KR20120118208A - 접착성이 향상된 자외선 경화 불소계 공중합체와 이를 포함하는 코팅조성물 및 이를 포함하는 막 - Google Patents

접착성이 향상된 자외선 경화 불소계 공중합체와 이를 포함하는 코팅조성물 및 이를 포함하는 막 Download PDF

Info

Publication number
KR20120118208A
KR20120118208A KR1020110035645A KR20110035645A KR20120118208A KR 20120118208 A KR20120118208 A KR 20120118208A KR 1020110035645 A KR1020110035645 A KR 1020110035645A KR 20110035645 A KR20110035645 A KR 20110035645A KR 20120118208 A KR20120118208 A KR 20120118208A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
thin film
benzophenone
transparent
copolymer
formula
Prior art date
Application number
KR1020110035645A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101335524B1 (ko
Inventor
이수복
박인준
하종욱
김수한
이광원
이명숙
이종철
Original Assignee
한국화학연구원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국화학연구원 filed Critical 한국화학연구원
Priority to KR1020110035645A priority Critical patent/KR101335524B1/ko
Publication of KR20120118208A publication Critical patent/KR20120118208A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101335524B1 publication Critical patent/KR101335524B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F214/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen
    • C08F214/18—Monomers containing fluorine
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/22—Esters containing halogen
    • C08F220/24—Esters containing halogen containing perhaloalkyl radicals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D127/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D127/02—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C09D127/12—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J127/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J127/02—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Adhesives based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C09J127/12—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Adhesives based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

본 발명은 접착성이 향상된 자외선 경화 불소계 공중합체와 이를 포함하는 코팅조성물 및 이를 포함하는 막에 관한 것으로, 상세하게는 화학식 1로 표시되는 과불소 폴리에테르 변성 화합물 중 1종과 화학식 2로 표시되는 벤조페논계 아크릴레이트 단량체 1종 이상을 공중합한 공중합체를 제공한다. 본 발명에 따른 접착성이 향상된 자외선 경화 불소계 공중합체는 자외선 경화형 투명 코팅제로 사용 가능하고, 투명성, 저굴절율 및 방오성이 요구되는 각종 부품의 표면 가공 시 유용하게 사용될 수 있으며, 섬유 산업, 도료 산업, 접착제 산업, 정밀 화학 산업, 생물, 생화학 산업, 전기 전자 산업, 자동차 산업 및 금속 산업 등에서 다양한 용도로 활용 가능하다.

