JP6920214B2 - 不飽和結合を有する新規含フッ素化合物およびこれを用いた表面改質剤 - Google Patents
不飽和結合を有する新規含フッ素化合物およびこれを用いた表面改質剤 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6920214B2 JP6920214B2 JP2017560362A JP2017560362A JP6920214B2 JP 6920214 B2 JP6920214 B2 JP 6920214B2 JP 2017560362 A JP2017560362 A JP 2017560362A JP 2017560362 A JP2017560362 A JP 2017560362A JP 6920214 B2 JP6920214 B2 JP 6920214B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound
- solvent
- mmol
- fluorine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 0 CCCC(CC*1)*C2*C3(C)C1C3C2 Chemical compound CCCC(CC*1)*C2*C3(C)C1C3C2 0.000 description 2
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F220/14—Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/56—Coatings, e.g. enameled or galvanised; Releasing, lubricating or separating agents
- B29C33/60—Releasing, lubricating or separating agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/32—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with synthetic or natural resins
- C03C17/328—Polyolefins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C21/00—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms
- C07C21/02—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds
- C07C21/18—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C21/00—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms
- C07C21/02—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds
- C07C21/19—Halogenated dienes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C21/00—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms
- C07C21/02—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds
- C07C21/215—Halogenated polyenes with more than two carbon-to-carbon double bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C33/00—Unsaturated compounds having hydroxy or O-metal groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C33/40—Halogenated unsaturated alcohols
- C07C33/42—Halogenated unsaturated alcohols acyclic
- C07C33/423—Halogenated unsaturated alcohols acyclic containing only double bonds as unsaturation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/52—Esters of acyclic unsaturated carboxylic acids having the esterified carboxyl group bound to an acyclic carbon atom
- C07C69/533—Monocarboxylic acid esters having only one carbon-to-carbon double bond
- C07C69/54—Acrylic acid esters; Methacrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/62—Halogen-containing esters
- C07C69/65—Halogen-containing esters of unsaturated acids
- C07C69/653—Acrylic acid esters; Methacrylic acid esters; Haloacrylic acid esters; Halomethacrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/081—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/06—Phosphorus compounds without P—C bonds
- C07F9/08—Esters of oxyacids of phosphorus
- C07F9/09—Esters of phosphoric acids
- C07F9/091—Esters of phosphoric acids with hydroxyalkyl compounds with further substituents on alkyl
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09D133/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
- C09D133/16—Homopolymers or copolymers of esters containing halogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/18—Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/111—Deposition methods from solutions or suspensions by dipping, immersion
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/116—Deposition methods from solutions or suspensions by spin-coating, centrifugation
Description
しかしながら、これまで撥水性や撥油性を付与する機能製品には炭素数が8以上のパーフルオロアルキル基を有する化合物が用いられてきたが、環境や人体への蓄積性、および有害性が課題となってきている。
炭素数6以下のパーフルオロアルキル基を持つ材料の撥水性・撥油性を改善する方法として、フルオロ含有基と基材との結合性基間に種々の相互作用を及ぼす基を導入した例が知られている(例えば、特許文献1参照)。
また、オプツール(登録商標)等のパーフルオロポリエーテル構造を有する代替材料を使用したものも知られている。
Rf1−(CR1=CR2−X−Rf2)n−Y−Z (1)
Rf1−(X−CR1=CR2−Rf2)n−Y−Z (2)
{式(1)中、または式(2)中、
Rf1は、末端がCF3である炭素数1〜6のパーフルオロアルキル基であり、
Rf2は、炭素数1〜6のパーフルオロアルキレン基であり、
R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子であり、
nは1〜5の整数であり、
Xは、式(1)もしくは式(2)において存在しないか、またはCH2もしくはOもしくはSであり、
Yは連結基であり、
Zは、下記(i)〜(iii)のいずれかの構造である、
(i)下記一般式(3)または下記一般式(4)で示される
−P(=O)(OM1)(OM2) (3)
−O−P(=O)(OM1)(OM2) (4)
(式(3)中、または式(4)中、M1およびM2は、それぞれ独立して、水素原子、アンモニウム塩、有機アミン塩、または炭素数1〜4のアルキル基である)、
(ii)重合性基、または
(iii)SiLkL’(3−k)(Lは加水分解性基または水酸基であり、L’は炭素数1〜6の炭化水素基であり、kは1〜3の整数であり、LおよびL’が複数存在する場合はLとL’とは互いに異なっても同一でもよい)}
Rf3−(CF=CR3−CR4=CF−Rf4)n−Y−Z (5)
{式(5)中、
Rf3は、末端がCF3である炭素数1〜5のパーフルオロアルキル基であり、
Rf4は、炭素数1〜5のパーフルオロアルキレン基であり、
R3およびR4は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子であり、
nは1〜5の整数であり、
Yは連結基であり、
Zは、下記(i)〜(iii)のいずれかの構造である、
(i)下記一般式(6)または下記一般式(7)で示される
−P(=O)(OM3)(OM4) (6)
−O−P(=O)(OM3)(OM4) (7)
