JP4803626B2

JP4803626B2 - 重合性液晶化合物

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Publication number: JP4803626B2
Application number: JP2001391499A
Authority: JP
Inventors: 承澤李; 善之小野
Original assignee: DIC Corp
Current assignee: DIC Corp
Priority date: 2001-12-25
Filing date: 2001-12-25
Publication date: 2011-10-26
Anticipated expiration: 2021-12-25
Also published as: JP2003192645A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学フィルム、位相差板、偏光板、偏光プリズム、各種光フィルター等の光学異方体、光導波路、圧電素子、非線形光学素子、コレステリック液晶相等の選択反射を利用した液晶顔料、液晶−樹脂複合ディスプレー、ホログラフィック液晶ディスプレー、高分子安定化液晶（強誘電性液晶、反強誘電性液晶）ディスプレー、光ファイバー等の被覆剤などとして有用な、新規の重合性液晶化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
重合性の液晶化合物を含有する重合性液晶組成物は、液晶状態で配向させた後、その状態で紫外線等の活性エネルギー線を照射すると、液晶分子の配向を固定化した高分子を作製することができる。このようにして得られた高分子は、屈折率、誘電率、磁化率、弾性率、熱膨張率等の物理的性質の異方性を有していることから、例えば、位相差板、偏光板、偏光プリズム、導波路、圧電素子、非線形光学素子、各種光フィルター、コレステリック液晶相等の選択反射を利用した顔料、光ファイバー等の被覆剤として応用可能である。
【０００３】
このような用途に用いる重合性液晶組成物として、特開２０００−１７８２３３号公報には、１分子中に（メタ）アクリロイルオキシ基等の重合性官能基を３個有する、液晶相を示す温度又は融点が７５℃以上である液晶性化合物及びそれを含有する重合性液晶組成物が開示されている。また、特開平８−１０４８７０号公報には、１分子中に（メタ）アクリロイルオキシ基等の重合性官能基を３個又は４個有する、液晶相を示す温度又は融点が４０℃以上である液晶性化合物及びそれを含有する重合性液晶組成物が開示されている。
【０００４】
一般に重合性液晶組成物は、液晶分子を均一に配向させた後、液晶状態を保持したまま紫外線などのエネルギー線を照射することで光重合させ、均一な配向状態を半永久的に固定する。そのためネマチック相を示す下限温度が作業環境温度（通常は２５℃付近である）よりも高いと、液晶状態に保持したまま均一な配向を得るために加温する必要があり、この加温が原因で、エネルギー線による光重合だけでなく、意図しない熱重合も誘起されて、液晶分子の均一な配向状態が失われ、所望する配向状態とは異なる不均一な配向状態が固定化されてしまうという問題点がある。そのため、熱重合を誘起せず且つ作業性に優れている２５℃〜４０℃の温度範囲においてネマチック相を示す重合性液晶組成物を調製するための、低融点で、他の液晶化合物との相溶性に優れる重合性液晶化合物が求められている。
【０００５】
しかし、前記公報に記載の重合性液晶化合物は、いずれも融点が４０℃以上であり、また液晶相を示す温度範囲が狭く、他の液晶化合物との相溶し難い等の問題を有している。そのため、これらの重合性液晶性化合物を使用して重合性液晶組成物を調製するには、多くの種類の重合性液晶化合物を併用しなければならないという問題点があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明が解決しようとする課題は、低融点で、他の液晶化合物との相溶性に優れる新規な重合性液晶化合物を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明は上記課題を解決するために、一般式（I）
【０００８】
【化３】

［式中、Ｐ^１〜Ｐ^４は、おのおの独立的に、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基、ビニルオキシ基及びマレイミド基からなる群から選ばれる重合性官能基を表わす。Ｓ^１〜Ｓ^４は、おのおの独立的に、−（ＣＨ₂）_ｋ−、−（ＣＨ₂）_ｋＯ−、−Ｏ（ＣＨ₂）_ｋ− 、−（ＣＨ₂）_ｋ−ＯＣＯ−、−（ＣＨ₂）_ｋ−ＣＯＯ−（ｋは、１〜２０の整数を表す）からなる群から選ばれる連結基を表わし、６員環Ａ及びＣは、おのおの独立的にベンゼン骨格又はシクロヘキサン骨格を表し、Ｔは−ＣＯＯ−（ＣＨ₂）_ｌ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ₂）_ｌ−ＯＣＯ−、−Ｏ−（ＣＨ₂）_m−Ｏ−、−ＯＣＯ−（ＣＨ₂）_ｎ−ＣＯＯ− （ｌは、２〜１５の整数を表わし、ｍは、３〜１５の整数を表わし、ｎは、１〜１５の整数を表わす。）からなる群から選ばれる連結鎖を表わす。
Ｂ、Ｄは、おのおの独立的に、
【０００９】
【化４】

【００１０】
からなる群から選ばれる環構造を表わす。Ｙ¹及びＹ²は、おのおの独立的に、単結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂− 、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ− 、 −ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−及び−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選ばれる連結基を表わす。ｒは、０〜３の整数を表わし、ｑは０又は１を表わす。］で表わされる重合性液晶化合物を提供する。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明の一般式（１）で表わされる重合性液晶化合物において、Ｐ^１〜Ｐ^４は、おのおの独立的に、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基、ビニルオキシ基及びマレイミド基からなる群から選ばれる重合性官能基を表わす。これらの重合性官能基は、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合等で重合可能であり、紫外線、電子線のような電離放射線、マイクロ波、高周波活性光線等の活性エネルギー線の照射によって重合する。中でも、活性エネルギー線に対する感度が高いことから、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基又はビニルオキシ基が好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、エポキシ基、ビニルオキシ基が特に好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基が更に好ましい。
【００１２】
本発明の一般式（１）で表わされる重合性液晶化合物において、Ｓ^１〜Ｓ^４は、おのおの独立的に、−（ＣＨ₂）_ｋ−、−（ＣＨ₂）_ｋＯ−、−Ｏ（ＣＨ₂）_ｋ− 、−（ＣＨ₂）_ｋ−ＯＣＯ−、−（ＣＨ₂）_ｋ−ＣＯＯ−からなる群から選ばれる連結基を表わし、ｋは、１〜２０の整数を表す。中でもｋが３〜１０の範囲のものが特に好ましい。
【００１３】
本発明の一般式（１）で表わされる重合性液晶化合物において、６員環Ａ及びＣは、おのおの独立的にベンゼン骨格又はシクロヘキサン骨格を表す。中でも、合成のしやすさから６員環Ａ及びＣがベンゼン骨格であることが好ましい。６員環Ａ及びＣは、置換基として、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子、メチル基等の低級アルキル基、メトキシ基等の低級アルコキシル基などを有していてもよい。
【００１４】
本発明の一般式（１）で表わされる重合性液晶化合物において、Ｔは−ＣＯＯ−（ＣＨ₂）_ｌ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ₂）_ｌ−ＯＣＯ−、−Ｏ−（ＣＨ₂）_m−Ｏ−、−ＯＣＯ−（ＣＨ₂）_ｎ−ＣＯＯ−からなる群から選ばれる連結鎖を表わし、ｌは、２〜１５の整数を表わし、ｍは、３〜１５の整数を表わし、ｎは、１〜１５の整数を表わす。中でも、合成のし易さから、−ＣＯＯ−（ＣＨ₂）_ｌ−Ｏ−又は−Ｏ−（ＣＨ₂）_ｌ−ＯＣＯ−が好ましい。又、ｌは２〜１２の範囲のものが好ましく、３〜１０の範囲のものが特に好ましい。
【００１５】
本発明の一般式（１）で表わされる重合性液晶化合物において、環Ｂ及びＤは、おのおの独立的に前記記載の環構造を表す。これらの中でも、１，４−フェニレン基、１，４−シクロへキシレン基が好ましい。これらの環は、シアノ基、ハロゲン、炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基及びアルカノイル基からなる群から選ばれる一つ以上の置換基を有していても良く、置換基としては、フッ素原子、メチル基、又はメチレン基が好ましい。
【００１６】
本発明の一般式（１）で表わされる重合性液晶化合物において、液晶性骨格は
【化５】

【００１７】
で表される、環を２以上、好ましくは２〜５個有する骨格である。具体的には以下の式（ａ１）〜（ａ４４７）で表わされるような構造を挙げることができる。
【００１８】
【化６】

【００１９】
【化７】

【００２０】
【化８】

【００２１】
【化９】

【００２２】
【化１０】

【００２３】
【化１１】

【００２４】
【化１２】

【００２５】
【化１３】

【００２６】
【化１４】

【００２７】
【化１５】

【００２８】
【化１６】

【００２９】
【化１７】

【００３０】
【化１８】

【００３１】
【化１９】

【００３２】
【化２０】

【００３３】
【化２１】

【００３４】
【化２２】

【００３５】
【化２３】

【００３６】
【化２４】

【００３７】
【化２５】

【００３８】
【化２６】

【００３９】
【化２７】

【００４０】
【化２８】

【００４１】
【化２９】

【００４２】
【化３０】

【００４３】
【化３１】

【００４４】
【化３２】

【００４５】
【化３３】

【００４６】
【化３４】

【００４７】
【化３５】

【００４８】
【化３６】

【００４９】
【化３７】

【００５０】
【化３８】

【００５１】
一般式（１）で表わされる化合物の中でも、一般式（２）〜（５）で表わされるような、液晶性（メタ）アクリレート化合物が特に好ましい。
【００５２】
【化３９】

（式中、Ｘは、水素又はメチル基を表し、ｄ及びｇは、１〜２０の整数を表し、ｆは、２〜１５の整数を表す。）
【００５３】
【化４０】

（式中、Ｘは、水素又はメチル基を表し、ｄ及びｇは、１〜２０の整数を表し、ｆは、２〜１５の整数を表す。）
【００５４】
【化４１】

（式中、Ｘは、水素又はメチル基を表し、ｄ及びｇは、１〜２０の整数を表し、ｆは、２〜１５の整数を表す。）
【００５５】
【化４２】

（式中、Ｘは、水素又はメチル基を表し、ｄ及びｇは、１〜２０の整数を表し、ｆは、２〜１５の整数を表す。）
【００５６】
重合性官能基としては、上記（メタ）アクリロイルオキシ基の他に、エポキシ基又はビニルオキシ基も好ましい。そのような化合物としては、例えば、以下の一般式（６）又は（７）で表わされる化合物等を挙げることができる。
【００５７】
【化４３】

（式中、ｄ及びｇは、１〜２０の整数を表し、ｆは、２〜１５の整数を表す。）
【００５８】
【化４４】

（式中、ｄ及びｇは、１〜２０の整数を表し、ｆは、２〜１５の整数を表す。）
【００５９】
一般式（２）で表わされる化合物は、例えば、以下の方法により、合成することができる。
【００６０】
【化４５】

【００６１】
（式中、Ｘ、ｄ、ｆ及びｇは、一般式（２）の場合と同じ内容を表わす。また、ＤＭＦは、ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと略す）を表す。）
一般式（８）で表わされるハロゲン誘導体と、これに対し１．０５当量の一般式（９）で表わされるフェノール誘導体を炭酸カリウムの存在下ＤＭＦ溶剤中で、置換反応させることにより、目的とする一般式（２）で表わされる化合物を合成することができる。
【００６２】
一般式（２）で表わされる化合物の合成原料となる一般式（８）で表わされるハロゲン誘導体は、例えば、以下の方法により合成することができる。
【００６３】
【化４６】

【００６４】
（式中、Ｘ、ｄ及びｆは、一般式（２）と同じ内容を表わす。また、ＤＣＣは、ジシクロヘキシルカルボジイミド（以下、ＤＣＣと略す）を表わす。）
即ち、式（８−１）で表わされる３，４−ジヒドロキシ安息香酸と一般式（８−２）で表わされるブロム基を有するアルコール誘導体とを反応させて、一般式（８−３）で表わされる化合物を得る。この化合物を酸触媒の存在下に、水を留去しながら（メタ）アクリル酸と反応させることにより、一般式（８−４）で表わされるカルボン酸誘導体を得る。引き続き、この化合物を一般式（８−５）で表わされるブロム基を有するアルコール誘導体とＤＣＣ等の縮合剤を用いてエステル化反応させることにより、目的とする一般式（８）で表わされるハロゲン誘導体を合成することができる。
【００６５】
一般式（２）で表わされる化合物の合成原料となる一般式（９）で表わされるフェノール誘導体は、例えば、以下の方法により合成することができる。
【００６６】
【化４７】

【００６７】
（式中、Ｘ及びｇは、一般式（２）と同じ内容を表わす。）
即ち、式（９−１）で表わされる４−ヒドロキシ安息香酸と一般式（９−２）で表わされるブロム基を有するアルコール誘導体とを反応させて、一般式（９−３）で表わされる化合物を得る。この化合物を酸触媒の存在下に、水を留去しながら（メタ）アクリル酸と反応させることにより、一般式（９−４）で表わされるカルボン酸誘導体を得る。引き続き、この化合物に大過剰のジヒドロキノンとＤＣＣ等の縮合剤を用いてエステル化反応させることにより、目的とする一般式（９）で表わされるフェノール誘導体を合成することができる。
【００６８】
次に、一般式（３）で表わされる化合物について説明する。一般式（３）で表わされる化合物は、例えば、一般式（９）で表わされるフェノール誘導体の代わりに、一般式（１０）で表わされる２官能（メタ）アクリレートのフェノール誘導体を用いて、前記に示した一般式（２）で表わされる化合物の合成方法と同様にして合成することができる。
【００６９】
【化４８】

（式中、Ｘ、ｄ、ｆ及びｇは、一般式（３）の場合と同じ内容を表わす。）
【００７０】
一般式（３）で表わされる化合物の合成原料となる一般式（１０）で表わされるフェノール誘導体は、例えば、以下の方法により合成することができる。
【００７１】
【化４９】

【００７２】
（式中、Ｘ及びｇは、一般式（３）と同じ内容を表わす。）
即ち、式（１０−１）で表わされる３，４−ジヒドロキシ安息香酸と一般式（９−２）で表わされるブロム基を有するアルコール誘導体とを反応させて、一般式（１０−２）で表わされる化合物を得る。この化合物を酸触媒の存在下に、水を留去しながら（メタ）アクリル酸と反応させることにより、一般式（１０−３）で表わされるカルボン酸誘導体を得る。引き続き、この化合物に大過剰のジヒドロキノンとＤＣＣ等の縮合剤を用いてエステル化反応させることにより、目的とする一般式（１０）で表わされるフェノール誘導体を合成することができる。
【００７３】
次に、一般式（４）で表わされる化合物について説明する。一般式（４）で表わされる化合物は、例えば、以下の方法によって合成することができる。
【００７４】
【化５０】

（式中、Ｘ、ｄ、ｆ及びｇは、一般式（４）の場合と同じ内容を表わす。）
【００７５】
上記一般式（８）で表わされるハロゲン誘導体と、これに対し１．０５当量の一般式（１１）で表わされるトラン骨格のフェノール誘導体を炭酸カリウムの存在下ＤＭＦ溶剤中で、置換反応させることにより、目的とする一般式（４）で表わされる化合物を合成することができる。
【００７６】
一般式（４）で表わされる化合物の合成原料となる一般式（１１）で表わされるトラン骨格のフェノール誘導体は、例えば、以下の方法により合成することができる。
【００７７】
【化５１】

【００７８】
（式中、Ｘ、ｇは、一般式（４）の場合と同じ内容を表わす。Ｐｈは、フェニル基を表す。）
即ち、式（１１−１）で表わされる２−フルオロ−４−ブロモ−フェノールの水酸基を、テトラピラニルエーテルを用いて保護して、式（１１−２）で表わされる化合物を得た後、パラジウム触媒の存在下に、トリメチルシリルアセチレンと反応させ、式（１１−３）で表わされる化合物を得る。引き続き、トリメチルシリル基を脱離させて、一般式（１１−４）で表わされるアセチレン誘導体を得る。一般式（１１−４）で表わされるアセチレン誘導体と４−ヨードフェノールとを、パラジウム触媒の存在下に、カップリング反応させて、一般式（１１−５）で表わされる化合物を得る。一般式（１１−５）で表わされる化合物と上記の一般式（９−４）で表わされるカルボン酸誘導体とをＤＣＣ等の縮合剤を用いてエステル化反応させることにより、一般式（１１−６）で表わされる化合物を得た後、引き続き、酸触媒下、脱保護させることにより、目的とする一般式（１１）で表わされるトラン骨格のアルコール誘導体を得ることができる。
【００７９】
次に、一般式（５）で表わされる化合物について説明する。一般式（５）で表わされる化合物は、例えば、一般式（１１）で表わされるトラン骨格のフェノール誘導体の代わりに、一般式（１２）で表わされる２官能（メタ）アクリレートのトラン骨格のフェノール誘導体を用いて、前記に示した一般式（４）で表わされる化合物の合成方法と同様にして合成することができる。
【００８０】
【化５２】

【００８１】
（式中、Ｘ、ｄ、ｆ及びｇは、一般式（５）の場合と同じ内容を表わす。）
一般式（５）で表わされる化合物の合成原料となる一般式（１２）で表わされるフェノール誘導体は、一般式（９−４）で表わされるカルボン酸誘導体の代わりに、一般式（１２−１）で表わされる２官能（メタ）アクリレートのカルボン酸誘導体を用いることの他には、前記に示した一般式（１１）で表わされる化合物の合成方法と同様にして合成することができる。
【００８２】
【化５３】

【００８３】
（式中、Ｘ及びｇは、一般式（５）の場合と同じ内容を表わす。）
一般式（５）で表わされる化合物の合成原料となる一般式（１２−１）で表わされる２官能（メタ）アクリレートのカルボン酸誘導体は、前記で示したように、一般式（８−４）で表わされる２官能（メタ）アクリレートのカルボン酸誘導体の合成方法と同様にして合成することができる。
【００８４】
次に、一般式（６）で表わされるエポキシ化合物及び一般式（７）で表わされるビニルエーテル化合物について説明する。一般式（６）で表わされる化合物は、例えば、以下の方法によって合成することができる。
【００８５】
【化５４】

【００８６】
（式中、ｄ、ｆ及びｇは、一般式（６）の場合と同じ内容を表わす。）
上記一般式（１３）で表わされるハロゲン誘導体と、これに対し１．０５当量の一般式（１４）で表わされるフェノール誘導体を炭酸カリウムの存在下ＤＭＦ溶剤中で、置換反応させることにより、目的とする一般式（６）で表わされる化合物を合成することができる。
【００８７】
又、一般式（７）で表わされる化合物は、例えば、以下の方法によって合成することができる。
【００８８】
【化５５】

【００８９】
（式中、ｄ、ｆ及びｇは、一般式（７）の場合と同じ内容を表わす。）
上記一般式（１５）で表わされるハロゲン誘導体と、これに対し１．０５当量の一般式（１６）で表わされるフェノール誘導体を炭酸カリウムの存在下ＤＭＦ溶剤中で、置換反応させることにより、目的とする一般式（７）で表わされる化合物を合成することができる。
【００９０】
一般式（６）で表わされる液晶性エポキシ化合物及び一般式（７）で表わされる液晶性ビニルエーテル化合物の合成に用いる種々の合成原料は、上記に示した一般式（２）から一般式（５）の液晶性（メタ）アクリレート化合物の合成に用いた合成方法と同様にして合成することができる。
【００９１】
【実施例】
以下、実施例を用いて、本発明を更に詳細に説明する。しかしながら、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００９２】
＜実施例１＞〔液晶性のアクリレート化合物の合成（１）〕
３，４−ジヒドロキシ安息香酸１０．０ｇ、６−ブロモ−１−ヘキサノール２６．０ｇ、水酸化ナトリウム８．２ｇ、ヨウ化カリウム１．０ｇ、エタノール４５ml及び水４５mlからなる混合物を撹拌しながら、８０℃で８時間加熱した。得られた反応液を室温まで冷却した後、反応液に飽和食塩水５００mlを加え、反応液の水層が弱酸性になるまで希塩酸を加えた。この反応溶液に酢酸エチル３００mlを加えて反応生成物を抽出した。有機層を水洗した後、抽出溶媒を減圧留去し、さらに風乾させて、下記式（ｓ１）
【００９３】
【化５６】

