JP2023127581A - 表面処理剤 - Google Patents

Abstract

【課題】優れた撥液性に加え、滑液性に優れた層を形成することができる組成物の提供。【解決手段】成分（Ａ）：架橋性化合物、及び成分（Ｂ）：非フッ素撥液性化合物を含む組成物であって、下記式：Ｐｂ－Ｐｃ＞０［式中：Ｐｂは、前記非フッ素撥液性化合物から形成された層の表面自由エネルギーにおける極性成分比の値であり、Ｐｃは、前記組成物から形成された層の表面自由エネルギーにおける極性成分比の値である。］を満たす、組成物。【選択図】なし

Description

本開示は、表面処理剤に関する。

基材の表面処理用の組成物として、シランカップリング剤と四官能のアルコキシシランからなる組成物（特許文献１）が知られている。

特開２０１３－２１３１８１号公報

本開示は、優れた撥液性に加え、滑液性に優れた層を形成することができる組成物を提供することを目的とする。

本開示は、以下の態様を含む。
［１］ 成分（Ａ）：架橋性化合物、及び
成分（Ｂ）：非フッ素撥液性化合物
を含む組成物であって、
下記式：
Ｐ^ｂ－Ｐ^ｃ＞０
［式中：
Ｐ^ｂは、前記非フッ素撥液性化合物から形成された層の表面自由エネルギーにおける極性成分比の値であり、
Ｐ^ｃは、前記組成物から形成された層の表面自由エネルギーにおける極性成分比の値である。］
を満たす、組成物。
［２］ 下記式：
Ｐ^ｂ－Ｐ^ｃ≧５．０
を満たす、上記［１］に記載の組成物。
［３］ Ｐ^ｃは、２５．０以下である、上記［１］又は［２］に記載の組成物。
［４］ 前記架橋性化合物は、金属アルコキシド基を有する、上記［１］～［３］のいずれか１項に記載の組成物。
［５］ 前記架橋性化合物は、下記式（Ａ１）又は（Ａ２）：
Ａ［Ｚ^ａ１－Ｍ^１（ＯＲ^ａ１）_ｎ１（Ｒ^ａ２）_{ｎ２－ｎ１}］_ｍ１［Ｚ^ａ２－Ｒ^ａ３］_ｍ２ （Ａ１）
［式中：
Ａは、１～１０価の有機基であり、
Ｚ^ａ１は、それぞれ独立して、単結合、又は２価の有機基であり、
Ｍ^１は、Ａｌ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、又はＺｎであり；
Ｒ^ａ１は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ_１－６アルキル基であり、
Ｒ^ａ２は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭化水素基であり、
ｎ１は、それぞれ独立して、１以上（Ｍ^１の価数－１）以下であり、
ｎ２は、それぞれ独立して、（Ｍ^１の価数－１）であり、
Ｚ^ａ２は、それぞれ独立して、単結合、又は２価の有機基であり、
Ｒ^ａ３は、それぞれ独立して、反応性有機基であり、
ｍ１は、１～１０の整数であり、
ｍ２は、０～１０の整数であり、
ｍ１とｍ２の合計はＡの価数である。］

［式中：
Ｍ^２は、Ａｌ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、又はＺｎであり；
Ｒ^ａ４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基、又はＲ^ａ６－ＣＯ－であり；
Ｒ^ａ６は、１価の炭化水素基であり；
Ｒ^ａ５は、それぞれ独立して、Ｃ_１－３アルキル基又はＣ_１－３アルコキシ基であり；
ｎ３は、前記Ｍ^２の価数であり；
ｎ４は、０以上前記Ｍ^２の価数以下である。］
で表される化合物である、上記［１］～［４］のいずれか１項に記載の組成物。
［６］ ｎ１は、２以上である、上記［５］のいずれか１項に記載の組成物。
［７］ 前記Ｒ^ａ１は、Ｃ_１－４アルキル基である、上記［５］又は［６］に記載の組成物。
［８］ Ａは、アルキレン基である、上記［５］～［７］のいずれか１項に記載の組成物。
［９］ Ａは、下記式：

［式中：
Ｘ^ａは、それぞれ独立して、単結合、または２価の有機基である。］
で表される基イである、上記［５］～［７］のいずれか１項に記載の組成物。
［１０］ 前記反応性有機基は、イソシアネート基、エポキシ基、又はビニル基である、上記［５］～［９］のいずれか１項に記載の組成物。
［１１］ 前記非フッ素撥液性化合物は、下記式（１）、又は（２）：

［式中：
Ｒ^Ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_８－３６アルキル基、Ｒ^１－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ７－、又はＲ^４－Ｒ^Ｅ－Ｏ_ｑ８－であり；
Ｒ^Ｓ２は、Ｃ_８－３６アルキレン基、－Ｏ_ｐ７－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ７－、又は－Ｒ^５ _ｐ８－Ｒ^Ｅ－Ｏ_ｑ８－であり；
Ｒ^Ｓは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の直鎖オルガノシロキサン基であり；
Ｒ^１は、水素原子、又炭化水素基であり；
Ｒ^２は、－ＳｉＲ^３ _２－であり；
Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、炭化水素基であり；
ｐ７は、０又は１であり；
ｑ７は、それぞれ独立して、０又は１であり；
Ｒ^Ｅは、２価のポリエーテル基であり；
Ｒ^４は、水素原子、又は炭化水素基であり；
Ｒ^５は、２価の炭化水素基であり；
ｐ８は、０又は１であり；
ｑ８は、０又は１であり；
Ｒ^Ｈは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、もしくは１価の有機基が結合したＳｉ原子、又は反応性有機基を含む１価の基であり；
Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表される化合物である、上記［１］～［１０］のいずれか１項に記載の組成物。
［１２］ Ｒ^Ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_８－３６アルキル基である、上記［１１］に記載の組成物。
［１３］ Ｒ^Ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^１－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ７－であり、
Ｒ^Ｓ２は、－Ｏ_ｐ７－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ７－である、上記［１１］に記載の組成物。
［１４］ Ｒ^Ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^４－Ｒ^Ｅ－Ｏ_ｑ８－であり、
Ｒ^Ｓ２は、－Ｒ^５ _ｐ８－Ｒ^Ｅ－Ｏ_ｑ８－である、上記［１１］に記載の組成物。
［１５］ 前記反応性有機基は、イソシアネート基、エポキシ基、又はビニル基である、上記［１１］～［１４］のいずれか１項に記載の組成物。
［１６］ Ｒ^Ｈは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）：

［式中：
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基であり；
Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり；
Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基または炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり；
Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２であり；
Ｚ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
ただし、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）及び（Ｓ５）中、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。］
で表される基である、上記［１１］～［１４］のいずれか１項に記載の組成物。
［１７］ Ｘ^Ａは、単結合又は下記式：
－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－
［式中：
Ｒ^５１は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｓ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、
ｓ５は、１～２０の整数であり、
Ｘ^５１は、－（Ｘ^５２）_ｌ５－であり、
Ｘ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基であり、
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、又は１価の有機基であり、
ｎ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数であり、
ｌ５は、１～１０の整数であり、
ｐ５は、０又は１であり、
ｑ５は、０又は１であり、
ここに、ｐ５及びｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５又はｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の有機基である、上記［１１］～［１６］のいずれか１項に記載の組成物。
［１８］ Ｘ^Ａは、下記式：

［式中、Ｘ^ａは、それぞれ独立して、単結合または２価の有機基である。］
で表される基である、上記［１１］～［１７］のいずれか１項に記載の組成物。
［１９］ 前記架橋性化合物と前記非フッ素撥液性化合物の合計に対する、前記非フッ素撥液性化合物の含有量は、０．１～９０．０質量％である、上記［１］～［１８］のいずれか１項に記載の組成物。
［２０］ 前記組成物から形成された層の水の転落角は、２５°以下である、上記［１］～［１９］のいずれか１項に記載の組成物。
［２１］ さらに、
Ｒ^７１ＯＲ^７２、
Ｒ^７３ _ｎ８Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８、
Ｒ^７４Ｒ^７５Ｒ^７６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ８－Ｒ^７９、及び
（ＯＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ９
［式中、
Ｒ^７１～Ｒ^７９は、それぞれ独立して、炭素数１～１０個の一価の有機基であり、
ｍ８は、１～６の整数であり、
ｍ９は、４～８の整数であり、
ｎ８は、０～６の整数である。］
で表される化合物から選択される溶媒を含む、上記［１］～［２０］のいずれか１項に記載の組成物。
［２２］ 前記溶媒は、Ｒ^７４Ｒ^７５Ｒ^７６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ８－Ｒ^７９である、上記［２１］に記載の組成物。
［２３］ 前記溶媒は、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、又はデカメチルシクロペンタシロキサンである、上記［２１］に記載の組成物。
［２４］ さらに、水、及び触媒から選択される他の成分を含有する、上記［１］～［２０］のいずれか１項に記載の組成物。
［２５］ 表面処理剤である、上記［１］～［２４］のいずれか１項に記載の組成物。
［２６２］ 基材と、該基材上に、請求項上記［１］～［２５］のいずれか１項に記載の組成物から形成された層とを含む物品。
［２７］ 基剤と、成分（Ａ）：架橋性化合物、及び成分（Ｂ）：非フッ素撥液性化合物を含む組成物から形成された層とを含み、
下記式：
Ｐ^ｂ－Ｐ^ｃ＞０
［式中：
Ｐ^ｂは、前記非フッ素撥液性化合物から形成された層の表面自由エネルギーにおける極性成分比であり、
Ｐ^ｃは、前記組成物から形成された層の表面自由エネルギーにおける極性成分比である。］
を満たす、物品。
［２５］ 基剤と、成分（Ａ）：架橋性化合物、及び成分（Ｂ）：非フッ素撥液性化合物を含む組成物から形成された層とを含み、前記層の表面自由エネルギーにおける極性成分比は、２５．０％以下である、物品。
［２６］ 前記層の水の転落角は、２５°以下である、上記［２７］又は［２８］に記載の物品。
［２７］ 前記層の厚さは、０．０１μｍ以上である、上記［２７］～［２９］のいずれか１項に記載の物品。

本開示によれば、撥液性及び滑液性に優れた層を形成することができる組成物を提供することができる。

本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基又はその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端又は分子鎖中に、１つ又はそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。また、「２価の有機基」～「１０価の有機基」とは、それぞれ、炭素を含有する２～１０価の基を意味する。かかる２価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１～９個の水素原子を脱離させた２～１０価の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素及び水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、Ｃ_１－２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれであってもよく、飽和又は不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つ又はそれ以上の環構造を含んでいてもよい。上記炭化水素基は、１つ又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個又はそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基及び５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個又はそれ以上の基が挙げられる。

本開示の組成物は、
成分（Ａ）：架橋性化合物、及び
成分（Ｂ）：非フッ素撥液性化合物
を含む組成物であって、
下記式：
Ｐ^ｂ－Ｐ^ｃ＞０
［式中：
Ｐ^ｂは、前記非フッ素撥液性化合物から形成された層の表面自由エネルギーにおける極性成分比の値であり、
Ｐ^ｃは、前記組成物から形成された層の表面自由エネルギーにおける極性成分比の値である。］
を満たす。

本開示の組成物は、Ｐ^ｂ－Ｐ^ｃ＞０を満たすことから、当該組成物から得られた層（以下、「表面処理層」ともいう）は、撥液性に加え、優れた滑液性を有する。

（極性成分比）
上記極性成分比の値とは、層における表面自由エネルギーの分散成分（γ_ｓ ^ｄ）と極性成分（γ_ｓ ^ｐ）の合計に対する、極性成分（γ_ｓ ^ｐ）の割合（％）であり、下記式：
極性成分比（％）＝γ_ｓ ^ｐ／（γ_ｓ ^ｄ＋γ_ｓ ^ｐ）×１００
により求められる。