Description

접착성이 향상된 자외선 경화 불소계 공중합체와 이를 포함하는 코팅조성물 및 이를 포함하는 막{UV curable fluorinated copolymer with improved adhesion property and a composition containing same, and their films containing same}
본 발명은 접착성이 향상된 자외선 경화 불소계 공중합체와 이를 포함하는 코팅조성물 및 이를 포함하는 막에 관한 것이다.
불소계 기능성 코팅제는 저 굴절율, 고 투광성, 극히 낮은 마찰계수, 우수한 내식성 등 타 소재가 발휘할 수 없는 매우 우수한 특성을 다양하게 보유하기 때문에 반도체, 광통신, 컴퓨터 분야 등 첨단산업 분야뿐만 아니라, 가전기기, 광기억 매체 등 일상생활에 필요한 다양한 응용분야에서 차세대 핵심 소재 기술의 하나로 주목받고 있다. 최근에는 전 세계적으로 연간 수십 억대 규모인 디스플레이 산업에서 적용 및 응용이 확대되고 있고, 디스플레이를 구성하는 프레임(frame)과 전면의 화면에 대한 적용되고 있다. 특히 디스플레이 프레임에 불소계 기능성 코팅제를 적용하여 디스플레이 프레임의 사출 가공시 표면이 매우 미려한 제품들을 국내 가전업체에서 출시하여 전 세계적으로 큰 호평을 받고 있다. 반면, 광택이 우수하고 지나치게 깨끗한 표면은 지문 등의 외부 오염에 의해 훼손되면, 오히려 시각적 거부감을 주는 문제가 있다. 따라서 프레임(frame) 자체의 색상, 미려함 등은 훼손하지 않으며 시각적으로 광간섭을 일으키지 않는 수십 nm 두께인 불소계 투명 박막 코팅 소재의 개발과 적용기술이 시급히 요구되고 있다.
또한 디스플레이 전면에 불소계 기능성 코팅제를 활용하는 경우의 예로써 가장 대표적으로 반사방지 코팅을 들 수 있다. 구동방식이 다른 LED, LCD, PDP, OLED와 같은 모든 디스플레이는 최종적으로 인간의 눈에 의해 감지되며, 일차적으로 기기에서 발생하는 빛은 외부의 광원인 태양 혹은 실내등과 같은 외부광원에 의해 디스플레이 표면에서 반사 혹은 간섭을 일으켜 최종적으로는 복합된 광선이 인간의 눈에 감지되게 된다. 따라서 급속히 발전하는 디스플레이의 구동방식에 관계없이 디스플레이 표면의 외부광원에 대한 반사방지층 소재 및 적용기술은 디스플레이의 좀 더 나은 화질과 시야를 확보함으로써 디스플레이의 부가가치를 높이기 위해 반드시 필요하다.
디스플레이에 있어서 반사방지층은 통상적으로 디스플레이 디바이스(Device) 외곽에 위치하며, 폴리에스테르(PET), 트리아세테이트셀룰로스(TAC) 등과 같은 투명한 베이스 필름(base film), 액정을 보호하고 평판화하기 위한 10 ~ 20 μm 두께의 하드코팅층, 외부 광간섭을 상쇄시켜 선명한 화질을 제공하기 위한 각각 λ/4 두께 (약 100 nm)의 저 굴절율/고 굴절율 복합층 또는 저 굴절율 단일 반사방지층 및 최외곽에 광반사 및 간섭을 최소화하고 오염을 방지하기 위한 10~20 nm 두께의 오염방지층(방오층)으로 구성하는 것이 일반적이다. 이때, 굴절율이 1.40 이하인 저 굴절율 층과 최외곽 표면의 오염방지층의 경우 타 소재로 대체가 불가능하여 기능성 불소화합물을 사용하여 제조되고 있다. 또한 반사방지층의 성능을 좌우하는 주요인자로는 외부로부터 추가적인 오염박막을 형성하지 않고, 형성된 오염층도 쉽게 제거할 수 있는 특성이 중요하다. 즉, 투명한 광학 반사방지층에 있어서 표면의 오염방지 및 제거기능은 제품의 외관 및 성능을 좌우하는 중요한 인자로써, 이를 해결?개선하려는 산업적 요구가 매우 크다.
불소는 전자밀도가 높고 수소원자 다음으로 원자 반경이 작으며 또한 강한 전기 음성도를 갖고 있으므로 견고한 탄소-불소 결합을 형성한다. 이러한 불화탄소 화합물의 특성 때문에 과불소 알킬기를 포함하는 단량체는 임계표면장력이 6-8 dynes/cm 정도이고, 이와 같이 매우 낮은 표면에너지로 인하여 물과 기름에 매우 큰 접촉각을 나타낸다. 이에 따라 불소계 화합물은 비교적 고가임에도 불구하고 화학적 안정성, 내열성, 내후성 등이 탁월하여 고부가 가치의 수지 및 필름, 윤활제, 도료 등에 사용하고 있으며, 비 점착성, 낮은 표면에너지, 발수성, 낮은 굴절률 등의 특성이 필요한 오염방지제, 광학소재, 기능성 염료, 전자 소재 등으로 사용 영역이 확대되고 있다.
하지만 대표적인 저 굴절율 및 저에너지 표면을 형성하는 물질인 과불소알킬 화합물에서 유래되는 코팅제는 초기 오염방지성은 우수하나 오염제거성이 불량하고, 과불소알킬 화합물을 활용한 대표적인 아크릴레이트인 F(CF2)7CH2CH=CH2 단중합체 및 F(CF2)5CH2CH=CH2 단중합체의 경우 각각 1.3390와 1.3560 정도인 비교적 낮은 굴절율을 나타내지만, 측쇄에 의한 결정구조 때문에 빛에 대한 투광성이 좋지 않다. 또한 과불소화합물의 경우 자체의 표면에너지가 낮고, 표면이 비활성을 띠기 때문에 금속, 무기물 또는 플라스틱과 같이 기재를 이루는 물질과의 접착력이 좋지 않기 때문에 우수한 물성을 보유함에도 불구하고 표면 코팅제로써 그 사용이 제한적이었다.
이러한 표면오염 제거성 및 광학물성 면에서 과불소알킬 화합물의 단점을 극복할 수 있는 대체 가능성이 큰 화합물로써 과불소폴리에테르 화합물을 들 수 있다. 과불소폴리에테르 화합물은 과불소알킬 화합물의 저 표면에너지 표면 특성에 더해서 탁월한 유연성, 오염방지성 및 윤활성에서 유래되는 오염제거성을 보유한다. 또한 박막형성시 비결정성 특성을 가지며 투명성, 저 굴절율 특성 [poly(hexafluoro- propylene oxide), n D = 1.3010, T300 ~800 nm > 95 %] 등 매우 우수한 광학물성을 보유한다. 반면에 물리적 특성 면에서는 거의 전 분자량 영역에서 액상을 유지하기 때문에 고상박막을 형성하고 활용하기 어려운 문제가 있다.
이에 본 발명자들은 박막형성이 용이하고, 낮은 굴절율 및 내오염성을 나타내는 박막을 제조하는 방법을 연구하던 중, 과불소 폴리에테르계 아크릴레이트 단량체와 자외선 경화가 가능한 벤조페논계 단량체를 공중합하여 접착성이 향상된 자외선 경화 불소계 공중합체를 개발하고, 본 발명을 완성하였다.
본 발명의 목적은 접착성이 향상된 자외선 경화 불소계 공중합체와 이를 포함하는 코팅조성물 및 이를 포함하는 막을 제공하는 데 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 과불소 폴리에테르 변성 화합물 중 1종과 하기 화학식 2로 표시되는 벤조페논계 아크릴레이트 단량체 1종 이상을 공중합한 공중합체를 제공한다;
<화학식 1>
CF3CF2CF2-O-CF(CF3)-X-Y-X-CZ=CH2, CF3CF2CF2-O-CF(CF3)-Y-X-CZ=CH2