で表わされる化合物２３．５ｇを得た。
【００９４】
式（ｓ１）で表わされる化合物２３．５ｇ、アクリル酸３０．０ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸５．０ｇ、ヒドロキノン１．０ｇ、トルエン１００ml、ｎ−ヘキサン６０ml及びテトラヒドロフラン４０mlからなる混合物を加熱撹拌し、生成してくる水を留去しながら６時間還流させた。反応液を室温まで冷却した後、反応液に飽和食塩水５００ml及び酢酸エチル３００mlを加えて反応生成物を抽出した。有機層を水洗した後、有機溶媒を減圧留去して粗生成物４０．１ｇを得た。次に、この粗生成物を、ｎ−ヘキサン１００mlとトルエン２０mlの混合溶媒を用い、再結晶させる操作を２回行なうことにより、式（ｓ２）
【００９５】
【化５７】

で表わされる化合物８．０ｇを得た。
【００９６】
６−ブロモ−１−ヘキサノール６．５ｇ、式（ｓ２）で表わされる化合物１３．９ｇ及び塩化メチレン２５０ｍｌの溶液に１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩５．８ｇ及び４−ジメチルアミニピリジン３．７ｇを加えて撹拌しながら、室温で約８時間反応を行った。薄層クロマトグラフィー（展開層；シリカゲル、展開溶媒；トルエン：酢酸エチル＝３：１）によって反応が終了したことを確認した後、飽和食塩水１００ｍｌで２回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水し、減圧下溶媒留去した後、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（展開層；シリカゲル、展開溶媒；トルエン：酢酸エチル＝３：１）で分離して式（ｓ３）
【００９７】
【化５８】

で表わされる化合物９．８ｇを得た。
【００９８】
¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃）；
ケミカルシフト＝１．４６〜１．８９（ｍ、２４Ｈ）、３．３８（ｔ、２Ｈ）、４．０５（ｔ、４Ｈ）、４．１５（ｔ、２Ｈ）、４．２７（ｔ、２Ｈ）、５．８２（ｄｄ、２Ｈ）、６．１３（ｄｄ、２Ｈ）、６．４０（ｄｄ、２Ｈ）、６．８５（ｄ、１Ｈ）、７．５３（ｄ、１Ｈ）、７．６５（ｄ、１Ｈ）
【００９９】
４−ヒドロキシ安息香酸１０．０ｇ、６−ブロモ−１−ヘキサノール１３．０ｇ、水酸化ナトリウム８．２ｇ、ヨウ化カリウム２．０ｇ、エタノール４５ml及び水４５mlからなる混合物を撹拌しながら、８０℃で８時間加熱した。得られた反応液を室温まで冷却した後、反応液に飽和食塩水５００mlを加え、反応液の水層が弱酸性になるまで希塩酸を加えた。この反応溶液に酢酸エチル３００mlを加えて反応生成物を抽出した。有機層を水洗した後、抽出溶媒を減圧留去し、さらに風乾させて、下記式（ｓ４）
【０１００】
【化５９】

で表わされる化合物１８．５ｇを得た。
【０１０１】
式（ｓ４）で表わされる化合物１１．０ｇ、アクリル酸１３．３ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸２．７ｇ、ヒドロキノン０．６ｇ、トルエン４２ml、ｎ−ヘキサン１８ml及びテトラヒドロフラン２６mlからなる混合物を加熱撹拌し、生成してくる水を留去しながら６時間還流させた。反応液を室温まで冷却した後、反応液に飽和食塩水１００ml及び酢酸エチル８０mlを加えて反応生成物を抽出した。有機層を水洗した後、有機溶媒を減圧留去して粗生成物２３．１ｇを得た。次に、この粗生成物を、ｎ−ヘキサン４０mlとトルエン１０mlの混合溶媒を用い、再結晶させる操作を２回行なうことにより、式（ｓ５）
【０１０２】
【化６０】

で表わされる化合物１１．５ｇを得た。
【０１０３】
ジヒドロキノン７７．０ｇ、式（ｓ５）で表わされる化合物２０．４ｇ及び無水ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）５００ｍｌの溶液に１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩１３．４ｇ及び４−ジメチルアミニピリジン８．５ｇを加えて撹拌しながら、室温で約３時間反応を行った。薄層クロマトグラフィー（展開層；シリカゲル、展開溶媒；トルエン：酢酸エチル＝４：１）によって反応が終了したことを確認した後、酢酸エチル５００ｍｌを用いて反応液を希釈して飽和食塩水５００ｍｌで２回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水し、減圧下溶媒留去した後、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（展開層；シリカゲル、展開溶媒；トルエン：酢酸エチル＝４：１）により分離して式（ｓ６）
【０１０４】
【化６１】

で表わされる化合物１５．１ｇを得た。
【０１０５】
¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃）；
ケミカルシフト＝１．４２〜１．８８（ｍ、８Ｈ）、４．００（ｔ、２Ｈ）、４．１８（ｔ、２Ｈ）、５．８２（ｄｄ、２Ｈ）、６．１４（ｄｄ、２Ｈ）、６．３９（ｄｄ、２Ｈ）、６．７７〜７．０４（ｍ、６Ｈ）、８．１３（ｄ、２Ｈ）
【０１０６】
上記の合成で得られた式（ｓ３）で表される化合物７．２ｇ、式（ｓ６）で表される化合物４．５ｇ及びジメチルホルムアミド７０ｍｌの溶液に炭酸カリウム１．６１ｇを加えて撹拌しながら、８５℃で約８時間加熱した。薄層クロマトグラフィー（展開層；シリカゲル、展開溶媒；トルエン：酢酸エチル＝４：１）によって反応が終了したことを確認した後、酢酸エチル２００ｍｌを用いて反応液を希釈し、飽和食塩水１５０ｍｌで２回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水し、減圧下溶媒留去した後、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（（展開層；シリカゲル、展開溶媒；トルエン：酢酸エチル＝１０：１）により分離、精製して式（ｓ７）
【０１０７】
【化６２】

で表わされる化合物４．７ｇを得た。
【０１０８】
得られた式（ｓ７）で表わされる化合物の昇温時における相転移温度は、結晶相−スメクチック相が−３１℃、スメクチック相−等方性液体相が２５℃、そして、降温時における相転移温度は、等方性液体相−スメクチック相が１５℃、スメクチック相−結晶相が−４０℃以下で、低い融点を示す優れた液晶化合物であった。又、室温付近の温度範囲で過冷却状態ではあるが、等方性液体相にすると約二日間はその液体状態になる。そして、２５℃で測定した粘度は３０００ミリパスカルであった。
【０１０９】
¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃）；
ケミカルシフト＝１．４６〜１．８７（ｍ、３２Ｈ）、３．９５〜４．３３（ｍ、１６Ｈ）、５．８２（ｍ、３Ｈ）、６．０７〜６．１７（ｍ、３Ｈ）、６．３６〜６．４４（ｍ、３Ｈ）、６．８４〜７．２７（ｍ、７Ｈ）、７．５４〜７．６６（ｍ、２Ｈ）、８．１２（ｄ、２Ｈ）
【０１１０】
＜比較例１＞〔液晶性アクリレート化合物の合成（２）〕
前記合成で得られた式（ｓ２）で表わされる化合物７．０ｇ、塩化チオニル７．０ｇ及び２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．０５ｇからなる混合物にジメチルホルムアミド３滴を加え、４０℃で約３０分間加熱攪拌した。反応液を減圧下溶媒留去した後、これを式（ｓ８）の化合物５．１ｇ、トリエチルアミン３．１ｇ及びテトラヒドロフラン３０ｍｌからなる混合物に徐々に滴下した。
【化６３】

【０１１１】
この時、反応混合物の内温が３０℃以下になるように滴下速度を調節した。滴下終了後、約３．５時間室温で攪拌した。薄層クロマトグラフィー（展開層；シリカゲル、展開溶媒；トルエン：酢酸エチル＝４：１）によって反応が終了したことを確認した後、飽和食塩水２００ｍｌを加えて水層が弱酸性になるまで希塩酸を加えた。さらに、酢酸エチル１００ｍｌを加えて抽出した。得られた有機層を飽和食塩水１００ｍｌで２回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水し、減圧下溶媒留去した後、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（展開層；シリカゲル、展開溶媒；トルエン：酢酸エチル＝４：１）により分離し、さらに、メタノール１０ｍｌからの再結晶２回により精製して式（ｓ９）
【０１１２】
【化６４】