(式(6)中、または式(7)中、M3およびM4は、それぞれ独立して、水素原子、アンモニウム塩、有機アミン塩、または炭素数1〜4のアルキル基である)、
(ii)重合性基、または
(iii)SiLkL’(3−k)(Lは加水分解性基または水酸基であり、L’は炭素数1〜6の炭化水素基であり、kは1〜3の整数であり、LおよびL’が複数存在する場合はLとL’とは互いに異なっても同一でもよい)}
(CH2)l−Q−(CH2)m (8)
{式(8)中、lとmの合計は2〜6の整数であり、
l及び/またはmが2以上のとき、−CH2CH2−の代わりに−CH=CH−構造を含んでもよく、
Qは、式(8)において存在しないか、または、−OCONH−、−CONH−、−O−、−NH−、−CO−O−、−O−CO−、−NHCONH−もしくは−C6H4−である}、上記の含フッ素化合物である。
以下、本発明を詳細に説明する。
Rf1−(CR1=CR2−X−Rf2)n−Y−Z (1)
Rf1−(X−CR1=CR2−Rf2)n−Y−Z (2)
−P(=O)(OM1)(OM2) (3)
−O−P(=O)(OM1)(OM2) (4)
Rf3−(CF=CR3−CR4=CF−Rf4)n−Y−Z (5)
−P(=O)(OM3)(OM4) (6)
−O−P(=O)(OM3)(OM4) (7)
(CH2)l−Q−(CH2)m (8)
(X1)アクリル酸およびメタクリル酸ならびにこれらのエステル類:
メチル、エチル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、プロピル、2−エチルヘキシル、ヘキシル、デシル、ラウリル、ステアリル、イソボルニル、ベヘニル、β−ヒドロキシエチル、グリシジル、フェニル、ベンジル、4−シアノフェニルエステル類;
(X2)脂肪酸ビニルエステル類:
酢酸、プロピオン酸、カプリル酸、ラウリル酸、ステアリン酸、ベヘン酸等;
(X3)スチレン系化合物:スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン等;
(X4)ハロゲン化ビニルまたはビニリデン化合物類:
フッ化ビニル、塩化ビニル、臭化ビニル、フッ化ビニリデン、塩化ビニリデン等;
(X5)脂肪族アリルエステル類:
ヘプタン酸アリル、カプリル酸アリル、カプロン酸アリル等;
(X6)ビニルアルキルケトン類:
ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン等;
(X7)アクリルアミド類:
N−メチルアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド等;
(X8)ジエン類:
2,3−ジクロロ−1,3−ブタジエン、イソプレン等;
(X9)その他:
エチレン、アクリロニトリル、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ビニルアルキルエーテル、イソプレン等。
(Y1)アゾニトリル化合物:
2,2'−アゾビスイソブチロニトリル、2,2'−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2'−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、1,1'−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニトリル)、2,2'−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、2−(カルバモイルアゾ)イソブチロニトリル等;
(Y2)アゾアミド化合物:
2,2'−アゾビス{2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}、2,2'−アゾビス{2−メチル−N−[2−(1−ヒドロキシブチル)]プロピオンアミド}、2,2'−アゾビス[2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミド]、2,2'−アゾビス[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、2,2'−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2'−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)等;
(Y3)環状アゾアミジン化合物:
2,2'−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]ジヒドロクロリド、2,2'−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]ジスルフェートジヒドレート、2,2'−アゾビス[2−[1−(2−ヒドロキシエチル)−2−イミダゾリン−2−イル]プロパン]ジヒドロクロリド、2,2'−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]、2,2'−アゾビス(1−イミノ−1−ピロリジノ−2−メチルプロパン)ジヒドロクロリド等;
(Y4)アゾアミジン化合物:
2,2'−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)ジヒドロクロリド、2,2'−アゾビス[N−(2−カルボキシエチル)−2−メチルプロピオンアミジン]テトラヒドレート等;
(Y5)その他:
2,2'−アゾビスイソ酪酸ジメチル、4,4'−アゾビス(4−シアノバレリン酸)、2,2'−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)、1,1'−アゾビス(1−アセトキシ−1−フェニルエタン)、ジメチル1,1'−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボキシレート)、4,4'−アゾビス(4−シアノペンタン酸);
(Y6)フルオロアルキル基含有アゾ系重合開始剤:
4,4'−アゾビス(4−シアノペンタン酸2−(パーフルオロメチル)エチル)、4,4'−アゾビス(4−シアノペンタン酸2−(パーフルオロブチル)エチル)、4,4'−アゾビス(4−シアノペンタン酸2−(パーフルオロヘキシル)エチル)等。
なお、分析に当たっては下記機器を使用した。
1H−NMR,19F−NMR:ブルカー(BRUKER)社製AVANCE II 400
GC−MS: GCMS−QP2010Plus (島津製作所)
接触角測定:VHX−500F (キーエンス社製)
ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC):
装置:東ソー(株)製8320GPC
カラム:東ソー(株)製 TSKgel SuperHM−H、SuperHM−M
カラム温度:40℃
溶媒:テトラヒドロフラン
検出器:RI
スピンコーター:(株)アクティブ製 ACT−300A
3,3,4,4,5,5,6,6,9,9,10,10,11,12,12,13,13,14,14,14-ヘンイコサフルオロテトラデカ-1,7-ジエン(3)の合成
1−1)3,3,4,4,5,5,6,6-オクタフルオロ-8-ヨード-1-オクテン(1)
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):5.86(m,2H,CH 2 =CH−), 5.67(m,1H,CH2=CH−), 3.14(m,2H,CH 2 I), 2.61(m,2H,CF2 CH 2 CH2I)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm)−114.44(s,2F,CH2=CH−CF 2 ), −115.54(s,2F,CF 2 CH2CH2I), −123.77(s,2F,CF2), −124.06(s,4F,CF2)
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):4.56(m,1H,CF2 CHI), 3.17(t,2H,CH 2 I), 3.04(m,2H,CH 2 CHI), 2.69(m,2H,CF2CH2 CH 2 I)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.34(s,3F,CF3), −109.99(dd,2F,CF 2 CHI), −115.09(dd,2F,CF 2 CH2CHI),−115.43(s,2F,CF 2 CH2CH2I), −117.89(m,2F,CH2CF2 CF 2 ), −122.27(s,2F CF2), −123.2〜124.2(m,4F,CF2), −126.67(s,2F,CF3−CF 2 )
GC−MS(m/e): 828 (M+)
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):6.43(m,2H,−CH=CH−), 5.96(m,2H,−CH=CH 2 ), 5.82(m,1H,−CH=CH2)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.34(s,3F,CF3), −112.34(m,2F,CF 2 CH=), −114.48(m,2F,CF 2 CH=), −114.58(m,2F,CF 2 CH=), −122.07(s,2F,CF2), −123.32(s,2F,CF2), −123.4〜123.9(m,6F,CF2), −126.64(s,2F,CF3−CF 2 )
MS(m/e): 553(M−F)
4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,12,12,13,13,14,14,15,15,15-ヘンイコサフルオロ-10-ペンタデセン-1-オール(7)の合成
2−1)1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,9,9,10,10,11,11,12,12,12-ヘンイコサフルオロ-1,8-ジヨードドデカン(4)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):4.63(m,1H,CF2 CHI), 3.16(m,1H,CF2 CH 2 )
