JP4667580B2 - ２つの中間像を持つ反射屈折対物レンズ - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、２つの中間像を持つ反射屈折対物レンズに関する。
【０００２】
【従来技術】
上記は、Ｈｉｒｏｓｅに付与されたＵＳ特許第４，７０１，０３５号のマイクロリソグラフィ投影露光システムとして知られている。その図１２に示されている対物レンズは、２つの反射部分対物レンズと１つの反射屈折部分対物レンズとを含む。全ての対物レンズはオフ・アクシスであり、軸対称でもなく、純粋な球面システムである。
【０００３】
１つの中間像と屈折部分対物レンズとを持つ反射屈折対物レンズは、Ｅｌｌｉｏｔｔ及びＳｈａｆｅｒに付与された米国特許第５，４８８，２９９号と、Ｓｃｈｕｓｔｅｒに付与されたドイツ特許第１９６ ３９ ５８６号（米国シリーズＮＯ．０９／２６３，７８８）との、軸対称でかつ中央にオブスキュレーション(obscuration)を持つマイクロリソグラフィ投影光学システムとして知られており、後者は、本発明の譲受人に与えられ、本発明の参照文献として引用される。
【０００４】
Ｅｌｌｉｏｔｔ及びＳｈａｆｅｒは、Ｍａｎｇｉｎミラーを形成するミラー間のライトパスに配置されているミラーのうちの１つのミラーの中央開口部付近の中間像を紹介している。それらの光学表面は、すべて球面である。
Ｓｃｈｕｓｔｅｒは、ミラーが非球面であることだけを示し、それらの間のビームパスに大きなレンズを使うことを避けている。
【０００５】
Ｈａｓｅｌｔｉｎｅ ｅｔ ａｌ．に付与された米国特許第５，００４，３３１号は、（フライトシミュレータの）ドームに像を投影するための反射屈折プロジェクタを開示している。そのシステムは、実質的な平行光線を受け入れる手段としての外部入射瞳と、反射瞳リレー光学システムをもう１つの凹面ミラーと共に形成する非球面凹面ミラーの中央開口部に配置された、瞳像を形成する回転対称の同軸レンズによる屈折サブシステムとを含む。両方のミラーは、屈折サブシステムの光軸に対して傾いている。全体のシステムは、球面ドーム上に広範囲の視野像を準備する。全可視スペクトルの色補正は、異なるガラスを組み合わせることによって得られる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、減少されたレンズ直径と高い性能とを持つ高解像度対物レンズを製作可能にする新規な設計を提供することである。これらの設計は、顕微鏡検査法またはマイクロリソグラフィのＶＵＶスペクトル領域に有効に利用される。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
この問題は、２つの中間像を持つ軸対称の反射屈折対物レンズを使用すること、２つの屈折部分対物レンズと１つの反射屈折部分対物レンズとを組み合わせること、第１の部分対物レンズと、第１の中間像と、第２の部分対物レンズと、第２の中間像と、第３の部分対物レンズとを組み合わせることあるいは第１の部分対物レンズと、中間像と、第２の部分対物レンズとを組み合わせることにより解決できる。
【０００８】
２つの中間像を持つ軸対称性、２つの屈折部分対物レンズと１つの反射屈折対物レンズ、及び、２つの中間像と少なくとも１つの屈折部分対物レンズは、本願発明の新しい特徴のそれぞれ異なった記述である。
【０００９】
別の特徴は、ミラーを１つの反射部分対物レンズに明確にグループ化することにより与えられ、その反射部分対物レンズは、１つ或いはそれ以上の純粋屈折部分対物レンズと協働する。この場合、反射部分対物レンズは、Ｐｅｔｚｖａｌ和の減少、つまりフィールド平坦化の負担を受け持つという条件がつく。屈折部分対物レンズは、これにより正負のレンズ・グループによるビームの収縮と拡張との必要性から解放されるが、このことは、マイクロリソグラフィ投影露光レンズを用いて以前から確立されている。例えば、米国特許第５，２６０，８３２号または米国特許第５，９０３，４００号、８−１３ページ、Ｇｌａｔｚｅｌ Ｅ．のＺＥＩＳＳ情報２６（１９８１年）を参照のこと。結論として屈折部分対物レンズは簡単化され、レンズ直径は減少される。これは、特にＶＵＶスペクトル領域に使用するという本提案に対して、適切なクリスタル、つまり石英ガラスの材料供給の点で大きな軽減となる。
【００１０】
また、本発明の特徴は、対物レンズの非常に好都合な軸対称構成を可能にする凸面ミラーと対向する２つの同軸の中央オブスキュレーションを有する構成である。前述のＳｃｈｕｓｔｅｒ、または、Ｅｌｌｉｏｔｔ及びＳｈａｆｅｒの設計に関連する。それはとりわけ、機械的剛性の点および屈折対物レンズに適合する確立されたステッパ／スキャナ構造との互換性の点から有利である。
【００１１】
中央オブスキュレーションは、基本的に像形成を劣化させる作用があるので、（その効果は、環状または４極照明、または瞳フィルタおよびアポダイゼーションにおいて、多くの場合好んで利用されるにしても）本設計のミラーの中央孔によるオブスキュレーションの減少には重要性がある。
【００１２】
本発明は、中間像をミラーの近辺に配置することにより、オブスキュレーションを減少させる方法を開示する。また、中央開口部の量的限界についても本発明は述べるものである。
【００１３】
さらに、本発明はレンズがミラーとミラーとの間に挿入される構成についても開示する。これらは、１つの材料の色補正を与えるために、負のレンズとしてミラーと協働し、レーザ光源を帯域縮小する必要性、またはＶＵＶにおいて１対のレンズ色消し用材料を使用する必要性を軽減する。
【００１４】
さらに、本発明は、符号が逆ではあるが、ミラー内腔の各々における主光線の高さが大体同じ値である構成をも開示する。この方法は、中央オブスキュレーションを最小にでき、特に有利である。
【００１５】
ミラーを持つ部分対物レンズが、２つの屈折部分対物レンズによって固定される構成もらもまた好ましい。なぜなら、部分対物レンズを包含するミラーによって接続される両方の中間像「平面」が、この部分対物レンズの特定の補正能力を最も利用できるように曲げられるからである。
【００１６】
ミラーが非球面であることは、関連技術においてもむしろ普通であるが、本発明では、非球面レンズ表面のこの設計における有利性を証明する構成をさらに開示する。屈折投影露光対物レンズに関して、最近確立されたすべての長所と制限とは、本発明の設計における非球面平面の使用に対しても適用されるが、それらは、例えば、本発明の参照文献として引用されているＳｃｈｕｓｔｅｒのドイツ特許第１９９２２２０９号と、それに記載されている参照文献とに述べられている。
【００１７】
回折性表面もまた、時々投影露光対物レンズのためにも提案されるが、ちょうど屈折性の設計に役立つのと同様に本発明にとって有用である。
【００１８】
上記した各対物レンズは、顕微鏡またはマイクロリソグラフィ投影露光システムに組込まれる。本発明は、同様に、そのような対物レンズのマイクロリソグラフィ投影露光に対する有利な使用法を示す。
【００１９】
【発明の実施の形態】
本発明は、図面に示す実施形態に基づいてより詳細に説明される。
図１の例は、マイクロリソグラフィのスキャナ投影露光装置用の減少比６：１の対物レンズで、像フィールドの直径が１８．４ｍｍ、像側でＮＡ＝０.７５、及び、対物レンズ空間と像空間とにおけるテレセントリックである。
【００２０】
全てのレンズはホタル石ＣａＦ₂で作られ、システムは１５７ｎｍＦ₂エキシマレーザによる照射に適合する。
勿論、例えば石英ガラスで１９３ｎｍといった他の材料と波長とに対する修正は可能である。
【００２１】
第１の部分対物レンズＳ１は、屈折性で、減少比−１／４．２７を持つ。
この部分対物レンズＳ１は、直径が約１３０ｍｍの比較的大きな４つのレンズを含む第１のレンズグループＬＧ１と、開口平面の後ろで約８０ｍｍもしくはそれより小さな直径に大幅に減少されたレンズ群を含む第２のレンズグループＬＧ２とを有する。ここで、ただ１つの非球面レンズ面は、開口平面直後の表面９上に設けられる。第１の中間像ＩＭＩ１にひき続いて第２の部分対物レンズＳ２がある。この第２の部分対物レンズＳ２は中央孔を有する２つの対向する凹面非球面ミラーＭ１およびＭ２を持つ反射屈折である。２つのミラーＭ１とＭ２との間に、２つの負のメニスクスレンズ２５、２６および２７、２８が配置されている。それらを光ビームが３回通過する。その拡大比は−１／０．９９である。そのような１に近い拡大率は、高度に対称な構成と最適なひずみ補正とを可能にする。
【００２２】
この配置はまた、色補正とフィールドのわん曲補正とに特に適している。従って、ただ１つのレンズ材料ＣａＦ₂だけでも、この対物レンズは狭められていないＦ２レーザの±１．２ｐｍという比較的広いレーザバンド幅を受け入れることができる。
【００２３】
第２の中間像ＩＭＩ２にひき続いて、これもまた屈折性の第３の部分対物レンズＳ３が設けられる。強く曲げられたメニスクス２９、３０において、発散光ビームが採り入れられる。ここでは、レンズ表面４０と４１との間の正の空気レンズ（すなわち正のレンズの形をした空気空間）が特徴的である。その減少比−１／１．４２により、システム全体の減少比が得られる。
【００２４】
表１の詳細データは、対物レンズが限られた直径の比較的少数の要素から構成されることを示している。
【００２５】
【表１】

【００２６】
これは、ＣａＦ₂が非常に高価で入手しにくいので実際の採算性を助けることになる。また、ＣａＦ２のライトパスは限られているので、１５７ｎｍにおける吸収が大きいという問題を緩和する。
【００２７】
第２の反射屈折部分対物レンズＳ２の完全同軸構成のために必要とされる中央オブスキュレーションは、それ自体ある程度の欠点であり、基本的に対物レンズの変調伝達関数を低下させる。しかし一般の屈折投影露光対物レンズにおいてさえ、調整システムなどのビームパスに適応するために、小さいが顕著な中央オブスキュレーションが入っている。たとえミラー直径が実用的なサイズの場合でも、中央オブスキュレーションを小さく保持する設計努力がなされている。
【００２８】
ミラーの孔の直径は、主光線の高さがその２つの孔のところで値が等しく符号が逆の時に最小になることが分かっている。さらにミラー孔は、ビームの直径が最小になる、２つの像ＩＭＩ１およびＩＭＩ２の隣に配置される。また、第１の部分対物レンズＳ１は、この孔を徹底的に小さく保つためにかなりの像減少を持ち、それにより、ミラー直径全体も実際的なコンパクトな値に抑えられている。
【００２９】
ミラー孔の直径は、フィールドの端部における最も近い光線よりも２．０ｍｍ大きくとられる。
【００３０】
オブスキュレーションマスクは、レンズ表面９の直前にある第１の部分対物レンズＳ１の瞳（開口）平面に挿入されることが推奨される。このマスクは、エリアの４．１％に等しい直径の２０．２５％のサイズにするべきである。そうするとフィールドの端部におけるエリアオブスキュレーションは、中央部と等しい値を持ち、ＭＴＦカーブは、フィールドの全体に亘って完全に一様となる。
【００３１】
この例の波面補正は、１７×７ｍｍ²のフィールドに亘る０．０１１ウェーブｒｍｓよりも良く、１７×６ｍｍ²のフィールドに亘る０．００９ウェーブｒｍｓより少ない。ひずみは２．４ｐｐｍで、ずれの中央値は１０ｎｍである。
【００３２】
色補正は、縦方向の色についてはＣＨＬ＝３４ｎｍ／ｐｍに達し、それにより、狭められていないＦ２レーザの±１．２ｐｍのバンド幅を受け入れることができる。
