JP2014056255A - 投影光学系、露光装置及び露光方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1面R1のパターンの縮小像を第2面上に形成する反射屈折投影光学系PL1は、第1光学系G11と少なくとも6枚のミラーM1〜M6を含む第2光学系からなる前記第1面R1の第1中間像及び第2中間像を形成する第1結像光学系G1と、前記第2中間像を前記第2面上にリレーする第2結像光学系G2とを備える。
【選択図】図1
Description
0.2< M/L < 0.7
の条件を満足することを特徴とする。
像側NA: 1.20
露光エリア:A=14mm B=18mm
H= 26.0mm C=4mm
結像倍率: 1/4 倍
中心波長: 193.306nm
石英屈折率:1.5603261
蛍石屈折率:1.5014548
液体1屈折率:1.43664
石英分散(dn/dλ): −1.591×10−6/pm
蛍石分散(dn/dλ): −0.980×10−6/pm
純水(脱イオン水)分散(dn/dλ): −2.6×10−6/pm
条件式の対応値 M=524.49mm L=1400mm
像側NA: 1.20
露光エリア: A=13mm B=17mm
H= 26.0mm C=4mm
結像倍率: 1/4 倍
中心波長: 193.306nm
石英屈折率:1.5603261
蛍石屈折率:1.5014548
液体1屈折率:1.43664
石英分散(dn/dλ): −1.591×10−6/pm
蛍石分散(dn/dλ): −0.980×10−6/pm
純水(脱イオン水)分散(dn/dλ): −2.6×10−6/pm
条件式の対応値 M=482.14mm L=1400mm
像側NA: 1.20
露光エリア: A=13mm B=17mm
H= 26.0mm C=4mm
結像倍率: 1/5 倍
中心波長: 193.306nm
石英屈折率:1.5603261
蛍石屈折率:1.5014548
液体1屈折率:1.43664
石英分散(dn/dλ): −1.591×10−6/pm
蛍石分散(dn/dλ): −0.980×10−6/pm
純水(脱イオン水)分散(dn/dλ): −2.6×10−6/pm
条件式 M=508.86mm L=1400mm
Claims (33)
- 第1面に配置され光で照明されるパターンの縮小像を、液体を介して第2面に投影する投影光学系であって、
第1レンズを含み、前記パターンからの前記光により前記パターンの第1中間像を形成する第1光学系と、
複数のミラーを含み、前記第1中間像からの前記光により前記パターンの第2中間像を形成する第2光学系と、
第2レンズを含み、前記第2中間像からの前記光により前記パターンの前記縮小像を形成する第3光学系と、
を備え、
前記第2光学系は、レンズを含まず、
前記第1、第2及び第3光学系に含まれる各光学素子の光軸は、単一光軸上に設けられていることを特徴とする投影光学系。 - 請求項1または2に記載の投影光学系において、
前記第2光学系は、透過型光学素子を含まないことを特徴とする投影光学系。 - 請求項1または2に記載の投影光学系において、
前記複数のミラーは、前記第1中間像からの前記光を反射する反射面のうち前記光が入射する実質的な反射領域が前記単一光軸と交差しないように配置された反射ミラーを含むことを特徴とする投影光学系。 - 請求項3に記載の投影光学系において、
前記反射ミラーは、2つの凹面反射ミラーを含むことを特徴とする投影光学系。 - 請求項3または4に記載の投影光学系において、
前記反射ミラーは、前記第1中間像からの前記光の光路に沿って前記複数のミラーのなかで最も前記第1中間像側に配置された第1凹面反射ミラーを含むことを特徴とする投影光学系。 - 請求項5に記載の投影光学系において、
前記反射ミラーは、前記第1中間像からの前記光の光路に沿って前記複数のミラーのなかで最も前記第2中間像側に配置された第2凹面反射ミラーを含むことを特徴とする投影光学系。 - 請求項3または4に記載の投影光学系において、
前記反射ミラーは、前記第1中間像からの前記光の光路に沿って前記複数のミラーのなかで最も前記第2中間像側に配置された凹面反射ミラーを含むことを特徴とする投影光学系。 - 請求項3に記載の投影光学系において、
前記反射ミラーは、前記複数のミラーのうち、前記パターンが設けられる前記第1面に最も近く配置された凹面反射ミラーを含むことを特徴とする投影光学系。 - 請求項3または4に記載の投影光学系において、
前記反射ミラーは、前記パターンが設けられる前記第1面に反射面を向けて配置された第1凹面反射ミラーを含むことを特徴とする投影光学系。 - 請求項9に記載の投影光学系において、
前記反射ミラーは、前記第2面に反射面を向けて配置された第2凹面反射ミラーを含むことを特徴とする投影光学系。 - 請求項3または4に記載の投影光学系において、
前記反射ミラーは、前記第2面に反射面を向けて配置された凹面反射ミラーを含むことを特徴とする投影光学系。 - 請求項1〜11のいずれか一項に記載の投影光学系において、
前記第3光学系は、開口絞りを含み、
前記第1光学系は、前記パターンからの前記光のうち前記開口絞りの中心部を通過する光線が前記単一光軸から遠ざかるように前記光を射出することを特徴とする投影光学系。 - 請求項12に記載の投影光学系において、
前記第2光学系は、前記第1中間像からの前記光のうち前記開口絞りの中心部を通過する前記光線が前記単一光軸に近づくように前記光を射出することを特徴とする投影光学系。 - 請求項1〜11のいずれか一項に記載の投影光学系において、
前記第3光学系は、開口絞りを含み、
前記第2光学系は、前記第1中間像からの前記光のうち前記開口絞りの中心部を通過する光線が前記単一光軸に近づくように前記光を反射することを特徴とする投影光学系。 - 請求項1〜14のいずれか一項に記載の投影光学系において、
前記第3光学系は、開口絞りを含み、
前記第2レンズは、前記第2中間像からの前記光の光路のうち前記開口絞りの入射側の光路に配置された複数の負レンズを含むことを特徴とする投影光学系。 - 請求項15に記載の投影光学系において、
前記複数の負レンズのなかで前記光を通過させるために必要な口径が最も小さい第1負レンズは、両凹レンズであることを特徴とする投影光学系。 - 請求項16に記載の投影光学系において、
前記複数の負レンズは、前記第1負レンズの入射側の前記光路に、該第1負レンズと隣り合わせに配置された第2負レンズを含むことを特徴とする投影光学系。 - 請求項17に記載の投影光学系において、
前記第2負レンズは、前記第1面側に凸面を向けて配置された負メニスカスレンズを含むことを特徴とする投影光学系。 - 請求項17または18に記載の投影光学系において、
前記第1負レンズと前記第2負レンズとの間の前記単一光軸上の距離は、前記第1負レンズと前記開口絞りとの間の前記単一光軸上の距離より短いことを特徴とする投影光学系。 - 請求項16〜19のいずれか一項に記載の投影光学系において、
前記第2レンズは、前記第1負レンズと前記開口絞りとの間の前記光路に配置された少なくとも3枚のレンズを含むことを特徴とする投影光学系。 - 請求項20に記載の投影光学系において、
前記少なくとも3枚のレンズは、少なくとも3枚の凸レンズを含むことを特徴とする投影光学系。 - 請求項21に記載の投影光学系において、
前記少なくとも3枚の凸レンズは、前記第2面側に凸面を向けて配置された少なくとも1枚の正メニスカスレンズを含むことを特徴とする投影光学系。 - 請求項21または22に記載の投影光学系において、
前記少なくとも3枚の凸レンズは、少なくとも2枚の両凸レンズを含むことを特徴とする投影光学系。 - 請求項1〜23のいずれか一項に記載の投影光学系において、
前記第1レンズは、少なくとも3枚のレンズを含むことを特徴とする投影光学系。 - 請求項24に記載の投影光学系において、
前記少なくとも3枚のレンズは、3枚の凸レンズを含むことを特徴とする投影光学系。 - 請求項1〜25のいずれか一項に記載の投影光学系において、
前記第3光学系は、前記第2面のうち前記単一光軸を含まない領域に前記縮小像を形成することを特徴とする投影光学系。 - マスク上のパターンからの光により液体を介して基板を露光する露光装置であって、
前記基板を支持するステージと、
前記パターンからの前記光により前記パターンの縮小像を、前記ステージに支持された前記基板に前記液体を介して投影する請求項1〜26のいずれか一項に記載の投影光学系と、
を備える露光装置。 - 請求項27に記載の露光装置において、
前記パターンをS偏光で照明する照明光学系を備える露光装置。 - 請求項27または28に記載の露光装置において、
前記投影光学系と前記ステージに支持された前記基板との間の光路に前記液体を供給する液体供給装置を備える露光装置。 - マスク上のパターンからの光により液体を介して基板を露光する露光方法であって、
前記基板をステージにより支持することと、
請求項1〜26のいずれか一項に記載の投影光学系を用いて、前記パターンからの前記光により前記パターンの縮小像を、前記ステージに支持された前記基板に前記液体を介して投影することと、
を含む露光方法。 - 請求項30に記載の露光方法において、
前記パターンをS偏光で照明することを含む露光装置。 - 請求項30または31に記載の露光方法において、
前記投影光学系と前記ステージに支持された前記基板との間の光路に前記液体を供給することを含む露光装置。 - 請求項1〜26のいずれか一項に記載の投影光学系を用いて、マスク上のパターンからの光により液体を介して基板を露光することと、
前記光により露光された前記基板を現像することと、
を含むデバイス製造方法。
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