JP2014224235A - 含フッ素含ケイ素ポリマーおよび表面処理剤 - Google Patents

Abstract

【課題】樹脂を含む種々の材料からなる基材の表面に撥水性、撥油性、防汚性を有し、かつ、優れた表面滑り性を有する表面処理層を形成するのに有用な含フッ素含ケイ素ポリマーを提供。
【解決手段】一般式（Ａ２）で代表される含フッ素含ケイ素ポリマー。

【選択図】なし

Description

本発明は、含フッ素含ケイ素ポリマーおよびかかるポリマーを含有する表面処理剤に関する。

ある種の含フッ素化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素化合物を含む表面処理剤から得られる層は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。

従来、特に光学部材の用途においては、無機ガラスから成る基材が用いられ、指紋等の汚れが付くのを防止するために、防汚性コーティングとして、上記基材上に含フッ素化合物を用いた層が形成されている。このような含フッ素化合物として、パーフルオロポリエーテル基およびＳｉに結合した水酸基または加水分解可能な基を有する含フッ素シラン化合物を有効成分として含む表面処理剤が知られている（特許文献１）。しかしながら、この場合、シラノール基と水酸基の結合を利用するので、基材がガラス、シリコンや金属酸化物皮膜などに限定される。

一方、近年、アクリル樹脂やポリカーボネート等の透明プラスチックが、軽量で加工が容易であることから、無機ガラスに代わる材料として、その利用が拡大してきている。このような樹脂材料を用いる場合にも、防汚性コーティングを形成することが望まれる。しかしながら、特許文献１のような含フッ素シラン化合物は、樹脂材料から成る基材とは馴染みにくいことから、基材表面に固定されにくい。種々の材料、例えば樹脂から成る基材の表面に、剥がれにくい層を形成する方法としては、例えば、２個以上の重合性不飽和基を有する化合物を含有する硬化性組成物に、パーフルオロポリエーテル構造を含有する硬化性化合物と、ポリシロキサン構造とパーフルオロポリエーテル構造を有する硬化性化合物とを組み合わせて添加した硬化性組成物を用いる方法が知られている（特許文献２）。

国際公開第９７／０７１５５号 特開２０１０−１４３０９２公報

しかしながら、近年、スマートフォンやタブレット型端末が急速に普及する中、タッチパネルの用途においては、ユーザが指でディスプレイパネルに触れて操作した際に優れた触感、すなわち優れた表面滑り性を提供することが求められるが、上記のような従来の表面処理剤では、次第に高まる表面滑り性に対する要求に十分応えることは困難である。

本発明は、樹脂を含む種々の材料から成る基材に、撥水性、撥油性および防汚性に加え、優れた表面滑り性を有する層を形成するのに有用な新規な化合物およびかかる化合物を含む表面処理剤を提供することを目的とする。

本発明者らは、鋭意検討した結果、パーフルオロポリエーテル構造とポリシロキサン構造との間に硬化性部位を有する特定の含フッ素含ケイ素ポリマーを用いることにより、樹脂を含む種々の材料から成る基材に対しても、その表面に撥水性、撥油性および防汚性に加え、優れた表面滑り性を有する層を形成することが可能になることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明の第１の要旨によれば、一般式（Ａ）または（Ｂ）：

［式中：
Ｒｆ^１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基であり；
Ｒ^１は、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−（式中、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である）であり；
Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、２〜７価の有機基であり；
Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
Ｒ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^４ａまたはＲ^４ｂであり：ただし、少なくとも１つのＲ^４はＲ^４ａであり；
Ｒ^４ａは、各出現においてそれぞれ独立して、硬化性部位を有する２価の有機基であり；
Ｒ^４ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、硬化性部位を有しない２価の有機基であり；
Ｒ^５は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−または単結合であり；
Ｒ^６は、各出現においてそれぞれ独立して、２〜７価の有機基であり；
Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２およびＲ^１３は、それぞれ独立して、アルキル基またはアリール基であり；
ｎ１は１〜５０の整数であり；
ｎ３およびｎ４は、それぞれ独立して、０〜５０の整数であり、ｎ３とｎ４の和は少なくとも１以上であり；
ｎ２、ｎ５およびｎ６は、それぞれ独立して、０〜５００の整数であり；
αは、それぞれ独立して、１〜６の整数であり；
βは、それぞれ独立して、１〜６の整数である。］
で表される新規な含フッ素含ケイ素ポリマーが提供される。

本発明の第２の要旨によれば、上記含フッ素含ケイ素ポリマーの製造方法であって、
（１）カチオン重合性単量体を、パーフルオロポリエーテル基含有カチオン重合開始剤、およびルイス酸の存在下で、カチオン重合させる工程、および
（２）アルカノール基含有ポリシロキサンでカチオン重合を停止させる工程
を含む方法が提供される。

本発明の第３の要旨によれば、上記含フッ素含ケイ素ポリマーを含む表面処理剤が提供される。

本発明の第４の要旨によれば、基材と、該基材の表面に上記表面処理剤により形成された層とを含む物品が提供される。

本発明によれば、パーフルオロポリエーテル構造とポリシロキサン構造との間に硬化性部位を有する新規な含フッ素含ケイ素ポリマーが提供され、かかる含フッ素含ケイ素ポリマーを表面処理剤に用いることにより、基材の表面に、撥水性、撥油性および防汚性を有し、かつ、優れた表面滑り性を有する層（以下、「表面処理層」とも言う）を形成することが可能になる。

本明細書中、特に記載が無い限り、「パーフルオロポリエーテル基」とは、１価、または２価の「パーフルオロポリエーテル基（パーフルオロ（ポリ）エーテル基）」である。当該「１価のパーフルオロポリエーテル基」は、１個以上の炭素−炭素結合にエーテル性酸素原子が挿入されたパーフルオロアルキル基を意味する。当該「２価のパーフルオロポリエーテル基」は、１個以上の炭素−炭素結合にエーテル性酸素原子が挿入されたパーフルオロアルキレン基を意味する。本明細書中、パーフルオロポリエーテル基を、略号：ＰＦＰＥで表す場合がある。

本明細書中、特に記載が無い限り、「パーフルオロアルキル基」としては、例えば、炭素数１〜１２（好ましくは１〜６、より好ましくは１〜３）のパーフルオロアルキル基が挙げられる。当該「パーフルオロアルキル基」は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは、直鎖状である。

本明細書中、「パーフルオロアルキレン基」は、上記「パーフルオロアルキル基」の主鎖の炭素原子に直接結合したフッ素原子の除去によって誘導される２価の基を意味する。特に記載が無い限り、「パーフルオロアルキレン基」としては、例えば、炭素数１〜１２（好ましくは１〜６、より好ましくは１〜３）のパーフルオロアルキレン基が挙げられる。当該「パーフルオロアルキレン基」は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは、直鎖状である。

本明細書中、特に記載が無い限り、「アルキル基」としては、例えば、炭素数１〜１２（好ましくは１〜６、より好ましくは１〜３、さらに好ましくは１）のアルキル基（例、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基）が挙げられる。当該「アルキル基」は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは、直鎖状である。

本明細書中、特に記載が無い限り、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基を意味する。当該「炭化水素基」としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。なお、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。

本明細書中、特に記載が無い限り、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されるものではないが、例えば、ハロゲン；１個またはそれ以上のハロゲンにより置換されていてもよい、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_３−１０シクロアルキル基、Ｃ_３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６−１０アリール基、５〜１０員のヘテロアリール基等が挙げられる。

本明細書中、特に記載が無い限り、「有機基」または「１価の有機基」とは、炭素を含有する基を意味する。当該「有機基」または「１価の有機基」としては、特に限定されるものではないが、上記炭化水素基が挙げられる。また、「２価の有機基」とは、「１価の有機基」からさらに１個の水素原子を除去することによって誘導される２価の基を意味する。

以下、本発明の含フッ素含ケイ素ポリマーについて説明する。

本発明は、一般式（Ａ）または（Ｂ）：

で表される含フッ素含ケイ素ポリマーを提供する（以下、それぞれの式で表される化合物を、「含フッ素含ケイ素ポリマー（Ａ）」、「含フッ素含ケイ素ポリマー（Ｂ）」とも称する）。

上記式（Ａ）および（Ｂ）中、Ｒｆ^１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基である。当該炭素数１〜１６のアルキル基は、直鎖または分枝鎖の１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基であり、好ましくは、直鎖または分枝鎖の１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜３のアルキル基、より好ましくは直鎖の１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜３のアルキル基である。さらに好ましくは、上記「アルキル基」は、パーフルオロアルキル基であり、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式（Ａ）および（Ｂ）中、Ｒ^１は、式：−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基である。式中、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０〜２００の整数、例えば１〜２００の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０〜５０の整数である。また、好ましくは、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１以上１０００以下、好ましくは１以上５００以下、より好ましくは５以上１５０以下である。ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。また、−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

一の態様において、Ｒ^１は、−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（式中、ｂは１〜２００の整数である）である。好ましくは、Ｒ^１は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−（式中、ｂは１〜２００の整数である）である。

別の態様において、Ｒ^１は、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−（式中、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０〜３０の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１〜２００の整数であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である）である。好ましくは、Ｒ^１は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−（式中、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０〜３０の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１〜２００の整数であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である）である。

上記式：−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基の数平均分子量の下限は、高い撥油性および撥水性を得る観点から、好ましくは約１，０００、より好ましくは約１，５００、さらに好ましくは、約２，０００であり、上限は、汎用溶剤（フッ素非含有有機溶媒）への高い溶解性を得る観点から、好ましくは約１００，０００、より好ましくは約５０，０００、さらに好ましくは、約１０，０００である。

上記式（Ａ）および（Ｂ）中、Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、２〜７価の有機基を表す。当該Ｒ^２は、式（Ａ）および（Ｂ）で表される化合物において、パーフルオロポリエーテル部（Ｒ^１）と、硬化性部位を有するＲ^４部とを連結するリンカーの一部と解される。したがって、当該Ｒ^２基は、式（Ａ）および（Ｂ）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの２〜７価の有機基であってもよい。また、Ｒ^２基の価数に応じて、式中のαは、１〜６の整数となり、例えば、Ｒ^２が２価の有機基の場合、αは１であり、Ｒ^２が７価の有機基の場合、αは６である。

好ましい態様において、Ｒ^２は２〜４価の有機基であり、αは１〜３であり、より好ましくは、Ｒ^２は２価の有機基であり、αは１である。

より好ましい態様において、Ｒ^２は、式：−（Ｑ）_ｅ−（ＣＦＺ）_ｆ−（ＣＨ_２）_ｇ−で表される基である。式中、ｅ、ｆおよびｇは、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｅ、ｆおよびｇの和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

上記式中、Ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲ^ａ−（式中、Ｒ^ａは、水素原子または有機基を表す）または２価の有機基である。好ましくは、Ｑは、酸素原子または２価の極性基である。

上記Ｑにおける「２価の極性基」としては、特に限定されないが、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（＝ＮＲ^ｂ）−、および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ^ｂ−（これらの式中、Ｒ^ｂは、水素原子または低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピルであり、これらは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。