【００３３】
図２および表２の例では、大幅に増加したＮＡ＝０．７５と同じく、増加した像フィールド２２×９ｍｍ²を持つ一方、減少比は５：１に変わっている。システムは、第１の例と全体的に近似しているが、いくつかの重要なずれがある。
【００３４】
【表２】

【００３５】
第１の屈折部分対物レンズＳ１は、開口平面に向かって凹面である２つのメニスクス２０９、２１０と２１１、２１２とによって囲まれた開口平面を持つ。ここで上述のように、オブスキュレーションディスクＯＤは、フィールドに独立したオブスキュレーションを得るために挿入される。
【００３６】
２つのレンズ表面２０９と２１７とは非球面であり、第１のものは開口平面の隣にあって角度の偏差に影響し、第２のものはよりフィールド領域内にある。
第１の部分対物レンズＳ１の像ング比は−１／４．６７である。従って反射屈折部分対物レンズは非常に小さくすることができる。
【００３７】
第２の部分対物レンズＳ２もまた反射屈折であり、２つの非球面ミラーＭ２１、Ｍ２２と、２つの負のメニスクスレンズ２２３と２２４、および、２２５と２２６を持つ。ここでは、それらの距離は大きく減少しているが、ビームパス内の角度は増加している。そのため、所定の大きなフィールドと大きなＮＡとにおいて、わずか２３０ｍｍという非常に制限された直径を可能にする。減少比は−１／０．９７である。この実施形態においても、中央オブスキュレーションは直径で２０％であり、全フィールドに亘って一定である。
【００３８】
中間像での０．７という高いＮＡによりミラーＭ２１とＭ２２の孔を小さくさせることができること及びその間にあって必要な色補正を与えるレンズ２２３、２２４と２２５、２２６のかなり強い屈折力が、この実施形態に特有なものである。
ミラーＭ２１とＭ２２とは、球面からの最大偏差が１５０マイクロメータに限定された非球面であり、好適な生産と検査とを可能にしている。
【００３９】
非球面表面はまた、ミラーの間に置かれたレンズ上の像品質を向上することができる。ここで、第３の負のレンズは、必要であれば色補正をさらに最適化するであろう。
【００４０】
第３の部分対物レンズＳ３は、特徴的な第１のメニスクスレンズ２２７と２２８とが、図１よりもさらにもっと曲げられていることを示している。これはコマ補正に役立つ。第２のレンズ２２９および２３０はまた、中間像ＩＭＩ側でメニスクス凹面であるが、これは、２つの最終レンズ２４９、２５０と２５１、２５２とが像平面Ｉｍに向かってメニスクス凹面であるからで、このことは、球面収差のアプラナティズム及び補正にとって好ましい。
【００４１】
レンズ表面２３８と２３９との間に配置される正の空気レンズは、球面収差の主要な部分を補正する。この効果のために、それはフィールド領域よりも対物レンズの瞳領域により好ましく配置される。しかしながら、瞳平面の前方のその配置は、空気レンズがサジタルおよび接線方向の斜め球面収差にも作用することを可能にする。
【００４２】
瞳平面に向かうメニスクス凹面として、レンズ２４５および２４６は、その前面に作られた空気区間と共に、前述の空気空間の効果を補助する。
この第３の部分対物レンズＳ３の像ング比は、１に近い−１／１．１１である。しかしその配置は、瞳平面に対して対称とはほど遠く、そのために強く歪められた中間像ＩＭＩは、像平面Ｉｍにおいて高度に補正された像に変換される。
【００４３】
各々の部分対物レンズは、それぞれ次の作用を持つ：ずなわち、Ｓ１は減少を行い、Ｓ２は色およびＰｅｔｚｖａｌ補正を行い、そしてＳ３は像ングエラーの微調整を行う。
この第２の実施形態は、最良のエラー補正までの微調整はされていないが、そのような設計が実行可能である。
【００４４】
表１および表２の両方の例の非球面表面は、次式で表される。