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−59.38(m,2F,CF 2 I), −81.31(t,3F,CF3), −105.81(dd,2F,CF 2 CHI), −113.49(m,2F,CF 2 CF2I), −114.95(m,2F,CH2 CF 2 ), −119.27(m,2F,CH2 CF 2 ), −121.46(m,2F,CF2), −122.00(m,2F,CF2),−124.13(s,2F,CF2), −126.31(m,2F,CF2)
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):6.48(m,2H,C4F9 CH=CHC6F12)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−59.38(m,2F,CF 2 I), −81.60(t,3F,CF3), −113.47(m,2F,CF 2 CF2I), −114.42(m,2F,CF 2 CH),−114.67(m,2F,CHCF 2 ), −121.49(m,2F,CF2), −121.86(m,2F,CF2), −123.77(m,2F,CF2),−124.78(m,2F,CF2), −126.31(m,2F,CF2)
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):6.47(m,2H,C4F9 CH=CHC6F12), 4.40(m,1H,CHI), 3.77(m,2H,CH 2 O), 2.88(m,2H,CH 2 CF2), 1.99(s,1H,OH)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.58(t,3F,CF3), −113.93(m,2F,CF 2 CH2), −114.42(m,2F,CF 2 CH),−122.00(m,4F,CF2CF2), −123.98(m,4F,CF2CF2), −124.82(m,2F,CF2), −126.33(m,2F,CF2)
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):6.47(m,2H,C4F9 CH=CHC6F12), 3.70(m,2H,CH 2 O), 2.22(m,2H,CH 2 CF2), 1.85(m,2H,CH2),1.49(s,1H,OH)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.59(t,3F,CF3), −114.53(m,4F,CF 2 CH), −114.85(m,2F,CF 2 CH2),−122.17(m,4F,CF2CF2), −123.97(m,4F,CF2CF2), −124.78(m,2F,CF2), −126.33(m,2F,CF2)
4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,17,17,17-ペンタイコサフルオロ-10-ヘプタデセン-1-オール(11)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):6.46(m,2H,C4F9 CH=CHC6F12)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−59.43(m,2F,CF 2 I), −81.44(t,3F,CF3), −113.49(m,2F,CF 2 CF2I), −114.42(m,4F,CF 2 CH), −121.46(m,2F,CF2), −121.84(m,2F,CF2), −122.09(m,2F,CF2), −123.35(m,2F,CF2),−123.84(m,4F,CF2CF2), −126.73(m,2F,CF 2 CF3)
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):6.49(m,2H,C4F9 CH=CHC6F12), 4.43(m,1H,CHI), 3.79(m,2H,CH 2 O), 2.92(m,2H,CH 2 CF2), 1.99(s,1H,OH)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.32(t,3F,CF3), −113.96(m,2F,CF 2 CH2), −114.38(m,4F,CF 2 CH),−122.17(m,6F,CF2CF2CF2),−123.38(m,2F,CF2), −123.89(m,4F,CF2CF2), −124.09(m,2F,CF2), −126.67(m,2F,CF2)
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):6.48(m,2H,C4F9 CH=CHC6F12), 3.71(m,2H,CH 2 O), 2.20(m,2H,CH 2 CF2), 1.86(m,2H,CH2),1.70(s,1H,OH)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.36(t,3F,CF3), −114.39(m,4F,CF 2 CH), −114.86(m,2F,CF 2 CH2), −122.13(m,6F,CF2CF2CF2), −123.39(m,2F,CF2), −123.96(m,6F,CF2CF2CF2), −126.69(m,2F,CF2)
4,4,5,5,6,6,7,7,10,11,11,12,12,13,13,14,14,15,15,15-エイコサフルオロ-9-ペンタデセン-1-オール(16)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):4.55(m,1H,CF2CHI), 2.97(m,1H,CF2CH2)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−59.33(s,2F,CF 2 I), −81.30(s,3F,CF3), −105.54(dd,2F,CF 2 CHI), −112.98(m,2F,CF 2 CF2CHI), −114.99(m,2F,CH2 CF 2 ), −117.92(m,2F,CH2CF2 CF 2 ), −122.16(s,2F,CF2), −123.23〜123.25(m,4F, CF2×2), −126.61(s,2F,CF3−CF 2 )
MS(m/e): 800(M+)
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):5.66(dt,1H,CF=CH―), 3.66(t,2H,CH 2 OH), 3.01(td,2H,CF2 CH 2 CH=), 2.10(tt,2H,CF2 CH 2 CH2), 1.78(m,2H,CH2 CH 2 CH2), 1.66(s,1H,−OH)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.33(t,3F,CF3), −113.06(s,2F,CF 2 −CF=), −114.95(m,2F,CF2), −118.49(m,2F,CH2 CF 2 CF2), −123.43(s,2F,CF2), −123.7〜124.2(m,6F, CF2×3), −125.42(s,1F,−CF=CH), −126.62(s,2F,CF3−CF 2 )
GC−MS(m/e): 800(M+)
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,11,11,12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,16-テトライコサフルオロ-8-ヘキサデセン-1-オール(18)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):5.92(m,2H,CH=CH 2 ), 5.73(m,1H,CH=CH2),5.67(m,1H,CH2 CHCF), 3.03(m,2H,CH 2 CHCF)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.43(t,3F,CF3), −112.96(m,2F,CF 2 CH), −114.38(m,2F,CF 2 CH2), −118.47(m,2F,CF2), −121.99(m,4F,CF2CF2), −123.50(m,6F,CF2CF2CF2), −124.20(m,2F,CF2), −124.59(m,1F,CF),−126.66(m,2F,CF2)
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm): 5.68(m,1H,CH=CH2), 3.94(t,2H,CF2CH2 CH 2 OH), 3.04(m,2H,CH 2 CHCF), 2.35(m,2H,CF2 CH 2 CH2OH), 2.01(s,1H,OH)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.41(t,3F,CF3), −112.91(m,2F,CF 2 CH), −113.97(m,2F,CF 2 CH2), −118.45(m,2F,CF2), −122.30(m,4F,CF2CF2), −123.47(m,6F,CF2CF2CF2), −124.34(m,2F,CF2), −124.34(m,1F,CF),−126.66(m,2F,CF2)
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,11,12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,16-トリコサフルオロ-1,8,10-ヘキサデカトリエン(19)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm) :6.46(m,2H,CFCH−CHCF), 5.93(m,2H,CH=CH 2 ), 5.75(m,1H,CH=CH2)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm) :−81.38(m,3F,CF3), −114.34(m,2F,CF 2 CH), −118.46(m,4F,CF 2 CF), −119.67(m,1F,CF), −120.56(m,1F,CF), −121.92(m,2F,CF2), −123.30(m,6F ,CF2CF2CF2), −124.17(m,2F ,CF2), −126.66(m, 2F ,CF2)
