JP5705182B2 - 反射屈折投影対物レンズ - Google Patents
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Description
PCT出願第01/04682A1号は、マンジャンミラーとして構成された1つの凹面鏡を有するウェハ検査用の反射屈折UV結像系を開示している。
物体面上に設けられたパターンを第1中間像に結像する第1対物系部と、
第1中間像を第2中間像に結像する第2対物系部と、
第2中間像を像面上に結像する第3対物系部とを有し、
第1連続鏡面を有する第1凹面鏡と、第2連続鏡面を有する少なくとも1つの第2凹面鏡とが、第2中間像の上流側に配置され、
ひとみ面が、物体面と第1中間像との間、第1及び第2中間像の間、及び第2中間像と像面との間に形成され、
主光線高さが結像プロセスの周縁光線高さを超える位置に、すべての凹面鏡が配置され、
主光線高さは、光軸から最も遠く離れた最外側視野点から光軸に対して平行に、又は小さい角度をなして進んで、開口絞りが位置することができるひとみ面位置で光軸と交差する主光線の高さであり、周縁光線高さは、光軸に最も近い内側視野点から開口絞りの縁部まで進む周縁光線の高さである、反射屈折投影対物系を提供する。
物体面上に設けられたパターンを第1中間像に結像する第1対物レンズ部、
第1中間像を第2中間像に結像する第2対物レンズ部、及び
第2中間像を像面上に結像する第3対物レンズ部、
を備え、第2対物レンズ部は、第1連続鏡面を有する第1凹面鏡と、第2連続鏡面を有する第2凹面鏡とを含み、凹面鏡の凹面鏡面は互いに向き合って、鏡間空間を画定しており、
少なくとも第1中間像が、幾何学的に第1凹面鏡及び第2凹面鏡の間の鏡間空間内に位置する、反射屈折投影対物レンズが提供される。
0.8<|R1/R2|<1.2
の条件が成り立つ。
|p(h)|<pmax
の条件が成り立つ投影対物レンズが好ましい。
図4には、第2実施形態が示されている。構造及び/又は機能の点で図1のものと同一又は同様である機構又は機構群は、同様な番号に100を加えて示されている。
1<D/(|c1|+|c2|)・10-4<6
の条件が満たされる。曲率cは、頂点での曲率半径の逆数である。この条件が満たされれば、第3対物レンズ部でのペッツバール補正と正屈折力との間に良好な釣り合いを得ることができる。
COMP1=Dmax/(Y’・NA2)
と定義される。コンパクトな構造が望まれる場合、ある値の像側視野高さ及び開口数について、第1コンパクト化パラメータCOMP1ができる限り小さくなければならないことは明らかである。
COMP2=COMP1・NL
と定義される。やはり、COMP2の値が小さいことは、コンパクトな光学系であることを表す。
COMP3=COMP1・NL/NOP
と定義される。やはり光学材料使用量が少ない投影対物レンズは、COMP3が小さい値であることによって特徴付けられるであろう。
COMP1<11
好ましくは、COMP1<10.8、より好ましくはCOMP1<10.4、さらに好ましくはCOMP1<10に従うべきである。
好ましくは、COMP2<280、より好ましくはCOMP2<250、さらに好ましくはCOMP2<230に従うべきである。
好ましくは、COMP3<90、より好ましくはCOMP3<80、さらに好ましくはCOMP3<75に従うべきである。
Claims (77)
- 投影対物系(200)の物体面(201)上に設けられたパターンを投影対物系の像面(202)上に結像するための反射屈折投影対物系であって、
物体面上に設けられたパターンを第1中間像(203)に結像する第1対物系部(210)と、
第1中間像を第2中間像(204)に結像する第2対物系部(220)と、
第2中間像を像面(202)上に結像する第3対物系部(230)とを有し、
第1連続鏡面を有する第1凹面鏡(221)と、第2連続鏡面を有する少なくとも1つの第2凹面鏡(222)とが、第2中間像(204)の上流側に配置され、
ひとみ面が、物体面と第1中間像との間、第1及び第2中間像の間、及び第2中間像と像面との間に形成され、
主光線高さが結像プロセスの周縁光線高さを超える位置に、すべての凹面鏡(221,222)が配置され、
主光線高さは、光軸から最も遠く離れた最外側視野点から光軸に対して平行に、又は小さい角度をなして進んで、開口絞りが位置することができるひとみ面位置で光軸と交差する主光線の高さであり、周縁光線高さは、光軸に最も近い内側視野点から開口絞りの縁部まで進む周縁光線の高さであることを特徴とする、反射屈折投影対物系。 - 正確に2つの凹面鏡(221,222)と正確に2つの中間像(203,204)とが存在する、請求項1に記載の投影対物系。
- 第1対物系部(210)が、ジオプトリック結像系であり、
第2対物系部(220)が、第1及び第2凹面鏡(221,222)を含み、凹面鏡の凹面鏡面が互いに向き合って、鏡間空間を画定しており、
少なくとも第1中間像(203)が、幾何学的に第1凹面鏡と第2凹面鏡との間の鏡間空間内に位置する、請求項1又は2に記載の投影対物系。 - 第1中間像(203)及び第2中間像(204)の両方が、幾何学的に第1凹面鏡と第2凹面鏡との間の鏡間空間内に位置する、請求項3に記載の投影対物系。
- 第1対物系部(210)及び第2対物系部(220)及び第3対物系部(230)が、共通の直線状の光軸を共用する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1凹面鏡(321)及び第2凹面鏡(322)の湾曲面が、光軸の反射屈折部又はカトプトリック部を画定する共通の回転対称軸(305’)を有し、この回転対称軸が、光軸の物体側部分(305”)及び像側部分(305”’)に対して角度を付けて傾斜している、請求項1〜4のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 凹面鏡(221,222)の少なくとも1つの鏡面が非球面である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1対物系部(1210)が、単一の第1凹面鏡(1221)を含む反射屈折対物系部であり、第2対物系部(1220)が、単一の第2凹面鏡(1222)を含む反射屈折対物系部である、請求項1、2、5又は7のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 