(상기 화학식 1에서 X는 에스테르, 우레탄, 에테르 또는 아미드 연결기를 나타내고, Y는 탄소수 0~5의 알킬기를 나타내며, Z는 수소, 염소, 불소 또는 탄소수 1~5의 알킬기를 나타낸다)
<화학식 2>
Figure pat00001
(상기 화학식 2에서 X는 할로겐, 수소 또는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타내고, Y는 에스테르 연결기, 아미드 연결기, 또는 우레탄 연결기를 나타내며, Z는 탄소수 1 ~ 10의 알킬기를 나타내고, A는 하기 구조식 1로 표시되는 UV 경화가 가능한 벤조페논계 단위체(unit) 중 1종을 나타낸다)
<구조식 1>
Figure pat00002
,
Figure pat00003
,
Figure pat00004
,
Figure pat00005
,
Figure pat00006
.
본 발명에 따른 접착성이 향상된 자외선 경화 불소계 공중합체는 자외선 경화형 투명 코팅제로 사용 가능하고, 투명성, 저굴절율 및 방오성이 요구되는 각종 부품의 표면 가공 시 유용하게 사용될 수 있으며, 섬유 산업, 도료 산업, 접착제 산업, 정밀 화학 산업, 생물, 생화학 산업, 전기 전자 산업, 자동차 산업 및 금속 산업 등에서 다양한 용도로 활용 가능하다.
도 1은 본 발명에 따른 투명 박막의 투명도를 측정한 그래프이고;
도 2는 본 발명에 따른 투명 박막의 반사율을 측정한 그래프이다.
본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 과불소 폴리에테르 변성 화합물 중 1종과 하기 화학식 2로 표시되는 벤조페논계 아크릴레이트 단량체 1종 이상을 공중합한 공중합체를 제공한다;
<화학식 1>
CF3CF2CF2-O-CF(CF3)-X-Y-X-CZ=CH2, CF3CF2CF2-O-CF(CF3)-Y-X-CZ=CH2
(상기 화학식 1에서 X는 에스테르, 우레탄, 에테르 또는 아미드 연결기를 나타내고, Y는 탄소수 0~5의 알킬기를 나타내며, Z는 수소, 염소, 불소 또는 탄소수 1~5의 알킬기를 나타낸다)
<화학식 2>
Figure pat00007
(상기 화학식 2에서 X는 할로겐, 수소 또는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타내고, Y는 에스테르 연결기, 아미드 연결기, 또는 우레탄 연결기를 나타내며, Z는 탄소수 1 ~ 10의 알킬기를 나타내고, A는 하기 구조식 1로 표시되는 UV 경화가 가능한 벤조페논계 단위체(unit) 중 1종을 나타낸다)
<구조식 1>
Figure pat00008
,
Figure pat00009
,
Figure pat00010
,
Figure pat00011
,
Figure pat00012
.
이하, 본 발명을 상세히 설명한다.
본 발명은 상기 화학식 1로 표시되는 과불소 폴리에테르 변성 아크릴레이트 중 1종과 상기 화학식 2로 표시되는 벤조페논계 아크릴레이트 단량체의 공중합체를 제공한다. 본 발명에 따른 상기 혼합물은 기재(substrate)에 코팅 후 UV 경화하여 투명 박막을 형성할 수 있고, 제조된 투명 박막은 저 굴절율, 방오, 발수, 발유 및 우수한 오염제거성을 나타낼 수 있으며, 기재 본래의 색상 및 경도와 같은 특성 훼손이 발생하지 않는다.
본 발명에 따른 상기 공중합체는 상기 화학식 1로 표시되는 과불소 폴리에테르 변성 아크릴레이트와 상기 화학식 2로 표시되는 벤조페논계 아크릴레이트 단량체의 물질 및 조성을 적절히 조정하여 형성되는 투명 박막의 굴절율을 조절할 수 있다.
본 발명에 따른 상기 공중합체에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 과불소 폴리에테르 변성 화합물은 박막에 발수, 발유, 방오성, 오염제거성 등을 부여할 수 있고, 사용용도에 따라 상기 화학식 1의 과불소 폴리에테르 변성 화합물의 화합물 및 분자량을 선택하여 합성할 수 있다.
과불소 폴리에테르 화합물의 합성은 하기와 같은 공지된 방법으로 수행될 수 있다 [JAMES T. HILL, J. Macromol. Sci. Chem. , A8, (3), p499 (1974)]. 즉, 헥사 플루오르 프로필렌 옥사이드(HFPO)와 세슘 플루오라이드를 용매에 넣어 혼합한다. 이때, 상기 용매는 당 분야에서 일반적으로 사용되는 것으로 특별히 한정하지 않으나, 예를 들어, 트리글리메, 테트라글리메, 부틸디글리메, 에틸디글리메 등의 용매 중 1종 이상을 선택하여 사용할 수 있다. 상기 방법으로 합성된 과불소 폴리에테르 화합물의 중합도(분자량)는 HFPO의 주입 속도, HFPO 주입량 및 세슘 플루오라이드의 비, 그리고 반응 온도에 의해서 제어될 수 있다.
또한 상기 방법으로 합성된 과불소 폴리에테르 화합물은 말단기를 변환시킴으로써 아크릴레이트로 변환될 수 있고, 예를 들어 과불소폴리에테르 화합물과 2-하이드록시 에틸 메타아크릴레이트(2-hydroxy ethyl methacrylate)의 축합반응에 의해 상기 화학식 1의 과불소 폴리에테르 변성화합물을 합성할 수 있다. 이때, 상기 과불소 폴리에테르 화합물의 변환방법은 이에 제한되는 것은 아니고, 공지된 방법 중 적절한 방법을 택하여 수행될 수 있다.
본 발명에 따른 상기 공중합체에 있어서, 상기 화학식 2로 표시되는 벤조페논계 아크릴레이트 단량체는 UV조사를 통한 광 경화에 의해 경화될 수 있어, 상기 화학식 1의 과불소 폴리에테르 변성 화합물과 공중합함으로써 본 발명에 따른 상기 공중합체가 광경화에 의해 경화될 수 있게 한다. 이때, 상기 벤조페논계 아크릴레이트 단량체 1종 또는 2종 이상이 화학식 1의 과불소 폴리에테르 변성 화합물과 공중합될 수 있으며, 상기 과불소 폴리에테르 변성 아크릴레이트와 벤조페논계 단량체의 공중합체 합성시 벤조페논계 아크릴레이트 단량체의 조성은 0.01 ~ 15 중량%의 비율로 혼합?반응시키는 것이 바람직하다. 상기 벤조페논계 아크릴레이트 단량체의 조성이 상기 범위를 벗어나는 경우에는 본 발명에 따른 공중합체가 높은 굴절율을 나타내는 문제가 있고, 내오염성이 저하되는 문제가 있다.
본 발명에 따른 상기 공중합체는 투명하고 통상적인 저 굴절율 화합물의 기준인 1.40 미만의 굴절율을 나타내고, 일례로 하기 화학식 3으로 표시되는 과불소폴리에테르 변성 아크릴레이트 화합물과 벤조페논계 아크릴레이트 단량체를 공중합시켜 제조될 수 있다.
<화합물 3>
CF3CF2CF2-O-CF(CF3)-COO-CH2CH2-COO-CH(CH3)=CH2
본 발명에 따른 상기 공중합체의 공중합 반응은 일반적인 고분자 라디칼 반응인 벌크 중합, 용액중합, 에멀젼 중합 기술 등을 이용하여 수행될 수 있으며, 제조된 공중합체의 분자량은 무게평균 분자량으로 500 ~ 500,000의 범위로 제조된다. 본 발명에 따른 공중합체의 분자량이 무게평균 분자량으로 500 미만인 경우에는 코팅시 점도가 낮아 100 nm 이하의 균일한 박막을 제조하기 어려운 문제가 있고, 이에 따라 투명성, 저굴절율, 방오성 등의 특성이 발현되지 않는 문제가 있다. 또한 본 발명에 따른 공중합체의 분자량이 무게평균 분자량으로 500,000을 초과하는 경우에는 용매로의 용해가 어렵고, 점도가 지나치게 높아 표면 물성을 제어하기 어려워 방소성 특성을 발현하는 박막을 제조할 수 없는 문제가 있다.