上記式中、Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。

Ｒ^２は、好ましくは、式：−（Ｏ）_ｅ−（ＣＦ_２）_ｆ−（ＣＨ_２）_ｇ−（式中、ｅ、ｆおよびｇは、上記と同意義であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である）で表される基である。

上記式：−（Ｏ）_ｅ−（ＣＦ_２）_ｆ−（ＣＨ_２）_ｇ−で表される基としては、例えば、−（Ｏ）_ｅ’−（ＣＨ_２）_ｇ”−Ｏ−［（ＣＨ_２）_ｇ’’’−Ｏ−］_ｇ””、および−（Ｏ）_ｅ’−（ＣＦ_２）_ｆ”−（ＣＨ_２）_ｇ”−Ｏ−［（ＣＨ_２）_ｇ’’’−Ｏ−］_ｇ””（式中、ｅ’は０または１であり、ｆ”、ｇ”およびｇ’’’は、それぞれ独立して、１〜１０の整数であり、ｇ””は、０または１である）で表される基が挙げられる。なお、これらの基は左端がＲ^１側に結合する。

別の好ましい態様において、Ｒ^２は、下記式（Ｖ）：
−（Ｒ^２６）_ｐ−（Ｘ^２１）_ｑ−Ｒ^２７− （Ｖ）
［式中：
Ｒ^２６は、−（ＣＨ_２）_ｓ−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｓ−であり、
Ｒ^２７は、−（ＣＨ_２）_ｔ−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｔ−であり、
Ｘ^２１は、−（Ｘ^２２）_ｒ−を表し、
Ｘ^２２は、各出現において、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＣＯＮＲ^２５−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^２５−、−ＮＲ^２５−、−Ｓｉ（Ｒ^２３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^２３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^２３）_２−および−（ＣＨ_２）_ｖ−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ^２３は、各出現において、それぞれ独立して、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し、好ましくはＣ_１−６アルキル基、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ^２５は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍは、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｖは、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｓは、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
ｔは、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数であり、
ｒは、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐは、０または１であり、
ｑは、０または１である。］
で表される基であってもよい。

好ましくは、上記式（Ｖ）で表される基は、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−Ｒ^２６−Ｘ^３−Ｒ^２７−、または
−Ｘ^４−Ｒ^２７−
［式中、Ｒ^２６およびＲ^２７は、上記と同意義である。］
であり得る。

より好ましくは、上記式（Ｖ）で表される基は、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｘ^３−（ＣＨ_２）_ｔ−、または
−Ｘ^４−（ＣＨ_２）_ｔ−
［式中、ｓおよびｔは、上記と同意義である。］
である。

上記式中、Ｘ^３は、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^２５−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ^２５−、
−Ｓｉ（Ｒ^２３）_２−、
−（Ｓｉ（Ｒ^２３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^２３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^２３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^２３）_２−、
−ＣＯＮＲ^２５−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^２３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^２３）_２−、
−ＣＯＮＲ^２５−（ＣＨ_２）_ｖ−Ｎ（Ｒ^２５）−、または
−ＣＯＮＲ^２５−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^２３）_２−
［式中、Ｒ^２３、Ｒ^２５、ｍおよびｖは、上記と同意義であり、
ｕは１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］を表す。Ｘ^３は、好ましくは−Ｏ−である。

上記式中、Ｘ^４は、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^２５−、
−ＣＯＮＲ^２５−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^２３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^２３）_２−、
−ＣＯＮＲ^２５−（ＣＨ_２）_ｖ−Ｎ（Ｒ^２５）−、または
−ＣＯＮＲ^２５−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^２３）_２−
を表す。

より好ましくは、上記式（Ｖ）で表される基は、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｘ^３−（ＣＨ_２）_ｔ−、または
−Ｘ^４−（ＣＨ_２）_ｔ−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。

さらにより好ましくは、上記式（Ｖ）で表される基は、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ−、
−（ＣＨ_２）_ｓ−（Ｓｉ（Ｒ^２３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^２３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ−、または
−（ＣＨ_２）_ｓ−Ｏ−（ＣＨ_２）_u−（Ｓｉ（Ｒ^２３）_２Ｏ）_ｍ−Ｓｉ（Ｒ^２３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ−、
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
である。

上記式（Ｖ）で示される基の具体的な例としては、例えば：
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、

などが挙げられる

また、別のＲ^２基の例としては、例えば下記の基が挙げられる：

［式中、Ｄは、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および

から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ_２）_ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、
Ｄは、式（Ａ）または式（Ｂ）の分子主鎖のＲ^１に結合し、Ｅは、式（Ａ）または式（Ｂ）の分子主鎖のＲ^３に結合する。］

さらに別のＲ^２基の例として、下記の基が挙げられる：

［式中、Ｔのうち任意の１つは、式（Ａ）または式（Ｂ）の分子主鎖のＲ^１に結合する以下の基：
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または

であり、別の少なくとも１つのＴは、式（Ａ）または式（Ｂ）の分子主鎖のＲ^３に結合する−（ＣＨ_２）_ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、存在する場合、残りは、それぞれ独立して、メチル基またはフェニル基である。］

上記Ｒ^２基は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

上記式（Ａ）および（Ｂ）中、Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基である。

Ｒ^３基は、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜２０のアルキル基であり、より好ましくは−Ｃ（Ｒ^３ａ）（Ｒ^３ｂ）−である。ここに、Ｒ^３ａおよびＲ^３ｂは、それぞれ独立して、水素原子、またはアルキル基を表し、好ましくは、Ｒ^３ａおよびＲ^３ｂの一方はアルキル基である。

上記式（Ａ）および（Ｂ）中、Ｒ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^４ａまたはＲ^４ｂである。ただし、少なくとも１つのＲ^４は、Ｒ^４ａである。

上記Ｒ^４ａは、各出現においてそれぞれ独立して、硬化性部位を有する２価の有機基である。

上記「硬化性部位」としては、特に限定されるものではないが、例えば、アリル基、ケイヒ酸基、ソルビン酸基、アクリロイル基およびメタクリロイル基（以下、アクリロイル基およびメタクリロイル基を合わせて、「（メタ）アクリロイル基」とも言う。）が挙げられる。

好ましい硬化性部位はコーティングの対象の材料によって異なり、例えば、当該材料が非晶質の合成樹脂（例、アクリル樹脂）である場合、当該「硬化性部位」としては、好ましくは、アリル基、ケイヒ酸基、ソルビン酸基、またはＣＨ_２＝ＣＸ^１−Ｃ（Ｏ）−（式中、Ｘ^１は、水素原子、塩素原子、フッ素原子またはフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表す）（例、（メタ）アクリロイル基）であり、より好ましくは、アクリロイル基およびメタクリロイル基である。

Ｒ^４ａは、好ましくは、下記式：

で表される基である。

上記式中、Ｒ^３１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、またはアルキル基を表す。当該Ｒ^３１は、好ましくは水素原子である。

上記式中、Ｒ^３２は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子、またはアルキル基を表す。当該Ｒ^３２は、好ましくはメチル基または水素原子であり、より好ましくは水素原子である

上記式中、Ｒ^３３は、各出現において、それぞれ独立して、硬化性部位を有する有機基を表す。

かかる硬化性部位としては、上記と同様のものが挙げられるが、ＣＨ_２＝ＣＸ^１−Ｃ（Ｏ）−（式中、Ｘ^１は、水素原子、塩素原子、フッ素原子またはフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表す）が好ましく、具体的にはＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−Ｃ（Ｏ）−またはＣＨ_２＝ＣＨ−Ｃ（Ｏ）−が挙げられる。

上記式中、Ｙ^１は、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ^ｃ）−、フェニレンまたはカルバゾリレンを表す。ここでＲ^ｃは有機基を表し、好ましくはアルキル基である。

Ｙ^１は、好ましくは−Ｏ−、フェニレン、またはカルバゾリレンであり、より好ましくは−Ｏ−またはフェニレンであり、さらに好ましくは−Ｏ−である。

上記式中、Ｙ^２は、主鎖の原子数が１〜１６（より好ましくは２〜１２、さらに好ましくは２〜１０）であるリンカーを表す。

当該Ｙ^２としては、特に限定されるものではないが、例えば、
−（ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ）_ｐ１−（ｐ１は、１〜１０の整数を表す）、
−（ＣＨＲ^ｄ）_ｐ２−Ｏ−（ｐ２は、１〜４０の整数であり、Ｒ^ｄは、水素、またはメチル基を表す）、
−（ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ）_ｐ３−ＣＯ−ＮＨ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ｐ３は、１〜１０の整数を表す）、
−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_ｐ４−（ｐ４は１〜６の整数を表す）、
−（ＣＨ_２）_ｐ５−Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_ｐ６−（ｐ５は１〜８の整数、好ましくは、２または４を表し、ｐ６は１〜６の整数、好ましくは３を表す）、または
−Ｏ−（但し、Ｙ^１は−Ｏ−ではない）が挙げられる。

好ましいＹ^２としては、−（ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ）_ｐ１−（ｐ１は、１〜１０の整数を表す）または−（ＣＨＲ^ｄ）_ｐ２−Ｏ−（ｐ２は、１〜４０の整数であり、Ｒ^ｄは、水素、またはメチル基を表す）、具体的には−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−が挙げられる。なお、これらの基は、左端が分子主鎖側（Ｙ^１側）に結合し、右端が硬化性部位側（Ｒ^３３側）に結合する。

Ｒ^４ａは、さらに好ましくは、下記式：

で表される基である。

上記式中、Ｘ^１は、水素原子、塩素原子、フッ素原子またはフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表し、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基、例えばメチル基である。ｑ１は、１〜１０の整数であり、好ましくは１〜５の整数、例えば１である。ｑ２は、１〜１０の整数であり、好ましくは１〜５の整数、例えば２である。

上記Ｒ^４ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、硬化性部位を有しない２価の有機基である。

Ｒ^４ｂは、好ましくは、−（ＣＨＲ^４ｃ−ＣＲ^４ｄＲ^４ｅ）_ｓ−である。ここに、Ｒ^４ｃおよびＲ^４ｄは、それぞれ独立して、水素原子、またはアルキル基を表し、ｓは０から５０の整数であり、好ましくはｓは０であり、Ｒ^４ｅ基は、−Ｑ’−Ｒ^４ｆである。ここに、Ｑ’は上記Ｑと同意義であり、Ｒ^４ｆは、硬化性部位を有しない有機基であり、後記の基Ｒ^４ｇがリンカーを介して、または直接Ｑ’に結合する基である。

当該リンカーは、好ましくは、
（ａ）−（ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ）_ｓ１−（ｓ１は、１〜１０の整数を表す。）、
（ｂ）−（ＣＨＲ^４ｈ）_ｓ２−Ｏ−（ｓ２は、１〜４０の整数である繰り返し数を表す。Ｒ^４ｈは、水素またはメチル基を表す。）、
（ｃ）−（ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ）_ｓ１−ＣＯ−ＮＨ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ｓ１は、上記と同意義である。）、
（ｄ）−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、
（ｅ）−（ＣＨ_２）_ｓ３−（ｓ３は１〜６の整数を表す。）、または
（ｆ）−（ＣＨ_２）_ｓ４−Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_ｓ５−（ｓ４は１〜８の整数、好ましくは、２または４を表す。ｓ５は１〜６の整数、好ましくは３を表す。）、または
（ｇ）−Ｏ−（但し、Ｑ’は−Ｏ−ではない）
である。