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,11,12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,16-トリコサフルオロ-8,10-ヘキサデカジエン−1−オール(20)の合成
ガスクロマトグラフィー(GC)による純度は89.3%であった。収率は11.8%であった。
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):6.63(dt,2H,−CF=CHCH=CF−), 3.74(t,2H,CH 2 O), 3.28(b,1H,−OH), 2.28(tt,CF2 CH 2 )
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.69(t,3F,CF3), −114.03(m,2F,CF 2 CH2), −118.47(m,4F,CF2),−121.09(m,1F,CF=CH), −21.88(m,1F,CF=CH), −122.31(m,2F CF2), −123.42(m,2F,CF2), −123.55(m,2F CF2),−124.42(m,4F CF2×2),−126.82(m,2F,CF2)
GC−MS(m/e): 652 (M+)
1‐トリクロロシリル-3,3,4,4,5,5,6,6,9,9,10,10,11,11,12,12,13,13,14,14,14-ヘンイコサフルオロ−7−テトラデセン(21)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):6.45(m,2H,−CH=CH−), 2.29(m,2H,CF2 CH 2 ), 1.65(m,2H,CH 2 −Si)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.34(s,3F,CF3), −114.3〜−114.6(m,4F,CF 2 CH=), −116.13(t,2F,CF 2 CH2), −122.08(s,2F,CF2), −123.30(b,4F,CF2), −123.6〜123.9(m,4F,CF2), −126.64(s, 2F,CF3−CF 2 )
1-[3-(トリエトキシシリル)-プロピル]カルバモイルオキシ-4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,12,12,13,13,14,14,15,15,15-ヘンイコサフルオロ-10-ペンタデセン(22)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):6.47(m,2H,C4F9 CH=CHC6F12), 5.03(t,1H,NH),4.12(t,2H,CH2O), 3.81(q,6H,CH 2 CH3),3.20(q,2H,NHCH 2 ), 2.22(m,2H,CH 2 CF2), 2.15(m,2H,CH 2 CF2), 1.91(m,2H,NHCH2 CH 2 CH2),1.65(m,2H,CF2CH2 CH 2 CH2),1.23(t,9H,CH2 CH 3 ), 0.65(t,2H,CH 2 Si)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.58(t,3F,CF3), −114.51(m,4F,CF 2 CH), −114.92(m,2F,CF 2 CH2),−122.15(m,4F,CF2CF2), −123.95(m,4F,CF2CF2), −124.78(m,2F,CF2), −126.32(m,2F,CF2)
1-[3-(トリエトキシシリル)-プロピル]カルバモイルオキシ-4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9, 12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,17,17,17-ペンタイコサフルオロ-10-ヘプタデセン(23)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):6.48(m,2H,C6F13 CH=CHC6F12), 5.03(t,1H,NH),4.12(t,2H,CH 2 O), 3.82(q,6H,CH 2 CH3),3.20(q,2H,NHCH 2 ), 2.22(m,2H,CH 2 CF2), 2.15(m,2H,CH 2 CF2), 1.91(m,2H,NHCH2 CH 2 CH2),1.65(m,2H,CF2CH2 CH 2 CH2),1.23(t,9H,CH2 CH 3 ), 0.65(t,2H,CH 2 Si)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.35(t,3F,CF3), −114.38(m,4F,CF 2 CH), −114.94(m,2F,CF 2 CH2), −122.09(m,6F,CF2CF2CF2), −123.37(m,2F,CF2), −123.95(m,6F,CF2CF2CF2), −126.67(m,2F,CF2)
1-[3-(トリエトキシシリル)-プロピル]カルバモイルオキシ-4,4,5,5,6,6,7,7,10,11,11,12,12,13,13,14,14,15,15,15-エイコサフルオロ-9-ペンタデセン(24)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):5.67(dt,1H,CF=CH―), 4.97(b,1H,−CONH−), 4.05(m,2H,CH 2 O), 3.75(q,6H,CH 3 CH2O), 3.11(m,2H,N−CH 2 ), 3.01(td,2H,CF2 CH 2 CH=), 2.10(m,2H,CF2 CH 2 CH2), 1.83(m,2H,CH2 CH 2 CH2O), 1.56(m,2H,NCH 2 CH2CH2), 1.15(t,9H,CH3), 0.56(m,2H,CH 2 −Si)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.34(t,3F,CF3), −113.07(s,2F,CF 2 −CF=), −115.11(m,2F, CF2), −118.51(m,2F,CH2 CF 2 CF2), −123.48(s,2F, CF2), −123.7〜124.2(m,6F,CF2), −125.39(s,1F,−CF=CH), −126.73(s,2F,CF3−CF 2 )
1-トリクロロシリル-3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,11,11,12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,16-テトライコサフルオロ-8-ヘキサデセン(25)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):5.71(m,1H,CH2 CHCF), 3.10(m,2H,CH 2 CHCF), 2.31(m,2H,CH 2 CH2Si), 1.65(m,2H,CH2 CH 2 Si)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.28(t,3F,CF3), −112.84(m,2F,CF 2 CH2CF), −116.10(m,2F,CF 2 CH2CH2), −118.48(m,2F,CF2), −122.43(m,4F,CF2CF2), −123.79(m,8F,CF2CF2CF2CF2),−124.50(m,1F,CF),−126.65(m,2F,CF2)
1-トリエトキシシリル-3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,11,11,12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,16-テトライコサフルオロ-8-ヘキサデセン(26)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):5.71(m,1H,CH2 CHCF), 3.84(q,6H,CH 2 CH3), 3.10(m,2H,CH 2 CHCF), 3.06(m,2H,CH=CH 2 ), 2.17(m,2H,CH 2 CH2Si), 1.23(t,9H,CH2 CH 3 ), 0.86(m,2H,CH2 CH 2 Si)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.36(t,3F,CF3), −112.92(m,2F,CF 2 CH2CF), −116.91(m,2F,CF 2 CH2CH2), −118.45(m,2F,CF2), −122.34(m,4F,CF2CF2), −123.89(m,8F,CF2CF2CF2CF2),−124.49(m,1F,CF),−126.62(m,2F,CF2)
1-トリクロロシリル-3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,11,12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,16-トリコサフルオロ-8,10-ヘキサデカジエン(27)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm) :6.48(m,2H,CFCH−CHCF), 2.30(m,2H,CH 2 CH2Si), 1.66(m,2H,CH2 CH 2 Si)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm) :−81.27(m,3F,CF3), −114.39(m,2F,CF 2 CH), −116.91(m,2F,CF 2 CF), −118.45(m,2F,CF2CF2),−119.50(m,1F,CF), −120.43(m,1F,CF), −121.21(m,2F,CF2), −123.34(m,6F ,CF2CF2CF2), −124.20(m,2F ,CF2), −126.69(m,2F,CF2)
