JP2023066384A - 表面処理剤 - Google Patents

Abstract

【課題】耐久性がより高い表面処理層を与えることができる化合物の提供。【解決手段】下記式（１）又は（２）で表される化合物。TIFF2023066384000031.tif23136式中、ＲＦ１、ＲＦ２は二価のフルオロポリエーテル基を含む基であり、ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＸＣ－ＳｉＲ１ｎ’Ｒ２３－ｎ’で表されるケイ素基であり、ＲＡｃは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＸＤ－ＸＥ（－ＸＦ－ＯＣＯ－ＣＲ５＝ＣＨ２）ｍ’で表される不飽和基であり、ＸＡは、それぞれ独立して、単結合、又は二価の有機基であり、ＸＢは、それぞれ独立して、Ｓｉ原子を含有しない炭素数１～１０の（ｍ＋ｎ＋１）価の基である。具体的には、例えば、パーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物（Ａ）：ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２２（ＣＦ２Ｏ）２６ＣＦ２Ｃ（ＯＨ）（ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）２が示される。【選択図】なし

Description

本開示は、新規フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物、及びかかる化合物を含む表面処理剤に関する。

ある種のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。フルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、衛生用品、建築資材など種々多様な基材に施されている（特許文献１）。

特開２００３－２３８５７７号公報

特許文献１に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、優れた機能を有する表面処理層を与えることができるが、より高い耐久性を有する表面処理層が求められている。

本開示は、耐久性に優れた表面処理層を与えることができるフルオロポリエーテル基含有化合物を提供することを目的とする。

本開示は、以下の態様を含む。
［１］ 下記式（１）又は（２）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり、
Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり、
Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、二価のフルオロポリエーテル基であり、
ｐは、０又は１であり、
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり、
Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合、又は二価の有機基であり、
Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、Ｓｉ原子を含有しない炭素数１～１０の（ｍ＋ｎ＋１）価の基であり、
Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｘ^Ｃ－ＳｉＲ^１ _ｎ’Ｒ^２ _３－ｎ’であり、
Ｘ^Ｃは、炭素数１～１０の二価の有機基であり、
Ｒ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
ｎ’は、１～３の整数であり、
Ｒ^Ａｃは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｘ^Ｄ－Ｘ^Ｅ（－Ｘ^Ｆ－ＯＣＯ－ＣＲ^５＝ＣＨ_２）_ｍ’であり、
Ｘ^Ｄは、単結合、又は二価の有機基であり、
Ｘ^Ｅは、単結合、又は（ｍ’＋１）価の基であり、
Ｘ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、又は炭素数１～１０の二価の有機基であり、
Ｒ^５は、水素原子、ハロゲン原子、又は炭素数１～８の一価の有機基であり、
ｍ’は、１～１０の整数であり、
ｎは、それぞれ独立して、１～１０の整数であり、
ｍは、それぞれ独立して、１～１０の整数である。］
で表される化合物。
［２］ Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中、Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子で／あり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である、上記［１］に記載の化合物。
［３］ Ｒ^Ｆａは、フッ素原子である、上記［１］又は［２］に記載の化合物。
［４］ Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）、（ｆ５）又は（ｆ６）：
－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－ （ｆ１）
［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは、０又は１である。］、
－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
ｅ及びｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、１０～２００の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－Ｒ^９－ （ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり；
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
Ｒ^９は、単結合、又は、ＯＣＦ_２、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であり；
ｇは、２～１００の整数である。］、
－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－Ｒ^ｒ－（Ｒ^７’－Ｒ^６’）_ｇ’－ （ｆ４）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
Ｒ^６’は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７’は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数であり、
ｇ’は、２～１００の整数であり、
Ｒ^ｒは、

（式中、＊は、結合位置を示す。）
である。］；
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ５）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ６）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［１］～［３］のいずれか１項に記載の化合物。
［５］ Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基であり、
Ｒｆ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基である、
上記［１］～［４］のいずれか１項に記載の化合物。
［６］ Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合、又はウレタン結合を含まない二価の有機基である、上記［１］～［５］のいずれか１項に記載の化合物。
［７］ Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合、又は
－（Ｃ_αＲ^１１ _２α）_ｓ１－Ｒ^１２ _ｔ１－
［式中：
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又はフッ素原子であり、
αは、各出現においてそれぞれ独立して、１～１０の整数であり、
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＮＲ^１０－、－ＣＯＮＲ^１０－、－ＮＲ^１０ＣＯ－、－ＣＯＯ－、又は－ＯＣＯ－であり、
Ｒ^１０は、水素原子又はＣ_１－６アルキル基であり、
ｓ１は、０～３の整数であり、
ｔ１は、０～３の整数であり、
ｓ１とｔ１の合計は、１以上であり、
ｓ１又はｔ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［１］～［６］のいずれか１項に記載の化合物。
［８］ Ｘ^Ａは、－ＣＯＮＲ^１０－Ｃ_α１Ｈ_２α１－、－（Ｃ_α２Ｈ_２α２）－Ｏ－（Ｃ_α３Ｈ_２α３）－、又は－Ｃ_α４Ｈ_２α４－であり、
Ｒ^１０は、水素原子又はＣ_１－６アルキル基であり、
α１は、１～１０の整数であり、
α２は、０～６の整数であり、
α３は、０～６の整数であり、
α４は、０～６の整数である、
上記［７］に記載の化合物。
［９］ Ｘ^Ａは、－ＣＯＮＲ^１０－Ｃ_α１Ｈ_２α１－である、上記［８］に記載の化合物。
［１０］ Ｘ^Ｂは、３価の基であり、ｎは１であり、ｍは１である、上記［１］～［９］のいずれか１項に記載の化合物。
［１１］ Ｘ^Ｂは、

［式中、Ｒ^８は、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基である。］
であり、ｎは１であり、ｍは１である、上記［１］～［１０］のいずれか１項に記載の化合物。
［１２］ Ｘ^Ｃは、
Ｃ_１－６アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数である）、
－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数である）、又は
－(ＣＨ_２)_ｚ１３－ＯＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｚ１４－（式中、ｚ１３は、０～６の整数であり、ｚ１４は、０～６の整数である）
である、上記［１］～［１１］のいずれか１項に記載の化合物。
［１３］ Ｘ^Ｃは、Ｃ_１－６アルキレン基である、上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載の化合物。
［１４］ ｎ’は、２又は３である、上記［１］～［１３］のいずれか１項に記載の化合物。
［１５］ ｎ’は３である、上記［１］～［１４］のいずれか１項に記載の化合物。
［１６］ Ｘ^Ｅは、単結合である、上記［１］～［１５］のいずれか１項に記載の化合物。
［１７］ Ｘ^Ｅは、－Ｘ^Ｇ－Ｘ^Ｈであり、
Ｘ^Ｇは、
単結合、
Ｃ_１－６アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｚ９－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ１０－（式中、ｚ９は、０～６の整数であり、ｚ１０は、０～６の整数である）、又は、
－（ＣＨ_２）_ｚ１１－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ１２－（式中、ｚ１１は、０～６の整数であり、ｚ１２は、０～６の整数である）
であり、
Ｘ^Ｈは、下記

であり、
Ｒ^８は、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基である、
上記［１］～［１５］のいずれか１項に記載の化合物。
［１８］ Ｘ^Ｄは、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＯＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯＯ－、－ＮＨ－ＣＯ－ＮＨ－、－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_２ＯＨ）ＣＨ_２－、

［式中、＊及び＊＊は、結合位置を示し、＊はＸ^Ｂに結合し、＊＊はＸ^Ｅに結合する。］
である、上記［１］～［１７］のいずれか１項に記載の化合物。
［１９］ Ｘ^Ｆは、
単結合、
Ｃ_１－６アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｚ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６－（式中、ｚ５は、０～６の整数であり、ｚ６は、０～６の整数である）、又は、
－（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－（式中、ｚ７は、０～６の整数であり、ｚ８は、０～６の整数である）
である、上記［１］～［１８］のいずれか１項に記載の化合物。
［２０］ Ｒ^５は、水素原子、又はメチル基である、上記［１］～［１９］のいずれか１項に記載の化合物。
［２１］ 上記［１］～［２０］のいずれか１項に記載の化合物を含有する、表面処理剤。
［２２］ 含フッ素オイル、シリコーンオイル、及び触媒から選択される１種又はそれ以上の他の成分をさらに含有する、上記［２１］に記載の表面処理剤。
［２３］ 防汚性コーティング剤又は防水性コーティング剤として使用される、上記［２１］又は［２２］に記載の表面処理剤。
［２４］ 基材と、該基材の表面に、上記［１］～［１９］のいずれか１項に記載の化合物又は上記［２１］～［２３］のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。

本開示によれば、耐久性に優れた表面処理層を与えることができるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物を提供することができる。

本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基又はその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端又は分子鎖中に、１つ又はそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。また、「２価の有機基」とは、炭素を含有する２価の基を意味する。かかる２価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素及び水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つ又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい、Ｃ_１－２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれであってもよく、飽和又は不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つ又はそれ以上の環構造を含んでいてもよい。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個又はそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基及び５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個又はそれ以上の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「加水分解性基」とは、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、－ＮＣＯ、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）などが挙げられる。

本開示のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物は、下記式（１）又は（２）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり、
Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり、
Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、二価のフルオロポリエーテル基であり、
ｐは、０又は１であり、
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり、
Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合、又は二価の有機基であり、
Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、Ｓｉ原子を含有しない炭素数１～１０の（ｍ＋ｎ＋１）価の基であり、
Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｘ^Ｃ－ＳｉＲ^１ _ｎ’Ｒ^２ _３－ｎ’であり、
Ｘ^Ｃは、炭素数１～１０の二価の有機基であり、
Ｒ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
ｎ’は、１～３の整数であり、
Ｒ^Ａｃは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｘ^Ｄ－Ｘ^Ｅ（－Ｘ^Ｆ－ＯＣＯ－ＣＲ^５＝ＣＨ_２）_ｍ’であり、
Ｘ^Ｄは、単結合、又は二価の有機基であり、
Ｘ^Ｅは、単結合、又は（ｍ’＋１）価の基であり、
Ｘ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、又は有機基であり、
Ｒ^５は、水素原子、ハロゲン原子、又は炭素数１～８の一価の有機基であり、
ｍ’は、１～１０の整数であり、
ｎは、それぞれ独立して、１～１０の整数であり、
ｍは、それぞれ独立して、１～１０の整数である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物である。

上記式（１）において、Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

上記式（２）において、Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

上記式において、Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基である。

上記１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基における「Ｃ_１－１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基である。

上記Ｒｆ^１は、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ－Ｃ_１－１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－１６パーフルオロアルキル基である。

上記Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ_３、－ＣＦ_２ＣＦ_３、又は－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式において、Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基である。

上記１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基における「Ｃ_１－６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３アルキレン基である。

上記Ｒｆ^２は、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－６アルキレン基であり、より好ましくはＣ_１－６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－３パーフルオロアルキレン基である。

上記Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－、又は－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－である。

上記式において、ｐは、０又は１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。

上記式において、ｑは、それぞれ独立して、０又は１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。

上記式（１）及び（２）において、Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基である。

Ｒ^Ｆは、好ましくは、下記：
－（ＯＣ_ｈ１Ｒ^Ｆａ _２ｈ１）_ｈ３－（ＯＣ_ｈ２Ｒ^Ｆａ _{２ｈ２－２}）_ｈ４－
［式中：
Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
ｈ１は、１～６の整数であり、
ｈ２は、４～８の整数であり、
ｈ３は、０以上の整数であり、
ｈ４は、０以上の整数であり、
だたし、ｈ３とｈ４の合成は、１以上、好ましくは２以上、より好ましくは５以上であり、ｈ３及びｈ４を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基を含み得る。

一の態様において、Ｒ^Ｆは、直鎖状、又は分枝鎖状であり得る。Ｒ^Ｆは、好ましくは、式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中：
Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である。

Ｒ^Ｆａは、好ましくは、水素原子又はフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。

ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０～１００の整数であってもよい。

ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下又は３０以下であってもよい。

これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよく、環構造を含んでいてもよい。例えば、－（ＯＣ_６Ｆ_１２）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよい。－（ＯＣ_５Ｆ_１０）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよい。－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－（即ち、上記式中、Ｒ^Ｆａはフッ素原子である）は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよい。

一の態様において、Ｒ^Ｆは、環構造を含み得る。

上記環構造は、下記三員環、四員環、五員環、又は六員環であり得る。

［式中、＊は、結合位置を示す。］

上記環構造は、好ましくは四員環、五員環、又は六員環、より好ましくは四員環、又は六員環であり得る。

環構造を有する繰り返し単位は、好ましくは、下記の単位であり得る。

［式中、＊は、結合位置を示す。］

一の態様において、上記繰り返し単位は直鎖状である。上記繰り返し単位を直鎖状とすることにより、表面処理層の表面滑り性、摩耗耐久性等を向上させることができる。

一の態様において、上記繰り返し単位は分枝鎖状である。上記繰り返し単位を分枝鎖状とすることにより、表面処理層の動摩擦係数を大きくすることができる。

一の態様において、Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）～（ｆ６）のいずれかで表される基である。
－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－ （ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは０又は１、好ましくは１である。］；
－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ及びｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－Ｒ^９－ （ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
Ｒ^９は、単結合、又は、ＯＣＦ_２、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であり；
ｇは、２～１００の整数である。］；
－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－Ｒ^ｒ－（Ｒ^７’－Ｒ^６’）_ｇ’－ （ｆ４）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
Ｒ^６’は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７’は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数であり、
ｇ’は、２～１００の整数であり、
Ｒ^ｒは、

（式中、＊は、結合位置を示す。）
である。］；
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ５）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ６）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１５～５０、例えば２５～３５の整数である。一の態様において、ｅは、１である。別の態様において、ｅは０である。上記式（ｆ１）における（ＯＣ_３Ｆ_６）は、好ましくは、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）、（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））又は（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）で表される基であり、より好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－で表される基である。上記式（ｆ１）における（ＯＣ_２Ｆ_４）は、好ましくは、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）、又は（ＯＣＦ（ＣＦ_３））で表される基であり、より好ましくは、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）で表される基である。

上記式（ｆ２）において、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基であってもよい。

上記式（ｆ３）において、Ｒ^６は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４である。上記（ｆ３）において、Ｒ^７は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から選択される基である。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、及び－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－等が挙げられる。一の態様において、Ｒ^９は、単結合である。別の態様において、Ｒ^９は、ＯＣＦ_２、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基である。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖又は分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇは、好ましくは、－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_３Ｆ_６）_ｇ－又は－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_４Ｆ_８）_ｇ－である。

上記式（ｆ４）において、Ｒ^６、Ｒ^７及びｇは、上記式（ｆ３）の記載と同意義であり、同様の態様を有する。Ｒ^６’、Ｒ^７’及びｇ’は、それぞれ、上記式（ｆ３）に記載のＲ^６、Ｒ^７及びｇと同意義であり、同様の態様を有する。Ｒ^ｒは、好ましくは、

［式中、＊は、結合位置を示す。］
であり、より好ましくは

［式中、＊は、結合位置を示す。］
である。

上記式（ｆ５）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

上記式（ｆ６）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ１）又は（ｆ２）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ１）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ２）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ３）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ４）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ５）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ６）で表される基である。

上記Ｒ^Ｆにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１～１０であり、好ましくは０．２～５であり、より好ましくは０．２～２であり、さらに好ましくは０．２～１．５であり、さらにより好ましくは０．２～０．８５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩耗耐久性及び耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性及び摩耗耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。

一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２～０．９５であり、より好ましくは０．２～０．９である。

一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは１．０以上であり、より好ましくは１．０～２．０である。

上記フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物において、Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００である。本明細書において、Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２の数平均分子量は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

上記式（１）及び（２）において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合、又は二価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合、又はウレタン結合を含まない二価の有機基である。

好ましい態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合、又は
－（Ｃ_αＲ^１１ _２α）_ｓ１－Ｒ^１２ _ｔ１－
［式中：
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又はフッ素原子であり、
αは、各出現においてそれぞれ独立して、１～１０の整数であり、
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＯ－、又は－ＯＣＯ－であり、
ｓ１は、０～３の整数であり、
ｔ１は、０～３の整数であり、
ｓ１とｔ１の合計は、１以上であり、
ｓ１又はｔ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である。なお、式中、左側が、Ｒ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２に結合する。

一の態様において、Ｘ^Ａは、単結合である。

一の態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、上記－（Ｃ_αＲ^１１ _２α）_ｓ１－Ｒ^１２ _ｔ１－である。

上記Ｒ^１１は、好ましくは水素原子である。

上記αは、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～４の整数、さらに好ましくは２～４の整数である。

上記Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくは、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＮＲ^１０－、－ＣＯＮＨ－、又は－ＣＯＯ－、より好ましくは－ＣＯＮＨ－である。

上記Ｒ^１０は、水素原子又はＣ_１－６アルキル基であり、好ましくは水素原子である。

上記ｓ１は、好ましくは１又は２、より好ましくは１である。

上記ｔ１は、好ましくは０～２の整数、より好ましくは１又は２であり、さらに好ましくは１である。

好ましい態様において、
Ｒ^１１は、水素原子であり、
αは、２～４の整数であり、
Ｒ^１２は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＮＲ^１０－、－ＣＯＮＨ－、又は－ＣＯＯ－であり、
Ｒ^１０は、水素原子又はＣ_１－６アルキル基であり、
ｓ１は、１又は２であり、
ｔ１は、０又は１である。

より好ましい態様において、Ｘ^Ａは、－ＣＯＮＲ^１０－Ｃ_α１Ｈ_２α１－、－（Ｃ_α２Ｈ_２α２）－Ｏ－（Ｃ_α３Ｈ_２α３）－、又は－Ｃ_α４Ｈ_２α４－であり、好ましくは－ＣＯＮＲ^１０－Ｃ_α１Ｈ_２α１－である。かかる基は、左側が、Ｒ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２に結合する。

α１は、１～１０の整数である。α２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である。α３は、０～６の整数例えば１～６の整数である。α４は、０～６の整数例えば１～６の整数である。

Ｘ^Ａは、好ましくは－ＣＯＮＨ－Ｃ_α１Ｈ_２α１－である。かかる基は、左側が、Ｒ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２に結合する。

上記Ｃ_α１Ｈ_２α１は、好ましくは（ＣＨ_２）_α１である。

上記Ｃ_α２Ｈ_２α２は、好ましくは（ＣＨ_２）_α２である。

上記Ｃ_α３Ｈ_２α３は、好ましくは（ＣＨ_２）_α３である。

上記Ｃ_α４Ｈ_２α４は、好ましくは（ＣＨ_２）_α４である。

上記式（１）及び（２）において、Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、Ｓｉ原子を含有しない炭素数１～１０の（ｎ＋ｎ＋１）価の基である。

一の態様において、上記Ｘ^Ｂは、４価の基であり、好ましくは

である。一の態様において、上記－Ｃ（－Ｏ－）＝は、ＯがＲ^Ｓｉに結合する。別の態様において、－Ｃ（－Ｏ－）＝は、ＯがＲ^Ａｃに結合する。

一の態様において、上記Ｘ^Ｂは、３価の基であり、好ましくは

［式中、Ｒ^８は、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基又はエチル基、より好ましくはメチル基）である。］であり得る。一の態様において、上記－ＣＲ^８（－Ｏ－）－は、ＯがＲ^Ｓｉに結合する。別の態様において、－ＣＲ^８（－Ｏ－）－は、ＯがＲ^Ａｃに結合する。

好ましい態様において、Ｘ^Ｂは、Ｎである。この場合、式中、ｍは１であり、ｎは１である。

上記式（１）及び（２）において、ｍは、それぞれ独立して、１～１０の整数であり、ｎは、それぞれ独立して、１～１０の整数である。

ｍは、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数、特に好ましくは１である。

ｎは、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数、特に好ましくは１である。

好ましい態様において、ｍは、１であり、ｎは、１である。

上記式（１）及び（２）において、Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｘ^Ｃ－ＳｉＲ^１ _ｎ’Ｒ^２ _３－ｎ’である。

上記Ｘ^Ｃは、炭素数１～１０の二価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^Ｃは、
Ｃ_１－６アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である。）、
－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、又は
－(ＣＨ_２)_ｚ１３－ＯＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｚ１４－（式中、ｚ１３は、０～６の整数であり、ｚ１４は、０～６の整数である）
である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。これらの基は、左側がＸ^Ｂに結合する。

上記Ｃ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。

好ましい態様において、Ｘ^Ｃは、Ｃ_１－６アルキレン基、好ましくはＣ_２－４アルキレン基である。

上記Ｒ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

Ｒ^１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

Ｒ^１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

上記Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^２において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記式中、ｎ’は、（ＳｉＲ^１ _ｎ’Ｒ^２ _３－ｎ’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２又は３であり、より好ましくは３である。

上記式（１）及び（２）において、Ｒ^Ａｃは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｘ^Ｄ－Ｘ^Ｅ（－Ｘ^Ｆ－ＯＣＯ－ＣＲ^５＝ＣＨ_２）_ｍ’である。

上記Ｘ^Ｄは、単結合、又は二価の有機基である。

Ｘ^Ｄは、好ましくは、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＯＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯＯ－、－ＮＨ－ＣＯ－ＮＨ－、－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２－、又は－ＣＨ（ＣＨ_２ＯＨ）ＣＨ_２－であり、より好ましくは－ＣＯＮＨ－、－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_２ＯＨ）ＣＨ_２－、

［式中、＊及び＊＊は、結合位置を示し、＊はＸ^Ｂに結合し、＊＊はＸ^Ｅに結合する。］
である。これらの基は、左側がＸ^Ｂに結合する。

Ｘ^Ｄは、より好ましくは－ＣＯＮＨ－である。

上記Ｘ^Ｅは、単結合、又は（ｍ’＋１）価の基である。

一の態様において、Ｘ^Ｅは、単結合である。

一の態様において、Ｘ^Ｅは、
－Ｘ^Ｇ－Ｘ^Ｈ
［式中：
Ｘ^Ｇは、
単結合、
Ｃ_１－６アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｚ９－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ１０－（式中、ｚ９は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ１０は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、又は、
－（ＣＨ_２）_ｚ１１－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ１２－（式中、ｚ１１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ１２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）
であり、
Ｘ^Ｈは、下記

であり、
Ｒ^８は、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基である。］
で表される三又は四価の基である。

上記Ｃ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。

好ましい態様において、上記Ｃ_１－６アルキレン基は、Ｃ_２－４アルキレン基である。

上記Ｃ_１－６アルキル基は、好ましくはＣ_１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。

上記Ｘ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、又は二価の有機基（好ましくは、炭素数１～１０の二価の有機基）である。

一の態様において、Ｘ^Ｆは、
単結合、
Ｃ_１－６アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｚ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６－（式中、ｚ５は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６は、０～６の整数、例えば１～６の整数である。）、又は、
－（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－（式中、ｚ７は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）
である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。これらの基は、左側がＸ^Ｂに結合する。

上記Ｃ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。

好ましい態様において、Ｘ^Ｆは、Ｃ_１－６アルキレン基、好ましくはＣ_２－４アルキレン基である。

一の態様において、Ｘ^Ｄ、Ｘ^Ｅ、及びＸ^Ｆは、単結合である。

上記Ｒ^５は、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１～８の一価の有機基である。

上記一価の有機基は、好ましくはＣ_１－８アルキル基、Ｃ_３－８シクロアルキル基、又はＣ_５－８アリール基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基又はフェニル基であり、さらに好ましくはＣ_１－３アルキル基であり、特に好ましくはメチル基である。

一の態様において、Ｒ^５は、水素原子である。

一の態様において、Ｒ^５は、メチル基である。

上記ｍ’は、１～１０の整数、好ましくは１～３の整数、より好ましくは１である。

上記式（１）又は式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０^２～１×１０^５の数平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、２，０００～３２，０００、より好ましくは２，５００～１２，０００の数平均分子量を有することが、摩耗耐久性の観点から好ましい。なお、かかる「数平均分子量」は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

一の態様において、本開示のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物は、式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物である。

一の態様において、本開示のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物は、式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物である。

上記式（１）及び（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物は、まず、－ＮＨ－、－Ｃ（ＯＨ）－等の反応性部位を有するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を調製し、次いで、上記反応性部位に、アクリル基を有する化合物を反応させることにより得ることができる。

一の態様において、上記式（１）及び（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物は、下記式：
Ｒ^Ｆ１－ＣＯＯＲ^２１
Ｒ^２１ＯＯＣ－Ｒ^Ｆ２－ＣＯＯＲ^２１
（式中、Ｒ^２１は水素原子又はメチル基であり、Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２は、式（１）及び（２）に関する記載と同意義である。）
で表される化合物と、下記式：
Ｒ^２４－Ｒ^２３－ＮＨ－Ｒ^２２－ＳｉＲ^１ _ｎ’Ｒ^２ _３－ｎ’
（式中、Ｒ^２２は、二価の基であり、
Ｒ^２３は、二価の基であり、
Ｒ^２４は、ＮＨ_２等の反応性基であり、
Ｒ^１、Ｒ^２、及びｎ’は、式（１）及び（２）に関する記載と同意義である。）
で表される化合物とを反応させ、下記式：
Ｒ^Ｆ１－Ｒ^２５－Ｒ^２３－ＮＨ－Ｒ^２２－ＳｉＲ^１ _ｎ’Ｒ^２ _３－ｎ’
Ｒ^２ _３－ｎ’Ｒ^１ _ｎ’Ｓｉ－Ｒ^２２－ＨＮ－Ｒ^２３－Ｒ^２５－Ｒ^Ｆ２－Ｒ^２５－Ｒ^２３－ＮＨ－Ｒ^２２－ＳｉＲ^１ _ｎ’Ｒ^２ _３－ｎ’
で表される化合物を得る。次いで、上記化合物と、下記式：
Ｒ^３４－Ｒ^３５－ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２
（式中、Ｒ^３４は、－ＮＣＯ、－ＣＯＯＨ、－ＣＯＯＣｌ等の反応性基であり、
Ｒ^３５は、二価の基である。）又は
Ｒ^５６－ＯＣＯＣＲ^５７＝ＣＨ_２
（式中、Ｒ^５６はハロゲン、Ｈ、又は一価の炭化水素基であり、
Ｒ^５７は、水素原子又はＣ_１－３アルキルである。）
で表される化合物とを反応させることにより得ることができる。

一の態様において、上記式（１）及び（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物は、下記式：
Ｒ^Ｆ１－ＣＯＦ
ＦＯＣ－Ｒ^Ｆ２－ＣＯＦ
（式中、Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２は、式（１）及び（２）に関する記載と同意義である。）
で表される化合物と、
Ｂｒ－Ｍｇ－ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２
とを反応させて、
Ｒ^Ｆ１－Ｃ（ＯＨ）（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_２
（ＣＨ_２＝ＣＨＣＨ_２）_２（ＨＯ）Ｃ－Ｒ^Ｆ２－Ｃ（ＯＨ）（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_２
で表される化合物を得る。次いで、上記化合物と、下記式：
ＨＳｉＲ^１ _ｎ’Ｒ^２ _３－ｎ’
とを反応させて、
Ｒ^Ｆ１－Ｃ（ＯＨ）（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_２
（Ｒ^２ _３－ｎ’Ｒ^１ _ｎ’Ｓｉ－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２）_２（ＨＯ）Ｃ－Ｒ^Ｆ２－Ｃ（ＯＨ）（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－ＳｉＲ^１ _ｎ’Ｒ^２ _３－ｎ’）_２
で表される化合物を得る。次いで、上記化合物と、下記式：
Ｒ^３４－Ｒ^３５－ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２
（式中、Ｒ^３４は、－ＮＣＯ、－ＣＯＯＨ等の反応性基であり、
Ｒ^３５は、二価の基である。）
で表される化合物とを反応させることにより得ることができる。

一の態様において、上記式（Ａ１）及び（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物は、下記式：
ＨＯＣＨ_２－Ｒ^Ｆ２－ＣＨ_２ＯＨ
（式中、Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２は、式（Ａ１）及び（Ａ２）に関する記載と同意義である。）
で表される化合物と、

とを反応させて、

を得る。次いで、上記化合物と、
ＯＣＮ－（ＣＨ_２）_３－ＳｉＲ^１ _ｎ’Ｒ^２ _３－ｎ’
（式中、各記号は上記と同意義である。）
とを反応させて、

（式中、各記号は上記と同意義である。）
で表される化合物を得ることができる。

一の態様において、上記式（Ａ１）及び（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物は、下記式：

（式中、各記号は上記と同意義である。）
で表される化合物と、
ＨＯＯＣ＝ＣＨ_２
とを反応させて、

（式中、各記号は上記と同意義である。）
で表される化合物を得る。次いで、上記化合物と、
ＯＣＮ－（ＣＨ_２）_３－ＳｉＲ^１ _ｎ’Ｒ^２ _３－ｎ’
（式中、各記号は上記と同意義である。）
とを反応させて、

（式中、各記号は上記と同意義である。）
で表される化合物を得ることができる。

上記の反応の各工程の反応条件は、当業者は適宜設定することができる。

次に、本開示の表面処理剤について説明する。

本開示の表面処理剤は、式（１）又は（２）で表される少なくとも１種のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物を含有する。

一の態様において、本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物は、式（１）で表される化合物である。

別の態様において、本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物は、式（２）で表される化合物である。

別の態様において、本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物は、式（１）で表される化合物及び式（２）で表される化合物である。

本開示の表面処理剤中、式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対して、式（２）で表される化合物が、好ましくは０．１モル％以上３５モル％以下である。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物の含有量の下限は、好ましくは０．１モル％、より好ましくは０．２モル％、さらに好ましくは０．５モル％、さらにより好ましくは１モル％、特に好ましくは２モル％、特別には５モル％であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物の含有量の上限は、好ましくは３５モル％、より好ましくは３０モル％、さらに好ましくは２０モル％、さらにより好ましくは１５モル％又は１０モル％であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物は、好ましくは０．１モル％以上３０モル％以下、より好ましくは０．１モル％以上２０モル％以下、さらに好ましくは０．２モル％以上１０モル％以下、さらにより好ましくは０．５モル％以上１０モル％以下、特に好ましくは１モル％以上１０モル％以下、例えば２モル％以上１０モル％以下又は５モル％以上１０モル％以下である。

上記の式（１）又は（２）で表される化合物の含有量は、表面処理剤全体に対して、好ましくは０．１～５０．０質量％、より好ましくは１．０～３０．０質量％、さらに好ましくは５．０～２５．０質量％、特に好ましくは１０．０～２０．０質量％であり得る。上記フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物の含有量を上記の範囲にすることにより、より高い撥水撥油性及び摩擦耐久性を得ることができる。

本開示の表面処理剤は、溶媒、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、まとめて「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、アルコール類、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤等を含み得る。

上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン、１，２－ジクロロ－１，１，２，２－テトラフルオロエタン、ジメチルスルホキシド、１，１－ジクロロ－１，２，２，３，３－ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、ゼオローラＨ、ＨＦＥ７１００、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＨ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、（ＣＦ_３）_２ＣＨＯＨ等のフッ素含有溶媒等が挙げられる。あるいはこれらの２種以上の混合溶媒等が挙げられる。

含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ^５－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’－（ＯＣＦ_２）_ｄ’－Ｒｆ^６ ・・・（３）
式中、Ｒｆ^５は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^６は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｒｆ^５及びＲｆ^６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１～３００、より好ましくは２０～３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’又はｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよく、環構造を含んでいてもよい。例えば、－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよく、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－である。

上記環構造は、下記三員環、又は四員環：

［式中、＊は、結合位置を示す。］
であり得る

例えば、（ＯＣ_４Ｆ_８）は、

［式中、＊は、結合位置を示す。］
であり得る。

上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）及び（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種又は２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ^５－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”－Ｒｆ^６ ・・・（３ａ）
Ｒｆ^５－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ”－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ”－（ＯＣＦ_２）_ｄ”－Ｒｆ^６ ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒｆ^５及びＲｆ^６は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ”及びｂ”は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ”及びｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ^３－Ｆ（式中、Ｒｆ^３はＣ_５－１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。

上記含フッ素オイルは、５００～１００００の平均分子量を有していてよい。含フッ素オイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。

含フッ素オイルは、本開示の表面処理剤に対して、例えば０～５０質量％、好ましくは０～３０質量％、より好ましくは０～５質量％含まれ得る。一の態様において、本開示の表面処理剤は、含フッ素オイルを実質的に含まない。含フッ素オイルを実質的に含まないとは、含フッ素オイルを全く含まない、又は極微量の含フッ素オイルを含んでいてもよいことを意味する。

一の態様において、フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、特に真空蒸着法により表面処理層を形成する場合において、より優れた摩耗耐久性と表面滑り性を得ることができる。

一の態様において、フルオロポリエーテル基含有アクリル化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を小さくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、かかる化合物から得られる表面処理層の透明性の低下を抑制しつつ、高い摩耗耐久性及び高い表面滑り性を有する硬化物を形成できる。

含フッ素オイルは、本開示の表面処理剤によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状又は環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイル及び変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

本開示の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～３００質量部、好ましくは５０～２００質量部で含まれ得る。

シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記アルコール類としては、例えば１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～６のアルコール、例えば、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＨ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、（ＣＦ_３）_２ＣＨＯＨが挙げられる。これらのアルコール類を表面処理剤に添加することにより、表面処理剤の安定性を向上させ、また、パーフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物と溶媒の相溶性を改善させる。

上記アルコールは、好ましくは２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－１－プロパノール又は２，２，２－トリフルオロエタノールである。

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

触媒は、本開示のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物の加水分解、脱水縮合、又は重合を促進し、本開示の表面処理剤により形成される層の形成を促進する。

他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

本開示の表面処理剤は、上記した成分に加え、不純物として、例えばＰｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、１，３－ジビニルテトラメチルジシロキサン、トリフェニルホスフィン、ＮａＣｌ、ＫＣｌ、シランの縮合物などを微量含み得る。

以下、本開示の物品について説明する。

本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。

本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然又は合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、衛生用品、任意の適切な材料で構成され得る。

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラス又は透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（又は膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層及び多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｔａ_３Ｏ_５，Ｎｂ_２Ｏ_５、ＨｆＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、又はこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２及び／又はＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、及び液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

上記基材の形状は、特に限定されず、例えば、板状、フィルム、その他の形態であってよい。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途及び具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

一の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜又は熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入又は増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素－炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

別の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ－Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

好ましい態様において、上記基材はガラスである。かかるガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、及び化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。

本開示の物品は、上記基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成することにより製造することができる。

本開示の表面処理剤の層形成は、上記表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法及び乾燥被覆法を使用できる。

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング及び類似の方法が挙げられる。

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビーム及び類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の組成物の安定性及び溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５～１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン及びパーフルオロ－１，３－ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基及びアルキル基は直鎖又は分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））など。これらの溶媒は、単独で、又は、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）及び／又はパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）が特に好ましい。

乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、又は、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解及び脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

触媒には、任意の適切な酸又は塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

本開示の物品に含まれる表面処理層は、高い摩耗耐久性の双方を有する。また、上記表面処理層は、高い摩耗耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（又は潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）、耐薬品性などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

従って、本開示はさらに、上記表面処理層を最外層に有する光学材料にも関する。

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

本開示の物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。

また、本開示の物品は、医療機器又は医療材料であってもよい。また、本開示によって得られる層を有する物品は、自動車内外装部材であってもよい。外装材の例には、次のものが挙げられる：ウィンドウ、ライトカバー、社外カメラカバー。内装材の例には、次のものが挙げられる：インパネカバー、ナビゲーションシステムタッチパネル、加飾内装材。

上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１～５０ｎｍ、１～３０ｎｍ、好ましくは１～１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、摩耗耐久性及び防汚性の点から好ましい。

以上、本開示の物品について詳述した。なお、本開示の物品及び物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

以下、本開示の化合物について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、フルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位の存在順序は任意であり、以下に示される化学式は平均組成を示す。

合成例１
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬの３つ口フラスコに、平均組成ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２２（ＣＦ_２Ｏ）_２６ＣＦ_２ＣＯＦで表されるパーフルオロポリエーテル変性酸フロライド体１０．０ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０．０ｇ、及びテトラヒドロフラン５．０ｇを、窒素気流下、２５℃で３０分間攪拌した。続いて、０．７Ｍのアリルマグネシウムブロミド９．６ｍＬをゆっくりと滴下した後、６０℃で４時間加熱した。その後、５℃まで冷却し、３．０Ｍ塩酸水溶液１０．０ｇを滴下して反応を停止させた。分液操作により、下層のフルオラス相を回収後、メタノールで洗浄した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、下式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物（Ａ）を得た。

ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２２（ＣＦ_２Ｏ）_２６ＣＦ_２Ｃ（ＯＨ）（ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）_２

合成例２
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬの３つ口フラスコに、合成例１で得られたパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物（Ａ）１０．０ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０．０ｇ、トリアセトキシメチルシラン０．０２０ｇ、及びトリクロロシラン１．２１ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間攪拌した。続いて、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液０．２０ｇを加えた後、６０℃で５時間攪拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、下式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｂ）を得た。

ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２２（ＣＦ_２Ｏ）_２６ＣＦ_２Ｃ（ＯＨ）（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＣｌ_３）_２

合成例３
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬの３つ口フラスコに、合成例２で得られたパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｂ）１０．０ｇ、及び１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０．０ｇを仕込み、窒素気流下、５０℃で３０分間攪拌した。続いて、メタノール０．１３ｇ、及びオルソギ酸メチル１．４２ｇの混合溶液を加えた後、６５℃で２時間攪拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、下式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｃ）を得た。

ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２２（ＣＦ_２Ｏ）_２６ＣＦ_２Ｃ（ＯＨ）｛ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３｝_２

合成例４
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬの３つ口フラスコに、合成例３で得られたパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｃ）１０．０ｇ、２－イソシアナトエチルアクリレート（昭和電工株式会社製カレンズ（登録商標）ＡＯＩ）０．３２ｇ、及びジブチルスズジラウレート０．００１４ｇを仕込み、窒素気流下、５０℃で２時間攪拌し、下式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）を得た。

ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２２（ＣＦ_２Ｏ）_２６ＣＦ_２Ｃ（ＯＸ）｛ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３｝_２
Ｘ＝－ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２

合成例５
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬの３つ口フラスコに、平均組成ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２４ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＯＣＨ_３で表されるパーフルオロポリエーテル変性エステル体１０．０ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン５．０ｇ、及び３－（２－アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン０．５１ｇを仕込み、窒素気流下、２５℃で１時間攪拌した。その後減圧下で揮発分を留去することにより、下式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｅ）を得た。

ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２４ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３

合成例６
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬの３つ口フラスコに、合成例５で得られたパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｅ）１０．０ｇ、２－イソシアナトエチルアクリレート（昭和電工株式会社製カレンズ（登録商標）ＡＯＩ）０．３２ｇを仕込み、窒素気流下、２５℃で１時間攪拌し、下式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｆ）を得た。

ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２４ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（Ｘ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
Ｘ＝－ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２

合成例７
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬの３つ口フラスコに、平均組成ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２２（ＣＦ_２Ｏ）_２６ＣＦ_２ＣＯＯＣＨ_３で表されるパーフルオロポリエーテル変性エステル体１０．０ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン５．０ｇ、及び３－（２－アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン０．５０ｇを仕込み、窒素気流下、２５℃で１時間攪拌した。その後減圧下で揮発分を留去することにより、下式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｇ）を得た。

ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２２（ＣＦ_２Ｏ）_２６ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３

合成例８
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬの３つ口フラスコに、合成例７で得られたパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｇ）１０．０ｇ、及び２－イソシアナトエチルアクリレート（昭和電工株式会社製カレンズ（登録商標）ＡＯＩ）０．３１ｇを仕込み、窒素気流下、２５℃で１時間攪拌し、下式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｈ）を得た。

ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２２（ＣＦ_２Ｏ）_２６ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（Ｘ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
Ｘ＝－ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２

合成例９
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬの３つ口フラスコに、平均組成ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ｛ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ｝_１１ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＯＣＨ_３で表されるパーフルオロポリエーテル変性エステル体１０．０ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン５．０ｇ、及び３－（２－アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン１．０２ｇを仕込み、窒素気流下、７０℃で１０時間攪拌した。その後減圧下で揮発分を留去することにより、下式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｉ）を得た。

ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ｛ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ｝_１１ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３

合成例１０
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬの３つ口フラスコに、合成例９で得られたパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｉ）１０．０ｇ、及び２－イソシアナトエチルアクリレート（昭和電工株式会社製カレンズ（登録商標）ＡＯＩ）０．６５ｇを仕込み、窒素気流下、２５℃で１時間攪拌し、下式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｊ）を得た。

ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ｛ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ｝_１１ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（Ｘ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
Ｘ＝－ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２

合成例１１
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬの３つ口フラスコに、平均組成ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_１３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＯＣＨ_３で表されるパーフルオロポリエーテル変性エステル体１０．０ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン５．０ｇ、及び３－（２－アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン０．４７ｇを仕込み、窒素気流下、２５℃で１時間攪拌した。その後減圧下で揮発分を留去することにより、下式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｋ）を得た。

ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_１３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３

合成例１２
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬの３つ口フラスコに、合成例１１で得られたパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｋ）１０．０ｇ、及び２－イソシアナトエチルアクリレート（昭和電工株式会社製カレンズ（登録商標）ＡＯＩ）０．３０ｇを仕込み、窒素気流下、２５℃で１時間攪拌し、下式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｌ）を得た。

ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_１３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（Ｘ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
Ｘ＝－ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２

合成例１３
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬの３つ口フラスコに、合成例７で得られたパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｇ）１０．０ｇ、及び１，１－（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート（昭和電工株式会社製カレンズ（登録商標）ＢＥＩ）０．５３ｇを仕込み、窒素気流下、２５℃で１時間攪拌し、下式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｍ）を得た。

ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２２（ＣＦ_２Ｏ）_２６ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（Ｘ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
Ｘ＝－ＣＯＮＨＣ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２）_２

合成例１４
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬの３つ口フラスコに、合成例７で得られたパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｇ）１０．０ｇ、及び４－ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル（三菱ケミカル株式会社製４ＨＢＡＧＥ）０．４５ｇを仕込み、窒素気流下、５０℃で２時間攪拌し、下式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｎ）を得た。

ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２２（ＣＦ_２Ｏ）_２６ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（Ｘ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
Ｘは下記Ｘ^１又はＸ^２（Ｘ^１：Ｘ^２＝７３：２７）
Ｘ^１＝－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２
Ｘ^２＝－ＣＨ（ＣＨ_２ＯＨ）ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２

合成例１５
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬの３つ口フラスコに、平均組成ＣＨ_３ＯＣＯＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２Ｏ）_１２（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_１２ＣＦ_２ＣＯＯＣＨ_３で表されるパーフルオロポリエーテル変性エステル体１０．０ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン５．０ｇ、及び３－（２－アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン１．６９ｇを仕込み、窒素気流下、２５℃で１時間攪拌した。その後減圧下で揮発分を留去することにより、下式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｏ）を得た。

（ＣＨ_３Ｏ）_３ＳｉＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＯＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_１２（ＣＦ_２Ｏ）_１２ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３

合成例１６
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬの３つ口フラスコに、合成例１５で得られたパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｏ）１０．０ｇ、及び２－イソシアナトエチルアクリレート（昭和電工株式会社製カレンズ（登録商標）ＡＯＩ）１．０８ｇを仕込み、窒素気流下、２５℃で１時間攪拌し、下式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｐ）を得た。

（ＣＨ_３Ｏ）_３ＳｉＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（Ｘ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＯＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_１２（ＣＦ_２Ｏ）_１２ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（Ｘ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
Ｘ＝－ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２

合成例１７
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬの３つ口フラスコに、平均組成ＣＨ_３ＯＣＯＣＦ（ＣＦ_３）｛ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）｝_ｍＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ｛ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ｝_ｎＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＯＣＨ_３（ｍ＋ｎ≒３４）で表されるパーフルオロポリエーテル変性エステル体１０．０ｇ、ヘキサフルオロベンゼン５．０ｇ、及び３－（２－アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン０．７３ｇを仕込み、窒素気流下、７０℃で１２時間攪拌した。その後減圧下で揮発分を留去することにより、下式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｑ）を得た。

（ＣＨ_３Ｏ）_３ＳｉＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＯＣＦ（ＣＦ_３）｛ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）｝_ｍＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ｛ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ｝_ｎＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３

合成例１８
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬの３つ口フラスコに、合成例１７で得られたパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｑ）１０．０ｇ、及び２－イソシアナトエチルアクリレート（昭和電工株式会社製カレンズ（登録商標）ＡＯＩ）０．４６ｇを仕込み、窒素気流下、２５℃で１時間攪拌し、下式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｒ）を得た。

（ＣＨ_３Ｏ）_３ＳｉＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（Ｘ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＯＣＦ（ＣＦ_３）｛ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）｝_ｍＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ｛ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ｝_ｎＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（Ｘ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
Ｘ＝－ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２

合成例１９
還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた１００ｍＬの３つ口フラスコに、合成例１５で得られたパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｏ）１０．０ｇ、及び２－（２－メタクリロイルオキシエチルオキシ）エチルイソシアナート（昭和電工株式会社製カレンズ（登録商標）ＭＯＩ－ＥＧ）１．５２ｇを仕込み、窒素気流下、２５℃で１時間攪拌し、下式で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｓ）を得た。

（ＣＨ_３Ｏ）_２（ＣＨ_３）ＳｉＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（Ｘ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＯＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_１２（ＣＦ_２Ｏ）_１２ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（Ｘ）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）（ＯＣＨ_３）_２
Ｘ＝－ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２

実施例１
上記合成例４で得た化合物（Ｄ）を、濃度２０質量％になるように、ノベック７２００（スリーエム社製）に溶解させて、表面処理剤１を調製した。

上記で調製した表面処理剤１を、化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着法の条件は、抵抗加熱式蒸着機チャンバーサイズ１，９００ｍｍφ、真空度５．０Ｅ－０５、電流値２４０Ａ、電圧１０Ｖ、基材温度４０℃であった。次に、蒸着した化学強化ガラスを、温度１５０℃の雰囲気下で３０分静置し、その後室温まで放冷させた。続いて、蒸着した化学強化ガラスに、空気雰囲気下３６５ｎｍのＵＶ光を含む光線を１０００ｍＪ／ｃｍ^２の強度で照射し、ガラス基材上に表面処理層を形成させた。

実施例２
化合物（Ｄ）に代えて、上記合成例６で得た化合物（Ｆ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

実施例３
化合物（Ｄ）に代えて、上記合成例８で得た化合物（Ｈ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

実施例４
化合物（Ｄ）に代えて、上記合成例１０で得た化合物（Ｊ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

実施例５
化合物（Ｄ）に代えて、上記合成例１２で得た化合物（Ｌ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

実施例６
化合物（Ｄ）に代えて、上記合成例１３で得た化合物（Ｍ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

実施例７
化合物（Ｄ）に代えて、上記合成例１４で得た化合物（Ｎ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

実施例８
化合物（Ｄ）に代えて、上記合成例１６で得た化合物（Ｐ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

実施例９
化合物（Ｄ）に代えて、上記合成例１８で得た化合物（Ｒ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

実施例１０
化合物（Ｄ）に代えて、上記合成例１９で得た化合物（Ｓ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

比較例１
下記化合物（Ｔ）を、濃度２０質量％になるように、ノベック７２００（スリーエム社製）に溶解させて、表面処理剤２を調製した。
ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２２（ＣＦ_２Ｏ）_２６ＣＦ_２ＣＯＮ｛ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３｝_２

上記で調製した表面処理剤２を、それぞれ化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着法の条件は、抵抗加熱式蒸着機チャンバーサイズ１，９００ｍｍφ、真空度５．０Ｅ－０５、電流値２４０Ａ、電圧１０Ｖ、基材温度４０℃であった。次に、蒸着した化学強化ガラスを、温度１５０℃の雰囲気下で３０分静置し、その後室温まで放冷させ、ガラス基材上に表面処理層を形成した。

比較例２
化合物（Ｔ）に代えて、下記化合物（Ｕ）を用いたこと以外は、比較例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２２（ＣＦ_２Ｏ）_２６ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３

比較例３
化合物（Ｔ）に代えて、下記化合物（Ｖ）を用いたこと以外は、比較例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ｛ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ｝_１１ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３

比較例４
化合物（Ｔ）に代えて、下記化合物（Ｗ）を用いたこと以外は、比較例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２５ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３

比較例５
化合物（Ｔ）に代えて、下記化合物（Ｘ）を用いたこと以外は、比較例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

（ＣＨ_３Ｏ）_３ＳｉＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＯＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_１２（ＣＦ_２Ｏ）_１２ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３

比較例６
化合物（Ｔ）に代えて、下記化合物（Ｙ）を用いたこと以外は、比較例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

（ＣＨ_３Ｏ）_３ＳｉＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＯＣＦ（ＣＦ_３）｛ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）｝_ｍＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ｛ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ｝_ｎＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３

＜評価＞
上記で得られた表面処理層付きガラス基体について、それぞれ、次のように水接触角の測定、アルカリ試験の評価を行った。

（アルカリ浸漬試験）
直径１ｃｍのＰＴＦＥ製Ｏリングを、上記実施例１～１０、及び比較例１～６で表面処理した基材の表面に設置し、８ＮのＮａＯＨ溶液（アルカリ水溶液）を上記Ｏリング内に滴下し、表面処理層の表面をアルカリ水溶液と接触させ、アルカリ浸漬試験に付した。アルカリ浸漬試験の２０～３００分経過後にアルカリ水溶液をふき取り、純水、エタノールで洗浄したのちに、水に対する接触角を測定した。尚、水の静的接触角は、上記のアルカリ浸漬試験後のガラス基体の表面に対して、２μＬの純水の水滴を着滴させ、接触角計（協和界面化学社製：自動接触角計 ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７０１）を用いて、水に対する接触角を測定した。アルカリ浸漬試験後の水の静的接触角の測定箇所は５箇所で行った。３００分以内に水の静的接触角の測定値が低下した場合は、途中でアルカリ浸漬試験を停止した。浸漬時間と、５箇所の接触角平均値の関係を下記表に示す。

（摩耗耐久性試験）
表面処理層が形成されたサンプル物品を水平配置し、下記の摩擦子を表面処理層の表面に接触（接触面は直径１ｃｍの円）させ、その上に５Ｎの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態で摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で往復させた。摩擦子を最大４０００回往復させ、往復回数（摩擦回数）１０００回毎に水の静的接触角（°）を測定した。水の静的接触角の測定値が６０°未満となった時点で試験を中止した。尚、水の静的接触角の測定は、上記のアルカリ試験と同様に実施した。結果を下記表に示す。

・摩擦子
下記に示すシリコーンゴム加工品の表面（直径１ｃｍ）を、下記に示す組成の人工汗に浸漬したコットンで覆ったものを摩擦子として用いた。
人工汗の組成：
無水リン酸水素二ナトリウム：２ｇ
塩化ナトリウム：２０ｇ
８５％乳酸：２ｇ
ヒスチジン塩酸塩：５ｇ
蒸留水：１Ｋｇ
シリコーンゴム加工品：
タイガースポリマー製、シリコーンゴム栓ＳＲ－５１を、直径１ｃｍ、厚さ１ｃｍの円柱状に加工したもの。

本開示のフルオロポリエーテル基含有アクリル化合物は、種々多様な基材、特に摩擦耐久性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

Claims (25)

1. 下記式（１）又は（２）：
   

   

   ［式中：
   Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
   Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
   Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり、
   Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり、
   Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、二価のフルオロポリエーテル基であり、
   ｐは、０又は１であり、
   ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり、
   Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合、又は二価の有機基であり、
   Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、Ｓｉ原子を含有しない炭素数１～１０の（ｍ＋ｎ＋１）価の基であり、
   Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｘ^Ｃ－ＳｉＲ^１ _ｎ’Ｒ^２ _３－ｎ’であり、
   Ｘ^Ｃは、炭素数１～１０の二価の有機基であり、
   Ｒ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
   Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
   ｎ’は、１～３の整数であり、
   Ｒ^Ａｃは、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｘ^Ｄ－Ｘ^Ｅ（－Ｘ^Ｆ－ＯＣＯ－ＣＲ^５＝ＣＨ_２）_ｍ’であり、
   Ｘ^Ｄは、単結合、又は二価の有機基であり、
   Ｘ^Ｅは、単結合、又は（ｍ’＋１）価の基であり、
   Ｘ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、又は二価の有機基であり、
   Ｒ^５は、水素原子、ハロゲン原子、又は炭素数１～８の一価の有機基であり、
   ｍ’は、１～１０の整数であり、
   ｎは、それぞれ独立して、１～１０の整数であり、
   ｍは、それぞれ独立して、１～１０の整数である。］
   で表される化合物。
2. Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
   －（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
   ［式中、Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
   ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
   で表される基である、請求項１に記載の化合物。
3. Ｒ^Ｆａは、フッ素原子である、請求項１に記載の化合物。
4. Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）、（ｆ５）又は（ｆ６）：
   －（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－ （ｆ１）
   ［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは、０又は１である。］、
   －（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ２）
   ［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
   ｅ及びｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
   ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、１０～２００の整数であり；
   添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
   －（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－Ｒ^９－ （ｆ３）
   ［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり；
   Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
   Ｒ^９は、単結合、又は、ＯＣＦ_２、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であり；
   ｇは、２～１００の整数である。］、
   －（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－Ｒ^ｒ－（Ｒ^７’－Ｒ^６’）_ｇ’－ （ｆ４）
   ［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
   Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
   Ｒ^６’は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
   Ｒ^７’は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
   ｇは、２～１００の整数であり、
   ｇ’は、２～１００の整数であり、
   Ｒ^ｒは、
   

   

   （式中、＊は、結合位置を示す。）
   である。］；
   －（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ５）
   ［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
   －（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ６）
   ［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
   で表される基である、請求項１に記載の化合物。
5. Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基であり、
   Ｒｆ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基である、
   請求項１に記載の化合物。
6. Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合、又はウレタン結合を含まない二価の有機基である、請求項１に記載の化合物。
7. Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合、又は
   －（Ｃ_αＲ^１１ _２α）_ｓ１－Ｒ^１２ _ｔ１－
   ［式中：
   Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又はフッ素原子であり、
   αは、各出現においてそれぞれ独立して、１～１０の整数であり、
   Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＮＲ^１０－、－ＣＯＮＲ^１０－、－ＮＲ^１０ＣＯ－、－ＣＯＯ－、又は－ＯＣＯ－であり、
   Ｒ^１０は、水素原子又はＣ_１－６アルキル基であり、
   ｓ１は、０～３の整数であり、
   ｔ１は、０～３の整数であり、
   ｓ１とｔ１の合計は、１以上であり、
   ｓ１又はｔ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
   で表される基である、請求項１に記載の化合物。
8. Ｘ^Ａは、－ＣＯＮＲ^１０－Ｃ_α１Ｈ_２α１－、－（Ｃ_α２Ｈ_２α２）－Ｏ－（Ｃ_α３Ｈ_２α３）－、又は－Ｃ_α４Ｈ_２α４－であり、
   Ｒ^１０は、水素原子又はＣ_１－６アルキル基であり、
   α１は、１～１０の整数であり、
   α２は、０～６の整数であり、
   α３は、０～６の整数であり、
   α４は、０～６の整数である、
   請求項７に記載の化合物。
9. Ｘ^Ａは、－ＣＯＮＲ^１０－Ｃ_α１Ｈ_２α１－である、請求項８に記載の化合物。
10. Ｘ^Ｂは、３価の基であり、ｎは１であり、ｍは１である、請求項１に記載の化合物。
11. Ｘ^Ｂは、
    

    

    ［式中、Ｒ^８は、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基である。］
    であり、ｎは１であり、ｍは１である、請求項１に記載の化合物。
12. Ｘ^Ｃは、
    Ｃ_１－６アルキレン基、
    －（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数である）、
    －（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数である）、又は
    －(ＣＨ_２)_ｚ１３－ＯＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｚ１４－（式中、ｚ１３は、０～６の整数であり、ｚ１４は、０～６の整数である）
    である、請求項１に記載の化合物。
13. Ｘ^Ｃは、Ｃ_１－６アルキレン基である、請求項１に記載の化合物。
14. ｎ’は、２又は３である、請求項１に記載の化合物。
15. ｎ’は３である、請求項１に記載の化合物。
16. Ｘ^Ｅは、単結合である、請求項１に記載の化合物。
17. Ｘ^Ｅは、－Ｘ^Ｇ－Ｘ^Ｈであり、
    Ｘ^Ｇは、
    単結合、
    Ｃ_１－６アルキレン基、
    －（ＣＨ_２）_ｚ９－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ１０－（式中、ｚ９は、０～６の整数であり、ｚ１０は、０～６の整数である）、又は、
    －（ＣＨ_２）_ｚ１１－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ１２－（式中、ｚ１１は、０～６の整数であり、ｚ１２は、０～６の整数である）
    であり、
    Ｘ^Ｈは、下記
    

    

    であり、
    Ｒ^８は、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基である、
    請求項１に記載の化合物。
18. Ｘ^Ｄは、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＯＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯＯ－、－ＮＨ－ＣＯ－ＮＨ－、－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_２ＯＨ）ＣＨ_２－、
    

    

    ［式中、＊及び＊＊は、結合位置を示し、＊はＸ^Ｂに結合し、＊＊はＸ^Ｅに結合する。］
    である、請求項１に記載の化合物。
19. Ｘ^Ｆは、
    単結合、
    Ｃ_１－６アルキレン基、
    －（ＣＨ_２）_ｚ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６－（式中、ｚ５は、０～６の整数であり、ｚ６は、０～６の整数である）、又は、
    －（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－（式中、ｚ７は、０～６の整数であり、ｚ８は、０～６の整数である）
    である、請求項１に記載の化合物。
20. Ｒ^５は、水素原子、又はメチル基である、請求項１に記載の化合物。
21. 請求項１～２０のいずれか１項に記載の化合物を含有する、表面処理剤。
22. 含フッ素オイル、シリコーンオイル、及び触媒から選択される１種又はそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項２１に記載の表面処理剤。
23. 防汚性コーティング剤又は防水性コーティング剤として使用される、請求項２１に記載の表面処理剤。
24. 基材と、該基材の表面に、請求項１に記載の化合物より形成された層とを含む物品。
25. 基材と、該基材の表面に、請求項２１に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。