上記表面自由エネルギーの分散成分（γ_ｓ ^ｄ）及び極性成分（γ_ｓ ^ｐ）は、２種の液体を用いて、それぞれの液体から得られた層において測定した静的接触角（θ）と、当該２種の液体の既知パラメータ（液体の表面自由エネルギー（γ_Ｌ）、液体の表面自由エネルギーの分散成分（γ_Ｌ ^ｄ）、及び液体１の表面自由エネルギーの極性成分（γ_Ｌ ^ｐ））とを用いて、下記のＫａｅｌｂｌｅ－Ｕｙの式から求めることができる。

［式中：
γ_Ｌ１は、液体１の表面自由エネルギーであり、
γ_Ｌ１ ^ｄは、液体１の表面自由エネルギーの分散成分であり、
γ_Ｌ１ ^ｐは、液体１の表面自由エネルギーの極性成分であり、
γ_Ｌ２は、液体２の表面自由エネルギーであり、
γ_Ｌ２ ^ｄは、液体２の表面自由エネルギーの分散成分であり、
γ_Ｌ２ ^ｐは、液体２の表面自由エネルギーの極性成分であり、
γ_ｓ ^ｄは、層の表面の分散成分であり、
γ_ｓ ^ｐは、層の極性成分であり、
θ_１は、液体１の静的接触角であり、
θ_２は、液体２の静的接触角である。］

上記液体１及び液体２として用いる液体としては、好ましくは、水、ヘキサデカン及びホルムアミドから選択される２種である。

上記液体の表面自由エネルギー（γ_Ｌ）、表面自由エネルギーの分散成分（γ_Ｌ ^ｄ）、及び表面自由エネルギーの極性成分（γ_Ｌ ^ｐ）を下記表に示す。

層の静的接触角は、下記のようにして測定することができる。

（静的接触角の測定方法）
静的接触角は、全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ５０１（協和界面科学社製）を用いて、水平に置いた表面処理基板にマイクロシリンジから液体を２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより測定することができる。

本開示の組成物は、下記条件を満たす。
Ｐ^ｂ－Ｐ^ｃ＞０
［式中：
Ｐ^ｂは、前記非フッ素撥液性化合物から形成された層の表面自由エネルギーにおける極性成分比の値であり、
Ｐ^ｃは、前記組成物から形成された層の表面自由エネルギーにおける極性成分比の値である。］

Ｐ^ｂ－Ｐ^ｃの値は、好ましくは３．０以上、より好ましくは５．０以上、さらに好ましくは８．０以上であり得る。Ｐ^ｂ－Ｐ^ｃの値をかかる範囲とすることにより、層の撥液性及び滑液性が高くなる。

Ｐ^ｃは、好ましくは２５．０以下、より好ましくは２０．０以下、さらに好ましくは１５．０以下、さらにより好ましくは１０．０以下、例えば５．０以下であり得る。Ｐ^ｃの値をかかる範囲とすることにより、層の撥液性及び滑液性が高くなる。

上記本開示の組成物から形成された層の厚さは、例えば０．０５μｍ以上、好ましくは０．１０μｍ以上、より好ましくは０．５０μｍ以上、さらに好ましくは１．０μｍ以上である。上記層の厚さは、例えば０．０５～１０．０μｍ、０．５０～５．０μｍ、１．０～５．０μｍ、１．０～３．０μｍである。

（成分（Ａ）：架橋性化合物）
上記架橋性化合物は、好ましくは金属アルコキシド基を有する。

上記金属アルコキシド基におけるアルコキシ基は、好ましくはＣ_１－６アルコキシ基、より好ましくはＣ_１－３アルコキシ基、さらに好ましくはメトキシ又はエトキシ基である。

好ましい態様において、上記架橋性化合物は、
下記式（Ａ１）：
Ａ［Ｚ^ａ１－Ｍ^１（ＯＲ^ａ１）_ｎ１（Ｒ^ａ２）_{ｎ２－ｎ１}］_ｍ１［Ｚ^ａ２－Ｒ^ａ３］_ｍ２ （Ａ１）
［式中：
Ａは、１～１０価の有機基であり、
Ｚ^ａ１は、それぞれ独立して、単結合、又は２価の有機基であり、
Ｍ^１は、Ａｌ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、又はＺｎであり；
Ｒ^ａ１は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ_１－６アルキル基であり、
Ｒ^ａ２は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭化水素基であり、
ｎ１は、それぞれ独立して、１以上（Ｍ^１の価数－１）以下であり、
ｎ２は、それぞれ独立して、（Ｍ^１の価数－１）であり、
Ｚ^ａ２は、それぞれ独立して、単結合、又は２価の有機基であり、
Ｒ^ａ３は、それぞれ独立して、反応性有機基であり、
ｍ１は、１～１０の整数であり、
ｍ２は、０～１０の整数であり、
ｍ１とｍ２の合計はＡの価数である。］
で表される化合物、又は
下記式（Ａ２）：

［式中：
Ｍ^２は、Ａｌ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、又はＺｎであり；
Ｒ^ａ４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基、又はＲ^ａ６－ＣＯ－であり；
Ｒ^ａ６は、１価の炭化水素基であり；
Ｒ^ａ５は、それぞれ独立して、Ｃ_１－３アルキル基又はＣ_１－３アルコキシ基であり；
ｎ３は、前記Ｍ^２の価数であり；
ｎ４は、０以上前記Ｍ^２の価数以下である。］
で表される化合物である。

（式（Ａ１）で表される化合物）
Ａ［Ｚ^ａ１－Ｍ^１（ＯＲ^ａ１）_ｎ１（Ｒ^ａ２）_{ｎ２－ｎ１}］_ｍ１［Ｚ^ａ２－Ｒ^ａ３］_ｍ２ （Ａ１）

Ａは、１～１０価の有機基であり、好ましくは１～８価、より好ましくは１～６価、さらに好ましくは１～４価、さらにより好ましくは１～３価、特に好ましくは２または３価の有機基である。

一の態様において、Ａは、２価の有機基である。

上記２価の有機基は、好ましくは、下記式：
－［（Ｒ^Ａ１）_ａ１－（Ｒ^Ａ２）_ａ２－（Ｒ^Ａ３）_ａ３］－
［式中：
Ｒ^Ａ１は、それぞれ独立して、アルキレン基、好ましくはＣ_１－２０アルキレン基、より好ましくはＣ_１－１０アルキレン基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキレン基、さらにより好ましくはＣ_１－４アルキレン基であり、
Ｒ^Ａ２は、それぞれ独立して、シクロアルキレン基、好ましくはＣ_３－２０シクロアルキレン基、より好ましくはＣ_３－１０シクロアルキレン基、さらに好ましくはＣ_５－８シクロアルキレン基、さらにより好ましくはＣ_５－７シクロアルキレン基であり、
Ｒ^Ａ３は、それぞれ独立して、アリーレン基、好ましくはＣ_６－２０アリーレン基、より好ましくはＣ_６－１０アリーレン基、さらに好ましくはＣ_６－８アリーレン基、特に好ましくはフェニレン基であり、
ａ１は、０～５の整数、好ましくは０～３の整数、より好ましくは０～２の整数、さらに好ましくは１または２であり、
ａ２は、０～５の整数、好ましくは０～３の整数、より好ましくは０または１であり、
ａ３は、０～５の整数、好ましくは０～３の整数、より好ましくは０または１であり、
ａ１、ａ２およびａ３の合計は、１以上、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ａ１、ａ２およびａ３を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。］
で表される基である。

一の態様において、Ａは、Ｒ^Ａ１である。

上記Ｒ^Ａ１におけるアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。

別の態様において、Ａは、３価の有機基である。

上記３価の有機基は、好ましくは、下記式：

［式中：
Ｘ^ａは、それぞれ独立して、単結合、または２価の有機基である。］
で表される基である。

一の態様において、Ｘ^ａは、単結合である。

別の態様において、Ｘ^ａは、２価の有機基である。

Ｘ^ａにおける２価の有機基は、好ましくは、アルキレン基、または、エーテル結合およびエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む２価の基であり、より好ましくは、単結合、Ｃ_１－１０アルキレン基、または、エーテル結合およびエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む炭素数１～１０の２価の炭化水素基である。

好ましい態様において、Ｘ^ａにおける２価の有機基は、下記式：
－（ＣＸ^１２１Ｘ^１２２）_ｘ１－（Ｘ^ａ１）_ｙ１－（ＣＸ^１２３Ｘ^１２４）_ｚ１－
（式中、Ｘ^１２１～Ｘ^１２４は、それぞれ独立して、Ｈ、Ｆ、ＯＨ、または、－ＯＳｉ（ＯＲ^１２１）_３（式中、３つのＲ^１２１は、それぞれ独立して、炭素数１～４のアルキル基である。）であり、
上記Ｘ^ａ１は、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、または、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－であり（各結合の左側がＣＸ^１２１Ｘ^１２２に結合する。）、
ｘ１は０～１０の整数であり、ｙ１は０または１であり、ｚ１は１～１０の整数である。）
で表される基である。なお、上記基は、左側がイソシアヌル環に結合する。

Ｘ^ａ１は、好ましくは、－Ｏ－またはＣ（＝Ｏ）Ｏ－である。

Ｘ^ａにおける２価の有機基は、好ましくは、下記式：
－（ＣＨ_２）_ｍ１２－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｍ１３－
（式中、ｍ１２は１～３の整数であり、ｍ１３は１～３の整数である。）
で表される基、
－（ＣＨ_２）_ｍ１５－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）－（ＣＨ_２）_ｍ１６－
（式中、ｍ１５は１～３の整数であり、ｍ１６は１～３の整数である。）
で表される基、
－（ＣＨ_２）_ｍ２０－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_３）－（ＣＨ_２）_ｍ２１－
（式中、ｍ２０は１～３の整数であり、ｍ２１は１～３の整数である。）
で表される基、または、
－（ＣＨ_２）_ｍ２２－
（式中、ｍ２２は１～３の整数である。）
で表される基が特に好ましい。

Ｘ^ａにおける２価の有機基としては、特に限定されないが、具体的には、
－ＣＨ_２－、－Ｃ_２Ｈ_４－、－Ｃ_３Ｈ_６－、－Ｃ_４Ｈ_８－、－Ｃ_４Ｈ_８－Ｏ－ＣＨ_２－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２－
等が挙げられる。

Ｚ^ａ１は、それぞれ独立して、単結合、または２価の有機基である。

一の態様において、Ｚ^ａ１は、単結合である。

別の態様において、Ｚ^ａ１は、それぞれ独立して、２価の有機基である。

上記Ｚ^ａ１における２価の有機基は、それぞれ独立して、アルキレン基、好ましくはＣ_１－２０アルキレン基、より好ましくはＣ_１－１０アルキレン基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキレン基、さらにより好ましくはＣ_１－４アルキレン基である。

Ｍ^１は、Ａｌ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、またはＺｎである。

Ｍ^１は、好ましくはＳｉ、Ｔｉ又はＺｒであり、より好ましくはＳｉである。

Ｒ^ａ１は、それぞれ独立して、水素原子またはＣ_１－６アルキル基である。

好ましい態様において、Ｒ^ａ１は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキル基、好ましくはＣ_１－４アルキル基、より好ましくはＣ_１－２アルキル基である。

Ｒ^ａ２は、それぞれ独立して、水素原子、または炭化水素基である。

Ｒ^ａ２は、それぞれ独立して、炭化水素基である。

Ｒ^ａ２における炭化水素基は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキル基、好ましくはＣ_１－３アルキル基、より好ましくはＣ_１－２アルキル基である。

ｎ１は、それぞれ独立して、１以上（Ｍ^１の価数－１）以下であり、ｎ２は、（Ｍ^１の価数－１）である。

ｎ１は、好ましくは２以上（Ｍ^１の価数－１）以下、より好ましくは３以上（Ｍ^１の価数－１）以下、さらに好ましくは（Ｍ^１の価数－１）である。

Ｚ^ａ２は、それぞれ独立して、単結合、または２価の有機基である。

一の態様において、Ｚ^ａ２は、単結合である。

別の態様において、Ｚ^ａ２は、それぞれ独立して、２価の有機基である。

上記Ｚ^ａ２における２価の有機基は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^ａ２は、Ｃ_１－６アルキレン基、または－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。