Ｒ^４ｇは、好ましくは以下の基である。
（ｉ）アルキル基
例：メチル、エチル

（ｉｉ）フッ素で置換されたアルキル基を含有する鎖状基
例：

（ｉｉｉ）単環式炭素環、二環式炭素環、三環式炭素環、および四環式炭素環からなる群より選択される１個以上の環状部を含有する基
例：

（ｉｖ）１個以上（好ましくは１または２個）のカルボキシ基で置換された炭化水素基を含有する基
例：

（ｖ）１個以上（好ましくは１個）のアミノ基を含有する基
（ｖｉ）水素
（ｖｉｉ）イミダゾリウム塩を含有する基
例：

Ｒ^４ｇは、より好ましくは、水素原子、またはフッ素化されていてもよく、かつエチレン鎖またはオキシエチレン鎖を介して結合してもよいアルキル基であり、より好ましくは、水素原子、メトキシエチル基、イソブチル基、またはＲ^４ｉ−ＣＦ_２−（ＣＦ_２）_ｓ６−（ＣＨ_２）_ｓ７−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−（Ｒ^４ｉはフッ素原子または水素原子であり、ｓ６は０〜６の整数であり、およびｓ７は１〜６の整数である）であり、さらに好ましくは、３−（ペルフルオロエチル）プロポキシエチル基［示性式：ＣＦ_３−（ＣＦ_２）−（ＣＨ_２）_３−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−］である。

上記Ｒ^４中、構成単位Ｒ^４ａと構成単位Ｒ^４ｂは、それぞれがブロックを形成していてもよく、ランダムに結合していてもよい。

上記式（Ａ）および（Ｂ）中、Ｒ^５は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−または単結合である。Ｒ^５は、好ましくは−Ｏ−である。

上記式（Ａ）および（Ｂ）中、Ｒ^６は、各出現においてそれぞれ独立して、２〜７価の有機基である。当該Ｒ^６は、式（Ａ）および（Ｂ）で表される化合物において、硬化性部位を有するＲ^４部と、シロキサン部とを連結するリンカーの一部と解される。したがって、当該Ｒ^４基は、式（Ａ）および（Ｂ）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの２〜７価の有機基であってもよい。また、Ｒ^４基の価数に応じて、式中のβは、１〜６の整数となり、例えば、Ｒ^６が２価の有機基の場合、βは１であり、Ｒ^２が７価の有機基の場合、βは６である。

好ましい態様において、Ｒ^６は２〜４価の有機基であり、βは１〜３であり、より好ましくは、Ｒ^６は２価の有機基であり、βは１である。

より好ましい態様において、Ｒ^６は、−（ＣＨ_２）_ｒ”−（式中、ｒ”は１以上２０以下の整数である）であり、より好ましくは、−（ＣＨ_２）_ｒ’’’−（式中、ｒ’’’は１以上１０以下の整数である）であり、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基である。

別の好ましい態様において、Ｒ^６は、Ｒ^２に関して記載した式（Ｖ）で示される基であってもよい。

また、別のＲ^６基の例としては、例えば下記の基が挙げられる：

［式中、Ｄは、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および

から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ_２）_ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、
Ｄは、式（Ａ）または式（Ｂ）の分子主鎖のＲ^５に結合し、Ｅは、式（Ａ）または式（Ｂ）の分子主鎖のＳｉ原子に結合する。］

さらに別のＲ^６基の例として、下記の基が挙げられる：

［式中、Ｔのうち任意の１つは、式（Ａ）または式（Ｂ）の分子主鎖のＲ^５に結合する以下の基：
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または

であり、別の少なくとも１つのＴは、式（Ａ）または式（Ｂ）の分子主鎖のＳｉ原子に結合する−（ＣＨ_２）_ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、存在する場合、残りは、それぞれ独立して、メチル基またはフェニル基である。］

上記Ｒ^６基は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

好ましい態様において、式（Ａ）および（Ｂ）において、Ｒ^２は２価の有機基であり、Ｒ^６は２価の有機基であり、αおよびβは１である。

上記式（Ａ）および（Ｂ）中、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２およびＲ^１３は、それぞれ独立して、アルキル基またはアリール基である。

上記アルキル基としては、特に限定されるものではないが、炭素数１〜１０のアルキル基、および炭素数３〜２０のシクロアルキル基が挙げられ、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、具体的には、Ｒ^１３に関してはｎ−ブチル基であり、Ｒ^７〜Ｒ^１２に関してはメチル基である。

上記アリール基としては、特に限定されるものではないが、炭素数６〜２０のアリール基が挙げられる。当該アリール基は、２個またはそれ以上の環を含んでいてもよい。好ましいアリール基は、フェニル基である。

上記アルキル基およびアリール基は、所望により、その分子鎖または環中に、ヘテロ原子、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含有していてもよい。

さらに、上記アルキル基およびアリール基は、所望により、ハロゲン；１個またはそれ以上のハロゲンにより置換されていてもよい、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_３−１０シクロアルキル基、Ｃ_３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６−１０アリール基、５〜１０員のヘテロアリール基から選択される、１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

上記式（Ａ）および（Ｂ）中、ｎ１は１〜５０の整数であり、好ましくは５〜３０の整数である。

上記式（Ａ）および（Ｂ）中、ｎ３およびｎ４は、それぞれ独立して、０〜５０の整数であり、ｎ３とｎ４の和は少なくとも１以上である。ｎ３およびｎ４は、好ましくは、それぞれ独立して、５〜３０の整数である。

上記式（Ａ）および（Ｂ）中、ｎ２、ｎ５およびｎ６は、それぞれ独立して、０〜５００の整数である。ｎ２、ｎ５およびｎ６は、好ましくは、それぞれ独立して、１〜２００の整数、より好ましくは１０〜２００の整数である。

一の態様において、上記式（Ａ）および（Ｂ）で表される含フッ素含ケイ素ポリマーは、それぞれ、下記式（Ａ１）または（Ｂ１）：

［式中：
Ｒｆ^１、Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^５、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｚ、ｎ１、ｎ２、ｎ３、ｎ４、ｎ５およびｎ６は、上記式（Ａ）および（Ｂ）の記載と同意義であり；
Ｒ^６’は、上記式（Ａ）および（Ｂ）のＲ^６に対応する２価の有機基であり；
Ｘ^１は水素原子、塩素原子、フッ素原子、またはフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基であり；
ｆ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
ｇ’は、各出現においてそれぞれ独立して、１または２であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数である。］
で表される含フッ素含ケイ素ポリマーである（以下、それぞれの式で表される化合物を、「含フッ素含ケイ素ポリマー（Ａ１）」、「含フッ素含ケイ素ポリマー（Ｂ１）」とも称する）。

別の態様において、上記式（Ａ）で表される含フッ素含ケイ素ポリマーは、下記式（Ａ２）：

［式中：
Ｒｆ^１、Ｒ^１、Ｒ^１３、ｎ１およびｎ２は、上記式（Ａ）の記載と同意義であり；
Ｒ^６’は、上記式（Ａ）のＲ^６に対応する２価の有機基である。］
で表される含フッ素含ケイ素ポリマーである（以下、「含フッ素含ケイ素ポリマー（Ａ２）」とも称する）。

好ましい態様において、上記式（Ａ１）、（Ａ２）および（Ｂ１）において、Ｒ^１は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−であり、ｂは、１〜２００の整数である。

別の好ましい態様において、上記式（Ａ１）、（Ａ２）および（Ｂ１）において、Ｒ^１は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−であり、式中、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０〜３０の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１〜２００の整数であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

上記含フッ素含ケイ素ポリマー（Ａ）は、特に限定されるものではないが、約２×１０^２〜１×１０^５の数平均分子量を有していてよい。かかる範囲のなかでも、約１×１０^３〜１×１０^５の数平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。また、上記含フッ素含ケイ素ポリマー（Ｂ）は、特に限定されるものではないが、約２×１０^２〜１×１０^５の数平均分子量を有していてよい。かかる範囲のなかでも、約１×１０^３〜１×１０^５の数平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。当該数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により求めることができる。

次に、上記含フッ素含ケイ素ポリマー（Ａ）および（Ｂ）の製造方法について説明する。

本発明は、上記式（Ａ）および（Ｂ）で表される含フッ素含ケイ素ポリマーの製造方法を提供する。当該方法は、
（１）カチオン重合性単量体を、パーフルオロポリエーテル基含有カチオン重合開始剤、およびルイス酸の存在下で、カチオン重合させる工程（工程１）、および
（２）アルカノール基含有ポリシロキサンでカチオン重合を停止させる工程（工程２）
を含む。

以下に、Ｒ^２が２価の有機基であり、Ｒ^６が２価の有機基であり、αおよびβが１である式（Ａ）および（Ｂ）で表される化合物を例として、上記の製造方法を説明する。

（Ｉ）工程１
（Ｉ−ｉ）パーフルオロポリエーテル基含有カチオン重合開始剤
工程１で用いられる「パーフルオロポリエーテル基含有カチオン重合開始剤」（開始種）は、１価または２価のパーフルオロポリエーテル基を含有するカチオン重合開始剤である。

上記「１価のパーフルオロポリエーテル基を含有するカチオン重合開始剤」としては、例えば、
（ａ）式：
Ｒ^ａ１−Ｃ（Ｒ^ａ２）（Ｒ^ａ３）−ＯＣＯ−Ｒ^ａ４
［式中、Ｒ^ａ１は、Ｒｆ^１−Ｒ^１−Ｒ^２−を表し、
ここに、Ｒｆ^１、Ｒ^１およびＲ^２は、上記一般式（Ａ）における記載と同意義であり、
Ｒ^ａ２は、水素原子、またはアルキル基を表し、
Ｒ^ａ３は、水素原子、またはアルキル基を表し、
但し、Ｒ^ａ２およびＲ^ａ３の少なくとも一方はアルキル基であり、
Ｒ^ａ４は、アルキル基、またはパーフルオロアルキル基を表す。］
で表される化合物、または
（ｂ）式：
Ｒ^ａ１−Ｃ（Ｒ^ａ２）（Ｒ^ａ３）−Ｘ^ａ
［式中、Ｒ^ａ１は、Ｒｆ^１−Ｒ^１−Ｒ^２−を表し、
ここに、Ｒｆ^１、Ｒ^１およびＲ^２は、上記一般式（Ａ）における記載と同意義であり、
Ｒ^ａ２は、水素原子、またはアルキル基を表し、
Ｒ^ａ３は、水素原子、またはアルキル基を表し、
但し、Ｒ^ａ２およびＲ^ａ３の少なくとも一方はアルキル基であり、
Ｘ^ａは、ハロゲン原子を表す。］
で表される化合物が挙げられる。

