前記第2の基板は、開口を有することを特徴と
する上記(10)に記載のマルチ電子デバイス・パッケ
ージ。 (19)前記第2の基板の第1の面に接続され、前記開
口を覆う伝熱プレーンを有することを特徴とする上記
(18)に記載のマルチ電子デバイス・パッケージ。 (20)前記第2の電子デバイスは、前記開口内で前記
プレーンに取り付けられていることを特徴とする上記
(19)に記載のマルチ電子デバイス・パッケージ。 (21)第1の面と、対向する第2の面とを有する第1
の基板を備え、前記第1の基板の前記第1の面に形成さ
れた第1の導電回路層を備え、前記第1の基板の前記第
2の面に形成された第2の導電回路層を備え、前記第2
の導電回路層は、前記第1の導電回路層に電気的に接続
され、前記第2の導電回路層は、第3の外部回路化基板
に電気的に接続されるように構成され、前記第1の基板
に取り付けられ、前記第1の導電回路層に電気的に接続
された第1の電子デバイスを備え、第1の面と、対向す
る第2の面とを有する第2の基板を備え、前記第2の基
板の前記第1の面に形成された第3の導電回路層を備
え、前記第2の基板に接続され、前記第3の導電回路層
に電気的に接続された第2の電子デバイスを備え、前記
第2の基板の前記第2の面に形成され、前記第3の導電
回路層に電気的に接続された第4の導電回路層を備え、
前記第1の電子デバイスと、前記第1の導電回路層の少
なくとも一部を覆うカプセル封止部を備え、前記第2の
基板は、前記第2の基板の第2の面から前記第2の基板
内に拡がる凹部を有し、前記第1の基板と第2の基板と
は、共通界面に沿って接合され、前記第2の基板の第2
の面は、前記第1の基板の第1の面に対面し、前記カプ
セル封止部の少なくとも一部は、前記凹部内に拡がり、
これにより前記第2の基板の第2の面と前記第1の基板
の第1の面との間の距離を小さくする、ことを特徴とす
るマルチ電子デバイス・パッケージ。 (22)前記第1の基板を貫通し、前記第1の導電回路
層と第2の導電回路層とを電気的に接続する少なくとも
1つのメッキ・スルーホールを、さらに備えることを特
徴とする上記(21)に記載のマルチ電子デバイス・パ
ッケージ。 (23)前記第2の基板を貫通し、前記第3の導電回路
層と第4の導電回路層とを電気的に接続する少なくとも
1つのメッキ・スルーホールを、さらに備えることを特
徴とする上記(21)に記載のマルチ電子デバイス・パ
ッケージ。 (24)前記第2の導電回路層は、複数の半田ボール・
パッドを有することを特徴とする上記(21)に記載の
マルチ電子デバイス・パッケージ。 (25)前記各半田ボール・パッドに接続され、前記第
2の導電回路層を、前記第3の外部回路化基板に電気的
に接続する半田ボールをさらに備えることを特徴とする
上記(21)に記載のマルチ電子デバイス・パッケー
ジ。 (26)前記第1の導電回路層は、複数の半田ボール・
パッドを有することを特徴とする上記(21)に記載の
マルチ電子デバイス・パッケージ。 (27)前記第4の導電回路層は、前記第1の導電回路
層の前記各半田ボール・パッドに対応する半田ボール・
パッドを有することを特徴とする上記(26)に記載の
マルチ電子デバイス・パッケージ。 (28)前記各半田ボール・パッドおよび対応する半田
ボール・パッドに接続され、前記第1の基板を前記共通
界面に沿って前記第2の基板に取り付け、前記第1の導
電回路層を、前記第4の導電回路層に電気的に接続する
半田ボールをさらに備えることを特徴とする上記(2
7)に記載のマルチ電子デバイス・パッケージ。 (29)前記カプセル封止部は、前記第2の基板に接合
されることを特徴とする上記(21)に記載のマルチ電
子デバイス・パッケージ (30)前記第1および第2の基板は、カプセル封止さ
れた伝熱および導電プレーンを有することを特徴とする
上記(21)に記載のマルチ電子デバイス・パッケー
ジ。
の事項を開示する。 (1)第1の電子デバイス・パッケージを備え、この第
1の電子デバイス・パッケージは、第1の面と、対向す
る第2の面とを有し、第1の開口を有する第1の基板
と、前記第1の基板の前記第1の面に形成された第1の
導電回路層と、第1の面と、対向する第2の面とを有
し、第2の開口を有する第2の基板と、前記第2の基板
の前記第2の面に形成された第2の導電回路層と、第1
の面と、対向する第2の面とを有し、前記第1の基板と
第2の基板との間に配置され、前記第1および第2の開
口を覆う伝熱および導電プレーンと、前記第1の開口内
に配置され、前記第1の導電回路層に電気的に接続され
るように、前記プレーンの第1の面に取り付けられた第
1の電子デバイスと、前記第2の開口内に配置され、前
記第2の導電回路層に電気的に接続されるように、前記
プレーンの第2の面に取り付けられた第2の電子デバイ
スとを備え、前記第1の導電回路層は、前記第2の導電
回路層に電気的に接続され、前記第1の導電回路層は、
第2の電子デバイス・パッケージに電気的に接続される
ように構成され、前記第2の導電回路層は、第3の外部
回路化基板に電気的に接続されるように構成されてい
る、ことを特徴とするマルチ電子デバイス・パッケー
ジ。 (2)前記第1および第2の基板を貫通し、前記第1の
導電回路層と第2の導電回路層とを電気的に接続する少
なくとも1つのメッキ・スルーホールを、さらに備える
ことを特徴とする上記(1)に記載のマルチ電子デバイ
ス・パッケージ。 (3)前記第2の導電回路層は、複数の半田ボール・パ
ッドを有することを特徴とする上記(1)に記載のマル
チ電子デバイス・パッケージ。 (4)前記各半田ボール・パッドに接続され、前記第2
の導電回路層を、前記第3の外部回路化基板に電気的に
接続する半田ボールをさらに備えることを特徴とする上
記(3)に記載のマルチ電子デバイス・パッケージ。 (5)第2の電子デバイス・パッケージをさらに備え、
この第2の電子デバイス・パッケージは、第1の面と、
対向する第2の面とを有する第3の基板と、前記第3の
基板の前記第2の面に形成された第3の導電回路層と、
前記第3の基板に接続され、前記第3の導電回路層に電
気的に接続された第3の電子デバイスと、をさらに備え
ることを特徴とする上記(1)に記載のマルチ電子デバ
イス・パッケージ。 (6)前記第2の電子デバイス・パッケージは、前記第
1の電子デバイス・パッケージの頂部に積層され、取り
付けられていることを特徴とする上記(5)に記載のマ
ルチ電子デバイス・パッケージ。 (7)前記第3の導電回路層は、複数の半田ボール・パ
ッドを有することを特徴とする上記(6)に記載のマル
チ電子デバイス・パッケージ。 (8)前記第1の導電回路層は、前記第3の導電回路層
の前記各半田ボール・パッドに対応する半田ボール・パ
ッドを有することを特徴とする上記(7)に記載のマル
チ電子デバイス・パッケージ。 (9)前記各半田ボール・パッドおよび対応する半田ボ
ール・パッドに接続され、前記第1の電子デバイス・パ
ッケージと第2の電子デバイス・パッケージとを取り付
け、前記第1の導電回路層を、前記第3の導電回路層に
電気的に接続する半田ボールをさらに備えることを特徴
とする上記(8)に記載のマルチ電子デバイス・パッケ
ージ。 (10)第1の面と、対向する第2の面とを有する第1
の基板を備え、前記第1の面は、前記第1の面から前記
第1の基板内へ拡がる第1の凹部を有し、前記第1の基
板の前記第1の面に形成された第1の導電回路層を備
え、前記第1の基板の前記第2の面に形成された第2の
導電回路層を備え、前記第2の導電回路層は、前記第1
の導電回路層に電気的に接続され、前記第2の導電回路
層は、第3の外部回路化基板に電気的に接続されるよう
に構成され、前記第1の開口内に配置され、前記第1の
導電回路層に電気的に接続されるように、前記第1の基
板に取り付けられた第1の電子デバイスを備え、第1の
面と、対向する第2の面とを有する第2の基板を備え、
前記第2の基板の前記第2の面に形成された第3の導電
回路層を備え、前記第2の基板に接続され、前記第3の
導電回路層に電気的に接続された第2の電子デバイスを
備え、前記第1の基板と第2の基板とは、共通界面に沿
って接合され、前記第2の電子デバイスと前記第2の基
板の第2の面とは、前記第1の電子デバイスと前記第1
の基板の第1の面に対面し、前記第1の導電回路層は、
前記第3の導電回路層に電気的に接続されている、こと
を特徴とするマルチ電子デバイス・パッケージ。 (11)前記第1の基板を貫通し、前記第1の導電回路
層と第2の導電回路層とを電気的に接続する少なくとも
1つのメッキ・スルーホールを、さらに備えることを特
徴とする上記(10)に記載のマルチ電子デバイス・パ
ッケージ。 (12)前記第2の導電回路層は、複数の半田ボール・
パッドを有することを特徴とする上記(10)に記載の
マルチ電子デバイス・パッケージ。 (13)前記各半田ボール・パッドに接続され、前記第
2の導電回路層を、前記第3の外部回路化基板に電気的
に接続する半田ボールをさらに備えることを特徴とする
上記(12)に記載のマルチ電子デバイス・パッケー
ジ。 (14)前記第1の導電回路層は、複数の半田ボール・
パッドを有することを特徴とする上記(10)に記載の
マルチ電子デバイス・パッケージ。 (15)前記第1の導電回路層は、前記第1の導電回路
層の前記各半田ボール・パッドに対応する半田ボール・
パッドを有することを特徴とする上記(14)に記載の
マルチ電子デバイス・パッケージ。 (16)前記各半田ボール・パッドおよび対応する半田
ボール・パッドに接続され、前記第3の基板を前記共通
界面に沿って前記第2の基板に取り付け、前記第1の導
電回路層を、前記第3の導電回路層に電気的に接続する
半田ボールをさらに備えることを特徴とする上記(1
5)に記載のマルチ電子デバイス・パッケージ。 (17)前記第1の電子デバイスと、前記第1の凹部
と、前記第1の導電回路層の少なくとも一部とを覆う第
1のカプセル封止部と、前記第2の電子デバイスと、前
記第3の導電回路層の少なくとも一部を覆う第2のカプ
セル封止部とをさらに備え、前記第1のカプセル封止部
は、前記第2のカプセル封止部に接合され、前記第1の
基板を前記第2の基板に取り付けることを特徴とする上
記(10)に記載のマルチ電子デバイス・パッケージ。 (18)前記第2の基板は、開口を有することを特徴と
する上記(10)に記載のマルチ電子デバイス・パッケ
ージ。 (19)前記第2の基板の第1の面に接続され、前記開
口を覆う伝熱プレーンを有することを特徴とする上記
(18)に記載のマルチ電子デバイス・パッケージ。 (20)前記第2の電子デバイスは、前記開口内で前記
プレーンに取り付けられていることを特徴とする上記
(19)に記載のマルチ電子デバイス・パッケージ。 (21)第1の面と、対向する第2の面とを有する第1
の基板を備え、前記第1の基板の前記第1の面に形成さ
れた第1の導電回路層を備え、前記第1の基板の前記第
2の面に形成された第2の導電回路層を備え、前記第2
の導電回路層は、前記第1の導電回路層に電気的に接続
され、前記第2の導電回路層は、第3の外部回路化基板
に電気的に接続されるように構成され、前記第1の基板
に取り付けられ、前記第1の導電回路層に電気的に接続
された第1の電子デバイスを備え、第1の面と、対向す
る第2の面とを有する第2の基板を備え、前記第2の基
板の前記第1の面に形成された第3の導電回路層を備
え、前記第2の基板に接続され、前記第3の導電回路層
に電気的に接続された第2の電子デバイスを備え、前記
第2の基板の前記第2の面に形成され、前記第3の導電
回路層に電気的に接続された第4の導電回路層を備え、
前記第1の電子デバイスと、前記第1の導電回路層の少
なくとも一部を覆うカプセル封止部を備え、前記第2の
基板は、前記第2の基板の第2の面から前記第2の基板
内に拡がる凹部を有し、前記第1の基板と第2の基板と
は、共通界面に沿って接合され、前記第2の基板の第2
の面は、前記第1の基板の第1の面に対面し、前記カプ
セル封止部の少なくとも一部は、前記凹部内に拡がり、
これにより前記第2の基板の第2の面と前記第1の基板
の第1の面との間の距離を小さくする、ことを特徴とす
るマルチ電子デバイス・パッケージ。 (22)前記第1の基板を貫通し、前記第1の導電回路
層と第2の導電回路層とを電気的に接続する少なくとも
1つのメッキ・スルーホールを、さらに備えることを特
徴とする上記(21)に記載のマルチ電子デバイス・パ
ッケージ。 (23)前記第2の基板を貫通し、前記第3の導電回路
層と第4の導電回路層とを電気的に接続する少なくとも
1つのメッキ・スルーホールを、さらに備えることを特
徴とする上記(21)に記載のマルチ電子デバイス・パ
ッケージ。 (24)前記第2の導電回路層は、複数の半田ボール・
パッドを有することを特徴とする上記(21)に記載の
マルチ電子デバイス・パッケージ。 (25)前記各半田ボール・パッドに接続され、前記第
2の導電回路層を、前記第3の外部回路化基板に電気的
に接続する半田ボールをさらに備えることを特徴とする
上記(21)に記載のマルチ電子デバイス・パッケー
ジ。 (26)前記第1の導電回路層は、複数の半田ボール・
パッドを有することを特徴とする上記(21)に記載の
マルチ電子デバイス・パッケージ。 (27)前記第4の導電回路層は、前記第1の導電回路
層の前記各半田ボール・パッドに対応する半田ボール・
パッドを有することを特徴とする上記(26)に記載の
マルチ電子デバイス・パッケージ。 (28)前記各半田ボール・パッドおよび対応する半田
ボール・パッドに接続され、前記第1の基板を前記共通
界面に沿って前記第2の基板に取り付け、前記第1の導
電回路層を、前記第4の導電回路層に電気的に接続する
半田ボールをさらに備えることを特徴とする上記(2
7)に記載のマルチ電子デバイス・パッケージ。 (29)前記カプセル封止部は、前記第2の基板に接合
されることを特徴とする上記(21)に記載のマルチ電
子デバイス・パッケージ (30)前記第1および第2の基板は、カプセル封止さ
れた伝熱および導電プレーンを有することを特徴とする
上記(21)に記載のマルチ電子デバイス・パッケー
ジ。
【図1】本発明のマルチ電子デバイス・パッケージの斜
視図である。
視図である。
【図2】図1のマルチ電子デバイス・パッケージの断面
図である。
図である。
【図3】本発明のマルチ電子デバイス・パッケージの他
の実施例の斜視図である。
の実施例の斜視図である。
【図4】図3のマルチ電子デバイス・パッケージの断面
図である。
図である。
【図5】本発明のマルチ電子デバイス・パッケージの第
2の実施例の斜視図である。
2の実施例の斜視図である。
【図6】図5のマルチ電子デバイス・パッケージの断面
図である。
図である。
10 マルチ電子デバイス・パッケージ 12 第1の基板 14 第1の面 16 第2の面 18 第1の開口 20 第1の導電回路層 22 第2の基板 27 第2の導電回路層 28 第2の開口 30 伝熱および導電プレーン 32 第1の面 34 第2の面 36 第1の電子デバイス 38a,38b コンタクト 40 第2の電子デバイス 42,44,46,48,50,52 メッキ・スルー
ホール 54,56,58,60,62,64 半田ボール・パ
ッド 66,68,70,72,74,76 半田ボール 78,80,82,84,86,88 半田ボール・パ
ッド 90,92,94,96,98,100 半田ボール 102a,102b,102c,102d ボンディン
グ・ワイヤ 104 第1のカプセル封止部 106 第2のカプセル封止部 300 マルチ電子デバイス・パッケージ 312 第1の基板 314 第1の面 316 第2の面 318 第1の凹部 320 第1の導電回路層 322 第2の導電回路層 324a,324b メッキ・スルーホール 326 第1の電子デバイス 327a,327b コンタクト 328 第2の基板 330 第1の面 332 第2の面 334 第3の導電回路層 327c,327d コンタクト 336 第2の電子デバイス 338,340,342,344,346,348,3
50 半田ボール・パッド 352,354,356,358,360,362,3
64 半田ボール 366,368,370,372,374,376 半
田ボール・パッド 378,380,382,384,386,388 半
田ボール・パッド 390,392,394,396,398,400 半
田ボール 404 第1のカプセル封止部 406 第2のカプセル封止部 408 開口 410 伝熱プレーン 500 マルチ電子デバイス・パッケージ 512 第1の基板 514 第1の面 516 第2の面 518 第1の導電回路層 520 第2の導電回路層 522 第1の電子デバイス 523a,523b コンタクト 524 第2の基板 530 第3の導電回路層 532 第2の電子デバイス 534 第4の導電回路層 540a,540b,540c メッキ・スルーホール 542a,542b メッキ・スルーホール 544,546,548,550,552,554,5
56 半田ボール・パッド 558,560,562,564,566,568,5
70 半田ボール 572,574,576,578,580,582 半
田ボール・パッド 584,586,588,590,600,602 半
田ボール・パッド 604,606,608,610,612,614 半
田ボール
ホール 54,56,58,60,62,64 半田ボール・パ
ッド 66,68,70,72,74,76 半田ボール 78,80,82,84,86,88 半田ボール・パ
ッド 90,92,94,96,98,100 半田ボール 102a,102b,102c,102d ボンディン
グ・ワイヤ 104 第1のカプセル封止部 106 第2のカプセル封止部 300 マルチ電子デバイス・パッケージ 312 第1の基板 314 第1の面 316 第2の面 318 第1の凹部 320 第1の導電回路層 322 第2の導電回路層 324a,324b メッキ・スルーホール 326 第1の電子デバイス 327a,327b コンタクト 328 第2の基板 330 第1の面 332 第2の面 334 第3の導電回路層 327c,327d コンタクト 336 第2の電子デバイス 338,340,342,344,346,348,3
50 半田ボール・パッド 352,354,356,358,360,362,3
64 半田ボール 366,368,370,372,374,376 半
田ボール・パッド 378,380,382,384,386,388 半
田ボール・パッド 390,392,394,396,398,400 半
田ボール 404 第1のカプセル封止部 406 第2のカプセル封止部 408 開口 410 伝熱プレーン 500 マルチ電子デバイス・パッケージ 512 第1の基板 514 第1の面 516 第2の面 518 第1の導電回路層 520 第2の導電回路層 522 第1の電子デバイス 523a,523b コンタクト 524 第2の基板 530 第3の導電回路層 532 第2の電子デバイス 534 第4の導電回路層 540a,540b,540c メッキ・スルーホール 542a,542b メッキ・スルーホール 544,546,548,550,552,554,5
56 半田ボール・パッド 558,560,562,564,566,568,5
70 半田ボール 572,574,576,578,580,582 半
田ボール・パッド 584,586,588,590,600,602 半
田ボール・パッド 604,606,608,610,612,614 半
田ボール
Claims (30)
- 【請求項1】第1の電子デバイス・パッケージを備え、
この第1の電子デバイス・パッケージは、 第1の面と、対向する第2の面とを有し、第1の開口を
有する第1の基板と、 前記第1の基板の前記第1の面に形成された第1の導電
回路層と、 第1の面と、対向する第2の面とを有し、第2の開口を
有する第2の基板と、 前記第2の基板の前記第2の面に形成された第2の導電
回路層と、 第1の面と、対向する第2の面とを有し、前記第1の基
板と第2の基板との間に配置され、前記第1および第2
の開口を覆う伝熱および導電プレーンと、 前記第1の開口内に配置され、前記第1の導電回路層に
電気的に接続されるように、前記プレーンの第1の面に
取り付けられた第1の電子デバイスと、 前記第2の開口内に配置され、前記第2の導電回路層に
電気的に接続されるように、前記プレーンの第2の面に
取り付けられた第2の電子デバイスとを備え、 前記第1の導電回路層は、前記第2の導電回路層に電気
的に接続され、前記第1の導電回路層は、第2の電子デ
バイス・パッケージに電気的に接続されるように構成さ
れ、前記第2の導電回路層は、第3の外部回路化基板に
電気的に接続されるように構成されている、ことを特徴
とするマルチ電子デバイス・パッケージ。 - 【請求項2】前記第1および第2の基板を貫通し、前記
第1の導電回路層と第2の導電回路層とを電気的に接続
する少なくとも1つのメッキ・スルーホールを、さらに
備えることを特徴とする請求項1記載のマルチ電子デバ
イス・パッケージ。 - 【請求項3】前記第2の導電回路層は、複数の半田ボー
ル・パッドを有することを特徴とする請求項1記載のマ
ルチ電子デバイス・パッケージ。 - 【請求項4】前記各半田ボール・パッドに接続され、前
記第2の導電回路層を、前記第3の外部回路化基板に電
気的に接続する半田ボールをさらに備えることを特徴と
する請求項3記載のマルチ電子デバイス・パッケージ。 - 【請求項5】第2の電子デバイス・パッケージをさらに
備え、この第2の電子デバイス・パッケージは、 第1の面と、対向する第2の面とを有する第3の基板
と、 前記第3の基板の前記第2の面に形成された第3の導電
回路層と、 前記第3の基板に接続され、前記第3の導電回路層に電
気的に接続された第3の電子デバイスと、をさらに備え
ることを特徴とする請求項1記載のマルチ電子デバイス
・パッケージ。 - 【請求項6】前記第2の電子デバイス・パッケージは、
前記第1の電子デバイス・パッケージの頂部に積層さ
れ、取り付けられていることを特徴とする請求項5記載
のマルチ電子デバイス・パッケージ。 - 【請求項7】前記第3の導電回路層は、複数の半田ボー
ル・パッドを有することを特徴とする請求項6記載のマ
ルチ電子デバイス・パッケージ。 - 【請求項8】前記第1の導電回路層は、前記第3の導電
回路層の前記各半田ボール・パッドに対応する半田ボー
ル・パッドを有することを特徴とする請求項7記載のマ
ルチ電子デバイス・パッケージ。 - 【請求項9】前記各半田ボール・パッドおよび対応する
半田ボール・パッドに接続され、前記第1の電子デバイ
ス・パッケージと第2の電子デバイス・パッケージとを
取り付け、前記第1の導電回路層を、前記第3の導電回
路層に電気的に接続する半田ボールをさらに備えること
を特徴とする請求項8記載のマルチ電子デバイス・パッ
ケージ。 - 【請求項10】第1の面と、対向する第2の面とを有す
る第1の基板を備え、前記第1の面は、前記第1の面か
ら前記第1の基板内へ拡がる第1の凹部を有し、 前記第1の基板の前記第1の面に形成された第1の導電
回路層を備え、 前記第1の基板の前記第2の面に形成された第2の導電
回路層を備え、前記第2の導電回路層は、前記第1の導
電回路層に電気的に接続され、前記第2の導電回路層
は、第3の外部回路化基板に電気的に接続されるように
構成され、 前記第1の開口内に配置され、前記第1の導電回路層に
電気的に接続されるように、前記第1の基板に取り付け
られた第1の電子デバイスを備え、 第1の面と、対向する第2の面とを有する第2の基板を
備え、 前記第2の基板の前記第2の面に形成された第3の導電
回路層を備え、 前記第2の基板に接続され、前記第3の導電回路層に電
気的に接続された第2の電子デバイスを備え、 前記第1の基板と第2の基板とは、共通界面に沿って接
合され、前記第2の電子デバイスと前記第2の基板の第
2の面とは、前記第1の電子デバイスと前記第1の基板
の第1の面に対面し、前記第1の導電回路層は、前記第
3の導電回路層に電気的に接続されている、ことを特徴
とするマルチ電子デバイス・パッケージ。 - 【請求項11】前記第1の基板を貫通し、前記第1の導
電回路層と第2の導電回路層とを電気的に接続する少な
くとも1つのメッキ・スルーホールを、さらに備えるこ
とを特徴とする請求項10記載のマルチ電子デバイス・
パッケージ。 - 【請求項12】前記第2の導電回路層は、複数の半田ボ
ール・パッドを有することを特徴とする請求項10記載
のマルチ電子デバイス・パッケージ。 - 【請求項13】前記各半田ボール・パッドに接続され、
前記第2の導電回路層を、前記第3の外部回路化基板に
電気的に接続する半田ボールをさらに備えることを特徴
とする請求項12記載のマルチ電子デバイス・パッケー
ジ。 - 【請求項14】前記第1の導電回路層は、複数の半田ボ
ール・パッドを有することを特徴とする請求項10記載
のマルチ電子デバイス・パッケージ。 - 【請求項15】前記第1の導電回路層は、前記第1の導
電回路層の前記各半田ボール・パッドに対応する半田ボ
ール・パッドを有することを特徴とする請求項14記載
のマルチ電子デバイス・パッケージ。 - 【請求項16】前記各半田ボール・パッドおよび対応す
る半田ボール・パッドに接続され、前記第3の基板を前
記共通界面に沿って前記第2の基板に取り付け、前記第
1の導電回路層を、前記第3の導電回路層に電気的に接
続する半田ボールをさらに備えることを特徴とする請求
項15記載のマルチ電子デバイス・パッケージ。 - 【請求項17】前記第1の電子デバイスと、前記第1の
凹部と、前記第1の導電回路層の少なくとも一部とを覆
う第1のカプセル封止部と、前記第2の電子デバイス
と、前記第3の導電回路層の少なくとも一部を覆う第2
のカプセル封止部とをさらに備え、前記第1のカプセル
封止部は、前記第2のカプセル封止部に接合され、前記
第1の基板を前記第2の基板に取り付けることを特徴と
する請求項10記載のマルチ電子デバイス・パッケー
ジ。 - 【請求項18】前記第2の基板は、開口を有することを
特徴とする請求項10記載のマルチ電子デバイス・パッ
ケージ。 - 【請求項19】前記第2の基板の第1の面に接続され、
前記開口を覆う伝熱プレーンを有することを特徴とする
請求項18記載のマルチ電子デバイス・パッケージ。 - 【請求項20】前記第2の電子デバイスは、前記開口内
で前記プレーンに取り付けられていることを特徴とする
請求項19記載のマルチ電子デバイス・パッケージ。 - 【請求項21】第1の面と、対向する第2の面とを有す
る第1の基板を備え、 前記第1の基板の前記第1の面に形成された第1の導電
回路層を備え、 前記第1の基板の前記第2の面に形成された第2の導電
回路層を備え、前記第2の導電回路層は、前記第1の導
電回路層に電気的に接続され、前記第2の導電回路層
は、第3の外部回路化基板に電気的に接続されるように
構成され、 前記第1の基板に取り付けられ、前記第1の導電回路層
に電気的に接続された第1の電子デバイスを備え、 第1の面と、対向する第2の面とを有する第2の基板を
備え、 前記第2の基板の前記第1の面に形成された第3の導電
回路層を備え、 前記第2の基板に接続され、前記第3の導電回路層に電
気的に接続された第2の電子デバイスを備え、 前記第2の基板の前記第2の面に形成され、前記第3の
導電回路層に電気的に接続された第4の導電回路層を備
え、 前記第1の電子デバイスと、前記第1の導電回路層の少
なくとも一部を覆うカプセル封止部を備え、 前記第2の基板は、前記第2の基板の第2の面から前記
第2の基板内に拡がる凹部を有し、 前記第1の基板と第2の基板とは、共通界面に沿って接
合され、前記第2の基板の第2の面は、前記第1の基板
の第1の面に対面し、前記カプセル封止部の少なくとも
一部は、前記凹部内に拡がり、これにより前記第2の基
板の第2の面と前記第1の基板の第1の面との間の距離
を小さくする、ことを特徴とするマルチ電子デバイス・
パッケージ。 - 【請求項22】前記第1の基板を貫通し、前記第1の導
電回路層と第2の導電回路層とを電気的に接続する少な
くとも1つのメッキ・スルーホールを、さらに備えるこ
とを特徴とする請求項21記載のマルチ電子デバイス・
パッケージ。 - 【請求項23】前記第2の基板を貫通し、前記第3の導
電回路層と第4の導電回路層とを電気的に接続する少な
くとも1つのメッキ・スルーホールを、さらに備えるこ
とを特徴とする請求項21記載のマルチ電子デバイス・
パッケージ。 - 【請求項24】前記第2の導電回路層は、複数の半田ボ
ール・パッドを有することを特徴とする請求項21記載
のマルチ電子デバイス・パッケージ。 - 【請求項25】前記各半田ボール・パッドに接続され、
前記第2の導電回路層を、前記第3の外部回路化基板に
電気的に接続する半田ボールをさらに備えることを特徴
とする請求項21記載のマルチ電子デバイス・パッケー
ジ。 - 【請求項26】前記第1の導電回路層は、複数の半田ボ
ール・パッドを有することを特徴とする請求項21記載
のマルチ電子デバイス・パッケージ。 - 【請求項27】前記第4の導電回路層は、前記第1の導
電回路層の前記各半田ボール・パッドに対応する半田ボ
ール・パッドを有することを特徴とする請求項26記載
のマルチ電子デバイス・パッケージ。 - 【請求項28】前記各半田ボール・パッドおよび対応す
る半田ボール・パッドに接続され、前記第1の基板を前
記共通界面に沿って前記第2の基板に取り付け、前記第
1の導電回路層を、前記第4の導電回路層に電気的に接
続する半田ボールをさらに備えることを特徴とする請求
項27記載のマルチ電子デバイス・パッケージ。 - 【請求項29】前記カプセル封止部は、前記第2の基板
に接合されることを特徴とする請求項21記載のマルチ
電子デバイス・パッケージ。 - 【請求項30】前記第1および第2の基板は、カプセル
封止された伝熱および導電プレーンを有することを特徴
とする請求項21記載のマルチ電子デバイス・パッケー
ジ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/685,253 US5748452A (en) | 1996-07-23 | 1996-07-23 | Multi-electronic device package |
US08/685253 | 1996-07-23 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1070233A true JPH1070233A (ja) | 1998-03-10 |
JP2878243B2 JP2878243B2 (ja) | 1999-04-05 |
Family
ID=24751393
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9181474A Expired - Lifetime JP2878243B2 (ja) | 1996-07-23 | 1997-07-07 | マルチ電子デバイス・パッケージ |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US5748452A (ja) |
JP (1) | JP2878243B2 (ja) |
KR (1) | KR100259450B1 (ja) |
TW (1) | TW338185B (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3619523B2 (ja) * | 1996-12-04 | 2005-02-09 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置 |
JP2008533700A (ja) * | 2005-02-04 | 2008-08-21 | スタッツ・チップパック・リミテッド | ネストされた集積回路パッケージオンパッケージシステム |
US7964952B2 (en) | 2005-05-31 | 2011-06-21 | Stats Chippac Ltd. | Stacked semiconductor package assembly having hollowed substrate |
Families Citing this family (111)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6734545B1 (en) * | 1995-11-29 | 2004-05-11 | Hitachi, Ltd. | BGA type semiconductor device and electronic equipment using the same |
US6861290B1 (en) | 1995-12-19 | 2005-03-01 | Micron Technology, Inc. | Flip-chip adaptor package for bare die |
US5943216A (en) * | 1997-06-03 | 1999-08-24 | Photo Opto Electronic Technologies | Apparatus for providing a two-sided, cavity, inverted-mounted component circuit board |
US6072233A (en) * | 1998-05-04 | 2000-06-06 | Micron Technology, Inc. | Stackable ball grid array package |
USRE43112E1 (en) | 1998-05-04 | 2012-01-17 | Round Rock Research, Llc | Stackable ball grid array package |
US6180881B1 (en) * | 1998-05-05 | 2001-01-30 | Harlan Ruben Isaak | Chip stack and method of making same |
US6313522B1 (en) * | 1998-08-28 | 2001-11-06 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor structure having stacked semiconductor devices |
US6077724A (en) * | 1998-09-05 | 2000-06-20 | First International Computer Inc. | Multi-chips semiconductor package and fabrication method |
US6093029A (en) * | 1998-09-08 | 2000-07-25 | S3 Incorporated | Vertically stackable integrated circuit |
KR100290784B1 (ko) | 1998-09-15 | 2001-07-12 | 박종섭 | 스택 패키지 및 그 제조방법 |
US6618267B1 (en) * | 1998-09-22 | 2003-09-09 | International Business Machines Corporation | Multi-level electronic package and method for making same |
JP3171172B2 (ja) * | 1998-09-25 | 2001-05-28 | 日本電気株式会社 | 混成集積回路 |
US6381141B2 (en) * | 1998-10-15 | 2002-04-30 | Micron Technology, Inc. | Integrated device and method for routing a signal through the device |
KR100302593B1 (ko) * | 1998-10-24 | 2001-09-22 | 김영환 | 반도체패키지및그제조방법 |
JP3685947B2 (ja) * | 1999-03-15 | 2005-08-24 | 新光電気工業株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2000269413A (ja) * | 1999-03-18 | 2000-09-29 | Nec Corp | 半導体装置 |
DE19983953T1 (de) * | 1999-05-07 | 2002-06-20 | Seagate Technology Llc | Verfahren und Vorrichtung zum Übereinanderschichten von Oberflächenmontage-IC's |
US6849480B1 (en) | 1999-05-07 | 2005-02-01 | Seagate Technology Llc | Surface mount IC stacking method and device |
TW417839U (en) * | 1999-07-30 | 2001-01-01 | Shen Ming Tung | Stacked memory module structure and multi-layered stacked memory module structure using the same |
JP2001127088A (ja) * | 1999-10-27 | 2001-05-11 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
US6392428B1 (en) * | 1999-11-16 | 2002-05-21 | Eaglestone Partners I, Llc | Wafer level interposer |
US6369448B1 (en) | 2000-01-21 | 2002-04-09 | Lsi Logic Corporation | Vertically integrated flip chip semiconductor package |
US6631555B1 (en) * | 2000-02-08 | 2003-10-14 | Cardiac Pacemakers, Inc. | Method of thin film deposition as an active conductor |
US6713854B1 (en) | 2000-10-16 | 2004-03-30 | Legacy Electronics, Inc | Electronic circuit module with a carrier having a mounting pad array |
US7102892B2 (en) * | 2000-03-13 | 2006-09-05 | Legacy Electronics, Inc. | Modular integrated circuit chip carrier |
US6778404B1 (en) * | 2000-06-02 | 2004-08-17 | Micron Technology Inc | Stackable ball grid array |
KR100631934B1 (ko) * | 2000-06-28 | 2006-10-04 | 주식회사 하이닉스반도체 | 스택 패키지 |
US6537831B1 (en) | 2000-07-31 | 2003-03-25 | Eaglestone Partners I, Llc | Method for selecting components for a matched set using a multi wafer interposer |
US6812048B1 (en) * | 2000-07-31 | 2004-11-02 | Eaglestone Partners I, Llc | Method for manufacturing a wafer-interposer assembly |
US6452799B1 (en) * | 2000-09-15 | 2002-09-17 | Lucent Technologies Inc. | Integrated circuit cooling system |
US6815712B1 (en) | 2000-10-02 | 2004-11-09 | Eaglestone Partners I, Llc | Method for selecting components for a matched set from a wafer-interposer assembly |
US7337522B2 (en) * | 2000-10-16 | 2008-03-04 | Legacy Electronics, Inc. | Method and apparatus for fabricating a circuit board with a three dimensional surface mounted array of semiconductor chips |
US6686657B1 (en) | 2000-11-07 | 2004-02-03 | Eaglestone Partners I, Llc | Interposer for improved handling of semiconductor wafers and method of use of same |
US6310794B1 (en) * | 2000-11-09 | 2001-10-30 | Hewlett-Packard Co. | Upgradable storage system |
US6529022B2 (en) * | 2000-12-15 | 2003-03-04 | Eaglestone Pareners I, Llc | Wafer testing interposer for a conventional package |
US6673653B2 (en) | 2001-02-23 | 2004-01-06 | Eaglestone Partners I, Llc | Wafer-interposer using a ceramic substrate |
KR100897314B1 (ko) * | 2001-03-14 | 2009-05-14 | 레가시 일렉트로닉스, 인크. | 반도체 칩의 3차원 표면 실장 어레이를 갖는 회로 기판을 제조하기 위한 방법 및 장치 |
US7605479B2 (en) * | 2001-08-22 | 2009-10-20 | Tessera, Inc. | Stacked chip assembly with encapsulant layer |
US6738277B2 (en) * | 2001-11-27 | 2004-05-18 | Power Integrations, Inc. | Method and apparatus for balancing active capacitor leakage current |
US6599778B2 (en) | 2001-12-19 | 2003-07-29 | International Business Machines Corporation | Chip and wafer integration process using vertical connections |
JP4154219B2 (ja) * | 2001-12-25 | 2008-09-24 | キヤノン株式会社 | 湿式ガス処理方法 |
KR100498470B1 (ko) * | 2002-12-26 | 2005-07-01 | 삼성전자주식회사 | 적층형 반도체 패키지 및 그 제조방법 |
WO2004077560A1 (ja) * | 2003-02-26 | 2004-09-10 | Ibiden Co., Ltd. | 多層プリント配線板 |
US6833619B1 (en) | 2003-04-28 | 2004-12-21 | Amkor Technology, Inc. | Thin profile semiconductor package which reduces warpage and damage during laser markings |
WO2004107441A1 (en) * | 2003-05-28 | 2004-12-09 | Infineon Technologies Ag | An integrated circuit package employing a flexible substrate |
US6983359B2 (en) * | 2003-08-13 | 2006-01-03 | Via-Cyrix, Inc. | Processor and method for pre-fetching out-of-order instructions |
US20050035441A1 (en) * | 2003-08-15 | 2005-02-17 | Kwanghak Lee | Integrated circuit stack with partially etched lead frames |
US7173325B2 (en) * | 2003-08-29 | 2007-02-06 | C-Core Technologies, Inc. | Expansion constrained die stack |
US7180165B2 (en) * | 2003-09-05 | 2007-02-20 | Sanmina, Sci Corporation | Stackable electronic assembly |
KR100688501B1 (ko) * | 2004-09-10 | 2007-03-02 | 삼성전자주식회사 | 미러링 구조를 갖는 스택 boc 패키지 및 이를 장착한양면 실장형 메모리 모듈 |
US7498666B2 (en) * | 2004-09-27 | 2009-03-03 | Nokia Corporation | Stacked integrated circuit |
TWI255023B (en) * | 2004-10-05 | 2006-05-11 | Via Tech Inc | Cavity down stacked multi-chip package |
US7435097B2 (en) * | 2005-01-12 | 2008-10-14 | Legacy Electronics, Inc. | Radial circuit board, system, and methods |
US8089143B2 (en) * | 2005-02-10 | 2012-01-03 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system using interposer |
WO2006098364A1 (ja) * | 2005-03-17 | 2006-09-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | モジュール基板 |
US7364945B2 (en) | 2005-03-31 | 2008-04-29 | Stats Chippac Ltd. | Method of mounting an integrated circuit package in an encapsulant cavity |
US7354800B2 (en) | 2005-04-29 | 2008-04-08 | Stats Chippac Ltd. | Method of fabricating a stacked integrated circuit package system |
US7250675B2 (en) * | 2005-05-05 | 2007-07-31 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for forming stacked die and substrate structures for increased packing density |
US7518224B2 (en) * | 2005-05-16 | 2009-04-14 | Stats Chippac Ltd. | Offset integrated circuit package-on-package stacking system |
US7746656B2 (en) * | 2005-05-16 | 2010-06-29 | Stats Chippac Ltd. | Offset integrated circuit package-on-package stacking system |
KR20070009136A (ko) * | 2005-07-15 | 2007-01-18 | 삼성전자주식회사 | 복수 개의 웨이퍼에 직접 연결된 관통 전극을 포함하는패키징 칩 및 그 제조 방법 |
US20070108583A1 (en) * | 2005-08-08 | 2007-05-17 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package-on-package stacking system |
US8643163B2 (en) * | 2005-08-08 | 2014-02-04 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package-on-package stacking system and method of manufacture thereof |
KR20080067328A (ko) * | 2005-09-06 | 2008-07-18 | 비욘드 블라데스 리미티드 | 3dmc 아키텍처 |
TWI305410B (en) * | 2005-10-26 | 2009-01-11 | Advanced Semiconductor Eng | Multi-chip package structure |
US7456088B2 (en) | 2006-01-04 | 2008-11-25 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system including stacked die |
US7768125B2 (en) * | 2006-01-04 | 2010-08-03 | Stats Chippac Ltd. | Multi-chip package system |
SG135074A1 (en) | 2006-02-28 | 2007-09-28 | Micron Technology Inc | Microelectronic devices, stacked microelectronic devices, and methods for manufacturing such devices |
US7750482B2 (en) * | 2006-02-09 | 2010-07-06 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system including zero fillet resin |
US8704349B2 (en) * | 2006-02-14 | 2014-04-22 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system with exposed interconnects |
US7435619B2 (en) * | 2006-02-14 | 2008-10-14 | Stats Chippac Ltd. | Method of fabricating a 3-D package stacking system |
KR100836663B1 (ko) | 2006-02-16 | 2008-06-10 | 삼성전기주식회사 | 캐비티가 형성된 패키지 온 패키지 및 그 제조 방법 |
US7652361B1 (en) | 2006-03-03 | 2010-01-26 | Amkor Technology, Inc. | Land patterns for a semiconductor stacking structure and method therefor |
US20070216008A1 (en) * | 2006-03-20 | 2007-09-20 | Gerber Mark A | Low profile semiconductor package-on-package |
US7242081B1 (en) * | 2006-04-24 | 2007-07-10 | Advanced Semiconductor Engineering Inc. | Stacked package structure |
KR100800477B1 (ko) * | 2006-07-12 | 2008-02-04 | 삼성전자주식회사 | 적층이 용이한 반도체 패키지 및 이를 이용한 적층형반도체 패키지 |
KR100817075B1 (ko) * | 2006-11-09 | 2008-03-26 | 삼성전자주식회사 | 멀티스택 패키지 및 그 제조 방법 |
US8163600B2 (en) * | 2006-12-28 | 2012-04-24 | Stats Chippac Ltd. | Bridge stack integrated circuit package-on-package system |
US20080191367A1 (en) * | 2007-02-08 | 2008-08-14 | Stats Chippac, Ltd. | Semiconductor package wire bonding |
TWI335070B (en) * | 2007-03-23 | 2010-12-21 | Advanced Semiconductor Eng | Semiconductor package and the method of making the same |
CN101315925A (zh) * | 2007-05-28 | 2008-12-03 | 松下电器产业株式会社 | 电子器件内置模块及其制造方法 |
US20110024890A1 (en) | 2007-06-29 | 2011-02-03 | Stats Chippac, Ltd. | Stackable Package By Using Internal Stacking Modules |
US8124451B2 (en) | 2007-09-21 | 2012-02-28 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit packaging system with interposer |
US8258015B2 (en) * | 2008-02-22 | 2012-09-04 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system with penetrable film adhesive |
US8247894B2 (en) * | 2008-03-24 | 2012-08-21 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system with step mold recess |
JP2009252894A (ja) * | 2008-04-03 | 2009-10-29 | Nec Electronics Corp | 半導体装置 |
TWI473553B (zh) * | 2008-07-03 | 2015-02-11 | Advanced Semiconductor Eng | 晶片封裝結構 |
US8304869B2 (en) * | 2008-08-01 | 2012-11-06 | Stats Chippac Ltd. | Fan-in interposer on lead frame for an integrated circuit package on package system |
US8012797B2 (en) * | 2009-01-07 | 2011-09-06 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Method for forming stackable semiconductor device packages including openings with conductive bumps of specified geometries |
TWI499024B (zh) * | 2009-01-07 | 2015-09-01 | Advanced Semiconductor Eng | 堆疊式多封裝構造裝置、半導體封裝構造及其製造方法 |
US20100171206A1 (en) * | 2009-01-07 | 2010-07-08 | Chi-Chih Chu | Package-on-Package Device, Semiconductor Package, and Method for Manufacturing The Same |
TWI469283B (zh) * | 2009-08-31 | 2015-01-11 | Advanced Semiconductor Eng | 封裝結構以及封裝製程 |
US8198131B2 (en) * | 2009-11-18 | 2012-06-12 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Stackable semiconductor device packages |
KR101665556B1 (ko) * | 2009-11-19 | 2016-10-13 | 삼성전자 주식회사 | 멀티 피치 볼 랜드를 갖는 반도체 패키지 |
TWI408785B (zh) * | 2009-12-31 | 2013-09-11 | Advanced Semiconductor Eng | 半導體封裝結構 |
US8569894B2 (en) | 2010-01-13 | 2013-10-29 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Semiconductor package with single sided substrate design and manufacturing methods thereof |
KR20110085481A (ko) | 2010-01-20 | 2011-07-27 | 삼성전자주식회사 | 적층 반도체 패키지 |
TWI419283B (zh) * | 2010-02-10 | 2013-12-11 | Advanced Semiconductor Eng | 封裝結構 |
JP4948613B2 (ja) * | 2010-02-25 | 2012-06-06 | 三菱電機株式会社 | 樹脂封止形電子制御装置、及びその製造方法 |
TWI411075B (zh) | 2010-03-22 | 2013-10-01 | Advanced Semiconductor Eng | 半導體封裝件及其製造方法 |
US8624374B2 (en) | 2010-04-02 | 2014-01-07 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Semiconductor device packages with fan-out and with connecting elements for stacking and manufacturing methods thereof |
US8278746B2 (en) | 2010-04-02 | 2012-10-02 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Semiconductor device packages including connecting elements |
TWI451546B (zh) | 2010-10-29 | 2014-09-01 | Advanced Semiconductor Eng | 堆疊式封裝結構、其封裝結構及封裝結構之製造方法 |
TWI445155B (zh) | 2011-01-06 | 2014-07-11 | Advanced Semiconductor Eng | 堆疊式封裝結構及其製造方法 |
US9171792B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-10-27 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Semiconductor device packages having a side-by-side device arrangement and stacking functionality |
US9905491B1 (en) * | 2013-09-27 | 2018-02-27 | STATS ChipPAC Pte. Ltd. | Interposer substrate designs for semiconductor packages |
US9829915B2 (en) | 2014-06-18 | 2017-11-28 | Intel Corporation | Modular printed circuit board |
US9900983B2 (en) | 2014-06-18 | 2018-02-20 | Intel Corporation | Modular printed circuit board electrical integrity and uses |
KR102243285B1 (ko) | 2014-07-01 | 2021-04-23 | 삼성전자주식회사 | 반도체 패키지 |
USD760230S1 (en) | 2014-09-16 | 2016-06-28 | Daishinku Corporation | Piezoelectric vibration device |
CN107275296A (zh) * | 2017-06-30 | 2017-10-20 | 中国电子科技集团公司第五十八研究所 | 一种基于tsv技术的埋置型三维集成封装结构 |
Family Cites Families (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1514477C3 (de) * | 1965-06-10 | 1975-06-26 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Halbleiteranordnung mit einer Anzahl von Halbleiterbauelementen |
US4807021A (en) * | 1986-03-10 | 1989-02-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device having stacking structure |
US4867235A (en) * | 1986-10-20 | 1989-09-19 | Westinghouse Electric Corp. | Composite heat transfer means |
JPS63261736A (ja) * | 1987-04-20 | 1988-10-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プリント配線板 |
US4933810A (en) * | 1987-04-30 | 1990-06-12 | Honeywell Inc. | Integrated circuit interconnector |
US4953060A (en) * | 1989-05-05 | 1990-08-28 | Ncr Corporation | Stackable integrated circuit chip package with improved heat removal |
US4991000A (en) * | 1989-08-31 | 1991-02-05 | Bone Robert L | Vertically interconnected integrated circuit chip system |
US5099309A (en) * | 1990-04-30 | 1992-03-24 | International Business Machines Corporation | Three-dimensional memory card structure with internal direct chip attachment |
US5241456A (en) * | 1990-07-02 | 1993-08-31 | General Electric Company | Compact high density interconnect structure |
US5060844A (en) * | 1990-07-18 | 1991-10-29 | International Business Machines Corporation | Interconnection structure and test method |
JP2876773B2 (ja) * | 1990-10-22 | 1999-03-31 | セイコーエプソン株式会社 | プログラム命令語長可変型計算装置及びデータ処理装置 |
JP2841841B2 (ja) * | 1990-11-13 | 1998-12-24 | 日本電気株式会社 | Pgaパッケージ |
US5172303A (en) * | 1990-11-23 | 1992-12-15 | Motorola, Inc. | Electronic component assembly |
US5130894A (en) * | 1990-11-26 | 1992-07-14 | At&T Bell Laboratories | Three-dimensional circuit modules |
JP2756184B2 (ja) * | 1990-11-27 | 1998-05-25 | 株式会社日立製作所 | 電子部品の表面実装構造 |
US5241133A (en) * | 1990-12-21 | 1993-08-31 | Motorola, Inc. | Leadless pad array chip carrier |
JPH04284661A (ja) * | 1991-03-13 | 1992-10-09 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
US5128831A (en) * | 1991-10-31 | 1992-07-07 | Micron Technology, Inc. | High-density electronic package comprising stacked sub-modules which are electrically interconnected by solder-filled vias |
JPH05183103A (ja) * | 1992-01-07 | 1993-07-23 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及び半導体装置ユニット |
JPH05185777A (ja) * | 1992-01-08 | 1993-07-27 | Ryoden Kasei Co Ltd | Icカード |
US5222014A (en) * | 1992-03-02 | 1993-06-22 | Motorola, Inc. | Three-dimensional multi-chip pad array carrier |
US5241450A (en) * | 1992-03-13 | 1993-08-31 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Three dimensional, multi-chip module |
US5422435A (en) * | 1992-05-22 | 1995-06-06 | National Semiconductor Corporation | Stacked multi-chip modules and method of manufacturing |
US5247423A (en) * | 1992-05-26 | 1993-09-21 | Motorola, Inc. | Stacking three dimensional leadless multi-chip module and method for making the same |
US5313366A (en) * | 1992-08-12 | 1994-05-17 | International Business Machines Corporation | Direct chip attach module (DCAM) |
JPH0679990A (ja) * | 1992-09-04 | 1994-03-22 | Mitsubishi Electric Corp | Icメモリカード |
US5307240A (en) * | 1992-12-02 | 1994-04-26 | Intel Corporation | Chiplid, multichip semiconductor package design concept |
US5397917A (en) * | 1993-04-26 | 1995-03-14 | Motorola, Inc. | Semiconductor package capable of spreading heat |
US5391917A (en) * | 1993-05-10 | 1995-02-21 | International Business Machines Corporation | Multiprocessor module packaging |
US5412538A (en) * | 1993-07-19 | 1995-05-02 | Cordata, Inc. | Space-saving memory module |
US5454160A (en) * | 1993-12-03 | 1995-10-03 | Ncr Corporation | Apparatus and method for stacking integrated circuit devices |
JPH0846136A (ja) * | 1994-07-26 | 1996-02-16 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
JPH0846085A (ja) * | 1994-08-02 | 1996-02-16 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2573809B2 (ja) * | 1994-09-29 | 1997-01-22 | 九州日本電気株式会社 | 電子部品内蔵のマルチチップモジュール |
US5579207A (en) * | 1994-10-20 | 1996-11-26 | Hughes Electronics | Three-dimensional integrated circuit stacking |
US5642265A (en) * | 1994-11-29 | 1997-06-24 | Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. | Ball grid array package with detachable module |
US5783870A (en) * | 1995-03-16 | 1998-07-21 | National Semiconductor Corporation | Method for connecting packages of a stacked ball grid array structure |
US5739581A (en) * | 1995-11-17 | 1998-04-14 | National Semiconductor Corporation | High density integrated circuit package assembly with a heatsink between stacked dies |
US5798564A (en) * | 1995-12-21 | 1998-08-25 | Texas Instruments Incorporated | Multiple chip module apparatus having dual sided substrate |
-
1996
- 1996-07-23 US US08/685,253 patent/US5748452A/en not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-05-26 TW TW086107091A patent/TW338185B/zh active
- 1997-05-26 KR KR1019970020705A patent/KR100259450B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1997-07-07 JP JP9181474A patent/JP2878243B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-02-03 US US09/018,036 patent/US5963430A/en not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-06-11 US US09/330,170 patent/US6101100A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3619523B2 (ja) * | 1996-12-04 | 2005-02-09 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置 |
JP2008533700A (ja) * | 2005-02-04 | 2008-08-21 | スタッツ・チップパック・リミテッド | ネストされた集積回路パッケージオンパッケージシステム |
US8169064B2 (en) | 2005-02-04 | 2012-05-01 | Stats Chippac Ltd. | Nested integrated circuit package on package system |
US7964952B2 (en) | 2005-05-31 | 2011-06-21 | Stats Chippac Ltd. | Stacked semiconductor package assembly having hollowed substrate |
KR101076598B1 (ko) * | 2005-05-31 | 2011-10-24 | 스태츠 칩팩, 엘티디. | 속이 빈 기판을 포함하는 적층 반도체 패키지 어셈블리 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR980012315A (ko) | 1998-04-30 |
US5963430A (en) | 1999-10-05 |
JP2878243B2 (ja) | 1999-04-05 |
TW338185B (en) | 1998-08-11 |
US6101100A (en) | 2000-08-08 |
KR100259450B1 (ko) | 2000-06-15 |
US5748452A (en) | 1998-05-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2878243B2 (ja) | マルチ電子デバイス・パッケージ | |
US6603072B1 (en) | Making leadframe semiconductor packages with stacked dies and interconnecting interposer | |
US7763963B2 (en) | Stacked package semiconductor module having packages stacked in a cavity in the module substrate | |
US7656015B2 (en) | Packaging substrate having heat-dissipating structure | |
US6014318A (en) | Resin-sealed type ball grid array IC package and manufacturing method thereof | |
KR20050002220A (ko) | 적층형 볼 그리드 어레이 패키지 및 그 제조방법 | |
KR20050074961A (ko) | 역전된 제 2 패키지를 구비한 반도체 적층형 멀티-패키지모듈 | |
JPH08213543A (ja) | マルチダイパッケージ装置 | |
TW200919700A (en) | Semiconductor device | |
US9917073B2 (en) | Reconstituted wafer-level package dram with conductive interconnects formed in encapsulant at periphery of the package | |
KR19990006158A (ko) | 볼 그리드 어레이 패키지 | |
JPH10284544A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP3450477B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP4189327B2 (ja) | 半導体装置 | |
KR20040069392A (ko) | 적층형 반도체 멀티 칩 패키지 | |
JP3024596B2 (ja) | フィルムキャリアテープを用いたbga型半導体装置 | |
JP2005079387A (ja) | 半導体装置、半導体モジュールおよび半導体装置の製造方法 | |
JP3418759B2 (ja) | 半導体パッケージ | |
KR20030040922A (ko) | 칩 스케일 패키지와 그 제조 방법 및 이를 적층하여구비된 적층 칩 스케일 패키지 | |
KR20070079654A (ko) | 플립 칩 본딩용 인쇄회로기판 및 그를 이용한 볼 그리드어레이 패키지 제조 방법 | |
JPH08250529A (ja) | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 | |
JPH08172142A (ja) | 半導体パッケージ及びその製造方法並びに半導体装置 | |
JP3127948B2 (ja) | 半導体パッケージ及びその実装方法 | |
JP2500664B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPH11111882A (ja) | Bga型半導体装置用配線基板およびbga型半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19990106 |