1-[3-(トリエトキシシリル)-プロピル]カルバモイルオキシ-3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,11,12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,16-トリコサフルオロ-8,10-ヘキサデカジエン(28)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):6.48(dt,2H,CF=CH―CH=CF), 5.06(b,1H,−CONH−), 4.36(t,2H,CH 2 O), 3.81(q,6H,CH3CH 2O), 3.20(m,2H,N−CH 2 ), 2.43(m,2H,CF2 CH 2 ), 1.63(m,2H,CH2 CH 2 CH2O), 1.23(t,9H,CH3), 0.64(m,2H,CH 2 −Si)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.34(t,3F,CF3), −114.15(m,2F,CF 2 CH2), −118.49(m,4F, CF 2 CF=), −119.8(m,1F,CF=CH), −120.44(m,1F, CF=CH),−122.24(m,2F,CF2), −123.36(m,6F, CF2), −124.20(m,2F,CF2), −126.72(m,2F,CF3−CF 2 )
2-メチルプロペン酸4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,17,17,17-ペンタイコサフルオロ-10-ヘプタデセニル(29)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):6.47(m,2H,C6F13 CH=CHC6F12), 6.11(m,1H,CH), 5.55(m,1H,CH), 4.20(t,2H,CH 2 O), 2.19(m,2H,CH 2 CF2), 1.99(m,2H,CH2 CH 2 CH2), 1.93(m,3H,CH3)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.39(t,3F,CF3), −114.34(m,4F,CF 2 CH), −114.80(m,2F,CF 2 CH2), −122.04(m,6F,CF2CF2CF2), −123.31(m,2F,CF2), −123.87(m,6F,CF2CF2CF2), −126.64(m,2F,CF2)
プロペン酸4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,17,17,17-ペンタイコサフルオロ-10-ヘプタデセニル(30)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):6.49(m,2H,C6F13 CH=CHC6F12), 6.45(m,1H,CH), 6.13(m,1H,CH), 5.85(m,1H,CH), 4.24(t,2H,CH 2 O), 2.19(m,2H,CH 2 CF2), 2.01(m,2H,CH2 CH 2 CH2)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.31(t,3F,CF3), −114.36(m,4F,CF 2 CH), −114.91(m,2F,CF 2 CH2), −122.12(m,6F,CF2CF2CF2), −123.37(m,2F,CF2), −123.95(m,6F,CF2CF2CF2), −126.65(m,2F,CF2)
2-メチルプロペン酸3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,11,11,12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,16-テトライコサフルオロ-8-ヘキサデセニル(31)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm): 6.14(m,1H,CH), 5.71(m,1H,CH=CH2), 5.60(m,1H,CH), 4.45(t,2H,CF2CH2 CH 2 OH), 3.09(m,2H,CH 2 CHCF), 2.50(m,2H,CF2 CH 2 CH2OH), 1.95(m,3H,CH3)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.37(t,3F,CF3), −112.91(m,2F,CF 2 CH), −114.13(m,2F,CF 2 CH2), −118.45(m,2F,CF2), −122.36(m,4F,CF2CF2), −123.47(m,6F,CF2CF2CF2), −124.18(m,2F,CF2), −124.57(m,1F,CF),−126.67(m,2F,CF2)
2-メチルプロペン酸3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,11,12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,16-トリコサフルオロ-8,10-ヘキサデカジエニル(32)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm) :6.48(m,2H,CFCH−CHCF), 6.14(m,1H,CH=CH2), 5.61(m,1H,CH), 4.45(t,2H,CF2CH2 CH 2 OH), 2.51(m,2H,CF2 CH 2 CH2OH), 1.95(m,3H,CH3)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm) :−81.27(m,3F,CF3), −114.13(m,2F,CF 2 CH), −118.46(m,4F,CF 2 CF), −119.59(m,1F,CF), −120.32(m,1F,CF), −122.23(m,2F,CF2), −123.35(m,6F ,CF2CF2CF2), −124.17(m,2F ,CF2), −126.669(m, 2F ,CF2)
リン酸4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,17,17,17-ペンタイコサフルオロ-10-ヘプタデセニル(33)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):6.51(m,2H,C6F13 CH=CHC6F12), 4.44(m,2H,CH 2 OP), 2.32(m,2H,CH 2 CF2), 2.13(m,2H,CH2 CH 2 CH2)
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.73(t,3F,CF3), −114.00(m,4F,CF 2 CH), −114.86(m,2F,CF 2 CH2), −122.21(m,6F,CF2CF2CF2), −123.51(m,2F,CF2), −123.94(m,6F,CF2CF2CF2), −126.86(m,2F,CF2)
リン酸ジエチル4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,17,17,17-ペンタイコサフルオロ-10-ヘプタデセニル(34)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm):6.48(m,2H,C6F13 CH=CHC6F12), 4.14(m,2H,CH 2 OP),4.12(m,4H,CH 2 CH3), 2.23(m,2H,CH 2 CF2), 1.98(m,2H,CH2 CH 2 CH2),1.33(m,6H,CH2 CH 3 )
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.35(t,3F,CF3), −114.33(m,4F,CF 2 CH), −114.83(m,2F,CF 2 CH2), −122.04(m,6F,CF2CF2CF2), −123.32(m,2F,CF2), −123.85(m,6F,CF2CF2CF2), −126.68(m,2F,CF2)
リン酸ジエチル3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,11,11,12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,16-テトライコサフルオロ-8-ヘキサデセニル(35)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm): 5.71(m,1H,CH=CH2), 4.33(q,2H,CF2CH2 CH 2 OH), 4.13(m,4H,CH 2 OP),3.09(m,2H,CH 2 CHCF), 2.53(m,2H,CF2 CH 2 CH2OH), 1.35(m,6H,CH2 CH 3 )
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm):−81.28(t,3F,CF3), −112.91(m,2F,CF 2 CH), −114.17(m,2F,CF 2 CH2), −118.47(m,2F,CF2), −122.41(m,4F,CF2CF2), −123.47(m,6F,CF2CF2CF2), −124.28(m,2F,CF2), −124.57(m,1F,CF),−126.66(m,2F,CF2)
リン酸ジエチル3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,11,12,12,13,13,14,14,15,15,16,16,16-トリコサフルオロ-8,10-ヘキサデカジエニル(36)の合成