上記「２価のパーフルオロポリエーテル基を含有するカチオン重合開始剤」としては、例えば、
（ｃ）式：
Ｒ^ａ４−ＣＯＯ−Ｃ（Ｒ^ａ２）（Ｒ^ａ３）−Ｒ^ａ１’−Ｃ（Ｒ^ａ２）（Ｒ^ａ３）−ＯＣＯ−Ｒ^ａ４
［式中、Ｒ^ａ１’は、−Ｒ^２−Ｒ^１−Ｒ^２−を表し、
ここに、Ｒ^１およびＲ^２は、上記一般式（Ｂ）における記載と同意義であり、
Ｒ^ａ２は、水素原子、またはアルキル基を表し、
Ｒ^ａ３は、水素原子、またはアルキル基を表し、
但し、Ｒ^ａ２およびＲ^ａ３の少なくとも一方はアルキル基であり、
Ｒ^ａ４は、アルキル基、または１価のパーフルオロアルキル基を表す。］
で表される化合物、または
（ｄ）式：
Ｘ^ｃ−Ｃ（Ｒ^ａ２）（Ｒ^ａ３）−Ｒ^ａ１’−Ｃ（Ｒ^ａ２）（Ｒ^ａ３）−Ｘ^ｃ
［式中、Ｒ^ａ１’は、−Ｒ^２−Ｒ^１−Ｒ^２−を表し、
ここに、Ｒ^１およびＲ^２は、上記一般式（Ｂ）における記載と同意義であり、
Ｒ^ａ２は、水素原子、またはアルキル基を表し
Ｒ^ａ３は、水素原子、またはアルキル基を表し、
但し、Ｒ^ａ２およびＲ^ａ３の少なくとも一方はアルキル基であり、
Ｘ^ｃは、ハロゲン原子を表す。］
で表される化合物が挙げられる。

上記「パーフルオロポリエーテル基含有カチオン重合開始剤」が１価のパーフルオロポリエーテル基を含有するカチオン重合開始剤である場合、当該化合物は、式：
Ｒ^ａ１−Ｃ（Ｒ^ａ２’）＝Ｃ（Ｒ^ａ３’）（Ｒ^ａ３”）
［式中、Ｒ^ａ１は、上記と同意義であり、
Ｒ^ａ２’は、水素原子、またはアルキル基を表し、好ましくは水素原子であり、
Ｒ^ａ３’およびＲ^ａ３”は、それぞれ独立して、水素原子、またはアルキル基を表し、好ましくは水素原子である。］
で表される化合物を、有機カルボン酸（好ましくは酢酸、トリフルオロ酢酸、より好ましくはトリフルオロ酢酸）、またはハロゲン化水素と反応させることによって製造することができる。

例えば、式：

［式中、ＰＦＰＥは、パーフルオロポリエーテル基を表し、
Ｙ^ａは、アシルオキシ基（例、ＣＦ_３ＣＯＯ）、またはハロゲン原子を表す。］
で表される化合物は、
式：ＰＦＰＥ−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ_２
［式中、ＰＦＰＥは上記と同意義である。］
で表されるビニルエーテル化合物ａを、
式：Ｙ^ａ−Ｈ
［式中、Ｙ^ａは上記と同意義である。］
で表される化合物（好ましくは、ＣＦ_３ＣＯＯＨ）と反応させる工程
を含む製造方法によって、製造することができる。

一方、上記「パーフルオロポリエーテル基含有カチオン重合開始剤」が２価のパーフルオロポリエーテル基を含有するカチオン重合開始剤である場合、当該化合物は、式：
Ｃ（Ｒ^ａ３’）（Ｒ^ａ３”）＝Ｃ（Ｒ^ａ２’）−Ｒ^ａ１’−Ｃ（Ｒ^ａ２’）＝Ｃ（Ｒ^ａ３’）（Ｒ^ａ３”）
［式中、Ｒ^ａ１’、Ｒ^ａ２’、Ｒ^ａ３’およびＲ^ａ３”は、上記と同意義である。］
で表される化合物を、有機カルボン酸（好ましくは酢酸、トリフルオロ酢酸（ＣＦ_３ＣＯＯＨ）、より好ましくはトリフルオロ酢酸）、またはハロゲン化水素と反応させることによって製造することができる。

例えば、式：

［式中、ＰＦＰＥは、２価のパーフルオロポリエーテル基を表し、
Ｙ^ａは、アシルオキシ基（例、ＣＦ_３ＣＯＯ）、またはハロゲン原子を表す。］
で表される化合物は、
式：ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＰＦＰＥ−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ_２
［式中、ＰＦＰＥは上記と同意義である。］
で表されるビニルエーテル化合物ｂを、
式：Ｙ^ａ−Ｈ
［式中、Ｙ^ａは上記と同意義である。］
で表される化合物（好ましくは、ＣＦ_３ＣＯＯＨ）と反応させる工程
を含む製造方法によって製造することができる。

当該反応は、酸の存在下、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行われることが好ましい。

このような酸としては、塩酸等の鉱酸が好ましい。酸の使用量は、上記ビニルエーテル化合物ａまたはビニルエーテル化合物ｂの１モルに対して、通常０．０１〜１，０００モルである。

このような溶媒としては、１，１−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオロプロパン（以下、ＨＣＦＣ−２２５とも称する）、ハイドロフルオロエーテル（以下、ＨＦＥとも称する）、炭素数５〜１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素、ポリフルオロ脂肪族炭化水素、１，３−ビストリフルオロメチルベンゼン等の含フッ素溶剤が好ましい。

反応温度は、通常、−７８〜５０℃、好ましくは−１０〜１０℃である。

反応時間は、通常、１分〜６０分間である。

上記１価のパーフルオロポリエーテル基含有カチオン重合開始剤は、上記含フッ素含ケイ素ポリマー（Ａ）における式：
Ｒｆ^１−Ｒ^１−Ｒ^２−Ｒ^３−
で表される部分に対応する。

また、上記２価のパーフルオロポリエーテル基含有カチオン重合開始剤は、上記含フッ素含ケイ素ポリマー（Ｂ）における式：
−Ｒ^３−Ｒ^２−Ｒ^１−Ｒ^２−Ｒ^３−
で表される部分に対応する。

（Ｉ−ｉｉ）カチオン重合性単量体
工程１で用いられるカチオン重合性単量体は、一般式（Ａ）および（Ｂ）中のＲ^４、すなわちＲ^４ａまたはＲ^４ｂに対応する。

例えば、一般式（Ａ）および（Ｂ）中のＲ^４中の構成単位Ｒ^４ａが、上で例示した式：

［式中：
Ｒ^３１は、水素原子またはアルキル基であり、好ましくは水素原子であり；
Ｒ^３２は、水素原子またはアルキル基であり、好ましくはメチル基または水素原子であり、より好ましくは水素原子であり；
Ｒ^３３は、硬化性部位を有する有機基であり；
Ｙ^１は、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ^ｃ）−、フェニレンまたはカルバゾリレンであり、ここで、Ｒ^ｃは有機基であり、好ましくはアルキル基であり；
Ｙ^２は、主鎖の原子数が１〜１６（より好ましくは２〜１２、さらに好ましくは２〜１０）であるリンカーである。］
である含フッ素含ケイ素ポリマーを製造する場合は、カチオン重合性単量体として、式（４ａ）：

［式中、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、Ｙ^１およびＹ^２は、上記と同意義である。］
で表される化合物を用いる。

構成単位Ｒ^４ａに対応する単量体の好ましい例としては、硬化性部位として（メタ）アクリロイル基を有する以下の化合物が挙げられる。

（ｉ）式：ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｏ−（ＣＨ_２−ＣＨＲ^ｂ１−Ｏ）_ｔ−Ｃ（Ｏ）ＣＸ^１＝ＣＨ_２
［式中、ｔは、１〜４０の整数である繰り返し数を表し、好ましくは１〜１０の整数であり、より好ましくは１〜５の整数、例えば２であり、
Ｒ^ｂ１は、水素、またはメチル基を表し、
Ｘ^１は、上記一般式（Ａ１）および（Ｂ１）における記載と同意義である。］
で表されるビニルエーテル化合物。

（ｉｉ）式：ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｏ−（ＣＨＲ^ｂ２）_ｔ’−ＯＣ（Ｏ）ＣＸ^１＝ＣＨ_２
［式中、ｔ’は、１〜４０の整数である繰り返し数を表し、好ましくは１〜１０の整数であり、より好ましくは１〜５の整数、例えば２であり、
Ｒ^ｂ２は、水素、またはメチル基を表し、
Ｘ^１は、上記一般式（Ａ１）および（Ｂ１）における記載と同意義である。］
で表されるビニルエーテル化合物。

また、例えば、一般式（Ａ）および（Ｂ）中のＲ^４が、構成単位Ｒ^４ｂを含む場合、カチオン重合体単量体として、式：

［式中、Ｒ^４ｃ、Ｒ^４ｄおよびＲ^４ｅは、上記と同意義である。］
で表される化合物を用いる。

構成単位Ｒ^４ｂに対応する単量体の好ましい例としては、硬化性基を有さない、以下の化合物が挙げられる。

式（４ｂ）：
ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｏ−Ｒ^４０
［式中、
Ｒ^４０は、１価の有機基を表す。但し、当該１価の有機基は、−ＯＨ基、−ＣＯＯＨ基、および−ＮＨ_２基のいずれも含有しない。］
で表される化合物。

当該化合物としては、以下の化合物が挙げられる。

（ｉ）式：

［式中、
ｎ^４ｂは、１〜１０の整数を表す。
Ｒ^４１は、アルキル基を表す。］
で表されるビニルエーテル化合物。

当該ビニルエーテル化合物の具体例：

（ｉｉ）式：

［式中、
ｎ^４ｂは、１〜１０の整数を表す。
Ｒ^４２は、１個以上のフッ素で置換されたアルキル基を表す。］
で表されるビニルエーテル化合物。

当該ビニルエーテル化合物の具体例：

（ｉｉｉ）単環式炭素環、二環式炭素環、三環式炭素環、および四環式炭素環からなる群より選択される１個以上の環状部を含有するビニルエーテル化合物。

当該ビニルエーテル化合物の具体例：

（ｉｖ）式：

［式中、
ｎ^４ｂは、１〜１０の整数を表す。
Ｒ^４３は、１個以上（好ましくは１または２個）のアルコキシカルボニル基で置換された炭化水素基を表す。］
で表されるビニルエーテル化合物。
当該「炭化水素基」としては、例えば、

当該ビニルエーテル化合物の具体例：

当該ビニルエーテル化合物を用いた場合、重合反応後に、所望により、アルコキシカルボニル基を加水分解することによって、本発明のフッ素含有共重合体にカルボキシ基を導入することができる。

（ｖ）イミド化またはアミド化によって保護された１個以上（好ましくは１個）のアミノ基を含有するビニルエーテル化合物。

当該ビニルエーテル化合物の具体例：

当該ビニルエーテル化合物を用いた場合、重合反応後に、所望により、保護されたアミノ基を脱保護することによって、本発明のフッ素含有共重合体にアミノ基を導入することができる。

（ｖｉ）保護された１個以上（好ましくは１個）の水酸基を含有するビニルエーテル化合物。

当該ビニルエーテル化合物の具体例：

当該ビニルエーテル化合物を用いた場合、重合反応後に、所望により、保護された水酸基を脱保護することによって、本発明のフッ素含有共重合体に水酸基を導入することができる。

（ｖｉｉ）イミダゾリウム塩を含有するビニルエーテル化合物。

当該ビニルエーテル化合物の具体例：

上記Ｒ^４が、上記構成単位Ｒ^４ａのみから構成されている重合体を合成する場合は、カチオン重合性単量体として、構成単位Ｒ^４ａに対応する単量体、例えば上記式（４）で表される単量体を用いる。

上記Ｒ^４が、上記構成単位Ｒ^４ａに加え、構成単位Ｒ^４ｂを含む共重合体を合成する場合は、カチオン重合性単量体として、構成単位Ｒ^４ａに対応する単量体に加え、構成単位Ｒ^４ｂに対応する単量体、例えば上記式（４ｂ）で表される単量体を用いる。

ここで、上記Ｒ^４において、構成単位Ｒ^４ａおよびＲ^４ｂが、それぞれ、ブロックを形成している共重合体を合成する場合は、構成単位Ｒ^４ａに対応する単量体および構成単位Ｒ^４ｂに対応する単量体を逐次的にカチオン重合させる。

具体的には、第１のカチオン重合性単量体（構成単位Ｒ^４ａに対応する単量体または構成単位Ｒ^４ｂに対応する単量体）のみを反応系に添加して重合反応を開始させ、その重合反応の完了後の反応液へ、第２のカチオン重合性単量体（構成単位Ｒ^４ｂに対応する単量体または構成単位Ｒ^４ａに対応する単量体）を添加すると、リビングカチオン重合の進行において、カチオンは、常に重合体の末端に存在するので、第２のカチオン重合性単量体の重合反応が進行する。

一方、本発明の含フッ素含ケイ素ポリマーとして、当該Ｒ^４において、構成単位Ｒ^４ａおよびＲ^４ｂが、ランダムに結合している共重合体を合成する場合は、構成単位Ｒ^４ａに対応する単量体および構成単位Ｒ^４ｂに対応する単量体の両方を反応系に添加して重合反応を開始させる。

上記カチオン重合性単量体は、市販品によって、または公知の方法で製造することによって入手できる。

上記カチオン重合性単量体の使用量は、目的とする含フッ素含ケイ素ポリマーの構造によって適宜決定される。

当該製造方法では、リビングカチオン重合を採用することにより、上記カチオン重合性単量体に由来する構成単位の繰り返し数を高度に正確に制御できる。

当該製造方法では、リビングカチオン重合を採用することにより、上記カチオン重合性単量体に由来する構成単位の繰り返し数を高度に正確に制御できる。

（Ｉ−ｉｉｉ）ルイス酸
工程１で用いられるルイス酸としては、例えば、後記の式（Ｌ１）で表される化合物、および後記の式（Ｌ２）で表される化合物が挙げられる。

式：ＡｌＹ^ａＹ^ｂＹ^ｃ （Ｌ１）
（式中、Ｙ^ａ、Ｙ^ｂ、およびＹ^ｃは、それぞれ独立して、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基またはアリールオキシ基を表す。）
で表されるアルミニウム化合物。

Ｙ^ａ、Ｙ^ｂ、およびＹ^ｃで表される「ハロゲン原子」としては、例えば、塩素、臭素、およびヨウ素等が挙げられる。

Ｙ^ａ、Ｙ^ｂ、およびＹ^ｃで表される「アルキル基」としては、例えば、炭素原子数１〜１０のアルキル基が挙げられる。

Ｙ^ａ、Ｙ^ｂ、およびＹ^ｃで表される「アリール基」としては、例えば、炭素数６〜１０のアリール基が挙げられる。

Ｙ^ａ、Ｙ^ｂ、およびＹ^ｃで表される「アルコキシ基」としては、例えば、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基が挙げられる。

Ｙ^ａ、Ｙ^ｂ、およびＹ^ｃで表される「アリールオキシ基」としては、例えば、炭素数６〜１０のアリールオキシ基が挙げられる。

式（Ｌ１）で表されるアルミニウム化合物として具体的には、例えば、
ジエチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムブロマイド、ジエチルアルミニウムフルオライド、ジエチルアルミニウムアイオダイド、ジイソプロピルアルミニウムクロライド、ジイソプロピルアルミニウムブロマイド、ジイソプロピルアルミニウムフルオライド、ジイソプロピルアルミニウムアイオダイド、ジメチルアルミニウムセスキクロライド、メチルアルミニウムクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジブロマイド、エチルアルミニウムジフルオライド、エチルアルミニウムジアイオダイド、イソブチルアルミニウムジクロライド、オクチルアルミニウムジクロライド、エトキシアルミニウムジクロライド、ビニルアルミニウムジクロライド、フェニルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムセスキブロマイド、アルミニウムトリクロライド、アルミニウムトリブロマイド、エチルアルミニウムエトキシクロライド、ブチルアルミニウムブトキシクロライド、エチルアルミニウムエトキシブロマイド等の有機ハロゲン化アルミニウム化合物、ジエトキシエチルアルミニウム等のジアルコキシアルキルアルミニウム、およびビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノキシ）メチルアルミニウム、ビス（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノキシ）メチルアルミニウム等のビス（アルキル置換アリロキシ）アルキルアルミニウム等が挙げられる。

これらのアルミニウム化合物は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

式：ＭＺ^ａＺ^ｂＺ^ｃＺ^ｄ （Ｌ２）
（式中、Ｍは４価のＴｉまたはＳｎを表す。Ｚ^ａ、Ｚ^ｂ、Ｚ^ｃ、およびＺ^ｄは、それぞれハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基またはアリールオキシ基を表す。）
でそれぞれ表される四価チタニウムまたは四価スズ化合物。

Ｚ^ａ、Ｚ^ｂ、Ｚ^ｃ、およびＺ^ｄでそれぞれ表される、「ハロゲン原子」、「アルキル基」、「アリール基」、「アルコキシ基」、および「アリールオキシ基」としては、それぞれＹ^ａ、Ｙ^ｂ、およびＹ^ｃについて例示したものと同様のものが挙げられる。

式（Ｌ２）で表される四価チタニウム化合物として具体的には、例えば、
四塩化チタン、四臭化チタン、および四ヨウ化チタン等のハロゲン化チタン；
チタントリエトキシクロライド、およびチタントリｎ−ブトキシドクロライド等のハロゲン化チタンアルコキシド；並びに
チタンテトラエトキシド、およびチタンｎ−ブトキシド等のチタンアルコキシド等が挙げられる。

式（Ｌ２）で表される四価スズ化合物として具体的には、例えば、四塩化スズ、四臭化スズ、四ヨウ化スズ等のハロゲン化スズ等を挙げることができる。

これらの四価チタン化合物および四価スズ化合物は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

さらに、上記ルイス酸としては、鉄（Ｆｅ）、ガリウム（Ｇａ）、インジウム（Ｉｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）、ビスマス（Ｂｉ）、ケイ素（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、またはアンチモン（Ｓｂ）のハロゲン化物；オニウム塩（例、アンモニウム塩、ホスホニウム塩）；金属酸化物（例、Ｆｅ_２Ｏ_３、Ｆｅ_３Ｏ_４、Ｉｎ_２Ｏ_３、Ｇａ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、およびＣｏ_３Ｏ_４等）も挙げられる。

上記ルイス酸の使用量は、カチオン重合性単量体／ルイス酸（モル比）が約２〜１，０００となる量が好ましく、約１０〜１，０００となる量がより好ましい。

（Ｉ−ｉｖ）生長種安定化剤
また、工程１においては、リビングカチオン重合における生長種を安定化させる目的で、含酸素または含窒素化合物を用いてもよい。

ここで、生長種とは、伸長中の重合体の末端に存在する活性種（カチオン）を意味する。

当該含酸素または含窒素化合物としては、例えば、エステル、エーテル、ケトン、イミド、リン酸化合物、ピリジン誘導体、およびアミンが挙げられる。具体的には、エステルとしては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸フェニル、クロロ酢酸メチル、ジクロロ酢酸メチル、酪酸エチル、ステアリン酸エチル、安息香酸エチル、安息香酸フェニル、フタル酸ジエチル、およびイソフタル酸ジエチルが挙げられる。

当該エーテルとしては、例えば、ジエチルエーテル、およびエチレングリコール等の鎖状エーテル；並びにジオキサン、およびテトラヒドロフラン等の環状エーテルが挙げられる。

上記ケトンとしては、例えば、アセトン、およびメチルエチルケトンが挙げられる。

上記イミドとしては、例えば、エチルフタルイミドが挙げられる。

上記リン酸化合物としては、例えば、トリエチルホスフェートが挙げられる。

上記ピリジン誘導体としては、例えば、２，６−ジメチルピリジンが挙げられる。

上記アミンとしては、例えば、トリブチルアミンが挙げられる。

これらの化合物は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

上記含酸素または含窒素化合物の使用量は、ルイス酸１モルに対して、約０．１〜２，０００モルが好ましく、約１〜２，０００モルがより好ましい。

当該反応は、バルクで行ってもよいが、好ましくは、溶媒を使用する。

溶媒としては、例えば、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、およびシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素；ベンゼン、トルエン、およびキシレン等の芳香族炭化水素；四塩化炭素、塩化メチレン、およびジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素；ジメチルエーテル等のエーテルが挙げられる。特に無極性溶媒が好ましい。これらの溶媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

溶媒の使用量は、通常、溶媒：ビニル化合物（容量比）＝１：１〜１００：１であり、好ましくは５：１〜３０：１である。

反応温度は、通常−８０℃〜１５０℃、好ましくは−７８〜８０℃である。

反応時間は、通常１分〜４８０分、好ましくは１分〜３６０分である。

（ＩＩ）工程２
（ＩＩ−ｉ）カチオン重合反応停止剤
工程２で用いられる「カチオン重合反応停止剤」は、下記式：

［式中：
Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２およびＲ^１３は、上記一般式（Ａ）および（Ｂ）における記載と同意義であり；
ｎ’は、０〜５００の整数である。］
で表されるポリシロキサン化合物である。

好ましくは、上記カチオン重合反応停止剤は、下記式：

［式中、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３およびｎ’は、上記一般式（Ａ）および（Ｂ）における記載と同意義であり；
ｒ”は１以上２０以下の整数である。］
で表されるアルカノール基含有ポリシロキサン化合物である。

上記アルカノール基含有ポリシロキサン化合物は、好ましくは、１００〜２０，０００の平均分子量を有する。

上記ポリシロキサン化合物は、市販品によって、または公知の方法で製造することによって入手できる。市販されている上記ポリシロキサン化合物としては、サイラプレーンＦＭ−０２１，サイラプレーンＦＭ−０２５，（全てＪＮＣ株式会社製）が挙げられる。