Ｒ^ａ３は、それぞれ独立して、反応性有機基である。

上記Ｒ^ａ３における反応性有機基は、イソシアネート基、エポキシ基、またはビニル基である。

一の態様において、上記反応性有機基は、イソシアネート基である。

別の態様において、上記反応性有機基は、エポキシ基である。

別の態様において、上記反応性有機基は、ビニル基である。

ｍ１は、１～１０の整数であり、ｍ２は、０～１０の整数であり、ｍ１とｍ２との合計はＡの価数である。

一の態様において、ｍ１は、１～１０の整数であり、ｍ２は、０である。

別の態様において、ｍ１は、１～１０の整数であり、ｍ２は、１～１０の整数である。

好ましい態様において、ｍ１は、１または２であり、ｍ２は、０または１であり、好ましくは、ｍ１は、１であり、ｍ２は、１である。

（式（Ａ２）で表される化合物）

Ｍ^２は、Ａｌ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、またはＺｎである。

Ｍ^２は、好ましくはＳｉ、Ｔｉ又はＺｒであり、より好ましくはＳｉである。

Ｒ^ａ３は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基、またはＲ^ａ６－ＣＯ－である。

Ｒ^ａ３は、それぞれ独立して、好ましくはＣ_１－６アルキル基、より好ましくはＣ_１－３アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－２アルキル基である。

Ｒ^ａ４は、それぞれ独立して、Ｃ_１－３アルキル基またはＣ_１－３アルコキシ基である。

上記Ｒ^ａ４におけるアルキル基は、好ましくはメチル基又はエチル基であり、より好ましくはメチル基である。

上記Ｒ^ａ４におけるアルコキシ基は、好ましくはメトキシ基又はエトキシ基であり、より好ましくはエトキシ基である。

ｎ３は、上記Ｍ^２の価数であり、ｎ４は、０以上上記Ｍ^２の価数以下である。

一の態様において、ｎ４はＭの価数である。

別の態様において、（ｎ３－ｎ４）は１である。

一の態様において、本開示の組成物は、式（Ａ１）で表される化合物を含む。

一の態様において、本開示の組成物は、式（Ａ２）で表される化合物を含む。

別の態様において、本開示の組成物は、式（Ａ１）で表される化合物、及び式（Ａ２）で表される化合物を含む。

＜成分（Ｂ）：非フッ素撥液性化合物＞
上記非フッ素撥液性化合物は、好ましくは、長鎖アルキル基、オルガノシロキサン基、又はポリエーテル基を有する。

一の態様において、上記非フッ素撥液性化合物は、下記式（１）、又は（２）：

で表される化合物である。

（式（１）又は（２）で表される化合物）
以下、式（１）又は（２）：

［式中：
Ｒ^Ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_８－３６アルキル基、Ｒ^１－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ７－、又はＲ^４－Ｒ^Ｅ－Ｏ_ｑ８－であり；
Ｒ^Ｓ２は、Ｃ_８－３６アルキレン基、－Ｏ_ｐ７－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ７－、又は－Ｒ^５ _ｐ８－Ｒ^Ｅ－Ｏ_ｑ８－であり；
Ｒ^Ｓは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の直鎖オルガノシロキサン基であり；
Ｒ^１は、水素原子、又炭化水素基であり；
Ｒ^２は、－ＳｉＲ^３ _２－であり；
Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、炭化水素基であり；
ｐ７は、０又は１であり；
ｑ７は、それぞれ独立して、０又は１であり；
Ｒ^Ｅは、２価のポリエーテル基であり；
Ｒ^４は、水素原子、又は炭化水素基であり；
Ｒ^５は、２価の炭化水素基であり；
ｐ８は、０又は１であり；
ｑ８は、０又は１であり；
Ｒ^Ｈは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、もしくは１価の有機基が結合したＳｉ原子、又は反応性有機基を含む１価の基であり；
Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表される化合物について説明する。

Ｒ^Ｓ１は、Ｃ_８－３６アルキル基、Ｒ^１－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ７－、又はＲ^４－Ｒ^Ｅ－Ｏ_ｑ８－である。

Ｒ^Ｓ２は、Ｃ_８－３６アルキレン基、－Ｏ_ｐ７－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ７－、又は－Ｒ^４ _ｐ８－Ｒ^Ｅ－Ｏ^４ _ｑ８－である。

一の態様において、Ｒ^Ｓ１は、Ｃ_８－３６アルキル基であり、Ｒ^Ｓ２は、Ｃ_８－３６アルキレン基である。

上記Ｃ_８－３６アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいか、好ましくは直鎖である。

上記Ｃ_８－３６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいか、好ましくは直鎖である。

Ｒ^Ｓ１及びＲ^Ｓ２における炭素数の下限は、好ましくは１０、より好ましくは１６、さらに好ましくは１８、例えば２０、又は２２であり得る。炭素数の上限は、好ましくは３２、より好ましくは２８、例えば２６又は２３であり得る。

一の態様において、Ｒ^Ｓ１は、Ｒ^１－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ７－であり、Ｒ^Ｓ２は、－Ｏ_ｐ７－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ７－である。

一の態様において、Ｒ^Ｓは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の直鎖オルガノシロキサン基である。ここに、２価の直鎖オルガノシロキサン基とは、シロキサンの主骨格（－ＳｉＲ_２－Ｏ－ＳｉＲ_２－）が直鎖であるオルガノシロキサン基を意味し、Ｓｉ原子に結合するＲ基は直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。

好ましい態様において、Ｒ^Ｓは、下記式：
－（ＳｉＲ^３ _２－Ｏ）_ａ－
［式中：
Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、炭化水素基であり、
ａは、２～１５００である。］
で表される基である。

上記Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、炭化水素基である。かかる炭化水素基は、置換されていてもよい。

Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくは非置換炭化水素基、又はハロゲン原子により置換されている炭化水素基である。かかるハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である。

Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくはハロゲン原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキル基又はアリール基、より好ましくはＣ_１－６アルキル基又はアリール基である。

上記Ｃ_１－６アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖
である。Ｃ_１－６アルキル基は、好ましくはＣ_１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。

上記アリール基は、好ましくはフェニル基である。

一の態様において、Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキル基、好ましくはＣ_１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。

別の態様において、Ｒ^３は、フェニル基である。

別の態様において、Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、メチル基又はフェニル基、好ましくはメチル基である。

上記ａは、２～１５００である。ａは、好ましくは５以上、より好ましくは１０以上、さらに好ましくは１５以上、例えば３０以上、又は５０以上であり得る。ａは、好ましくは１０００以下、より好ましくは５００以下、さらに好ましくは２００以下、さらにより好ましくは１５０以下、例えば１００以下、又は８０以下であり得る。

ａは、好ましくは５～１０００、より好ましくは１０～５００、さらに好ましくは１５～２００、さらにより好ましくは１５～１５０であり得る。

一の態様において、Ｒ^Ｓは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のポリエーテル基である。

上記Ｒ^１は、水素原子、又は炭化水素基である。かかる炭化水素基は、上記Ｒ^３における炭化水素基と同意義である。

Ｒ^１は、好ましくはハロゲン原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキル基又はアリール基、より好ましくはＣ_１－６アルキル基又はアリール基である。

一の態様において、Ｒ^１は、Ｃ_１－６アルキル基、好ましくはＣ_１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。

別の態様において、Ｒ^１は、フェニル基である。

別の態様において、Ｒ^１は、メチル基又はフェニル基、好ましくはメチル基である。

上記ｐ７は、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１である。一の態様において、ｐ７は０である。別の態様においてｐ７は１である。

上記ｑ７は、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１である。一の態様において、ｑ７は０である。別の態様においてｑ７は１である。

一の態様において、ｐ７は０であり、ｑ７は１である。

一の態様において、Ｒ^Ｓ１は、Ｒ^４－Ｒ^Ｅ－Ｏ_ｑ８－であり、Ｒ^Ｓ２は、－Ｒ^５ _ｐ８－Ｒ^Ｅ－Ｏ_ｑ８－である。

Ｒ^Ｅは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のポリエーテル基である。

上記式において、Ｒ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－１６アルキル基である。

上記Ｃ_１－１６アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基である。

上記Ｒ^５は、Ｃ_１－６アルキレン基である。

上記Ｃ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３アルキレン基である。

上記式において、ｐ８は、０又は１である。一の態様において、ｐ８は０である。別の態様においてｐ８は１である。

上記式において、ｑ８は、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１である。一の態様において、ｑ８は０である。別の態様においてｑ８は１である。

一の態様において、ｐ８は０であり、ｑ８は１である。

上記Ｒ^Ｅは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のポリエーテル基である。

Ｒ^Ｅは、好ましくは、式：
－（ＯＣ_６Ｈ_１２）_ａ３－（ＯＣ_５Ｈ_１０）_ｂ３－（ＯＣ_４Ｈ_８）_ｃ３－（ＯＣ_３Ｈ_６）_ｄ３－（ＯＣ_２Ｈ_４）_ｅ３－（ＯＣＨ_２）_ｆ３－
［式中：
ａ３、ｂ３、ｃ３、ｄ３、ｅ３及びｆ３は、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ３、ｂ３、ｃ３、ｄ３、ｅ３及びｆ３の和は１以上である。ａ３、ｂ３、ｃ３、ｄ３、ｅ３又はｆ３を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である。

ａ３、ｂ３、ｃ３、ｄ３、ｅ３及びｆ３は、好ましくは、それぞれ独立して、０～１００の整数であってもよい。

ａ３、ｂ３、ｃ３、ｄ３、ｅ３及びｆ３の和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。ａ３、ｂ３、ｃ３、ｄ３、ｅ３及びｆ３の和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下又は３０以下であってもよい。

これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよい。例えば、－（ＯＣ_６Ｈ_１２）－は、－（ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２）－、－（ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２）－、－（ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２）－、－（ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２）－、－（ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２）－、－（ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３））－等であってもよい。－（ＯＣ_５Ｈ_１０）－は、－（ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２）－、－（ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２）－、－（ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２）－、－（ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２）－、－（ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３））－等であってもよい。－（ＯＣ_４Ｈ_８）－は、－（ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２）－、－（ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２）－、－（ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２）－、－（ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３））－、－（ＯＣ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２）－、－（ＯＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）_２）－、－（ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ（ＣＨ_３））－、－（ＯＣＨ（Ｃ_２Ｈ_５）ＣＨ_２）－及び－（ＯＣＨ_２ＣＨ（Ｃ_２Ｈ_５））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ_３Ｈ_６）－は、－（ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２）－、－（ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２）－及び－（ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ_２Ｈ_４）－は、－（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）－及び－（ＯＣＨ（ＣＨ_３））－のいずれであってもよい。

上記Ｒ^Ｈは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、もしくは１価の有機基が結合したＳｉ原子、又は反応性有機基を含む１価の基であり、少なくとも１つのＲ^Ｈは、水酸基もしくは加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基、あるいはイソシアネート基、エポキシ基、又はビニル基を含む１価の基である。

ここに、「加水分解性基」とは、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、－ＯＲ^ｊ、－ＯＣＯＲ^ｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｊ _２、－ＮＲ^ｊ _２、－ＮＨＲ^ｊ、－ＮＣＯ、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ｊは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）などが挙げられる。

「反応性有機基」は、基材と反応性を有する基、又は他の化合物と反応性を有する基である。

一の態様において、Ｒ^Ｈは、各出現においてそれぞれ独立して、イソシアネート基、エポキシ基、又はビニル基を含む１価の基である。

好ましい態様において、Ｒ^Ｈは、各出現においてそれぞれ独立して、イソシアネート基、エポキシ基、又はビニル基である。

別の態様において、Ｒ^Ｈは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、もしくは１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。

好ましい態様において、Ｒ^Ｈは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。

特に好ましい態様において、Ｒ^Ｈは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）：

で表される基である。

上記式中、Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

Ｒ^１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

Ｒ^１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｊ、－ＯＣＯＲ^ｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｊ _２、－ＮＲ^ｊ _２、－ＮＨＲ^ｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｊは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｊ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｊは、エチル基である。

上記式中、Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^１２において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記式中、ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、Ｒ^Ｈが式（Ｓ１）又は（Ｓ２）で表される基である場合、式（１）及び式（２）の末端のＲ^Ｈ部分（以下、単に式（１）及び式（２）の「末端部分」ともいう）において、ｎ１が１～３である（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ１が同時に０になることはない。換言すれば、式（１）及び式（２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。

ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

上記式中、Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基である。かかる２価の有機基は、好ましくは－Ｒ^２８－Ｏ_ｘ－Ｒ^２９－（式中、Ｒ^２８及びＲ^２９は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又はＣ_１－２０アルキレン基であり、ｘは０又は１である。）である。かかるＣ_１－２０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。かかるＣ_１－２０アルキレン基は、好ましくはＣ_１－１０アルキレン基、より好ましくはＣ_１－６アルキレン基、さらに好ましくはＣ_１－３アルキレン基である。

一の態様において、Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｃ_１－６アルキレン－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン－又は－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン－である。

好ましい態様において、Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は直鎖のＣ_１－６アルキレン基であり、好ましくは単結合又は直鎖のＣ_１－３アルキレン基、より好ましくは単結合又は直鎖のＣ_１－２アルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖のＣ_１－２アルキレン基である。

上記式中、Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基である。かかるＣ_１－２０アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。

好ましい態様において、Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は直鎖のＣ_１－６アルキル基であり、好ましくは水素原子又は直鎖のＣ_１－３アルキル基、好ましくは水素原子又はメチル基である。

上記式中、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数である。

好ましい態様において、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２～１０の整数、好ましくは２～６の整数である。

上記式中、Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１である。かかるハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子又はフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。好ましい態様において、Ｒ^１４は、水素原子である。

上記式中、Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基である。

一の態様において、Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基である。

好ましい態様において、Ｒ^１５は、単結合である。

一の態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１－ａ）である。

［式中、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｘ^１１、及びｎ１は、上記式（Ｓ１）の記載と同意義であり；
ｔ１及びｔ２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上の整数、好ましくは１～１０の整数、より好ましくは２～１０の整数、例えば１～５の整数又は２～５の整数であり；
ｔ１及びｔ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

好ましい態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１－ｂ）である。

［式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｘ^１１、ｎ１及びｔは、上記式（Ｓ１）の記載と同意義である］

上記式中、Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１である。

上記Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）に結合する。

好ましい態様において、Ｚ^１は、２価の有機基である。

好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｚ^１が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

上記Ｚ^１は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－である。Ｚ^１がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^１は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

上記Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’である。

上記Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１’として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）に結合する。

好ましい態様において、Ｚ^１’は、２価の有機基である。

好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｚ^１’が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１’－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

上記Ｚ^１’は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１’－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２’－（式中、ｚ１’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－（式中、ｚ３’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－である。Ｚ^１’がかかる基である場合、得られる層の光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^１’は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

上記Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”である。

上記Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１”として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）に結合する。

好ましい態様において、Ｚ^１”は、２価の有機基である。

好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｚ^１”が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１”－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

上記Ｚ^１”は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２”－（式中、ｚ１”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－（式中、ｚ３”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－である。Ｚ^１”がかかる基である場合、得られる層の光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^１”は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１”は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１”は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

上記Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

上記Ｒ^２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

上記Ｒ^２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｊ、－ＯＣＯＲ^ｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｊ _２、－ＮＲ^ｊ _２、－ＮＨＲ^ｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｊは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｊ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｊは、エチル基である。

上記Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

上記Ｒ^２３”において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ１”とｒ１”の合計は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位において、３である。

上記ｑ１”は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

上記Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

Ｒ^２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

Ｒ^２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｊ、－ＯＣＯＲ^ｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｊ _２、－ＮＲ^ｊ _２、－ＮＨＲ^ｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｊは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｊ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｊは、エチル基である。

上記Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^２３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ’、ｑ１’とｒ１’の合計は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位において、３である。

一の態様において、ｐ１’は、０である。

一の態様において、ｐ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１’は、３である。

一の態様において、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

一の態様において、ｐ１’は０であり、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

上記Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

Ｒ^２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

Ｒ^２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｊ、－ＯＣＯＲ^ｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｊ _２、－ＮＲ^ｊ _２、－ＮＨＲ^ｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｊは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｊ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｊは、エチル基である。

上記Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^２３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ１、ｑ１とｒ１の合計は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位において、３である。

一の態様において、ｐ１は、０である。

一の態様において、ｐ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１は、３である。

一の態様において、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

一の態様において、ｐ１は０であり、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

上記式中、Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

上記Ｒ^ｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

上記Ｒ^ｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｊ、－ＯＣＯＲ^ｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｊ _２、－ＮＲ^ｊ _２、－ＮＨＲ^ｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｊは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｊ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｊは、エチル基である。

上記式中、Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

上記Ｒ^ｃ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ１、ｌ１とｍ１の合計は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位において、３である。

一の態様において、ｋ１は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。好ましい態様において、ｋ１は、３である。

上記式（１）及び（２）において、Ｒ^Ｈが式（Ｓ３）で表される基である場合、好ましくは、式（１）及び式（２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

好ましい態様において、式（Ｓ３）で表される基は、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１（式中、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１は、０～２の整数である。）、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’（式中、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１’は、０～２の整数である。）、又は－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”（式中、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１”は、０～２の整数である。）のいずれか１つを有する。Ｚ^１、Ｚ^１’、Ｚ^１”、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２２’、Ｒ^２３’、Ｒ^２２”、及びＲ^２３”は、上記と同意義である。

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^２１’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１’において、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^２１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１において、ｐ１’は、０であり、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^ａ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｐ１は、０であり、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、ｋ１は２又は３、好ましくは３であり、ｐ１は０であり、ｑ１は２又は３、好ましくは３である。

Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２である。

Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^２として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）に結合する。

好ましい態様において、Ｚ^２は、２価の有機基である。

上記Ｚ^２は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６－（式中、ｚ５は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－（式中、ｚ７は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^２は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－である。Ｚ^２がかかる基である場合、得られる層の光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^２は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’である。

Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^２’として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）に結合する。

上記Ｚ^２’は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５’－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６’－（式中、ｚ５’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－（式中、ｚ７’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^２’は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－である。Ｚ^２’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^２’は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^２’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

上記Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。

上記Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^３として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）に結合する。

一の態様において、Ｚ^３は酸素原子である。

一の態様において、Ｚ^３は２価の有機基である。

上記Ｚ^３は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^３は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－である。Ｚ^３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^３は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

上記Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

Ｒ^３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

Ｒ^３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｊ、－ＯＣＯＲ^ｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｊ _２、－ＮＲ^ｊ _２、－ＮＨＲ^ｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｊは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｊ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｊは、エチル基である。

上記Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

上記Ｒ^３５において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記式中、ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、Ｒ^Ｈが式（Ｓ４）で表される基である場合、式（１）及び式（２）の末端部分において、ｎ２が１～３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ２が同時に０になることはない。換言すれば、式（１）及び式（２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。

ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

上記Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

上記Ｒ^３３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基又は－（Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ１－（Ｏ－Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。

一の態様において、Ｒ^３３’は、水酸基である。

別の態様において、Ｒ^３３’は、１価の有機基、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

上記ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ２’とｒ２’の合計は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位において、３である。

ｑ２’は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。かかる－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

上記Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

上記Ｒ^３３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基又は－（Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ１－（Ｏ－Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。

一の態様において、Ｒ^３３は、水酸基である。

別の態様において、Ｒ^３３は、１価の有機基、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

上記ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ２、ｑ２及びｒ２の合計は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位において、３である。

一の態様において、ｐ２は、０である。

一の態様において、ｐ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ２は、３である。

一の態様において、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

一の態様において、ｐ２は０であり、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

上記Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。かかる－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

上記Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

上記Ｒ^ｆ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基又は－（Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ１－（Ｏ－Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。

一の態様において、Ｒ^ｆ１は、水酸基である。

別の態様において、Ｒ^ｆ１は、１価の有機基、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

上記ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ２、ｌ２及びｍ２の合計は、（ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２）単位において、３である。

上記式（１）及び（２）において、Ｒ^Ｈが式（Ｓ４）で表される基である場合、好ましくは、式（１）及び式（２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

一の態様において、Ｒ^Ｈが式（Ｓ４）で表される基である場合、ｎ２が１～３、好ましくは２又は３、より好ましくは３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位は、式（１）及び式（２）の各末端部分において、２個以上、例えば２～２７個、好ましくは２～９個、より好ましくは２～６個、さらに好ましくは２～３個、特に好ましくは３個存在する。

好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^３２’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２’において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^３２が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^ｅ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ４）において、ｋ２は０であり、ｌ２は２又は３、好ましくは３であり、ｎ２は、２又は３、好ましくは３である。

上記Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２である。ここに、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^ａ１、Ｒ^ｂ２、Ｒ^ｃ１、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｅ１、Ｒ^ｆ１、ｎ１、ｋ１、ｌ１、ｍ１、ｋ２、ｌ２、及びｍ２は、上記と同意義である。

好ましい態様において、Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１である。

上記Ｚ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^４として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）に結合する。

一の態様において、Ｚ^４は酸素原子である。

一の態様において、Ｚ^４は２価の有機基である。

上記Ｚ^４は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^４は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－である。Ｚ^３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^４は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^４は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^４は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

一の態様において、Ｒ^Ｈは、式（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）で表される基である。これらの化合物は、高い表面滑り性を有する表面処理層を形成することができる。

一の態様において、Ｒ^Ｈは、式（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に複数の加水分解性基を有することから、基材に強く密着し、高い摩耗耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

一の態様において、Ｒ^Ｈは、式（Ｓ３）又は（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に、一のＳｉ原子又はＣ原子から分岐した複数の加水分解性基を有し得ることから、さらに高い摩耗耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

一の態様において、Ｒ^Ｈは、式（Ｓ１）で表される基である。

一の態様において、Ｒ^Ｈは、式（Ｓ２）で表される基である。

一の態様において、Ｒ^Ｈは、式（Ｓ３）で表される基である。

一の態様において、Ｒ^Ｈは、式（Ｓ４）で表される基である。

一の態様において、Ｒ^Ｈは、式（Ｓ５）で表される基である。

Ｘ^Ａは、主に撥液性、滑液性を提供する部（Ｒ^Ｓ１又はＲ^Ｓ２）と基材との結合能を提供する部（Ｒ^Ｈ）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^Ａは、式（１）及び（２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であってもよく、いずれの基であってもよい。

上記式（１）において、α２は１～９の整数であり、β２は１～９の整数である。これらα２及びβ２は、Ｘ^Ａの価数に応じて変化し得る。α２及びβ２の和は、Ｘ^Ａの価数と同じである。例えば、Ｘ^Ａが１０価の有機基である場合、α２及びβ２の和は１０であり、例えばα２が９かつβ２が１、α２が５かつβ２が５、又はα２が１かつβ２が９となり得る。また、Ｘ^Ａが２価の有機基である場合、α２及びβ２は１である。

上記式（２）において、γ２は１～９の整数である。γ２は、Ｘ^Ａの価数に応じて変化し得る。即ち、γ２は、Ｘ^Ａの価数から１を引いた値である。

Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基である。

上記Ｘ^Ａにおける２～１０価の有機基は、好ましくは２～８価の有機基である。一の態様において、かかる２～１０価の有機基は、好ましくは２～４価の有機基であり、より好ましくは２価の有機基である。別の態様において、かかる２～１０価の有機基は、好ましくは３～８価の有機基、より好ましくは３～６価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^Ａは、単結合又は２価の有機基であり、α２、β２、及びγ２は１である。