본 발명에 따른 상기 공중합체는 코팅 경화시 표면이행성이 탁월하여 저에너지 표면개질 효과가 우수하고, 오염방지성과 오염물질의 제거가 용이한 박막을 제조할 수 있다. 또한 제조된 박막이 투명하고 저 굴절율을 나타낼 수 있게 한다. 특히, 본 발명에 따른 상기 공중합체는 UV 경화에 의해 가교 결합기를 조절하여 경화될 수 있어 기재와의 밀착력이 우수하고, 저 굴절율을 유지할 수 있으며, 방오, 발수, 발유 및 오염제거 성능이 우수하고 투명도가 매우 높은 박막을 제조할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 과불소 폴리에테르 변성 아크릴레이트와 벤조페논계 아크릴레이트 단량체의 공중합체 및 용제를 포함하는 투명 코팅제 조성물을 제공한다. 상기 투명 코팅제 조성물은 용제를 포함함으로써 용액공정을 통한 코팅이 용이하고, 이에 따라 박막으로의 제조가 간단한 장점이 있다.
이때, 상기 용제는 과불소 헵탄, 과불소 헥산, m-키시렌헥사 플로오라이드, 벤조트리플루오라이드, 메틸 과불소 부틸 에테르, 에틸 과불소 부틸 에테르, 과불소(2－부틸 테트라 하이드로 퓨란), 석유 벤젠, 미네랄 스피리츠, 이소 파라핀, 톨루엔, 크실렌, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소 부틸 케톤 및 시클로헥사논으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것이 바람직하나, 이에 제한되는 것은 아니다.
본 발명은 상기 투명 코팅제 조성물을 기판 상부로 코팅한 후 이를 경화시켜 제조되는 투명 박막을 제공한다.
본 발명에 따른 상기 투명 박막은 저 굴절율 및 발수, 발유, 오염제거성 등의 특성이 우수하고, 이때, 상기 투명 박막은 스핀 코팅, 침적 코팅, 커텐 코팅, 스프레이 코팅에 의해 코팅되어 제조될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
또한, 본 발명에 따른 상기 투명 박막의 두께는 5 내지 2000 nm 인 것이 바람직하다. 만약 상기 투명 박막의 두께가 5 nm 미만인 경우에는 물 또는 기름에 대한 방오성이 발현되지 않는 문제가 있고, 상기 투명 박막의 두께가 2000 nm를 초과하는 경우에는 경화 시 충분한 경화가 일어나지 않아 박막의 기계적 강도가 저하되고, 불균일한 코팅에 의한 간섭무늬가 발생되는 문제가 있다.
본 발명에 따른 상기 투명 박막은 투명한 유리 제품 또는 플라스틱 제품의 표면에 투명성을 유지함과 동시에 방오성, 오염제거성, 반사방지성 등을 부여할 수 있어, 디스플레이의 프레임, 렌즈, 유리창, 액정 또는 평판표시소자(PDP), 유기발광소자(EL) 및 전계방출디스플레이(FED)를 포함하는 평판 디스플레이의 오염방지 및 반사방지 투명막 또는 이들의 광학 필터로 이용될 수 있으며, 일반 가정용 유리, 산업용 유리, 건축 외장재, 미술용품 등 다양한 분야에 적용할 수 있다.
이하, 본 발명을 실시예를 통해 보다 구체적으로 설명한다. 그러나, 하기 실시예는 본 발명을 설명하기 위한 것일 뿐, 하기 실시예에 의하여 본 발명의 권리범위가 한정되는 것은 아니다.
<제조예 1> 과불소 폴리에테르 변성 화합물의 제조
단계 1: 교반기, 냉각 자켓, 온도계, 압력계가 달린 스테인레스제 고압반응기에 테트라글리메 2.49 g, 불화세슘 1.69 g, 헥사플루오르 프로필렌(HFP) 87.75 g 및 헥사플루오르 프로필렌 옥사이드 420 g을 투입하고, 5 ℃의 온도에서 반응시켜 헥사플루오르 프로필렌 옥사이드(HFPO) 올리고머를 얻었다. 이때, 총 반응 시간은 8시간이었다.
단계 2: 상기 단계 1에서 제조된 헥사플루오르 프로필렌 옥사이드(HFPO) 올리고머를 내경 4 cm, 길이 80 cm의 초자 증류탑을 이용해 상압증류하여 과불소 폴리에테르-COF 이량체(dimer)를 제조하였고, 이때의 증류온도는 52 ~ 54 ℃였다.
단계 3: 마그네틱 바(Magnetic bar), 버블트랩(bubble trap)이 장착된 3-neck 플라스크에 상기 단계 2에서 제조된 과불소 폴리에테르-COF 이량체(dimer) 100.0 g(0.30 mol)을 넣은 후 상온에서 교반하며 2-하이드록시 에틸 메타아크릴레이트(2-hydroxy ethyl methacrylate, HEMA) 46.99 g(0.36 mol)를 서서히 투입하였다. 이때, 기체 발생 여부를 버블트랩(bubble trap)을 통해 확인하였고, 용액의 색이 2-하이드록시 에틸 메타아크릴레이트가 투입된 후 점차 반투명한 흰색을 나타내는 것을 확인하였다. 이후 24시간 동안 교반을 수행하여 반응을 완료시켰고, 반응액에 냉매(Freon-113)를 추가하였으며, 이때 pH 시험지를 통해 반응액이 pH 3 ~ 4 정도의 산성임을 확인하였다. 또한, 미 반응물과 배출되지 않은 불산(HF)을 제거하기 위해 탄산수소나트륨(NaHCO3) 포화용액을 반응액의 pH가 7이 될 때까지 투입하고 교반하였다. 교반을 수행한 후 반응액이 층 분리되는 것을 확인하였고, 하부의 아크릴레이트 변형 단량체를 분리하였다. 분리된 아크릴레이트 변형 단량체에 증류수를 추가하고, 층 분리작업을 3회 반복하여 불순물을 제거하였고, 아크릴레이트 변형 단량체의 수분제거를 위하여 황산마그네슘(MgSO4)을 다량 첨가한 후 필터링하였다. 나아가, 최종 반응물에 잔존하는 휘발성 물질을 제거하기 위해 마그네틱 바를 넣고 교반하면서 5 ~ 10 분 감압시켰고, 최종 합성된 과불소 폴리에테르 변성 아크릴레이트는 투명한 액상으로 제조되었다.
<제조예 2> 벤조페논계 아크릴레이트 단량체의 제조 1
건조 질소 분위기 하에서 빙점조(ice bath)로 냉각하며 4-하이드록시벤조페논(4-hydroxybenzophenone) 19.8 g(0.1 mol), 트리에틸아민(triethylamine) 11.1 g (0.11 mol) , CH2Cl2 용액 100 mL로 아크릴로일 클로라이드(acryloyl chloride) 7.85 g(0.1 mol) 및 CH2Cl2 용액 50 mL를 첨가하였다. 이 후 혼합물을 상온까지 승온시킨후 24 시간 동안 교반하여 반응시켰다. 반응이 완료된 후 반응물을 1/2 포화 탄산수소나트륨(NaHCO3)용액, 1N 염산(HCl) 및 물을 이용하여 각각 3회 세정한 후 황산마그네슘(MgSO4)으로 건조하고 여과하여 용매 및 수분을 제거하여 N-(4-벤조일-페닐)-아크릴에스테르(N-(4-benzoyl-phenyl)-acrylester, BPA)를 제조하였다. 이때의 수율은 약 19.1 g(76%)이었다.
