CN110119070B - 一种投影物镜和光刻曝光系统 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种投影物镜和光刻曝光系统。该投影物镜包括沿光路依次设置的第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组，第一透镜组包括沿光路依次设置的第一子透镜组和第二子透镜组，第三透镜组包括沿光路依次设置的第三子透镜组和第四子透镜组，投影物镜满足以下关系式：0.3<F2/F1<0.8；0.1<F2/F3<0.4；0.2<F1/F3<0.6；0.1<|f1/f2|<0.4；‑0.5<f3/f4<‑0.2。本发明实施例提供的投影物镜和光刻曝光系统，可以解决投影物镜的投影视场较小，同时不能兼容汞灯光源和LED光源的问题，实现较好像质的宽光谱和大视场的物镜投影，增加曝光系统的曝光视场，提高光刻机的光刻产率。

Description

一种投影物镜和光刻曝光系统

技术领域

本发明实施例涉及半导体封装领域，尤其涉及一种投影物镜和光刻曝光系统。

背景技术

随着半导体封装领域的高速发展，对制造集成电路芯片的光刻曝光系统的分辨率和产率提出了越来越高的要求，产率的提高与曝光视场的大小直接相关，所以增大曝光视场是显著提高产率的最有效途径。

目前的光刻曝光系统中采用的投影物镜的曝光视场通常较小，集成电路芯片的产率不能满足日益增长的生产量的要求。而且，现有技术中的投影物镜对于不同波长的光不能很好地校正色差和单色像差，导致其所适用的曝光波长通常不能覆盖ghi三线波长，不能兼容发光二极管(Light Emitting Diode，LED)光源和汞灯光源，使得曝光系统的曝光光谱较窄。

发明内容

本发明提供一种投影物镜和光刻曝光系统，以实现宽光谱大视场投影，增加光刻曝光系统的产率。

第一方面，本发明实施例提供了一种投影物镜，包括沿光路依次设置的第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组，所述第一透镜组包括沿光路依次设置的第一子透镜组和第二子透镜组，所述第三透镜组包括沿光路依次设置的第三子透镜组和第四子透镜组，所述投影物镜满足以下关系式：

0.3<F2/F1<0.8；

0.1<F2/F3<0.4；

0.2<F1/F3<0.6；

0.1<|f1/f2|<0.4；

-0.5<f3/f4<-0.2；

其中，所述第一透镜组、所述第二透镜组和所述第三透镜组的焦距分别为F1、F2和F3，所述第一子透镜组和所述第二子透镜组的焦距分别为f1和f2，所述第三子透镜组和所述第四子透镜组的焦距分别为f3和f4。

第二方面，本发明实施例还提供了一种光刻曝光系统，包括如第一方面任一所述的投影物镜，还包括光源模块，第一工作台以及第二工作台；

所述光源模块用于出射曝光光信号；所述第一工作台位于所述光源模块出射所述曝光光信号一侧，用于放置掩模板；所述投影物镜位于所述第一工作台远离所述光源模块一侧，用于聚焦曝光光信号至像面；所述第二工作台位于所述投影物镜远离所述第一工作台一侧，用于放置曝光基片。

本发明实施例提供的投影物镜和光刻曝光系统，通过沿光路依次设置第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组，其中，第一透镜组包括沿光路依次设置的第一子透镜组和第二子透镜组，第三透镜组包括沿光路依次设置的第三子透镜组和第四子透镜组，并通过各透镜组和子透镜组的焦距的配合，可以解决投影物镜的投影视场较小，同时不能兼容汞灯光源和LED光源的问题，实现较好像质的宽光谱和大视场的物镜投影，增加曝光系统的曝光视场，提高光刻机的光刻产率。

附图说明

图1是本发明实施例一提供的一种投影物镜的结构示意图；

图2是本发明实施例一提供的第二透镜组的结构示意图；

图3是本发明实施例提供的另一种投影物镜的结构示意图；

图4是本发明实施例二提供的一种投影物镜的结构示意图；

图5是本发明实施例二提供的采用汞灯光源时投影物镜的光线像差图；

图6是本发明实施例二提供的采用汞灯光源时投影物镜的远心曲线；

图7是本发明实施例二提供的采用LED光源时投影物镜的光线像差图；

图8是本发明实施例二提供的采用LED光源时投影物镜的远心曲线图；

图9是本发明实施例三提供的一种投影物镜的结构示意图；

图10是本发明实施例三提供的采用汞灯光源时投影物镜的光线像差图；

图11是本发明实施例三提供的系统采用汞灯光源时投影物镜的远心曲线图；

图12是本发明实施例三提供的采用LED光源时投影物镜的光线像差图；

图13是本发明实施例三提供的采用LED光源时投影物镜的远心曲线图；

图14是本发明实施例四提供了一种光刻曝光系统的结构示意图；

图15是本发明实施例四提供的一种光源模块结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

实施例一

图1为本发明实施例一提供的一种投影物镜的结构示意图，参考图1，该投影物镜中包括沿光路依次设置的第一透镜组11、第二透镜组12和第三透镜组13，第一透镜组11包括沿光路依次设置的第一子透镜组111和第二子透镜组112，第三透镜组13包括沿光路依次设置的第三子透镜组131和第四子透镜组132；投影物镜满足以下关系式：

0.3<F2/F1<0.8；

0.1<F2/F3<0.4；

0.2<F1/F3<0.6；

0.1<|f1/f2|<0.4；

-0.5<f3/f4<-0.2；

其中，第一透镜组11、第二透镜组12和第三透镜组13的焦距分别为F1、F2和F3，第一子透镜组111和第二子透镜组112的焦距分别为f1和f2，第三子透镜组131和第四子透镜组132的焦距分别为f3和f4。

通过设置第一透镜组11、第二透镜组12、第三透镜组13、第一透镜组11中的第一子透镜组111和第二子透镜组112以及第三透镜组13中的第三子透镜组131和第四子透镜组132的焦距关系，可以对光源发射的光束进行汇聚，从而在像平面形成具备较佳像质的投影。

本发明实施例提供的投影物镜，通过沿光路依次设置第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组，其中，第一透镜组包括沿光路依次设置的第一子透镜组和第二子透镜组，第三透镜组包括沿光路依次设置的第三子透镜组和第四子透镜组，并通过各透镜组和子透镜组的焦距的配合，可以解决投影物镜的投影视场较小，同时不能兼容汞灯光源和LED光源的问题，实现较好像质的宽光谱和大视场的物镜投影，增加曝光系统的曝光视场，提高光刻机的光刻产率。

可选地，该投影物镜可设置曝光视场直径最大为135mm，从而能够显著提高曝光产率；可选地，物方数值孔径可设置为0.14。可选地，该投影物镜可采用放大倍率为-2倍的非对称式结构，可以明显减小孔径光阑以前的镜片最大口径和掩模版的面积，减小了制造成本。

可选地，继续参考图1，第一透镜组11、第二透镜组12和第三透镜组13均具有正的光焦度。即光源发射的发散光束在通过第一透镜组11、第二透镜组12和第三透镜组13后变为不同程度的汇聚光束，进而聚焦在像面上。

可选地，第一子透镜组111和第二子透镜组112具有相反的光焦度。

第一子透镜组111和第二子透镜组112具备相反的光焦度时，通过将光束进行汇聚再发散或者发散再汇聚的过程，可以在保证投影物镜对各波长像差校正的基础上，有效地扩大第一透镜组11的投影视场，为整个投影物镜的投影视场的扩大提供基础。

可选地，第三子透镜组131具有正的光焦度，第四子透镜组132具有负的光焦度。

同样地，第三透镜组13中的第三子透镜组131和第四子透镜组132也具有相反的光焦度，可以通过将光束汇聚再发散的过程，将光束的投影视场扩大。又由于第三子透镜组131和第四子透镜组132的距离较小，第四子透镜组132距离投影面距离相对较远，将第三子透镜组131设置为正的光焦度和第四子透镜组132设置为负的光焦度，可以使光束在经第三子透镜组131汇聚后再由第四子透镜组132进行发散，从而在像面得到较大的投影视场。

图2是本发明实施例一提供的第二透镜组的结构示意图，参考图2，可选地，第二透镜组12中包括有孔径光阑121。孔径光阑121通过过滤远轴光线从而限制光束的大小，进而实现对光束的色差校正。

可选地，参考图2，第二透镜组12中在孔径光阑121前至少包括一组沿光路方向依次为凹透镜、凸透镜、凹透镜结构的消色差透镜组122。

通过凹透镜、凸透镜、凹透镜的消色差结构，能够很好的实现宽光谱色差校正，同时镜片与镜片间的灵敏度差异大，容易选取合适补偿器，补偿各类像质

可选地，第二透镜组中至少有两个透镜由高色散材料制成。

其中通过设置两高色散透镜，可以有效消除各波长间的色差，保证像面的成像像质，示例性地，高色散材料可以为CAF2、NFK51A。

图3是本发明实施例一提供的另一种投影物镜的结构示意图，参考图3，可选地，第三透镜13中沿光路方向最后一片镜片为末端透镜130，末端透镜130的光出射端面为平面。

可选地，第一透镜组11中沿光路方向的第一片镜片为前端透镜110，前端透镜110的光入射端面为平面。

通过将第一透镜组中的前端透镜的光入射端面或第三透镜组中的末端透镜的光出射端面设置为平面，可以方便对投影物镜裸露在外的镜面出现损坏或者存在污垢等情况时进行维修和维护，保证投影物镜的正常使用。

实施例二

图4是本发明实施例二提供的一种投影物镜的结构示意图，参考图4，该投影物镜中第一子透镜组111包括沿光路依次共轴排列的第一透镜、第二透镜、第三透镜和第四透镜，第二子透镜组112包括沿光路依次共轴排列的第五透镜、第六透镜和第七透镜，第二透镜组12包括沿光路依次共轴排列的第八透镜、第九透镜、第十透镜、第十一透镜、孔径光阑、第十二透镜、第十三透镜、第十四透镜、第十三透镜、和第十六透镜，第三子透镜组131包括沿光路依次共轴设置的第十七透镜、第十八透镜、第十九透镜、第二十透镜、第二十一透镜、第二十二透镜、第二十三透镜和第二十四透镜，第四子透镜组132包括沿光路共轴排列的第二十五透镜；

其中，第一透镜和第二十五透镜为平凹透镜；第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜、第九透镜、第十四透镜、第十六透镜、第二十透镜、第二十一透镜、第二十二透镜、第二十三透镜和第二十四透镜为弯月透镜；第六透镜、第八透镜、第十透镜、第十三透镜、第十五透镜和第十八透镜为双凸透镜；第七透镜、第十一透镜、第十二透镜、第十七透镜和第十九透镜为双凹透镜。

本发明实施例二提供的投影物镜包括25片镜片，且均为球面镜片，其结构紧凑，可以实现1200mm的物像方距离，该投影物镜能够兼容汞灯光谱和LED光谱，视场点的最大像差均小于0.006205mm，视场内像方远心最大值不超过7mrad，物方最大远心值不超过3.5mrad。

表1列出了本实施例投影物镜的具体设计值，表中半径R栏表示镜片的曲率半径，正的半径R代表镜片曲率中心在表面的右边，负的半径R代表镜片曲率中心在表面左边。1E+18代表此表面为平面。表中OBJ代表物面，STOP代表孔径光阑，IMA代表像面，数字序号对应投影物镜中沿光路依次共轴排列的各个透镜。表中材料栏“AIR”代表镜片与镜片间的空气间隔，填充气体为空气，材料栏中非AIR的材料是指具体镜片材料种类。全口径栏是指镜片表面的最大通光口径。表中厚度d栏代表空气间隔或光学元件厚度，光学元件厚度或两个光学元件的间隔均是指此表面到下个表面的轴上距离，所有尺寸单位都是毫米(mm)。

表1

表2则示出了本实施例提供的投影物镜可以兼容的汞灯光谱和LED光谱。其中，权重列为每个波长处的能量占比。

表2

图5是本发明实施例二提供的采用汞灯光源时投影物镜的光线像差图，从下至上的3行图，依次代表不同高度的物方视场点在光瞳处的像差分布，每行的两幅图分别代表光瞳子午和弧矢像差分布，每幅图的横坐标代表光瞳上的高度，其中中心点代表光瞳中心，纵坐标代表像差大小，每幅图的不同曲线分别代表各波长下的像差曲线。从图中可以看出各视场点的最大像差均小于0.006202mm，说明投影物镜的波像差均被很好校正，各波长间的色差均被很好校正。

图6为本发明实施例二提供的采用汞灯光源时投影物镜的远心曲线图，横坐标为物方视场高度，纵坐标为各视场下远心大小，图中两条曲线分别为物镜像方远心和物方远心，从图中可以看出整个视场内像方远心最大值不超过7mrad，物方最大远心值不超过3.5mrad，物镜的远心已被很好校正。

图7是本发明实施例二提供的采用LED光源时投影物镜的光线像差图，从下至上的3行图，依次代表不同高度的物方视场点在光瞳处的像差分布，每行的两幅图分别代表光瞳子午和弧矢像差分布，每幅图的横坐标代表光瞳上的高度，其中中心点代表光瞳中心，纵坐标代表像差大小，每幅图的不同曲线分别代表各波长下的像差曲线。从图中可以看出各视场点的最大像差均小于0.006205mm，说明物镜的波像差均被很好校正，各波长间的色差均被很好校正。

图8为本发明实施例二提供的采用LED光源时投影物镜的远心曲线图，横坐标为物方视场高度，纵坐标为各视场下远心大小，图中两条曲线分别为物镜像方远心和物方远心，从图中可以看出整个视场内像方远心最大值不超过7mrad，物方最大远心值不超过3.5mrad，物镜的远心已被很好校正。

实施例三

图9是本发明实施例三提供的一种投影物镜的结构示意图，参考图9，该投影物镜中第一子透镜组111包括沿光路依次共轴排列的第一透镜和第二透镜，第二子透镜组112包括沿光路依次共轴排列的第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜和第七透镜，第二透镜组12包括沿光路依次共轴排列的第八透镜、第九透镜、第十透镜、第十一透镜、第十二透镜、第十三透镜、孔径光阑、第十四透镜、第十三透镜、第十六透镜、第十七透镜和第十八透镜，第三子透镜组131包括沿光路依次共轴设置的第十九透镜、第二十透镜、第二十一透镜、第二十二透镜、第二十三透镜、第二十四透镜、第二十五透镜和第二十六透镜，第四子透镜组132包括沿光路共轴排列的第二十七透镜和第二十八透镜；

其中，第一透镜、第六透镜、第八透镜、第十三透镜、第十四透镜、第十九透镜、第二十一透镜和第二十七透镜为双凹透镜；第二透镜、第三透镜、第十一透镜、第十六透镜、第十八透镜、第二十二透镜、第二十三透镜和第二十六透镜为弯月透镜；第四透镜、第九透镜、第十透镜、第十二透镜、第十五透镜、第十七透镜、第二十透镜、第二十四透镜和第二十五透镜为双凸透镜；第五透镜为平凸透镜，第七透镜为平凹透镜，第二十八透镜为平板。

本发明实施例三提供的投影物镜包括28片镜片，均为球面镜片，其结构紧凑，可以实现1200mm的物像方距离，该投影物镜能够兼容汞灯光谱和LED光谱，视场点的最大像差均小于0.004061mm，视场内像方远心最大值不超过7mrad，物方最大远心值不超过3.5mrad。

表3列出了实施例光刻投影物镜的具体设计值，表中半径R栏表示镜片的曲率半径，正的半径R代表镜片曲率中心在表面的右边，负的半径R代表镜片曲率中心在表面左边。1E+18代表此表面为平面。表中OBJ代表物面，STOP代表孔径光阑，IMA代表像面，数字序号对应投影物镜中沿光路依次共轴排列的各个透镜。表中材料栏”AIR”代表镜片与镜片间的空气间隔，填充气体为空气，材料栏中非AIR的材料是指具体镜片材料种类。全口径栏是指镜片表面的最大通光口径。表中厚度d栏代表空气间隔或光学元件厚度，光学元件厚度或两个光学元件的间隔均是指此表面到下个表面的轴上距离，所有尺寸单位都是毫米(mm)。

表3

需要说明的是，本实施例提供的光刻曝光系统同样能够兼容如表2所示的汞灯光谱和LED光谱。其中权重列为每个波长处的能量占比。

图10是本发明实施例三提供的采用汞灯光源时投影物镜的光线像差图，从下至上的3行图，依次代表不同高度的物方视场点在光瞳处的像差分布，每行的两幅图分别代表光瞳子午和弧矢像差分布，每幅图的横坐标代表光瞳上的高度，其中中心点代表光瞳中心，纵坐标代表像差大小，每幅图的不同曲线分别代表各波长下的像差曲线。从图中可以看出各视场点的最大像差均小于0.004087mm，说明物镜的波像差均被很好校正，各波长间的色差均被很好校正。

图11为本发明实施例三提供的系统采用汞灯光源时投影物镜的远心曲线图，横坐标为物方视场高度，纵坐标为各视场下远心大小，图中两条曲线分别为物镜像方远心和物方远心，从图中可以看出整个视场内像方远心最大值不超过7mrad，物方最大远心值不超过3.5mrad，物镜的远心已被很好校正。

图12是本发明实施例三提供的采用LED光源时投影物镜的光线像差图，从下至上的3行图，依次代表不同高度的物方视场点在光瞳处的像差分布，每行的两幅图分别代表光瞳子午和弧矢像差分布，每幅图的横坐标代表光瞳上的高度，其中中心点代表光瞳中心，纵坐标代表像差大小，每幅图的不同曲线分别代表各波长下的像差曲线。从图中可以看出各视场点的最大像差均小于0.004061mm，说明物镜的波像差均被很好校正，各波长间的色差均被很好校正。

图13为本发明实施例三提供的采用LED光源时投影物镜的远心曲线图，横坐标为物方视场高度，纵坐标为各视场下远心大小，图中两条曲线分别为物镜像方远心和物方远心，从图中可以看出整个视场内像方远心最大值不超过7mrad，物方最大远心值不超过3.5mrad，物镜的远心已被很好校正。

实施例四

图14是本发明实施例四提供了一种光刻曝光系统的结构示意图，参考图14，该光刻曝光系统包括如前所述任一实施例中的投影物镜30、光源模块10、第一工作台20以及第二工作台40；光源模块10用于出射曝光光信号；第一工作台20位于光源模块10出射曝光光信号一侧，用于放置掩模板；投影物镜30位于第一工作台20远离光源模块10一侧，用于聚焦曝光光信号至像面；第二工作台40位于投影物镜30远离第一工作台20一侧，用于放置曝光基片。

本发明实施例提供的光刻曝光系统，通过沿光路依次设置第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组，其中，第一透镜组包括沿光路依次设置的第一子透镜组和第二子透镜组，第三透镜组包括沿光路依次设置的第三子透镜组和第四子透镜组，并通过各透镜组和子透镜组的焦距的配合，可以解决投影物镜的投影视场较小，同时不能兼容汞灯光源和LED光源的问题，实现较好像质的宽光谱和大视场的物镜投影，增加曝光系统的曝光视场，提高光刻机的光刻产率；并且该光刻曝光系统能够适用于g、h、i三线波长，兼容LED光源和汞灯光源，通过设置物方数值孔径为0.14，可以达到1.3um的极限分辨率，实现了高分辨率、宽光谱和大视场的光刻曝光系统。

图15是本发明实施例四提供的一种光源模块结构示意图，参考图15，可选地，光源模块为LED组合光源，包括LED光源101、位于LED光源101出光侧的匀光石英棒102以及位于匀光石英棒102出光侧的中继透镜组103。

其中，LED光源可采用多个波长范围的LED光源组合形成，并通过特定地光学结构，将不同波长范围的LED光源集成到一个LED光源，使其发出的光束叠加成为光源光束，例如可设置g线、i线和h线LED光源形成组合光源。

可选地，该光刻曝光系统中的光源模块还可以为汞灯光源。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (14)

1.一种投影物镜，其特征在于，由沿光路依次设置的第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组组成，所述第一透镜组、所述第二透镜组和所述第三透镜组均具有正的光焦度；所述第一透镜组由沿光路依次设置的第一子透镜组和第二子透镜组组成，所述第一子透镜组和所述第二子透镜组具有相反的光焦度；所述第三透镜组由沿光路依次设置的第三子透镜组和第四子透镜组组成，所述第三子透镜组具有正的光焦度，所述第四子透镜组具有负的光焦度；所述投影物镜满足以下关系式：

0.3<F2/F1<0.8；

0.1<F2/F3<0.4；

0.2<F1/F3<0.6；

0.1<|f1/f2|<0.4；

-0.5<f3/f4<-0.2；

其中，所述第一透镜组、所述第二透镜组和所述第三透镜组的焦距分别为F1、F2和F3，所述第一子透镜组和所述第二子透镜组的焦距分别为f1和f2，所述第三子透镜组和所述第四子透镜组的焦距分别为f3和f4。

2.根据权利要求1所述的投影物镜，其特征在于，曝光视场直径最大为135mm。

3.根据权利要求1或2所述的投影物镜，其特征在于，物方数值孔径为0.14。

4.根据权利要求3所述的投影物镜，其特征在于，采用放大倍率为-2倍的非对称式结构。

5.根据权利要求1或4所述的投影物镜，其特征在于，所述第二透镜组包括孔径光阑。

6.根据权利要求5所述的投影物镜，其特征在于，所述第二透镜组中在孔径光阑前至少包括一组沿光路方向依次为凹透镜、凸透镜、凹透镜结构的消色差透镜组。

7.根据权利要求1所述的投影物镜，其特征在于，所述第三透镜组中沿光路方向最后一片镜片为末端透镜，所述末端透镜的光出射端面为平面。

8.根据权利要求7所述的投影物镜，其特征在于，所述第一透镜组中沿光路方向的第一片镜片为前端透镜，所述前端透镜的光入射端面为平面。

9.根据权利要求1或4所述的投影物镜，其特征在于，所述第一子透镜组包括沿光路依次共轴排列的第一透镜、第二透镜、第三透镜和第四透镜，所述第二子透镜组包括沿光路依次共轴排列的第五透镜、第六透镜和第七透镜，所述第二透镜组包括沿光路依次共轴排列的第八透镜、第九透镜、第十透镜、第十一透镜、孔径光阑、第十二透镜、第十三透镜、第十四透镜、第十三透镜、和第十六透镜，所述第三子透镜组包括沿光路依次共轴设置的第十七透镜、第十八透镜、第十九透镜、第二十透镜、第二十一透镜、第二十二透镜、第二十三透镜和第二十四透镜，第四子透镜组包括沿光路共轴排列的第二十五透镜；

其中，第一透镜和第二十五透镜为平凹透镜；

第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜、第九透镜、第十四透镜、第十六透镜、第二十透镜、第二十一透镜、第二十二透镜、第二十三透镜和第二十四透镜为弯月透镜；

第六透镜、第八透镜、第十透镜、第十三透镜、第十五透镜和第十八透镜为双凸透镜；

第七透镜、第十一透镜、第十二透镜、第十七透镜和第十九透镜为双凹透镜。

10.根据权利要求1或4所述的投影物镜，其特征在于，所述第一子透镜组包括沿光路依次共轴排列的第一透镜和第二透镜，所述第二子透镜组包括沿光路依次共轴排列的第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜和第七透镜，所述第二透镜组包括沿光路依次共轴排列的第八透镜、第九透镜、第十透镜、第十一透镜、第十二透镜、第十三透镜、孔径光阑、第十四透镜、第十三透镜、第十六透镜、第十七透镜和第十八透镜，所述第三子透镜组包括沿光路依次共轴设置的第十九透镜、第二十透镜、第二十一透镜、第二十二透镜、第二十三透镜、第二十四透镜、第二十五透镜和第二十六透镜，第四子透镜组包括沿光路共轴排列的第二十七透镜和第二十八透镜；

其中，第一透镜、第六透镜、第八透镜、第十三透镜、第十四透镜、第十九透镜、第二十一透镜和第二十七透镜为双凹透镜；

第二透镜、第三透镜、第十一透镜、第十六透镜、第十八透镜、第二十二透镜、第二十三透镜和第二十六透镜为弯月透镜；

第四透镜、第九透镜、第十透镜、第十二透镜、第十五透镜、第十七透镜、第二十透镜、第二十四透镜和第二十五透镜为双凸透镜；

第五透镜为平凸透镜，第七透镜为平凹透镜，第二十八透镜为平板。

11.根据权利要求1或6所述的投影物镜，其特征在于，第二透镜组至少有两个透镜由高色散材料制成。

12.一种光刻曝光系统，其特征在于，包括如权利要求1-11任一所述的投影物镜，还包括光源模块，第一工作台以及第二工作台；

所述光源模块用于出射曝光光信号；所述第一工作台位于所述光源模块出射所述曝光光信号一侧，用于放置掩模板；所述投影物镜位于所述第一工作台远离所述光源模块一侧，用于聚焦曝光光信号至像面；所述第二工作台位于所述投影物镜远离所述第一工作台一侧，用于放置曝光基片。

13.根据权利要求12所述的光刻曝光系统，其特征在于，所述光源模块为LED组合光源，包括LED光源、位于LED光源出光侧的匀光石英棒以及位于匀光石英棒出光侧的中继透镜组。

14.根据权利要求12所述的光刻曝光系统，其特征在于，所述光源模块为汞灯光源。

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