CN117401910A - 叠层体 - Google Patents

叠层体 Download PDF

Info

Publication number
CN117401910A
CN117401910A CN202210801338.1A CN202210801338A CN117401910A CN 117401910 A CN117401910 A CN 117401910A CN 202210801338 A CN202210801338 A CN 202210801338A CN 117401910 A CN117401910 A CN 117401910A
Authority
CN
China
Prior art keywords
independently
group
integer
formula
valent organic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202210801338.1A
Other languages
English (en)
Inventor
马轶
沈浩
石井大贵
能势雅聪
阪本英司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daikin Industries Ltd filed Critical Daikin Industries Ltd
Priority to CN202210801338.1A priority Critical patent/CN117401910A/zh
Priority to PCT/JP2023/024465 priority patent/WO2024009914A1/ja
Publication of CN117401910A publication Critical patent/CN117401910A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3405—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of organic materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D171/00—Coating compositions based on polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D171/02—Polyalkylene oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04—Polysiloxanes
    • C09D183/08—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen, and oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/16—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/002—Priming paints
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/18—Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/78—Coatings specially designed to be durable, e.g. scratch-resistant

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

本发明的课题在于提供一种具有耐紫外线性更高的表面处理层的叠层体。其解决手段为一种叠层体，其为具有基材、配置于基材上的基底层、和配置于基底层上的表面处理层的叠层体，其中，上述基底层为由(A)下述式(P)所示的聚硅氮烷或(B)下述式(Q)所示的氨基硅烷形成的层，上述表面处理层为由含氟硅烷化合物形成的层。;N(R71‑SiR72 3)mR73 3‑m (Q)。

Description

叠层体
技术领域
本发明涉及叠层体。
背景技术
已知某些种类的含氟硅烷化合物在用于基材的表面处理时，能够提供优异的拨水性、拨油性、防污性等。由含有含氟硅烷化合物的表面处理剂得到的层(以下也称为“表面处理层”)作为所谓的功能性薄膜被施用于例如玻璃、塑料、纤维、卫生用品、建筑材料等各种各样的基材(专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开第2018/056413号
发明内容
发明所要解决的技术问题
专利文献1所记载的含氟硅烷化合物能够提供具有优异功能的表面处理层，但仍寻求具有更高的耐紫外线性的表面处理层。
本发明的目的在于提供一种具有耐紫外线性更高的表面处理层的叠层体。
用于解决技术问题的技术方案
本发明包括以下方式。
[1]一种叠层体，其为具有基材、配置于基材上的基底层、和配置于基底层上的表面处理层的叠层体，
上述基底层为由(A)下述式(P)所示的聚硅氮烷或(B)下述式(Q)所示的氨基硅烷形成的层，
上述表面处理层为由含氟硅烷化合物形成的层。
式(P)：
[式中，
R61为氢原子或C1-6烷基，
R62为氢原子、C1-6烷基或具有官能团的基团，
R63为氢原子、C1-6烷基或具有官能团的基团，
n为2～100的整数。]
式(Q)：
N(R71-SiR72 3)mR73 3-m
[式中，
R71分别独立地为C1-6亚烷基，
R72分别独立地为水解性基团，
R73为氢原子或C1-6烷基，
m为2或3。]
[2]如上述[1]所述的叠层体，其中，上述含氟硅烷化合物为下述式(A1)或(A2)所示的化合物。
RF1 α1-XA-RSi β1 (A1)
RSi γ1-XA-RF2-XA-RSi γ1 (A2)
[式中，
RF1分别独立地为Rf1-或Rf1-RF-Oq-，
RF2为-Rf2-或-Rf2 p-RF-Oq-，
RF分别独立地为2价的氟代聚醚基，
Rf1分别独立地为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1-16烷基，
Rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1-6亚烷基，
p为0或1，
q分别独立地为0或1，
RSi分别独立地为包含键合有羟基、水解性基团、氢原子或1价有机基团的Si原子的1价基团，
至少1个RSi为包含键合有羟基或水解性基团的Si原子的1价基团，
XA分别独立地为单键或2～10价有机基团，
α1为1～9的整数，
β1为1～9的整数，
γ1分别独立地为1～9的整数。]
[3]如上述[2]所述的叠层体，其中，
Rf1分别独立地为C1－16全氟烷基，
Rf2分别独立地为C1－6全氟亚烷基。
[4]如上述[2]或[3]所述的叠层体，其中，
RF1分别独立地为Rf1－RF－Oq－，
RF2为－Rf2 p－RF－Oq－。
[5]如上述[2]～[4]中任一项所述的叠层体，其中，
RF分别独立地为式：－(OC6F12)a－(OC5F10)b－(OC4F8)c－(OC3RFa 6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－所示的基团。
[式中，
RFa分别独立地为氢原子、氟原子或氯原子，
a、b、c、d、e和f分别独立地为0～200的整数，a、b、c、d、e与f之和为1以上，标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，其中，在所有的RFa为氢原子或氯原子的情况下，a、b、c、e和f的至少1个为1以上。]
[6]如上述[5]所述的叠层体，其中，RFa为氟原子。
[7]如上述[2]～[6]中任一项所述的叠层体，其中，RF分别独立地为下述式(f1)、(f2)、(f3)、(f4)、(f5)或(f6)所示的基团。
－(OC3F6)d－(OC2F4)e－ (f1)
[式中，d为1～200的整数，e为0或1。]
－(OC4F8)c－(OC3F6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－ (f2)
[式中，c和d分别独立地为0～30的整数，
e和f分别独立地为1～200的整数，
c、d、e与f之和为10～200的整数，
标注下标c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]
－(R6－R7)g－ (f3)
[式中，R6为OCF2或OC2F4，
R7为选自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12中的基团，或者为从这些基团中选择的2个或3个基团的组合，
g为2～100的整数。]
－(R6－R7)g－Rr－(R7′－R6′)g′－ (f4)
[式中，R6为OCF2或OC2F4，
R7为选自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12中的基团，或者为从这些基团中独立地选择的2个或3个基团的组合，
R6′为OCF2或OC2F4，
R7′为选自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12中的基团，或者为从这些基团中独立地选择的2个或3个基团的组合，
g为2～100的整数，
g′为2～100的整数，
Rr为
(式中，＊表示键合位置)。]
－(OC6F12)a－(OC5F10)b－(OC4F8)c－(OC3F6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－ (f5)
[式中，e为1以上200以下的整数，a、b、c、d和f分别独立地为0以上200以下的整数，并且标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]
－(OC6F12)a－(OC5F10)b－(OC4F8)c－(OC3F6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－ (f6)
[式中，f为1以上200以下的整数，a、b、c、d和e分别独立地为0以上200以下的整数，并且标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]
[8]如上述[2]～[7]中任一项所述的叠层体，其中，
RSi为下述式(S1)、(S2)、(S3)、(S4)或(S5)所示的基团。
-SiR11 n1R12 3-n1 (S2)
-SiRa1 k1Rb1 11Rc1 m1 (S3)
-CRd1 k2Re1 12Rf1 m2 (S4)
-NRg1Rh1 (S5)
[式中，
R11分别独立地为羟基或水解性基团，
R12分别独立地为氢原子或1价有机基团，
n1在每个(SiR11 n1R12 3-n1)单元中分别独立地为0～3的整数，
X11分别独立地为单键或2价有机基团，
R13分别独立地为氢原子或1价有机基团，
t分别独立地为2以上的整数，
R14分别独立地为氢原子、卤原子或-X11-SiR11 n1R12 3-n1，
R15在每次出现时分别独立地为单键、氧原子、碳原子数1～6的亚烷基或碳原子数1～6的亚烷氧基；