<실시예 1> 과불소 폴리에테르 변성 화합물과 벤조페논계 아크릴레이트 단량체의 공중합체 제조
상기 제조예 1에서 제조된 과불소 폴리에테르 변성 화합물 10.55 g(0.024 mol), 상기 제조예 2에서 제조된 벤조페논계 아크릴레이트 단량체 0.3g (1.19x10-3mol), n-옥탄티올(n-octanethiol) 0.1095 g(7.5x10-4mol) 및 라디칼 개시제인 아조비스이소부틸로나이트릴(Azobisisobutyronitrile, AIBN) 0.1085 g(6.16x10-4mol)을 43.39 g의 트리플루오로 톨루엔으로 첨가하여 용해시켰다. 상기 혼합물로 동결/해동 싸이클(freeze-thaw cycle)을 3회 반복하여 수행한 후 60 ℃의 온도에서 15시간 동안 반응시켰다. 반응이 완료된 후 반응물을 상온으로 냉각하였고, 과량의 메탄올과 아세톤 혼합용액을 이용하여 석출시킴으로써 과불소 폴리에테르 변성 화합물과 벤조페논계 아크릴레이트 단량체의 공중합체를 제조하였다.
<실시예 2> 투명 박막의 제조
상기 실시예 1에서 제조된 과불소 폴리에테르 변성 화합물과 벤조페논계 아크릴레이트 단량체의 공중합체를 2,2,3,3-테트라플루오르-1-프로판올(2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol)에 2.5 중량%의 비율로 용해시켰고, 이를 슬라이드 그라스 상부에 300 μL 떨어뜨린 후 스핀 코팅(2000 rpm, 20 sec)를 통해 코팅하였다. 코팅이 수행된 후 진공오븐에서 760 mmHg, 80 ℃의 조건으로 30분간 건조시켰고, 약 0.65 μW/cm2의 광량인 UV 조사기를 이용하여 UV를 30분간 조사하여 경화시킴으로써 투명 박막을 제조하였다.
분석
(1) 헥사플루오르 프로필렌 옥사이드(HFPO) 올리고머의 분석
상기 제조예 1의 단계 1에서 제조된 헥사플루오르 프로필렌 옥사이드(HFPO) 올리고머를 겔침투크로마토그래피(gel permeation chromatography) 및 19F-NMR 핵자기공명(CDCL3, 300 MHz) 분석을 하였고, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
구조 스펙트럼 (PPM)
3F, s, CF 3CF2CF2 83.8
2F, m, CF3CF 2CF2 131.3
[(2F, m, CF3CF2CF 2), (3F, s, CF(CF 3)COF)] 83.2
1F, t, OCFCF3CF2 146.2
[(3F, m, OCF(CF 3)CF2), (m, 2F, OCF(CF3)CF 2)] 81.6
1F, t, CFCOF 132.0
상기 표 1에 나타낸 바와 같이, 상기 제조예 1의 단계 1에서 제조된 헥사플루오르 프로필렌 옥사이드(HFPO) 올리고머를 19F-NMR 핵자기공명 분석한 결과 헥사플루오르 프로필렌 옥사이드(HFPO) 올리고머의 83.8 PPM 및 131.3PPM에서 CF3CF2의 불소 피크를, 146.2 PPM에서 OCF(CF3)CF2의 불소피크를 확인할 수 있다. 또한, 겔침투크로마토그래피(gel permeation chromatography) 분석 결과 상기 헥사플루오르 프로필렌 옥사이드(HFPO) 올리고머의 분자량이 4400인 것을 확인하였다. 이를 통하여 헥사플루오르 프로필렌 옥사이드(HFPO) 올리고머의 제조가 제대로 수행되었음을 확인할 수 있었다.
(2) 벤조페논계 아크릴레이트 단량체의 분석
상기 제조예 2에서 제조된 벤조페논계 아크릴레이트 단량체를 1H-NMR 핵자기공명(CDCL3, 300 MHz) 분석하였고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
구조 스펙트럼 (PPM)
2s, 2H, CH2= 5.7-6.3
various m, 9H, C-Harom 7.2-7.9
상기 표 2에 나타낸 바와 같이, 상기 제조예 2에서 제조된 벤조페논계 아크릴레이트 단량체를 1H-NMR 핵자기공명 분석한 결과 벤조페논계 아크릴레이트 단량체의 5.7 ~ 6.3 PPM 및 7.2 ~ 7.9 PPM에서 CH2=피크 및 C-Harom(벤젠의 C-H 피크) 피크를 확인할 수 있다. 이를 통하여 벤조페논계 아크릴레이트 단량체의 제조가 제대로 수행되었음을 확인할 수 있었다.
<실험예 1> 핵자기공명분석(NMR)
본 발명에 따른 실시예 1의 과불소 폴리에테르 변성 화합물과 벤조페논계 아크릴레이트 단량체의 공중합체를 19F-NMR(CDCL3, 300 MHz) 및 1H-NMR (CDCL3, 300 MHz)핵자기공명분석하였고, 그 결과를 하기 표 3 및 표 4에 나타내었다.
19F-NMR 분석결과
구조 스펙트럼 (PPM)
3F, s, CF 3CF2CF2 83.8
2F, m, CF3CF 2CF2 131.3
[(2F, m, CF3CF2CF 2), (3F, s, CF(CF 3)COO)] 83.2
1F, t, CF(CF3)COO 132.0
1H-NMR 분석결과
구조 스펙트럼 (PPM)
(-CH2-CH-) 1.4 / 2.0
C-Harom 7.4 ~ 8.0
상기 표 3 및 표 4에 나타낸 바와 같이, 실시예 1의 과불소 폴리에테르 변성 화합물과 벤조페논계 아크릴레이트 단량체의 공중합체는19F-NMR 핵자기공명 분석결과 83.8 PPM 및 131.3PPM에서 CF3CF2피크를, 132.0 PPM에서 CF(CF3)피크와 같은 불소기를 확인할 수 있었고, 1H-NMR 핵자기공명 분석한 결과 1.4 PPM 및 2.0 PPM에서 (-CH2-CH-) 피크를 확인할 수 있었으며, 7.4 ~ 8.0 PPM에서 C-Harom 피크를 확인할 수 있었다. 이를 통해, 본 발명에 따른 과불소 폴리에테르 변성 화합물과 벤조페논계 아크릴레이트 단량체의 공중합체가 공중합반응을 통해 제조되었음을 확인할 수 있었다.
<실험예 2> 투명 박막의 특성 분석
본 발명에 따른 실시예 2의 투명 박막의 두께(Essential Macleod Simulation에 의하여), 굴절율(Essential Macleod Simulation에 의하여), 투명도(UV spectrometer Jasco V-650, λ =550 nm), 반사율(UV spectrometer Jasco V-650, λ =550 nm), 접촉각(접촉각 측정기, Kruss DSA-100) 및 표면에너지(기하평균법에 의하여) 분석하였고, 그 결과를 하기 표 5, 도 1 및 도 2에 나타내었다.
두께
(nm)		 굴절율
(at 25 ℃)
투명도
반사율		 접촉각
(°)		 표면에너지
(dyn/cm)
물 CH2I2 HD
실시예1 120 1.395 93% 2.0% 107 93 70 13.19
(상기 표면에너지는 하기 수학식을 이용한 기하평균법으로 계산)
<수학식>
Figure pat00013
Figure pat00014

표 5, 도 2 및 도 3에 나타낸 바와 같이, 실시예 2의 투명 박막의 두께는 120 nm로 박막으로의 코팅이 성공적으로 수행된 것을 알 수 있었고, 일반적인 저 굴절율 화합물?혼합물의 기준인 굴절율 1.40을 넘지 않는 굴절율을 나타낸 것을 확인하였다. 이를 통하여 과불소 폴리에테르 변성 화합물과 탄화수소계 다 관능기 아크릴레이트 혼합물이 저 굴절율인 것을 확인할 수 있었다. 또한, 실시예 2의 투명 박막은 93%의 투명도를 나타내고, 2%의 반사율을 나타내었다. 나아가, 실시예 2의 투명 박막은 물, 다이아이오도메탄(CH2I2) 및 헥사데칸(hexadecane)에 대하여 각각 107°, 93°및 70°인 접촉각을 나타내었고, 표면에너지는 13.19 (dyn/cm)으로 나타났다. 이를 통하여, 본 발명에 따른 투명박막은 높은 접촉각 및 낮은 표면에너지를 가지는 것을 확인하였고, 투명도가 매우 높은 것을 알 수 있었다.

Claims (8)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 과불소 폴리에테르 변성 화합물 중 1종과 하기 화학식 2로 표시되는 벤조페논계 아크릴레이트 단량체 1종 이상을 공중합한 공중합체;