互いに向き合う第1及び第2凹面鏡(1221,1222)によって画定された鏡群が、鏡群入口及び鏡群出口を有し、鏡群入口が、第2凹面鏡(1222)の、光軸に面する縁部に幾何学的に隣接する位置にあり、鏡群出口が、第1凹面鏡(1221)の、光軸に面する縁部に幾何学的に隣接する位置にあり、投影対物系(1200)のひとみ面(PS1,PS2)が、鏡群入口の近傍及び鏡群出口の近傍に配置される、請求項1、2、5、7又は8のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1凹面鏡(221)から反射した放射光が、第2凹面鏡(222)に当たる前に光軸と交差するように構成されている、請求項1〜9のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1対物系部(210)が、純粋屈折型であり、第2対物系部(220)が、カトプトリック又は反射屈折型であり、第3対物系部(230)が、純粋屈折型である、請求項1〜10のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 投影対物系(200)が凸面鏡をまったく含まない、請求項1〜11のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1対物系部(210)が、拡大結像系として構成されている、請求項1〜12のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第2対物系部(220)が、倍率β2が0.9<|β2|<1.1の範囲にある光学系として構成されている、請求項1〜13のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第3対物系部(230)が、|β3|<1の縮小率β3を有する、請求項1〜14のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第2中間像(204)が、像寸法より大きい寸法を有する、請求項1〜15のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1凹面鏡(121)及び第2凹面鏡(122)の少なくとも一方が、マンジャンミラーとして構成される、請求項1〜16のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1凹面鏡(221)及び第2凹面鏡(222)の少なくとも一方が、前面鏡として構成される、請求項1〜17のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 凹面鏡の少なくとも一方が、光軸から鏡の縁部まで半径方向に減少する絶対値の曲率を有する非球面反射面を有する、請求項1〜18のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 投影対物系(200)が折り曲げ平面鏡をまったく含まない、請求項1〜5又は7〜19のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 凹面鏡(221,222)での最大光ビーム高さが、第3対物系部内での最大光ビーム高さの1.5倍未満である、請求項1〜20のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 凹面鏡(221,222)の直径が、第1及び第2中間像の寸法の150%未満である、請求項1〜21のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 投影対物系(200)内のすべての光ビームが、前記第3対物系部の光軸の周りで物体面から像面まで延びかつ前記第3対物系部内での最大ビーム高さの1.5倍の最大半径を有する円筒として画定された空間内に位置する、請求項1〜22のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 最大自由直径が、前記第3対物系部内での最大ビーム高さの2.4倍である、請求項1〜23のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1凹面鏡(221)の半径R1と第2凹面鏡(222)の半径R2との間で、0.7<|R1/R2|<1.3の関係が満たされる、請求項1〜24のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1凹面鏡(221)の半径R1と、第2凹面鏡(222)の半径R2と、2つの凹面鏡の間の光軸上の距離dとの間で、0.7<(|R1|+|R2|)/2/d<1.3の関係が満たされる、請求項1〜25のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 自由入射面及び自由出口面を有する少なくとも1つのレンズ(2328,2325,2326)が、第1及び第2凹面鏡(2321,2322)の間で画定された鏡間空間内に配置される、請求項1〜26のいずれか1項に記載の投影対物系。
- レンズが、凹面鏡へ往復する放射光が2回透過するように配置される鏡関連レンズであり、及び1又は鏡関連レンズ(2325,2326)が、負の屈折力、及びそれに割り当てられた凹面鏡の湾曲方向と同様な湾曲方向を有するメニスカスレンズであり、及び/又は鏡関連レンズ(2325,2326)が、対応の凹面鏡が位置する光軸の側に配置された切頭レンズとして構成される、請求項27に記載の投影対物系。
- 第1及び第2凹面鏡(2321,2322)の間で画定された鏡間空間内に少なくとも1つのレンズ(2328)が配置され、そのレンズが物体面及び像面間で光ビームにより3回透過される、請求項1〜28のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1凹面鏡(621)及び第2凹面鏡(622)が、同一の湾曲面を有するように構成される、請求項1〜29のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1凹面鏡(621)及び第2凹面鏡(622)が、最初に第1及び第2凹面鏡用の鏡ブランクを作製して鏡面の所望の凹面形状を得た後、鏡ブランクを分離して、第1及び第2凹面鏡として使用される2つの切頭鏡にするようにして製造される、請求項1〜30のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第2対物系部が、第1凹面鏡(621)及び第1鏡関連レンズ(651)からなる第1反射屈折サブ群と、第2凹面鏡(622)及び第2鏡関連レンズ(652)からなる第2反射屈折サブ群とを含み、これらの反射屈折サブ群が、同一に構成される、請求項1に記載の投影対物系。