1H−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:テトラメチルシラン) δ(ppm) :6.49(m,2H,CFCH−CHCF), 4.33(t,2H,CF2CH2 CH 2 OH), 4.14(m,4H,CH 2 OP), 2.54(m,2H,CF2 CH 2 CH2OH), 1.35(m,6H,CH2 CH 3 )
19F−NMR (溶媒:重クロロホルム、内部標準:トリフルオロメチルベンゼン) δ(ppm) :−81.28(m,3F,CF3), −114.15(m,2F,CF 2 CH),−118.46(m,4F,CF 2 CF), −119.63(m,1F,CF), −120.29(m,1F,CF), −122.24(m,2F,CF2), −123.35(m,6F ,CF2CF2CF2), −124.23(m,2F ,CF2), −126.69(m,2F,CF2)
リン酸3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-トリデカフルオロオクチル(37)の合成
ガラス改質条件
スライドガラス(松浪硝子工業製サイズ:76mm×26mm×1.2mm))は使用前に水酸化カリウム-イソプロピルアルコール飽和溶液に室温で17時間浸漬後、水洗し、60℃にて2時間乾燥したものを前処理ガラスとして直ぐに使用した。
接触角測定は以下の機材、方法を用いて行った。
機材 VHX−500F (キーエンス社製)
方法 1μLの液滴を表面改質ガラス基板の表面に滴下し、真横から撮った映像をθ/2法にて接触角を求めた。
化合物(21)に替えて、実施例9で合成した化合物(22)を用いて、実施例24と同様にスライドガラスの表面を改質し、接触角を測定した。
化合物(21)に替えて、実施例10で合成した化合物(23)を用いて、実施例24と同様にスライドガラスの表面を改質し、接触角を測定した。
化合物(21)に替えて、実施例11で合成した化合物(24)を用いて、実施例24と同様にスライドガラスの表面を改質し、接触角を測定した。
化合物(21)に替えて、実施例12で合成した化合物(25)を用いて、実施例24と同様にスライドガラスの表面を改質し、接触角を測定した。
化合物(21)に替えて、実施例13で合成した化合物(26)を用いて、実施例24と同様にスライドガラスの表面を改質し、接触角を測定した。
化合物(21)に替えて、実施例14で合成した化合物(27)を用いて、実施例24と同様にスライドガラスの表面を改質し、接触角を測定した。
化合物(21)に替えて、実施例15で合成した化合物(28)を用いて、実施例24と同様にスライドガラスの表面を改質し、接触角を測定した。
化合物(21)に替えて、比較剤として、CF3(CF2)5CH2CH2Si(OMe)3 (アルドリッチ社製)を用いて、実施例24と同様にスライドガラスの表面を改質し、接触角を測定した。
得られた結果を表1に示した。
ポリマー1の合成
50mlの3つ口フラスコ中にメタクリル酸メチル(東京化成工業試薬)0.52g(5.18mmol)、化合物(29)1.00g(1.29mmol)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業試薬)0.016g(0.06mmol)及び2-ブタノン2.9gを仕込み、攪拌しながら5分間窒素を流し込むことにより窒素置換した後、80℃で7時間攪拌した。反応液をヘキサン42.4gに滴下してポリマーを沈殿させ、上澄み液をデカンテーションした。残った沈殿物を、テトラヒドロフラン3.5gで再溶解し、この溶液をヘキサン42.4gに添加してポリマーを再沈殿させた。沈殿物を吸引濾過し、真空乾燥して、白色粉末の目的物(ポリマー1)0.92gを得た。収率は60.5%であった。得られた目的物のGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Mwは17,000、分散度Mw/Mnは1.5であった。
ポリマー2の合成
50mlの3つ口フラスコ中にメタクリル酸メチル(東京化成工業試薬)0.53g(5.28mmol)、化合物(30)1.00g(1.32mmol)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業試薬)0.017g(0.07mmol)及び2-ブタノン2.9gを仕込み、攪拌しながら5分間窒素を流し込むことにより窒素置換した後、80℃で7時間攪拌した。反応液をヘキサン42.4gに滴下してポリマーを沈殿させ、上澄み液をデカンテーションした。残った沈殿物を、テトラヒドロフラン3.5gで再溶解し、この溶液をヘキサン42.4gに添加してポリマーを再沈殿させた。沈殿物を吸引濾過し、真空乾燥して、白色粉末の目的物(ポリマー2)0.95gを得た。収率は61.7%であった。得られた目的物のGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Mwは32,000、分散度Mw/Mnは2.0であった。
ポリマー3の合成
50mlの3つ口フラスコ中にメタクリル酸メチル(東京化成工業試薬)0.54g(5.40mmol)、化合物(31)1.00g(1.35mmol)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業試薬)0.017g(0.07mmol)及び2-ブタノン2.9gを仕込み、攪拌しながら5分間窒素を流し込むことにより窒素置換した後、80℃で7時間攪拌した。反応液をヘキサン42.4gに滴下してポリマーを沈殿させ、上澄み液をデカンテーションした。残った沈殿物を、テトラヒドロフラン3.5gで再溶解し、この溶液をヘキサン42.4gに添加してポリマーを再沈殿させた。沈殿物を吸引濾過し、真空乾燥して、白色粉末の目的物(ポリマー3)0.85gを得た。収率は55.2%であった。得られた目的物のGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Mwは18,000、分散度Mw/Mnは1.7であった。
ポリマー4の合成
50mlの3つ口フラスコ中にメタクリル酸メチル(東京化成工業試薬)0.53g(5.25mmol)、化合物(32)1.00g(1.28mmol)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業試薬)0.017g(0.07mmol)及び2-ブタノン2.9gを仕込み、攪拌しながら5分間窒素を流し込むことにより窒素置換した後、80℃で7時間攪拌した。反応液をヘキサン42.4gに滴下してポリマーを沈殿させ、上澄み液をデカンテーションした。残った沈殿物を、テトラヒドロフラン3.5gで再溶解し、この溶液をヘキサン42.4gに添加してポリマーを再沈殿させた。沈殿物を吸引濾過し、真空乾燥して、白色粉末の目的物(ポリマー4)0.81gを得た。収率は52.6%であった。得られた目的物のGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Mwは19,000、分散度Mw/Mnは1.6であった。
ポリマー5の合成
50mlの3つ口フラスコ中にメタクリル酸メチル(東京化成工業試薬)1.85g(18.51mmol)、2-メチルプロペン酸3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-トリデカフルオロ-n-オクチル(東京化成工業試薬)2.00g(4.63mmol)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業試薬)0.057g(0.23mmol)及び2-ブタノン6.17gを仕込み、攪拌しながら5分間窒素を流し込むことにより窒素置換した後、80℃で7時間攪拌した。反応液をヘキサン151.5gに滴下してポリマーを沈殿させ、上澄み液をデカンテーションした。残った沈殿物を、テトラヒドロフラン12.5gで再溶解し、この溶液をヘキサン151.5gに添加してポリマーを再沈殿させた。沈殿物を吸引濾過し、真空乾燥して、白色粉末の目的物(ポリマー5)2.01gを得た。収率は52.2%であった。得られた目的物のGPCによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Mwは21,000、分散度Mw/Mnは2.0であった。
ポリマーの物性評価
実施例32で得られたポリマー1の0.25gを、2−ブタノン4.75gに溶解させてフィルタろ過を行い、ポリマー溶液を調製した。このポリマー溶液をガラス基板(50mm×50mm×1.0mm)上にスピンコーティング(slope5秒間、次いで1,500rpm10秒間、さらにslope5秒間)し、120℃にて1時間の熱処理を行うことにより溶媒を蒸発させて、製膜した。得られた薄膜の水およびヘキサデカンの接触角を測定した。
ポリマー1に替えて、実施例33で合成したポリマー2を用いて、実施例36と同様に薄膜を作成し、接触角を測定した。
ポリマー1に替えて、実施例34で合成したポリマー3を用いて、実施例36と同様に薄膜を作成し、接触角を測定した。
ポリマー1に替えて、実施例35で合成したポリマー4を用いて、実施例36と同様に薄膜を作成し、接触角を測定した。
ポリマー1に替えて、比較例3で合成したポリマー5を用いて、実施例36と同様に薄膜を作成し、接触角を測定した。
得られた結果を表2に示した。
離型剤溶液の調製
実施例20で得られた化合物(33)0.5重量%、純水49.8重量%及びイソプロパノール49.7重量%よりなる離型剤水溶液を調製した。この離型剤溶液を用いて、次のような測定方法で離型性の評価を行った。
ポリウレタンプレポリマーおよび硬化剤を上記離型剤塗布金型(アルミニウム製、直径60mm、深さ50mm)に注入し、加熱・加圧条件下で硬化させた後、成型品を金型から剥離した時の荷重をプッシュプルスケールで測定した。要した荷重が10N未満である場合の離型性を◎、10N以上20N未満を○、20N以上50N未満を△、50N以上を×とした。また、同じ条件下で、50N未満の荷重で何回まで離型が可能であったかを測定し、離型寿命とした。
実施例40において、離型剤化合物、添加剤量及び溶媒量を種々変更した離型剤水溶液を用いて、同様の測定を行った。
実施例40において、離型剤化合物、添加剤量及び溶媒量を種々変更した離型剤水溶液を用いて、同様の測定を行った。
得られた結果を離型剤溶液各成分量(単位:重量%)とともに、表3に示した。
Claims (8)
