JP2018010303A - 露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1面R1の像を第2面上に形成する当該反射屈折投影光学系PL1は、少なくとも6つのミラーM1〜M6を含み、前記第1面R1の第1中間像及び第2中間像を形成する第1結像光学系G1と、前記第2中間像を前記第2面上にリレーする第2結像光学系G2とを備える。
【選択図】図1
Description
ことを特徴とする。
0.2< M/L < 0.7
の条件を満足することを特徴とする。
性能を得ることができる。
光学系を含む露光装置により露光を行なうため、微細なパターンを良好に露光することができる。
発明の第1の実施の形態にかかる反射屈折投影光学系のレンズ構成を示す図である。第1の実施の形態にかかる反射屈折投影光学系PL1は、物体側(即ちレチクルR1側)から順に、第1面に位置するレチクルR1の第1中間像及び第2中間像を形成する第1結像光学系G1と、レチクルR1の第2中間像を第2面に位置するウエハ(図示せず)上にリレーする第2結像光学系G2とから構成されている。
体側に非球面状に形成された凸面を向けた負メニスカスレンズL9により構成されている。また、レンズ群G22は、ウエハ側に非球面状に形成された凹面を向けた両凹レンズL10により構成されている。また、レンズ群G23は、光線が通過する順に、物体側に非球面状に形成された平面を向けた平凸レンズL11、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズL12、両凸レンズL13、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL14、両凸レンズL15により構成されている。
影光学系PL1の振動を軽減することができ、反射屈折投影光学系PL1で良好な結像性能を得ることができる。
射ミラーM13〜M16間にレンズを介在させことなく、光束を反射屈折投影光学系PL2の光軸AX2から大きく離すことができ、光束の干渉を回避することができる。また、光束が4つの反射ミラーM13〜M16により連続して反射させることにより、反射屈折投影光学系PL2の全長の大型化を回避することができる。
ため、各反射ミラーM21〜M26を調整することによりペッツパール条件を容易に満足させることができる。また、各反射ミラーM21〜M26を保持するための領域を確保することができ、各反射ミラーM21〜M26の曲率半径を変更することにより、像面湾曲の補正を容易に行うことができる。また、反射ミラーM26により反射された光束は、第2中間像を形成する。
を容易に行うことができる。
また、この第4の実施の形態にかかる投影露光装置によれば、第1の実施の形態にかかる反射屈折投影光学系PL1、第2の実施の形態にかかる反射屈折投影光学系PL2または第3の実施の形態にかかる反射屈折投影光学系PL3により構成される投影光学系PLを備えているため、レチクル側及びウエハ側の開口数を大きくした場合においても、投影光学系PL内においてレチクル側に向かう光束とウエハ側に向かう光束との光路分離を容易かつ確実に行うことができる。従って、露光領域全域で良好な結像性能を得ることができ、微細なパターンを良好に露光することができる。
面での透過率が高くなるため、投影光学系PLの開口数(NA)が1.0を超えるような場合でも高い結像性能を得ることができる。また、位相シフトマスクや上記特許文献8に開示されているようなラインパターンの長手方向に合わせた斜入射照明法(特にダイポール照明法)などを適宜組み合わせるとより効果的である。
ーンを有する基板、およびカラーフィルタ形成工程402にて得られたカラーフィルタ等を用いて液晶パネル(液晶セル)を組み立てる。セル組み立て工程403では、例えば、パターン形成工程401にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルタ形成工程402にて得られたカラーフィルタとの間に液晶を注入して、液晶パネル(液晶セル)を製造する。
像側NA: 1.20
露光エリア:A=14mm B=18mm
H= 26.0mm C=4mm
結像倍率: 1/4 倍
中心波長: 193.306nm
石英屈折率:1.5603261
蛍石屈折率:1.5014548
液体1屈折率:1.43664
石英分散(dn/dλ): −1.591×10-6/pm
蛍石分散(dn/dλ): −0.980×10-6/pm
純水(脱イオン水)分散(dn/dλ): −2.6×10-6/pm
条件式の対応値 M=524.49mm L=1400mm
像側NA: 1.20
露光エリア: A=13mm B=17mm
H= 26.0mm C=4mm
結像倍率: 1/4 倍
中心波長: 193.306nm
石英屈折率:1.5603261
蛍石屈折率:1.5014548
液体1屈折率:1.43664
石英分散(dn/dλ): −1.591×10-6/pm
蛍石分散(dn/dλ): −0.980×10-6/pm
純水(脱イオン水)分散(dn/dλ): −2.6×10-6/pm
条件式の対応値 M=482.14mm L=1400mm
像側NA: 1.20
露光エリア: A=13mm B=17mm
H= 26.0mm C=4mm
結像倍率: 1/5 倍
中心波長: 193.306nm
石英屈折率:1.5603261
蛍石屈折率:1.5014548
液体1屈折率:1.43664
石英分散(dn/dλ): −1.591×10-6/pm
蛍石分散(dn/dλ): −0.980×10-6/pm
純水(脱イオン水)分散(dn/dλ): −2.6×10-6/pm
条件式 M=508.86mm L=1400mm
Claims (11)
- 物体からの光により液体を介して基板を露光する露光装置であって、
前記物体を保持する第1ステージと、
前記基板が載置される第2ステージと、
前記第1ステージに保持された前記物体を照明する照明光学系と、
前記照明光学系により照明された前記物体の縮小像を、前記第2ステージに載置された前記基板に液体を介して投影する投影光学系と、
を備え、
前記投影光学系は、前記物体からの光により前記物体の第1中間像を形成するとともに前記第1中間像からの光により前記物体の第2中間像を形成する第1結像光学系と、前記第2中間像からの前記光により前記縮小像を形成する第2結像光学系と、を含み、
前記第1及び第2結像光学系に含まれる各光学素子の光軸は、単一直線上に設けられ、
前記第2結像光学系は、開口絞りと複数のレンズとを含む複数の透過型光学素子により構成されて前記単一直線を含まない領域に前記縮小像を形成し、
前記第1結像光学系は、第1凹面ミラー及び第2凹面ミラーを含み、前記第1及び第2凹面ミラーの反射面は、前記物体からの光のうち前記開口絞りを通過可能な光を反射させるために必要な反射領域が前記単一直線と交差しないように配置されている、
露光装置。 - 請求項1に記載の露光装置であって、
前記複数のレンズは、前記物体からの光の光路のうち前記第1結像光学系と前記開口絞りとの間の光路に配置された2つの凹レンズと、前記2つの凹レンズと前記開口絞りとの間の光路に配置された複数の凸レンズとを含む、露光装置。 - 請求項2に記載の露光装置であって、
前記2つの凹レンズは互いに隣り合って配置されている、露光装置。 - 請求項2または3に記載の露光装置であって、
前記2つの凹レンズは両凹レンズを含む、露光装置。 - 請求項2〜4のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記複数のレンズは、前記物体からの光の光路のうち前記第1結像光学系と前記2つの凹レンズとの間の光路に配置された少なくとも1つの凸レンズを含む、露光装置。 - 請求項1に記載の露光装置であって、
前記複数のレンズは、前記物体からの光の光路のうち前記第1結像光学系と前記開口絞りとの間の光路に配置された両凹レンズと、前記両凹レンズと前記開口絞りとの間の光路に配置された複数の凸レンズとを含む、露光装置。 - 請求項6に記載の露光装置であって、
前記複数のレンズは、前記物体からの光の光路のうち前記第1結像光学系と前記両凹レンズとの間の光路に配置された少なくとも1つの凸レンズを含む、露光装置。 - 請求項1〜7のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記第2凹面ミラーは、前記第1凹面ミラーからの光をレンズを介さずに反射するように配置されている、露光装置。 - 請求項1〜8のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記第2結像光学系は平凸レンズを含み、前記平凸レンズの平面状の透過面は前記基板に対向し液体に接触するように配置されている、露光装置。 - 請求項1〜9のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記照明光学系は前記物体を直線偏光で照明する、露光装置。 - 回路パターンを有するデバイスを製造するデバイス製造方法であって、
請求項1〜10のいずれか一項に記載の露光装置を用い、マスクに形成されたパターンからの光により液体を介して基板を露光することと、
前記パターンからの光により露光された前記基板を現像することと、
を含むデバイス製造方法。
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