JP3921237B2 - 新規な重合可能な液晶化合物 - Google Patents
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Description
形が異方性である分子に公知のように、液晶相の加熱時に、いわゆるメソ相が現れる。個々の相は、一方で分子重心の空間的配列により、かつ他方で縦軸に対する分子配列により異なっている（G.W.Gray,P.A.Winsor,Liquid Crystals and Plastic Crystals,Ellis Horwood Limited,Chichester 1974）。ネマチック液晶相は、単に、平行に並んでいる分子縦軸に基づき、配向長距離秩序が存在する事実により区別される。ネマチック相を構成する分子はキラルであるといる前提の下で、分子の縦軸がそれに対して垂直で、ヘリカル超構造を形成するいわゆるコレステリック相が生じる（H.Baessler,Festkoerperproblem XI,1971）。キラルな分子部分は、液晶分子中にも存在し得、ドープ物質としてネマチック相へ加えることもでき、この際、コレステリック相が誘導される。この現象は、最初にコレステロール誘導体で研究された（例えば、H.Baessler,M.M.Labes,J.Chem.Phys.,52,631(1970);H.Baessler,T.M.Laronge,M.M.Labes,J.Chem.Phys.,51、799(1969);H.Finkelmann,H.Stegemeyer,Z.Naturforschg.28a,799(1973);H.Stegemeyer,K.J.Mainusch,Naturwiss.,58,599(1971)、H.Finkelmann,H.Stegmeyer,Ber.Bunsenges.Phys.Chem.78,869(1974)）。
コレステリック相は、顕著な光学特性：高い光学的回転並びにコレステリック相内で円偏光された光の選択的反射により生じる優れた円偏光二色性を有する。視角に応じて異なって見える色は、ヘリカル超構造のピッチに依存し、それ自体は、キラル成分のねじれ力に依存する。この場合に、殊にキラルなドープ物質の濃度の変化によりコレステリック層の選択的に反射された光のピッチ及びこれに伴う波長範囲が変動されうる。このようなコレステリック系は、実際の用途にとって重要な可能性を提供する。例えば、メソゲンアクリル酸エステル中へのキラルな分子部分の導入及びこのコレステリック相中での配向により、例えば、光架橋の後に、そのキラル成分の濃度をもはや変じることができない安定で色のあるネットワークが製造される（G.Galli,M.Laus,A.Angelon、Makromol.Chemie,187,289(1986)）。ネマチックアクリル酸エステルへの架橋不可能なキラル化合物の混入により、光架橋により、なお高い可溶性成分を含有する色付きポリマーが製造できる（I.Heyndricks,D.J.Broer,Mol.Cryst.Liq.Cryst.203,113(1991)）。更に、コレステロール誘導体とアクリレート含有メソゲンからの混合物の定義された環状シロキサンを用いる統計的ヒドロシリル化及び引き続く光重合により、コレステリックネットワークを得ることができ、この際、キラル成分は、５０％までの使用物質分を有することができ；しかしながら、この重合体は、なお明確な量の可溶性分を含有する（F.H.Kreuzer,R.Maurer、Ch.Mueller-Rees,J.Stohrer,Vortrag Nr.7,22.Freiburger Arbeitstagung Fluessig kristalle,Freiburg,1993）。
ドイツ特許出願（ＤＥ−ＯＳ）第３５３５５４７号明細書は、コレステロール含有モノアクリレートの混合物を、光架橋を介してコレステリック層へ加工することができることを記載している。しかしながら、この混合物中のキラル成分の合計割合は約９４％である。
純粋な側鎖ポリマーとして、このような物質は機械的にあまり安定ではないが、この安定性の上昇は、高架橋性の希釈剤により達成することができる。
欧州特許（ＥＰ−Ａ）第３３１２３３号明細書中には、対照的に脂肪族側鎖で置換されている液晶化合物の混合物が記載されている。
前記のネマチック及びコレステリックネットワークと並んで、殊にスメクチック液晶物質の光重合／光架橋によりスメクチック液晶中で製造されるスメクチックネットワークも公知である。このために使用される物質は、例えばD.J.Broer und Hikmet,Makromol.Chem.,190,3201-3215(1989)に記載のような一般に対称的な液晶ビスアクリレートである。この物質は、＞１２０℃の非常に高い澄明点を有するので、熱重合の危険性を示す。キラル物質の混合によりＳｃ−相の存在の場合にピエゾ電気特性を得ることができる（R.A.M.Hikmet,Macromolecules 25,S.5759,1992）。
本発明の課題は、単独で又は他の重合可能なネマチック液晶と混合して、広いネマチック相範囲及び１２０℃を下回る澄明点を有し、１２０℃より低い温度で加工できる新規の重合可能なネマチック液晶物質の製造であった。
この課題は、本発明により、少なくとも２種の一般式Ｉ：
［式中、基Ｚ１、Ｚ２は、相互に独立して、重合可能な基であり、Ｙ１、Ｙ２は、相互に独立して、直接結合−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−Ｓ−であり、Ａ１、Ａ２は、相互に独立して、１個のスペーサーであり、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、相互に独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキル、Ｃ１〜Ｃ２０−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ２０−モノアルキルアミノカルボニル、ホルミル、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルカルボニル、フッ素、塩素、臭素、シアン、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルカルボニルオキシ、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルカルボニルアミノ、ヒドロキシ又はニトロを表す、この際、物質Ｉの少なくとも１種において、基−Ａ１−Ｙ１−及び−Ａ２−Ｙ２−は異なるＯ−アルキレン基である］の化合物を含有する液晶混合物により解決される。
有利な基Ｚ１及びＺ２は、光化学的開始工程で重合されうるようなもの、即ち、構造：ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＣｌ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−の基又は４−ビニルフェニルイルである。ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＣｌ−及びＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、特にＣＨ２＝ＣＨ−及びＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−が有利である。