- 下記一般式(1)または下記一般式(2)
Rf1−(CR1=CR2−X−Rf2)n−Y−Z (1)
Rf1−(X−CR1=CR2−Rf2)n−Y−Z (2)
{式(1)中、または式(2)中、
Rf1は、末端がCF3である炭素数1〜6のパーフルオロアルキル基であり、
Rf2は、炭素数1〜6のパーフルオロアルキレン基であり、
R1、R2およびXについて、
式(1)において、R1が水素原子、R2が水素原子、かつXが存在しない、または、R1がフッ素原子、R2が水素原子、かつXがCH2であり、
式(2)において、R1が水素原子、R2がフッ素原子、かつXがCH2であり、
nは1〜5の整数であり、
Yは連結基であって、下記一般式(8)で示される、
(CH2)l−Q−(CH2)m (8)
{式(8)中、lとmの合計は2〜6の整数であり、
l及び/またはmが2以上のとき、−CH2CH2−の代わりに−CH=CH−構造を含んでもよく、
Qは、式(8)において存在しないか、または、−OCONH−、−CONH−、−O−、−NH−、−CO−O−、−O−CO−、−NHCONH−もしくは−C6H4−である}
Zは、下記(i)〜(iii)のいずれかの構造である、
(i)下記一般式(3)または下記一般式(4)で示される
−P(=O)(OM1)(OM2) (3)
−O−P(=O)(OM1)(OM2) (4)
(式(3)中、または式(4)中、M1およびM2は、それぞれ独立して、水素原子、アンモニウム塩、有機アミン塩、または炭素数1〜4のアルキル基である)、
(ii)ビニル基、アリル基、スチリル基、メタクリロイル基又はアクリロイル基、または
(iii)SiLkL’(3−k)(LはCl、OR5(R5は炭素数1〜6のアルキル基)または水酸基であり、L’は炭素数1〜6の炭化水素基であり、kは1〜3の整数であり、LおよびL’が複数存在する場合はLとL’とは互いに異なっても同一でもよい)}
で示される含フッ素化合物。 - Rf2が炭素数1〜6の直鎖パーフルオロアルキレン基である、請求項1記載の含フッ素化合物。
- R1及び/またはR2が水素原子である、請求項1又は請求項2に記載の含フッ素化合物。
- 請求項1に記載の一般式(1)又は(2)において、Zがビニル基、アリル基、スチリル基、メタクリロイル基又はアクリロイル基であるモノマーA由来の繰り返し単位を含む、含フッ素重合体。
- 前記モノマーAと、分子内に少なくとも1個のビニル基、アリル基、スチリル基、メタクリロイル基又はアクリロイル基を有するモノマーBを共重合させて得られる、請求項4に記載の含フッ素重合体。
- 前記モノマーBが、(メタ)アクリル酸もしくはそのエステル類、脂肪酸ビニルエステル類、脂肪族アリルエステル類、ビニルアルキルケトン類、アクリルアミド類、ジエン類、エチレン、アクリロニトリルまたはハロゲンモノマーである、請求項5に記載の含フッ素重合体。
- 重量平均分子量が1,000〜200,000である、請求項4〜6のいずれかに記載の含フッ素重合体。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の含フッ素化合物または請求項4〜6のいずれかに記載の含フッ素重合体を含有する表面改質剤。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016002872 | 2016-01-08 | ||
JP2016002872 | 2016-01-08 | ||
JP2016044421 | 2016-03-08 | ||
JP2016044421 | 2016-03-08 | ||
PCT/JP2016/088961 WO2017119371A1 (ja) | 2016-01-08 | 2016-12-27 | 不飽和結合を有する新規含フッ素化合物およびこれを用いた表面改質剤 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021034127A Division JP7003310B2 (ja) | 2016-01-08 | 2021-03-04 | 不飽和結合を有する新規含フッ素化合物およびこれを用いた表面改質剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2017119371A1 JPWO2017119371A1 (ja) | 2018-11-08 |
JP6920214B2 true JP6920214B2 (ja) | 2021-08-18 |
Family
ID=59273699
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017560362A Active JP6920214B2 (ja) | 2016-01-08 | 2016-12-27 | 不飽和結合を有する新規含フッ素化合物およびこれを用いた表面改質剤 |
JP2021034127A Active JP7003310B2 (ja) | 2016-01-08 | 2021-03-04 | 不飽和結合を有する新規含フッ素化合物およびこれを用いた表面改質剤 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021034127A Active JP7003310B2 (ja) | 2016-01-08 | 2021-03-04 | 不飽和結合を有する新規含フッ素化合物およびこれを用いた表面改質剤 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11352457B2 (ja) |
EP (1) | EP3401298B1 (ja) |
JP (2) | JP6920214B2 (ja) |
KR (1) | KR102159824B1 (ja) |
CN (1) | CN108473399B (ja) |
WO (1) | WO2017119371A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019178191A (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-17 | 東ソー株式会社 | フッ素系樹脂 |
WO2020137080A1 (ja) * | 2018-12-27 | 2020-07-02 | 東ソー・ファインケム株式会社 | 不飽和結合を有する含フッ素化合物及びこれを用いた離型剤 |
CN109999716B (zh) * | 2019-03-29 | 2021-04-27 | 三明学院 | 一种非离子型含氟表面活性剂及其制备方法和应用 |
JP7321904B2 (ja) | 2019-04-18 | 2023-08-07 | 東ソー・ファインケム株式会社 | 含フッ素有機硫黄化合物及びこれを用いた表面改質剤 |
KR20230110907A (ko) * | 2022-01-17 | 2023-07-25 | 동우 화인켐 주식회사 | 표면 처리용 조성물 및 이로부터 코팅된 광학 부재 |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2219135B1 (ja) * | 1973-02-28 | 1976-05-21 | Ugine Kuhlmann | |
JPS5146455B2 (ja) | 1973-09-28 | 1976-12-09 | ||
JPS6041672B2 (ja) * | 1977-09-06 | 1985-09-18 | ダイキン工業株式会社 | パ−フルオロアルキル基含有アルカンジオ−ルモノフオスフエ−トの製造法 |
JPS58180597A (ja) * | 1982-04-19 | 1983-10-22 | Nippon Mektron Ltd | 離型剤 |
US5243025A (en) * | 1988-09-12 | 1993-09-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Reaction of perfluoroolefins with bis(silyl) ethers to produce fluorinated compounds |
JP2685904B2 (ja) * | 1989-07-07 | 1997-12-08 | 花王株式会社 | 撥液性の優れた熱可塑性樹脂成形体の製造方法 |
JP3004081B2 (ja) * | 1991-05-22 | 2000-01-31 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素化合物の製造方法 |
JP2841927B2 (ja) * | 1991-05-22 | 1998-12-24 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素化合物及びその製造方法 |
JP3323245B2 (ja) * | 1991-10-02 | 2002-09-09 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素化合物およびその製造方法 |
JP3091873B2 (ja) * | 1992-01-17 | 2000-09-25 | 株式会社ネオス | 含フッ素リン酸エステル及びその塩 |
JPH06184352A (ja) * | 1992-12-16 | 1994-07-05 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | フルオロアルキル基含有重合体組成物 |
JPH06248026A (ja) * | 1993-02-24 | 1994-09-06 | Asahi Glass Co Ltd | 硬化性含フッ素共重合体組成物 |
JP3564805B2 (ja) * | 1995-02-16 | 2004-09-15 | 松下電器産業株式会社 | フロロアルキルカルボン酸とその誘導体 |
JP4820546B2 (ja) * | 2004-12-09 | 2011-11-24 | 株式会社野田スクリーン | コーティング剤 |
US7700004B2 (en) * | 2005-11-01 | 2010-04-20 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Solvent compositions comprising unsaturated fluorinated hydrocarbons |