一の態様において、Ｘ^Ａは３～６価の有機基であり、α２は１であり、β２は２～５であり、γは２～５である。

一の態様において、Ｘ^Ａは、３価の有機基であり、α２は１であり、β２は２である。

一の態様において、Ｘ^Ａは単結合である。

別の態様において、Ｘ^Ａは２価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^Ａとしては、例えば、単結合又は下記式：
－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－
［式中：
Ｒ^５１は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｓ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、好ましくは－（ＣＨ_２）_ｓ５－であり、
ｓ５は、１～２０の整数、好ましくは１～１５の整数、より好ましくは１～１０の整数、さらにより好ましくは１～６の整数、例えば１～３の整数であり、あるいは、１～２０の整数、好ましくは４～１５の整数、より好ましくは７～１３の整数であり、
Ｘ^５１は、－（Ｘ^５２）_ｌ５－であり、
Ｘ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基であり、
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、又は１価の有機基であり、好ましくは水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
ｎ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～１５の整数、より好ましくは１～１０の整数、さらにより好ましくは１～６の整数、例えば１～３の整数であり、
ｌ５は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｐ５は、０又は１であり、
ｑ５は、０又は１であり、
ここに、ｐ５及びｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５又はｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の有機基が挙げられる。ここに、Ｘ^Ａ（典型的にはＸ^Ａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基及びＣ_１－３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｘ^Ａは、これらの基により置換されていない。

上記炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基は、－Ｏ－Ｃ_１－１０アルキレン－を含む基であり、例えば、－Ｒ^５５－（－Ｏ－Ｃ_１－１０アルキレン）_ｎ－Ｒ^５６（式中、Ｒ^５５は、単結合又は２価の有機基、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｎは任意の整数、好ましくは２～１０の整数であり、Ｒ^５６は、水素原子又は１価の有機基、好ましくはＣ_１－６アルキル基である。）である。上記アルキレン基は、直鎖であっても分岐鎖であってもよい。

好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－Ｒ^５２－である。Ｒ^５２は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｔ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、好ましくは－（ＣＨ_２）_ｔ５－である。ｔ５は、１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。ここに、Ｒ^５２（典型的にはＲ^５２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基及びＣ_１－３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｒ^５６は、これらの基により置換されていない。

好ましくは、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ_１－２０アルキレン基、又は
－Ｒ^５１－Ｘ^５３－Ｒ^５２－
［式中、Ｒ^５１及びＲ^５２は、上記と同意義であり、
Ｘ^５３は、
－Ｏ－、
－Ｓ－、
－ＣＯ－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、
－ＣＯＮＲ^５４－、
－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯＮＲ^５４－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯ－、又は
－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_u５－Ｎ（Ｒ^５４）－、
（式中、Ｒ^５４は、上記と同意義であり、
ｕ５は１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。）である。］
であり得る。

より好ましくは、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－、
－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－、又は
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、Ｘ^５３、ｓ５及びｔ５は、上記と同意義である。］
である。

好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－、
－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－又は
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、
Ｘ^５３は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯＮＲ^５４－、又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯ－であり、
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
ｓ５、ｔ５、及びｕ５は、上記と同意義である。］
であり得る。

好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｔ５－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_ｔ５－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯ－、又は
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
ｓ５、ｔ５、及びｕ５は、上記と同意義である。］
であり得る。

上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基及びＣ_１－３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基）から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。一の態様において、Ｘ^Ａは、非置換である。

尚、上記Ｘ^Ａは、各式の左側がＲ^Ｓ１又はＲ^Ｓ２に結合し、右側がＲ^Ｈに結合する。

別の態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、３～１０価の有機基であり得る。

さらに別の態様において、Ｘ^Ａの例として、下記：

［式中、Ｘ^ａは、それぞれ独立して、単結合または２価の有機基である。］
で表される基が挙げられる

上記Ｘ^ａは、イソシアヌル環に直接結合する単結合または二価の連結基である。Ｘ^ａとしては、単結合、アルキレン基、または、エーテル結合、エステル結合、アミド結合及びスルフィド結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む二価の基が好ましく、単結合、炭素数１～１０のアルキレン基、または、エーテル結合、エステル結合、アミド結合及びスルフィド結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む炭素数１～１０の二価の炭化水素基がより好ましい。

Ｘ^ａとしては、下記式：
－（ＣＸ^１２１Ｘ^１２２）_ｘ１－（Ｘ^ａ１）_ｙ１－（ＣＸ^１２３Ｘ^１２４）_ｚ１－
（式中、Ｘ^１２１～Ｘ^１２４は、それぞれ独立して、Ｈ、ＯＨ、または、－ＯＳｉ（ＯＲ^１２１）_３（式中、３つのＲ^１２１は、それぞれ独立して、炭素数１～４のアルキル基である。）であり、
上記Ｘ^ａ１は、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＲ^１２１－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^１２１－、－ＮＲ^１２１－Ｃ（＝Ｏ）－、またはＳであり（各結合の左側がＣＸ^１２１Ｘ^１２２に結合する。）、
Ｒ^１２１はＣ_１－６の炭化水素鎖であり、
ｘ１は０～１０の整数であり、ｙ１は０または１であり、ｚ１は１～１０の整数である。）
で表される基が更に好ましい。

上記Ｘ^ａ１としては、－Ｏ－または－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－が好ましい。

上記Ｘ^ａとしては、下記式：
－（ＣＨ_２）_ｍ１２－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｍ１３－
（式中、ｍ１２は１～１０の整数であり、ｍ１３は１～１０の整数である。）
で表される基、
－（ＣＨ_２）_ｍ１５－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）－（ＣＨ_２）_ｍ１６－
（式中、ｍ１５は１～１０の整数であり、ｍ１６は１～１０の整数である。）
で表される基、
－（ＣＨ_２）_ｍ１８－
（式中、ｍ１８は１～１０の整数である。）
で表される基、又は
－（ＣＨ_２）_ｍ２０－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_３）－（ＣＨ_２）_ｍ２１－
（式中、ｍ２０は１～１０の整数であり、ｍ２１は１～１０の整数である。）
で表される基
で表される基が特に好ましい。

上記Ｘ^ａとして、特に限定されないが、－ＣＨ_２－、－Ｃ_２Ｈ_４－、－Ｃ_３Ｈ_６－、－Ｃ_４Ｈ_８－、－Ｃ_４Ｈ_８－Ｏ－ＣＨ_２－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２－、―Ｓ－、－ＮＲ^１２１－、―（ＣＨ_２）_ｍ２２－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｍ２３－、―（ＣＨ_２）_ｍ２２－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－（ＣＨ_２）_ｍ２３－、―（ＣＨ_２）_ｍ２２－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^１２１－（ＣＨ_２）_ｍ２３－、―（ＣＨ_２）_ｍ２２－ＮＲ^１２１－Ｃ（＝Ｏ）－（ＣＨ_２）_ｍ２３－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_３）ＣＨ_２－
（式中Ｒ^１２１は、Ｃ_１－６炭化水素鎖であり、ｍ２２は１～１０の整数であり、ｍ２３は１～１０の整数である。）
等が挙げられる。

上記式（１）又は（２）で表される化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０^２～１×１０^５の数平均分子量を有し得る。上記式（１）又は（２）で表される化合物は、好ましくは１，０００～３０，０００、より好ましくは１，５００～１０，０００の数平均分子量を有することが、摩耗耐久性の観点から好ましい。なお、かかる「数平均分子量」は、^１Ｈ－ＮＭＲにより測定される値とする。

上記化合物は、例えば、オルガノシロキサン基を有する化合物と、加水分解性シラン基を有する化合物とを反応させることにより得ることができる。

例えば、下記式：
Ｒ^６１－ＣＯＯＨ
［式中、Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基である。］
で表される化合物を、下記式：
ＮＨ_２－Ｒ^６２
［式中、Ｒ^６２は、アリル基含有基である。］
で表される化合物と反応させて、下記式：
Ｒ^６１－ＣＯＮＨ－Ｒ^６３－Ｒ^６４ _ｎ
［式中、
Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｒ^６３は、（ｎ＋１）価のリンカー基であり、
Ｒ^６４は、アリル基である。］
を得る。次いで、得られたアリル化合物を、
ＨＳｉＲ^６５ _ｍＲ^６６ _３－ｍ
［式中、
Ｒ^６５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ^６６は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり、
ｍは、１～３である。］
で表される化合物と反応させることにより、式（１）で表される化合物を得ることができる。

別の方法として、下記スキームに従って、Ｒ^６１－ＣＯＯＨから、オキサジアゾール化合物を得、原料として用いることにより、式（１）で表される化合物を得ることができる。例えば、Ｒが末端にアリル基を有する場合、上記のようにＨＳｉＲ^６５ _ｍＲ^６６ _３－ｍを反応させることにより、式（２）で表される化合物を得ることができる。

［式中：
Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｒは、末端に官能基を含んでいてもよい、アルキル、又はアリ－ルであり、
上記官能基は、エステルなどのカルボン酸誘導体（例えば、アリル、エステル、アミド、カルボン酸、酸無水物、酸クロリド、ニトリル）、アミン、エポキシド、ベンゼン環、アルコール、又は不飽和結合である。］

別の方法として、下記式：
Ｒ^６１－ＣＷ_ｍＸ_３－ｍ
［式中：
Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｘは、加水分解性基であり、
Ｗは、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり、
ｍは、１～３である。］
で表される化合物を、下記式：
Ｍ－Ｒ^６２
［式中：
Ｍは、金属含有基、例えばＬｉ、ハロゲン－Ｍｇ、Ｚｎであり、
Ｒ^６２は、アリル基含有基である。］
で表される化合物と反応させて、下記式：
Ｒ^６１－ＣＷ_ｍ（－Ｒ^６３－Ｒ^６４）_３－ｍ
［式中：
Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｒ^６３は、２価の基であり、
Ｒ^６４は、アリル基であり、
Ｗは、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり、
ｍは、１～３である。］
を得る。次いで、得られたアリル化合物を、
ＨＳｉＲ^６５ _ｍＲ^６６ _３－ｍ
［式中、
Ｒ^６５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ^６６は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり、
ｍは、１～３である。］
で表される化合物と反応させることにより、式（１）で表される化合物を得ることができる。

別の方法として、下記式：
Ｒ^６１－ＣＯＲ^６７
［式中：
Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｒ^６７は、ＯＨ、又はハロゲン元素、ＮＲ_２、－ＯＣＯＲ’、アルコキシ基などの加水分解性基であり、
Ｒは、それぞれ独立して、水素原子またはアルキル基であり、
Ｒ’は、水素原子またはアルキル基である。］
で表される化合物と、
Ｍ－Ｒ^６２
［式中：
Ｍは、金属含有基、例えばＬｉ、ハロゲン－Ｍｇ、又はＺｎであり、
Ｒ^６２は、アリル基含有基である。］
で表される化合物と反応させて、下記式：
Ｒ^６１－Ｃ（ＯＨ）（－Ｒ^６３－Ｒ^６４）_２
［式中：
Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｒ^６３は、２価の基であり、
Ｒ^６４は、アリル基である。］
で表される化合物を得る。得られた化合物を、下記式：
Ｌ－Ｒ^６２
［式中：
Ｌは、脱離基であり、
Ｒ^６２は、アリル基含有基である。］
である化合物と反応させて、
Ｒ^６１－Ｃ（－Ｏ－Ｒ^６３－Ｒ^６４）（－Ｒ^６３－Ｒ^６４）_２
［式中：
Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｒ^６３は、２価の基であり、
Ｒ^６４は、アリル基である。］
で表される化合物を得る。次いで、得られたアリル化合物を、
ＨＳｉＲ^６５ _ｍＲ^６６ _３－ｍ
［式中、
Ｒ^６５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ^６６は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり、
ｍは、１～３である。］
で表される化合物と反応させることにより、式（１）で表される化合物を得ることができる。

別の方法として、下記式：
Ｒ^６１－ＣＨ＝ＣＨ_２
［式中：Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基である。］
で表される化合物と、下記式
Ｈ－ＳｉＸ_３
［式中、Ｘは加水分解性基である。］
とを反応させて、下記式：
Ｒ^６１－ＣＨ_２ＣＨ_２ＳｉＸ_３
で表される化合物を得る。次いで、得られた化合物を、
Ｍ－Ｒ^６２
［式中、
Ｍは、金属含有基、例えばＬｉ、ハロゲン－Ｍｇ、又はＺｎであり、
Ｒ^６２は、アリル基含有基である。］
で表される化合物と反応させて、下記式：
Ｒ^６１－ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（－Ｒ^６３－Ｒ^６４）_３
［式中：
Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｒ^６３は、２価の基であり、
Ｒ^６４は、アリル基である。］
を得る。続いてアリル化合物を得る。次いで、得られたアリル化合物を、
ＨＳｉＲ^６５ _ｍＲ^６６ _３－ｍ
［式中、
Ｒ^６５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ^６６は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり、
ｍは、１～３である。］
で表される化合物と反応させることにより、式（１）で表される化合物を得ることができる。

上記の反応において、Ｒ^６１－ＣＨ＝ＣＨ_２は、酸化剤と反応させることにより、エポキシ化合物とし、かかるエポキシ化合物を用いて、本開示の式（１）で表される化合物を得ることができる。

さらに、Ｒ^６１－ＣＨ＝ＣＨ_２は、ＨＳＲで表されるチオール化合物と反応させて、Ｒ^６１－ＣＨ_２－ＣＨ_２－ＳＲ又はＲ^６１－ＣＨ（ＳＲ）－ＣＨ_３で表されるチオ化合物とし、かかるチオ化合物を用いて、本開示の式（１）で表される化合物を得ることができる。ここに、Ｒは、任意の基である。

さらに、下記スキームに示す通り、Ｒ^６１－ＣＨ＝ＣＨ_２は、ジエンと反応させて、環状化合物とし、かかる環状化合物を用いて、本開示の式（１）で表される化合物を得ることができる。

［式中、Ｒは、それぞれ独立して、炭化水素、水素原子、または酸素原子、窒素原子、又は、－ＣＯＲ’である。Ｒ’は、任意の基である。］

さらに、下記スキームに示す通り、Ｒ^６１－ＣＨ＝ＣＨ_２は、ジボラン、ボランジメチルスルフィド錯体、９－ボラビシクロ［３，３，１］－ノナン等のホウ素試薬と反応させて、次いで、得られたボラン誘導体をアルコール化合物に変換し、かかるアルコール化合物を用いて、本開示の式（１）で表される化合物を得ることができる。

［式中、Ｒは、それぞれ独立して、水素原子、又は炭化水素基である。］

別の方法として、下記式：
Ｒ^６１－ＳｉＷ^２－Ｈ
［式中、
Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｗは、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基である。］
で表される化合物と、下記式：
Ｈ_２Ｃ＝ＣＨ－Ｒ^６７
［Ｒ^６７は、アミド、カルボン酸、酸無水物、酸クロリド、ニトリル、アミン、エポキシド、ベンゼン環、アルコール等の官能基含有基である。］
とを反応させて、下記式：
Ｒ^６１－ＳｉＸ_２－ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｒ^６７
で表される化合物を得ることができる。かかる化合物を、原料として、上記の反応を適宜利用して、式（１）で表される化合物を得ることができる。

別の方法として、下記式：
Ｒ^６１－ＣＨ_２ＮＲ^６８Ｈ
［式中、Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｒ^６８は、任意の基である。］
で表される化合物を下記式
ＨＯＣＯ－Ｒ^６９
［式中、Ｒ^６９は、二重結合基含有基である。］
で表される化合物と反応させて下記式：
Ｒ^６１－ＣＨ_２ＮＲ^６８ＣＯ－Ｒ^６９
を得る。かかる化合物を、原料として、Ｒ^６９内に含まれる二重結合に対して上記のヒドロシリル化反応を行うことにより、式（１）で表される化合物を得ることができる。

別の方法として、下記式：
Ｒ^６１－ＣＨ_２ＮＨ_２
［式中、Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基である。］
で表される化合物を、
Ｒ^７０－ＣＯＯＨ
［式中、Ｒ^７０は、二重結合、アミド、カルボン酸、酸無水物、酸クロリド、ニトリル、アミン、エポキシド、ベンゼン環、アルコール等の官能基含有基である。］
で表される化合物と反応させて、
Ｒ^６１－ＣＨ_２ＮＨＣＯ－Ｒ^７０
が得られ、かかる化合物を原料として、式（１）で表される化合物を得ることができる。

別の方法として、下記スキームに示すように、エポキシ化合物と、下記に示すような化合物とを反応させて得られる化合物を原料として、式（１）で表される化合物を得ることができる。

［式中、
Ｒ^６１は、オルガノシロキサン基含有基であり、
Ｒ^１は、水素原子、またはアルキル基であり、
Ｒ^２は、水素原子、またはアルキル基であり、
Ｒは、末端に官能基を含んでいてもよい、炭化水素基であり、
上記官能基は、エステルなどのカルボン酸誘導体（例えば、エステル、アミド、カルボン酸、酸無水物、酸クロリド、ニトリル）、アミン、エポキシド、ベンゼン環、アルコール、又は不飽和結合である。］

別の方法として、下記スキームに従って、Ｒ^６１－ＣＨ_２Ｘとイソシアヌル酸とを、適切な塩基（水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、カリウムｔ－ブトキシド、金属ヘキサメチルジシラジドなど）の存在下で反応させて、置換イソシアヌレート化合物を得ることができる。ここに、Ｘは脱離性官能基であり、例えば、クロリド、ブロミド、ヨージド。パラトルエンスルホナート、トリフルオロメタンスルホナート、カルボキシラートが挙げられる。

上記ヒドロシリル化は、好適には、遷移金属触媒を用いて行われる。かかる遷移金属触媒としては、第８族～１０族遷移金属触媒が好ましく、中でも、白金触媒、ルテニウム触媒、ロジウム触媒等が挙げられる。中でも、白金触媒が好ましい。白金触媒としては、Ｐｔ／ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、Ｐｔ／テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン錯体、塩化白金酸、酸化白金等が挙げられる。中でも、Ｐｔ／ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体およびＰｔ／テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン錯体のいずれかが好ましい。

上記遷移金属触媒の使用量は、反応対象である二重結合を有する化合物に対する質量比が、０．１～１，０００ｐｐｍであることが好ましく、１～１００ｐｐｍであることが特に好ましい。上記の使用量とすることにより、適切に反応が進行し、触媒に起因する着色を抑制することができる。

好ましい態様において、上記触媒、特に白金触媒と、含窒素化合物、又は含硫黄化合物とを併用する。これらの化合物は１種を使用しても、２種以上を使用してもよい。

上記含窒素化合物としては、脂肪族アミン化合物、トリエチルアミン、芳香族アミン化合物（アニリン、ピリジン等）、リン酸アミド（ヘキサメチルホスホルアミド等）、アミド化合物（Ｎ，Ｎ－ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等。）、尿素化合物（テトラメチル尿素等。）、環状アミド化合物（Ｎ－メチルピロリドン等。）等が挙げられる。含窒素化合物の中でも後述するドナー数の高い化合物が好ましく、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、リン酸アミド、尿素化合物が好ましい。また、含窒素化合物の塩基性が高いと、加水分解性基の加水分解や縮合反応等の副反応が進行しやすくなるため、塩基性は低いかまたは中性の化合物がよい。このような点から芳香族アミン化合物、リン酸アミド、尿素化合物が好ましい。

上記含硫黄化合物としては、スルホキシド化合物（テトラメチレンスルホキシド、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。

上記の化合物としては、芳香族アミン化合物およびスルホキシド化合物の１種以上が好ましく、テトラメチレンスルホキシド、又はジメチルスルホキシドの１種以上が特に好ましい。

上記の含窒素化合物および含硫黄化合物は、いずれもドナー数が大きい。ドナー数とは、溶媒パラメータの一つであり、電子（対）供与性の尺度である。ドナー数が大きい化合物を上記遷移金属触媒と併用すると、遷移金属触媒中の遷移金属にかかる化合物が配位し、そのため、二重結合を有する化合物の遷移金属への配位が制御されるものと考えられる。その結果、特定組成を有する組成物が得られる。

ここに、ドナー数は、含窒素化合物又は含硫黄化合物と、ＳｂＣｌ_５とが１：１付加体を形成するときの熱量であり、種々の化合物のドナー数、ドナー数の算出方法等は、たとえば、下記参考文献（１）および（２）等に開示されている。（１）Ｐｕｒｅ＆Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，Ｖｏｌ．４１，Ｎｏ．３，ｐｐ．２９１－３２６，１９７５。（２）Ｐｕｒｅ＆Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，Ｖｏｌ．５８，Ｎｏ．８，ｐｐ．１１５３－１１６１，１９８６。

上記含窒素化合物又は含硫黄化合物の使用量は、二重結合を有する化合物の１００質量部に対して、０．００１～１，０００質量部が好ましく、０．０１～１０質量部が特に好ましい。また、遷移金属触媒と含窒素化合物又は含硫黄化合物の使用量の質量比率（含窒素化合物又は含硫黄化合物：遷移金属触媒）は、１０：１～１０，０００：１が好ましく、２０：１～１，０００：１が特に好ましい。

一の態様において、本開示の組成物は、式（１）で表される化合物を含む。

一の態様において、本開示の組成物は、式（１）で表される化合物を含み、式（２）で表される化合物を含まない。

別の態様において、本開示の組成物は、式（１）で表される化合物、及び式（２）で表される化合物を含む。

本開示の組成物が式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物を含む場合、式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対して、式（２）で表される化合物は、好ましくは３５モル％以下、より好ましくは３０モル％以下、さらに好ましくは２０モル％以下、さらにより好ましくは１５モル％以下、特に好ましくは１０モル％以下、例えば５モル％以下、３モル％以下、１モル％以下、又は０．１モル％以下であり得る。式（２）で表される化合物の量を上記の範囲とすることにより、撥水性及び滑液性に優れた層を得ることができる。また、式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対して、式（２）で表される化合物は、例えば、０．０１モル％以上、０．１モル％以上、０．２モル％以上、０．５モル％以上、１モル％以上、２モル％以上、又は５モル％以上であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物は、好ましくは０．０１モル％以上３５モル％以下、より好ましくは０．０１モル％以上３０モル％以下、さらに好ましくは０．０１モル％以上２０モル％以下、さらにより好ましくは０．０１モル％以上１０モル％以下、例えば、０．１モル％以上３０モル％以下、０．２モル％以上２０モル％以下、０．５モル％以上１０モル％以下であり得る。

（組成物）
本開示の組成物において、成分（Ａ）架橋性化合物と成分（Ｂ）非フッ素撥液性化合物の合計に対する、非フッ素撥液性化合物（Ｂ）の含有量は、好ましくは０．１質量％以上、より好ましくは０．５質量％以上、さらに好ましくは１．０質量％以上、例えば、５．０質量％以上、１０．０質量％以上、又は１５．０質量％以上であり得る。また、成分（Ａ）架橋性化合物と成分（Ｂ）非フッ素撥液性化合物の合計に対する、非フッ素撥液性化合物（Ｂ）の含有量は、好ましくは９０．０質量％以下、より好ましくは５０．０質量％以下、さらに好ましくは３０．０質量％以下、特に好ましくは２０．０質量％以下、例えば１５．０質量％以下、１０．０質量％以下、５．０質量％以下、又は３．０質量％以下であり得る。

一の態様において、本開示の組成物中の、成分（Ａ）架橋性化合物と成分（Ｂ）非フッ素撥液性化合物の合計に対する、非フッ素撥液性化合物（Ｂ）の含有量は、好ましくは０．１～９０．０質量％、より好ましくは０．５～５０．０質量％、さらに好ましくは１．０～３０．０質量％、例えば０．１～３０．０質量％、０．１～２０．０質量％、０．１～１５．０質量％、０．５～３０．０質量％、０．５～２０．０質量％、０．５～１５．０質量％、１．０～２０．０質量％、又は０．１～１５．０質量％であり得る。

本開示の組成物から形成された層の水の転落角は、好ましくは６０°以下、より好ましくは５０°以下、さらに好ましくは３０°以下、さらにより好ましくは２５°以下、特に好ましくは２０°以下であり得る。本開示の組成物から形成された層の水の転落角の下限は、特に限定されないが小さいほど好ましくは、例えば、１°以上、５°以上、又は１０°以上であり得る。

本開示の組成物から形成された層のヘキサデカンの転落角は、好ましくは３５°以下、より好ましくは３０°以下、さらに好ましくは２５°以下、さらにより好ましくは２０°以下であり得る。本開示の組成物から形成された層の水の転落角の下限は、特に限定されないが小さいほど好ましくは、例えば、１°以上、５°以上、又は１０°以上であり得る。

転落角の測定方法
水平に置いた表面処理試料の表面処理層側にマイクロシリンジから液を滴下し、毎秒２°の速度で９０°まで傾斜をつけて液滴の様子を観察し、液滴が５ｍｍ移動した角度を転落角度とする。液滴量は、水については２０μＬ、ヘキサデカンについては５μＬとする。

本開示の組成物は、さらに、有機溶媒、水、及び触媒から選択される１種又はそれ以上の他の成分を含有し得る。

一の態様において、本開示の組成物は、Ｒ^７１ＯＲ^７２、Ｒ^７３ _ｎ８Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８、Ｒ^７４Ｒ^７５Ｒ^７６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ８－Ｒ^７９、及び（ＯＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ９
［式中
Ｒ^７１～Ｒ^７９は、それぞれ独立して、炭素数１～１０個の一価の有機基であり、
ｍ８は、１～６の整数であり、
ｍ９は、３～８の整数であり、
ｎ８は、０～６の整数である。］
で表される化合物から選択される溶媒を含み得る。

上記炭素数１～１０個の一価の有機基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、さらに環状構造を含んでいてもよい。

一の態様において、上記炭素数１～１０個の一価の有機基は、酸素原子、窒素原子、又はハロゲン原子を含んでいてもよい。

別の態様において、上記炭素数１～１０個の一価の有機基は、ハロゲン原子を含まない。

好ましい態様において、上記炭素数１～１０個の一価の有機基は、ハロゲンにより置換されていてもよい炭化水素基、好ましくはハロゲンにより置換されていない炭化水素基である。

一の態様において、上記炭化水素基は、直鎖である。

別の態様において、上記炭化水素基は、分枝鎖である。

別の態様において、上記炭化水素基は、環状構造を含む。

一の態様において、上記溶媒は、Ｒ^７１ＯＲ^７２である。

Ｒ^７１及びＲ^７２は、それぞれ独立して、好ましくは炭素数１～８の炭化水素基、より好ましくはＣ_１－６のアルキル基、又はＣ_５－８のシクロアルキル基であり得る。

一の態様において、上記溶媒は、Ｒ^７３ _ｎ８Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８である。

Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８は、ｎ８価のベンゼン環である。即ち、Ｒ^７３ _ｎ８Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８は、ｎ８個のＲ^７３により置換されたベンゼンである。

Ｒ^７３は、それぞれ独立して、ハロゲン、又はハロゲンにより置換されていてもよいＣ_１－６のアルキル基であり得る。

ｎ８は、好ましくは１～３の整数である。

一の態様において、上記溶媒は、Ｒ^７４Ｒ^７５Ｒ^７６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ８－Ｒ^７９である。

一の態様において、上記溶媒は、（ＯＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ９である。（ＯＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ９は、複数のＯＳｉＲ^７７Ｒ^７８単位が環状に結合することにより形成される環状シロキサンである。

Ｒ^７４～Ｒ^７９は、それぞれ独立して、水素原子、又はＣ_１－６のアルキル基、好ましくはＣ_１－６のアルキル基、より好ましくはＣ_１－３のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

ｍ８は、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～５の整数であり、さらに好ましくは1～２であ。

ｍ９は、好ましくは３～６の整数、より好ましくは３～５の整数である。

一の態様において、上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類；ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン等のシロキサン類；１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン、１，２－ジクロロ－１，１，２，２－テトラフルオロエタン、ジメチルスルホキシド、１，１－ジクロロ－１，２，２，３，３－ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、ゼオローラＨ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、ＨＦＥ７１００、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＨ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、（ＣＦ_３）_２ＣＨＯＨ等のフッ素含有溶媒等が挙げられる。あるいはこれらの２種以上の混合溶媒等が挙げられる。なかでも、グリコールエーテル類、アルコール類、エーテルアルコール類、シロキサン類が好ましい。例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサンが好ましい。

上記有機溶媒は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

上記有機溶媒は組成物中に、好ましくは１０～９９質量％、より好ましくは３０～９５質量％、さらに好ましくは５０～９５質量％の範囲で用いられる。

上記触媒としては、酸（例えば塩酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

上記触媒は、本開示の組成物の加水分解及び脱水縮合を促進し、表面処理反応を促進する。

本開示の組成物は、好ましくは表面処理剤である。

以下、本開示の物品について説明する。

一の態様において、本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示の組成物より形成された層（表面処理層）とを含む。

別の態様において、本開示の物品は、基剤と、成分（Ａ）：架橋性化合物、及び成分（Ｂ）：非フッ素撥液性化合物を含む、上記した本開示の組成物から形成された層（表面処理層）とを含み、
下記式：
Ｐ^ｂ－Ｐ^ｃ＞０
［式中：
Ｐ^ｂは、上記非フッ素撥液性化合物から形成された層の表面自由エネルギーにおける極性成分比の値であり、
Ｐ^ｃは、上記組成物から形成された層の表面自由エネルギーにおける極性成分比の値である。］
を満たす。

Ｐ^ｂ－Ｐ^ｃの値は、好ましくは３．０以上、より好ましくは５．０以上、さらに好ましくは８．０以上であり得る。Ｐ^ｂ－Ｐ^ｃの値をかかる範囲とすることにより、層の撥液性及び滑液性が高くなる。

別の態様において、本開示の物品は、基剤と、成分（Ａ）：架橋性化合物、及び成分（Ｂ）：非フッ素撥液性化合物を含む、上記した本開示の組成物から形成された層（表面処理層）とを含み、上記層の表面自由エネルギーにおける極性成分比は、２５．０％以下である。

上記層の表面自由エネルギーにおける極性成分比は、好ましくは２５．０％以下、より好ましくは２０．０％以下、さらに好ましくは１５．０％以下、さらにより好ましくは１０．０％以下、例えば５．０％以下であり得る。上記層の表面自由エネルギーにおける極性成分比をかかる範囲とすることにより、層の撥液性及び滑液性が高くなる。

好ましい態様において、上記各態様における本開示の組成物から形成された層の水の転落角は、好ましくは６０°以下、より好ましくは５０°以下、さらに好ましくは３０°以下、さらにより好ましくは２５°以下、特に好ましくは２０°以下であり得る。本開示の組成物から形成された層の水の転落角の下限は、特に限定されないが小さいほど好ましくは、例えば、１°以上、５°以上、又は１０°以上であり得る。

好ましい態様において、上記各態様における本開示の組成物から形成された層のヘキサデカンの転落角は、好ましくは３５°以下、より好ましくは３０°以下、さらに好ましくは２５°以下、さらにより好ましくは２０°以下であり得る。本開示の組成物から形成された層の水の転落角の下限は、特に限定されないが小さいほど好ましくは、例えば、１°以上、５°以上、又は１０°以上であり得る。

本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然又は合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、衛生用品、任意の適切な材料で構成され得る。

好ましい態様において、上記基材は、ガラス、樹脂、又は金属であり、好ましくはガラスである。

上記ガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、及び化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラス又は透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（又は膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層及び多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｔａ_３Ｏ_５，Ｎｂ_２Ｏ_５、ＨｆＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、又はこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２及び／又はＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、及び液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

上記基材の形状は、特に限定されず、例えば、板状、フィルム、その他の形態であってよい。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途及び具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

本開示の物品は、上記基材の表面に、上記の本開示の組成物の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の組成物から層を形成することにより製造することができる。

本開示の組成物の層形成は、上記組成物を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法及び乾燥被覆法を使用できる。

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング及び類似の方法が挙げられる。

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビーム及び類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

乾燥被覆法を使用する場合、本開示の組成物は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、又は、上記した有機溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

本開示の組成物の層形成は、層中で本開示の組成物が、加水分解及び脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の組成物を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の組成物の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の組成物をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の組成物を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

触媒には、任意の適切な酸又は塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、塩酸、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

本開示の物品に含まれる表面処理層は、滑液性を有する。また、上記表面処理層は、高い滑液性に加えて、使用する組成物の組成にもよるが、抗菌性、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（又は潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

本開示の物品は、屋外での過酷な環境条件下による長期間の使用によっても滑液性を維持する事が必要な用途に有用である。

好ましい態様において、本開示の物品は、車両用、船舶用または航空機用のガラス又はミラーガラス、例えば自動車用ガラス、自動車用ドアミラーもしくは自動車用フェンダミラー等、あるいは車載カメラに用いられるガラス及び自動車用センサー類などに有用である。その他、防犯カメラに用いられるガラスや、カーブミラー、太陽光パネル表面、風力発電ブレード、建築物の外壁等、屋外用途の基材に有用である。

従って、本開示はさらに、上記表面処理層を最外層に有する光学材料にも関する。

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

本開示の物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。

また、本開示の物品は、医療機器又は医療材料であってもよい。

上記層の厚さは、特に限定されないが、例えば１ｎｍ以上、１０ｎｍ以上、又は１００ｎｍ以上であってもよい。また、上記層の厚さは、特に限定されないが、１０００ｎｍ以下、５００ｎｍ以下、又は１００ｎｍ以下であってもよい。

以上、本開示の組成物及び物品について詳述した。なお、本開示の組成物及び物品などは、上記で例示したものに限定されない。

以下、本開示の組成物について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。なお、以下に示される化学式は平均組成を示す。

成分（Ａ）及び成分（Ｂ）として、下記化合物を準備した。

（Ａ－１）

（Ａ－２）

（Ｂ－１）

Ｍｎ＝２０００

（Ｂ－２）

ＰＤＭＳ＝－（ＣＨ_２）_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２［ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２］_ｎＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３ＣＨ_３，Ｍｎ２０００

（Ｂ－３）

ＰＤＭＳ＝－（ＣＨ_２）_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２［ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２］_ｎＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３ＣＨ_３，Ｍｎ６５００

（Ｂ－４)

（Ｂ－５)

（Ｂ－６)

（Ｂ－７)

Ｍｎ＝１４５０

（Ｂ－８)

（Ｂ－９)

実施例１～１２
表面処理剤１～１２の調製
上記成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を、表２に示す割合で、エタノール（２．８ｇ）、及び０．０１Ｍ塩酸（０．５ｇ）の混合液中に合計で１７．３ｗｔ％となるように溶解した。次いで、表面処理剤１及び２は５０℃で２時間、表面処理剤３及び４は３０℃で１時間、表面処理剤５及び６は３０℃で３時間攪拌した。攪拌後の溶液をそれぞれ表面処理剤１～６とした。

表面処理剤７の調製
上記成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を、表２に示す割合で、エタノール（３．５ｇ）、及び０．０１Ｍ塩酸（０．７ｇ）の混合液中に合計で１７．３ｗｔ％となるように溶解し、表面処理剤を調製した。

表面処理剤８の調製
上記成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を、表２に示す割合で、エタノール（２．０ｇ）、及び０．０１Ｍ塩酸（０．３０ｇ）の混合液中に合計で２２．８ｗｔ％となるように溶解し、表面処理剤を調製した。

表面処理剤９の調製
上記成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を、表２に示す割合で、エタノール（２．０ｇ）、及び０．０１Ｍ塩酸（０．３０ｇ）の混合液中に合計で１９．６ｗｔ％となるように溶解し、表面処理剤を調製した。

表面処理剤１０の調製
上記成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を、表２に示す割合で、エタノール（２．０ｇ）、及び０．０１Ｍ塩酸（０．３０ｇ）の混合液中に合計で２０．５ｗｔ％となるように溶解し、表面処理剤を調製した。

表面処理剤１１の調製
上記成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を、表２に示す割合で、エタノール（２．０ｇ）、及び０．０１Ｍ塩酸（０．３０ｇ）の混合液中に合計で２０．７ｗｔ％となるように溶解し、表面処理剤を調製した。

表面処理剤１２の調製
上記成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を、表２に示す割合で、エタノール（２．０ｇ）、及び０．０１Ｍ塩酸（０．７０ｇ）の混合液中に合計で１７．３ｗｔ％となるように溶解し、表面処理剤を調製した。

表面処理
上記で調製した組成物１～１２を用いて、膜厚が２．０μｍとなるように、基材（ガラス）へバーコーターで加工し、１５０℃で３０分間処理して、実施例１～７の表面処理試料を得た。

評価
得られた表面処理試料について、水、ヘキサデカン及びホルムアミドの静的接触角、水及びヘキサデカンの転落角を測定した。また、水とホルムアミドの静的接触角を用いて、Ｋａｅｌｂｌｅ－Ｕｙの式から極性成分比を計算した。結果を下記表３示す。

静的接触角の測定方法
静的接触角は、全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いて、水平に置いた表面処理基板にマイクロシリンジから液体を２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより求めた。各試料につき、５回測定し、その平均値をその試料の静的接触角とした。

転落角の測定方法
水平に置いた表面処理試料の表面処理層側にマイクロシリンジから液を滴下し、毎秒２°の速度で９０°まで傾斜をつけて液滴の様子を観察した。液滴が５ｍｍ移動した角度を転落角度とした。液滴量は、水については２０μＬ、ヘキサデカンについては５μＬに設定し測定した。各試料につき、３回測定し、その平均値をその試料の転落角とした。

比較例１～９
表面処理剤の調製
表４に示す成分（Ｂ）を０．１ｗｔ％となるようにエタノールへ溶解して、表面処理剤１３～２１を得た。

表面処理
上記で調製した組成物１３～２１を用いて、基材（ガラス）へスピンコートを行った（２０００ｒｐｍ、１０秒）。１５０℃で３０分間処理し、エタノールを含侵させたキムワイプで表面を拭き取った。

評価
得られた表面処理試料について、水、ヘキサデカン及びホルムアミドの静的接触角、水及びヘキサデカンの転落角を測定した。また、水とホルムアミドの静的接触角を用いて、Ｋａｅｌｂｌｅ－Ｕｙの式から極性成分比を計算した。なお、比較例１０として、表面処理剤で処理していないガラス基材について評価した。結果を下記表５示す。

本開示の組成物は、種々多様な用途に好適に利用され得る。

Claims (30)

1. 成分（Ａ）：架橋性化合物、及び
   成分（Ｂ）：非フッ素撥液性化合物
   を含む組成物であって、
   下記式：
   Ｐ^ｂ－Ｐ^ｃ＞０
   ［式中：
   Ｐ^ｂは、前記非フッ素撥液性化合物から形成された層の表面自由エネルギーにおける極性成分比の値であり、
   Ｐ^ｃは、前記組成物から形成された層の表面自由エネルギーにおける極性成分比の値である。］
   を満たす、組成物。
2. 下記式：
   Ｐ^ｂ－Ｐ^ｃ≧５．０
   を満たす、請求項１に記載の組成物。
3. Ｐ^ｃは、２５．０以下である、請求項１に記載の組成物。
4. 前記架橋性化合物は、金属アルコキシド基を有する、請求項１に記載の組成物。
5. 前記架橋性化合物は、下記式（Ａ１）又は（Ａ２）：
   Ａ［Ｚ^ａ１－Ｍ^１（ＯＲ^ａ１）_ｎ１（Ｒ^ａ２）_{ｎ２－ｎ１}］_ｍ１［Ｚ^ａ２－Ｒ^ａ３］_ｍ２ （Ａ１）
   ［式中：
   Ａは、１～１０価の有機基であり、
   Ｚ^ａ１は、それぞれ独立して、単結合、又は２価の有機基であり、
   Ｍ^１は、Ａｌ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、又はＺｎであり；
   Ｒ^ａ１は、それぞれ独立して、水素原子又はＣ_１－６アルキル基であり、
   Ｒ^ａ２は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭化水素基であり、
   ｎ１は、それぞれ独立して、１以上（Ｍ^１の価数－１）以下であり、
   ｎ２は、それぞれ独立して、（Ｍ^１の価数－１）であり、
   Ｚ^ａ２は、それぞれ独立して、単結合、又は２価の有機基であり、
   Ｒ^ａ３は、それぞれ独立して、反応性有機基であり、
   ｍ１は、１～１０の整数であり、
   ｍ２は、０～１０の整数であり、
   ｍ１とｍ２の合計はＡの価数である。］
   

   

   ［式中：
   Ｍ^２は、Ａｌ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、又はＺｎであり；
   Ｒ^ａ４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基、又はＲ^ａ６－ＣＯ－であり；
   Ｒ^ａ６は、１価の炭化水素基であり；
   Ｒ^ａ５は、それぞれ独立して、Ｃ_１－３アルキル基又はＣ_１－３アルコキシ基であり；
   ｎ３は、前記Ｍ^２の価数であり；
   ｎ４は、０以上前記Ｍ^２の価数以下である。］
   で表される化合物である、請求項１に記載の組成物。
6. ｎ１は、２以上である、請求項５のいずれか１項に記載の組成物。
7. 前記Ｒ^ａ１は、Ｃ_１－４アルキル基である、請求項５に記載の組成物。
8. Ａは、アルキレン基である、請求項５に記載の組成物。
9. Ａは、下記式：
   

   

   ［式中：
   Ｘ^ａは、それぞれ独立して、単結合、または２価の有機基である。］
   で表される基である、請求項５に記載の組成物。
10. 前記反応性有機基は、イソシアネート基、エポキシ基、又はビニル基である、請求項５に記載の組成物。
11. 前記非フッ素撥液性化合物は、下記式（１）、又は（２）：
    

    

    ［式中：
    Ｒ^Ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_８－３６アルキル基、Ｒ^１－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ７－、又はＲ^４－Ｒ^Ｅ－Ｏ_ｑ８－であり；
    Ｒ^Ｓ２は、Ｃ_８－３６アルキレン基、－Ｏ_ｐ７－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ７－、又は－Ｒ^５ _ｐ８－Ｒ^Ｅ－Ｏ_ｑ８－であり；
    Ｒ^Ｓは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の直鎖オルガノシロキサン基であり；
    Ｒ^１は、水素原子、又は炭化水素基であり；
    Ｒ^２は、－ＳｉＲ^３ _２－であり；
    Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、炭化水素基であり；
    ｐ７は、０又は１であり；
    ｑ７は、それぞれ独立して、０又は１であり；
    Ｒ^Ｅは、２価のポリエーテル基であり；
    Ｒ^４は、水素原子、又は炭化水素基であり；
    Ｒ^５は、２価の炭化水素基であり；
    ｐ８は、０又は１であり；
    ｑ８は、０又は１であり；
    Ｒ^Ｈは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、もしくは１価の有機基が結合したＳｉ原子、又は反応性有機基を含む１価の基であり；
    Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
    αは、１～９の整数であり；
    βは、１～９の整数であり；
    γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
    で表される化合物である、請求項１に記載の組成物。
12. Ｒ^Ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_８－３６アルキル基である、請求項１１に記載の組成物。
13. Ｒ^Ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^１－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ７－であり、
    Ｒ^Ｓ２は、－Ｏ_ｐ７－Ｒ^Ｓ－Ｒ^２ _ｑ７－である、
    請求項１１に記載の組成物。
14. Ｒ^Ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^４－Ｒ^Ｅ－Ｏ_ｑ８－であり、
    Ｒ^Ｓ２は、－Ｒ^５ _ｐ８－Ｒ^Ｅ－Ｏ_ｑ８－である、
    請求項１１に記載の組成物。
15. 前記反応性有機基は、イソシアネート基、エポキシ基、又はビニル基である、請求項１１に記載の組成物。
16. Ｒ^Ｈは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）：
    

    

    ［式中：
    Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
    Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
    ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基であり；
    Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
    ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
    Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり；
    Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基または炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり；
    Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
    Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
    Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
    Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
    Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
    ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
    Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
    Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
    Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
    ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
    Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
    Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
    ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
    Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
    ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
    Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
    Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
    Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
    Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
    ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
    Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
    Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
    ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
    Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
    Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、１価の有機基であり；
    ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
    Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
    ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２であり；
    Ｚ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
    ただし、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）及び（Ｓ５）中、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。］
    で表される基である、請求項１１に記載の組成物。
17. Ｘ^Ａは、単結合又は下記式：
    －（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－
    ［式中：
    Ｒ^５１は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｓ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、
    ｓ５は、１～２０の整数であり、
    Ｘ^５１は、－（Ｘ^５２）_ｌ５－であり、
    Ｘ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基であり、
    Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、又は１価の有機基であり、
    ｎ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数であり、
    ｌ５は、１～１０の整数であり、
    ｐ５は、０又は１であり、
    ｑ５は、０又は１であり、
    ここに、ｐ５及びｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５又はｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
    で表される２価の有機基である、請求項１１に記載の組成物。
18. Ｘ^Ａは、下記式：
    

    

    ［式中、Ｘ^ａは、それぞれ独立して、単結合または２価の有機基である。］
    で表される基である、請求項１１に記載の組成物。
19. 前記架橋性化合物と前記非フッ素撥液性化合物の合計に対する、前記非フッ素撥液性化合物の含有量は、０．１～９０．０質量％である、請求項１に記載の組成物。
20. 前記組成物から形成された層の水の転落角は、２５°以下である、請求項１に記載の組成物。
21. さらに、
    Ｒ^７１ＯＲ^７２、
    Ｒ^７３ _ｎ８Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８、
    Ｒ^７４Ｒ^７５Ｒ^７６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ８－Ｒ^７９、及び
    （ＯＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ９
    ［式中
    Ｒ^７１～Ｒ^７９は、それぞれ独立して、炭素数１～１０個の一価の有機基であり、
    ｍ８は、１～６の整数であり、
    ｍ９は、４～８の整数であり、
    ｎ８は、０～６の整数である。］
    で表される化合物から選択される溶媒を含む、請求項１に記載の組成物。
22. 前記溶媒は、Ｒ^７４Ｒ^７５Ｒ^７６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ^７７Ｒ^７８）_ｍ８－Ｒ^７９である、請求項２１に記載の組成物。
23. 前記溶媒は、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、又はデカメチルシクロペンタシロキサンである、請求項２１に記載の組成物。
24. さらに、水、及び触媒から選択される他の成分を含有する、請求項１に記載の組成物。
25. 表面処理剤である、請求項１に記載の組成物。
26. 基材と、該基材上に、請求項１に記載の組成物から形成された層とを含む物品。
27. 基剤と、成分（Ａ）：架橋性化合物、及び成分（Ｂ）：非フッ素撥液性化合物を含む組成物から形成された層とを含み、
    下記式：
    Ｐ^ｂ－Ｐ^ｃ＞０
    ［式中：
    Ｐ^ｂは、前記非フッ素撥液性化合物から形成された層の表面自由エネルギーにおける極性成分比であり、
    Ｐ^ｃは、前記組成物から形成された層の表面自由エネルギーにおける極性成分比である。］
    を満たす、物品。
28. 基剤と、成分（Ａ）：架橋性化合物、及び成分（Ｂ）：非フッ素撥液性化合物を含む組成物から形成された層とを含み、前記層の表面自由エネルギーにおける極性成分比は、２５．０％以下である、物品。
29. 前記層の水の転落角は、２５°以下である、請求項２７に記載の物品。
30. 前記層の厚さは、０．０１μｍ以上である、請求項２７に記載の物品。