ｚ＝ＡＳ２ｘｈ⁴＋ＡＳ３ｘｈ⁶＋ＡＳ４ｘｈ⁸＋ＡＳ５ｘｈ¹⁰＋ＡＳ６ｘｈ¹²＋ＡＳ７ｘｈ¹⁴
ここで、ｚ＝球面からの軸偏差、ｈ＝光軸からの半径方向高さである。
【００４５】
図３は、物体Ｏｂと像Ｉｍの間に、純粋反射部分対物レンズＳ３１と、純粋屈折部分対物レンズＳ３２とを、中間像ＩＭＩと共に持つ例である。これにより、前記実施形態である反射屈折部分対物レンズにおいて、大きな負のレンズの使用を避けることができる。ここでミラーＭ１およびＭ２は、純粋にＰｅｔｚｖａｌ補正（フィールドわん曲の補正）のために使われる。
【００４６】
対物レンズの色特性は、屈折部分対物レンズＳ３２によって定められる。異なるレンズ材料を使うことにより、色消しが可能となる。ＤＵＶ／ＶＵＶエキシマレーザ・システムについては、フッ化物の組み合わせ、すなわちフッ化カルシウム（ホタル石）、フッ化バリウム、フッ化ストロンチウム、ＮａＦ、Ｌｉｆなど、および／または、石英ガラスの組み合わせ、また特にドープ処理されたバージョンも含めた上記の組み合わせが好ましい。すなわち、１５７ｎｍでのマイクロリソグラフィには、例えば、フッ化カルシウム製の正のレンズＬ１およびＬ３と、フッ化バリウムまたはＮａＦ製の負のレンズＬ２とが使用可能である。
【００４７】
実際のマイクロリソグラフィまたは顕微鏡の対物レンズについては、屈折部分対物レンズＳ３２は、普通もっと多くのレンズを持っており、図に示すレンズＬ１からＬ３は概略的な典型例である。
【００４８】
この反射屈折対物レンズの屈折部分対物レンズＳ３２は、完全屈折光学システムと比べて、Ｐｅｔｚｖａｌ補正を行う必要がないので簡略化できる。従って、従来の屈折マイクロリソグラフィ減少投影対物レンズにおける２つまたはそれ以上の節を持つ節と腹との構成は必要とされない。それほど重要でないビーム減少のための、ただ１つの節が残るだけである。その結果、屈折部分対物レンズＳ３２は、短くでき、直径を小さくでき、そしてレンズの数を少なくできる。透過およびコントラストはこうして増加し、コストは低減される。非球面レンズ表面は、この効果にさらに役立つ。
【００４９】
反射部分対物鏡Ｓ３１は、レンズがないので、その直径は重要ではない。すなわち、例えば直径が１ｍ以上の精密非球面ミラーは、天文学に関する技術である。
明らかに、反射および屈折部分対物レンズの配置もまた、順番を変えることができる。そうすると反射部分光学システムの直径は、屈折部分対物レンズの像ング比の結果として減少する。
【００５０】
物体Ｏｂおよび像Ｉｍの利便性を上げ、補正用の設計空間をより大きくとるために、もしこの光学システムがまた、図４の例に示すように、第１の屈折部分対物レンズＳ４１と、反射部分対物レンズＳ４２と、中間像ＩＭＩ１とＩＭＩ２とを持つ第２の屈折部分対物レンズＳ４３とに拡張されると有利である。
このようにして、最小のオブスキュレーションを持つ最初の２つの実施形態の長所と、ミラーＭ１とＭ２との間に大きなレンズを持たない第３の実施例の長所とを組み合わせることができる。
【００５１】
表３は、この実施例の設計データである。これは、すべてのレンズがクリスタルの１５７ｎｍの対物レンズで、大部分がＬｉＦ、ある部分がＮａＦであり、１．５ｐｍバンド幅を持つ狭められていないＦ₂レーザに対して優れた色特性をもたらす。減少比は１：５、最大像フィールド高さは１１．８８ｍｍ、及び、ＮＡ＝０．７５である。また、最大レンズ直径は１９０．５ｍｍで、最大ミラー直径は２０１ｍｍである。さらに、全長Ｏｂ−Ｉｍは１．４５９ｍである。
【００５２】
【表３】

【００５３】
先行の特許出願である共同発明者Ｓｃｈｕｓｔｅｒおよび同譲受人の１９９９年６月２９日付けドイツ特許第１９９ ２９ ７０１．０号（９９０３２Ｐ）に関連して、ここでは、ＤＵＶからＶＵＶのマイクロリソグラフィ対物レンズにクリスタル・レンズが使用される。引用した上記出願はまた、それ全体として本出願の開示の一部になるべきものである。
【００５４】
その結果、第１の部分対物レンズＳ４１に負のＮａＦレンズが入り、加えて、１つの正のＮａＦメニスクス４０８、４０９も入れられ、ＬｉＦレンズシステム全体の横方向の色収差を減らす。
【００５５】
非球面表面は、それが有利となる多くの表面で本設計に組み込まれる。その結果、ミラー４４０および４４１もまた非球面である。第１の、減少する部分対物レンズＳ４１においては、第２の腹は１つの非球面を持ち、第２の節は１つの非球面を持ち、そして第３の腹は２つの非球面を持つ。第３の部分対物レンズＳ４３においては、第１の腹は１つの非球面を持つ一方、２つの腹の第２番目は２つの非球面を持つ。
表３の実施例の非球面表面は次式で表される。
【００５６】
【数１】

【００５７】
ここでＰは、表３で与えられる非球面定数Ｃ₁からＣ₆を用い、半径ｈ（光軸に関する光線の高さ）の関数として表される高さ偏差、δは表で与えられる半径の逆数である。
【００５８】
対物レンズは、高い補正品質を持っている。なぜなら、スペクトル距離１ｐｍの２つのラインに関して計算された波面エラーが、最大フィールド高さにおいて８ミリラムダ以下であり、光軸においては５ミリラムダ以下に減少するからである。
【００５９】
光学システムの中央オブスキュレーションは、反射部分対物レンズＳ４２のミラー４４０および４４１の距離および直径を大きくすることにより、必要に応じて設計することができる。
リング領域フィールド像形成は、一般に非対称構成の多くの反射および反射屈折投影露光システムにおいて従来から用いられている。そのようなものはまた、本発明の範囲内で実現可能である。その場合、ミラーは、光ビームを入射させるためのオフ・アクシスのリング領域開口部のみを必要とし、その結果瞳だけが円形中央オブスキュレーションと比べてさらに減少効果がある２領域オブスキュレーションを持つことになる。
【００６０】
図５は、本発明による対物レンズを持つ顕微鏡を概略的に示す。
それ自体、ＤＵＶ／ＶＵＶ検査顕微鏡に対して本来の意味があるので、接眼鏡による直接目視観察は示されていないが、適切で既知のいかなる種類の像検出器ＣＣＤも、対物レンズの像平面に設置される。対物レンズは、２つの屈折部分対物レンズＳ５１、Ｓ５３と中間反射または反射屈折部分対物レンズＳ５２とによって構成される。実施形態は、２つの同軸対向ミラーＭ１およびＭ２と、その中にある１つの負のレンズＬとを有している。
【００６１】
対物レンズの設計は、おおむね前述の実施形態に示す通りであるが、像平面と対象平面とを交換することにより、拡大、より高い像ング比、そしてより小さいフィールドが得られる。
照明システムＩｌｌは、物体Ｏｂを適切に照明する。
【図面の簡単な説明】
【図１】 屈折、反射屈折、及び、第２屈折の対物レンズを順番に持ち、減少比が１：６である対物レンズの一例のレンズ断面を示す。
【図２】 減少比が１：５であるような図１の対物レンズの別の例を示す。
【図３】軸対称の純粋な反射部分対物レンズを持つ対物レンズのレンズ配置概略図を示す。
【図４】 屈折、反射、及び、第２屈折の部分対物レンズを順番に持つ本発明の別の例を示す。
【図５】本発明による対物レンズを持つ顕微鏡の概略図を示す。
【符号の説明】
Ｓ１ 第１の部分対物レンズ
Ｓ２ 第２の部分対物レンズ
Ｓ３ 第３の部分対物レンズ
ＬＧ１ 第１のレンズグループ
ＬＧ２ 第２のレンズグループ
Ｍ１ 同軸対向凹面非球面ミラー
Ｍ２ 同軸対向凹面非球面ミラー
Ｏｂ 物体
Ｉｍ 像平面

Claims (19)

1. 第１の中間像を発生する第１の部分対物レンズ（Ｓ１）と、
   第２の中間像を発生する第２の部分対物レンズ（Ｓ２）と、