Ｙ１及びＹ２には、直接結合と並んで、殊にエーテル基及びエステル基が挙げられる。スペーサーＡ１及びＡ２としては、この目的に公知の全ての基を使用することができる。通常、スペーサーは、エステル基又はエーテル基又は直接結合を介してＺと結合している。スペーサーは、一般に０〜３０、有利に２〜１２のＣ−原子を有し、この連鎖中で例えばＯ、Ｓ、ＮＨ又はＮＣＨ３により中断されていてもよい。このスペーサー連鎖の置換基としては、なおフッ素、塩素、臭素、シアン、メチル又はエチルがこれに該当する。代表的なスペーサーは、例えば（ＣＨ２）ｐ、（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｑＣＨ2ＣＨ2、（ＣＨ２ＣＨ２Ｓ）ｑＣＨ２ＣＨ２、（ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ）ｑＣＨ２ＣＨ２、
［ここで、ｑは、１〜３であり、ｐは、１〜１２である］である。
式Ｉの混合成分中の基Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、水素又は請求の範囲１に記載の種類の置換基であり得る。スメクチック相の形成を抑制し、ネマチック相の形成を促進するような基が有利である。基Ｒの一つは、水素であり、殊に２個の基Ｒが水素であるのが有利である。前記の基のうち、塩素、臭素、シアン、フッ素、ヒドロキシ、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、メトキシカルボニル、ホルミル、アセチル及びアセトキシ、並びに≧８Ｃ−原子を有する長鎖のものが有利である。
請求の範囲１中の式Ｉによる混合物中の化合物の分子部分：
は、相互に無関係に、有利に次の構造：
又はＣｌの代わりにＦ、Ｂｒ、ＣＨ３、ＯＣＨ３、ＣＨＯ、ＣＯＣＨ３、ＯＣＯＣＨ３又はＣＮを有する類縁構造を有し、この際、これら置換基は混合して存在していてもよい。更に、構造：
［ここで、ｒは、２〜２０、有利に８〜１５を表す］
も挙げられる。
式Ｉ中の分子部分：
は、有利に次の式に相当する：
［ここで、ｒは２〜２０、有利に８〜１５を表す］。
本発明の混合物の成分として、請求の範囲９に記載の新規化合物が特に好適である。個々の成分の意想外に異なるこの結晶状態により、請求の範囲１に記載の混合物の液晶状態範囲は、明らかに拡大される。
式Ｉの混合物並びに化合物の製造は、自体公知の方法で可能である。この製造の詳細を、実施例に記載する。式Ｉの化合物は、液晶であり、構造に依存してスメクチック又はネマチック相を形成することができる。本発明による化合物及び混合物は、慣用の液晶化合物を使用する全ての用途に好適である。
本発明による混合物及び化合物は、単独で、相互に混合して、又は他の液晶化合物と混合して、低分子量液晶と同様な相構造を有するが、ラジカル又はイオン重合法により、凍結液晶配列構造を有する高度に架橋されたポリマーに変えることができる。
この混合物の所望の特性の調節のために、式Ｉの化合物２種以上又は本発明の混合物と他の重合可能な液晶との組合せ物も有利に使用することができ、この際、機械的混合により、このような混合物を製造することができる。この相状態範囲の適合は、殊に非液晶の重合可能な成分、いわゆる反応性希釈物、例えばヘキサンジオールジアクリレート又はビスフェノール−Ａ−ジアクリレートの添加によっても可能である。反応希釈物の添加は、殊に流動粘度に好適に影響する。本発明による混合物は、殊に液晶物質の配向化層、光架橋可能な接着剤、液晶ネットワーク製造用のモノマー、キラルドープ可能で重合可能な液晶系製造用の基礎材料、ポリマー分散されたデスプレイ用の重合可能なマトリックスモノマー、光学的建築部材用の重合可能な液晶物質の基礎材料、例えば偏光子、減速板、レンズとして、及びキラルドープされて、カラー効果物質及びピエゾ物質を得るための基礎材料として好適である。
更に、本発明は、式中のＲ１〜Ｒ３、Ｚ１、Ｚ２、Ｙ１、Ｙ２、Ａ１及びＡ２が前記のものを表し、基−Ａ１−Ｙ１−及びＹ２−Ａ２は、同時に同じ、−Ｏ−アルキレン基ではない、式Ｉの新規化合物に関する。
実施例
次に、実施例中で使用されているいくつかの省略文字を挙げる：
ｋ 液晶相
ｎ ネマチック相
ｃｈ コレステリック相
ｓ スメクチック相（詳細には特徴つけられていない）
ｉ 等方相
相変換温度は、偏光顕微鏡で測定した。温度管理は、Ｍｅｔｔｌｅｒ顕微鏡加熱スタンドＦＰ ８０／８２中で行った。
混合物の成分として使用されているモノマーは、全ての重合可能な基を有する。重合は、この材料では光化学的に、慣用のラジカル形成剤により又は熱的にも開始される。従って、この混合物の製造時には、なお重合が起こらないように注意すべきである。
ネマチック又はキラルネマチック（コレステリック）混合物の製造のための一般的処方：
混合成分を塩化メチレン中に溶かして、等方性溶液を生じさせる。次いで、塩化メチレンを、真空中、約４〜６０℃で除去する。
例１
１−［４’−（４”−アクリルオキシブチルオキシ）−ベンゾイルオキシ］−４−［４”−（２”−アクリルオキシエチルオキシ）−ベンゾイルオキシ］−ベンゾールの製造
４−（４’−ヒドロキシブチルオキシ）−安息香酸（１）：
ジメチルホルムアミド（２リットル）中の４−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル（２４９ｇ；１．５モル）、沃化カリウム（３ｇ）及び炭酸カリウム（２４８ｇ；１．８モル）の溶液に、酢酸４−クロルブチル（２７６．６ｇ；１．８モル）を加え、９０℃で１１時間撹拌する。この反応混合物を氷水５リットル上に加え、生じる沈殿を吸引濾過し、氷水４〜５リットルで洗浄する。粗生成物をエタノール３リットル中に溶かし、水酸化カリウム（４００ｇ）を加え、還流下に３時間加熱する。この反応混合をに氷水６リットル上に加え、濃塩酸で酸性に調節し、沈殿を濾過する。沈殿を水で洗浄して中性にし、引き続き乾燥させる。収量：２８２．１ｇ（８９％）。
４−（４’−アクリルオキシブチルオキシ）−安息香酸（２）：
１，１，１−トリクロルエタン（１．１リットル９中の化合物（１）（２８２ｇ；１．３４モル）、新たに蒸留されたアクリル酸（２３０ｍｌ；３．３５モル）、ヒドロキノン（１．９ｇ）及びｐ−トルエンスルホン酸（２３．７ｇ）の溶液を、還流下に１０時間加熱する。この反応混合物を６０〜７０℃に冷却し、石油エーテル２．５リットル中に撹拌導入し、沈殿を濾別する。石油エーテルで洗浄の後に、沈殿物を、室温、真空中で２４時間乾燥させる。収量：２９９．３ｇ（８４％）。
４−［４’−（４−アクリルオキシブチルオキシ）−ベンゾイルオキシ］−フェノール（３）：
塩化オキサリル（１０ｍｌ）を、０℃で、化合物（２）（５ｇ；１９ミリモル）に添加し、ガス発生が止むまで（２０分）撹拌する。過剰の塩化オキサリルを水流真空中で留去し、酸塩化物をトルエン（１０ｍｌ）中に入れ、０℃で、ピリジン（１０ｍｌ）及びトルエン（１０ｍｌ）中のヒドロキノン（１０．５ｇ；９５ミリモル）の溶液に加え、引き続き室温で２４時間撹拌する。次いで、この反応混合物を水（２００ｍｌ）上に加え、ジクロロメタン（各５０ｍｌ）で２回抽出する。有機抽出物を、塩化カルシウムで乾燥させ、濾液にヒドロキノン（５０ｍｇ）を加え、水流真空中で濃縮させる。残分をシリカゲル（トルエン／酢酸エステル（５：１））のクロマトグラフィにかけると、化合物（３）４．５ｇ（６６％）が得られた。
１−［４’−（４”−アクリルオキシブチルオキシ）−ベンゾイルオキシ］−４−［４’−（２”−アクリルオキシエチルオキシ）−ベンゾイルオキシ］−ベンゾール（４）：
塩化オキサリル（１０ｍｌ）を０℃で４−（２’−アクリルオキシエチルオキシ）−安息香酸（４．３ｇ；１６．３ミリモル）に加え、ガス発生が止むまで（３０分）撹拌する。過剰の塩化オキサリルを水流真空中で留去し、酸塩化物をトルエン（１０ｍｌ）中に入れ、０℃で、ピリジン（１０ｍｌ）及びトルエン（５ｍｌ）中の化合物（３）（５．８ｇ；１６．３ミリモル）の溶液に添加し、引き続き、室温で１３時間撹拌する。次いで、反応混合物を水（２００ｍｌ）に加え、ジクロロメタン（各５０ｍｌ）で２回抽出する。有機抽出物を塩化カルシウムで乾燥させ、濾液にヒドロキノン（５０ｍｇ）を加え、水流真空中で濃縮させる。残分をシリカゲル（トルエン／酢酸エステル５：１）のクロマトグラフィにかけると、化合物（４）７．８ｇ（８４％）が得られた。
例５２
混合物１：
相状態 ｋ ５０ ｎ ９８ ｉ
例５３
混合物２：
相状態 ｋ ８２ ｎ １０４ ｉ
例５４
混合物３：
相状態 ｋ ９８ ｎ １０６ ｉ
例５５
混合物４：
相状態 ｓ ９６ ｎ １０４ ｉ 色：赤
例５６
混合物５：
相状態 ｓ ５７ ｃｈ ７６ ｉ 色：青緑
例５７
混合物６：
相状態 ｓ ６０ ｎ ９７ ｉ
例５８
混合物７：
相状態 ｓ ６０ ｃｈ ９７ ｉ 色：赤緑
例５９
混合物８：
相状態 ｓ ５５ ｃｈ ９５ ｉ 色：緑
例６０
混合物９：
相状態 ｓ ５５ ｃｈ ９４ ｉ 色：赤／緑
例６１
混合物１０：
例６２
混合物１１：
混合物１０の成分 各々の濃度 １０．８％
混合物７からのＫ６ 濃度 １．９９％
相状態 ｓ ３４ ｃｈ ９２ ｉ 無色
例６３
混合物１２：
混合物１０の成分 各々の濃度 １０．７８％
混合物７からのＫ６ 濃度 ２．９８％
相状態 ｓ ４４ ｃｈ ９０ ｉ 色：赤
例６４
混合物１３：
混合物１０の成分 各々の濃度 １０．７２モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．５２モル％
相状態 ｓ ５１ ｎ ８０ ｉ 色：緑
例６５
混合物１４：
混合物１０の成分 各々の濃度 １０．６７モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．９７モル％
相状態 ｓ ６５ ｃｈ ７５ ｉ 色：青緑
例６６
混合物１５：
混合物１０の成分 各々の濃度 ９．６１モル％
濃度 １０モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．５１モル％
相状態 ｓ ６３ ｃｈ ９６ ｉ 色：緑
例６７
混合物１６：
混合物１０の成分 各々の濃度 ８．５モル％
濃度 １０モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．５モル％
相状態 ｓ ５１ ｎ ８７ ｉ 色：緑
例６８
混合物１７：
混合物１０の成分 各々の濃度 ９．６１モル％
濃度 １０モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．５１モル％
相状態 ｓ ６３ ｃｈ ７８ ｉ 色：緑
例６９
混合物１８：
混合物10の成分K1〜K9 各々の濃度 10.67モル％
濃度 ３．９７モル％
相状態： ｃｈ ９１ ｉ 無色
例７０
混合物１９：
混合物１０の成分 各々の濃度 ９．６１モル％
ヘキサンジオールジアクリレート 濃度 １０モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．５１モル％
相状態：ｓ ５０ ｃｈ ７０ ｉ 色：緑
例７２
混合物２０：
混合物１０の成分 各々の濃度 ８．５モル％
ヘキサンジオールジアクリレート 濃度 ２０モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．５モル％
相状態：ｓ ４６ ｃｈ ６１ ｉ 色：緑
例７３
混合物２１：
混合物１０の成分 各々の濃度 ８．５モル％
濃度 ２０モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．５モル％
相状態：ｓ ５６ ｃｈ ８０ ｉ 色：緑〜赤
例７４
混合物２２：
混合物１０の成分 各々の濃度 ８．５モル％
濃度 ２０モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．５モル％
相状態：ｓ ５０ ｃｈ ８２ ｉ 色：緑
例７５
混合物２３：
混合物１０の成分 各々の濃度 ８．５モル％
濃度 ２０モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．５モル％
相状態：ｓ ４９ ｃｈ ８０．５ ｉ
例７６
混合物２４：
混合物１０の成分 各々の濃度 ８．５モル％
濃度 ２０モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．５モル％
相状態：ｓ ５３ ｃｈ ８４ ｉ 色：緑
例７７
混合物２５：
混合物１０の成分 各々の濃度 １０．１モル％
混合物１８からのＫ１０ 濃度 ９．１モル％
相状態：ｃｈ ８９ ｉ 色：青
例７８
混合物２６：
混合物１０の成分Ｋ１〜Ｋ９ 各々の濃度 １０．５５モル％
相状態：ｃｈ ９１ ｉ 色：赤
例７９
混合物２７：
混合物１０の成分Ｋ１〜Ｋ９ 濃度 １０．３３モル％
混合物２６からの成分Ｋ１０ 濃度 ７．０３モル％
相状態：ｃｈ ９０ ｉ 色：青
例８０
混合物２８：
混合物１０の成分Ｋ１〜Ｋ９ 濃度 ６．５１モル％
スチレン 濃度 ４１．４１モル％
相状態：ｃｈ ６１−７４ ｉ
例８１
混合物２９：
混合物１０の成分Ｋ１〜Ｋ９ 濃度 ５．２２モル％
スチレン 濃度 ５３．０２モル％
相状態：ｃｈ ５０−６９ ｉ
例８３
混合物３１：
Ｋ１〜Ｋ９ 混合物３０中のＫ１〜Ｋ９と同じ 各々の濃度１０．６モル％
Ｋ１０ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度 ４．６モル％
相状態：Ｃ＜２５Ｎ＊ ４５−４９ Ｉ
例８５
混合物３３：
Ｋ１〜Ｋ９ 混合物３２中のＫ１〜Ｋ９と同じ 各々の濃度１０．６モル％
Ｋ１０ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度 ４．６モル％
相状態：Ｃ＜２５Ｎ＊ ４６−４７ Ｉ
例８７
混合物３５：
Ｋ１〜Ｋ９ 混合物３４中のＫ１〜Ｋ９と同じ 各々の濃度１０．６モル％
Ｋ１０ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度 ４．６モル％
相状態：Ｃ＜２５Ｎ＊ ７８−８１ Ｉ
例８９