- 第1及び第2凹面鏡の凹面が、非球面である、請求項1〜32のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1及び第2凹面鏡によって画定された鏡間空間内で、中間像と、光学的に中間像に近い対応の凹面鏡との間に少なくとも1つのレンズ(2328)が配置され、そのレンズの少なくとも1つの表面が非球面である、請求項1〜33のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1凹面鏡(921)が曲率c1(単位はmm-1)を有し、第2凹面鏡(922)が曲率c2(単位はmm-1)を有し、D(単位はmm)が第3対物系部のレンズ素子の最大直径であり、
1<D/(|c1|+|c2|)・10-4<6
の条件が満たされる、請求項1〜34のいずれか1項に記載の投影対物系。 - Rが非球面鏡面の曲率半径であり、Dが直径であり、p=R−(R2−D2/4)0.5であるとき、少なくとも1つの凹面鏡が、p>0.22Rの条件を満たす、請求項35に記載の投影対物系。
- 第1中間像(1203)が、幾何学的に第1及び第2凹面鏡(1221,1222)の間で画定された鏡間空間内に位置し、第2中間像(1204)が、鏡間空間の外に配置されるように、投影対物系(1200)が構成される、請求項1、2、5、7〜9、12、15、16、20〜26のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1及び第2凹面鏡(1221,1222)が、光軸の同一側に位置する、請求項1、2、5、7〜9、12、15、16、20〜27又は37のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1凹面鏡(221)及び第2凹面鏡(222)が、光軸の対向側に位置する、請求項1〜5、7、10〜38のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1及び第2凹面鏡の間で画定される鏡間空間の外で、第1及び第2凹面鏡(1221,1222)によって画定される鏡群と第2中間像(1204)との間に少なくとも1つのレンズ(1228)が配置される、請求項1、2、5、7〜9、12、15、16、20〜27、37又は38のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 投影対物系が、非球面入射面と非球面出口面とを有する少なくとも1つの両非球面レンズ(996)を含み、両非球面レンズ(996)が、ひとみ面と像面との間に配置される、請求項1〜40のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1対物系部(210)が、像面に面する凹面を有する少なくとも1つのレンズを含む、請求項1〜41のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1対物系部(210)が、ひとみ面と、物体面及びひとみ面の間に配置された第1レンズ群とを含み、第1レンズ群が、正レンズ、負レンズ及び正レンズをこの順に含み、負レンズが、像に面する凹面を有する、請求項1〜42のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第2対物系部(1120)の光学素子の最大直径が、第3対物系部(1130)のレンズの最大直径以下である、請求項1〜43のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第3対物系部(230)が、ひとみ面と、第2中間像(204)及びひとみ面間に配置された負屈折力とを含み、ビーム路内に浅いウエストが画定されるようになっていて、ウエストと像面(202)との間に負レンズがまったく配置されない、請求項1〜44のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第3対物系部(230)が、わずか2つの負レンズを含む、請求項1〜45のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 像側開口数NA>0.9である、請求項1〜46のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 投影対物系(200)が、収差に関して適応された液浸対物系として構成されていて、最後の光学素子と像面との間の像側作動距離が、1より大きい屈折率の浸漬媒体で満たされるようになっている、請求項1〜47のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 物体側端部及び像側端部の両方でテレセントリックであり、及び/又は共心の入射ひとみを有する、請求項1〜48のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1対物系部(210)内に開口絞り(A)が設けられ、又は第2対物系部内に開口絞りが設けられ、又は第3対物系部内に開口絞りが設けられる、請求項1〜49のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 