   第３の部分対物レンズ（Ｓ３）とから構成され、前記第２の部分対物レンズは中央孔と光軸を有する対向配置された２つの凹面ミラー（Ｍ１，Ｍ２）とを備え、前記凹面ミラーは前記光軸に関して軸対称に配置され、それらの凹面表面は互いに向き合っており、更に前記第１の部分対物レンズ（Ｓ１）および／または前記第３の部分対物レンズ（Ｓ３）は純粋屈折レンズであることを特徴とする対物レンズ。
2. 前記中間像は、前記ミラーの中央孔によるオブスキュレーションを減少させるため前記ミラーの近辺に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の対物レンズ。
3. 前記凹面ミラーの各々は前記光軸上に位置する頂点を持ち、
   前記中間像の各々は最大の像高さで前記光軸上に貫通点を有する表面上に与えられ、
   前記頂点の少なくとも１つは、前記貫通点の少なくとも１つから、前記貫通点を持つ前記像の最大高さ以下の距離だけ離れていることを特徴とする請求項１または２に記載の対物レンズ。
4. 前記第２の部分対物レンズは、反射光学要素のみからなることを特徴とする請求項１乃至３の少なくともいずれかに記載の対物レンズ。
5. 少なくとも１つのレンズは、前記２つの凹面ミラー間のビームパスに配置されることを特徴とする請求項１乃至３の少なくともいずれかに記載の対物レンズ。
6. 前記少なくとも１つのレンズは、負の屈折力を持つことを特徴とする請求項５記載の対物レンズ。
7. 前記中央孔の各々の半径は、その各々が前記隣接する中間像の最大像高さの１．５倍以下であることを特徴とする請求項１乃至６の少なくともいずれかに記載の対物レンズ。
8. 前記中央孔の前記半径の各々は、前記凹面ミラーにおける前記最大光ビーム高さの２５％未満であることを特徴とする請求項１乃至７の少なくともいずれかに記載の対物レンズ。
9. 前記光ビームは、前記中央孔において値が等しく符号が逆である主光線高さを持つことを特徴とする請求項１乃至８の少なくともいずれかに記載の対物レンズ。
10. 前記第１の部分対物レンズと第３の部分対物レンズは、純粋屈折レンズであることを特徴とする請求項１乃至９の少なくともいずれかに記載のレンズ。
11. 前記第２の部分対物レンズは、−１／０．７と−１／１．３との間の範囲の拡大比を持つことを特徴とする請求項１０に記載の対物レンズ。
12. 前記第１の屈折部分対物レンズは、−１／３から−１／８までの拡大比を持つことを特徴とする請求項１１記載の対物レンズ。
13. 前記第３の部分対物レンズは、−１／０．８から−１／２までの拡大比を持つことを特徴とする請求項１１または請求項１２に記載の対物レンズ。
14. 像フィールドは、オフ・アクシスなリング領域であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の対物レンズ。
15. 前記対物レンズは軸対称であることを特徴とする請求項１乃至１４のいずれかに記載の対物レンズ。
16. 請求項１乃至１５のいずれか一項記載の反射性対物レンズを具備することを特徴とする顕微鏡。
17. 請求項１乃至１５のいずれか一項記載の反射屈折投影対物レンズを具備することを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。
18. 請求項１乃至１５のいずれか一項記載の反射屈折投影対物レンズのマイクロリソグラフィ投影露光のための使用法。
19. 基板のマイクロリソグラフィック方法であって、
    ＶＵＶ光線でマスクを照射するステップと、
    前記マスクの像を前記基板上に、請求項１乃至１５のマイクロリソグラフィ記載の反射屈折投影対物レンズを通して投影するステップとからなることを特徴とする方法。

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