JP5165700B2 - 瞳補正を有する反射屈折投影対物系 - Google Patents
瞳補正を有する反射屈折投影対物系 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5165700B2 JP5165700B2 JP2009551916A JP2009551916A JP5165700B2 JP 5165700 B2 JP5165700 B2 JP 5165700B2 JP 2009551916 A JP2009551916 A JP 2009551916A JP 2009551916 A JP2009551916 A JP 2009551916A JP 5165700 B2 JP5165700 B2 JP 5165700B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- projection objective
- plane
- lens group
- image
- pupil plane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
- G02B17/0804—Catadioptric systems using two curved mirrors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
- G02B17/0804—Catadioptric systems using two curved mirrors
- G02B17/0812—Catadioptric systems using two curved mirrors off-axis or unobscured systems in which all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
- G02B17/0804—Catadioptric systems using two curved mirrors
- G02B17/0816—Catadioptric systems using two curved mirrors off-axis or unobscured systems in which not all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry, e.g. at least one of the mirrors is warped, tilted or decentered with respect to the other elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
- G02B17/0892—Catadioptric systems specially adapted for the UV
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70341—Details of immersion lithography aspects, e.g. exposure media or control of immersion liquid supply
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lenses (AREA)
Description
p(h)=[((1/r)h2)/(1+SQRT(1−(1+K)(1/r)2h2))]+C1・h4+C2・h6+…
ここで、半径の逆数値(1/r)は、問題とする面の面頂点における曲率であり、hは、この面上の点の光軸からの距離である。従って、サジッタ又は立ち上がり高さp(h)は、z方向、すなわち、光軸に沿って測定した問題とする面の頂点からのその点の距離を表している。定数K、C1、C2等は、表1Aに列記されている。
φ=Σωiφi
ここで、φは、全体的な屈折力であり、φiは、屈折率iの単一のレンズの屈折力であり、ωiは、MRHiがレンズiにおける周辺光線高さであり、MRH1が第1の瞳面における周辺光線高さである時の比MRHi/MRH1である。
PTZ=Σφi/ni=0
ここで、値PTZ=0は、完全に平坦な(平面)面を表している。
RMS R=SQRT(ΣR2 i)/k=SQRT(Σ(Xi−X0)2+(Yi−Y0)2)/k
ここで、Xi、Yiは、光線iの像平面におけるx及びy座標であり、kは、光線数であり、X0、Y0は、像面内の光線座標の平均位置である。
Claims (27)
- 物体面に配置された軸外物体視野を投影対物系の像面に配置された軸外像視野上に結像するように配置された複数の光学要素と、
少なくとも1つの補正要素と、
を含み、
前記光学要素は、
前記物体面から到来する放射線から第1の中間像を発生させ、かつ第1の瞳面を含む第1の屈折対物系部分、
前記第1の中間像を第2の中間像へと結像する少なくとも1つの凹面ミラーを含み、かつ前記第1の瞳面と光学的に共役な第2の瞳面を含む第2の対物系部分、及び
前記第2の中間像を前記像面上に結像し、かつ前記第1及び第2の瞳面と光学的に共役な第3の瞳面を含む第3の対物系部分、
を形成し、
前記物体面と前記第1の瞳面との間に配置された光学要素が、該第1の瞳面に対して光学的に近くに配置された負のレンズ群を含むフーリエレンズ群を形成し、
前記少なくとも1つの補正要素は、前記第1の瞳面に挿入されるか、又は該第1の瞳面に光学的に近い瞳空間に挿入されるように構成され、
前記補正要素は、少なくとも1つの非球面表面を有し、
前記負のレンズ群は、光線高さ比RHR=CRH/MRHに対して条件|RHR|<0.2が満たされるように周辺光線高さMRHが主光線高さCRHよりもかなり大きい領域に配置された少なくとも1つの負のレンズを含む、
ことを特徴とする反射屈折投影対物系。 - 第1の形状を有する補正要素が、投影露光装置から投影対物系を取り外すことなく、該第1の形状とは異なる第2の形状を有する別の補正要素と交換されるように構成されることを特徴とする請求項1に記載の投影対物系。
- 前記補正要素は、最も近い瞳位置に対して移動又は傾斜されるように構成されることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の投影対物系。
- 前記負のレンズ群は、正のレンズが該負のレンズ群の負のレンズと前記第1の瞳面との間に配置されないように、該第1の瞳面の直ぐ上流に配置されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 前記負のレンズ群は、単一の負のレンズによって形成されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 前記負のレンズ群は、前記第1の瞳面の直ぐ上流に負の両凹レンズを含むことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 前記負のレンズ群は、正のレンズが前記負の両凹レンズと前記第1の瞳面との間に配置されないような該第1の瞳面の直ぐ上流に配置された単一の負の両凹レンズであることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 前記フーリエレンズ群は、前記物体面の直ぐ下流の第1の正のレンズ群、該第1の正のレンズ群の直後の第1の負のレンズ群、該第1の負のレンズ群の直後の第2の正のレンズ群、及び該第2の正のレンズ群の直後にあって前記第1の瞳面に対して光学的に近くに配置された第2の負のレンズ群から成ることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 前記第1の負のレンズ群は、前記光線高さ比RHRに対して条件|RHR|>0.5が成り立つ領域において前記物体面に対して光学的に近くに配置されることを特徴とする請求項8に記載の投影対物系。
- 前記第1の負のレンズ群は、前記物体面に対面する凹面を有する負のメニスカスレンズを含むことを特徴とする請求項8又は請求項9に記載の投影対物系。