    <화학식 1>
    CF3CF2CF2-O-CF(CF3)-X-Y-X-CZ=CH2, CF3CF2CF2-O-CF(CF3)-Y-X-CZ=CH2
    (상기 화학식 1에서 X는 에스테르, 우레탄, 에테르 또는 아미드 연결기를 나타내고, Y는 탄소수 0~5의 알킬기를 나타내며, Z는 수소, 염소, 불소 또는 탄소수 1~5의 알킬기를 나타낸다)

    <화학식 2>
    Figure pat00015

    (상기 화학식 2에서 X는 할로겐, 수소 또는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타내고, Y는 에스테르 연결기, 아미드 연결기, 또는 우레탄 연결기를 나타내며, Z는 탄소수 1 ~ 10의 알킬기를 나타내고, A는 하기 구조식 1로 표시되는 UV 경화가 가능한 벤조페논계 단위체(unit) 중 1종을 나타낸다)

    <구조식 1>
    Figure pat00016
    ,
    Figure pat00017
    ,
    Figure pat00018
    ,
    Figure pat00019
    ,
    Figure pat00020
    .
  2. 제1항에 있어서, 상기 과불소 폴리에테르 변성 화합물과 벤조페논계 아크릴 단량체의 공중합체는 벤조페논계 아크릴 단량체의 조성이 0.01 ~ 15 중량%인 것을 특징으로 하는 공중합체.
  3. 제1항의 공중합체 및 용제를 포함하는 접착성이 향상된 투명 코팅제 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 상기 용제는 과불소 헵탄, 과불소 헥산, m-키시렌헥사 플로오라이드, 벤조트리플루오라이드, 메틸 과불소 부틸 에테르, 에틸 과불소 부틸 에테르 및 과불소(2－부틸 테트라 하이드로 퓨란)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 접착성이 향상된 투명 코팅제 조성물.
  5. 제3항에 있어서, 상기 투명 코팅제 조성물은 광경화되는 것을 특징으로 하는 접착성이 향상된 투명 코팅제 조성물.
  6. 제3항의 투명 코팅제 조성물을 기판 상부로 코팅한 후 경화시켜 제조되는 투명 박막.
  7. 제6항에 있어서, 상기 박막의 두께는 5 내지 2000 nm인 것을 특징으로 하는 투명 박막.
  8. 제6항에 있어서, 상기 투명 박막은 디스플레이의 프레임, 렌즈, 유리창, 액정 또는 평판표시소자(PDP), 유기발광소자(EL) 및 전계방출디스플레이(FED)를 포함하는 평판 디스플레이의 오염방지 및 반사방지 투명막 또는 이들의 광학 필터로 이용되는 것을 특징으로 하는 투명 박막.
KR1020110035645A 2011-04-18 2011-04-18 접착성이 향상된 자외선 경화 불소계 공중합체와 이를 포함하는 코팅조성물 및 이를 포함하는 막 KR101335524B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110035645A KR101335524B1 (ko) 2011-04-18 2011-04-18 접착성이 향상된 자외선 경화 불소계 공중합체와 이를 포함하는 코팅조성물 및 이를 포함하는 막

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110035645A KR101335524B1 (ko) 2011-04-18 2011-04-18 접착성이 향상된 자외선 경화 불소계 공중합체와 이를 포함하는 코팅조성물 및 이를 포함하는 막

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20120118208A true KR20120118208A (ko) 2012-10-26
KR101335524B1 KR101335524B1 (ko) 2013-12-02

Family

ID=47285733

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110035645A KR101335524B1 (ko) 2011-04-18 2011-04-18 접착성이 향상된 자외선 경화 불소계 공중합체와 이를 포함하는 코팅조성물 및 이를 포함하는 막

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101335524B1 (ko)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101422727B1 (ko) * 2012-06-29 2014-07-24 한국화학연구원 자외선 경화 불소계 공중합체, 이를 포함하는 코팅조성물 및 이를 포함하는 막
KR101436018B1 (ko) * 2013-01-23 2014-09-01 한국화학연구원 과불소 폴리에테르 변성 화합물을 포함하는 방오성 광경화 수지 조성물 및 이를 이용한 하드코트용 방오성 투명 박막
WO2015069714A1 (en) * 2013-11-05 2015-05-14 E. I. Du Pont De Nemours And Company Compositions for surface treatments
WO2015111765A1 (ko) * 2014-01-22 2015-07-30 한국화학연구원 자외선 경화 과불소 폴리에테르 변성 화합물, 이를 포함하는 방오성 코팅제조성물, 이를 적용한 막 및 방오성기재
KR20160015474A (ko) * 2014-07-30 2016-02-15 (주)엘지하우시스 광경화성 점접착제 조성물, 점접착 필름 및 점접착 필름의 제조 방법
WO2018155989A1 (ko) * 2017-02-27 2018-08-30 주식회사 엘지화학 아크릴계 점착제의 제조 방법 및 이로부터 제조된 점착 필름
KR20190087768A (ko) * 2018-01-17 2019-07-25 주식회사 엘지화학 저굴절 점착 조성물, 이의 경화물을 포함하는 저굴절 점착 필름 및 이를 포함하는 광학 부재

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100659748B1 (ko) 2004-11-19 2006-12-19 재단법인서울대학교산학협력재단 자외선 가교형 아크릴계 점착제 제조방법
KR20070094942A (ko) * 2004-12-30 2007-09-27 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 내오염성 플루오로화합물 조성물
KR101020875B1 (ko) 2009-02-13 2011-03-09 한국화학연구원 방오성 하드코팅제 조성물
KR101085050B1 (ko) * 2009-12-23 2011-11-21 한국화학연구원 자외선 경화형 과불소 폴리에테르 변성 화합물과 이를 함유한 방오성 코팅제 조성물 및 이를 적용한 막

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101422727B1 (ko) * 2012-06-29 2014-07-24 한국화학연구원 자외선 경화 불소계 공중합체, 이를 포함하는 코팅조성물 및 이를 포함하는 막
KR101436018B1 (ko) * 2013-01-23 2014-09-01 한국화학연구원 과불소 폴리에테르 변성 화합물을 포함하는 방오성 광경화 수지 조성물 및 이를 이용한 하드코트용 방오성 투명 박막
WO2015069714A1 (en) * 2013-11-05 2015-05-14 E. I. Du Pont De Nemours And Company Compositions for surface treatments
CN105705590A (zh) * 2013-11-05 2016-06-22 纳幕尔杜邦公司 用于表面处理的组合物
WO2015111765A1 (ko) * 2014-01-22 2015-07-30 한국화학연구원 자외선 경화 과불소 폴리에테르 변성 화합물, 이를 포함하는 방오성 코팅제조성물, 이를 적용한 막 및 방오성기재
KR20160015474A (ko) * 2014-07-30 2016-02-15 (주)엘지하우시스 광경화성 점접착제 조성물, 점접착 필름 및 점접착 필름의 제조 방법
WO2018155989A1 (ko) * 2017-02-27 2018-08-30 주식회사 엘지화학 아크릴계 점착제의 제조 방법 및 이로부터 제조된 점착 필름
CN110300785A (zh) * 2017-02-27 2019-10-01 株式会社Lg化学 制备丙烯酸类粘合剂的方法和由其制备的粘合剂膜
CN110300785B (zh) * 2017-02-27 2021-06-25 株式会社Lg化学 制备丙烯酸类粘合剂的方法和由其制备的粘合剂膜
US11512152B2 (en) 2017-02-27 2022-11-29 Lg Chem, Ltd. Method of preparing acrylic adhesive and adhesive film prepared therefrom
KR20190087768A (ko) * 2018-01-17 2019-07-25 주식회사 엘지화학 저굴절 점착 조성물, 이의 경화물을 포함하는 저굴절 점착 필름 및 이를 포함하는 광학 부재

Also Published As

Publication number Publication date
KR101335524B1 (ko) 2013-12-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101335524B1 (ko) 접착성이 향상된 자외선 경화 불소계 공중합체와 이를 포함하는 코팅조성물 및 이를 포함하는 막
JP6344014B2 (ja) 表面処理組成物
JP5288731B2 (ja) 重合性含フッ素化合物、それを用いた反射防止膜、反射防止フィルムおよび画像表示装置
JP4267088B2 (ja) 反射防止膜用塗料及び該反射防止膜用塗料を用いた低反射材
JP4375335B2 (ja) 硬化性表面改質剤およびそれを用いた硬化性表面改質用組成物
JP5614509B1 (ja) 含フッ素含ケイ素ポリマーおよび表面処理剤
KR101936282B1 (ko) 과불소계 공중합체 및 이를 포함하는 방오성 광경화 수지 조성물
JP2006037024A (ja) 反射防止膜形成用組成物
KR101422727B1 (ko) 자외선 경화 불소계 공중합체, 이를 포함하는 코팅조성물 및 이를 포함하는 막
JP2009167354A (ja) 多官能アクリレートを含む硬化性組成物
JP2007284623A (ja) 薄膜用塗布組成物
KR101085050B1 (ko) 자외선 경화형 과불소 폴리에테르 변성 화합물과 이를 함유한 방오성 코팅제 조성물 및 이를 적용한 막
KR101161643B1 (ko) 방오성 과불소 폴리에테르 변성 화합물과 이를 포함한 코팅제 조성물 및 이를 적용한 막
KR102181205B1 (ko) 함불소우레탄(메타)아크릴레이트, 경화성 조성물 및 반사 방지 필름
KR101436018B1 (ko) 과불소 폴리에테르 변성 화합물을 포함하는 방오성 광경화 수지 조성물 및 이를 이용한 하드코트용 방오성 투명 박막
KR101219517B1 (ko) 저굴절률 및 방오성 투명 코팅을 위한 혼합물 및 이를 포함하는 조성물
JP4983605B2 (ja) α，β−不飽和エステル基を含有する含フッ素ノルボルネン誘導体または含フッ素ノルボルナン誘導体を含む硬化性含フッ素ポリマー組成物
JP5135886B2 (ja) 含フッ素コ−ティング剤及びそれを用いた減反射材
KR101367641B1 (ko) 탄화수소기 함량이 적은 과불소폴리에테르를 포함하는 다관능 아크릴레이트 화합물 및 이의 제조방법
JP6435975B2 (ja) 表面処理剤
KR101187318B1 (ko) 과불소에테르를 포함하는 다관능 아크릴레이트 단량체 및 이의 제조방법
JP2013035849A (ja) フッ素アルコールおよびこれを用いた撥水性ポリウレタン用組成物
WO2015002109A1 (ja) 含フッ素ポリマー、ハードコート層形成用組成物およびハードコート層を有する物品

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161006

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181119

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191001

Year of fee payment: 7