混合物３７：
Ｋ１〜Ｋ９ 混合物３６中のＫ１〜Ｋ１６と同じ 各々の濃度５．９モル％
Ｋ１７ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度５．６モル％
相状態：Ｃ＜２５Ｎ＊ ６３−６６ Ｉ
例９１
混合物３９：
Ｋ１〜Ｋ９ 混合物３８中のＫ１〜Ｋ９と同じ 各々の濃度１０．６モル％
Ｋ１０ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度 ４．６モル％
相状態：Ｃ＜２５Ｎ＊ ８０−８２ Ｉ
例９３
混合物４１：
Ｋ１〜Ｋ９ 混合物４０中のＫ１〜Ｋ９と同じ 各々の濃度１０．６モル％
Ｋ１０ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度 ４．６モル％
相状態：Ｃ＜２５Ｎ＊ ８７−９０ Ｉ
例９５
混合物４３：
Ｋ１〜Ｋ９ 混合物４２中のＫ１〜Ｋ９と同じ 各々の濃度１０．６モル％
Ｋ１０ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度 ４．６モル％
相状態：Ｃ＜２５Ｎ＊ ８１−８２ Ｉ
例９７
混合物４５：
Ｋ１〜Ｋ３２ 混合物４４中のＫ１〜Ｋ３２と同じ 各々の濃度５．３４モル％
Ｋ３３ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度 ５．０モル％
相状態：Ｃ＜２５Ｎ＊ ６６−６８ Ｉ 色＝赤
例９９
混合物４７：
Ｋ１〜Ｋ３２ 混合物１６中と同じ
Ｋ１〜Ｋ１６の各濃度 ４．５モル％
Ｋ１７〜Ｋ３２の各濃度 １．５モル％
Ｋ３３ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度 ４モル％
相状態：Ｃ＜２５Ｎ＊ ６７ Ｉ
例１０１
混合物４９：
Ｋ１〜Ｋ３２ 混合物４８中と同じ 各々の濃度 ３．０モル％
Ｋ３３ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度 ５モル％
相状態：Ｃ＜２５Ｎ＊ ６２−６６ Ｉ
例１０３
混合物５１：
Ｋ１〜Ｋ１６ 混合物５０中のＫ１〜Ｋ１６と同じ 各々の濃度５．９４モル％
Ｋ１７ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度 ５モル％
相状態：＜５６Ｎ＊ ９１−９４ Ｉ
例１０４
ａ）４−［ω−ベンジルオキシヘキソキシ］−安息香酸エチルエステル
水酸化ナトリウム（油中の６０％分散液）４．８ｇの懸濁液に、２０℃で、ゆっくり、Ｈ２−発生が止むまで、４−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル１６．６ｇを加える。次いで、室温で１時間後撹拌の後に６−べンジルオキシ−１−クロルヘキサン１９．９ｇを添加する。還流下に１６時間加熱の後に、生じる沈殿を濾過分離し、溶剤を除去する。トルエンからの再結晶により前記化合物１５．２ｇが得られる。
ＮＭＲ、ＭＳ及びＩＲはこの構造に一致する。
ｂ）４−［ω−ベンジルオキンヘキソキシ］−安息香酸 エタノール３００ｍｌ中のａ）からの生成物１０ｇの溶液に２当量のＫＯＨを加え、還流下に４時間沸騰させる。次いで、反応混合物を水の上に注ぎ、濃塩酸で酸性に調節する。生じる沈殿を濾別し、真空中、５０℃で、一晩乾燥させる。前記化合物８．５ｇが得られる。ＮＭＲ、ＭＳ及びＩＲはこの構造と一致する。
ｃ）１，４−［４’−（ω−ベンジルオキシヘキソキシ］−ベンゾイルオキシ］−［４’−（ω−ベンジルオキシブトキシ）−ベンジルオキシ］−ベンゾール
例１の処方に従って、４−［ω−ベンジルオキシヘキソキシ］−安息香酸４ｇ、４−［４−ベンジルオキシブトキシ］−安息香酸３．９ｇ及びヒドロキノン２ｇを反応させ、ると前記化合物７．２ｇが得られる。ＮＭＲ、ＩＲ及びＭＳはこの構造と一致する。
ｄ）１−［４’−（ω−ヒドロキシヘキソキン）−ベンゾイルオキシ］−４−［４”−（ω−ヒドロキシブトキシ）ベンゾイルオキシ］−ベンゾール
１−［４’−（ω−ヒドロキシヘキソキシ）−ベンゾイルオキシ］−４−［４”−（ω−ベンゾイルオキシブトキシ）ベンゾイルオキシ］−ベンゾール１２ｇをエタノール２００ｍｌ中に溶かし、Ｐｄ／Ｃ（１０％）２ｇを加え、室温、水素雰囲気下で、水素吸収が止むまで撹拌する。次いで、触媒を濾去し、溶剤を除去し、残分をトルエンから再結晶させる。前記化合物８．５ｇが得られる。ＮＭＲ、ＩＲ及びＭＳはこの構造と一致する。
ｅ）１−［４’−（ω−ビニルオキシヘキソキシ）ーベンゾイルオキシ］−４−［４”−（ω−ビニルオキシブチルオキシ）ベンゾイルオキシ］−ベンゾール
生成物ｄ）８．５ｇをＨｇ（ＯＡｃ）２１．５ｇと共にエチルビニルエーテル５００ｍｌ中に溶かし、還流下に２４時間加熱する。次いで、Ｋ２ＣＯ３５ｇを加入し、エチルビニルエーテルの過剰分を留去する。残分を濾過し、Ｋ２ＣＯ３を石油エーテルで洗浄する。濾液及び洗液を濃縮し、石油エーテル／酢酸エステル（９：１）からの再結晶の後に、前記化合物８．１ｇが得られる。ＮＭＲ、ＭＳ及びＩＲはその構造と一致する。
例１１７
の合成
ａ．ジエチレングリコールを用いる４−ヒドロキシ安息香酸エチルエステルのエーテル化
４−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル３．６５ｇ（０．０２２モル）を、ジエチレングリコール１１．６６ｇ（０．１１モル）と共に無水テトラヒドロフラン３５ｍ１中に溶かし、ジエチルアゾジカルボキシレート８．７ｇ（０．０３３モル）を加える。反応混合物を室温で２４時間撹拌する。引き続き、この混合物を、回転蒸発器で濃縮させ、残分をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル、溶離液：トルエン／酢酸エチルエステル５：１）により精製する。
収量：４．３６ｇ、７８％。
ｂ．４−（ジエチレングリコールオキシ）−安息香酸の製造
４−（２−ジエチレングリコールオキシ）−安息香酸４．３６ｇ（０．０１７モル）をエタノール８０ｍ１中に溶かし、ＫＯＨ１．４６ｇ（０．０２６モル）を加える。この混合物を還流下に３時間加熱し、引き続き溶液を濃塩酸で酸性に調節し、酢酸エチルエステルを加え、生じる沈殿を吸引濾過する。残分を捨て、濾液を濃縮すると、所望の生成物が得られる。
収量：４．７ｇ、９８％。
例１１７の化合物の製造のための更なる工程は、例１のそれと同じである。
例１３２
混合物３３
Ｋ１：濃度２５モル％
Ｋ２：濃度４５モル％
Ｋ３：濃度５モル％
Ｋ４：濃度２０．２５モル％
Ｋ５：濃度４．５モル％
Ｋ６：濃度０．２５モル％
相状態：Ｓ ４５ Ｎ ８３ Ｉ
例１３３
混合物３４
Ｋ１：例１３２のＫ１と同じ；濃度２３．７５モル％
Ｋ２：例１３２のＫ２と同じ；濃度４２．７５モル％
Ｋ３：例１３２のＫ３と同じ；濃度４．７５モル％
Ｋ４：例１３２のＫ４と同じ；濃度１９．２３７５モル％
Ｋ５：例１３２のＫ５と同じ；濃度４．２７５モル％
Ｋ６：例１３２のＫ６と同じ；濃度０．００２３７５モル％
Ｋ７：濃度５モル％
相状態：Ｓ ４１ Ｃｈ ８１ Ｉ 色：赤／緑
例１３４
混合物３５
Ｋ１：例１３２のＫ１と同じ；濃度２３．２５モル％
Ｋ２：例１３２のＫ２と同じ；濃度４１．８５モル％
Ｋ３：例１３２のＫ３と同じ；濃度４．６５モル％
Ｋ４：例１３２のＫ４と同じ；濃度１８．８３２５モル％
Ｋ５：例１３２のＫ５と同じ；濃度４．１８５モル％
Ｋ６：例１３２のＫ６と同じ；濃度０．００２３２５モル％
Ｋ７：例１３３のＫ７と同じ；濃度７モル％
相状態：Ｓ ４０ Ｃｈ ８０ Ｉ 色：緑／青
例１３５
混合物３６
Ｋ１：濃度２５モル％
Ｋ２：濃度２２．５モル％
Ｋ３：濃度２．５モル％
相状態：Ｓ ４５ Ｎ ７８ Ｉ
例１３６
混合物３７
Ｋ１：例１３５のＫ１と同じ；濃度２３．７５モル
Ｋ２：例１３５のＫ２と同じ；濃度２１．３７５モル％
Ｋ３：例１３５のＫ３と同じ；濃度２．３７５モル％
Ｋ４：例１３５のＫ４と同じ；濃度２１．３７５モル％
Ｋ５：例１３５のＫ５と同じ；濃度１９．２３７５モル％
Ｋ６：例１３５のＫ６と同じ；濃度２．１３７５モル％
Ｋ７：例１３５のＫ７と同じ；濃度２．３７５モル％
Ｋ８：例１３５のＫ８と同じ；濃度２．１３７５モル％
Ｋ９：例１３５のＫ９と同じ；濃度０．２３７５モル％
Ｋ10：例１３３のＫ７と同じ；濃度５モル％
相状態：Ｓ ４３ Ｃｈ ７０ Ｉ
色：赤
例１３７
混合物３８
Ｋ１：例１３５のＫ１と同じ；濃度２３．２５モル％
Ｋ２：例１３５のＫ２と同じ；濃度２３０．９２５モル％
Ｋ３：例１３５のＫ３と同じ；濃度２．３２５モル％
Ｋ４：例１３５のＫ４と同じ；濃度２０．９２５モル％
Ｋ５：例１３５のＫ５と同じ；濃度１８．８３２５モル％
Ｋ６：例１３５のＫ６と同じ；濃度２．０９２５モル％
Ｋ７：例１３５のＫ７と同じ；濃度２．３２５モル％
Ｋ８：例１３５のＫ８と同じ；濃度２．０９２５モル％
Ｋ９：例１３５のＫ９と同じ；濃度０．２３２５モル％
Ｋ10：例１３３のＫ７と同じ；濃度７モル％
相状態：Ｓ ４１ Ｃｈ ７０ Ｉ
色：緑
コレステリック相は、顕著な光学特性：高い光学的回転並びにコレステリック相内で円偏光された光の選択的反射により生じる優れた円偏光二色性を有する。視角に応じて異なって見える色は、ヘリカル超構造のピッチに依存し、それ自体は、キラル成分のねじれ力に依存する。この場合に、殊にキラルなドープ物質の濃度の変化によりコレステリック層の選択的に反射された光のピッチ及びこれに伴う波長範囲が変動されうる。このようなコレステリック系は、実際の用途にとって重要な可能性を提供する。例えば、メソゲンアクリル酸エステル中へのキラルな分子部分の導入及びこのコレステリック相中での配向により、例えば、光架橋の後に、そのキラル成分の濃度をもはや変じることができない安定で色のあるネットワークが製造される（G.Galli,M.Laus,A.Angelon、Makromol.Chemie,187,289(1986)）。ネマチックアクリル酸エステルへの架橋不可能なキラル化合物の混入により、光架橋により、なお高い可溶性成分を含有する色付きポリマーが製造できる（I.Heyndricks,D.J.Broer,Mol.Cryst.Liq.Cryst.203,113(1991)）。更に、コレステロール誘導体とアクリレート含有メソゲンからの混合物の定義された環状シロキサンを用いる統計的ヒドロシリル化及び引き続く光重合により、コレステリックネットワークを得ることができ、この際、キラル成分は、５０％までの使用物質分を有することができ；しかしながら、この重合体は、なお明確な量の可溶性分を含有する（F.H.Kreuzer,R.Maurer、Ch.Mueller-Rees,J.Stohrer,Vortrag Nr.7,22.Freiburger Arbeitstagung Fluessig kristalle,Freiburg,1993）。
ドイツ特許出願（ＤＥ−ＯＳ）第３５３５５４７号明細書は、コレステロール含有モノアクリレートの混合物を、光架橋を介してコレステリック層へ加工することができることを記載している。しかしながら、この混合物中のキラル成分の合計割合は約９４％である。
純粋な側鎖ポリマーとして、このような物質は機械的にあまり安定ではないが、この安定性の上昇は、高架橋性の希釈剤により達成することができる。
欧州特許（ＥＰ−Ａ）第３３１２３３号明細書中には、対照的に脂肪族側鎖で置換されている液晶化合物の混合物が記載されている。
前記のネマチック及びコレステリックネットワークと並んで、殊にスメクチック液晶物質の光重合／光架橋によりスメクチック液晶中で製造されるスメクチックネットワークも公知である。このために使用される物質は、例えばD.J.Broer und Hikmet,Makromol.Chem.,190,3201-3215(1989)に記載のような一般に対称的な液晶ビスアクリレートである。この物質は、＞１２０℃の非常に高い澄明点を有するので、熱重合の危険性を示す。キラル物質の混合によりＳｃ−相の存在の場合にピエゾ電気特性を得ることができる（R.A.M.Hikmet,Macromolecules 25,S.5759,1992）。
本発明の課題は、単独で又は他の重合可能なネマチック液晶と混合して、広いネマチック相範囲及び１２０℃を下回る澄明点を有し、１２０℃より低い温度で加工できる新規の重合可能なネマチック液晶物質の製造であった。
この課題は、本発明により、少なくとも２種の一般式Ｉ：
有利な基Ｚ１及びＺ２は、光化学的開始工程で重合されうるようなもの、即ち、構造：ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＣｌ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−の基又は４−ビニルフェニルイルである。ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＣｌ−及びＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、特にＣＨ２＝ＣＨ−及びＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−が有利である。
Ｙ１及びＹ２には、直接結合と並んで、殊にエーテル基及びエステル基が挙げられる。スペーサーＡ１及びＡ２としては、この目的に公知の全ての基を使用することができる。通常、スペーサーは、エステル基又はエーテル基又は直接結合を介してＺと結合している。スペーサーは、一般に０〜３０、有利に２〜１２のＣ−原子を有し、この連鎖中で例えばＯ、Ｓ、ＮＨ又はＮＣＨ３により中断されていてもよい。このスペーサー連鎖の置換基としては、なおフッ素、塩素、臭素、シアン、メチル又はエチルがこれに該当する。代表的なスペーサーは、例えば（ＣＨ２）ｐ、（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｑＣＨ2ＣＨ2、（ＣＨ２ＣＨ２Ｓ）ｑＣＨ２ＣＨ２、（ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ）ｑＣＨ２ＣＨ２、
式Ｉの混合成分中の基Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、水素又は請求の範囲１に記載の種類の置換基であり得る。スメクチック相の形成を抑制し、ネマチック相の形成を促進するような基が有利である。基Ｒの一つは、水素であり、殊に２個の基Ｒが水素であるのが有利である。前記の基のうち、塩素、臭素、シアン、フッ素、ヒドロキシ、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、メトキシカルボニル、ホルミル、アセチル及びアセトキシ、並びに≧８Ｃ−原子を有する長鎖のものが有利である。
請求の範囲１中の式Ｉによる混合物中の化合物の分子部分：
も挙げられる。
式Ｉ中の分子部分：
本発明の混合物の成分として、請求の範囲９に記載の新規化合物が特に好適である。個々の成分の意想外に異なるこの結晶状態により、請求の範囲１に記載の混合物の液晶状態範囲は、明らかに拡大される。
式Ｉの混合物並びに化合物の製造は、自体公知の方法で可能である。この製造の詳細を、実施例に記載する。式Ｉの化合物は、液晶であり、構造に依存してスメクチック又はネマチック相を形成することができる。本発明による化合物及び混合物は、慣用の液晶化合物を使用する全ての用途に好適である。
本発明による混合物及び化合物は、単独で、相互に混合して、又は他の液晶化合物と混合して、低分子量液晶と同様な相構造を有するが、ラジカル又はイオン重合法により、凍結液晶配列構造を有する高度に架橋されたポリマーに変えることができる。
この混合物の所望の特性の調節のために、式Ｉの化合物２種以上又は本発明の混合物と他の重合可能な液晶との組合せ物も有利に使用することができ、この際、機械的混合により、このような混合物を製造することができる。この相状態範囲の適合は、殊に非液晶の重合可能な成分、いわゆる反応性希釈物、例えばヘキサンジオールジアクリレート又はビスフェノール−Ａ−ジアクリレートの添加によっても可能である。反応希釈物の添加は、殊に流動粘度に好適に影響する。本発明による混合物は、殊に液晶物質の配向化層、光架橋可能な接着剤、液晶ネットワーク製造用のモノマー、キラルドープ可能で重合可能な液晶系製造用の基礎材料、ポリマー分散されたデスプレイ用の重合可能なマトリックスモノマー、光学的建築部材用の重合可能な液晶物質の基礎材料、例えば偏光子、減速板、レンズとして、及びキラルドープされて、カラー効果物質及びピエゾ物質を得るための基礎材料として好適である。
更に、本発明は、式中のＲ１〜Ｒ３、Ｚ１、Ｚ２、Ｙ１、Ｙ２、Ａ１及びＡ２が前記のものを表し、基−Ａ１−Ｙ１−及びＹ２−Ａ２は、同時に同じ、−Ｏ−アルキレン基ではない、式Ｉの新規化合物に関する。
実施例
次に、実施例中で使用されているいくつかの省略文字を挙げる：
ｋ 液晶相
ｎ ネマチック相
ｃｈ コレステリック相
ｓ スメクチック相（詳細には特徴つけられていない）
ｉ 等方相
相変換温度は、偏光顕微鏡で測定した。温度管理は、Ｍｅｔｔｌｅｒ顕微鏡加熱スタンドＦＰ ８０／８２中で行った。
混合物の成分として使用されているモノマーは、全ての重合可能な基を有する。重合は、この材料では光化学的に、慣用のラジカル形成剤により又は熱的にも開始される。従って、この混合物の製造時には、なお重合が起こらないように注意すべきである。
ネマチック又はキラルネマチック（コレステリック）混合物の製造のための一般的処方：
混合成分を塩化メチレン中に溶かして、等方性溶液を生じさせる。次いで、塩化メチレンを、真空中、約４〜６０℃で除去する。
例１
１−［４’−（４”−アクリルオキシブチルオキシ）−ベンゾイルオキシ］−４−［４”−（２”−アクリルオキシエチルオキシ）−ベンゾイルオキシ］−ベンゾールの製造
４−（４’−ヒドロキシブチルオキシ）−安息香酸（１）：
ジメチルホルムアミド（２リットル）中の４−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル（２４９ｇ；１．５モル）、沃化カリウム（３ｇ）及び炭酸カリウム（２４８ｇ；１．８モル）の溶液に、酢酸４−クロルブチル（２７６．６ｇ；１．８モル）を加え、９０℃で１１時間撹拌する。この反応混合物を氷水５リットル上に加え、生じる沈殿を吸引濾過し、氷水４〜５リットルで洗浄する。粗生成物をエタノール３リットル中に溶かし、水酸化カリウム（４００ｇ）を加え、還流下に３時間加熱する。この反応混合をに氷水６リットル上に加え、濃塩酸で酸性に調節し、沈殿を濾過する。沈殿を水で洗浄して中性にし、引き続き乾燥させる。収量：２８２．１ｇ（８９％）。
４−（４’−アクリルオキシブチルオキシ）−安息香酸（２）：
１，１，１−トリクロルエタン（１．１リットル９中の化合物（１）（２８２ｇ；１．３４モル）、新たに蒸留されたアクリル酸（２３０ｍｌ；３．３５モル）、ヒドロキノン（１．９ｇ）及びｐ−トルエンスルホン酸（２３．７ｇ）の溶液を、還流下に１０時間加熱する。この反応混合物を６０〜７０℃に冷却し、石油エーテル２．５リットル中に撹拌導入し、沈殿を濾別する。石油エーテルで洗浄の後に、沈殿物を、室温、真空中で２４時間乾燥させる。収量：２９９．３ｇ（８４％）。
４−［４’−（４−アクリルオキシブチルオキシ）−ベンゾイルオキシ］−フェノール（３）：
塩化オキサリル（１０ｍｌ）を、０℃で、化合物（２）（５ｇ；１９ミリモル）に添加し、ガス発生が止むまで（２０分）撹拌する。過剰の塩化オキサリルを水流真空中で留去し、酸塩化物をトルエン（１０ｍｌ）中に入れ、０℃で、ピリジン（１０ｍｌ）及びトルエン（１０ｍｌ）中のヒドロキノン（１０．５ｇ；９５ミリモル）の溶液に加え、引き続き室温で２４時間撹拌する。次いで、この反応混合物を水（２００ｍｌ）上に加え、ジクロロメタン（各５０ｍｌ）で２回抽出する。有機抽出物を、塩化カルシウムで乾燥させ、濾液にヒドロキノン（５０ｍｇ）を加え、水流真空中で濃縮させる。残分をシリカゲル（トルエン／酢酸エステル（５：１））のクロマトグラフィにかけると、化合物（３）４．５ｇ（６６％）が得られた。
１−［４’−（４”−アクリルオキシブチルオキシ）−ベンゾイルオキシ］−４−［４’−（２”−アクリルオキシエチルオキシ）−ベンゾイルオキシ］−ベンゾール（４）：
塩化オキサリル（１０ｍｌ）を０℃で４−（２’−アクリルオキシエチルオキシ）−安息香酸（４．３ｇ；１６．３ミリモル）に加え、ガス発生が止むまで（３０分）撹拌する。過剰の塩化オキサリルを水流真空中で留去し、酸塩化物をトルエン（１０ｍｌ）中に入れ、０℃で、ピリジン（１０ｍｌ）及びトルエン（５ｍｌ）中の化合物（３）（５．８ｇ；１６．３ミリモル）の溶液に添加し、引き続き、室温で１３時間撹拌する。次いで、反応混合物を水（２００ｍｌ）に加え、ジクロロメタン（各５０ｍｌ）で２回抽出する。有機抽出物を塩化カルシウムで乾燥させ、濾液にヒドロキノン（５０ｍｇ）を加え、水流真空中で濃縮させる。残分をシリカゲル（トルエン／酢酸エステル５：１）のクロマトグラフィにかけると、化合物（４）７．８ｇ（８４％）が得られた。
相状態 ｋ ５０ ｎ ９８ ｉ
例５３
混合物２：
例５４
混合物３：
例５５
混合物４：
例５６
混合物５：
例５７
混合物６：
例５８
混合物７：
例５９
混合物８：
例６０
混合物９：
例６１
混合物１０：
混合物１１：
混合物１０の成分 各々の濃度 １０．８％
混合物７からのＫ６ 濃度 １．９９％
相状態 ｓ ３４ ｃｈ ９２ ｉ 無色
例６３
混合物１２：
混合物１０の成分 各々の濃度 １０．７８％
混合物７からのＫ６ 濃度 ２．９８％
相状態 ｓ ４４ ｃｈ ９０ ｉ 色：赤
例６４
混合物１３：
混合物１０の成分 各々の濃度 １０．７２モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．５２モル％
相状態 ｓ ５１ ｎ ８０ ｉ 色：緑
例６５
混合物１４：
混合物１０の成分 各々の濃度 １０．６７モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．９７モル％
相状態 ｓ ６５ ｃｈ ７５ ｉ 色：青緑
例６６
混合物１５：
混合物１０の成分 各々の濃度 ９．６１モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．５１モル％
相状態 ｓ ６３ ｃｈ ９６ ｉ 色：緑
例６７
混合物１６：
混合物１０の成分 各々の濃度 ８．５モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．５モル％
相状態 ｓ ５１ ｎ ８７ ｉ 色：緑
例６８
混合物１７：
混合物１０の成分 各々の濃度 ９．６１モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．５１モル％
相状態 ｓ ６３ ｃｈ ７８ ｉ 色：緑
例６９
混合物１８：
混合物10の成分K1〜K9 各々の濃度 10.67モル％
相状態： ｃｈ ９１ ｉ 無色
例７０
混合物１９：
混合物１０の成分 各々の濃度 ９．６１モル％
ヘキサンジオールジアクリレート 濃度 １０モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．５１モル％
相状態：ｓ ５０ ｃｈ ７０ ｉ 色：緑
例７２
混合物２０：
混合物１０の成分 各々の濃度 ８．５モル％
ヘキサンジオールジアクリレート 濃度 ２０モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．５モル％
相状態：ｓ ４６ ｃｈ ６１ ｉ 色：緑
例７３
混合物２１：
混合物１０の成分 各々の濃度 ８．５モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．５モル％
相状態：ｓ ５６ ｃｈ ８０ ｉ 色：緑〜赤
例７４
混合物２２：
混合物１０の成分 各々の濃度 ８．５モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．５モル％
相状態：ｓ ５０ ｃｈ ８２ ｉ 色：緑
例７５
混合物２３：
混合物１０の成分 各々の濃度 ８．５モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．５モル％
相状態：ｓ ４９ ｃｈ ８０．５ ｉ
例７６
混合物２４：
混合物１０の成分 各々の濃度 ８．５モル％
混合物７からのＫ６ 濃度 ３．５モル％
相状態：ｓ ５３ ｃｈ ８４ ｉ 色：緑
例７７
混合物２５：
混合物１０の成分 各々の濃度 １０．１モル％
混合物１８からのＫ１０ 濃度 ９．１モル％
相状態：ｃｈ ８９ ｉ 色：青
例７８
混合物２６：
混合物１０の成分Ｋ１〜Ｋ９ 各々の濃度 １０．５５モル％
例７９
混合物２７：
混合物１０の成分Ｋ１〜Ｋ９ 濃度 １０．３３モル％
混合物２６からの成分Ｋ１０ 濃度 ７．０３モル％
相状態：ｃｈ ９０ ｉ 色：青
例８０
混合物２８：
混合物１０の成分Ｋ１〜Ｋ９ 濃度 ６．５１モル％
スチレン 濃度 ４１．４１モル％
相状態：ｃｈ ６１−７４ ｉ
例８１
混合物２９：
混合物１０の成分Ｋ１〜Ｋ９ 濃度 ５．２２モル％
スチレン 濃度 ５３．０２モル％
相状態：ｃｈ ５０−６９ ｉ
混合物３１：
Ｋ１〜Ｋ９ 混合物３０中のＫ１〜Ｋ９と同じ 各々の濃度１０．６モル％
Ｋ１０ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度 ４．６モル％
相状態：Ｃ＜２５Ｎ＊ ４５−４９ Ｉ
混合物３３：
Ｋ１〜Ｋ９ 混合物３２中のＫ１〜Ｋ９と同じ 各々の濃度１０．６モル％
Ｋ１０ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度 ４．６モル％
相状態：Ｃ＜２５Ｎ＊ ４６−４７ Ｉ
混合物３５：
Ｋ１〜Ｋ９ 混合物３４中のＫ１〜Ｋ９と同じ 各々の濃度１０．６モル％
Ｋ１０ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度 ４．６モル％
相状態：Ｃ＜２５Ｎ＊ ７８−８１ Ｉ
混合物３７：
Ｋ１〜Ｋ９ 混合物３６中のＫ１〜Ｋ１６と同じ 各々の濃度５．９モル％
Ｋ１７ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度５．６モル％
相状態：Ｃ＜２５Ｎ＊ ６３−６６ Ｉ
混合物３９：
Ｋ１〜Ｋ９ 混合物３８中のＫ１〜Ｋ９と同じ 各々の濃度１０．６モル％
Ｋ１０ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度 ４．６モル％
相状態：Ｃ＜２５Ｎ＊ ８０−８２ Ｉ
混合物４１：
Ｋ１〜Ｋ９ 混合物４０中のＫ１〜Ｋ９と同じ 各々の濃度１０．６モル％
Ｋ１０ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度 ４．６モル％
相状態：Ｃ＜２５Ｎ＊ ８７−９０ Ｉ
混合物４３：
Ｋ１〜Ｋ９ 混合物４２中のＫ１〜Ｋ９と同じ 各々の濃度１０．６モル％
Ｋ１０ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度 ４．６モル％
相状態：Ｃ＜２５Ｎ＊ ８１−８２ Ｉ
混合物４５：
Ｋ１〜Ｋ３２ 混合物４４中のＫ１〜Ｋ３２と同じ 各々の濃度５．３４モル％
Ｋ３３ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度 ５．０モル％
相状態：Ｃ＜２５Ｎ＊ ６６−６８ Ｉ 色＝赤
混合物４７：
Ｋ１〜Ｋ３２ 混合物１６中と同じ
Ｋ１〜Ｋ１６の各濃度 ４．５モル％
Ｋ１７〜Ｋ３２の各濃度 １．５モル％
Ｋ３３ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度 ４モル％
相状態：Ｃ＜２５Ｎ＊ ６７ Ｉ
混合物４９：
Ｋ１〜Ｋ３２ 混合物４８中と同じ 各々の濃度 ３．０モル％
Ｋ３３ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度 ５モル％
相状態：Ｃ＜２５Ｎ＊ ６２−６６ Ｉ
混合物５１：
Ｋ１〜Ｋ１６ 混合物５０中のＫ１〜Ｋ１６と同じ 各々の濃度５．９４モル％
Ｋ１７ 混合物２６中のＫ１０と同じ 濃度 ５モル％
相状態：＜５６Ｎ＊ ９１−９４ Ｉ
例１０４
水酸化ナトリウム（油中の６０％分散液）４．８ｇの懸濁液に、２０℃で、ゆっくり、Ｈ２−発生が止むまで、４−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル１６．６ｇを加える。次いで、室温で１時間後撹拌の後に６−べンジルオキシ−１−クロルヘキサン１９．９ｇを添加する。還流下に１６時間加熱の後に、生じる沈殿を濾過分離し、溶剤を除去する。トルエンからの再結晶により前記化合物１５．２ｇが得られる。