JPWO2009087981A1 (ja) | 2008-01-11 | 2011-05-26 | 株式会社Kri | 重合性化合物及びこの製造方法 |
KR101137286B1 (ko) * | 2008-01-24 | 2012-04-20 | 유니마테크 가부시키가이샤 | 플루오로알킬알코올 불포화 카르복실산 유도체 혼합물, 이것들의 중합체 및 이 중합체를 유효성분으로 하는 발수발유제 |
KR100952885B1 (ko) | 2008-02-14 | 2010-04-16 | 에스티주식회사 | 기판의 동 도금 라인용 행거의 기판 고정장치 |
JP5257449B2 (ja) * | 2008-06-13 | 2013-08-07 | ユニマテック株式会社 | ポリフルオロアルカジエン混合物およびその製造法 |
KR101072284B1 (ko) | 2008-08-01 | 2011-10-11 | 주식회사 케이엠더블유 | 고주파 필터의 유전체 공진기 및 그 조립 방법 |
JP4506893B1 (ja) * | 2009-03-13 | 2010-07-21 | ユニマテック株式会社 | ポリフルオロアルキルホスホン酸およびその製造法 |
WO2010104065A1 (ja) * | 2009-03-13 | 2010-09-16 | ユニマテック株式会社 | ポリフルオロアルキルホスホン酸、その製造法およびそれを有効成分とする離型剤 |
JP2014040373A (ja) * | 2010-12-14 | 2014-03-06 | Asahi Glass Co Ltd | 含フッ素化合物、コーティング用組成物、撥水層付き基材およびその製造方法 |
KR20140040373A (ko) | 2012-09-26 | 2014-04-03 | 김태환 | 종이를 고정하는 탄성고무 압력판 본체 |
JP6204779B2 (ja) | 2013-10-02 | 2017-09-27 | Agcセイミケミカル株式会社 | パーフルオロアルキル基含有リン酸モノエステルの製造方法 |
WO2015136913A1 (ja) | 2014-03-10 | 2015-09-17 | 国立大学法人京都大学 | 表面修飾基材の製造方法、接合体の製造方法、新規ヒドロシラン化合物、表面処理剤、表面処理剤キットおよび表面修飾基材 |
JP6248026B2 (ja) | 2014-12-04 | 2017-12-13 | 株式会社神戸製鋼所 | 転動疲労特性に優れた軸受用鋼材および軸受部品 |
-
2016
- 2016-12-27 KR KR1020187019252A patent/KR102159824B1/ko active IP Right Grant
- 2016-12-27 JP JP2017560362A patent/JP6920214B2/ja active Active
- 2016-12-27 EP EP16883870.4A patent/EP3401298B1/en active Active
- 2016-12-27 WO PCT/JP2016/088961 patent/WO2017119371A1/ja active Application Filing
- 2016-12-27 CN CN201680078081.4A patent/CN108473399B/zh active Active
-
2018
- 2018-07-02 US US16/025,014 patent/US11352457B2/en active Active
-
2021
- 2021-03-04 JP JP2021034127A patent/JP7003310B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102159824B1 (ko) | 2020-09-25 |
CN108473399B (zh) | 2022-04-01 |
JP2021100940A (ja) | 2021-07-08 |
JP7003310B2 (ja) | 2022-01-20 |
JPWO2017119371A1 (ja) | 2018-11-08 |
EP3401298A1 (en) | 2018-11-14 |
CN108473399A (zh) | 2018-08-31 |
WO2017119371A1 (ja) | 2017-07-13 |
EP3401298A4 (en) | 2019-08-14 |
US20180305484A1 (en) | 2018-10-25 |
US11352457B2 (en) | 2022-06-07 |
EP3401298B1 (en) | 2021-09-08 |
KR20180091877A (ko) | 2018-08-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7003310B2 (ja) | 不飽和結合を有する新規含フッ素化合物およびこれを用いた表面改質剤 | |
JP7298664B2 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液および物品 | |
US9518009B2 (en) | Multifunctional nitrileoxide compound | |
CN109232880B (zh) | 硅化合物的制造方法 | |
Zhang et al. | Synthesis and performance of novel fluorinated acrylate polymers: preparation and reactivity of short perfluoroalkyl group containing monomers | |
JP6617853B2 (ja) | 含フッ素エーテル組成物、コーティング液および物品 | |
JP6950697B2 (ja) | 含フッ素エーテル化合物の製造方法 | |
JP6119656B2 (ja) | フルオロポリエーテル基含有ポリマー | |
JP5789545B2 (ja) | 含フッ素化合物、撥液性処理剤、及び硬化膜 | |
TW201430068A (zh) | 表面處理組成物 | |
JP7180593B2 (ja) | 含フッ素エーテル化合物の製造方法および含フッ素エーテル化合物 | |
JP2014224235A (ja) | 含フッ素含ケイ素ポリマーおよび表面処理剤 | |
JP5952750B2 (ja) | ペンタエリスリトール骨格を有する新規フッ素含有アルコキシシラン化合物、それを用いた表面改質剤およびその中間体 | |
JPWO2019039083A1 (ja) | 含フッ素化合物、組成物、コーティング液、および含フッ素化合物の製造方法 | |
JP2017137510A (ja) | 含フッ素エーテル化合物の製造方法 | |
WO2009119445A1 (ja) | 離型剤 | |
JP6489275B1 (ja) | 含フッ素重合性単量体の蒸留精製法 | |
JP5684477B2 (ja) | 含フッ素有機溶媒のゲル化剤、及びフッ素含有有機溶媒とフッ素非含有有機溶媒との相溶化剤 | |
KR101738194B1 (ko) | 함불소 화합물, 함불소 중합체, 및 함불소 공중합체 | |
JP2017137509A (ja) | 含フッ素エーテル化合物の製造方法 | |
JP4039079B2 (ja) | 含フッ素ジエン化合物、その製造方法および重合体 | |
JP7365364B2 (ja) | 不飽和結合を有する含フッ素化合物及びこれを用いた離型剤 | |
JP6944244B2 (ja) | 含フッ素重合性化合物、含フッ素重合体、および表面処理剤 | |
JP2022014977A (ja) | 含フッ素化合物並びにその重合体及び表面改質剤組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A529 | Written submission of copy of amendment under article 34 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A5211 Effective date: 20180412 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190829 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200422 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200617 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20201209 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210304 |
|
C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20210304 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20210317 |
|
C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21 Effective date: 20210324 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210512 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210525 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210714 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210726 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6920214 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |