JP2019070132A - 撥水性を有する基材 - Google Patents

Abstract

【課題】紫外線に暴露される環境で長期間使用しても、撥水性が低下しにくい基材を提供する。【解決手段】表面処理層を有し、下記条件で行う促進耐候性試験を４００時間行った後の水の静的接触角が１００度以上であることを特徴とする基材。＜促進耐候性試験の条件＞ＵＶＢ−３１３ランプ（波長３１０ｎｍにおいて放射照度０．６３Ｗ／ｍ２）を用い、ランプと基材の表面処理層との距離を５ｃｍとし、２４時間照射毎に表面処理層を水とエタノールで拭いて乾かす。【選択図】 なし

Description

本発明は、撥水性を有する基材に関する。

撥水性を有する基材として、次のようなものが知られている。

特許文献１には、基材の表面を撥水性にするためのキットであって、
（Ａ）ａ）一般式
Ｒｆ−（ＣＨ_２）_２−ＳｉＣｌ_３
（式中、Ｒｆは、３〜１８個のアルキル炭素原子を有するパーフルオロアルキルラジカル基である）を有する化合物から選択される少なくとも１つのパーフルオロアルキルトリクロロシランと；ｂ）パーフルオロポリエーテルカルボン酸と；ｃ）少なくとも１つのフッ素化溶剤とから本質的になるコーティング組成物を含むキットが記載されている。

特許文献２には、基材上に撥水層を有する撥水性物品の製造方法において、該撥水層を、重量平均分子量が１０００以上の反応性シリル基を有する撥水性化合物含有塗布液と、重量平均分子量が１０００未満の反応性シリル基を有する撥水性化合物含有塗布液とを、この順に該基材上に塗布して形成する事を特徴とする撥水性物品の製造方法が記載されている。

特許文献３には、基板と、前記基板の主面の少なくとも一部に前記基板側から順に形成された中間層および最外層を有する撥水膜とを備える撥水膜付き基板であって、前記中間層は、下記一般式（ａ１）で表される加水分解性シラン化合物および／またはその部分加水分解縮合物である含フッ素シラン化合物（ａ）を全固形分の主成分として含む中間層用コーティング組成物を用いて形成され、前記最外層は、末端のペルフルオロアルキル基の炭素原子数が１〜６であるペルフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物および／またはその部分加水分解縮合物である含フッ素シラン化合物（ｂ）を全固形分に対して７０質量％以上含む最外層用コーティング組成物を用いて形成される撥水膜付き基板が記載されている。
Ｒ^Ｆ１−Ｑ^１−ＳｉＲ^１ _{（３−ｍ１）}Ｘ^１ _ｍ１ ・・・（ａ１）
ただし、式（ａ１）中の記号は以下の通りである。
Ｒ^Ｆ１：炭素原子数１〜６の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を含まないペルフルオロアルキル基を示す。
Ｑ^１：炭素原子数１〜６のフッ素原子を含まない２価有機基を示す。
Ｘ^１：炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数２〜１０のオキシアルコキシ基、炭素原子数２〜１０のアシロキシ基、炭素原子数２〜１０のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子またはイソシアネート基を示す。ｍ１個のＸ^１は、互いに同一であっても異なってもよい。
Ｒ^１：水素原子または、水素原子の一部または全部が置換されていてもよいフッ素原子を含まない炭素原子数１〜８の一価炭化水素基を示す。３−ｍ１個のＲ^１は互いに同一であっても異なってもよい。
ｍ１：１〜３の整数を示す。

特表２０１１−５１８２３１号公報 特開２０１０−２６０１９３号公報 特開２０１４−０２４２８８号公報

しかしながら、従来の撥水性を有する基材は、紫外線に対する耐久性が充分でなく、屋外での使用を継続すると、撥水性が低下する問題があった。

そこで、本発明は、上記現状に鑑み、紫外線に暴露される環境で長期間使用しても、撥水性が低下しにくい基材を提供することを目的とする。すなわち、紫外線に暴露される環境で長期間使用しても、防汚性を長期間に亘って維持することを目的とする。

本発明は、表面処理層を有し、下記条件で行う促進耐候性試験を４００時間行った後の水の静的接触角が１００度以上であることを特徴とする基材（以下、「第１の基材」ともいう。）である。
＜促進耐候性試験の条件＞
ＵＶＢ−３１３ランプ（波長３１０ｎｍにおいて放射照度０．６３Ｗ／ｍ^２）を用い、ランプと基材の表面処理層との距離を５ｃｍとし、２４時間照射毎に表面処理層を水とエタノールで拭いて乾かす。

本発明はまた、表面処理層を有し、下記条件で行う促進耐候性試験を２５０時間行った後の水の静的接触角が１１０度以上であることを特徴とする基材（以下、「第２の基材」ともいう。）でもある。
＜促進耐候性試験の条件＞
ＵＶＢ−３１３ランプ（波長３１０ｎｍにおいて放射照度０．６３Ｗ／ｍ^２）を用い、ランプと基材の表面処理層との距離を５ｃｍとし、２４時間照射毎に表面処理層を水とエタノールで拭いて乾かす。

本発明の第１及び第２の基材は、下記条件で行うスチールウール摩擦耐久性評価を６０００回行った後の水の静的接触角が１００度以上であることが好ましい。
＜スチールウール摩擦耐久性評価の条件＞
スチールウール（番手♯００００、寸法５ｍｍ×１０ｍｍ×１０ｍｍ）を基材の表面処理層に接触させ、その上に１，０００ｇｆの荷重を付与し、荷重を加えた状態でスチールウールを１４０ｍｍ／秒の速度で往復させる。一往復を１回とする。

本発明はまた、表面処理層を有し、
表面処理層が、式（１）：

（式中、Ｒ^１は、式：Ｒ^３−（ＯＲ^２）_ａ−Ｌ−（（ＯＲ^２）_ａはポリエーテル鎖、Ｒ^３はアルキル基又はフッ素化アルキル基、Ｌは単結合又は二価の連結基）で表される一価の有機基、Ｘ^１は一価のＳｉ含有基、Ｘ^２は一価の基を表し、上記ポリエーテル鎖は、
式：−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ｍ１１−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｍ１２−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｍ１３−（ＯＣ_３Ｘ^１０ _６）_ｍ１４−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｍ１５−（ＯＣＦ_２）_ｍ１６−
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ^１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表される鎖である）で表される化合物を含むことを特徴とする基材（以下、「第３の基材」ともいう。）でもある。

Ｌは、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ_３Ｈ_６−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−、−（ＣＦ_２）_ｎ−（ｎは０〜４の整数）、−ＣＨ_２−、−Ｃ_４Ｈ_８−、又は、−（ＣＦ_２）_ｎ−（ＣＨ_２）_ｍ−（ｎ、ｍは独立していずれも０〜４の整数）であり、
Ｘ^１は、加水分解可能な基を有する一価のＳｉ含有基であることが好ましい。

基材が、ガラス基材であることが好ましい。

ガラス基材が、サファイアガラス基材、ソーダライムガラス基材、アルカリアルミケイ酸塩ガラス基材、ホウケイ酸ガラス基材、無アルカリガラス基材、クリスタルガラス基材、又は、石英ガラス基材であることが好ましい。

本発明の基材は、紫外線に暴露される環境で長期間使用しても、撥水性が低下しにくい。すなわち、防汚性が低下しにくい。

以下、本発明を具体的に説明する。

本発明の第１の基材は、表面処理層を有し、特定の条件で行う促進耐候性試験を４００時間行った後の水の静的接触角が１００度以上であることを特徴とする。上記水の静的接触角としては、１０５度以上が好ましく、１２０度以下であってよい。上記水の静的接触角は、接触角測定装置（協和界面科学社製）を用いて水２μＬにて測定する。上記水の静的接触角は、上記表面処理層の水の静的接触角である。

本発明の第２の基材は、表面処理層を有し、特定の条件で行う促進耐候性試験を２５０時間行った後の水の静的接触角が１１０度以上であることを特徴とする。

上記促進耐候性試験は、Ｑ−Ｌａｂ社製のＵＶＢ−３１３ランプ（波長３１０ｎｍにおいて放射照度０．６３Ｗ／ｍ^２）を用い、ランプと基材の表面処理層との距離を５ｃｍとし、２４時間照射毎に表面処理層を水とエタノールで拭いて乾かすことにより行う。

上記促進耐候性試験の試験時間は４０８時間が好ましく、２５０時間がより好ましい。

本発明の第１及び第２の基材は、特定の条件で行うスチールウール摩擦耐久性評価を６０００回行った後の水の静的接触角が１００度以上であることが、耐摩耗性にも優れることから好ましい。上記水の静的接触角としては、１００度以上が好ましく、１２０度以下であってよい。上記水の静的接触角は、接触角測定装置（協和界面科学社製）を用いて水２μＬにて測定する。

上記スチールウール摩擦耐久性評価は、スチールウール（番手♯００００、寸法５ｍｍ×１０ｍｍ×１０ｍｍ）を基材の表面処理層に接触させ、その上に１，０００ｇｆの荷重を付与し、荷重を加えた状態でスチールウールを１４０ｍｍ／秒の速度で往復させることにより行う。一往復を１回とする。上記水の静的接触角は、上記表面処理層の水の静的接触角である。

本発明の基材は、いずれも、ガラス、金属、樹脂、セラミックス等の金属酸化物、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、石材、陶磁器、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得るが、なかでも、透明性に優れており、優れた撥水性が長期間維持できることから、ガラス基材が好ましい。

上記ガラス基材としては、無機ガラス基材；有機ガラス基材；アルカリアルミケイ酸塩ガラス基材、ソーダライムガラス基材等のアルカリ含有ガラス基材；ホウケイ酸ガラス基材等の無アルカリガラス基材；サファイアガラス基材；クリスタルガラス基材；石英ガラス基材等が挙げられる。上記ガラス基材は、水酸基、アミノ基、チオール基等の官能基を表面に有していてもよい。上記ガラス基材は、合わせガラス、強化ガラス等であってもよい。ガラス基材としては、サファイアガラス基材、ソーダライムガラス基材、アルカリアルミケイ酸塩ガラス基材、ホウケイ酸ガラス基材、無アルカリガラス基材、クリスタルガラス基材、又は、石英ガラス基材が好ましい。

上記金属としては、鉄、銅、アルミニウム、ステンレス、ニッケル、クロム、モリブデン等が挙げられ、金属単体またはこれらの合金等の複合体であってよい。

上記樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などのセルロース系樹脂、ポリエチレン、ポロプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エボキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン樹脂、ポリウレタン等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば２層以上の積層体として）用いることができる。

また例えば、本発明の基材が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、本発明の基材が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。本発明の基材が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。また、本発明の基材が、車載カメラやモニター用カメラなどの光学レンズ部品である場合にも同様に、上記した反射防止層に使用可能な無機物を単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて使用してよい。上記した反射防止層の膜厚は、０．００１〜１．０μｍの範囲から選択され、好ましくは０．０１〜０．２μｍである。

上記基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、本発明の基材の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得るが、表面処理層は最表面にあることが好ましい。

上記基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。上記材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。上記前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、上記前処理の別の例としては、炭素−炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

またあるいは、上記基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

上記表面処理層は、式（１）で表される化合物を含むことが好ましい。

式（１）：

（式中、Ｒ^１は、式：Ｒ^３−（ＯＲ^２）_ａ−Ｌ−（（ＯＲ^２）_ａはポリエーテル鎖、Ｒ^３はアルキル基又はフッ素化アルキル基、Ｌは単結合又は二価の連結基）で表される一価の有機基、Ｘ^１は一価のＳｉ含有基、Ｘ^２は一価の基を表し、上記ポリエーテル鎖は、
式：−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ｍ１１−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｍ１２−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｍ１３−（ＯＣ_３Ｘ^１０ _６）_ｍ１４−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｍ１５−（ＯＣＦ_２）_ｍ１６−
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５およびｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ^１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表される鎖である）

本発明の第３の基材は、表面処理層を有し、表面処理層が、式（１）で表される化合物を含むことを特徴とする。

本発明者らは、鋭意検討の結果、驚くべきことに、式（１）で表される化合物を含む上記表面処理層によって、紫外線に暴露される環境で長期間使用しても、撥水性が低下しにくいという機能を上記基材に付与できることを見出した。これは、上記ポリエーテル鎖により撥水性が発現し、上記一価のＳｉ含有基により、上記化合物が上記基材に強固に接着し、更に、上記ポリエーテル鎖と上記一価のＳｉ含有基とをイソシアヌル骨格が強固に連結することにより、紫外線が入射した場合でも、上記表面処理層が分解したり、上記基材から剥離したりせず、長期間の撥水性が維持されると推測される。

Ｘ^１としては、加水分解可能な基を有する一価のＳｉ含有基が好ましい。

上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ_２、−ＮＲ_２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。

Ｘ^２としては、ポリエーテル鎖を含む一価の有機基、一価のＳｉ含有基、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、グリシジル基、オキセタン基、イソシアネート基、ビニル基、アリル基、ビニルオキシ基、カルボキシル基、メルカプト基、アミノ基、ヒドロキシ基、ホスホニル基、環状酸無水物基、ラクトン基、ラクタム基、−ＯＣ（Ｏ）Ｃｌ基、トリアジン基、イミダゾール基、共役オレフィン基、アセチレン基、ジアゾ基、アルデヒド基、ケトン基、アルキルホウ素基、アルキルアルミ基、アルキルスズ基、アルキルゲルマニウム基、アルキルジルコン基、Ｈ、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルキルエステル基、ハロゲン化アルキルエステル基、アルキルエーテル基、ハロゲン化アルキルエーテル基、アルキルアミド基、ハロゲン化アルキルアミド基、ウリル基、ハロゲン化ウリル基、ウレア基、ハロゲン化ウレア基、−ＯＣＯＯＲ^ｊ（Ｒ^ｊはアルキル基又はハロゲン化アルキル基）、−ＣＯＮＲ^ｋＣＯＲ^ｌ（Ｒ^ｋ及びＲ^ｌは独立にＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基）、糖鎖を含む基、アルキレンポリエーテル基、アレーン基、ハロゲン化アレーン基、ヘテロ環を含む基、アリール基、ハロゲン化アリール基、シリコーン残基（但し反応性基を有するものを除く）、シルセスキオキサン残基（但し反応性基を有するものを除く）、及び、これらの基のいずれかを含む一価の基が挙げられる。

Ｘ^２としては、なかでも、ポリエーテル鎖を含む一価の有機基、及び、一価のＳｉ含有基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、優れた撥水性が長期間維持できることから、一価のＳｉ含有基が好ましい。この場合、Ｘ^１の一価のＳｉ含有基とＸ^２の一価のＳｉ含有基とは、同じであっても、異なってもよいが、上記化合物の製造が容易である点からは同じであることが好ましい。

Ｒ^１としては、ポリエーテル鎖を含む一価の有機基（但し、ウレタン結合を含むものを除く）である。

Ｘ^１０としては、Ｆが好ましい。
ｍ１１〜ｍ１６は、それぞれ、０〜２００の整数であることが好ましく、０〜１００の整数であることがより好ましい。ｍ１１〜ｍ１６は、合計で、１以上の整数であることが好ましく、５以上の整数であることがより好ましく、１０以上の整数であることが更に好ましい。ｍ１１〜ｍ１６は、合計で、２００以下の整数であることが好ましく、１００以下の整数であることがより好ましい。ｍ１１〜ｍ１６は、合計で、１０〜２００の整数であることが好ましく、１０〜１００の整数であることがより好ましい。

上記ポリエーテル鎖において、各繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_５Ｆ_１０）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。また、−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

一の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖である。上記ポリエーテル鎖は、好ましくは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖または−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖であり、より好ましくは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖である。ｍ１４は、５〜２００の整数であることが好ましく、１０〜２００の整数であることがより好ましい。

別の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｍ１３−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｍ１４−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｍ１５−（ＯＣＦ_２）_ｍ１６−（式中、ｍ１３およびｍ１４は、それぞれ、０〜３０の整数であり、ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ、１〜２００の整数である。ｍ１３〜ｍ１６は、合計で、５以上の整数である。各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表される鎖である。ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ、５〜２００の整数であることが好ましく、１０〜２００の整数であることがより好ましい。ｍ１３〜ｍ１６は、合計で、１０以上の整数であることが好ましい。上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ１３−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ１４−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ１５−（ＯＣＦ_２）_ｍ１６−であることが好ましい。一の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｍ１５−（ＯＣＦ_２）_ｍ１６−（式中、ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ、１〜２００の整数である。各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表される鎖であってもよい。ｍ１５およびｍ１６は、それぞれ、５〜２００の整数であることが好ましく、１０〜２００の整数であることがより好ましい。

さらに別の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（Ｒ^ｍ１−Ｒ^ｍ２）_ｍ１７−で表される基である。式中、Ｒ^ｍ１は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、好ましくはＯＣ_２Ｆ_４である。式中、Ｒ^ｍ２は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒ^ｍ１は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、および−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記ｍ１７は、２以上の整数であり、好ましくは３以上の整数であり、より好ましくは５以上の整数であり、１００以下の整数であり、好ましくは５０以下の整数である。上記式中、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ポリエーテル鎖は、好ましくは、−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_３Ｆ_６）_ｍ１７−または−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_４Ｆ_８）_ｍ１７−である。

上記ポリエーテル鎖において、ｍ１６に対するｍ１５の比（以下、「ｍ１５／ｍ１６比」という）は、０．１〜１０であり、好ましくは０．２〜５であり、より好ましくは０．２〜２であり、さらに好ましくは０．２〜１．５であり、さらにより好ましくは０．２〜０．８５である。ｍ１５／ｍ１６比を１０以下にすることにより、表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｍ１５／ｍ１６比がより小さいほど、上記表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｍ１５／ｍ１６比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｍ１５／ｍ１６比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。

上記ポリエーテル鎖は、
式：−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＸ^１１ _２）_ｎ１１（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））_ｎ１２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎ１３（ＯＣＦ_２）_ｎ１４（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｎ１５−
（式中、ｎ１１、ｎ１２、ｎ１３、ｎ１４及びｎ１５は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ^１１は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表される鎖、及び、
式：−（ＯＣ_２Ｆ_４−Ｒ^１１）_ｆ−
（式中、Ｒ^１１は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であり、ｆは、２〜１００の整数である）で表される鎖
からなる群より選択される少なくとも１種の鎖であってもよい。

Ｘ^１１としては、Ｆが好ましい。
ｎ１１〜ｎ１５は、それぞれ、０〜２００の整数であることが好ましい。ｎ１１〜ｎ１５は、合計で、２以上の整数であることが好ましく、５〜３００の整数であることがより好ましく、１０〜２００の整数であることが更に好ましく、１０〜１００の整数であることが特に好ましい。

Ｒ^１１は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、および−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記ｆは、２〜１００の整数、好ましくは２〜５０の整数である。上記式中、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、式：−（ＯＣ_２Ｆ_４−Ｒ^１１）_ｆ−は、好ましくは、式：−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_３Ｆ_６）_ｆ−または式：−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_４Ｆ_８）_ｆ−である。

式（１）で表される化合物において、ポリエーテル鎖部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。上記数平均分子量は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。

別の態様において、ポリエーテル鎖部分の数平均分子量は、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００、さらにより好ましくは２，０００〜１０，０００、例えば３，０００〜６，０００であり得る。

別の態様において、ポリエーテル鎖部分の数平均分子量は、４，０００〜３０，０００、好ましくは５，０００〜１０，０００、より好ましくは６，０００〜１０，０００であり得る。

Ｒ^３の炭素数としては、１〜１６が好ましく、１〜８がより好ましい。
Ｒ^３としては、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜１６のアルキル基又はフッ素化アルキル基であることが好ましく、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜８のアルキル基又はフッ素化アルキル基であることがより好ましく、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６のアルキル基又はフッ素化アルキル基であることが更に好ましく、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜３のアルキル基又はフッ素化アルキル基であることが更により好ましく、直鎖の炭素数１〜３のアルキル基又はフッ素化アルキル基であることが特に好ましい。

Ｒ^３は、炭素数１〜１６のフッ素化アルキル基であることが好ましく、ＣＦ_２Ｈ−Ｃ_１−１５フルオロアルキレン基または炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基であることが更に好ましい。

炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

Ｌは、式（１）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌとしては、単結合、アルキレン基、又は、エステル結合を含む二価の基が好ましく、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、又は、エステル結合を含む炭素数１〜１０の二価の炭化水素基がより好ましい。

Ｌとしては、
式：−（ＣＸ^１２１Ｘ^１２２）_ｏ−（Ｌ^１）_ｐ−（ＣＸ^１２３Ｘ^１２４）_ｑ−
（式中、Ｘ^１２１〜Ｘ^１２４は、独立に、Ｈ、Ｆ、ＯＨ、又は、−ＯＳｉ（ＯＲ^１２１）_３（３つのＲ^１２１は独立に炭素数１〜４のアルキル基）、Ｌ^１は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、又は、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−（各結合の左側がＣＸ^１２１Ｘ^１２２に結合）、ｏは０〜１０の整数、ｐは０又は１、ｑは１〜１０の整数）で表される基が更に好ましい。
Ｌとしては、
式：−（ＣＦ_２）_ｍ１７−（ＣＨ_２）_ｍ１８−
（式中、ｍ１７は１〜３の整数、ｍ１８は１〜３の整数）で表される基が特に好ましい。

Ｌとして、具体的には、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ_３Ｈ_６−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−、−（ＣＦ_２）_ｎ−（ｎは０〜４の整数）、−ＣＨ_２−、−Ｃ_４Ｈ_８−、−（ＣＦ_２）_ｎ−（ＣＨ_２）_ｍ−（ｎ、ｍは独立していずれも０〜４の整数）等が挙げられる。Ｌとしては、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ_３Ｈ_６−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−、−（ＣＦ_２）_ｎ−（ｎは０〜４の整数）、−ＣＨ_２−、−Ｃ_４Ｈ_８−、又は、−（ＣＦ_２）_ｎ−（ＣＨ_２）_ｍ−（ｎ、ｍは独立していずれも０〜４の整数）が好ましい。

上記Ｓｉ含有基としては、含シラン反応性架橋基、シリコーン残基、シルセスキオキサン残基及びシラザン基からなる群より選択される少なくとも１種の基が好ましい。

上記Ｓｉ含有基としては、なかでも、優れた撥水性が長期間維持できることから、−Ｌ^２−ＳｉＲ^５ _３、−Ｌ^２−Ｓｉ（ＯＲ^６）_３、−Ｌ^２−Ｓｉ（ＮＲ^６ _２）_３、及び、−Ｌ^２−Ｓｉ（ＯＣＯＲ^６）_３（各式中、Ｌ^２は単結合又は二価の連結基、Ｒ^５はハロゲン原子、Ｒ^６は独立に炭素数１〜４のアルキル基）からなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、−Ｌ^２−Ｓｉ（ＯＲ^６）_３（式中、Ｌ^２は単結合又は二価の連結基、Ｒ^６は独立に炭素数１〜４のアルキル基）がより好ましい。

上記含シラン反応性架橋基としては、
式：−Ｌ^２−｛Ｓｉ（Ｒ^ａ）_ｓ（Ｒ^ｂ）_ｔ（Ｒ^ｃ）_ｕ（Ｒ^ｄ）_ｖ｝_ｎ
（式中、Ｌ^２は単結合又は二価の連結基、Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃは、同一又は異なり、水素、ハロゲン、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアミノ基、炭素数１〜１０のアセトキシ基、炭素数３〜１０のアリル基、又は炭素数３〜１０のグリシジル基である。Ｒ^ｄは、同一又は異なり、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、又は、シラン結合である。ｓ、ｔ及びｕは、同一又は異なり０又は１であり、ｖは０〜３の整数であり、ｎは、１〜２０の整数である。ｎが１である場合、ｓ＋ｔ＋ｕは３であり、ｖは０である。ｎが２〜２０である場合、ｓ＋ｔ＋ｕは、同一又は異なり０〜２であり、ｖは、同一又は異なり０〜２であり、ｖが１以上の整数である場合、少なくとも２個のＳｉはＲ^ｄを介して、直鎖、梯子型、環状、又は複環状に結合している。）で表される基が好ましい。Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃは、Ｓｉに結合している１価の基である。Ｒ^ｄは、２個のＳｉに結合している２価の基である。

Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃは、同一又は異なり、少なくとも１つは、水素、ハロゲン、炭素数１〜１０のアルコキシ基、又は炭素数１〜１０のアミノ基であり、それ以外は炭素数１〜１０のアセトキシ基、炭素数３〜１０のアリル基、又は炭素数３〜１０のグリシジル基であることが好ましく、更に好ましくは、炭素数１〜４のアルコキシ基である。ｎが２〜２０である場合、ｓ＋ｔ＋ｕは、同一又は異なり、０〜２であり、ｖは０〜２であることが好ましい。

Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃにおいて、ハロゲンとしては、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩが好ましく、Ｃｌがより好ましい。

Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃにおいて、アルコキシ基の炭素数は、１〜５であることが好ましい。上記アルコキシ基は鎖状でも、環状でも、分岐していてもよい。また、水素原子がフッ素原子等に置換されていてもよい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピロキシ基、又はブトキシ基が好ましく、より好ましくは、メトキシ基、又はエトキシ基である。

Ｒ^ｄは、同一又は異なり、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、又は、シラン結合である。Ｒ^ｄとしては、−Ｏ−、−ＮＨ−、又は、−Ｃ≡Ｃ−が好ましい。Ｒ^ｄは、２個のＳｉに結合している２価の基であり、Ｒ^ｄによって２以上のケイ素原子がＲ^ｄを介して、直鎖、梯子型、環状、又は複環状に結合することができる。ｎが２以上の整数である場合、ケイ素原子同士で結合していてもよい。

Ｒ^ｄはまた、同一又は異なり、−Ｚ−ＳｉＲ^ｄ１ _ｐ’Ｒ^ｄ２ _ｑ’Ｒ^ｄ３ _ｒ’で表される基であってもよい。

式中、Ｚは、同一又は異なり、単結合又は二価の連結基を表す。

Ｚとして、具体的には、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ_３Ｈ_６−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−、−Ｃ_４Ｈ_８−等が挙げられる。

式中、Ｒ^ｄ１は、同一又は異なり、Ｒ^ｄ’を表す。Ｒ^ｄ’は、Ｒ^ｄと同意義である。

Ｒ^ｄ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒ^ｄにおいて、Ｒ^ｄ１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒ^ｄ中にＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒ^ｄ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒ^ｄ中において直鎖状に連結される−Ｚ−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。

例えば、下記にＲ^ｄ中においてＺ基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。

上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、ＺＳｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、ＺＳｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ^２でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒ^ｄ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ^３、Ｓｉ^４およびＳｉ^５でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒ^ｄ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒ^ｄ中には、ＺＳｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。

好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒ^ｄ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。

一の態様において、Ｒ^ｄ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。

式中、Ｒ^ｄ２は、同一又は異なり、水酸基または加水分解可能な基を表す。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。

好ましくは、Ｒ^ｄ２は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。

式中、Ｒ^ｄ３は、同一又は異なり、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｐは、同一又は異なり、０〜３の整数であり；ｑは、同一又は異なり、０〜３の整数であり；ｒは、同一又は異なり、０〜３の整数である。ただし、ｐ’、ｑ’およびｒ’の和は３である。

好ましい態様において、Ｒ^ｄ中の末端のＲ^ｄ’（Ｒ^ｄ’が存在しない場合、Ｒ^ｄ）において、上記ｑ’は、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。

好ましい態様において、Ｒ^ｄは、末端部に、少なくとも１つの、−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ^ｄ２ _ｑ’Ｒ^ｄ３ _ｒ’）_２または−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ^ｄ２ _ｑ’Ｒ^ｄ３ _ｒ’）_３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ^ｄ２ _ｑ’Ｒ^ｄ３ _ｒ’）_３を有し得る。式中、（−Ｚ−ＳｉＲ^ｄ２ _ｑ’Ｒ^ｄ３ _ｒ’）の単位は、好ましくは（−Ｚ−ＳｉＲ^ｄ２ _３）である。さらに好ましい態様において、Ｒ^ｄの末端部は、すべて−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ^ｄ２ _ｑ’Ｒ^ｄ３ _ｒ’）_３ことが好ましく、より好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ^ｄ２ _３）_３であり得る。

上記含シラン反応性架橋基は、炭素数１〜５のアリル基、炭素数１〜５のグリシジル基、アクリル基、又はメタクリル基を有することも好ましい。すなわち、上記含シラン反応性架橋基において、Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃの少なくとも１つが、炭素数１〜５のアリル基、炭素数１〜５のグリシジル基、アクリル基、又はメタクリル基であることが好ましい。

Ｌ^２は、式（１）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌ^２としては、単結合、アルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む二価の基が好ましく、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む炭素数１〜１０の二価の炭化水素基がより好ましい。

Ｌ^２として、具体的には、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ_３Ｈ_６−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−、−Ｃ_４Ｈ_８−等が挙げられる。

上記含シラン反応性架橋基としては、−Ｌ^２−ＳｉＲ^５ _３、−Ｌ^２−Ｓｉ（ＯＲ^６）_３、−Ｌ^２−Ｓｉ（ＮＲ^６ _２）_３、−Ｌ^２−Ｓｉ（ＯＣＯＲ^６）_３（各式中、Ｌ^２は上述のとおり、Ｒ^５はハロゲン原子、Ｒ^６は独立に炭素数１〜４のアルキル基）が挙げられる。

上記シリコーン残基としては、次の基が挙げられる。

（各式中、Ｌ^２は単結合又は二価の連結基、ｎは１〜２０の整数、ｍは０〜１０の整数、Ｒ^３１は、各々独立して、一価の基であり、各基が有するＲ^３１のうち、少なくとも１つは反応性基）

各基に含まれる複数のＲ^３１は、各々独立して、一価の基であり、上記反応性基であってもよいし、上記反応性基以外の基であってもよい。但し、各基に含まれる複数のＲ^３１のうち、少なくとも１つは、上記反応性基である。

上記反応性基としては、Ｈ、ハロゲン原子又は−ＯＲ^３２（Ｒ^３２は炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数６〜２０のアリール基）、−Ｌ^３−ＳｉＲ^５ _３（Ｌ^３は単結合又は炭素数１〜１０のアルキレン基、Ｒ^５はハロゲン原子）、−Ｌ^３−Ｓｉ（ＯＲ^６）_３（Ｌ^３は上記のとおり、Ｒ^６は独立に炭素数１〜４のアルキル基）、−Ｌ^３−Ｓｉ（ＮＲ^６ _２）_３（Ｌ^３及びＲ^６は上記のとおり）、−Ｌ^３−Ｓｉ（ＯＣＯＲ^６）_３（Ｌ^３及びＲ^６は上記のとおり）及びこれらの基のいずれかを含む基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。

上記反応性基以外の基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルキルエステル基、ハロゲン化アルキルエステル基、アルキルエーテル基、ハロゲン化アルキルエーテル基、アルキルアミド基、ハロゲン化アルキルアミド基、ウリル基、ハロゲン化ウリル基、ウレア基、ハロゲン化ウレア基、−ＣＯＮＲ^ｋＣＯＲ^ｌ（Ｒ^ｋ及びＲ^ｌは独立にＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基）、糖鎖を含む基、アルキレンポリエーテル基、アレーン基、ハロゲン化アレーン基、ヘテロ環を含む基、アリール基、及び、ハロゲン化アリール基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。

Ｌ^２は、式（１）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌ^２として好適なものは、上述したとおりである。

上記シリコーン残基としては、また、次の基も挙げられる。

（各式中、Ｌ^２は単結合又は二価の連結基、Ｒ^３４は、各々独立して、一価の基であり、各基が有するＲ^３４のうち、少なくとも１つは反応性基）

各基に含まれる複数のＲ^３４は、各々独立して、一価の基であり、上記反応性基であってもよいし、上記反応性基以外の基であってもよい。但し、各基に含まれる複数のＲ^３４のうち、少なくとも１つは、上記反応性基である。

上記反応性基としては、−Ｈ、−ＯＲ^３５（Ｒ^３５は炭素数１〜４のアルキル基）、ハロゲン原子、−ＯＨ、−Ｏ−ＣＲ^３５＝ＣＨ_２（Ｒ^３５は上記のとおり）、−ＯＣＯＲ^３５（Ｒ^３５は上記のとおり）、−ＯＣＯＯＲ^ｊ（Ｒ^ｊはアルキル基又はハロゲン化アルキル基）、−ＮＲ^３５ _２（Ｒ^３５は上記のとおり）及びこれらの基のいずれかを含む基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。

上記反応性基以外の基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルキルエステル基、ハロゲン化アルキルエステル基、アルキルエーテル基、ハロゲン化アルキルエーテル基、アルキルアミド基、ハロゲン化アルキルアミド基、ウリル基、ハロゲン化ウリル基、ウレア基、ハロゲン化ウレア基、−ＣＯＮＲ^ｋＣＯＲ^ｌ（Ｒ^ｋ及びＲ^ｌは独立にＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基）、糖鎖を含む基、アルキレンポリエーテル基、アレーン基、ハロゲン化アレーン基、ヘテロ環を含む基、アリール基、及び、ハロゲン化アリール基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。

Ｌ^２は、式（１）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌ^２として好適なものは、上述したとおりである。

上記シルセスキオキサン残基としては、次の基が挙げられる。

（各式中、Ｌ^２は単結合又は二価の連結基、Ｒ^３７は、各々独立して、一価の基であり、各基が有するＲ^３７のうち、少なくとも１つは反応性基、ｐは独立して０〜５０００の整数である）

各基に含まれる複数のＲ^３７は、各々独立して、一価の基であり、上記反応性基であってもよいし、上記反応性基以外の基であってもよい。但し、各基に含まれる複数のＲ^３７のうち、少なくとも１つは、上記反応性基である。

上記反応性基としては、−Ｈ、−ＯＲ^３５（Ｒ^３５は炭素数１〜４のアルキル基）、ハロゲン原子、−ＯＨ、−Ｏ−ＣＲ^３５＝ＣＨ_２（Ｒ^３５は上記のとおり）、−ＯＣＯＲ^３５（Ｒ^３５は上記のとおり）、−ＯＣＯＯＲ^ｊ（Ｒ^ｊはアルキル基又はハロゲン化アルキル基）、−ＮＲ^３５ _２（Ｒ^３５は上記のとおり）及びこれらの基のいずれかを含む基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。

上記反応性基以外の基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルキルエステル基、ハロゲン化アルキルエステル基、アルキルエーテル基、ハロゲン化アルキルエーテル基、アルキルアミド基、ハロゲン化アルキルアミド基、ウリル基、ハロゲン化ウリル基、ウレア基、ハロゲン化ウレア基、−ＣＯＮＲ^ｋＣＯＲ^ｌ（Ｒ^ｋ及びＲ^ｌは独立にＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基）、糖鎖を含む基、アルキレンポリエーテル基、アレーン基、ハロゲン化アレーン基、ヘテロ環を含む基、アリール基、及び、ハロゲン化アリール基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。

Ｌ^２は、式（１）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌ^２として好適なものは、上述したとおりである。

式（１）で表される化合物において、Ｒ^１の平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。

式（１）で表される化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０^２〜１×１０^５の平均分子量を有し得る。なかでも、好ましくは２，０００〜３０，０００、より好ましくは２，５００〜１２，０００の平均分子量を有することが、耐ＵＶ性および摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、本発明において「平均分子量」は数平均分子量を言い、「平均分子量」は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。

式（１）で表される化合物は、新規化合物であり、例えば、次の製造方法により製造できる。

上記化合物は、式：

（式中、Ｘ^１及びＸ^２は上述したとおり、Ｌ^４は単結合又は二価の連結基）で表されるイソシアヌル酸誘導体化合物と、式：Ｒ^４１−ＣＯＯＨ（式中、Ｒ^４１は、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）−Ｌ^４−とともに、上述したＲ^１を構成する一価の有機基）とを、反応させることにより製造できる。

Ｒ^４１は、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）−Ｌ^４−とともに、上述したＲ^１を構成するので、上記ポリエーテル鎖を含むことは当然である。この反応によれば、Ｒ^４１−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）−Ｌ^４−で表される一価の有機基が生じる。Ｒ^４１としては、Ｒ^３−（ＯＲ^２）_ａ−Ｌ^５−（（ＯＲ^２）_ａは上記ポリエーテル鎖、Ｒ^３はアルキル基又はフッ素化アルキル基、Ｌ^５は、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）−Ｌ^４−とともに、上述したＬを構成する単結合又は二価の連結基）で表される一価の有機基が好ましい。

上記化合物は、また、式：

（式中、Ｘ^１及びＸ^２は上述したとおり、Ｌ^６は単結合又は二価の連結基）で表されるイソシアヌル酸誘導体化合物と、式：Ｒ^４２−Ｏ−ＳＯ_２Ｒ^４３（式中、Ｒ^４２は、−Ｌ^６−とともに、上述したＲ^１を構成する一価の有機基、Ｒ^４３は、アルキル基又はフッ素化アルキル基）、又は、Ｒ^４２−Ｘ^２６（式中、Ｒ^４２は上述したとおり、Ｘ^２６はＣｌ、Ｂｒ又はＩ）とを、反応させることにより製造できる。

Ｒ^４２は、−Ｌ^６−とともに、上述したＲ^１を構成するので、上記ポリエーテル鎖を含むことは当然である。この反応によれば、Ｒ^４２−Ｌ^６−で表される一価の有機基が生じる。Ｒ^４２としては、Ｒ^３−（ＯＲ^２）_ａ−Ｌ^７−（（ＯＲ^２）_ａは上記ポリエーテル鎖、Ｒ^３はアルキル基又はフッ素化アルキル基、Ｌ^７は、−Ｌ^６−とともに、上述したＬを構成する単結合又は二価の連結基）で表される一価の有機基がより好ましい。

また、例えば、上述のいずれかの製造方法において、Ｘ^１及び／又はＸ^２に相当する基として、二重結合を含有する基（好ましくはアリル基）を導入した後、上記に二重結合と式：Ｈ−｛Ｓｉ（Ｒ^ａ）_ｓ（Ｒ^ｂ）_ｔ（Ｒ^ｃ）_ｕ（Ｒ^ｄ）_ｖ｝_ｎ（式中、Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｃ、Ｒ^ｄ、ｓ、ｔ、ｕ、ｖ及びｎは上述したとおり）で表される化合物とを反応させて、式：−Ｌ^２−｛Ｓｉ（Ｒ^ａ）_ｓ（Ｒ^ｂ）_ｔ（Ｒ^ｃ）_ｕ（Ｒ^ｄ）_ｖ｝_ｎ（式中、Ｌ^２、Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｃ、Ｒ^ｄ、ｓ、ｔ、ｕ、ｖ及びｎは上述したとおり）で表される構造を化合物中に導入することによって、Ｘ^１及び／又はＸ^２として、上記含シラン反応性架橋基や、−Ｌ^２−ＳｉＲ^５ _３、−Ｌ^２−Ｓｉ（ＯＲ^６）_３、−Ｌ^２−Ｓｉ（ＮＲ^６ _２）_３、及び、−Ｌ^２−Ｓｉ（ＯＣＯＲ^６）_３（各式中、Ｌ^２は単結合又は二価の連結基、Ｒ^５はハロゲン原子、Ｒ^６は独立に炭素数１〜４のアルキル基）からなる群より選択される少なくとも１種を導入可能である。

上記表面処理層は、単層であっても、多層であってもよい。

本発明の基材は、いずれも、光学材料であってもよい。
光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

本発明の基材は、いずれも、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバーなど。

また、本発明の基材は、いずれも、医療機器または医療材料であってもよい。

表面処理層の厚さは、特に限定されない。本発明の基材が光学部材の場合、表面処理層の厚さは、１〜５０ｎｍ、より好ましくは１〜３０ｎｍ、特に好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、耐ＵＶ性、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

また、一般に、車両用窓ガラス、建築用窓ガラスは、その表面に水滴、汚れ等の視界を妨げるものが付着しないことが望まれる。例えば、車両用窓ガラスの表面には、雨滴、埃、汚れ等が付着したり、大気中の湿度や温度の影響で水分が凝縮したりすると、透明性、透視性が悪化し、自動車等の車両の走行運転に支障をきたすことになる。そのため、自動車用の窓ガラスに付着した水滴は、ワイパーを用いたり、手で拭き取る等の物理的手段で除去されている。したがって、これらの車両用窓ガラス、建築用窓ガラスに用いられるガラスには、優れた撥水性、防汚性と共に、これらの特性が長期間にわたり持続する耐候性、耐摩耗性が求められている。本発明の基材は、いずれも、上記のような車両用窓ガラスや建築用窓ガラスに好適に使用することができる。

本発明の基材は、可視光領域における平均透過率が、８５％以上、好ましくは９０％以上、及び８．０％以下のヘイズであることが、車両用窓ガラスあるいは建築用窓ガラスに適用した際に、優れた透明性を得ることができる観点から好ましい。

本発明でいう可視光領域における平均透過率とは、４００〜７００ｎｍまでの可視光領域の透過率を、少なくとも５ｎｍ毎に測定して求めた可視光域の各透過率を積算し、その平均値として求めたものと定義する。各測定波長における透過率は、従来公知の測定機器を用いることができ、例えば、島津製作所社製の分光光度計ＵＶＩＤＦＣ−６１０、日立製作所社製の３３０型自記分光光度計、Ｕ−３２１０型自記分光光度計、Ｕ−３４１０型自記分光光度計、Ｕ−４０００型自記分光光度計等を用いて測定することにより、求めることができる。

本発明の基材は、いずれも、ビル用の内部または外部窓、メガネ、車両のフロントガラス、サイドガラス、リアガラス、クォーターガラス、サイドミラー、腕時計および水泳用ゴーグルなどのガラスやレンズ、装置および機器のガラスカバー、オートバイヘルメットやヘルメット用のウインドカバー、望遠鏡レンズまたはカメラレンズなどのガラスレンズ、ガラス安全スクリーン、またはしぶき防護壁などの透明な分離装置、ならびに化学反応フード、生物学的もしくは医療フード、培養器、キャビネット、電子レンジ、オーブントースター、または冷蔵庫などの装置または機器用のガラスドアまたは窓などのガラスまたはプラスチック窓、ショーウィンドウガラス、防犯ガラス、ステンレス製の水道用の蛇口、シャワーヘッドなどにも好適に利用できる。

用語「車両」は、乗用車、バン、ミニバン、バス、ＳＵＶ（スポーツ用多目的車）、トラック、セミトラック、列車、市街電車、トラクター、オートバイ、トレーラー、小型トラック、ブルドーザー、クレーン車およびアースムーバーなどの、大型車両ムーバー、飛行機、ボート、船、ロケットならびに他の様式の輸送機などの車両を意味する。

フロントガラスは車両上へ固定することができ、また、車両から取り外し可能であるかまたは着脱可能であることができる。フロントガラスは典型的には、強化ガラス、プラスチックなどのポリマー材料、またはポリマー材料強化もしくは積層ガラス製であることができる。自動車の典型的なフロントガラスは、プラスチックの層がその間に積層された２つ以上のガラスのシートを有することができる。サイドガラスまたはリアガラス、クォーターガラスなどの、車両の他の窓もまた、本発明の基材であることができる。透けて見える視界を良好にするために、車両のフロントガラスは撥水性である必要があり、従って雨滴、水しぶきまたは埃はフロントガラスにくっつかない。

また、本発明の基材が上記基材で説明した車載ガラスや建築部材、石材などの場合、表面処理層の厚さは、１ｎｍ〜２０μｍ、より好ましくは３ｎｍ〜１μｍ、特に好ましくは５〜１００ｎｍの範囲であることが、耐ＵＶ性、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

本発明の基材がフロントガラスである場合、基材の厚さは、２〜３０ｍｍであってよく、ガラスの強度を維持する観点からは、３ｍｍ以上、２０ｍｍ以下であってよく、より好ましくは４ｍｍ以上かつ８ｍｍ以下である。また、本発明の基材がサイドガラスおよびリアガラスである場合、基材の厚さは、３〜１５ｍｍであってよく、好ましくは４〜７ｍｍである。

上記基材は、上記表面処理層と上記基材との間に中間層を有してもよく、上記基材上に上記表面処理層が直接設けられていてもよいが、上記基材自体が有する特性が充分に発揮され、製造が容易であり、経済的にも有利であることから、上記基材上に上記表面処理層が直接設けられていることが好ましい。

上記表面処理層は、さらに、酸化防止剤、増粘剤、レベリング剤、消泡剤、帯電防止剤、防曇剤、紫外線吸収剤、顔料、染料、シリカなどの無機微粒子、アルミニウムペースト、タルク、ガラスフリット、金属粉などの充填剤、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、フェノチアジン（ＰＴＺ）などの重合禁止剤、などを含んでいてもよい。

上記表面処理層の形成は、式（１）で表される化合物を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。上記表面処理層の形成方法としては、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

式（１）で表される化合物は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

湿潤被覆法を使用する場合、上記表面処理層は、式（１）で表される化合物、及び、溶媒を含む組成物を基材に適用することにより形成できる。

上記溶媒としては、フッ素含有有機溶媒又はフッ素非含有有機溶媒が挙げられる。

上記フッ素含有有機溶媒としては、例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロオクタン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロジメチルシクロヘキサン、パーフルオロデカリン、パーフルオロアルキルエタノール、パーフルオロベンゼン、パーフルオロトルエン、パーフルオロアルキルアミン（フロリナート（商品名）等）、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロブチルテトラヒドロフラン、ポリフルオロ脂肪族炭化水素（アサヒクリンＡＣ６０００（商品名））、ハイドロクロロフルオロカーボン（アサヒクリンＡＫ−２２５（商品名）等）、ハイドロフルオロエーテル（ノベック（商品名）、ＨＦＥ−７１００（商品名）、ＨＦＥ−７２００（商品名）、ＨＦＥ−７３００（商品名）、ＨＦＥ−７０００（商品名）、アサヒクリンＡＥ−３０００（商品名）等）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン、１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン、含フッ素アルコール、パーフルオロアルキルブロミド、パーフルオロアルキルヨージド、パーフルオロポリエーテル（クライトックス（商品名）、デムナム（商品名）、フォンブリン（商品名）等）、１，３−ビストリフルオロメチルベンゼン、メタクリル酸２−（パーフルオロアルキル）エチル、アクリル酸２−（パーフルオロアルキル）エチル、パーフルオロアルキルエチレン、フロン１３４ａ、およびヘキサフルオロプロペンオリゴマー、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペンなどが挙げられる。

上記フッ素非含有有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテルペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ヘキサデカン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、二硫化炭素、ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ダイグライム、トリグライム、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、２−ブタノン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ブタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、エタノール、メタノール、およびジアセトンアルコールが挙げられる。

なかでも、上記溶媒として、好ましくは、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ヘキサデカン、酢酸ブチル、アセトン、２−ブタノン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、ジアセトンアルコールまたは２−プロパノールである。

上記溶媒は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよいが、上記フッ素非含有有機溶媒を使用する場合は、上記フッ素含有有機溶媒と組み合わせて使用することが好ましい。

上記溶媒は上記組成物中に、１〜９９．９９質量％の範囲で用いられることが好ましい。より好ましくは１０〜９９．９質量％、更に好ましくは５０〜９９質量％である。

上記組成物は、式（１）で表される化合物、及び、溶媒以外に、酸化防止剤、増粘剤、レベリング剤、消泡剤、帯電防止剤、防曇剤、紫外線吸収剤、顔料、染料、シリカなどの無機微粒子、アルミニウムペースト、タルク、ガラスフリット、金属粉などの充填剤、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、フェノチアジン（ＰＴＺ）などの重合禁止剤、触媒、他の成分、などを含んでいてもよい。

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

上記触媒の含有量としては、式（１）で表される化合物に対して、１質量ｐｐｍ〜５質量％であり、好ましくは５〜５０００質量ｐｐｍ、より好ましくは１０〜１０００質量ｐｐｍである。

触媒は、式（１）で表される化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。

また、他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。この場合の含有量としては、式（１）で表される化合物に対して、１０質量ｐｐｍ〜２０質量％であり、好ましくは３質量ｐｐｍ〜５質量％、より好ましくは１０質量ｐｐｍ〜１質量％である。他の成分としては、更に、他の表面処理化合物、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）などが挙げられる。

他の表面処理化合物としては、特に限定されないが、例えば、下記一般式（１Ａ）、（２Ａ）、（１Ｂ）、（２Ｂ）、（１Ｃ）、（２Ｃ）、（１Ｄ）および（２Ｄ）：

［式中：
ＰＦＰＥ^３は、同一又は異なり、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ１−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ１−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ１−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ１−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ１−（ＯＣＦ_２）_ｆ１−
（式中、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１およびｆ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１およびｆ１の和は少なくとも１であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１またはｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
Ｒｆ^３は、同一又は異なり、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ^５３は、同一又は異なり、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^５４は、同一又は異なり、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ^５１は、同一又は異なり、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ^５２は、同一又は異なり、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎ３は、（−ＳｉＲ^５１ _ｎ３Ｒ^５２ _３−ｎ３）単位毎に独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（１Ａ）、（２Ａ）、（１Ｂ）および（２Ｂ）において、少なくとも１つのｎ３が、１〜３の整数であり；
Ｘ^４は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
Ｘ^５は、同一又は異なり、単結合または２価の有機基を表し；
ｔは、同一又は異なり、１〜１０の整数であり；
α１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ^６は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
β１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
β１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ^７は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
γ１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ^ａ３は、同一又は異なり、−Ｚ^３−ＳｉＲ^６１ _ｐ１Ｒ^６２ _ｑ１Ｒ^６３ _ｒ１を表し；
Ｚ^３は、同一又は異なり、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^６１は、同一又は異なり、Ｒ^ａ３’を表し；
Ｒ^ａ３’は、Ｒ^ａ３と同意義であり；
Ｒ^ａ３中、Ｚ^３基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ^６２は、同一又は異なり、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^６３は、同一又は異なり、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐ１は、同一又は異なり、０〜３の整数であり；
ｑ１は、同一又は異なり、０〜３の整数であり；
ｒ１は、同一又は異なり、０〜３の整数であり；
ただし、式（１Ｃ）および（２Ｃ）において、少なくとも１つのｑ１が１〜３の整数であり；
Ｒ^ｂ３は、同一又は異なり、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^ｃ３は、同一又は異なり、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋ１は、同一又は異なり、１〜３の整数であり；
ｌ１は、同一又は異なり、０〜２の整数であり；
ｍ１は、同一又は異なり、０〜２の整数であり；
Ｘ^９は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
δ１は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
δ１’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ^ｄ３は、同一又は異なり、−Ｚ^４−ＣＲ^７１ _ｐ２Ｒ^７２ _ｑ２Ｒ^７３ _ｒ２を表し；
Ｚ^４は、同一又は異なり、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^７１は、同一又は異なり、Ｒ^ｄ３’を表し；
Ｒ^ｄ３’は、Ｒ^ｄ３と同意義であり；
Ｒ^ｄ３中、Ｚ^４基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり；
Ｒ^７２は、同一又は異なり、−Ｙ−ＳｉＲ^７４ _ｎ２Ｒ^７５ _３−ｎ２を表し；
Ｙは、同一又は異なり、２価の有機基を表し；
Ｒ^７４は、同一又は異なり、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^７５は、同一又は異なり、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎ２は、（−Ｙ−ＳｉＲ^７４ _ｎ２Ｒ^７５ _３−ｎ２）単位毎に独立して、１〜３の整数を表し；
ただし、式（１Ｄ）および（２Ｄ）において、少なくとも１つのｎ２は１〜３の整数であり；
Ｒ^７３は、同一又は異なり、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐ２は、同一又は異なり、０〜３の整数であり；
ｑ２は、同一又は異なり、０〜３の整数であり；
ｒ２は、同一又は異なり、０〜３の整数であり；
Ｒ^ｅ３は、同一又は異なり、−Ｙ−ＳｉＲ^７４ _ｎ２Ｒ^７５ _３−ｎ２を表し；
Ｒ^ｆ３は、同一又は異なり、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋ２は、同一又は異なり、０〜３の整数であり；
ｌ２は、同一又は異なり、０〜３の整数であり；
ｍ２は、同一又は異なり、０〜３の整数であり；
ただし、式（１Ｄ）および（２Ｄ）において、少なくとも１つのｑ２は２または３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ２は２または３である。］
のいずれかで表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物が挙げられる。

上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ^５−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’−Ｒｆ^６ ・・・（３）
式中、Ｒｆ^５は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^６は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１−１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ^５およびＲｆ^６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）および（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ^５−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−Ｒｆ^６ ・・・（３ａ）
Ｒｆ^５−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ’’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’’−Ｒｆ^６ ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒｆ^５およびＲｆ^６は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して１以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

上記含フッ素オイルは、１，０００〜３０，０００の平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。

上記組成物中、含フッ素オイルは、上記の合計１００質量部（それぞれ、２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜４００質量部、好ましくは０〜２００質量部、より好ましくは０．１〜５０質量部で含まれ得る。

含フッ素オイルは、耐ＵＶ性を維持しながら表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記組成物は、更に、式（２）：

（式中、Ｘ^１及びＸ^２は上述したとおり、Ｒ^４はポリエーテル鎖を含む二価の有機基を表し、上記ポリエーテル鎖は、
式：−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＸ^２１ _２）_ｎ２１（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））_ｎ２２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎ２３（ＯＣＦ_２）_ｎ２４（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｎ２５−
（式中、ｎ２１、ｎ２２、ｎ２３、ｎ２４及びｎ２５は、独立に、０又は１以上の整数、Ｘ^２１は独立にＨ、Ｆ又はＣｌ、各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表される鎖、及び、
式：−（ＯＣ_２Ｆ_４−Ｒ^２７）_ｆ’−
（式中、Ｒ^２７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であり、ｆ’は、２〜１００の整数である）で表される鎖
からなる群より選択される少なくとも１種の鎖である）で表される化合物を含んでいてもよい。

上記組成物中、式（２）で表される化合物は、上記の合計１００質量部（それぞれ、２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜１００質量部、好ましくは０〜５０質量部、より好ましくは０〜２５質量部で含まれ得る。

乾燥被覆法を使用する場合、上記表面処理層は、式（１）で表される化合物をそのまま乾燥被覆法に付すことにより形成でき、また、上記組成物を乾燥被覆法に付すことによっても形成できる。

表面処理層の形成は、表面処理層中で式（１）で表される化合物が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、式（１）で表される化合物を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、式（１）で表される化合物の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本発明の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した式（１）で表される化合物を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

次に、必要に応じて、表面処理層を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、水分供給および乾燥加熱を逐次的に実施するものであってよく、より詳細には、以下のようにして実施してよい。

上記のようにして基材表面に上記表面処理層を形成した後、この表面処理層（以下、「前駆体層」とも言う）に水分を供給する。水分の供給方法は、特に限定されず、例えば、前駆体層（および基材）と周囲雰囲気との温度差による結露や、水蒸気（スチーム）の吹付けなどの方法を使用してよい。

水分の供給は、例えば０〜２５０℃、好ましくは６０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上とし、好ましくは１８０℃以下、さらに好ましくは１５０℃以下の雰囲気下にて実施し得る。このような温度範囲において水分を供給することにより、加水分解を進行させることが可能である。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。

次に、該前駆体層を該基材の表面で、６０℃を超える乾燥雰囲気下にて加熱する。乾燥加熱方法は、特に限定されず、前駆体層を基材と共に、６０℃を超え、好ましくは１００℃を超える温度であって、例えば２５０℃以下、好ましくは１８０℃以下の温度で、かつ不飽和水蒸気圧の雰囲気下に配置すればよい。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。

このような雰囲気下では、式（１）で表される化合物間では、加水分解後のＳｉに結合した基同士が速やかに脱水縮合する。また、かかる化合物と基材との間では、当該化合物の加水分解後のＳｉに結合した基と、基材表面に存在する反応性基との間で速やかに反応し、基材表面に存在する反応性基が水酸基である場合には脱水縮合する。その結果、式（１）で表される化合物と基材との間で結合が形成される。

上記の水分供給および乾燥加熱は、過熱水蒸気を用いることにより連続的に実施してもよい。

以上のようにして後処理が実施され得る。上記後処理は、高い耐ＵＶ性を維持して摩擦耐久性を一層向上させるために実施され得るが、本発明の基材を製造するのに必須でないことに留意されたい。例えば、基材表面に上記表面処理層を形成した後、そのまま静置しておくだけでもよい。

上記のようにして、基材の表面に、表面処理層が形成され、本発明の基材が製造される。これにより得られる表面処理層は、良好な耐ＵＶ性を有する。また、この表面処理層は、良好な耐ＵＶ性に加えて、使用する組成物の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）、高い摩擦耐久性などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

つぎに本発明を実施例をあげて説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示される化学式はすべて平均組成を示し、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位（（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）や、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２Ｏ））の存在順序は任意である。

合成例１ パーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）含化合物（Ａ）の製造方法
１，３−ジアリル−イソシアヌル酸２．０ｇをｍ−ヘキサフルオロキシレンとジメチルホルムアミドの混合溶媒に溶解させた。炭酸カリウム１．０ｇを加え、攪拌しながら加熱した。ｍ−ヘキサフルオロキシレンに溶解したＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２３−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２−トリフルオロメタンスルホン酸エステル４．０ｇを加え更に加熱、撹拌を続けた。反応の終点は^１９Ｆ−ＮＭＲと^１Ｈ−ＮＭＲによって確認した。反応液に純水を加え、分液する事により下記のＰＦＰＥ含化合物（Ａ）を得た。
ＰＦＰＥ含化合物（Ａ）：

合成例２ パーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）含化合物（Ｂ）の製造方法
ＰＦＰＥ含化合物（Ａ）を１０．１ｇ、ｍ−ヘキサフルオロキシレンを４０ｇ、トリアセトキシメチルシランを０．０４ｇ、トリクロロシランを１．９３ｇ仕込み、１０℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１１５ｍｌ加えた後、４時間加熱撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．２３ｇとオルトギ酸トリメチル６．１ｇの混合溶液を加えた後、３時間加熱撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のＰＦＰＥ含化合物（Ｂ）９．９ｇを得た。
ＰＦＰＥ含化合物（Ｂ）：

合成例３ パーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）含化合物（Ｃ）及び（Ｄ）の製造方法
１，３−ジアリル−イソシアヌル酸２．０ｇをｍ−ヘキサフルオロキシレンとジメチルホルムアミドの混合溶媒に溶解させた。炭酸カリウム１．０ｇを加え、攪拌しながら加熱した。ｍ−ヘキサフルオロキシレンに溶解したＣＦ_３Ｏ−（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ（ＣＦ_２Ｏ）_ｎＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２−トリフルオロメタンスルホン酸エステル（ｍ＝２２，ｎ＝１９）４．０ｇを加え更に加熱、撹拌を続けた。反応の終点は^１９Ｆ−ＮＭＲと^１Ｈ−ＮＭＲによって確認した。反応液に純水を加え、分液する事により下記のＰＦＰＥ含化合物（Ｃ）を得た。
ＰＦＰＥ含化合物（Ｃ）：

続いて、合成例２のＰＦＰＥ含化合物（Ａ）をＰＦＰＥ含化合物（Ｃ）に変更した以外は、合成例２と同様にして、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のＰＦＰＥ含化合物（Ｄ）９．８ｇを得た。
ＰＦＰＥ含化合物（Ｄ）：

合成例４ パーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）含化合物（Ｉ）及び（Ｊ）の製造方法
ＰＦＰＥ含化合物（Ｃ）を１０．０ｇ、ｍ−ヘキサフルオロキシレンを４５ｇ、トリアセトキシメチルシランを０．０４ｇ、ジクロロメチルシランを１．４１ｇ仕込み、１０℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１３６ｍｌ加えた後、加熱撹拌した。その後、揮発分を留去した後、ビニルマグネシウムクロリド（１．６ＭのＴＨＦ溶液）を１５ｍｌ加えて室温で撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にメチルジビニルシリル基を有する下記のＰＦＰＥ含化合物（Ｉ）９．５ｇを得た。
ＰＦＰＥ含化合物（Ｉ）：

続いて、ＰＦＰＥ含化合物（Ｉ）を９．５ｇ、ｍ−ヘキサフルオロキシレンを４２ｇ、トリアセトキシメチルシランを０．０４ｇ、トリクロロシランを２．３０ｇ仕込み、１０℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．２３０ｍｌ加えた後、４時間加熱撹拌した。その後、揮発分を留去した後、メタノール０．３０ｇとオルトギ酸トリメチル７．５６ｇの混合溶液を加えた後、加熱撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のＰＦＰＥ含化合物（Ｊ）９．６ｇを得た。
ＰＦＰＥ含化合物（Ｊ）：

実施例１
合成例２で得たＰＦＰＥ含化合物（Ｂ）を、濃度２０ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて、表面処理剤１を調製した。

表面処理剤１を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力３．０×１０^−３Ｐａとし、まず、二酸化ケイ素を７ｎｍの厚さで、この化学強化ガラスの表面に蒸着させて二酸化ケイ素膜を形成し、続いて、化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、表面処理剤２ｍｇ（即ち、化合物（Ｂ）を０．４ｍｇ含有）を蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、大気下、恒温槽内で１４０℃３０分間加熱した。これにより、蒸着膜が硬化して、表面処理層を有する基材（１）が得られた。

実施例２
合成例３で得たＰＦＰＥ含化合物（Ｄ）を用いて実施例１と同様の処理を行い、基材（２）を得た。

実施例３
合成例４で得たＰＦＰＥ含化合物（Ｊ）を用いて実施例１と同様の処理を行い、基材（３）を得た。

比較例１〜４
ＰＦＰＥ含化合物（Ｂ）に変えて、対照化合物（Ｅ）、（Ｆ）、（Ｇ）、（Ｈ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、基材（４）〜（７）を調製した。

対照化合物（Ｅ）

対照化合物（Ｆ）

対照化合物（Ｇ）

対照化合物（Ｈ）

（促進耐候性試験評価）
実施例１、２、３及び比較例１〜４にて調製した基材（１）〜（７）について、促進耐候性試験を行った。促進耐候性試験とは、次のとおりＵＶＢ照射を行う試験である。ＵＶＢ照射は、ＵＶＢ−３１３ランプ（Ｑ−Ｌａｂ社製、３１０ｎｍにおいて放射照度０．６３Ｗ／ｍ^２）を用い、ランプと基材の表面処理層との距離を５ｃｍとし、基材を載せている板の温度は６３℃で行った。ＵＶＢ照射は連続的に行うが、水の静的接触角の測定時には、基材をいったん取り出し、表面処理層をキムワイプ（商品名、十條キンバリー社製）に純水を十分に染み込ませて５往復拭いた後、さらに別のキムワイプにエタノールを十分に染み込ませて５往復拭き、乾燥させた。その後すぐに水の静的接触角を測定した。

＜水の静的接触角の測定方法＞
水の静的接触角は全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いて次の方法で測定した。水平に置いた基板にマイクロシリンジから水を２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより求めた。水の静的接触角の測定値について、基材上の表面処理層のＵＶＢ照射箇所の異なる５点を測定し、その平均値を算出して用いた。

実施例の各数値は以下の方法により測定した。

まず、初期評価として、表面処理層形成後の基材を、ＵＶＢ照射前に水の静的接触角を測定した（ＵＶ照射時間０時間）。その後、所定の時間ＵＶＢを照射した後の表面処理層について、水の静的接触角をそれぞれ測定した。評価は、ＵＶＢ照射開始から２４時間毎に、水の静的接触角が８０度を下回るまで、あるいは累積照射時間６００時間まで行った。結果を表１に示す。

表１の結果から理解されるように、実施例１、２及び３のＰＦＰＥ含化合物を用いて形成された表面処理層を有する基材では、比較例１〜４のシラン化合物を用いて形成された表面処理層を有する基材と比べて、ＵＶの照射に伴う接触角の低下が飛躍的に抑制され、高い撥水性が長期間維持されることが分かった。これは、実施例１、２及び３で形成された基材では、ＵＶ照射に起因する表面処理層の分解が抑制されているためと思われる。

実施例４、５、６、比較例５〜８
スチールウール摩擦耐久性評価
実施例１、２、３及び比較例１〜４にて表面処理層が形成された基材（１）〜（７）について、まず初期評価として、表面処理層形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した（摩擦回数 ゼロ回）。その後、スチールウール摩擦耐久性評価を実施した。具体的には、表面処理層を形成した基材を水平配置し、スチールウール（番手♯００００、寸法５ｍｍ×１０ｍｍ×１０ｍｍ）を基材の表面処理層に接触させ、その上に１，０００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態でスチールウールを１４０ｍｍ／秒の速度で往復させた。往復回数２０００回毎に水の静的接触角（度）を測定し、接触角の測定値が１００度未満となった時点で評価を中止した。結果を実施例４、５、６、比較例５〜８として表２に示す（表中、記号「−」は測定せず）。

表２の結果から理解されるように、実施例４、５及び６のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いて形成された表面処理層を有する基材では、摩擦耐久性が向上することが確認された。

本発明の基材は、いずれも、フロントガラス、サイドガラス、リアガラス、ミラー、センサーカメラレンズ等の車載用途、ディスプレイ等の情報端末用途、窓ガラス等の建材用途、屋外での防犯カメラ、監視カメラ、水道の蛇口やシャワーヘッドなどに好適に利用できる。また、本発明の基材は、いずれも、高い耐ＵＶ性に加えて、撥水性、撥油性、防汚性、防水性、高い摩擦耐久性を有していることから、屋外での耐候性を求められる用途に好適に使用され、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング基材または防水性コーティング基材として好適に使用され得る。
本発明の基材は、いずれも、光学部材、タッチパネル用の光学ガラス部品、車載カメラやモニター用カメラなどの光学レンズ部品、光学材料、光学部材、医療機器、医療材料などにも好適に利用できる。

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；ＦｉｅｌｄＥｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバーなど。

また、本発明の基材は、いずれも、車両用窓ガラスや建築用窓ガラスに好適に使用することができる。
車両用窓ガラスとしては、車両のフロントガラス、サイドガラス、リアガラス、クォーターガラス、サイドミラー、クォーターガラス、サイドミラーなどが挙げられる。
建材用窓ガラスとしては、ビル用の内部または外部窓ガラスなどが挙げられる。
また、本発明の基材は、いずれも、メガネ、腕時計および水泳用ゴーグルなどのガラスやレンズ、装置および機器のガラスカバー、オートバイヘルメットやヘルメット用のウインドカバー、望遠鏡レンズまたはカメラレンズなどのガラスレンズ、ガラス安全スクリーン、またはしぶき防護壁などの透明な分離装置、ならびに化学反応フード、生物学的もしくは医療フード、培養器、キャビネット、電子レンジ、オーブントースター、または冷蔵庫などの装置または機器用のガラスドアまたは窓などのガラスまたはプラスチック窓、ショーウィンドウガラス、防犯ガラスなどにも好適に利用できる。

Claims (5)

1. 表面処理層を有し、下記条件で行う促進耐候性試験を４００時間行った後の水の静的接触角が１００度以上であることを特徴とする基材。
   ＜促進耐候性試験の条件＞
   ＵＶＢ−３１３ランプ（波長３１０ｎｍにおいて放射照度０．６３Ｗ／ｍ^２）を用い、ランプと基材の表面処理層との距離を５ｃｍとし、２４時間照射毎に表面処理層を水とエタノールで拭いて乾かす。
2. 表面処理層を有し、下記条件で行う促進耐候性試験を２５０時間行った後の水の静的接触角が１１０度以上であることを特徴とする基材。
   ＜促進耐候性試験の条件＞
   ＵＶＢ−３１３ランプ（波長３１０ｎｍにおいて放射照度０．６３Ｗ／ｍ^２）を用い、ランプと基材の表面処理層との距離を５ｃｍとし、２４時間照射毎に表面処理層を水とエタノールで拭いて乾かす。
3. 下記条件で行うスチールウール摩擦耐久性評価を６０００回行った後の水の静的接触角が１００度以上である請求項１又は２に記載の基材。
   ＜スチールウール摩擦耐久性評価の条件＞
   スチールウール（番手♯００００、寸法５ｍｍ×１０ｍｍ×１０ｍｍ）を基材の表面処理層に接触させ、その上に１，０００ｇｆの荷重を付与し、荷重を加えた状態でスチールウールを１４０ｍｍ／秒の速度で往復させる。一往復を１回とする。
4. 基材が、ガラス基材である請求項１、２又は３記載の基材。
5. ガラス基材が、サファイアガラス基材、ソーダライムガラス基材、アルカリアルミケイ酸塩ガラス基材、ホウケイ酸ガラス基材、無アルカリガラス基材、クリスタルガラス基材、又は、石英ガラス基材である請求項４記載の基材。