ＮＭＲ、ＭＳ及びＩＲはこの構造に一致する。
例１の処方に従って、４−［ω−ベンジルオキシヘキソキシ］−安息香酸４ｇ、４−［４−ベンジルオキシブトキシ］−安息香酸３．９ｇ及びヒドロキノン２ｇを反応させ、ると前記化合物７．２ｇが得られる。ＮＭＲ、ＩＲ及びＭＳはこの構造と一致する。
１−［４’−（ω−ヒドロキシヘキソキシ）−ベンゾイルオキシ］−４−［４”−（ω−ベンゾイルオキシブトキシ）ベンゾイルオキシ］−ベンゾール１２ｇをエタノール２００ｍｌ中に溶かし、Ｐｄ／Ｃ（１０％）２ｇを加え、室温、水素雰囲気下で、水素吸収が止むまで撹拌する。次いで、触媒を濾去し、溶剤を除去し、残分をトルエンから再結晶させる。前記化合物８．５ｇが得られる。ＮＭＲ、ＩＲ及びＭＳはこの構造と一致する。
生成物ｄ）８．５ｇをＨｇ（ＯＡｃ）２１．５ｇと共にエチルビニルエーテル５００ｍｌ中に溶かし、還流下に２４時間加熱する。次いで、Ｋ２ＣＯ３５ｇを加入し、エチルビニルエーテルの過剰分を留去する。残分を濾過し、Ｋ２ＣＯ３を石油エーテルで洗浄する。濾液及び洗液を濃縮し、石油エーテル／酢酸エステル（９：１）からの再結晶の後に、前記化合物８．１ｇが得られる。ＮＭＲ、ＭＳ及びＩＲはその構造と一致する。
ａ．ジエチレングリコールを用いる４−ヒドロキシ安息香酸エチルエステルのエーテル化
４−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル３．６５ｇ（０．０２２モル）を、ジエチレングリコール１１．６６ｇ（０．１１モル）と共に無水テトラヒドロフラン３５ｍ１中に溶かし、ジエチルアゾジカルボキシレート８．７ｇ（０．０３３モル）を加える。反応混合物を室温で２４時間撹拌する。引き続き、この混合物を、回転蒸発器で濃縮させ、残分をカラムクロマトグラフィ（シリカゲル、溶離液：トルエン／酢酸エチルエステル５：１）により精製する。
収量：４．３６ｇ、７８％。
ｂ．４−（ジエチレングリコールオキシ）−安息香酸の製造
４−（２−ジエチレングリコールオキシ）−安息香酸４．３６ｇ（０．０１７モル）をエタノール８０ｍ１中に溶かし、ＫＯＨ１．４６ｇ（０．０２６モル）を加える。この混合物を還流下に３時間加熱し、引き続き溶液を濃塩酸で酸性に調節し、酢酸エチルエステルを加え、生じる沈殿を吸引濾過する。残分を捨て、濾液を濃縮すると、所望の生成物が得られる。
収量：４．７ｇ、９８％。
例１１７の化合物の製造のための更なる工程は、例１のそれと同じである。
混合物３３
Ｋ１：濃度２５モル％
例１３３
混合物３４
Ｋ１：例１３２のＫ１と同じ；濃度２３．７５モル％
Ｋ２：例１３２のＫ２と同じ；濃度４２．７５モル％
Ｋ３：例１３２のＫ３と同じ；濃度４．７５モル％
Ｋ４：例１３２のＫ４と同じ；濃度１９．２３７５モル％
Ｋ５：例１３２のＫ５と同じ；濃度４．２７５モル％
Ｋ６：例１３２のＫ６と同じ；濃度０．００２３７５モル％
Ｋ７：濃度５モル％
例１３４
混合物３５
Ｋ１：例１３２のＫ１と同じ；濃度２３．２５モル％
Ｋ２：例１３２のＫ２と同じ；濃度４１．８５モル％
Ｋ３：例１３２のＫ３と同じ；濃度４．６５モル％
Ｋ４：例１３２のＫ４と同じ；濃度１８．８３２５モル％
Ｋ５：例１３２のＫ５と同じ；濃度４．１８５モル％
Ｋ６：例１３２のＫ６と同じ；濃度０．００２３２５モル％
Ｋ７：例１３３のＫ７と同じ；濃度７モル％
相状態：Ｓ ４０ Ｃｈ ８０ Ｉ 色：緑／青
例１３５
混合物３６
Ｋ１：濃度２５モル％
例１３６
混合物３７
Ｋ１：例１３５のＫ１と同じ；濃度２３．７５モル
Ｋ２：例１３５のＫ２と同じ；濃度２１．３７５モル％
Ｋ３：例１３５のＫ３と同じ；濃度２．３７５モル％
Ｋ４：例１３５のＫ４と同じ；濃度２１．３７５モル％
Ｋ５：例１３５のＫ５と同じ；濃度１９．２３７５モル％
Ｋ６：例１３５のＫ６と同じ；濃度２．１３７５モル％
Ｋ７：例１３５のＫ７と同じ；濃度２．３７５モル％
Ｋ８：例１３５のＫ８と同じ；濃度２．１３７５モル％
Ｋ９：例１３５のＫ９と同じ；濃度０．２３７５モル％
Ｋ10：例１３３のＫ７と同じ；濃度５モル％
相状態：Ｓ ４３ Ｃｈ ７０ Ｉ
色：赤
例１３７
混合物３８
Ｋ１：例１３５のＫ１と同じ；濃度２３．２５モル％
Ｋ２：例１３５のＫ２と同じ；濃度２３０．９２５モル％
Ｋ３：例１３５のＫ３と同じ；濃度２．３２５モル％
Ｋ４：例１３５のＫ４と同じ；濃度２０．９２５モル％
Ｋ５：例１３５のＫ５と同じ；濃度１８．８３２５モル％
Ｋ６：例１３５のＫ６と同じ；濃度２．０９２５モル％
Ｋ７：例１３５のＫ７と同じ；濃度２．３２５モル％
Ｋ８：例１３５のＫ８と同じ；濃度２．０９２５モル％
Ｋ９：例１３５のＫ９と同じ；濃度０．２３２５モル％
Ｋ10：例１３３のＫ７と同じ；濃度７モル％
相状態：Ｓ ４１ Ｃｈ ７０ Ｉ
色：緑
Claims (12)
- 一般式Ｉ
- 式中のＲ1、Ｒ2及びＲ3は相互に独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ15−アルキル、Ｃ1〜Ｃ15−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ15−アルコキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ15−モノアルキルアミノカルボニル、ホルミル、Ｃ1〜Ｃ15−アルキルカルボニル、フッ素、塩素、臭素、シアン、Ｃ1〜Ｃ15−アルキルカルボニルオキシ、Ｃ1〜Ｃ15−アルキルカルボニルアミノ、ヒドロキシ又はニトロを表す、請求項１記載の混合物。
- 式中のＲ1、Ｒ2及びＲ3は相互に独立して、水素、メチル、エチル、Ｃ8〜Ｃ15−アルキル、メトキシ、エトキシ、Ｃ8〜Ｃ15−アルコキシ、メトキシ、カルボニル、エトキシカルボニル、Ｃ8〜Ｃ15−アルコキシカルボニル、ホルミル、アセチル、Ｃ8〜Ｃ15−アルキルカルボニル、フッ素、塩素、臭素、シアン、アセトキシ、ヒドロキシ又はニトロを表す、請求項２記載の混合物。
- 式中のＲ1、Ｒ2及びＲ3は相互に独立して、水素、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、メトキシカルボニル、ホルミル、アセチル、フッ素、塩素、臭素、シアン、アセトキシ、ヒドロキシ又はニトロを表す、請求項３記載の混合物。
- ５０％までの重合可能なキラルな化合物を含有し、ここで、キラルな化合物は液晶又は非液晶であってよい、請求項１記載の混合物。
- 請求項１記載の混合物からなる、液晶物質の配向化層。
- 請求項１記載の混合物からなる、液晶ポリマー製造用のモノマー。
- 請求項１記載の混合物からなる、キラルドープ可能で重合可能な液晶系製造用の基礎材料。
- 請求項１記載の混合物からなる、分散されたポリマーディスプレイ用の重合可能なマトリックスモノマー。
- 請求項１記載の混合物からなる、光学的部材用の重合可能な液晶物質の基礎材料。
- 重合可能なキラルな化合物でドープされた、請求項１記載の混合物からなる、カラー効果物質用の基礎材料。
- 重合可能なキラルな化合物でドープされた、請求項１記載の混合物からなる、ピエゾ物質用の基礎材料。
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