- 前記フーリエレンズ群は、前記光線高さ比RHRに対して条件|RHR|>0.5が成り立つ前記物体面に光学的に近い少なくとも1つの非球面表面と、条件|RHR|<0.2が成り立つ前記第1の瞳面に光学的に近い少なくとも1つの非球面表面とを含むことを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 前記フーリエレンズ群は、前記光線高さ比RHRに対して条件0.2<|RHR|<0.5が成り立つ領域において、前記物体面と前記第1の瞳面との間の中間領域に少なくとも1つの非球面表面を含むことを特徴とする請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 開口絞りが、前記第1の瞳面に位置決めされることを特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 前記第3の対物系部分は、前記第3の瞳面と前記像面の間に、
正の前側レンズ群、
少なくとも光軸の周囲の周辺帯域において負の屈折力を有する帯域レンズ、及び
前記像面の直ぐ上流に投影対物系の最後の光学要素を含む正の後側レンズ群、
をこの順序で含む、
ことを特徴とする請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の投影対物系。 - 前記帯域レンズは、正の屈折力を有する中心帯域を有することを特徴とする請求項14に記載の投影対物系。
- 前記帯域レンズは、前記負の帯域レンズの中心帯域から周辺帯域へと高まる負の屈折効果をもたらすように構成された非球面レンズであることを特徴とする請求項14又は請求項15に記載の投影対物系。
- 前記帯域レンズは、前記物体面に対面する凹表面を有するメニスカスレンズであることを特徴とする請求項14、請求項15、又は請求項16に記載の投影対物系。
- 反射屈折投影対物系の全ての光学要素に共通する1つの真っ直ぐな光軸を有する直列システムとして設計されることを特徴とする請求項1から請求項17のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 前記第2の対物系部分は、厳密に2つの凹面ミラーを有することを特徴とする請求項18に記載の投影対物系。
- 前記第2の対物系部分は、前記第2の瞳面に又は該第2の瞳面に対して光学的に近くに位置決めされた厳密に1つの凹面ミラーと、大きい周辺光線高さの領域で該凹面ミラーの前の配置された1つ又はそれよりも多くの負のレンズとを有することを特徴とする請求項1から請求項19のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 前記第3の対物系部分は、純屈折性であることを特徴とする請求項1から請求項20のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 最後の光学要素と前記像面との間の像側作動距離が、1よりもかなり大きい屈折率を有する液浸媒体で充填されるように、収差に関して適応させた液浸対物系として設計されることを特徴とする請求項1から請求項21のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 液浸媒体と共に用いられる時に像側開口数NA>1.1を有することを特徴とする請求項1から請求項22のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 像側開口数NA≧1.4を有することを特徴とする請求項23に記載の投影対物系。
- 約120nmから約260nmに及ぶ波長範囲に収まる紫外線を用いる使用に向けて構成されることを特徴とする請求項1から請求項24のいずれか1項に記載の投影対物系。
- 照明システム及び反射屈折投影対物系を有するマイクロリソグラフィにおける使用のための投影露光システムであって、
投影対物系が、請求項1から請求項25のいずれか1項に従って構成される、
ことを特徴とするシステム。 - 半導体素子又は他の種類のマイクロデバイスを加工する方法であって、
パターンを有するマスクを準備する段階と、
規定の波長を有する紫外線で前記マスクを照明する段階と、
請求項1から請求項25のいずれか1項に記載の反射屈折投影対物系を用いて、前記パターンの像を投影対物系の像平面の近くに配置された感光基板上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/EP2007/001708 WO2008104192A1 (en) | 2007-02-28 | 2007-02-28 | Catadioptric projection objective with pupil correction |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012240860A Division JP5567098B2 (ja) | 2012-10-31 | 2012-10-31 | 瞳補正を有する反射屈折投影対物系 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010519600A JP2010519600A (ja) | 2010-06-03 |
JP5165700B2 true JP5165700B2 (ja) | 2013-03-21 |
Family
ID=38828374
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009551916A Expired - Fee Related JP5165700B2 (ja) | 2007-02-28 | 2007-02-28 | 瞳補正を有する反射屈折投影対物系 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US20100020390A1 (ja) |
JP (1) | JP5165700B2 (ja) |
WO (1) | WO2008104192A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009037077B3 (de) * | 2009-08-13 | 2011-02-17 | Carl Zeiss Smt Ag | Katadioptrisches Projektionsobjektiv |
JP5849613B2 (ja) * | 2011-10-31 | 2016-01-27 | 株式会社リコー | 画像表示装置 |
CN105807410B (zh) * | 2014-12-31 | 2018-11-09 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种基于高数值孔径的折反射式投影物镜 |
JP2019191272A (ja) * | 2018-04-19 | 2019-10-31 | オリンパス株式会社 | 液浸系の顕微鏡対物レンズ |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2177812B (en) * | 1985-07-13 | 1988-09-21 | Pilkington Perkin Elmer Ltd | A catadioptric lens |
JP2001228401A (ja) * | 2000-02-16 | 2001-08-24 | Canon Inc | 投影光学系、および該投影光学系による投影露光装置、デバイス製造方法 |
US7301605B2 (en) | 2000-03-03 | 2007-11-27 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method, catadioptric optical system and manufacturing method of devices |
JP4245286B2 (ja) | 2000-10-23 | 2009-03-25 | 株式会社ニコン | 反射屈折光学系および該光学系を備えた露光装置 |
DE10139177A1 (de) * | 2001-08-16 | 2003-02-27 | Zeiss Carl | Objektiv mit Pupillenobskuration |
JP2003297729A (ja) * | 2002-04-03 | 2003-10-17 | Nikon Corp | 投影光学系、露光装置および露光方法 |
JP4292497B2 (ja) * | 2002-04-17 | 2009-07-08 | 株式会社ニコン | 投影光学系、露光装置および露光方法 |
EP1532489A2 (en) * | 2002-08-23 | 2005-05-25 | Nikon Corporation | Projection optical system and method for photolithography and exposure apparatus and method using same |
US7348575B2 (en) * | 2003-05-06 | 2008-03-25 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
EP1480065A3 (en) * | 2003-05-23 | 2006-05-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method |
WO2006005547A1 (en) | 2004-07-14 | 2006-01-19 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric projection objective |
CN1910494B (zh) * | 2004-01-14 | 2011-08-10 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 反射折射投影物镜 |
DE602005003665T2 (de) | 2004-05-17 | 2008-11-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Katadioptrisches projektionsobjektiv mit zwischenbildern |
KR101199076B1 (ko) * | 2004-06-04 | 2012-11-07 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 강도 변동이 보상된 투사 시스템 및 이를 위한 보상 요소 |
DE102005045862A1 (de) * | 2004-10-19 | 2006-04-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches System für Ultraviolettlicht |
US7511890B2 (en) * | 2005-02-04 | 2009-03-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Refractive optical imaging system, in particular projection objective for microlithography |
JP2006245085A (ja) * | 2005-03-01 | 2006-09-14 | Nikon Corp | 投影光学系、投影光学系の調整方法、露光装置、および露光方法 |
WO2007025643A1 (en) * | 2005-08-30 | 2007-03-08 | Carl Zeiss Smt Ag | High-na projection objective with aspheric lens surfaces |
JP2009508170A (ja) | 2005-09-14 | 2009-02-26 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | マイクロリソグラフィ露光システムの光学システム |
US7738188B2 (en) * | 2006-03-28 | 2010-06-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection objective and projection exposure apparatus including the same |
-
2007
- 2007-02-28 WO PCT/EP2007/001708 patent/WO2008104192A1/en active Application Filing
- 2007-02-28 JP JP2009551916A patent/JP5165700B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-07-29 US US12/511,515 patent/US20100020390A1/en not_active Abandoned
-
2011
- 2011-09-07 US US13/226,615 patent/US8780441B2/en active Active
-
2014
- 2014-06-23 US US14/311,540 patent/US20140300957A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20120002273A1 (en) | 2012-01-05 |
WO2008104192A1 (en) | 2008-09-04 |
US20140300957A1 (en) | 2014-10-09 |
JP2010519600A (ja) | 2010-06-03 |
US8780441B2 (en) | 2014-07-15 |
US20100020390A1 (en) | 2010-01-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7712905B2 (en) | Imaging system with mirror group | |
EP1709472B1 (en) | Catadioptric projection objective | |
US20150226948A1 (en) | Catadioptric projection objective with parallel, offset optical axes | |
KR20100052515A (ko) | 색 보정된 반사굴절 대물부 및 이를 포함하는 투영 노광 장치 | |
US7848016B2 (en) | High-NA projection objective | |
US20140300957A1 (en) | Catadioptric projection objective with pupil correction | |
JP5567098B2 (ja) | 瞳補正を有する反射屈折投影対物系 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100225 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100312 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120420 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120501 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120801 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120808 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20121001 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20121009 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121031 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121126 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121219 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151228 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5165700 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |