JP2001166210A - 2つの中間像を持つ反射屈折対物レンズ - Google Patents
2つの中間像を持つ反射屈折対物レンズInfo
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Abstract
し、減少したレンズ直径と高い性能とを持つ高解像対物
レンズを可能にする。 【解決手段】 第1の部分対物レンズと、第1の中間像
と、第2の部分対物レンズと、第2の中間像と、第3の
部分対物レンズとを含み、前記部分対物レンズのうち少
なくとも1つは純粋に屈折性である。
Description
つ反射屈折対物レンズに関する。
許第4,701,035号のマイクロリソグラフィ投影
露光システムとして知られている。その図12に示され
ている対物レンズは、2つの反射部分対物レンズと1つ
の反射屈折部分対物レンズとを含む。全ての対物レンズ
はオフ・アクシスであり、軸対称でもなく、純粋な球面
システムである。
つ反射屈折対物レンズは、Elliott及びShaf
erに付与された米国特許第5,488,299号と、
Schusterに付与されたドイツ特許第196 3
9 586号(米国シリーズNO.09/263,78
8)との、軸対称でかつ中央にオブスキュレーション(o
bscuration)を持つマイクロリソグラフィ投影光学シス
テムとして知られており、後者は、本発明の譲受人に与
えられ、本発明の参照文献として引用される。
nginミラーを形成するミラー間のライトパスに配置
されているミラーのうちの1つのミラーの中央開口部付
近の中間像を紹介している。それらの光学表面は、すべ
て球面である。Schusterは、ミラーが非球面で
あることだけを示し、それらの間のビームパスに大きな
レンズを使うことを避けている。
された米国特許第5,004,331号は、(フライト
シミュレータの)ドームに像を投影するための反射屈折
プロジェクタを開示している。そのシステムは、実質的
な平行光線を受け入れる手段としての外部入射瞳と、反
射瞳リレー光学システムをもう1つの凹面ミラーと共に
形成する非球面凹面ミラーの中央開口部に配置された、
瞳像を形成する回転対称の同軸レンズによる屈折サブシ
ステムとを含む。両方のミラーは、屈折サブシステムの
光軸に対して傾いている。全体のシステムは、球面ドー
ム上に広範囲の視野像を準備する。全可視スペクトルの
色補正は、異なるガラスを組み合わせることによって得
られる。
されたレンズ直径と高い性能とを持つ高解像度対物レン
ズを製作可能にする新規な設計を提供することである。
これらの設計は、顕微鏡検査法またはマイクロリソグラ
フィのVUVスペクトル領域に有効に利用される。
像を持つ軸対称の反射屈折対物レンズを使用すること、
2つの屈折部分対物レンズと1つの反射屈折部分対物レ
ンズとを組み合わせること、第1の部分対物レンズと、
第1の中間像と、第2の部分対物レンズと、第2の中間
像と、第3の部分対物レンズとを組み合わせることある
いは第1の部分対物レンズと、中間像と、第2の部分対
物レンズとを組み合わせることにより解決できる。
部分対物レンズと1つの反射屈折対物レンズ、及び、2
つの中間像と少なくとも1つの屈折部分対物レンズは、
本願発明の新しい特徴のそれぞれ異なった記述である。
レンズに明確にグループ化することにより与えられ、そ
の反射部分対物レンズは、1つ或いはそれ以上の純粋屈
折部分対物レンズと協働する。この場合、反射部分対物
レンズは、Petzval和の減少、つまりフィールド
平坦化の負担を受け持つという条件がつく。屈折部分対
物レンズは、これにより正負のレンズ・グループによる
ビームの収縮と拡張との必要性から解放されるが、この
ことは、マイクロリソグラフィ投影露光レンズを用いて
以前から確立されている。例えば、米国特許第5,26
0,832号または米国特許第5,903,400号、
8−13ページ、Glatzel E.のZEISS情
報26(1981年)を参照のこと。結論として屈折部
分対物レンズは簡単化され、レンズ直径は減少される。
これは、特にVUVスペクトル領域に使用するという本
提案に対して、適切なクリスタル、つまり石英ガラスの
材料供給の点で大きな軽減となる。
に好都合な軸対称構成を可能にする凸面ミラーと対向す
る2つの同軸の中央オブスキュレーションを有する構成
である。前述のSchuster、または、Ellio
tt及びShaferの設計に関連する。それはとりわ
け、機械的剛性の点および屈折対物レンズに適合する確
立されたステッパ/スキャナ構造との互換性の点から有
利である。
形成を劣化させる作用があるので、(その効果は、環状
または4極照明、または瞳フィルタおよびアポダイゼー
ションにおいて、多くの場合好んで利用されるにして
も)本設計のミラーの中央孔によるオブスキュレーショ
ンの減少には重要性がある。
ることにより、オブスキュレーションを減少させる方法
を開示する。また、中央開口部の量的限界についても本
発明は述べるものである。
との間に挿入される構成についても開示する。これら
は、1つの材料の色補正を与えるために、負のレンズと
してミラーと協働し、レーザ光源を帯域縮小する必要
性、またはVUVにおいて1対のレンズ色消し用材料を
使用する必要性を軽減する。
ミラー内腔の各々における主光線の高さが大体同じ値で
ある構成をも開示する。この方法は、中央オブスキュレ
ーションを最小にでき、特に有利である。
折部分対物レンズによって固定される構成もらもまた好
ましい。なぜなら、部分対物レンズを包含するミラーに
よって接続される両方の中間像「平面」が、この部分対
物レンズの特定の補正能力を最も利用できるように曲げ
られるからである。
おいてもむしろ普通であるが、本発明では、非球面レン
ズ表面のこの設計における有利性を証明する構成をさら
に開示する。屈折投影露光対物レンズに関して、最近確
立されたすべての長所と制限とは、本発明の設計におけ
る非球面平面の使用に対しても適用されるが、それら
は、例えば、本発明の参照文献として引用されているS
chusterのドイツ特許第19922209号と、
それに記載されている参照文献とに述べられている。
ズのためにも提案されるが、ちょうど屈折性の設計に役
立つのと同様に本発明にとって有用である。
イクロリソグラフィ投影露光システムに組込まれる。本
発明は、同様に、そのような対物レンズのマイクロリソ
グラフィ投影露光に対する有利な使用法を示す。
基づいてより詳細に説明される。図1の例は、マイクロ
リソグラフィのスキャナ投影露光装置用の減少比6:1
の対物レンズで、像フィールドの直径が18.4mm、
像側でNA=0.75、及び、対物レンズ空間と像空間
とにおけるテレセントリックである。
れ、システムは157nmF2エキシマレーザによる照
射に適合する。勿論、例えば石英ガラスで193nmと
いった他の材料と波長とに対する修正は可能である。
減少比−1/4.27を持つ。この部分対物レンズS1
は、直径が約130mmの比較的大きな4つのレンズを
含む第1のレンズグループLG1と、開口平面の後ろで
約80mmもしくはそれより小さな直径に大幅に減少さ
れたレンズ群を含む第2のレンズグループLG2とを有
する。ここで、ただ1つの非球面レンズ面は、開口平面
直後の表面9上に設けられる。第1の中間像IMI1に
ひき続いて第2の部分対物レンズS2がある。この第2
の部分対物レンズS2は中央孔を有する2つの対向する
凹面非球面ミラーM1およびM2を持つ反射屈折であ
る。2つのミラーM1とM2との間に、2つの負のメニ
スクスレンズ25、26および27、28が配置されて
いる。それらを光ビームが3回通過する。その拡大比は
−1/0.99である。そのような1に近い拡大率は、
高度に対称な構成と最適なひずみ補正とを可能にする。
ん曲補正とに特に適している。従って、ただ1つのレン
ズ材料CaF2だけでも、この対物レンズは狭められて
いないF2レーザの±1.2pmという比較的広いレー
ザバンド幅を受け入れることができる。
もまた屈折性の第3の部分対物レンズS3が設けられ
る。強く曲げられたメニスクス29、30において、発
散光ビームが採り入れられる。ここでは、レンズ表面4
0と41との間の正の空気レンズ(すなわち正のレンズ
の形をした空気空間)が特徴的である。その減少比−1
/1.42により、システム全体の減少比が得られる。
た直径の比較的少数の要素から構成されることを示して
いる。
くいので実際の採算性を助けることになる。また、Ca
F2のライトパスは限られているので、157nmにお
ける吸収が大きいという問題を緩和する。
同軸構成のために必要とされる中央オブスキュレーショ
ンは、それ自体ある程度の欠点であり、基本的に対物レ
ンズの変調伝達関数を低下させる。しかし一般の屈折投
影露光対物レンズにおいてさえ、調整システムなどのビ
ームパスに適応するために、小さいが顕著な中央オブス
キュレーションが入っている。たとえミラー直径が実用
的なサイズの場合でも、中央オブスキュレーションを小
さく保持する設計努力がなされている。
2つの孔のところで値が等しく符号が逆の時に最小にな
ることが分かっている。さらにミラー孔は、ビームの直
径が最小になる、2つの像IMI1およびIMI2の隣
に配置される。また、第1の部分対物レンズS1は、こ
の孔を徹底的に小さく保つためにかなりの像減少を持
ち、それにより、ミラー直径全体も実際的なコンパクト
な値に抑えられている。
ける最も近い光線よりも2.0mm大きくとられる。
面9の直前にある第1の部分対物レンズS1の瞳(開
口)平面に挿入されることが推奨される。このマスク
は、エリアの4.1%に等しい直径の20.25%のサ
イズにするべきである。そうするとフィールドの端部に
おけるエリアオブスキュレーションは、中央部と等しい
値を持ち、MTFカーブは、フィールドの全体に亘って
完全に一様となる。
ィールドに亘る0.011ウェーブrmsよりも良く、
17×6mm2のフィールドに亘る0.009ウェーブ
rmsより少ない。ひずみは2.4ppmで、ずれの中
央値は10nmである。
34nm/pmに達し、それにより、狭められていない
F2レーザの±1.2pmのバンド幅を受け入れること
ができる。
NA=0.75と同じく、増加した像フィールド22×
9mm2を持つ一方、減少比は5:1に変わっている。
システムは、第1の例と全体的に近似しているが、いく
つかの重要なずれがある。
面に向かって凹面である2つのメニスクス209、21
0と211、212とによって囲まれた開口平面を持
つ。ここで上述のように、オブスキュレーションディス
クODは、フィールドに独立したオブスキュレーション
を得るために挿入される。
面であり、第1のものは開口平面の隣にあって角度の偏
差に影響し、第2のものはよりフィールド領域内にあ
る。第1の部分対物レンズS1の像ング比は−1/4.
67である。従って反射屈折部分対物レンズは非常に小
さくすることができる。
であり、2つの非球面ミラーM21、M22と、2つの
負のメニスクスレンズ223と224、および、225
と226を持つ。ここでは、それらの距離は大きく減少
しているが、ビームパス内の角度は増加している。その
ため、所定の大きなフィールドと大きなNAとにおい
て、わずか230mmという非常に制限された直径を可
能にする。減少比は−1/0.97である。この実施形
態においても、中央オブスキュレーションは直径で20
%であり、全フィールドに亘って一定である。
ラーM21とM22の孔を小さくさせることができるこ
と及びその間にあって必要な色補正を与えるレンズ22
3、224と225、226のかなり強い屈折力が、こ
の実施形態に特有なものである。ミラーM21とM22
とは、球面からの最大偏差が150マイクロメータに限
定された非球面であり、好適な生産と検査とを可能にし
ている。
レンズ上の像品質を向上することができる。ここで、第
3の負のレンズは、必要であれば色補正をさらに最適化
するであろう。
1のメニスクスレンズ227と228とが、図1よりも
さらにもっと曲げられていることを示している。これは
コマ補正に役立つ。第2のレンズ229および230は
また、中間像IMI側でメニスクス凹面であるが、これ
は、2つの最終レンズ249、250と251、252
とが像平面Imに向かってメニスクス凹面であるから
で、このことは、球面収差のアプラナティズム及び補正
にとって好ましい。
れる正の空気レンズは、球面収差の主要な部分を補正す
る。この効果のために、それはフィールド領域よりも対
物レンズの瞳領域により好ましく配置される。しかしな
がら、瞳平面の前方のその配置は、空気レンズがサジタ
ルおよび接線方向の斜め球面収差にも作用することを可
能にする。
ンズ245および246は、その前面に作られた空気区
間と共に、前述の空気空間の効果を補助する。この第3
の部分対物レンズS3の像ング比は、1に近い−1/
1.11である。しかしその配置は、瞳平面に対して対
称とはほど遠く、そのために強く歪められた中間像IM
Iは、像平面Imにおいて高度に補正された像に変換さ
れる。
用を持つ:ずなわち、S1は減少を行い、S2は色およ
びPetzval補正を行い、そしてS3は像ングエラ
ーの微調整を行う。この第2の実施形態は、最良のエラ
ー補正までの微調整はされていないが、そのような設計
が実行可能である。
は、次式で表される。 z=AS2xh4+AS3xh6+AS4xh8+AS5
xh10+AS6xh12+AS7xh14 ここで、z=球面からの軸偏差、h=光軸からの半径方
向高さである。
射部分対物レンズS31と、純粋屈折部分対物レンズS
32とを、中間像IMIと共に持つ例である。これによ
り、前記実施形態である反射屈折部分対物レンズにおい
て、大きな負のレンズの使用を避けることができる。こ
こでミラーM1およびM2は、純粋にPetzval補
正(フィールドわん曲の補正)のために使われる。
ズS32によって定められる。異なるレンズ材料を使う
ことにより、色消しが可能となる。DUV/VUVエキ
シマレーザ・システムについては、フッ化物の組み合わ
せ、すなわちフッ化カルシウム(ホタル石)、フッ化バ
リウム、フッ化ストロンチウム、NaF、Lifなど、
および/または、石英ガラスの組み合わせ、また特にド
ープ処理されたバージョンも含めた上記の組み合わせが
好ましい。すなわち、157nmでのマイクロリソグラ
フィには、例えば、フッ化カルシウム製の正のレンズL
1およびL3と、フッ化バリウムまたはNaF製の負の
レンズL2とが使用可能である。
の対物レンズについては、屈折部分対物レンズS32
は、普通もっと多くのレンズを持っており、図に示すレ
ンズL1からL3は概略的な典型例である。
ンズS32は、完全屈折光学システムと比べて、Pet
zval補正を行う必要がないので簡略化できる。従っ
て、従来の屈折マイクロリソグラフィ減少投影対物レン
ズにおける2つまたはそれ以上の節を持つ節と腹との構
成は必要とされない。それほど重要でないビーム減少の
ための、ただ1つの節が残るだけである。その結果、屈
折部分対物レンズS32は、短くでき、直径を小さくで
き、そしてレンズの数を少なくできる。透過およびコン
トラストはこうして増加し、コストは低減される。非球
面レンズ表面は、この効果にさらに役立つ。
で、その直径は重要ではない。すなわち、例えば直径が
1m以上の精密非球面ミラーは、天文学に関する技術で
ある。明らかに、反射および屈折部分対物レンズの配置
もまた、順番を変えることができる。そうすると反射部
分光学システムの直径は、屈折部分対物レンズの像ング
比の結果として減少する。
正用の設計空間をより大きくとるために、もしこの光学
システムがまた、図4の例に示すように、第1の屈折部
分対物レンズS41と、反射部分対物レンズS42と、
中間像IMI1とIMI2とを持つ第2の屈折部分対物
レンズS43とに拡張されると有利である。このように
して、最小のオブスキュレーションを持つ最初の2つの
実施形態の長所と、ミラーM1とM2との間に大きなレ
ンズを持たない第3の実施例の長所とを組み合わせるこ
とができる。
これは、すべてのレンズがクリスタルの157nmの対
物レンズで、大部分がLiF、ある部分がNaFであ
り、1.5pmバンド幅を持つ狭められていないF2レ
ーザに対して優れた色特性をもたらす。減少比は1:
5、最大像フィールド高さは11.88mm、及び、N
A=0.75である。また、最大レンズ直径は190.
5mmで、最大ミラー直径は201mmである。さら
に、全長Ob−Imは1.459mである。
sterおよび同譲受人の1999年6月29日付けド
イツ特許第199 29 701.0号(99032
P)に関連して、ここでは、DUVからVUVのマイク
ロリソグラフィ対物レンズにクリスタル・レンズが使用
される。引用した上記出願はまた、それ全体として本出
願の開示の一部になるべきものである。
負のNaFレンズが入り、加えて、1つの正のNaFメ
ニスクス408、409も入れられ、LiFレンズシス
テム全体の横方向の色収差を減らす。
面で本設計に組み込まれる。その結果、ミラー440お
よび441もまた非球面である。第1の、減少する部分
対物レンズS41においては、第2の腹は1つの非球面
を持ち、第2の節は1つの非球面を持ち、そして第3の
腹は2つの非球面を持つ。第3の部分対物レンズS43
においては、第1の腹は1つの非球面を持つ一方、2つ
の腹の第2番目は2つの非球面を持つ。表3の実施例の
非球面表面は次式で表される。
C1からC6を用い、半径h(光軸に関する光線の高さ)
の関数として表される高さ偏差、δは表で与えられる半
径の逆数である。
る。なぜなら、スペクトル距離1pmの2つのラインに
関して計算された波面エラーが、最大フィールド高さに
おいて8ミリラムダ以下であり、光軸においては5ミリ
ラムダ以下に減少するからである。
は、反射部分対物レンズS42のミラー440および4
41の距離および直径を大きくすることにより、必要に
応じて設計することができる。リング領域フィールド像
形成は、一般に非対称構成の多くの反射および反射屈折
投影露光システムにおいて従来から用いられている。そ
のようなものはまた、本発明の範囲内で実現可能であ
る。その場合、ミラーは、光ビームを入射させるための
オフ・アクシスのリング領域開口部のみを必要とし、そ
の結果瞳だけが円形中央オブスキュレーションと比べて
さらに減少効果がある2領域オブスキュレーションを持
つことになる。
微鏡を概略的に示す。それ自体、DUV/VUV検査顕
微鏡に対して本来の意味があるので、接眼鏡による直接
目視観察は示されていないが、適切で既知のいかなる種
類の像検出器CCDも、対物レンズの像平面に設置され
る。対物レンズは、2つの屈折部分対物レンズS51、
S53と中間反射または反射屈折部分対物レンズS52
とによって構成される。実施形態は、2つの同軸対向ミ
ラーM1およびM2と、その中にある1つの負のレンズ
Lとを有している。
形態に示す通りであるが、像平面と対象平面とを交換す
ることにより、拡大、より高い像ング比、そしてより小
さいフィールドが得られる。照明システムIllは、物
体Obを適切に照明する。
を順番に持ち、減少比が1:6である対物レンズの一例
のレンズ断面を示す。
の別の例を示す。
レンズのレンズ配置概略図を示す。
を順番に持つ本発明の別の例を示す。
を示す。
Claims (34)
- 【請求項1】 2つの中間像を持つことを特徴とする軸
対称の反射屈折対物レンズ。 - 【請求項2】 2つの屈折部分対物レンズと1つの反射
屈折部分対物レンズとを有する反射屈折対物レンズ。 - 【請求項3】 第1の部分対物レンズと、 第1の中間像と、 第2の部分対物レンズと、 第2の中間像と、 第3の部分対物レンズとを含み、前記部分対物レンズの
うち少なくとも1つは純粋に屈折性であることを特徴と
する対物レンズ。 - 【請求項4】 第1の部分対物レンズと、 中間像と、 第2の部分対物レンズとを少なくとも含み、前記部分対
物レンズの一方は純粋に屈折性であり、他方は純粋に反
射性であることを特徴とする対物レンズ。 - 【請求項5】 請求項1から請求項4の少なくとも2つ
の組み合わせによる対物レンズ。 - 【請求項6】 中央に内腔を形成するよう対向配置され
た2つの凹面ミラーと光軸とを有する部分対物レンズを
含み、前記凹面ミラーは前記光軸に関して軸対称に配置
され、それらの凹面表面は互いに対向していることを特
徴とする請求項1〜5のいずれか一項記載の対物レン
ズ。 - 【請求項7】 前記凹面ミラーの各々は前記光軸上に位
置する頂点を持ち、 前記中間像の各々は最大の像高さで前記光軸上に貫通点
を有する表面上に与えられ、 前記頂点の少なくとも1つは、前記貫通点の少なくとも
1つから、前記貫通点を持つ前記像の最大高さ以下の距
離だけ離れていることを特徴とする請求項6記載の対物
レンズ。 - 【請求項8】 少なくとも1つのレンズは、前記2つの
凹面ミラー間のビームパスに配置されることを特徴とす
る請求項6または請求項7記載の対物レンズ。 - 【請求項9】 前記少なくとも1つのレンズは、負の屈
折力を持つことを特徴とする請求項8記載の対物レン
ズ。 - 【請求項10】 前記凹面ミラーは、その各々が前記隣
接する中間像の最大像高さの1.5倍以下の半径を有す
る中央開口部を持つことを特徴とする請求項6から請求
項9のいずれか一項記載の対物レンズ。 - 【請求項11】 前記中央開口部の前記半径の各々は、
前記凹面ミラーにおける前記最大光ビーム高さの25%
未満であることを特徴とする請求項6から請求項10の
いずれか一項記載の対物レンズ。 - 【請求項12】 前記光ビームは、前記2つの内腔にお
いて値が等しく符号が逆である主光線高さを持つことを
特徴とする請求項6から請求項11のいずれか一項記載
の対物レンズ。 - 【請求項13】 第1の屈折部分対物レンズ、 少なくとも1つのミラーを持つ部分対物レンズ、 第2の屈折部分対物レンズが連続配置されることを特徴
とする請求項1から請求項12のいずれか一項記載の対
物レンズ。 - 【請求項14】 前記屈折部分対物レンズの少なくとも
1つのレンズは、非球面表面を持つことを特徴とする請
求項1から請求項13のいずれか一項記載の対物レン
ズ。 - 【請求項15】 前記部分対物レンズの少なくとも1つ
は、回折性の光学要素を含むことを特徴とする請求項1
から請求項14のいずれか一項記載の対物レンズ。 - 【請求項16】 少なくとも1つのミラーを含む前記部
分対物レンズは、−1/0.7と−1/1.3との間の
範囲の拡大比を持つことを特徴とする請求項1から請求
項15のいずれか一項記載の対物レンズ。 - 【請求項17】 前記第1の屈折部分対物レンズは、−
1/3から−1/8までの拡大比を持つことを特徴とす
る請求項13および請求項16記載の対物レンズ。 - 【請求項18】 前記第2の屈折部分対物レンズは、−
1/0.8から−1/2までの拡大比を持つことを特徴
とする請求項13および請求項16、または請求項17
記載の対物レンズ。 - 【請求項19】 前記第1および第2の屈折部分対物レ
ンズの少なくとも1つは、第1の正のレンズグループ
と、負のレンズグループおよび第2の正のレンズグルー
プを含むことを特徴とする請求項1から請求項18のい
ずれか一項記載の対物レンズ。 - 【請求項20】 前記負のレンズグループは、凹面が互