で表わされる化合物１．３ｇを得た。
【０１１３】
得られた式（ｓ９）で表わされる化合物の昇温時における相転移温度は、結晶相−スメクチック相が７４．９℃、スメクチック相−等方性液体相が７５．５℃で、実施例１で得られた式（ｓ２）で表わされる化合物より高い融点を示した。
【０１１４】
¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃）；
ケミカルシフト＝１．５１〜１．８７（ｍ、２４Ｈ）、４．０２（ｔ、４Ｈ）、４．０９（ｔ、４Ｈ）、４．１７（ｔ、４Ｈ）、５．８０（ｄ、３Ｈ）、６．１３（ｄｄ、３Ｈ）、６．３８（ｄ、３Ｈ）、６．９２〜７．８５（ｍ、１１Ｈ）
【０１１５】
＜実施例２＞
〔式（ｓ７）で表わされる化合物と他の液晶性アクリレート化合物との相溶性測定（１）〕
下記式（ｓ１０）で表わされる液晶性アクリレート化合物５０質量部及び式（ｓ１１）で表わされる液晶性アクリレート化合物５０質量部からなる組成物（Ａ）を調製した。組成物（Ａ）は、室温（２５℃）でネマチック液晶相を呈す低粘度の組成物である。
【０１１６】
【化６５】

【０１１７】
実施例１で得られた式（ｓ７）で表わされる化合物と上記の組成物（Ａ）との相溶性の測定を行った。式（ｓ７）で表わされる化合物と組成物（Ａ）との質量比が、１０：９０、２０：８０、３０：７０、４０：６０、及び５０：５０の場合において、全て良好な相溶性を示し、室温で結晶の析出などがなく長期間安定であった。
【０１１８】
＜比較例２＞
〔式（ｓ９）で表わされる化合物と他の液晶性アクリレート化合物との相溶性測定（２）〕
比較例１で得られた式（ｓ９）で表わされる化合物と上記の組成物（Ａ）との相溶性の測定を行った。式（ｓ９）で表わされる化合物と組成物（Ａ）との質量比が、１０：９０、２０：８０、及び３０：７０の場合において、良好な相溶性を示した。３０：７０の場合は、相溶した後、約３時間の内に室温で結晶の析出が観測された。
【０１１９】
【発明の効果】
本発明の重合性液晶化合物は、等方性液体相を示す温度が低く、また、他の液晶化合物との相溶性にも優れている。従って、本発明の重合性液晶化合物は、例えば、位相差板、偏光板、偏光プリズム等の光学異方体、光導波路、圧電素子、非線形光学素子、各種光フィルター、コレステリック液晶相等の選択反射を利用した顔料、光ファイバー等の被覆剤への応用に極めて有用な材料である。

Claims

一般式（I）

［式中、Ｐ^１〜Ｐ^４は、（メタ）アクリロイルオキシ基で表わされる重合性官能基を表わす。Ｓ^１、Ｓ^２は、おのおの独立的に、−（ＣＨ₂）_ｋＯ−（ｋは、１〜２０の整数を表す）を表わし、Ｓ^３、Ｓ^４は、おのおの独立的に、−Ｏ（ＣＨ₂）_ｋ−（ｋは、１〜２０の整数を表す）を表わし、６員環Ａ及びＣは、おのおの独立的にベンゼン骨格を表し、Ｔは−ＣＯＯ−（ＣＨ₂）_ｌ−Ｏ−、（ｌは、２〜１５の整数を表わす。）の連結鎖を表わす。Ｂ、Ｄは、

の環構造を表わす。Ｙ¹は、Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｙ²は−ＯＣＯ−を表わす。ｒは、０〜１の整数を表わし、ｑは０又は１を表わす。］で表わされることを特徴とする重合性液晶化合物。
前記ｑが０である請求項１記載の重合性液晶化合物。