上記アルカノール含有ポリシロキサン化合物の添加量は、開始剤１ｍｏｌに対して１〜１０ｍｏｌであり、より好ましくは１〜３ｍｏｌである。

工程２の反応温度は、通常−８０℃〜１５０℃、好ましくは−７８〜８０℃である。反応時間は、通常１分〜３６０分、好ましくは３０分〜１２０分である。

（ＩＩＩ）その他の工程

このようにして得られた、一般式（Ａ）および（Ｂ）で表される含フッ素含ケイ素ポリマーは、必要に応じて、慣用の方法により精製することができる。

このような製造方法により製造された、一般式（Ａ）および（Ｂ）で表される含フッ素含ケイ素ポリマーは、分子量の均一性が高く、例えば、分散度（重量平均分子量／数平均分子量）が、約２．５〜１．０の範囲内である。

次に、上記一般式（Ａ）および（Ｂ）で表される含フッ素含ケイ素ポリマーを含有する表面処理剤について説明する。

本発明の含フッ素含ケイ素ポリマーは、好ましくは、樹脂を含む種々の材料から成る基材の表面の処理に用いられる。すなわち、本発明は、１種またはそれ以上の上記式（Ａ）および（Ｂ）で表される含フッ素含ケイ素ポリマー含有する表面処理剤を提供する。

本発明の表面処理剤は、さらに、下記一般式（Ｃ）：

で表される少なくとも１種の含フッ素オイル（以下、「含フッ素オイル（Ｃ）」とも称する）を含有してもよい。

上記式（Ｃ）中、Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し、Ｒｆ^３は、水素原子、フッ素原子、または１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表す。好ましくは、Ｒｆ^２およびＲｆ^３は、それぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基である。

上記式（Ｃ）中、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの３種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数、好ましくは０以上２００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

上記一般式（Ｃ）で表される含フッ素オイルの例として、以下の一般式（Ｃ１）および（Ｃ２）のいずれか：
Ｒｆ^２−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”−Ｒｆ^３ ・・・（Ｃ１）
［式中、Ｒｆ^２およびＲｆ^３は上記の通りであり、ｂ”は、０〜３００の整数であり、添字ｂ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
Ｒｆ^２−(ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２)_ａ”−(ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２)_ｂ”−(ＯＣＦ_２ＣＦ_２)_ｃ”−(ＯＣＦ_２)_ｄ”−Ｒｆ^３ ・・・（Ｃ２）
［式中、Ｒｆ^２およびＲｆ^３は上記の通りであり、ａ”およびｂ”は、それぞれ独立して、０〜３０の整数であり、ｃ”およびｄ”は、それぞれ独立して、０〜３００の整数であり、添字ａ”、ｂ”、ｃ”およびｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。

上記含フッ素オイル（Ｃ）は、約１，０００〜３０，０００の平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。

本発明の表面処理剤中、かかる含フッ素オイル（Ｃ）は、上記含フッ素含ケイ素ポリマー（Ａ）および（Ｂ）の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜８０質量部、好ましくは０〜４０質量部で含まれ得る。

本発明の表面処理剤中、かかる含フッ素オイル（Ｃ）は、上記含フッ素含ケイ素ポリマー（Ａ）および（Ｂ）と含フッ素オイル（Ｃ）の合計に対して、好ましくは４０質量％以下で含まれ得る。

上記含フッ素オイル（Ｃ）は、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

本発明の表面処理剤は、上記以外に、他の成分、例えばシリコーンオイル、活性エネルギー線硬化開始剤などを含んでいてもよい。

上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

本発明の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記含フッ素含ケイ素ポリマー（Ａ）および（Ｂ）の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜５０質量部、好ましくは０〜１０質量部で含まれ得る。

上記活性エネルギー線硬化開始剤としては、例えば、３５０ｎｍ以下の波長領域の電磁波、つまり紫外光線、電子線、Ｘ線、γ線などが照射されることによって初めてラジカルやカチオンなどを発生し、硬化性部位を有する含フッ素含ケイ素ポリマーの硬化性部位（例えば、炭素−炭素二重結合）の硬化（架橋反応）を開始させる触媒として働くものであり、通常、紫外光線でラジカルやカチオンを発生させるもの、特にラジカルを発生するものを使用する。

本発明の表面処理剤における活性エネルギー線硬化開始剤は、含フッ素含ケイ素ポリマー（Ａ）および（Ｂ）中の硬化性部位の種類（ラジカル反応性か、カチオン反応性か）、使用する活性エネルギー線の種類（波長域など）と照射強度などによって適宜選択されるが、一般に紫外線領域の活性エネルギー線を用いてラジカル反応性の硬化性部位（炭素−炭素二重結合）を有する含フッ素含ケイ素ポリマー（Ａ）および（Ｂ）を硬化させる開始剤としては、例えば、以下のものが例示できる。

・アセトフェノン系
アセトフェノン、クロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、α−アミノアセトフェノン、ヒドロキシプロピオフェノン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパンー１−オンなど

・ベンゾイン系
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタールなど

・ベンゾフェノン系
ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシ−プロピルベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、ミヒラーズケトンなど

・チオキサンソン類
チオキサンソン、クロロチオキサンソン、メチルチオキサンソン、ジエチルチオキサンソン、ジメチルチオキサンソンなど

・その他
ベンジル、α−アシルオキシムエステル、アシルホスフィンオキサイド、グリオキシエステル、３−ケトクマリン、２−エチルアンスラキノン、カンファーキノン、アンスラキノンなど

これらの活性エネルギー線硬化開始剤は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

上記活性エネルギー線硬化開始剤は、特に限定されるものではないが、含フッ素含ケイ素ポリマー（Ａ）および（Ｂ）、ならびに、存在する場合、含フッ素オイル（Ｃ）の合計１００質量部に対して、０．０１〜３０質量部、好ましくは０．１〜２０質量部で含まれる。

本発明の表面処理剤は、溶剤を含んでいてもよい。本発明の表面処理剤に含まれる含フッ素含ケイ素ポリマー（Ａ）および（Ｂ）は、フッ素含有有機溶媒のみならず、汎用溶剤であるフッ素非含有有機溶媒に対しても高い溶解性を示すので、上記溶剤としては、フッ素含有有機溶媒およびフッ素非含有有機溶媒を用いることができる。

このようなフッ素含有有機溶媒としては、例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロオクタン、パーフルオロジメチルシクロヘキサン、パーフルオロデカリン、パーフルオロアルキルエタノール、パーフルオロベンゼン、パーフルオロトルエン、パーフルオロアルキルアミン（フロリナート（商品名）等）、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロブチルテトラヒドロフラン、ポリフルオロ脂肪族炭化水素（アサヒクリンＡＣ６０００（商品名））、ハイドロクロロフルオロカーボン（アサヒクリンＡＫ−２２５（商品名）等）、ハイドロフルオロエーテル（ノベック（商品名）、ＨＦＥ−７１００（商品名）等）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン、含フッ素アルコール、パーフルオロアルキルブロミド、パーフルオロアルキルヨージド、パーフルオロポリエーテル（クライトックス（商品名）、デムナム（商品名）、フォンブリン（商品名）等）、１，３−ビストリフルオロメチルベンゼン、メタクリル酸２−（パーフルオロアルキル）エチル、アクリル酸２−（パーフルオロアルキル）エチル、パーフルオロアルキルエチレン、フロン１３４ａ、およびヘキサフルオロプロペンオリゴマーが挙げられる。

また、このようなフッ素非含有有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテルペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、二硫化炭素、ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ダイグライム、トリグライム、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、２−ブタノン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ブタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、エタノール、メタノール、およびジアセトンアルコールが挙げられる。

なかでも、本発明の表面処理剤に用いられる溶剤は、好ましくは、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ヘキサデカン、酢酸ブチル、アセトン、２−ブタノン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、ジアセトンアルコールまたは２−プロパノールである。

これらの溶剤は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

かかる溶剤は、含フッ素含ケイ素ポリマー（Ａ）および（Ｂ）、ならびに、存在する場合、含フッ素オイル（Ｃ）の合計１００質量部に対して、５〜１０，０００質量部、好ましくは５〜５，０００質量部で含まれる。

一の態様において、本発明の表面処理剤は、マトリックスを形成する組成物に加えることにより、硬化性組成物とすることができる。

上記硬化性組成物は、本発明の含フッ素含ケイ素ポリマーまたは表面処理剤を、０．０１〜２０質量％、好ましくは０．０１〜１０質量％、より好ましくは０．１〜１０質量％含有する。

上記マトリックスを形成する組成物とは、少なくとも１つの炭素―炭素二重結合を有する化合物、例えば、特に限定されるものではないが、単官能および／または多官能アクリレートおよびメタクリレート（以下、アクリレートおよびメタクリレートを合わせて、「（メタ）アクリレート」とも言う）、単官能および／または多官能ウレタン（メタ）アクリレート、単官能および／または多官能エポキシ（メタ）アクリレートである化合物を含有する組成物を意味する。当該マトリックスを形成する組成物としては、特に限定されるものではないが、一般的にハードコーティング剤または反射防止剤とされる組成物であり、例えば多官能性（メタ）アクリレートを含むハードコーティング剤または含フッ素（メタ）アクリレートを含む反射防止剤が挙げられる。当該ハードコーティング剤は、例えば、ビームセット５０２Ｈ、５０４Ｈ、５０５Ａ−６、５５０Ｂ、５７５ＣＢ、５７７、１４０２（商品名）として荒川化学工業株式会社から、ＥＢＥＣＲＹＬ４０（商品名）としてダイセルサイテックから、ＨＲ３００系（商品名）として横浜ゴムから市販されている。上記反射防止剤は、例えばオプツールＡＲ−１１０（商品名）としてダイキン工業株式会社から市販されている。

本発明の表面処理剤および硬化性組成物は、さらに、酸化防止剤、増粘剤、レベリング剤、消泡剤、帯電防止剤、防曇剤、紫外線吸収剤、顔料、染料、シリカなどの無機微粒子、アルミニウムペースト、タルク、ガラスフリット、金属粉などの充填剤、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、フェノチアジン（ＰＴＺ）などの重合禁止剤などを含んでいてもよい。

次に、本発明の物品について説明する。

本発明は、基材と、該基材の表面に本発明の表面処理剤または硬化性組成物（以下、本発明の表面処理剤または硬化性組成物を合わせて、「表面処理剤」または「表面処理組成物」ともいう）により形成された層（表面処理層）とを含む物品を提供する。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。

まず、基材を準備する。本発明に使用可能な基材は、例えばガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料、好ましくは、ポリカーボネート樹脂、ポリ（メタ）アクリレート樹脂、ポリエチレンテレフタラート樹脂、トリアセチルセルロース樹脂であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属（アルミニウム、銅、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、位相差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

次に、かかる基材の表面に、上記の本発明の表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本発明の表面処理剤から表面処理層を形成する。

本発明の表面処理剤の膜形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法を使用できる。

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、マイクログラビアコーティング、バーコーティング、ダイコーティング、スクリーン印刷および類似の方法が挙げられる。

湿潤被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。当該溶媒としては、上記したフッ素含有有機溶媒およびフッ素非含有有機溶媒を用いることができる。本発明の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５〜１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい））、ハイドロクロロフルオロカーボン（アサヒクリンＡＫ−２２５（商品名）等）、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのセロソルブ系溶剤；ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル、２−ヒドロキシイソ酪酸エチルなどのエステル系溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテルなどのプロピレングリコール系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２−ヘプタノンなどのケトン系溶剤；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール系溶剤；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテル、グリコール系溶剤、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤が好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）および／またはパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）、プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルイソブチルケトン、イソプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコールが特に好ましい。

次に、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、活性エネルギー線、例えば、３５０ｎｍ以下の波長領域の電磁波、つまり紫外光線、電子線、Ｘ線、γ線などを照射することにより行われる。かかる後処理を施すことにより、硬化性部位を有する含フッ素含ケイ素ポリマーの硬化性部位、ならびに存在する場合にはハードコーティング剤の硬化性部位の硬化を開始させ、これらの化合物間、また、これらの化合物と基材間に結合が形成される。かかる後処理は、得られる表面処理層の摩擦耐久性を向上させることに寄与する。

上記のようにして、基材の表面に、本発明の表面処理剤に由来する表面処理層が形成され、本発明の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、高い表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、この表面処理層は、高い摩擦耐久性および表面滑り性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

すなわち本発明はさらに、上記表面処理層を最外層に有する光学材料にも関する。

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、フィルムまたはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、飛散防止フィルム、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバーなど。

表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、０．１〜３０μｍ、好ましくは０．５〜２０μｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

以上、本発明の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本発明の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

本発明の表面処理剤について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。

合成例
本発明の含フッ素含ケイ素ポリマーを下記スキームに従って合成した。

［式中、ＰＦＰＥは、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｙＣＦ_２ＣＦ_２−基（ここに、ｙは、１０〜５０の整数である）を表し、ｍは３〜４０の整数であり、ｎは５０〜２００の整数である。］

合成例１（工程ａ）：２−［３−ポリ（ペルフルオロプロピルオキシ）−２，２，３，３−テトラフルオロプロポキシ］エトキシビニルエーテルの合成

１Ｌナスフラスコ中に、以下の構造式：ＰＦＰＥ−ＣＨ_２ＯＨで表される、ペルフルオロポリエーテル基を含有するアルコール（デムナムＳＡ（数平均分子量４０００）、ダイキン工業社）６０ｇ（１５ｍｍｏｌ）、硫酸水素テトラブチルアンモニウム３．５ｇ（１０３ｍｍｏｌ）、４０％水酸化ナトリウム水溶液１２０ｍＬ、およびｍ−ヘキサフルオロキシレン２５０ｍＬを入れ、窒素雰囲気下に室温で３０分間撹拌した。上記混合物に、２−クロロエチルビニルエーテル１２０ｍＬを加えて、ナスフラスコにジムロート冷却器を装着して、窒素雰囲気下、７０℃で４８時間撹拌した。冷却後、反応溶液を、エバポレーターで、ほぼ完全に乾固するまで溶媒溜去した。残った反応物を、フッ素系不活性液体（フロリナートＦＣ−７２、住友スリーエム社）に溶解させた。この溶液をジクロロメタンで３回抽出し、夾雑物を除去した。ここで、夾雑物が除去できたことは、抽出液をＴＬＣ（薄層クロマトグラフィー）でチェックすることにより判定した（展開溶媒：ＨＣＦＣ−２２５、検出方法：過マンガン酸カリウム溶液の噴霧および加熱、判定基準：原点のスポットの消失）。溶媒を減圧で溜去して目的の２−［３−ポリ（ペルフルオロプロピルオキシ）−２，２，３，３−テトラフルオロプロポキシ］エチルビニルエーテルを得た。

以降、この２−［３−ポリ（ペルフルオロプロピルオキシ）−２，２，３，３−テトラフルオロプロポキシ］エチルビニルエーテルを、ＰＦＰＥ４０００ＶＥと略称する。

目的物の構造はＮＭＲスペクトルにより確認した。
ＮＭＲ スペクトルはＪＥＯＬ ｍｏｄｅｌ ＪＮＭ−ＥＣＳ４００ により測定した（測定溶媒：ＣＤＣｌ_３−ヘキサフルオロベンゼン（１：５））。
ケミカルシフトは^１Ｈ−ＮＭＲではＴＭＳ（テトラメチルシラン）を、^１９Ｆ− ＮＭＲではＣＦＣｌ_３を基準物質とし、低磁場側をプラスにした。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３−Ｃ_６Ｆ_６）：δ３．８６−３．９１（２Ｈ，ｍ），３．９１−３．９６（３Ｈ，ｍ），４．０８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ），４．１３（１Ｈ，ｄ−ｄ，Ｊ＝１４．７，１．８Ｈｚ），６．４０（１Ｈ，ｄ−ｄ，Ｊ＝１４．７，６．６Ｈｚ）．

^１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３−Ｃ_６Ｆ_６）：δ−８３．１２（ｓ），−８４．２７（ｓ），−８４．５２（ｓ），−８４．８２（ｓ），−８５．０６（ｓ），−８５．５０（ｓ），−８７．３６（ｔ，Ｊ＝１２．５Ｈｚ），−１２５．６５（ｔ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ），−１３０．６１（ｓ），−１３０．６９（ｓ），−１３０．７９（ｓ），−１３１．５７（ｓ）．

原料アルコールのβ位のＣＦ_２基のピーク（−１２８．３３ｐｐｍのトリプレットピーク）が消失し、かつ、−１２５．６５ｐｐｍのトリプレットピークが検出されたことで、エーテル基の形成が確認された。

合成例２（工程ｂ）：ＰＦＰＥ基含有カチオン重合開始剤の合成（濃度：１００ｍｏｌ／ｌ）

合成および重合用のガラス器具は、すべて送風定温乾燥機（１３０℃）にて３時間乾燥させたものを用いた。三方活栓が装着されたガラス反応容器ＡおよびＢをそれぞれ窒素ガス気流下で加熱し、窒素加圧下にて室温まで放冷し、乾燥窒素で常圧に戻し、および容器内を十分乾燥させた。乾燥窒素雰囲気下、容器Ａ内へ、ＨＣＦＣ−２２５ １９．７ｍＬ、およびトリフルオロ酢酸０．３ｍＬ（４ｍｍｏｌ）を入れ、よく攪拌して２０ｍＬ（２００ｍｏｌ／ｌ）の溶液Ａを得た。別のガラス容器Ｂに、ＨＣＦＣ−２２５ ５．９ｍＬ、およびＰＦＰＥ４０００ＶＥ ４．１ｍＬ（２ｍｍｏｌ）を加え、よく撹拌して１０ｍＬ（２００ｍｏｌ／ｌ）の溶液Ｂを得た。希釈した溶液Ａおよび溶液Ｂをそれぞれ０℃の氷水浴で約１５分間冷やし、冷却された溶液Ａを溶液Ｂに、窒素フローしながら約５分間かけてゆっくりと添加した後、１０分間攪拌し、ＰＦＰＥ基含有カチオン重合開始剤を合成した。（収量１９．５ｍｌ、収率９９．５％以上。）

以降、このＰＦＰＥ基含有カチオン重合開始剤をＰＦＰＥ４０００ＶＥＴＦＡと略称する場合がある。

ＰＦＰＥ４０００ＶＥＴＦＡを保存する場合は、精製したＰＦＰＥ４０００ＶＥＴＦＡをＨＣＦＣ−２２５で０．１Ｍに希釈し、乾燥窒素下で茶色ガラスアンプルに溶封し、冷暗所に保存した。

合成例３（工程ｃ〜工程ｅ）：含フッ素含ケイ素ポリマー（ＰＦＰＥ−ＶＥＭ−０４２１）の合成
合成、重合用のガラス器具は、すべて送風定温乾燥機（１３０℃）にて３時間乾燥させたものを用いた。三方活栓が装着されたガラス反応容器を窒素ガス気流下で加熱し、窒素加圧下にて室温まで放冷し、乾燥窒素で常圧に戻し、および容器内を十分乾燥させた。乾燥窒素雰囲気下、容器内へ、ＰＦＰＥ基含有カチオン重合開始剤としてＰＦＰＥ４０００ＶＥＴＦＡ ４．０ｍＬ（予めＨＣＦＣ−２２５で０．１ｍｏｌ／Ｌに希釈しておいたもの）（０．２ｍｍｏｌに相当）、重合溶媒としてＨＣＦＣ−２２５ ５を．９．７５ｍＬ、および添加塩基として１，４−ジオキサン１．０ｍＬを加えた。さらに、硬化性部含有単量体である２−ビニロキシエチルメタクリレート（ＶＥＭ）単量体を１．２５ｍＬ（１．６ｍｍｏｌ）加えて全体を１６．０ｍＬとして、０℃に冷却した後、窒素加圧下かつ氷浴上で、マグネティックスターラーを用い攪拌し、０℃で保冷した。これに、予め重合溶媒であるＨＣＦＣ−２２５で希釈し０℃にしておいた、４ｍＬ（０．２ｍｍｏｌ）のエチルアルミニウムセスキクロライド（Ｅｔ_１．５ＡｌＣｌ_１．５）を、乾燥窒素下で素早く加えて重合を開始させ、６０分後に片末端アルカノール基含有のシリコーンであるサイラプレーンＦＭ−０４２１（数平均分子量５０００シリコーン）（ＪＮＣ株式会社製）を５ｍｌ加えて３０分間撹拌し停止末端に含ケイ素ポリマー部を導入した。その後さらに、１％アンモニアのメタノール（ＭｅＯＨ）溶液を加えて反応を完全に停止させた。

生成した重合体を次のようにして精製した。まず、重合停止後の反応溶液をＨＣＦＣ−２２５で希釈後、触媒残渣を除去するために少量のメタノールを加え、０．６Ｎ ＨＣｌ水溶液で６回、およびイオン交換水で３回以上、洗浄水が中性になるまで洗浄した。この溶液をヘキサンにて再沈殿を行い、沈殿してきた目的物回収し、未反応シリコーンを除去した。得られた目的物を回収し乾燥させ、その後遮光し冷蔵で保存した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：δ０．１０−０．４０（ｍ），０．７５−０．９５（ｍ），１．００−２．１０（ｍ），２．１５−２．４０（ｍ），３．２５−３．４０（ｍ），３．４０−４．００（ｍ），４．１５−４．４０（ｍ），４．６０−４．７０（ｍ），５．２５−５．４５（ｍ），５．４５−５．８０（ｍ），６．００−６．１５（ｍ）．

５．４５−５．８０ｐｐｍおよび６．００−６．１５ｐｐｍにアクリレート由来のオレフィンプロトンが観測されたこと、４ｐｐｍおよび６．５ｐｐｍにビニルエーテル由来のオレフィンプロトンが観測されないことから、ビニルエーテル単位はカチオン重合し、硬化性部位であるアクリレート単位は未反応で残ったことを示唆している。以上から、目的とした構造を有したポリマーが得られたことを確認した。

合成例４：含フッ素含ケイ素ポリマー（ＰＦＰＥ−ＶＥＭ−０４２５）の合成
サイラプレーンＦＭ−０４２１（分子量５０００シリコーン）の代わりに、サイラプレーンＦＭ−０４２５（分子量１００００シリコーン）（ＪＮＣ株式会社製）１０ｍｌを用いること以外は、合成例３と同様にして、含フッ素含ケイ素ポリマー（ＰＦＰＥ−ＶＥＭ−０４２５）を合成した。ＰＦＰＥ−ＶＥＭ−０４２１と同様に、^１Ｈ−ＮＭＲにより、目的とした構造を有したポリマーが得られたことを確認した。

生成したポリマーについて、重量法により単量体の転換率（重合率、Ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ）を算出し、およびゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定により重合体の数平均分子量（Ｍｎ）、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を算出した。結果を表にまとめる。

また、ＮＭＲ測定により、重合開始剤の残存が無いことを確認し、また、アクリル基に基づくＣ＝Ｃ結合のピークが存在することによって、生成した重合体が硬化性部を含有することを確認した。

合成例５：ＰＦＰＥ−ＶＥＭ（比較化合物）の合成
サイラプレーンＦＭ−０４２１（分子量５０００シリコーン）の代わりに、メタノール１０ｍｌを用いること以外は、合成例３と同様にして、シロキサン構造を有しない含フッ素含ポリマー（ＰＦＰＥ−ＶＥＭ）を合成した。^１Ｈ−ＮＭＲにより、目的とした構造を有したポリマーが得られたことを確認した。

実施例１
上記合成例３で合成した含フッ素含ケイ素ポリマー（ＰＦＰＥ−ＶＥＭ−０４２１）（０．３ｇ）を、ハードコート剤（ビームセット５７５ＣＢ（商品名）、荒川化学工業株式会社）（２９．６７ｇ）に加え、メチルイソブチルケトン（８７．５ｍＬ）に溶解して、３０質量％の硬化性組成物を得た。

実施例２
含フッ素含ケイ素ポリマーとして、合成例３で合成した含フッ素含ケイ素ポリマーの代わりに合成例４で合成した含フッ素含ケイ素ポリマー（ＰＦＰＥ−ＶＥＭ−０４２５）（０．３ｇ）を用いること以外は、実施例１と同様にして、実施例２の硬化性組成物を得た。

比較例１〜３
本発明の含フッ素含ケイ素ポリマーの代わりに、合成例５で合成した含フッ素ポリマー（ＰＦＰＥ−ＶＥＭ）（０．３ｇ）（比較例１）、サイラプレーンＦＭ−０４２５（０．３ｇ）（比較例２）または市販の環状シロキサン骨格にＰＦＰＥ部位および硬化性部位が結合した化合物（０．３ｇ）（比較例３）をハードコート剤に加えること以外は、実施例１と同様にして、比較例１〜３の表面処理剤を得た。

試験例
・表面処理層の形成
ポリカーボネート基材（ステラ、日本テストパネル社製）を、上記実施例１〜２および比較例１〜３で得られた硬化性組成物に浸漬し、７０℃で、５分間乾燥した。次いで、１Ｊ／ｃｍ²の紫外線を照射し、紫外線を照射して、表面処理層を形成した。

（評価）
・接触角評価
水およびｎ−ヘキサデカンの静的接触角（対水接触角および対ｎ−ヘキサデカン接触角）を、接触角計（協和界面科学社製、「ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ」）を用いて、それぞれ１μＬの液量で測定した。結果を下記表１に示す。

・表面滑り性評価
表面性測定機（「トライボギア ＴＹＰＥ：１４ＦＷ」、新東科学株式会社製）を用いて、摩擦子として鋼球を用いて、ＡＳＴＭ Ｄ１８９４に準拠し、動摩擦係数（−）を測定した。結果を下記表１に示す。

・油性インキのハジキおよび拭き取り性評価
表面処理層に油性ペン（ゼブラ（株）製のマッキー。商品名）で線を描き、油性インキのはじきと、１分間放置した後に付着した油性インキをキムワイプ（商品名。十條キンバリー（株）製）で３回拭き取ったときの表面処理層の状態を目視で判定する。

評価は、つぎの基準とする。

上記の結果を表１に示す。

表３から理解されるように、本発明の含フッ素含ケイ素ポリマーを用いた実施例１および２では、含フッ素ケイ素不含ポリマーを用いた比較例１、シリコーンを用いた比較例２、およびＰＦＰＥ部位および硬化性部位を有するがポリシロキサン骨格を有さない化合物を用いた比較例３に比べて、接触角および動摩擦係数のいずれかまたは両方が向上した。また、油性インキのはじき、拭き取り効果も向上した。特に実施例１は、接触角、動摩擦係数および油性インキのはじき、拭き取り性のすべてが向上しており、相乗効果が確認された。

このような効果は、理論に限定されるものではないが、パーフルオロポリエーテル構造とポリシロキサン構造とのハイブリッド構造とすることにより、本発明の化合物は、パーフルオロポリエーテル構造を有する化合物およびポリシロキサン構造を有する化合物をそれぞれ単独で用いる場合と比較して、表面エネルギーが低下し、パーフルオロポリエーテル部分およびポリシロキサン部分が表面偏析することによるものと考えられる。

本発明は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

Claims (21)

1. 一般式（Ａ）または（Ｂ）：
   

   

   ［式中：
   Ｒｆ^１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基であり；
   Ｒ^１は、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−（式中、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は少なくとも１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である）であり；
   Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、２〜７価の有機基であり；
   Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
   Ｒ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^４ａまたはＲ^４ｂであり：ただし、少なくとも１つのＲ^４はＲ^４ａであり；
   Ｒ^４ａは、各出現においてそれぞれ独立して、硬化性部位を有する２価の有機基であり；
   Ｒ^４ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、硬化性部位を有しない２価の有機基であり；
   Ｒ^５は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−または単結合であり；
   Ｒ^６は、各出現においてそれぞれ独立して、２〜７価の有機基であり；
   Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２およびＲ^１３は、それぞれ独立して、アルキル基またはアリール基であり；
   ｎ１は１〜５０の整数であり；
   ｎ３およびｎ４は、それぞれ独立して、０〜５０の整数であり、ｎ３とｎ４の和は少なくとも１以上であり；
   ｎ２、ｎ５およびｎ６は、それぞれ独立して、０〜５００の整数であり；
   αは、それぞれ独立して、１〜６の整数であり；
   βは、それぞれ独立して、１〜６の整数である。］
   で表される含フッ素含ケイ素ポリマー。
2. 式（Ａ）および（Ｂ）において、Ｒ^２が２価の有機基であり、αが１である、請求項１に記載の含フッ素含ケイ素ポリマー。
3. 式（Ａ）および（Ｂ）において、Ｒ^６が２価の有機基であり、βが１である、請求項１に記載の含フッ素含ケイ素ポリマー。
4. 式（Ａ）および（Ｂ）において、Ｒ^２が２価の有機基であり、Ｒ^６が２価の有機基であり、αおよびβが１である、請求項１〜３のいずれかに記載の含フッ素含ケイ素ポリマー。
5. Ｒ^２が、−（Ｑ）_ｅ−（ＣＦＺ）_ｆ−（ＣＨ_２）_ｇ−
   （式中、Ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲ^ａ−（式中、Ｒ^ａは、水素原子または有機基を表す）または２価の有機基であり、Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり、ｅ、ｆおよびｇは、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｅ、ｆおよびｇの和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である）
   である、請求項１〜４のいずれかに記載の含フッ素含ケイ素ポリマー。
6. 下記式（Ａ１）または（Ｂ１）：
   

   

   ［式中：
   Ｒｆ^１、Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^５、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｚ、ｎ１、ｎ２、ｎ３、ｎ４、ｎ５およびｎ６は、請求項１の記載と同意義であり；
   Ｒ^６’は、請求項１のＲ^６に対応する２価の有機基であり；
   Ｘ^１は水素原子、塩素原子、フッ素原子、またはフッ素により置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基であり；
   ｆ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
   ｇ’は、各出現においてそれぞれ独立して、１または２であり；
   ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数である。］
   で表される含フッ素含ケイ素ポリマーである、請求項１〜５のいずれかに記載の含フッ素含ケイ素ポリマー。
7. 下記式（Ａ２）：
   

   

   ［式中：
   Ｒｆ^１、Ｒ^１、Ｒ^６、Ｒ^１３、ｎ１およびｎ２は、請求項１の記載と同意義であり、
   Ｒ^６’は、請求項１のＲ^６に対応する２価の有機基である。］
   で表される含フッ素含ケイ素ポリマーである、請求項１〜６のいずれかに記載の含フッ素含ケイ素ポリマー。
8. Ｒ^１が、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−であり、ｂは、１〜２００の整数である、請求項１〜７のいずれかに記載の含フッ素含ケイ素ポリマー。
9. Ｒ^１が、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２）_ｄ−であり、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０〜３０の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１〜２００の整数であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である、請求項１〜７のいずれかに記載の含フッ素含ケイ素ポリマー。
10. Ｒｆ^１が、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である、請求項１〜９のいずれかに記載の含フッ素含ケイ素ポリマー。
11. 請求項１に記載の式（Ａ）および（Ｂ）で表される含フッ素含ケイ素ポリマーの製造方法であって、
    （１）カチオン重合性単量体を、パーフルオロポリエーテル基含有カチオン重合開始剤、およびルイス酸の存在下で、カチオン重合させる工程、および
    （２）アルカノール基含有ポリシロキサンでカチオン重合を停止させる工程
    を含む方法。
12. アルカノール基含有ポリシロキサンが、
    

    

    ［式中、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２およびＲ^１３は、請求項１の記載と同意義であり；
    ｎ’は、０〜５００の整数であり；
    ｒ”は、１〜２０の整数である。］
    で示される化合物である、請求項１１記載の方法。
13. アルカノール基含有ポリシロキサンが、１００〜２０，０００の平均分子量を有する、請求項１１または１２に記載の方法。
14. １種またはそれ以上の請求項１〜１０のいずれかに記載の含フッ素含ケイ素ポリマーを含む、表面処理剤。
15. 下記一般式（Ｃ）：
    

    

    ［式中、Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し、
    Ｒｆ^３は、水素原子、フッ素原子、または１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し、
    ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’はそれぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
    で表される少なくとも１種の含フッ素オイルを、含フッ素含ケイ素ポリマーと含フッ素オイルの合計に対して４０質量％以下含む、請求項１４に記載の表面処理剤。
16. 溶剤を、含フッ素含ケイ素ポリマー、および、存在する場合、含フッ素オイルの合計１００質量部に対して、５〜１０，０００質量部含有する、請求項１４または１５に記載の表面処理剤。
17. 活性エネルギー線硬化開始剤を含む請求項１４〜１６のいずれかに記載の表面処理剤。
18. 請求項１〜７のいずれかに記載の含フッ素含ケイ素ポリマーまたは請求項１４〜１７のいずれかに記載の表面処理剤；および
    マトリックスを形成する組成物
    を含む、硬化性組成物。
19. 含フッ素含ケイ素ポリマーを、マトリックスを形成する組成物と含フッ素含ケイ素ポリマーの合計に対して０．０１〜１０質量％含有する、請求項１８に記載の硬化性組成物。
20. 基材と、該基材の表面に請求項１４〜１７のいずれかに記載の表面処理剤あるいは請求項１８または１９に記載の硬化性組成物により形成された層とを含む物品。
21. 上記物品が光学部材である、請求項２０に記載の物品。