いに対向する少なくとも2つの負のメニスクスを含むこ
とを特徴とする請求項1から請求項19のいずれか一項
記載の対物レンズ。 - 【請求項21】 前記第1および第2の正のレンズグル
ープの少なくとも1つは、少なくとも4つの正レンズを
含むことを特徴とする請求項19または請求項20記載
の対物レンズ。 - 【請求項22】 全てのレンズは、フッ素含有クリスタ
ルなどの同一材料で作られることを特徴とする請求項1
から請求項21のいずれか一項記載の対物レンズ。 - 【請求項23】 レンズは、少なくとも2つの異なるフ
ッ化物から作られることを特徴とする請求項4から請求
項21のいずれか一項記載の対物レンズ。 - 【請求項24】 前記像フィールドは、オフ・アクシス
なリング領域であることを特徴とする請求項1から請求
項23のいずれか一項記載の対物レンズ。 - 【請求項25】 前記第1の部分対物レンズは瞳平面を
持ち、且つ、中央オブスキュレーション装置は、前記瞳
平面の近くに位置することを特徴とする請求項1から請
求項24のいずれか一項記載の対物レンズ。 - 【請求項26】 前記屈折部分対物レンズの少なくとも
1つは、少なくとも第1のレンズグループと第2のレン
ズグループとを持ち、且つ、第1のレンズグループと第
2のレンズグループの一方はより小さいレンズ直径を持
つことを特徴とする請求項1から請求項25のいずれか
一項記載の対物レンズ。 - 【請求項27】 前記少なくとも1つの非球面レンズ表
面は、より小さいレンズ直径を持つ前記レンズグループ
のレンズ上にあることを特徴とする請求項14および請
求項26記載の対物レンズ。 - 【請求項28】 前記第3の部分対物レンズは、前記第
2の中間像からこの部分対物レンズの長さの25%から
75%の距離にある瞳平面の近傍に設けられる少なくと
も1つの正の凹面空気レンズを持つことを特徴とする請
求項1から請求項27のいずれか一項記載記載の対物レ
ンズ。 - 【請求項29】 像側の部分対物レンズは、前記第2の
中間像にひき続くとともに前記中間像の側でメニスクス
凹面である2つの第1のレンズと、前記像に近接すると
ともに前記像側でメニスクス凹面である2つの最終のレ
ンズとを有することを特徴とする請求項1から請求項2
8のいずれか一項記載の対物レンズ。 - 【請求項30】 前記像側の部分対物レンズは瞳平面を
持つとともに前記像平面から前記像側の部分対物レンズ
の長さの25%から75%の間の距離に配置された少な
くとも1つのレンズは前記瞳平面に向かってメニスクス
凹面であることを特徴とする請求項1から請求項29の
いずれか一項記載の対物レンズ。 - 【請求項31】 請求項1から請求項30のいずれか一
項記載の対物レンズを含むことを特徴とする顕微鏡。 - 【請求項32】 請求項1から請求項30のいずれか一
項記載の投影対物レンズを含むことを特徴とするマイク
ロリソグラフィ投影露光装置。 - 【請求項33】 請求項1から請求項30のいずれか一
項記載の投影対物レンズのマイクロリソグラフィ投影露
光のための使用法。 - 【請求項34】 基板のマイクロリソグラフィック方法
であって、 VUV光線でマスクを照射する段階と、 前記マスクの像を前記基板上に、請求項1から請求項3
0のマイクロリソグラフィ記載の投影対物レンズを通し
て投影する段階とを含むことを特徴とする方法。
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