120nmから260nmにわたる波長範囲に入る紫外線で使用されるように構成される、請求項1〜50のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1凹面鏡(1321)が第1非球面鏡面を有し、第2凹面鏡(1322)が第2非球面鏡面を有し、第1及び第2鏡面が同一の非球面形状を有し、及び/又は第2対物系部が2つの凹面鏡を有し、その各々が非球面鏡面を有しており、第1及び第2鏡面が同一の非球面形状を有し、及び/又は第2対物系部が、同一の非球面形状を有する非球面鏡面を有する2つの凹面鏡だけからなるカトプトリック対物系部である、請求項1〜51のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1及び第2凹面鏡(1421)の少なくとも一方が、放物面形状を有する鏡面を有する、請求項1〜52のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1対物系部(1710)が、純粋屈折型であって、正レンズだけを有する、請求項1〜7、10〜36又は39〜53のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1対物系部(1710)が、純粋屈折型であって、6個のレンズだけを有する、請求項1〜7、10〜36又は39〜54のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1対物系部(1710)が、純粋屈折型であって、レンズ素子と非球面とを含み、レンズ素子の数と非球面の数との比が1.6未満である、請求項1〜7、10〜36又は39〜55のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1対物系部(1710)の、物体面の直後の第1レンズ素子(1712)が、物体面に面する非球面を有し、その非球面は、平坦であって、非球面の各点での局部半径R>300mmである、請求項1〜56のいずれか1項に記載の投影対物系。
- すべての負レンズが、ひとみ面から光学的に離して配置される、請求項1〜57のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 投影対物系(1800)が、非球面の光学的使用領域内に変曲点がない表面形状を有する非球面を有する少なくとも1つの光学素子を有する、請求項1〜58のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 光学的使用半径hoptによって画定される光学的使用領域を含み、hmax=hopt+ORかつORが少なくとも5mmであるときに、その領域を越えて最大高さhmax>hoptまで進む領域内で、非球面が極限点を有さない、請求項60に記載の投影対物系。
- 少なくとも1つの極限点を有する非球面が、光学的使用領域全体にわたって平坦である、請求項1〜61のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 少なくとも1つの極限点を有する少なくとも1つの非球面を備え、その非球面は、光学素子の光学的使用部分全体にわたって平坦であり、pmax=0.5mmのとき、その非球面について、
|p(h)|<pmax
の条件が成り立つようにした、請求項1〜62のいずれか1項に記載の投影対物系。 - 第1対物系部(2210)が、凹面鏡(2213)と、湾曲鏡面を有する少なくとも1つの追加鏡(2214)とを含み、凹面鏡及び追加鏡の湾曲鏡面が、互いに向き合っている、請求項1、2、5、7、10、13、15、16、20、39又は47〜51のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 追加鏡(2214)が、凸面鏡面を有する、請求項64に記載の投影対物系。
- 追加鏡(2313)が周縁光線高さが結像プロセスの主光線高さを超える位置に位置する、請求項64又は65に記載の投影対物系。
- 第1対物系部が、反射屈折型であって、凹面鏡(2312)及び追加鏡(2313)に加えて、少なくとも1つのレンズ(2314)を含む、請求項64〜66のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第2対物系部が、第1鏡面を有する第1凹面鏡(2321)と、第2鏡面を有する第2凹面鏡(2322)とを含み、これらの凹面鏡の凹面鏡面が、互いに向き合って、鏡間空間を画定する、請求項64〜67のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 投影対物系が正確に3つの凹面鏡(2312,2321,2322)を有する、請求項64〜68のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 投影対物系のすべての凹面鏡(2312,2321,2322)が、主光線高さが結像プロセスの周縁光線高さを超える位置に配置される、請求項64〜69のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1対物系部(2310)及び第2対物系部(2320)及び第3対物系部(2330)が、共通の直線状の光軸を共用する、請求項64〜70のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 第1対物系部(2310)が拡大結像系として構成される、請求項64〜71のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 投影対物系の光学素子間の空き空間を満たすために、少なくとも1つの充填ガスが使用され、その充填ガスが、空気及び窒素及びヘリウムのうちの1つである、請求項1〜72のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 少なくとも1つの非球形円錐鏡を有する、請求項1〜73のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 複数のレンズを有し、50%を超えるレンズが非球面レンズである、請求項1〜74のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 照明系と反射屈折投影対物系とを有してマイクロリソグラフィに使用される投影露光系であって、投影対物系が、請求項1〜75のいずれか1項に従って構成される、投影露光系。
- 半導体デバイス又は他の形式のマイクロデバイスを作製する方法であって、
所定パターンを有するマスクを設ける工程と、
所定波長を有する紫外線でマスクを照明する工程と、
請求項1〜75のいずれか1項に記載の反射屈折投影対物系を使用して、投影対物系の像面の近傍に配置された感光基材上にパターンの像を投影する工程と、
を含む方法。
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