TWI680868B - 具有撥水性的基材 - Google Patents

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山下恒雄
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三橋尚志
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Abstract

本發明為以提供一種即使長期間曝露於紫外線的環境下使用時，也不易降低撥水性的基材為目的。 　　本發明為一種具有表面處理層，且於下述條件進行400小時的耐候性促進試驗後的水的靜態接觸角為100度以上為特徴的基材。 ＜耐候性促進試驗之條件＞ 　　使用UVB-313燈(波長310nm之輻射照度為0.63 W/m2 )，將燈與基材的表面處理層之距離設定為5cm，並於每照射24小時後，使用水與乙醇擦乾表面處理層。

Description

具有撥水性的基材
[0001] 本發明為有關具有撥水性的基材。
[0002] 具有撥水性的基材，已知有以下之基材。 　　[0003] 專利文獻1揭示一種使基材表面具有撥水性的套組，其為含有 　　(A)基本上由 　　a)具有由通式 　　Rf-(CH2 )2 -SiCl3 (式中，Rf為具有3~18個烷基碳原子的全氟烷基自由基) 的化合物所選出之至少一種的全氟烷基三氯矽烷；與 　　b)全氟聚醚羧酸；與 　　c)至少一種的氟化溶劑 所形成的塗覆組成物的套組。 　　[0004] 專利文獻2為揭示一種基材上具有撥水層的撥水性物品之製造方法，該撥水層為，依含有重量平均分子量為1000以上的具有反應性矽烷基的撥水性化合物之塗佈液，與含有重量平均分子量未達1000的具有反應性矽烷基的撥水性化合物之塗佈液之順序塗佈於該基材上而形成者為特徴之撥水性物品之製造方法。 　　[0005] 專利文獻3為揭示一種具備有基板，與於前述基板的主面中之至少一部份，依序具有由前述基板側起而形成的中間層及最外層之撥水膜的附撥水膜之基板，其中，前述中間層為使用含有以下述通式(a1)所表示之水解性矽烷化合物及/或其部份水解縮合物之含氟矽烷化合物(a)作為全固形成份的主成份的中間層用塗覆組成物所形成，前述最外層為使用相對於全固形成份為70質量%以上的含有以具有末端的全氟烷基之碳原子數為1~6的全氟聚醚基的水解性矽烷化合物及/或其部份水解縮合物之含氟矽烷化合物(b)的最外層用塗覆組成物所形成的附撥水膜之基板。 　　RF1 -Q1 -SiR1 (3-m1) X1 m1 ･･･(a1) 　　其中，式(a1)中之記號係如以下所示。 　　RF1 ：表示碳原子數1~6的碳-碳原子間不含醚性氧原子的全氟烷基。 　　Q1 ：表示碳原子數1~6的不含氟原子的2價有機基。 　　X1 ：表示碳原子數1~10之烷氧基、碳原子數2~10之氧基烷氧基、碳原子數2~10之醯氧基、碳原子數2~10之烯氧基、鹵素原子或異氰酸酯基。m1個X1 ，可互相為相同或相異皆可。 　　R1 ：表示氫原子，或氫原子的一部份或全部可被取代的不含氟原子之碳原子數1~8的一價烴基。3-m1個R1 可互相為相同或相異皆可。 　　m1：表示1~3之整數。 [先前技術文獻] [專利文獻] 　　[0006] 　　[專利文獻1] 特表2011-518231號公報 　　[專利文獻2] 特開2010-260193號公報 　　[專利文獻3] 特開2014-024288號公報
[發明所欲解決之問題] 　　[0007] 但是，以往具有撥水性的基材，對紫外線並不具有充分的耐久性，故於屋外持續使用時，會產生撥水性降低之問題。 　　[0008] 因此，本發明，為鑑於上述情事，而以提出一種即使長期間曝露於紫外線的環境下使用時，也不易降低撥水性的基材為目的。即，即使長期間曝露於紫外線的環境下使用時，也可長期間維持防污性者為目的。 [解決問題之方法] 　　[0009] 本發明，為一種具有表面處理層之基材(以下，亦稱為「第1基材」)，其特徵為，於下述條件進行400小時的耐候性促進試驗後的水的靜態接觸角為100度以上者。 ＜耐候性促進試驗之條件＞ 　　使用UVB-313燈(波長310nm之輻射照度為0.63 W/m2 )，將燈與基材的表面處理層之距離設定為5cm，並於每照射24小時後，使用水與乙醇擦乾表面處理層。 　　[0010] 又，本發明為有關一種具有表面處理層之基材(以下，亦稱為「第2基材」)，其特徵為，於下述條件進行250小時耐候性促進試驗後的水的靜態接觸角為110度以上者。 ＜耐候性促進試驗之條件＞ 　　使用UVB-313燈(波長310nm之輻射照度為0.63 W/m2 )，將燈與基材的表面處理層之距離設定為5cm，並於每照射24小時後，使用水與乙醇擦乾表面處理層。 　　[0011] 本發明之第1及第2基材，以於下述條件下，進行6000次鋼絲棉摩擦耐久性評估後的水的靜態接觸角為100度以上為佳。 ＜鋼絲棉摩擦耐久性評估之條件＞ 　　使鋼絲棉(編號#0000、尺寸5mm×10mm×10mm)接觸基材的表面處理層，於其上施以1,000gf的荷重，於施加荷重之狀態，使鋼絲棉以140mm/秒的速度往返摩擦。將每一往返設為一次。 　　[0012] 又，本發明有關一種具有表面處理層之基材(以下，亦稱為「第3基材」)，其中， 　　表面處理層為含有式(1)所表示之化合物； 　　[0013]
Figure 02_image003
[0014] (式中，R1 為式：R3 -(OR2 )a -L-所表示之一價有機基 　　((OR2 )a 為聚醚鏈；R3 為烷基或氟化烷基；L為單鍵或二價之連結基)； 　　X1 為一價的含Si之基；X2 表示一價之基；上述聚醚鏈為 　　式：-(OC6 F12 )m11 -(OC5 F10 )m12 -(OC4 F8 )m13 -(OC3 X10 6 )m14 -(OC2 F4 )m15 -(OCF2 )m16 - 　　所表示之鏈 　　(式中，m11、m12、m13、m14、m15及m16，各自獨立為0或1以上之整數；X10 各自獨立為H、F或Cl；各重複單位之存在順序可為任意之順序))。 　　[0015] L為-C2 H4 -、-C3 H6 -、-CO-O-CH2 -CH(OH)-CH2 -、-(CF2 )n -(n為0~4之整數)、-CH2 -、-C4 H8 -，或-(CF2 )n -(CH2 )m -(n、m為各自獨立且任一者皆為0~4之整數)； 　　X1 ，以具有可水解之基的一價的含Si之基為佳。 　　[0016] 基材，以玻璃基材為佳。 　　[0017] 玻璃基材，以藍寶石玻璃基材、鹼石灰玻璃基材、鹼鋁矽酸鹽玻璃基材、硼矽酸玻璃基材、無鹼玻璃基材、鉛玻璃基材，或石英玻璃基材為佳。 [發明之效果] 　　[0018] 本發明之基材，即使長期間曝露於紫外線的環境下使用時，也不易降低撥水性。即，不易劣化。 [實施發明之形態] 　　[0019] 以下，將對本發明作具體的說明。 　　[0020] 本發明之第1基材，其特徵為，具有表面處理層，於特定條件下進行400小時耐候性促進試驗後的水的靜態接觸角為100度以上者。上述與水的靜態接觸角，以105度以上為佳，亦可為120度以下。上述與水的靜態接觸角，為使用接觸角測定裝置(協和界面科學公司製)，以水2μL下測定者。上述與水的靜態接觸角，係指上述表面處理層與水的靜態接觸角。 　　[0021] 本發明之第2基材，其特徵為，具有表面處理層，於特定條件下進行250小時的耐候性促進試驗後的水的靜態接觸角為110度以上。 　　[0022] 上述耐候性促進試驗，為使用Q-Lab公司製UVB-313燈(波長310nm之輻射照度為0.63W/m2 )，將燈與基材的表面處理層之距離設定為5cm，並於每照射24小時後，使用水與乙醇擦乾表面處理層之方式進行。 　　[0023] 上述耐候性促進試驗的試驗時間以408小時為佳，以250小時為較佳。 　　[0024] 本發明之第1及第2基材，於特定條件下進行6000次鋼絲棉摩擦耐久性評估後的水的靜態接觸角為100度以上，故其耐摩耗性亦為優良，而為較佳。上述與水的靜態接觸角，以100度以上為佳，亦可為120度以下。上述與水的靜態接觸角，為使用接觸角測定裝置(協和界面科學公司製)，以水2μL下測定者。 　　[0025] 上述鋼絲棉摩擦耐久性評估，為將鋼絲棉(編號#0000、尺寸5mm×10mm×10mm)與基材表面處理層接觸，並於其上施以1,000gf的荷重，於施加荷重之狀態，使鋼絲棉以140mm/秒的速度往返摩擦之方式進行。將每一往返設為一次。上述與水的靜態接觸角，為上述表面處理層與水的靜態接觸角。 　　[0026] 本發明之基材，可為玻璃、金屬、樹脂、陶瓷等的金屬氧化物、半導體(矽、鍺等)、纖維(織物、不織布等)、毛皮、皮革、木材、石材、陶磁器、建築構件等，其可由任意的適當材料所構成，其中，就具有優良透明性、可長期間維持優良撥水性之觀點，以使用玻璃基材為佳。 　　[0027] 上述玻璃基材，可列舉如，無機玻璃基材；有機玻璃基材；鹼鋁矽酸鹽玻璃基材、鹼石灰玻璃基材等的含鹼之玻璃基材；硼矽酸玻璃基材等的無鹼玻璃基材；藍寶石玻璃基材；鉛玻璃基材；石英玻璃基材等。上述玻璃基材，可於表面具有羥基、胺基、硫醇基等的官能基。上述玻璃基材，亦可配合玻璃、強化玻璃等。玻璃基材，以藍寶石玻璃基材、鹼石灰玻璃基材、鹼鋁矽酸鹽玻璃基材、硼矽酸玻璃基材、無鹼玻璃基材、鉛玻璃基材，或石英玻璃基材為佳。 　　[0028] 上述金屬，可列舉如，鐵、銅、鋁、不銹鋼、鎳、鉻、鉬等，金屬單體或該些之合金等的複合體。 　　[0029] 上述樹脂，例如，三乙醯基纖維素(TAC)等之纖維素系樹脂、聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-乙酸乙烯共聚物(EVA)等的聚烯烴、環狀聚烯烴、變性聚烯烴、聚氯化乙烯、聚氯化亞乙烯、聚苯乙烯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚碳酸酯、聚-(4-甲基戊烯-1)、離子聚合物、丙烯酸系樹脂、聚甲基甲基丙烯酸酯、丙烯酸-苯乙烯共聚物(AS樹脂)、丁二烯-苯乙烯共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物(EVOH)、聚對苯二甲酸乙酯(PET)、聚對苯二甲酸丁酯(PBT)、聚對苯二甲酸環己酯(PCT)等的聚酯、聚醚、聚醚酮(PEK)、聚醚醚酮(PEEK)、聚醚醯亞胺、聚縮醛(POM)、聚苯基氧化物、變性聚苯基氧化物、聚芳酯、芳香族聚酯(液晶聚合物)、聚四氟乙烯、聚氟化亞乙烯、其他氟系樹脂、苯乙烯系、聚烯烴系、聚氯化乙烯系、聚胺基甲酸酯系、氟橡膠系、氯化聚乙烯系等的各種熱可塑性彈性體、環氧樹脂、酚樹脂、脲樹脂、三聚氰胺樹脂、不飽和聚酯、聚矽氧樹脂、聚胺基甲酸酯等，或以該些為主成份的共聚物、混合物、聚合物合金等，亦可將該些中的1種或2種以上予以組合(例如，以2層以上的層合體之方式)使用。 　　[0030] 又，例如，本發明之基材為光學構件之情形，構成基材表面的材料，可為光學構件用材料，例如可為玻璃或透明塑膠等。又，本發明之基材為光學構件之情形，於基材表面(最外層)可形成數種類之層(或膜)，例如可形成硬塗覆層或抗反射層等。抗反射層，可使用單層抗反射層及多層抗反射層中任一種。抗反射層所使用的無機物之例，可列舉如，SiO2 、SiO、ZrO2 、TiO2 、TiO、Ti2 O3 、Ti2 O5 、Al2 O3 、Ta2 O5 、CeO2 、MgO、Y2 O3 、SnO2 、WO3 等。該些無機物，可單獨，或可將該些中之2種以上予以組合(例如混合物之方式)使用。多層抗反射層之情形，其最外層以使用SiO2 及/或SiO者為佳。本發明之基材，為觸控平板用的光學玻璃零件之情形，透明電極，例如可於基材(玻璃)表面的一部份具有氧化銦錫(ITO)或酸化銦鋅等的薄膜。又，基材，可配合其具體的樣式，而具有絕緣層、黏著層、保護層、裝飾外框層(I-CON)、霧化膜層、硬塗覆膜層、偏光薄膜、相位差薄膜，及液晶顯示模組等。又，本發明之基材，於車載攝影機或監視器用攝影機等之光學透鏡零件之情形亦為相同，可將上述抗反射層所使用的無機物單獨，或將該些之2種以上組合使用皆可。上述抗反射層之膜厚，可由0.001~1.0μm之範圍予以選擇，較佳為0.01~0.2μm。 　　[0031] 上述基材之形狀並未有特別之限定。又，應形成表面處理層的基材之表面區域，只要於基材表面中至少一部份即可，其可配合本發明之基材的用途及具體的樣式等，作適當之決定即可，但又以表面處理層為最表面者為佳。 　　[0032] 上述基材中，只要至少其表面部份為由原本就具有羥基的材料所形成者亦可。上述材料，可列舉如，玻璃等，又，例如表面形成自然氧化膜或熱氧化膜的金屬(特別是卑金屬)、陶瓷、半導體等。或，如樹脂等般，即使具有羥基也不十分充分的情形，或原本不具有羥基的情形時，亦可對基材施以數種前處理，而於基材表面導入或增加羥基等。上述前處理之例，可列舉如，電漿處理(例如電暈放電)，或離子束照射等。電漿處理，除於基材表面導入或增加羥基的同時，亦可使基材表面清淨化(去除異物等)等，而極適合利用。又，上述前處理的其他例，例如將具有碳-碳不飽和鍵結基的界面吸附劑，使用LB法(朗謬-布洛傑(Langmuir-Blodgett)法)或化學吸附法等，預先於基材表面形成單分子膜之形態，隨後，於含有氧或氮等的氛圍下，使不飽和鍵結開裂之方法等。 　　[0033] 又，上述基材中，至少其表面部份，為由含有具有1個以上的其他反應性基，例如Si-H基，的聚矽氧化合物，或烷氧基矽烷的材料所形成者亦可。 　　[0034] 上述表面處理層，以含有式(1)所表示之化合物為佳。 　　[0035] 式(1)：
Figure 02_image005
[0036] (式中，R1 為式：R3 -(OR2 )a -L-((OR2 )a 為聚醚鏈；R3 為烷基或氟化烷基；L為單鍵或二價之連結基) 　　所表示之一價有機基；X1 為一價的含Si之基；X2 表示一價之基； 　　上述聚醚鏈為 　　式：-(OC6 F12 )m11 -(OC5 F10 )m12 -(OC4 F8 )m13 -(OC3 X10 6 )m14 -(OC2 F4 )m15 -(OCF2 )m16 - 　　所表示之鏈 　　(式中，m11、m12、m13、m14、m15及m16，各自獨立為0或1以上之整數；X10 各自獨立為H、F或Cl；各重複單位之存在順序可為任意之順序))。 　　[0037] 本發明之第3基材為，具有表面處理層，且表面處理層含有式(1)所表示之化合物為特徴。 　　[0038] 本發明者們，經過深入研究結果，驚訝地發現，使用含有式(1)所表示之化合物的上述表面處理層時，上述基材可賦予即使長期間曝露於紫外線的環境下使用時，也不易降低撥水性的機能之效果。此點，推測應為經由上述聚醚鏈而產生撥水性，經由上述一價的含Si之基，使上述化合物堅固地接著於上述基材，此外，因上述聚醚鏈與上述一價的含Si之基堅固地連結於異三聚氰酸骨架結果，即使有紫外線射入時，上述表面處理層不會產生分解，或由上述基材產生剝離，因而可為持長期間的撥水性。 　　[0039] X1 以具有可水解之基的一價之含Si之基為佳。 　　[0040] 上述「可水解之基」，於本說明書中所使用的情形，係指經由水解反應，而可由化合物的主骨架解離之基之意。可水解之基之例，可列舉如，-OR、-OCOR、 -O-N=CR2 、-NR2 、-NHR、鹵素(該些式中，R表示取代或無取代之的碳數1~4之烷基)等，較佳為-OR(即，烷氧基)。R之例示中，為包含甲基、乙基、丙基、異丙基、n-丁基、異丁基等之無取代之烷基；氯甲基等之取代烷基。該些之中，又以烷基，特別是無取代之烷基為佳，以甲基或乙基為較佳。 　　[0041] X2 ，可列舉如，含有聚醚鏈之一價之有機基、一價之含Si之基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基、環氧基、縮水甘油基、氧環丁烷基、異氰酸酯基、乙烯基、烯丙基、乙烯基氧基、羧基、氫硫基、胺基、羥基、膦酸基、環狀酸酐基、內酯基、內醯胺基、-OC(O)Cl基、三
Figure 106132747-A0304-12-0020-4
基、咪唑基、共軛烯烴基、乙炔基、重氮基、醛基、酮基、烷基硼基、烷基鋁基、烷基錫基、烷基鍺基、烷基鋯基、H、烷基、鹵化烷基、烷酯基、鹵化烷酯基、烷醚基、鹵化烷醚基、烷基醯胺基、鹵化烷基醯胺基、脲(uril)基、鹵化脲基、尿(urea)基、鹵化尿基、-OCOORj (Rj 為烷基或鹵化烷基)、-CONRk CORl (Rk 及Rl 為獨立之H、烷基或鹵化烷基)、含糖鏈之基、聚烷醚基、芳烴基、鹵化芳烴基、含雜環之基、芳基、鹵化芳基、聚矽氧殘基(但，具有反應性基者除外)、倍半矽氧烷殘基(但，具有反應性基者除外)，及包含該些之基之任一者的一價之基等。 　　[0042] X2 ，其中又以由含有聚醚鏈之一價之有機基，及，一價之含Si之基所成之群所選出之至少1種為佳，可長期間維持優良撥水性之觀點，其中，又以一價之含Si之基為佳。該情形中，X1 的一價之含Si之基與X2 的一價之含Si之基，可為相同亦可、相異亦可，就容易製造上述化合物之觀點，以相同者為佳。 　　[0043] R1 ，可列舉如，含有聚醚鏈之一價之有機基(但，含有胺基甲酸酯鍵結者除外)。 　　[0044] X10 ，例如以F為佳。 　　m11~m16，分別為0~200之整數為佳，以0~100之整數為較佳。m11~m16以合計為1以上之整數為佳，以5以上之整數為較佳，以10以上之整數為更佳。m11~m16以合計為200以下之整數為佳，以100以下之整數為較佳。m11~m16以合計為10~200之整數為佳，以10~100之整數為較佳。 　　[0045] 上述聚醚鏈中，各重複單位可為直鏈狀亦可、分支狀亦可，較佳為直鏈狀。例如，-(OC6 F12 )-，可為 -(OCF2 CF2 CF2 CF2 CF2 CF2 )-、-(OCF(CF3 )CF2 CF2 CF2 CF2 )-、-(OCF2 CF(CF3 )CF2 CF2 CF2 )-、-(OCF2 CF2 CF(CF3 )CF2 CF2 )-、-(OCF2 CF2 CF2 CF(CF3 )CF2 )-、 -(OCF2 CF2 CF2 CF2 CF(CF3 ))-等，又較佳為 -(OCF2 CF2 CF2 CF2 CF2 CF2 )-。-(OC5 F10 )-，可為 -(OCF2 CF2 CF2 CF2 CF2 )-、-(OCF(CF3 )CF2 CF2 CF2 )-、 -(OCF2 CF(CF3 )CF2 CF2 )-、-(OCF2 CF2 CF(CF3 )CF2 )-、 -(OCF2 CF2 CF2 CF(CF3 ))-等，又較佳為 -(OCF2 CF2 CF2 CF2 CF2 )-。-(OC4 F8 )-，可為 -(OCF2 CF2 CF2 CF2 )-、-(OCF(CF3 )CF2 CF2 )-、 -(OCF2 CF(CF3 )CF2 )-、-(OCF2 CF2 CF(CF3 ))-、 -(OC(CF3 )2 CF2 )-、-(OCF2 C(CF3 )2 )-、-(OCF(CF3 )CF(CF3 ))-、-(OCF(C2 F5 )CF2 )-及-(OCF2 CF(C2 F5 ))-中任一者，又較佳為-(OCF2 CF2 CF2 CF2 )-。-(OC3 F6 )-，可為-(OCF2 CF2 CF2 )-、-(OCF(CF3 )CF2 )-及-(OCF2 CF(CF3 ))-中之任一者，又較佳為-(OCF2 CF2 CF2 )-。又，-(OC2 F4 )-，可為-(OCF2 CF2 )-及 -(OCF(CF3 ))-之任一者，又較佳為-(OCF2 CF2 )-。 　　[0046] 其中一實施態樣中，上述聚醚鏈為 -(OC3 F6 )m14 -(式中，m14為1~200之整數)所表示之鏈。上述聚醚鏈，較佳為-(OCF2 CF2 CF2 )m14 -(式中，m14為1~200之整數)所表示之鏈或-(OCF(CF3 )CF2 )m14 -(式中，m14為1~200之整數)所表示之鏈，更佳為-(OCF2 CF2 CF2 )m14 -(式中，m14為1~200之整數)所表示之鏈。m14以5~200之整數為佳，以10~200之整數為較佳。 　　[0047] 其他實施態樣中，上述聚醚鏈為-(OC4 F8 )m13 -(OC3 F6 )m14 -(OC2 F4 )m15 -(OCF2 )m16 -(式中，m13及m14，分別為0~30之整數，m15及m16，分別為1~200之整數。m13~m16合計為5以上之整數。各重複單位之存在順序可為任意之順序)所表示之鏈。m15及m16，以分別為5~200之整數為佳，以10~200之整數為較佳。m13~m16以合計為10以上之整數為佳。上述聚醚鏈以-(OCF2 CF2 CF2 CF2 )m13 -(OCF2 CF2 CF2 )m14 -(OCF2 CF2 )m15 -(OCF2 )m16 -為佳。其中一實施態樣中，上述聚醚鏈可為-(OC2 F4 )m15 -(OCF2 )m16 -(式中，m15及m16，分別為1~200之整數。各重複單位之存在順序可為任意之順序)所表示之鏈。m15及m16，分別以5~200之整數為佳，以10~200之整數為較佳。 　　[0048] 又如其他實施態樣中，上述聚醚鏈為-(Rm1 -Rm2 )m17 -所表示之基。式中，Rm1 為OCF2 或OC2 F4 ，較佳為OC2 F4 。式中，Rm2 為由OC2 F4 、OC3 F6 、OC4 F8 、OC5 F10 及OC6 F12 所選出之基，或，由該些之基所獨立選出之2個或3個之基的組合。較佳為，Rm1 為由OC2 F4 、OC3 F6 及OC4 F8 所選出之基，或由OC3 F6 、OC4 F8 、OC5 F10 及OC6 F12 所選出之基，或，由該些之基所獨立選出之2個或3個之基的組合。OC2 F4 、OC3 F6 及OC4 F8 所獨立選出之2個或3個之基的組合，例如，其雖未有特別之限定，但可例如-OC2 F4 OC3 F6 -、-OC2 F4 OC4 F8 -、-OC3 F6 OC2 F4 -、-OC3 F6 OC3 F6 -、 -OC3 F6 OC4 F8 -、-OC4 F8 OC4 F8 -、-OC4 F8 OC3 F6 -、 -OC4 F8 OC2 F4 -、-OC2 F4 OC2 F4 OC3 F6 -、-OC2 F4 OC2 F4 OC4 F8 -、-OC2 F4 OC3 F6 OC2 F4 -、-OC2 F4 OC3 F6 OC3 F6 -、 -OC2 F4 OC4 F8 OC2 F4 -、-OC3 F6 OC2 F4 OC2 F4 -、 -OC3 F6 OC2 F4 OC3 F6 -、-OC3 F6 OC3 F6 OC2 F4 -，及 -OC4 F8 OC2 F4 OC2 F4 -等。上述m17為2以上之整數，較佳為3以上之整數，更佳為5以上之整數、100以下之整數，較佳為50以下之整數。上述式中，OC2 F4 、OC3 F6 、OC4 F8 、OC5 F10 及OC6 F12 ，可為直鏈或支鏈中任一者皆可，較佳為直鏈。該態樣中，聚醚鏈較佳為-(OC2 F4 -OC3 F6 )m17 -或 -(OC2 F4 -OC4 F8 )m17 -。 　　[0049] 上述聚醚鏈中，相對於m16，m15之比(以下，亦稱為「m15/m16比」)為0.1~10，較佳為0.2~5，更佳為0.2~2，特佳為0.2~1.5，最佳為0.2~0.85。m15/m16比為10以下時，可使表面處理層的平滑性、摩擦耐久性及耐化學性(例如，對於人工汗之耐久性)更為提升。m15/m16比越小時，可使上述表面處理層的平滑性及摩擦耐久性更向上提升。另一方面，m15/m16比大於0.1以上時，可使化合物的安定性更為提升。m15/m16比越大時，可使化合物的安定性更向上提升。 　　[0050] 上述聚醚鏈可為：由 　　式：-(OCF2 CF2 CX11 2 )n11 (OCF2 CF(CF3 ))n12 (OCF2 CF2 )n13 (OCF2 )n14 (OC4 F8 )n15 - 　　所表示之鏈 　　(式中，n11、n12、n13、n14及n15，各自獨立為0或1以上之整數；X11 各自獨立為H、F或Cl；各重複單位之存在順序可為任意之順序)，及， 　　式：-(OC2 F4 -R11 )f - 　　所表示之鏈 　　(式中，R11 為由OC2 F4 、OC3 F6 及OC4 F8 所選出之基，f為2~100之整數) 　　所成之群所選出之至少1種之鏈。 　　[0051] X11 ，例如以F為佳。 　　n11~n15，以分別為0~200之整數為佳。n11~n15以合計為2以上之整數為佳，以5~300之整數為較佳，以10~200之整數為更佳，以10~100之整數為特佳。 　　[0052] R11 為，由OC2 F4 、OC3 F6 及OC4 F8 所選出之基，或，由該些之基所獨立選出之2個或3個之基的組合。OC2 F4 、OC3 F6 及OC4 F8 所獨立選出之2個或3個之基的組合，可列舉如下，但並未有特別之限定，例如 -OC2 F4 OC3 F6 -、-OC2 F4 OC4 F8 -、-OC3 F6 OC2 F4 -、 -OC3 F6 OC3 F6 -、-OC3 F6 OC4 F8 -、-OC4 F8 OC4 F8 -、 -OC4 F8 OC3 F6 -、-OC4 F8 OC2 F4 -、-OC2 F4 OC2 F4 OC3 F6 -、 -OC2 F4 OC2 F4 OC4 F8 -、-OC2 F4 OC3 F6 OC2 F4 -、 -OC2 F4 OC3 F6 OC3 F6 -、-OC2 F4 OC4 F8 OC2 F4 -、 -OC3 F6 OC2 F4 OC2 F4 -、-OC3 F6 OC2 F4 OC3 F6 -、 -OC3 F6 OC3 F6 OC2 F4 -，及-OC4 F8 OC2 F4 OC2 F4 -等。上述f為2~100之整數，較佳為2~50之整數。上述式中，OC2 F4 、OC3 F6 及OC4 F8 ，可為直鏈或支鏈中任一者皆可，較佳為直鏈。該態樣中，式：-(OC2 F4 -R11 )f -較佳為式： -(OC2 F4 -OC3 F6 )f -或式：-(OC2 F4 -OC4 F8 )f -。 　　[0053] 式(1)所表示之化合物中，聚醚鏈部份的數平均分子量，並未有特別之限定，例如500~30,000，較佳為1,500~30,000，更佳為2,000~10,000。上述數平均分子量，為使用19 F-NMR所測定之値。 　　[0054] 其他實施態樣中，聚醚鏈部份的數平均分子量為500~30,000，較佳為1,000~20,000，更佳為2,000~ 15,000，最佳為2,000~10,000，例如亦可為3,000~6,000。 　　[0055] 其他實施態樣中，聚醚鏈部份的數平均分子量為4,000~30,000，較佳為5,000~10,000，更佳可為6,000~ 10,000。 　　[0056] R3 之碳數，可列舉如，以1~16為佳，以1~8為較佳。 　　R3 ，可列舉如，可為直鏈亦可、支鏈亦可，又以直鏈或支鏈之碳數1~16之烷基或氟化烷基為佳，以直鏈或支鏈之碳數1~8之烷基或氟化烷基為較佳，以直鏈或支鏈之碳數1~6之烷基或氟化烷基為更佳，以直鏈或支鏈之碳數1~3之烷基或氟化烷基為最佳，以直鏈之碳數1~3之烷基或氟化烷基為特佳。 　　[0057] R3 以碳數1~16的氟化烷基為佳，以CF2 H-C1-15 伸氟烷基或碳數1~16的全氟烷基為較佳，以碳數1~16的全氟烷基為更佳。 　　[0058] 碳數1~16的全氟烷基，可為直鏈亦可、支鏈亦可，較佳為直鏈或支鏈之碳數1~6，特別是碳數1~3的全氟烷基，更佳為直鏈之碳數1~3的全氟烷基、具體的而言，為-CF3 、-CF2 CF3 ，或-CF2 CF2 CF3 。 　　[0059] L為直接鍵結於式(1)之環的單鍵或二價之連結基。L，可列舉如，以單鍵、伸烷基，或含有酯鍵結的二價之基為佳，以單鍵、碳數1~10的伸烷基，或含有酯鍵結的碳數1~10的二價之烴基為較佳。 　　[0060] L，可列舉如， 　　式：-(CX121 X122 )o -(L1 )p -(CX123 X124 )q - 　　(式中，X121 ~X124 ，各自獨立為H、F、OH，或 -OSi(OR121 )3 (3個R121 各自獨立為碳數1~4之烷基)、L1 以 -C(=O)O-，或-NHC(=O)NH-(各鍵結的左側為鍵結於CX121 X122 )、o為0~10之整數、p為0或1、q為1~10之整數)所表示之基為更佳。 　　L，可列舉如，以 　　式：-(CF2 )m17 -(CH2 )m18 - 　　所表示之基為特佳 　　(式中，m17為1~3之整數、m18為1~3之整數)。 　　[0061] L，具體而言，可列舉如，-C2 H4 -、-C3 H6 -、 -CO-O-CH2 -CH(OH)-CH2 -、-(CF2 )n -(n為0~4之整數)、 -CH2 -、-C4 H8 -、-(CF2 )n -(CH2 )m -(n、m為各自獨立且任一者皆為0~4之整數)等。L，可列舉如，以-C2 H4 -、-C3 H6 -、-CO-O-CH2 -CH(OH)-CH2 -、-(CF2 )n -(n為0~4之整數)、 -CH2 -、-C4 H8 -，或-(CF2 )n -(CH2 )m -(n、m為各自獨立且任一者皆為0~4之整數)為佳。 　　[0062] 上述含Si之基，可列舉如，由含矽烷反應性交聯基、聚矽氧殘基、倍半矽氧烷殘基及矽氮烷基所成之群所選出之至少1種之基為佳。 　　[0063] 上述含Si之基，可列舉如，其中就可長期間維持優良撥水性之觀點，於該些內容中，以由-L2 -SiR5 3 、-L2 -Si(OR6 )3 、-L2 -Si(NR6 2 )3 ，及，-L2 -Si(OCOR6 )3 (各式中，L2 為單鍵或二價之連結基，R5 為鹵素原子，R6 各自獨立為碳數1~4之烷基)所成之群所選出之至少1種為佳，以 -L2 -Si(OR6 )3 (式中，L2 為單鍵或二價之連結基，R6 各自獨立為碳數1~4之烷基)為較佳。 　　[0064] 上述含矽烷反應性交聯基，可列舉如， 　　式：-L2 -{Si(Ra )s (Rb )t (Rc )u (Rd )v }n (式中，L2 為單鍵或二價之連結基，Ra ，Rb 及Rc ，可為相同或相異，例如，氫、鹵素、碳數1~10之烷氧基、碳數1~10的胺基、碳數1~10的乙醯氧基、碳數3~10之烯丙基，或碳數3~10的縮水甘油基。Rd ，可為相同或相異，例如，-O-、-NH-、-C≡C-，或矽烷鍵結。s、t及u，可為相同或相異，例如，0或1，v為0~3之整數，n為1~20之整數。n為1之情形，s+t+u為3，v為0。n為2~20之情形，s+t+u，可為相同或相異，例如0~2，v可為相同或相異，例如0~2，v為1以上之整數之情形，至少2個的Si可介由Rd 鍵結為直鏈、梯子型、環狀，或雜環狀)所表示之基為佳。Ra ，Rb 及Rc 為鍵結於Si之1價之基。Rd 為鍵結於2個Si之2價之基。 　　[0065] Ra ，Rb 及Rc ，可為相同或相異，例如，以至少1個為氫、鹵素、碳數1~10之烷氧基，或碳數1~10的胺基，其他為碳數1~10的乙醯氧基、碳數3~10之烯丙基，或碳數3~10的縮水甘油基為佳，更較佳為碳數1~4之烷氧基。n為2~20之情形，s+t+u，可為相同或相異，例如0~2，v以0~2為佳。 　　[0066] Ra ，Rb 及Rc 中之鹵素，可列舉如，以Cl、Br或I為佳，以Cl為較佳。 　　[0067] Ra ，Rb 及Rc 中，烷氧基之碳數為1~5為佳。上述烷氧基可為鏈狀、環狀，亦可為分支狀。又，氫原子可被氟原子等所取代。烷氧基，可列舉如，以甲氧基、乙氧基、丙氧基，或丁氧基為佳，更佳為甲氧基，或乙氧基。 　　[0068] Rd ，可為相同或相異，例如，-O-、-NH-、 -C≡C-，或矽烷鍵結。Rd ，可列舉如，以-O-、-NH-，或 -C≡C-為佳。Rd 為鍵結2個Si之2價之基，依Rd 數目之不同，2個以上的矽原子可介由Rd ，鍵結為直鏈、梯子型、環狀，或雜環狀。n為2以上之整數之情形，矽原子相互間可形成鍵結。 　　[0069] Rd ，可為相同或相異，為-Z-SiRd1 p’ Rd2 q’ Rd3 r’ 所表示之基。 　　[0070] 式中，Z，可為相同或相異，例如，表示單鍵或二價之連結基。 　　[0071] Z，具體而言，可列舉如，-C2 H4 -、-C3 H6 -、 -CO-O-CH2 -CH(OH)-CH2 -、-CH2 -、-C4 H8 -等。 　　[0072] 式中，Rd1 ，可為相同或相異，例如，表示Rd’ 。Rd’ 與Rd 具有相同意義。 　　[0073] Rd 中，可介由Z基連結為直鏈狀的Si，最多可為5個。即，上述Rd 中，於Rd1 至少存在1個的情形中，Rd 中介由Z基連結為直鏈狀的Si原子為存在2個以上，但介由該Z基連結為直鏈狀的Si原子數最大為5個。又，「介由Rd 中的Z基連結為直鏈狀時之Si原子的數目」係指，相等於Rd 中連結為直鏈狀的-Z-Si-之重複數。 　　[0074] 例如，以下為於Rd 中，介由Z基連結Si原子之一例示。 　　[0075]
Figure 02_image007
[0076] 上述式中，「＊」表示鍵結於主鏈的Si之部位，「…」表示鍵結ZSi以外的特定之基之意，即，Si原子之3個的鍵結鍵全部為「…」之情形，即表示ZSi結束重複之處之意。又，Si右上角的數字，為表示介由「＊」起計數的Z基連結為直鏈狀時之Si的出現數目之意。即，以Si2 結束ZSi重複時之鏈，為「介由Rd 中的Z基連結為直鏈狀時之Si原子的數目」為2個之意，同樣地，以Si3 、Si4 及Si5 結束ZSi重複時之鏈，分別為「介由Rd 中的Z基連結為直鏈狀時之Si原子的數目」為3、4及5個。又，由上述式得知，Rd 中存在多數個ZSi鏈時，該些鏈並不需要全部具有相同的長度，而可各別為任意之長度。 　　[0077] 較佳實施態樣中，如下述式所示般，「介由Rd 中的Z基連結為直鏈狀時之Si原子的數目」，於全部的鏈中，為1個(左式)或2個(右式)。 　　[0078]
Figure 02_image009
[0079] 其中一實施態樣中，介由Rd 中的Z基連結為直鏈狀時之Si原子的數目為1個或2個，較佳為1個。 　　[0080] 式中，Rd2 ，可為相同或相異，例如表示羥基或可水解之基。羥基，並未有特別之限定，亦可為由可水解之基經水解所生成者。 　　[0081] 較佳為：Rd2 為-OR(式中，R表示取代或無取代之C1-3 烷基，更佳為甲基)。 　　[0082] 式中，Rd3 ，可為相同或相異，例如表示氫原子或低級烷基。該低級烷基，較佳為碳數1~20之烷基，更佳為碳數1~6之烷基，特佳為甲基。 　　[0083] 式中，p，可為相同或相異，例如，0~3之整數；q，可為相同或相異，例如，0~3之整數；r，可為相同或相異，例如，0~3之整數。其中，p’、q’及r’之總和為3。 　　[0084] 較佳實施態樣中，Rd 中的末端之Rd’ (Rd’ 不存在時，為Rd )中，上述q’較佳為2以上，例如2或3，更佳為3。 　　[0085] 較佳實施態樣中，Rd 於末端部為具有至少一種的-Si(-Z-SiRd2 q’ Rd3 r’ )2 或-Si(-Z-SiRd2 q’ Rd3 r’ )3 ，較佳為 -Si(-Z-SiRd2 q’ Rd3 r’ )3 。式中，(-Z-SiRd2 q’ Rd3 r’ )之單位，較佳為(-Z-SiRd2 3 )。更佳實施態樣中，Rd 之末端部以全部為 -Si(-Z-SiRd2 q’ Rd3 r’ )3 為佳，更佳為-Si(-Z-SiRd2 3 )3 。 　　[0086] 上述含矽烷反應性交聯基中，具有碳數1~5之烯丙基、碳數1~5之縮水甘油基、丙烯酸基，或甲基丙烯酸基者亦佳。即，上述含矽烷反應性交聯基中，Ra 、Rb 及Rc 中之至少1個，以碳數1~5之烯丙基、碳數1~5之縮水甘油基、丙烯酸基，或甲基丙烯酸基為佳。 　　[0087] L2 為直接鍵結於式(1)之環的單鍵或二價之連結基。L2 ，可列舉如，以含有由單鍵、伸烷基，或醚鍵結及酯鍵結所成之群所選出之至少1種的二價之基為佳，以含有由單鍵、碳數1~10的伸烷基，或醚鍵結及酯鍵結所成之群所選出之至少1種的碳數1~10的二價之烴基為較佳。 　　[0088] L2 ，具體而言，可列舉如，-C2 H4 -、-C3 H6 -、 -CO-O-CH2 -CH(OH)-CH2 -、-CH2 -、-C4 H8 -等。 　　[0089] 上述含矽烷反應性交聯基，可列舉如，-L2 -SiR5 3 、-L2 -Si(OR6 )3 、-L2 -Si(NR6 2 )3 、-L2 -Si(OCOR6 )3 (各式中，L2 係如上所述內容，R5 為鹵素原子，R6 各自獨立為碳數1~4之烷基)等。 　　[0090] 上述聚矽氧殘基，例如，以下所列舉之基。 　　[0091]
Figure 02_image011
[0092]
Figure 02_image013
[0093]
Figure 02_image015
[0094]
Figure 02_image017
[0095]
Figure 02_image019
[0096] (各式中，L2 為單鍵或二價之連結基、n為1~20之整數、m為0~10之整數，R31 各自獨立為一價之基，各基所具有的R31 之中，至少1個為反應性基) 　　[0097] 各基所含的多數個R31 ，各自獨立為一價之基，其可為上述之反應性基，或上述反應性基以外之基皆可。但，各基所含的多數個R31 之中，至少1個為上述反應性基。 　　[0098] 上述反應性基，例如，以由H、鹵素原子或 -OR32 (R32 為碳數1~4之烷基或碳數6~20的芳基)、-L3 -SiR5 3 (L3 為單鍵或碳數1~10的伸烷基，R5 為鹵素原子)、 -L3 -Si(OR6 )3 (L3 係如上所述內容，R6 各自獨立為碳數1~4之烷基)、-L3 -Si(NR6 2 )3 (L3 及R6 係如上所述內容)、-L3 -Si(OCOR6 )3 (L3 及R6 係如上所述內容)及含有該些基中任一者之基所成之群所選出之至少1種為佳。 　　[0099] 上述反應性基以外之基，例如，以由烷基、鹵化烷基、烷酯基、鹵化烷酯基、烷醚基、鹵化烷醚基、烷基醯胺基、鹵化烷基醯胺基、脲(uril)基、鹵化脲基、尿(urea)基、鹵化尿基、-CONRk CORl (Rk 及Rl 為獨立之H、烷基或鹵化烷基)、含糖鏈之基、聚烷醚基、芳烴基、鹵化芳烴基、含雜環之基、芳基，及，鹵化芳基所成之群所選出之至少1種為佳。 　　[0100] L2 為直接鍵結於式(1)之環的單鍵或二價之連結基。L2 中之較佳的例示，係如上所述內容。 　　[0101] 上述聚矽氧殘基，例如，以下之基等。 　　[0102]
Figure 02_image021
[0103]
Figure 02_image023
[0104]
Figure 02_image025
[0105]
Figure 02_image027
[0106]
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[0107]
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[0108]
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[0109]
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[0110]
Figure 02_image037
[0111] (各式中，L2 為單鍵或二價之連結基，R34 各自獨立為一價之基，各基所具有的R34 之中，至少1個為反應性基) 　　[0112] 各基所含的多數個R34 ，各自獨立為一價之基，其可為上述之反應性基，或上述反應性基以外之基皆可。但，各基所含的多數個R34 之中，至少1個為上述反應性基。 　　[0113] 上述反應性基，例如，以由-H、-OR35 (R35 為碳數1~4之烷基)、鹵素原子、-OH、-O-CR35 =CH2 (R35 係如上所述內容)、-OCOR35 (R35 係如上所述內容)、-OCOORj (Rj 為烷基或鹵化烷基)、-NR35 2 (R35 係如上所述內容)及含有該些基中任一者之基所成之群所選出之至少1種為佳。 　　[0114] 上述反應性基以外之基，例如，以由烷基、鹵化烷基、烷酯基、鹵化烷酯基、烷醚基、鹵化烷醚基、烷基醯胺基、鹵化烷基醯胺基、脲(uril)基、鹵化脲基、尿(urea)基、鹵化尿基、-CONRk CORl (Rk 及Rl 為獨立之H、烷基或鹵化烷基)、含糖鏈之基、聚烷醚基、芳烴基、鹵化芳烴基、含雜環之基、芳基，及，鹵化芳基所成之群所選出之至少1種為佳。 　　[0115] L2 為直接鍵結於式(1)之環的單鍵或二價之連結基。L2 中之較佳的例示，係如上所述內容。 　　[0116] 上述倍半矽氧烷殘基，例如，以下所列舉之基。 　　[0117]
Figure 02_image039
[0118]
Figure 02_image041
[0119]
Figure 02_image043
[0120]
Figure 02_image045
[0121]
Figure 02_image047
[0122] (各式中，L2 為單鍵或二價之連結基，R37 各自獨立為一價之基，各基所具有的R37 之中，至少1個為反應性基，p各自獨立為0~5000之整數) 　　[0123] 各基所含的多數個R37 各自獨立為一價之基，其可為上述之反應性基，或上述反應性基以外之基皆可。但，各基所含的多數個R37 之中，至少1個為上述反應性基。 　　[0124] 上述反應性基，例如，以由-H、-OR35 (R35 為碳數1~4之烷基)、鹵素原子、-OH、-O-CR35 =CH2 (R35 係如上所述內容)、-OCOR35 (R35 係如上所述內容)、-OCOORj (Rj 為烷基或鹵化烷基)、-NR35 2 (R35 係如上所述內容)及含有該些基中任一者之基所成之群所選出之至少1種為佳。 　　[0125] 上述反應性基以外之基，例如，以由烷基、鹵化烷基、烷酯基、鹵化烷酯基、烷醚基、鹵化烷醚基、烷基醯胺基、鹵化烷基醯胺基、脲(uril)基、鹵化脲基、尿(urea)基、鹵化尿基、-CONRk CORl (Rk 及Rl 為獨立之H、烷基或鹵化烷基)、含糖鏈之基、聚烷醚基、芳烴基、鹵化芳烴基、含雜環之基、芳基，及，鹵化芳基所成之群所選出之至少1種為佳。 　　[0126] L2 為直接鍵結於式(1)之環的單鍵或二價之連結基。L2 中之較佳的例示，係如上所述內容。 　　[0127] 式(1)所表示之化合物中，R1 之平均分子量，並未有特別之限定，一般為500~30,000，較佳為1,500~ 30,000，更佳為2,000~10,000。 　　[0128] 式(1)所表示之化合物，並未有特別之限定，其可具有5×102 ~1×105 之平均分子量。其中，較佳以具有2,000~30,000，更佳為2,500~12,000的平均分子量時，就耐UV性及摩擦耐久性之觀點為較佳。又，本發明中，「平均分子量」係指數平均分子量之意，「平均分子量」為19 F-NMR所測定之値。 　　[0129] 式(1)所表示之化合物為新穎化合物，其可例如使用以下之製造方法而可製得。 　　[0130] 上述化合物，為將下式所表示之三聚異氰酸衍生物化合物， 　　[0131]
Figure 02_image049
[0132] (式中，X1 及X2 係如上所述內容，L4 為單鍵或二價之連結基) 　　與， 　　式：R41 -COOH 　　(式中，R41 為與-COO-CH2 CH(OH)-L4 -共同構成上述R1 之一價有機基) 　　進行反應，而可製得。 　　[0133] R41 為與-COO-CH2 CH(OH)-L4 -共同構成上述R1 ，故當然含有上述之聚醚鏈。依該反應結果，將會生成R41 -COO-CH2 CH(OH)-L4 -所表示之一價有機基。R41 ，例如以R3 -(OR2 )a -L5 -((OR2 )a 為上述聚醚鏈，R3 為烷基或氟化烷基；L5 為-COO-CH2 CH(OH)-L4 -共同構成上述L之單鍵或二價之連結基) 　　所表示之一價之有機基為佳。 　　[0134] 上述化合物，又可由下式所表示之三聚異氰酸衍生物化合物， 　　[0135]
Figure 02_image051
[0136] (式中，X1 及X2 係如上所述內容，L6 為單鍵或二價之連結基) 　　與，式：R42 -O-SO2 R43 (式中，R42 為與-L6 -共同構成上述R1 的一價有機基，R43 為烷基或氟化烷基)， 　　或R42 -X26 (式中，R42 係如上所述內容，X26 為Cl、Br或I) 　　進行反應而可製得。 　　[0137] R42 為與-L6 -共同構成上述R1 ，故當然含有上述聚醚鏈。依該反應結果，將會生成R42 -L6 -所表示之一價有機基。R42 ，例如以R3 -(OR2 )a -L7 -((OR2 )a 為上述聚醚鏈，R3 為烷基或氟化烷基；L7 為與-L6 -共同構成上述L的單鍵或二價之連結基) 　　所表示之一價之有機基為較佳。 　　[0138] 又，例如，上述任一製造方法中，於導入相當於X1 及/或X2 之基的含雙鍵之基(較佳為烯丙基)後，基於上述之雙鍵與式：H-{Si(Ra )s (Rb )t (Rc )u (Rd )v }n (式中，Ra ，Rb ，Rc ，Rd 、s、t、u、v及n係如上述內容) 　　所表示之化合物進行反應時，可將 　　式：-L2 -{Si(Ra )s (Rb )t (Rc )u (Rd )v }n (式中，L2 ，Ra ，Rb ，Rc ，Rd 、s、t、u、v及n係如上述內容) 　　所表示之構造導入化合物中， 　　故亦可將作為X1 及/或X2 之由上述含矽烷反應性交聯基，或-L2 -SiR5 3 、-L2 -Si(OR6 )3 、-L2 -Si(NR6 2 )3 ，及，-L2 -Si(OCOR6 )3 (各式中，L2 為單鍵或二價之連結基，R5 為鹵素原子，R6 各自獨立為碳數1~4之烷基) 　　所成之群所選出之至少1種導入化合物中。 　　[0139] 上述表面處理層，可為單層亦可、多層亦可。 　　[0140] 本發明之基材，任一種皆可作為光學材料。 　　光學材料，可列舉如，除後記所例示之有關顯示器等的光學材料以外，又例如各式各樣的光學材料亦為較佳之例示：例如，陰極線管(CRT；例如：TV、個人電腦監視器)、液晶顯示器、電漿顯示器、有機EL顯示器、無機薄膜EL點狀矩陣顯示器、背光投影型顯示器、螢光顯示管(VFD)、電場釋出顯示器(FED；Field Emission Display)等之顯示器或該些顯示器之保護板，或該些表面施以抗反射膜處理者。 　　[0141] 本發明之基材無論任一者皆無特別之限定，皆可製得光學構件。光學構件之例，例如以下所列舉之內容：眼鏡等之透鏡；PDP、LCD等之顯示器的前保護板、抗反射板、偏光板、抗炫光板；可攜式電話、可攜式資訊端末機等之機器的觸控平板薄膜；藍光(Blu-ray(登錄商標))光碟、DVD光碟、CD-R、MO等之光碟的光碟面；光纖維等。 　　[0142] 又，本發明之基材，任一者皆可作為醫療機器或醫療材料。 　　[0143] 表面處理層之厚度，並未有特別之限定。本發明之基材為光學構件之情形，表面處理層之厚度為1~50nm，更佳為1~30nm、特佳為1~15nm之範圍時，就耐UV性、光學性能、表面平滑性、摩擦耐久性及防污性之觀點為較佳。 　　[0144] 又，一般而言，於車輛用窗玻璃、建築用窗玻璃上，皆期待其表面不要附著水滴、污染等而妨礙視野。例如，車輛用窗玻璃的表面，於附著雨滴、塵埃、污染等，或受到大氣中濕度或溫度的影響而使水份凝縮時，將會造成透明性、透視性惡化，而會妨礙汽車等車輛之行駛。因此，對於附著於汽車用的窗玻璃的水滴，常使用雨刷、手等進行擦拭等的物理手段予以去除。因此，該些車輛用窗玻璃、建築用窗玻璃所使用的玻璃，除需要優良的撥水性、防污性以外，特別尋求一種可長久維持該些特性的耐候性、耐摩耗性等。本發明之基材，無論任一種，皆適合使用於上述車輛用窗玻璃或建築用窗玻璃等。 　　[0145] 本發明之基材，可見光領域中之平均透過率為85%以上，較佳為90%以上，及8.0%以下的霧值，故使用於車輛用窗玻璃或建築用窗玻璃之際，就可得到優良透明性之觀點，而為較佳。 　　[0146] 本發明所稱之可見光領域中之平均透過率定義為，將400~700nm為止的可見光領域的透過率中，將至少每5nm測定所求得的可見光領域的各透過率加總，並求取其平均値而定義者。各測定波長中之透過率，可使用以往公知的測定機器，例如，經使用島津製作所公司製之分光度計UVIDFC-610、日立製作所公司製之330型自記分光度計、U-3210型自記分光度計、U-3410型自記分光度計、U-4000型自記分光度計等測定後，而可求得。 　　[0147] 本發明之基材，任一者皆適合使用於大廈用的內部或外部窗、眼鏡、車輛的前擋玻璃、側邊玻璃、後擋風玻璃、後窗邊小玻璃、側邊照後鏡、手錶及游泳用蛙鏡等之玻璃或透鏡、裝置及機器的玻璃蓋、機車安全帽或安全帽用之前遮鏡、望遠鏡之透鏡或攝影機之透鏡等之玻璃透鏡、玻璃安全網版，或防濺壁等之透明分離裝置，及化學反應槽、生物學或醫療用槽、培養器、容器、微波爐、烤麵包機，或冰箱等之裝置或機器用的玻璃門或窗等之玻璃或塑膠窗、櫥窗玻璃、防盜玻璃、不銹鋼製的水管用之水龍頭、蓮蓬頭等。 　　[0148] 前述用語「車輛」，係指乘用車、麵包車、迷你麵包車、巴士、SUV(運動用多目的車)、貨車、皮卡、電車、輕軌電車、拖拉機、機車、牽引車、小貨車、推土機(Bulldozer)、攪拌車及推土機(Earthmover)等大型車輛移動機、飛機、小艇、船、火箭及其他樣式的輸送機等車輛之意。 　　[0149] 前擋風玻璃可固定於車輛上，又，可由車輛取出或可以去除。前擋風玻璃，具體而言，可為強化玻璃、塑膠等之聚合物材料，或聚合物材料強化或層合玻璃製者。具體的汽車前擋風玻璃，於塑膠層中，多具有層合於其中間的2個以上的玻璃薄片。側邊玻璃或後擋風玻璃、後窗邊小玻璃等車輛的其他窗戶，亦可使用本發明之基材。就具有可穿透的良好視野之觀點，車輛的前擋玻璃必須具有撥水性，因此，雨滴、水痕或塵埃不易附著於前擋風玻璃上。 　　[0150] 又，本發明之基材為上述基材中所說明的車載玻璃或建築構件、石材等情形時，其表面處理層的厚度，以1nm~20μm，更佳為3nm~1μm、特佳為5~100nm之範圍時，就耐UV性、表面平滑性、摩擦耐久性及防污性之觀點為較佳。 　　[0151] 本發明之基材為前擋風玻璃之情形，基材之厚度，可為2~30mm，就維持玻璃強度之觀點，亦可為3mm以上、20mm以下，更佳為4mm以上且為8mm以下。又，本發明之基材為側邊玻璃及後擋風玻璃之情形，基材之厚度，可為3~15mm，較佳為4~7mm。 　　[0152] 上述基材，可為上述表面處理層與上述基材之間的中間層，或將上述表面處理層直接設置於上述基材上亦可，就可充分發揮上述基材本身的特性，且容易製造，對經濟面上也為有利之狀況的觀點，以將上述表面處理層直接設置於上述基材上為佳。 　　[0153] 上述表面處理層，可再含有抗氧化劑、增黏劑、均染劑、消泡劑、抗靜電劑、抗霧化劑、紫外線吸收劑、顏料、染料、二氧化矽等之無機微粒子、鋁糊料、滑石、玻璃碎片、金屬粉等之填充劑、丁基化羥基甲苯(BHT)、啡噻
Figure 106132747-A0304-12-0020-4
(phenothiazine)(PTZ)等之聚合阻擋劑等。 　　[0154] 上述表面處理層之形成，可將式(1)所表示之化合物對基材表面，以被覆該表面的方式適當地實施即可。上述表面處理層之形成方法，雖並未有特別之限定，但例如，可使用濕潤被覆法及乾燥被覆法。 　　[0155] 濕潤被覆法之例，可列舉如，浸漬塗覆、旋轉塗覆、流動塗覆、噴霧塗覆、滾筒塗覆、凹版塗覆及類似之方法等。 　　[0156] 乾燥被覆法之例，可列舉如，蒸鍍(通常，例如真空蒸鍍)、濺鍍、CVD及類似之方法等。蒸鍍法(通常，例如真空蒸鍍法)之具體例，可列舉如，電阻加熱、電子束、使用微波等的高周波加熱、離子束及類似之方法等。CVD方法的具體例，可列舉如，電漿-CVD、光學CVD、熱CVD及類似之方法等。 　　[0157] 此外，亦可使用常壓電漿法予以被覆。 　　[0158] 式(1)所表示之化合物，於多孔質物質時，例如可將多孔質的陶瓷材料、金屬纖維，例如可將鋼絲棉固定為綿狀物後浸漬於其中，而形成顆粒。當該顆粒，例如，可使用真空蒸鍍處理。 　　[0159] 使用濕潤被覆法之情形，上述表面處理層，可適當地將含有式(1)所表示之化合物，及，溶劑的組成物使用於基材之方式形成。 　　[0160] 上述溶劑，可列舉如，含氟之有機溶劑或不含氟之有機溶劑等。 　　[0161] 上述含氟之有機溶劑，可列舉如，例如，全氟己烷、全氟辛烷、全氟甲基環己烷、全氟二甲基環己烷、全氟十氫萘、全氟烷基乙醇、全氟苯、全氟甲苯、全氟烷胺(Fluorinert(商品名)等)、全氟烷醚、全氟丁基四氫呋喃、聚氟脂肪族烴(Asahikurin AC6000(商品名))、氫化氟氯碳(Asahikurin AK-225(商品名)等)、氫氟醚(Novec (商品名)、HFE-7100(商品名)、HFE-7200(商品名)、HFE-7300(商品名)、HFE-7000(商品名)、Asahikurin AE-3000(商品名)等)、1,1,2,2,3,3,4-七氟環戊烷、1,1,1,3,3-五氟丁烷、含氟醇、全氟烷基溴化物、全氟烷基碘化物、全氟聚醚(Krytox(商品名)、Demnum(商品名)、Fomblin(商品名)等)、1,3-雙三氟甲基苯、甲基丙烯酸2-(全氟烷基)乙酯、丙烯酸2-(全氟烷基)乙酯、全氟烷基伸乙酯、Freon 134a，及六氟丙烯低聚物、1,2-二氯-1,3,3,3-四氯-1-丙烯等。 　　[0162] 上述不含氟之有機溶劑，可列舉如，例如，丙酮、甲基異丁酮、環己酮、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丁醚乙酸酯、二丙二醇二甲醚戊烷、己烷、庚烷、辛烷、十六烷、二氯甲烷、氯仿、四氯化碳、二氯乙烷、二硫化碳、苯、甲苯、二甲苯、硝基苯、二乙醚、二甲氧基乙烷、二乙二醇二醚(glyme)、三乙二醇二醚、乙酸乙酯、乙酸丁酯、二甲基甲醯胺、二甲基亞碸、2-丁酮、乙腈、苯腈、丁醇、1-丙醇、2-丙醇、乙醇、甲醇，及二丙酮醇等。 　　[0163] 其中，上述溶劑較佳為，甲基異丁酮、丙二醇單甲醚、十六烷、乙酸丁酯、丙酮、2-丁酮、環己酮、乙酸乙酯、二丙酮醇或2-丙醇。 　　[0164] 上述溶劑，可單獨使用1種亦可、將2種以上組合使用亦可，於使用上述不含氟之有機溶劑之情形，以與上述含氟之有機溶劑組合使用為佳。 　　[0165] 上述溶劑，於上述組成物中，以使用1~99.99質量%之範圍為佳。更佳為10~99.9質量%、特佳為50~99質量%。 　　[0166] 上述組成物，除式(1)所表示之化合物，及，溶劑以外，可再含有抗氧化劑、增黏劑、均染劑、消泡劑、抗靜電劑、抗霧化劑、紫外線吸收劑、顏料、染料、二氧化矽等之無機微粒子、鋁糊料、滑石、玻璃碎片、金屬粉等之填充劑、丁基化羥基甲苯(BHT)、啡噻
Figure 106132747-A0304-12-0020-4
(phenothiazine)(PTZ)等之聚合阻擋劑、觸媒、其他成份等。 　　[0167] 上述觸媒，可列舉如，酸(例如乙酸、三氟乙酸等)、鹼(例如氨、三乙胺、二乙胺等)、過渡金屬(例如Ti、Ni、Sn等)等。 　　[0168] 上述觸媒之含量，可列舉如，相對於式(1)所表示之化合物，為1質量ppm~5質量%，較佳為5~5000質量ppm，更佳為10~1000質量ppm。 　　[0169] 觸媒，可促進式(1)所表示之化合物的水解及脱水縮合，而促進表面處理層之形成。 　　[0170] 又，其他成份，例如，上述成份以外，可列舉如，四乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、甲基三乙醯氧基矽烷等。該情形之含量，可列舉如，相對於式(1)所表示之化合物，為10質量ppm~20質量%，較佳為3質量ppm~5質量%，更佳為10質量ppm~1質量%。其他成份，例如，尚包含其他表面處理化合物、可理解其為含氟油(非反應性)之氟聚醚化合物，較佳為全氟(聚)醚化合物(以下，亦稱為「含氟油」)、理解為聚矽氧油(非反應性)之聚矽氧化合物(以下，亦稱為「聚矽氧油」)等。 　　[0171] 其他表面處理化合物，可列舉如下，但並未有特別之限定，例如，含有至少1種下述通式(1A)、(2A)、(1B)、(2B)、(1C)、(2C)、(1D)及(2D)所表示之基中任一者的全氟(聚)醚基的矽烷化合物： 　　[0172]
Figure 02_image053
[0173] [式中： 　　PFPE3 ，可為相同或相異，例如，式： 　　-(OC6 F12 )a1 -(OC5 F10 )b1 -(OC4 F8 )c1 -(OC3 F6 )d1 -(OC2 F4 )e1 -(OCF2 )f1 - 　　(式中，a1、b1、c1、d1、e1及f1，各自獨立為0以上、200以下之整數，a1、b1、c1、d1、e1及f1之總和至少為1，附有a1、b1、c1、d1、e1或f1的括弧所包含的各重複單位之存在順序，於式中可為任意之順序)。 　　Rf3 ，可為相同或相異，例如，表示可被1個或1個以上的氟原子所取代的碳數1~16之烷基； 　　R53 ，可為相同或相異，例如，表示羥基或可水解之基； 　　R54 ，可為相同或相異，例如，表示氫原子或碳數1~22之烷基； 　　R51 ，可為相同或相異，例如，表示氫原子或鹵素原子； 　　R52 ，可為相同或相異，例如，表示氫原子或低級烷基； 　　n3，於各個(-SiR51 n3 R52 3-n3 )單位中，為獨立表示0~3之整數； 　　其中，式(1A)、(2A)、(1B)及(2B)中，至少一種的n3為1~3之整數； 　　X4 ，各自獨立表示單鍵或2~10價之有機基； 　　X5 ，可為相同或相異，例如，表示單鍵或2價之有機基； 　　t，可為相同或相異，例如，表示1~10之整數； 　　α1，各自獨立為1~9之整數； 　　α1’，各自獨立為1~9之整數； 　　X6 ，各自獨立表示單鍵或2~10價之有機基； 　　β1，各自獨立為1~9之整數； 　　β1’，各自獨立為1~9之整數； 　　X7 ，各自獨立表示單鍵或2~10價之有機基； 　　γ1，各自獨立為1~9之整數； 　　γ1’，各自獨立為1~9之整數； 　　Ra3 ，可為相同或相異，例如，表示 -Z3 -SiR61 p1 R62 q1 R63 r1 ； 　　Z3 ，可為相同或相異，例如，表示氧原子或2價之有機基； 　　R61 ，可為相同或相異，例如，表示Ra3’ ； 　　Ra3’ ，與Ra3 具有相同之意義； 　　Ra3 中，介由Z3 基連結為直鏈狀時之Si的個數，最大為5個； 　　R62 ，可為相同或相異，例如，表示羥基或可水解之基； 　　R63 ，可為相同或相異，例如，表示氫原子或低級烷基； 　　p1，可為相同或相異，例如，0~3之整數； 　　q1，可為相同或相異，例如，0~3之整數； 　　r1，可為相同或相異，例如，0~3之整數； 　　其中，式(1C)及(2C)中，至少一種的q1為1~3之整數； 　　Rb3 ，可為相同或相異，例如，表示羥基或可水解之基； 　　Rc3 ，可為相同或相異，例如，表示氫原子或低級烷基； 　　k1，可為相同或相異，例如，1~3之整數； 　　l1，可為相同或相異，例如，0~2之整數； 　　m1，可為相同或相異，例如，0~2之整數； 　　X9 ，各自獨立表示單鍵或2~10價之有機基； 　　δ1，各自獨立為1~9之整數； 　　δ1’，各自獨立為1~9之整數； 　　Rd3 ，可為相同或相異，例如，表示 -Z4 -CR71 p2 R72 q2 R73 r2 ； 　　Z4 ，可為相同或相異，例如，表示氧原子或2價之有機基； 　　R71 ，可為相同或相異，例如，表示Rd3’ ； 　　Rd3’ ，與Rd3 具有相同之意義； 　　Rd3 中，介由Z4 基連結為直鏈狀時之C，最大為5個； 　　R72 ，可為相同或相異，例如，表示 -Y-SiR74 n2 R75 3-n2 ； 　　Y，可為相同或相異，例如，表示2價之有機基； 　　R74 ，可為相同或相異，例如，表示羥基或可水解之基； 　　R75 ，可為相同或相異，例如，表示氫原子或低級烷基； 　　n2於每個(-Y-SiR74 n2 R75 3-n2 )單位中，為各自獨立表示1~3之整數； 　　其中，式(1D)及(2D)中，至少一種的n2為1~3之整數； 　　R73 ，可為相同或相異，例如，表示氫原子或低級烷基； 　　p2，可為相同或相異，例如，0~3之整數； 　　q2，可為相同或相異，例如，0~3之整數； 　　r2，可為相同或相異，例如，0~3之整數； 　　Re3 ，可為相同或相異，例如，表示 -Y-SiR74 n2 R75 3-n2 ； 　　Rf3 ，可為相同或相異，例如，表示氫原子或低級烷基； 　　k2，可為相同或相異，例如，0~3之整數； 　　l2，可為相同或相異，例如，0~3之整數； 　　m2，可為相同或相異，例如，0~3之整數； 　　其中，式(1D)及(2D)中，至少一種的q2為2或3，或，至少一種的l2為2或3]。 　　[0174] 上述含氟油，可列舉如，但並未有特別之限定，例如，以下通式(3)所表示之化合物(全氟(聚)醚化合物)等。 　　Rf5 -(OC4 F8 )a’ -(OC3 F6 )b’ -(OC2 F4 )c’ -(OCF2 )d’ -Rf6 ･･･(3) 　　式中，Rf5 表示可被1個或1個以上的氟原子所取代的碳數1~16烷基(較佳為C1-16 的全氟烷基)，Rf6 表示可被1個或1個以上的氟原子所取代的碳數1~16烷基(較佳為C1-16 全氟烷基)、氟原子或氫原子，Rf5 及Rf6 ，更佳為各自獨立之C1-3 全氟烷基。 　　a’、b’、c’及d’，分別表示構成聚合物主骨架的全氟(聚)醚的4種重複單位數，其為互相獨立之0以上、300以下之整數，且a’、b’、c’及d’之總和至少為1，較佳為1~300，更佳為20~300。附有字a’、b’、c’或d’之括弧所包括的各重複單位之存在順序，於式中可為任意之順序。該些重複單位中，-(OC4 F8 )-可為-(OCF2 CF2 CF2 CF2 )-、 -(OCF(CF3 )CF2 CF2 )-、-(OCF2 CF(CF3 )CF2 )-、 -(OCF2 CF2 CF(CF3 ))-、-(OC(CF3 )2 CF2 )-、-(OCF2 C(CF3 )2 )-、-(OCF(CF3 )CF(CF3 ))-、-(OCF(C2 F5 )CF2 )-及 -(OCF2 CF(C2 F5 ))-中之任一者，較佳為-(OCF2 CF2 CF2 CF2 )-。-(OC3 F6 )-可為-(OCF2 CF2 CF2 )-、-(OCF(CF3 )CF2 )-及 -(OCF2 CF(CF3 ))-中之任一者，較佳為-(OCF2 CF2 CF2 )-。 -(OC2 F4 )-可為-(OCF2 CF2 )-及-(OCF(CF3 ))-中之任一者，較佳為-(OCF2 CF2 )-。 　　[0175] 上述通式(3)所表示之全氟(聚)醚化合物之例，可列舉如，以下通式(3a)及(3b)中任一所示之化合物(可為1種或2種以上的混合物)等。 　　Rf5 -(OCF2 CF2 CF2 )b’’ -Rf6 ･･･(3a) 　　Rf5 -(OCF2 CF2 CF2 CF2 )a’’ -(OCF2 CF2 CF2 )b’’ -(OCF2 CF2 )c’’ - (OCF2 )d’’ -Rf6 ･･･(3b) 　　該些式中，Rf5 及Rf6 係如上述內容；式(3a)中，b’’為1以上、100以下之整數；式(3b)中，a’’及b’’，各自獨立為1以上30以下之整數，c’’及d’’各自獨立為1以上、300以下之整數。附有字a’’、b’’、c’’、d’’之括弧所包括的各重複單位之存在順序，於式中可為任意之順序。 　　[0176] 上述含氟油，可具有1,000~30,000的平均分子量。如此，即可的到更高的表面平滑性。 　　[0177] 上述組成物中，含氟油相對於上述合計100質量份(各個組成物中，為2種以上的情形時，為該些之合計，以下亦相同)，例如含有0~400質量份，較佳為0~200質量份，更佳為0.1~50質量份。 　　[0178] 含氟油，可於維持耐UV性之狀態下，提高表面處理層的表面平滑性。 　　[0179] 上述組成物中，可再含有式(2)所表示之化合物： 　　[0180]
Figure 02_image055
[0181] (式中，X1 及X2 係如上述內容，R4 表示含有聚醚鏈之二價之有機基，上述聚醚鏈為， 　　式：-(OCF2 CF2 CX21 2 )n21 (OCF2 CF(CF3 ))n22 (OCF2 CF2 )n23 (OCF2 )n24 (OC4 F8 )n25 - 　　(式中，n21、n22、n23、n24及n25，各自獨立為0或1以上之整數；X21 各自獨立為H、F或Cl；各重複單位之存在順序可為任意之順序)所表示之鏈，及， 　　式：-(OC2 F4 -R27 )f’ - 　　(式中，R27 為由OC2 F4 、OC3 F6 及OC4 F8 所選出之基，f’為2~100之整數)所表示之鏈 　　所成之群所選出之至少1種之鏈)。 　　[0182] 上述組成物中，式(2)所表示之化合物，相對於上述合計100質量份(各個組成物中，為2種以上的情形時，以下亦相同)，例如含有0~100質量份，較佳為0~50質量份，更佳為0~25質量份。 　　[0183] 使用乾燥被覆法之情形，上述表面處理層，可將式(1)所表示之化合物實施乾燥被覆法而形成，又，上述組成物亦可使用乾燥被覆法形成。 　　[0184] 表面處理層之形成，以於表面處理層中，使式(1)所表示之化合物與實施水解及脱水縮合所使用的觸媒共存之方式實施為佳。簡單而言，實施濕潤被覆法之情形，亦可於將式(1)所表示之化合物使用溶劑稀釋後，於施用於基材表面之前，將觸媒添加於式(1)所表示之化合物的稀釋液。實施乾燥被覆法之情形，可將添加有觸媒的本發明之表面處理劑直接進行蒸鍍(通常為真空蒸鍍)處理，或將添加有觸媒的式(1)所表示之化合物，浸漬於鐵或銅等之金屬多孔體所形成的顆粒狀物質，進行蒸鍍(通常、真空蒸鍍)處理皆可。 　　[0185] 其次，必要時，可對表面處理層進行後處理。該後處理，並未有特別之限定，例如，可逐次地實施供應水份及乾燥加熱等方式亦可，更詳細而言，例如可依以下方式實施。 　　[0186] 如上述般，於基材表面形成上述表面處理層之後，將水份供應於該表面處理層(以下，亦稱為「前驅體層」)。水份之供應方法，並未有特別之限定，例如，可使用經由前驅體層(及基材)與周圍之氛圍的溫度差產生之結露，或吹拂水蒸氣(蒸氣)等之方法。 　　[0187] 水份之供應，例如為0~250℃，較佳為60℃以上，特佳為100℃以上，上限較佳為180℃以下，特佳為150℃以下之氛圍下實施。於該溫度範圍中供應水份時，可進行水解反應。此時的壓力並未有特別之限定，而可為通常的常壓。 　　[0188] 其次，將該前驅體層於該基材之表面，以超過60℃之乾燥氛圍下進行加熱。乾燥加熱方法，並未有特別之限定，其可將前驅體層與基材同時，配置於超過60℃，較佳為100℃之溫度，且例如於250℃以下，較佳為180℃以下之溫度，且為不飽和水蒸氣壓的氛圍下即可。此時之壓力並未有特別之限定，其可使用通常的常壓。 　　[0189] 於該氛圍下，可使式(1)所表示之化合物之間，使鍵結於Si之基於相互間迅速地進行脱水縮合。又，於該化合物與基材之間，可使當該化合物水解後鍵結於Si之基，與存在於基材表面的反應性基之間，迅速地進行反應，而於存在基材表面的反應性基為羥基之情形，可進行脱水縮合。其結果，可使式(1)所表示之化合物與基材之間形成鍵結。 　　[0190] 上述水份供應及乾燥加熱，可使用過熱水蒸氣連續的實施。 　　[0191] 隨後實施上述之後處理。上述後處理，為基於維持高耐UV性之狀態，而使摩擦耐久性更向上提升之目的所實施者，需注意的是，該處理並非製造本發明之基材時所必須進行之處理。例如，於基材表面形成上述表面處理層之後，隨即將其靜置時，即可製得本發明之基材。 　　[0192] 依上述方式，於基材表面形成表面處理層時，即可製得本發明之基材。依此方式所製得之表面處理層，具有良好的耐UV性。又，該表面處理層，除具有良好的耐UV性的同時，依所使用的組成物之組成內容而有所不同，而會產生撥水性、撥油性、防污性(例如防止指紋等所造成的污染之附著)、表面平滑性(或潤滑性，例如容易擦拭指紋等所造成之污染，或對手指具有優良之觸感)、具有高摩擦耐久性等，而適合被利用作為機能性薄膜。
[實施例] 　　[0193] 隨後將本發明以列舉實施例之方式進行說明，但本發明並不受該實施例所限定。又，本實施例中，以下所示之化學式全部為表示平均之組成，構成全氟聚醚之重複單位((CF2 CF2 CF2 O)，或(CF2 CF2 O)、(CF2 O))之存在順序可為任意之順序。 　　[0194] 合成例1 全氟聚醚(PFPE)含化合物(A)之製造方法 　　將1,3-二烯丙基-三聚異氰酸2.0g溶解於m-六氟二甲苯與二甲基甲醯胺的混合溶劑中。加入碳酸鉀1.0g，於攪拌中進行加熱。加入溶解有CF3 CF2 CF2 O-(CF2 CF2 CF2 O)23 -CF2 CF2 CH2 -三氟甲烷磺酸酯4.0g之m-六氟二甲苯，再持續進行加熱、攪拌。反應終點使用19 F-NMR與1 H-NMR予以確認。將純水加入反應液中，經由分液處理後，製得下述含PFPE之化合物(A)。 含PFPE之化合物(A)： 　　[0195]
Figure 02_image057
[0196] 合成例2 全氟聚醚(PFPE)含化合物(B)之製造方法 　　將含PFPE之化合物(A)10.1g、m-六氟二甲苯40g、三乙醯氧基甲基矽烷0.04g、三氯矽烷1.93g加入，於10℃下進行30分鐘之攪拌。隨後，加入溶解有含2%的1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二矽氧烷之Pt錯合物的二甲苯溶液0.115ml之後，進行4小時之加熱攪拌。隨後，於減壓下餾除揮發成份之後，將甲醇0.23g與鄰甲酸三甲酯6.1g之混合溶液加入其中，進行3小時之加熱攪拌。隨後，進行純化結果，製得末端具有三甲氧基矽烷基的下述含PFPE之化合物(B)9.9g。 含PFPE之化合物(B)： 　　[0197]
Figure 02_image059
[0198] 合成例3 全氟聚醚(PFPE)含化合物(C)及(D)之製造方法 　　將1,3-二烯丙基-三聚異氰酸2.0g溶解於m-六氟二甲苯與二甲基甲醯胺的混合溶劑中。加入碳酸鉀1.0g，於攪拌中進行加熱。再加入溶解有m-六氟二甲苯的CF3 O-(CF2 CF2 O)m (CF2 O)n CF2 CF2 CH2 -三氟甲烷磺酸酯(m=22，n=19)4.0g持續進行加熱、攪拌。反應終點使用19 F-NMR與1 H-NMR予以確認。將純水加入反應液中，經由分液處理後，製得下述含PFPE之化合物(C)。 含PFPE之化合物(C)： 　　[0199]
Figure 02_image061
[0200] 隨後，除將合成例2的含PFPE之化合物(A)變更為含PFPE之化合物(C)以外，其他皆依與合成例2相同方法，製得末端具有三甲氧基矽烷基的下述含PFPE之化合物(D)9.8g。 含PFPE之化合物(D)： 　　[0201]
Figure 02_image063
[0202] 合成例4 全氟聚醚(PFPE)含化合物(I)及(J)之製造方法 　　將含PFPE之化合物(C)10.0g、m-六氟二甲苯45g、三乙醯氧基甲基矽烷0.04g、二氯甲基矽烷1.41g加入，於10℃下進行30分鐘之攪拌。隨後，加入含2%的1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二矽氧烷之Pt錯合物之二甲苯溶液0.136ml後，進行加熱攪拌。隨後，餾除揮發成份之後，氯化乙烯基鎂(1.6M之THF溶液)15ml，於室溫下攪拌。隨後，進行純化結果，製得末端具有甲基二乙烯基矽烷基的下述含PFPE之化合物(I)9.5g。 含PFPE之化合物(I)： 　　[0203]
Figure 02_image065
[0204] 隨後，將含PFPE之化合物(I)9.5g、m-六氟二甲苯42g、三乙醯氧基甲基矽烷0.04g、三氯矽烷2.30g加入，於10℃下進行30分鐘之攪拌。隨後，加入含有2%的1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二矽氧烷之Pt錯合物的二甲苯溶液0.230ml之後，進行4小時之加熱攪拌。隨後，餾除揮發成份之後，加入甲醇0.30g與鄰甲酸三甲酯7.56g之混合溶液後，進行加熱攪拌。隨後，進行純化結果，製得末端具有三甲氧基矽烷基的下述含PFPE之化合物(J)9.6g。 含PFPE之化合物(J)： 　　[0205]
Figure 02_image067
[0206] 實施例1 　　將合成例2所得之含PFPE之化合物(B)，以濃度達20wt%之方式，溶解於氫氟醚(3M公司製、Novec HFE7200)，而製得表面處理劑1。 　　[0207] 將表面處理劑1真空蒸鍍於化學強化玻璃(康寧公司製、「金剛」玻璃、厚度0.7mm)上。真空蒸鍍之處理條件為，於壓力3.0×10-3 Pa下，首先將二氧化矽以7nm之厚度，蒸鍍於該化學強化玻璃表面，而形成二氧化矽膜，隨後，以每一片化學強化玻璃(55mm×100mm)，蒸鍍表面處理劑2mg(即，含有化合物(B)0.4mg)。隨後，將附有蒸鍍膜的化學強化玻璃，於大氣下、恆溫槽內進行140℃、30分鐘之加熱。經此處理，使蒸鍍膜硬化，而製得具有表面處理層的基材(1)。 　　[0208] 實施例2 　　將合成例3所得的含PFPE之化合物(D)進行與實施例1相同的處理，而製得基材(2)。 　　[0209] 實施例3 　　將合成例4所得的含PFPE之化合物(J)進行與實施例1相同的處理，而製得基材(3)。 　　[0210] 比較例1~4 　　除將含PFPE之化合物(B)變更為使用對照化合物(E)、(F)、(G)、(H)以外，其他皆依與實施例1相同方法，製得基材(4)~(7)。 　　[0211] 對照化合物(E)
Figure 02_image069
[0212] 對照化合物(F)
Figure 02_image071
[0213] 對照化合物(G)
Figure 02_image073
[0214] 對照化合物(H)
Figure 02_image075
[0215] (耐候性促進試驗評估) 　　對依實施例1、2、3及比較例1~4所製得之基材(1)~(7)，進行耐候性促進試驗。耐候性促進試驗，係如以下所述，為進行UVB照射之試驗。UVB照射，為使用UVB-313燈(Q-Lab公司製、310nm之輻射照度為0.63 W/m2 )，將燈與基材的表面處理層之距離設定為5cm，於載有基材的板之溫度為63℃下進行。UVB照射，可連續的進行，於測定水的靜態接觸角時，為先將基材取出，將表面處理層使用充分浸透純水的無塵紙(商品名、十條金百利公司製)重複擦拭5循環後，再使用充分浸透有乙醇的其他無塵紙擦拭5循環後，使其乾燥。隨後，立即測定其水的靜態接觸角。 　　[0216] ＜水的靜態接觸角之測定方法＞ 　　水的靜態接觸角，為使用全自動接觸角測量計DropMaster700(協和界面科學公司製)，依以下的方法進行測定者。於水平置放的基板上，由微注射器滴下2μL之水，使用顯微鏡攝影機攝影滴下1秒後的靜止畫面。水的靜態接觸角之測定値，為分別測定基材上的表面處理層上，被UVB照射處所中的相異5點，算出其平均値後予以使用。 　　[0217] 實施例的各數値，為依以下方法進行測定。 　　[0218] 首先，初期評估為，對於形成表面處理層後的基材，測定UVB照射前的水的靜態接觸角(UV照射時間0小時)。隨後，對於照射特定時間UVB後的表面處理層，分別測定水的靜態接觸角。評估為由開始UVB照射起，每24小時測定，至水的靜態接觸角低於80度為止，或累積照射時間到600小時為止之方式進行。其結果如表1所示。 　　[0219]
Figure 02_image077
[0220] 由表1結果得知，使用具有實施例1、2及3的含PFPE之化合物所形成的表面處理層之基材，與使用具有比較例1~4的矽烷化合物所形成的表面處理層之基材相比較時，可使伴隨UV照射所造成的接觸角降低之現象大幅地受到抑制，而可長期間維持高撥水性。此點應為依實施例1、2及3所形成的基材中，因UV照射為起因的表面處理層之分解，受到抑制所得之效果。 　　[0221] 實施例4、5、6、比較例5、6、7、8 鋼絲棉摩擦耐久性評估 　　對於於實施例1、2、3及比較例1~4中，形成表面處理層的基材(1)~(7)，首先的初期評估為，於形成表面處理層之後，於表面尚未接觸任何物質之狀態下，測定水的靜態接觸角(摩擦次數 零次)。隨後，進行鋼絲棉摩擦耐久性之評估。具體而言，為將形成表面處理層的基材水平配置，使鋼絲棉(編號#0000、尺寸5mm×10mm×10mm)接觸於基材的表面處理層，並於其上施以1,000gf的荷重，隨後，於施加荷重之狀態，使鋼絲棉以140mm/秒之速度往返。每2000次往返時，測定水的靜態接觸角(度)，接觸角測定値未達100度的時點，則停止評估。實施例4、5、6、比較例5、6、7、8的結果，係如表2所示(表中，記號「-」表示未進行測定)。 　　[0222]
Figure 02_image079
[0223] 由表2結果得知，具有使用含有實施例4、5及6的全氟聚醚基的矽烷化合物所形成的表面處理層之基材，確認可提高摩擦耐久性。 [產業上利用性] 　　[0224] 本發明之基材，可適當地使用於無論前擋風玻璃、側邊玻璃、後擋風玻璃、照後鏡、感測器攝影機透鏡等的車載用途、顯示器等的資訊端末用途、窗玻璃等的建材用途、屋外的防盜攝影機、監視攝影機、水管的水龍頭或蓮蓬頭等。又，本發明之基材，無論任一種，除皆具有高耐UV性以外，亦具有撥水性、撥油性、防污性、防水性、高摩擦耐久性等，故適合使用於屋外所尋求的耐候性之用途，而為有特別之限定，亦適合使用作為防污性塗覆基材或防水性塗覆基材。 　　本發明之基材，無論任一種，亦適合使用於光學構件、觸控平板用之光學玻璃零件、車載攝影機或監視器用攝影機等光學透鏡零件、光學材料、光學構件、醫療機器、醫療材料等。 　　[0225] 光學材料，可列舉如，除有關後述所例示的顯示器等之光學材料以外，亦適合使用於各式各樣的光學材料，較佳之例示：例如，陰極線管(CRT；例如：TV、個人電腦監視器)、液晶顯示器、電漿顯示器、有機EL顯示器、無機薄膜EL點狀矩陣顯示器、背光投影型顯示器、螢光顯示管(VFD)、放電顯示器(FED；Field Emission Display)等顯示器或該些顯示器的保護板，或該些表面施有抗反射膜處理者。 　　[0226] 光學構件之例，可列舉如，以下所示內容：眼鏡等之透鏡；PDP、LCD等之顯示器的前面保護板、抗反射板、偏光板、抗炫光板；可攜式電話、可攜式資訊端末機等機器的觸控平板薄片；藍光(Blu-ray(登錄商標))光碟、DVD光碟、CD-R、MO等光碟之光碟面；光纖維等。 　　[0227] 又，本發明之基材，無論任一種，皆適合使用於車輛用窗玻璃或建築用窗玻璃。 　　車輛用窗玻璃，可列舉如，車輛的前擋玻璃、側邊玻璃、後擋風玻璃、後窗邊小玻璃、側邊照後鏡、後窗邊小玻璃、側邊照後鏡等。 　　建材用窗玻璃，可列舉如，大廈用的內部或外部窗玻璃等。 　　又，本發明之基材，無論任一種，皆適合使用於眼鏡、手錶及游泳用蛙鏡等之玻璃或透鏡、裝置及機器的玻璃蓋、機車安全帽或安全帽用之前遮鏡、望遠鏡透鏡或攝影機透鏡等玻璃透鏡、玻璃安全網版，或防濺壁等透明的分離裝置、及化學反應槽、生物學的或醫療槽、培養器、容器、微波爐、烤麵包機，或冰箱等之裝置或機器用的玻璃門或窗等玻璃或塑膠窗、櫥窗玻璃、防盜玻璃等。
Figure 106132747-A0101-11-0002-1

Claims (7)

  1. 一種基材，其特徵為，具有表面處理層，且於下述條件進行400小時的耐候性促進試驗後的水的靜態接觸角為100度以上者；<耐候性促進試驗之條件>使用UVB-313燈(波長310nm下之輻射照度為0.63W/m2)，將燈與基材的表面處理層之距離設定為5cm，並於每照射24小時後，使用水與乙醇擦拭表面處理層後使其乾燥。
  2. 一種基材，其特徵為，具有表面處理層，且於下述條件進行250小時耐候性促進試驗後的水的靜態接觸角為110度以上者；<耐候性促進試驗之條件>使用UVB-313燈(波長310nm下之輻射照度為0.63W/m2)，將燈與基材的表面處理層之距離設定為5cm，並於每照射24小時後，使用水與乙醇擦拭表面處理層後使其乾燥。
  3. 如請求項1或2之基材，其於依下述條件下，進行6000次鋼絲棉摩擦耐久性評估後的水的靜態接觸角為100度以上；<鋼絲棉摩擦耐久性評估之條件> 使鋼絲棉(編號#0000、尺寸5mm×10mm×10mm)接觸於基材之表面處理層，於其上施以1,000gf的荷重，於施加荷重之狀態，使鋼絲棉以140mm/秒的速度往返摩擦，將每一往返設為一次。
  4. 一種基材，其特徵為，具有表面處理層，且表面處理層為含有式(1)所表示之化合物；
    Figure 106132747-A0305-02-0072-1
     {式中，R1為式：R3-(OR2)a-L-[(OR2)a為聚醚鏈；R3為烷基或氟化烷基；L為單鍵或二價之連結基]所表示之一價有機基(但，含有胺基甲酸酯鍵結者除外)；X1為一價的含Si之基；X2表示一價之基；前述聚醚鏈為式：-(OC6F12)m11-(OC5F10)m12-(OC4F8)m13-(OC3X10 6)m14-(OC2F4)m15-(OCF2)m16-[式中，m11、m12、m13、m14、m15及m16，各自獨立為0或1以上之整數；X10各自獨立為H、F或Cl；各重複單位之存在順序可為任意之順序]所表示之鏈}。
  5. 如請求項4之基材，其中，L為：-C2H4-、-C3H6-、-CO-O-CH2-CH(OH)-CH2-、-(CF2)n-(n為0~4之整數)、-CH2-、-C4H8-，或-(CF2)n-(CH2)m-(n、m為各自獨立且任一者皆為0~4之整數)，X1為具有可水解之基的一價之含Si之基。
  6. 如請求項1、2、4或5之基材，其中，基材為玻璃基材。
  7. 如請求項6之基材，其中，玻璃基材為，藍寶石玻璃基材、鹼石灰玻璃基材、鹼鋁矽酸鹽玻璃基材、硼矽酸玻璃基材、無鹼玻璃基材、水晶玻璃基材，或石英玻璃基材。
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