Ra1分别独立地为-Z1-SiR21 p1R22 q1R23 r1；
Z1分别独立地为氧原子或2价有机基团，
R21分别独立地为-Z1′-SiR21′ p1′R22′ q1′R23′ r1′；
R22分别独立地为羟基或水解性基团，
R23分别独立地为氢原子或1价有机基团，
p1分别独立地为0～3的整数，
q1分别独立地为0～3的整数，
r1分别独立地为0～3的整数，
p1、q1和r1的合计在(SiR21 p1R22 q1R23 r1)单元中为3，
Z1′分别独立地为氧原子或2价有机基团，
R21′分别独立地为-Z1″-SiR22″ q1″R23″ r1″；
R22′分别独立地为羟基或水解性基团，
R23′分别独立地为氢原子或1价有机基团，
p1′分别独立地为0～3的整数，
q1′分别独立地为0～3的整数，
r1′分别独立地为0～3的整数，
p1′、q1′和r1′的合计在(SiR21′ p1′R22′ q1′R23′ r1′)单元中为3，
Z1″分别独立地为氧原子或2价有机基团，
R22″分别独立地为羟基或水解性基团，
R23″分别独立地为氢原子或1价有机基团，
q1″分别独立地为0～3的整数，
r1″分别独立地为0～3的整数，
q1″和r1″的合计在(SiR22″ q1″R23″ r1″)单元中为3，
Rb1分别独立地为羟基或水解性基团，
Rc1分别独立地为氢原子或1价有机基团，
k1分别独立地为0～3的整数，
l1分别独立地为0～3的整数，
m1分别独立地为0～3的整数，
k1、l1和m1的合计在(SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1)单元中为3，
Rd1分别独立地为－Z2－CR31 p2R32 q2R33 r2；
Z2分别独立地为单键、氧原子或2价有机基团；
R31分别独立地为－Z2′－CR32′ q2′R33′ r2′；
R32分别独立地为－Z3－SiR34 n2R35 3－n2，
R33分别独立地为氢原子、羟基或1价有机基团，
p2分别独立地为0～3的整数，
q2分别独立地为0～3的整数，
r2分别独立地为0～3的整数，
p2、q2和r2的合计在(CR31 p2R32 q2R33 r2)单元中为3，
Z2′分别独立地为单键、氧原子或2价有机基团；
R32′分别独立地为－Z3－SiR34 n2R35 3－n2，
R33′分别独立地为氢原子、羟基或1价有机基团，
q2′分别独立地为0～3的整数，
r2′分别独立地为0～3的整数，
q2′和r2′的合计在(CR32′ q2′R33′ r2′)单元中为3，
Z3分别独立地为单键、氧原子或2价有机基团；
R34分别独立地为羟基或水解性基团，
R35分别独立地为氢原子或1价有机基团，
n2分别独立地为0～3的整数，
Re1分别独立地为－Z3－SiR34 n2R35 3－n2，
Rf1分别独立地为氢原子、羟基或1价有机基团，
k2分别独立地为0～3的整数，
l2分别独立地为0～3的整数，
m2分别独立地为0～3的整数，
k2、l2和m2的合计在(CRd1 k2Re1 l2Rf1 m2)单元中为3，
Rg1和Rh1分别独立地为－Z4－SiR11 n1R12 3－n1、－Z4－SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1或－Z4－CRd1 k2Re1 l2Rf1 m2，
Z4分别独立地为单键、氧原子或2价有机基团，
其中，式(S1)、(S2)、(S3)、(S4)和(S5)中，至少存在1个键合有羟基或水解性基团的Si原子。]
[9]如上述[2]～[8]中任一项所述的叠层体，其中，α1、β1和γ1为1。
[10]如上述[2]～[9]中任一项所述的叠层体，其中，
XA为单键或下述式所示的2价有机基团。
－(R51)p5－(X51)q5－
[式中，
R51为单键或－(CH2)s5－，
s5为1～20的整数，
X51为－(X52)l5－，
X52分别独立地为选自－O－、－S－、－CO－、－NR54－、－(CH2)n5－、－COO－、－OCO－、－CONR54－、－NR54CO－、－O－CONR54－、－NR54CO－O－、－Si(R53)2－和－(Si(R53)2O)m5－Si(R53)2－中的基团，
R53分别独立地为苯基、C1－6烷基或C1－6烷氧基，
R54分别独立地为氢原子、苯基或C1－6烷基，
m5分别独立地为1～100的整数，
n5分别独立地为1～20的整数，
l5为1～10的整数，
p5为0或1，
q5为0或1，
其中，p5和q5的至少一方为1，标注p5或q5并用括号括起来的各重复单元的存在顺序是任意的，
右侧与RSi键合。]
[11]如上述[2]～[8]中任一项所述的叠层体，其中，XA为下述式所示的基团。
[式中，Xa为单键或2价有机基团。]
[12]如上述[1]～[11]中任一项所述的叠层体，其中，上述聚硅氮烷由R61为氢原子、R62为氢原子且R63为氢原子的式(P)表示。
[13]如上述[1]～[12]中任一项所述的叠层体，其中，上述聚硅氮烷的数均分子量为1000～10000。
[14]如上述[1]～[13]中任一项所述的叠层体，其中，上述氨基硅烷由下述式(Q－1)表示。
式(Q－1)：
HN(R71-SiR72 3)2
[式中，
R71分别独立地为C1－6亚烷基，
R72分别独立地为水解性基团。]
[15]如上述[1]～[14]中任一项所述的叠层体，其中，上述基材为玻璃、金属或陶瓷。
[16]一种包括上述[1]～[15]中任一项所述的叠层体的物品。
[17]如上述[16]所述的物品，其中，上述物品为汽车玻璃、室外玻璃、显示器。
发明的效果
根据本发明，通过在基材与表面处理层之间配置由聚硅氮烷或氨基硅烷形成的基底层，能够提供包括具有更高的耐紫外线性的表面处理层的叠层体。
具体实施方式
在本说明书中使用的情况下，“1价有机基团”是指含有碳的1价基团。作为1价有机基团，没有特别限定，可以是烃基或其衍生物。作为烃基的衍生物是指在烃基的末端或分子链中具有1个或1个以上的N、O、S、Si、酰胺基、磺酰基、硅氧烷基、羰基、羰氧基等的基团。此外，有时在简称为“有机基团”时是指1价有机基团。另外，“2价有机基团”是指含有碳的2价基团。作为这样的2价有机基团，例如可以列举从有机基团进一步脱离了1个氢原子后的2价基团。3价以上的有机基团也同样是指从有机基团脱离了规定数目的氢原子后的基团。
在本说明书中使用的情况下，“烃基”是含有碳和氢的基团，是指从烃脱离了氢原子后的基团。作为这样的烃基，没有特别限定，可以列举C1－20烃基、例如脂肪族烃基、芳香族烃基等。上述“脂肪族烃基”可以为直链状、支链状或环状的任一种，也可以为饱和或不饱和的任一种。另外，烃基可以包含1个或1个以上的环结构。烃基可以被1个或1个以上的取代基取代。
在本说明书中使用的情况下，作为“烃基”的取代基，没有特别限定，例如可以列举选自卤原子、可以被1个或1个以上的卤原子取代的、C1－6烷基、C2－6烯基、C2－6炔基、C3－10环烷基、C3－10不饱和环烷基、5～10元的杂环基、5～10元的不饱和杂环基、C6－10芳基和5～10元的杂芳基中的1个或1个以上的基团。
在本说明书中，“水解性基团”在本说明书中使用的情况下，是指能够发生水解反应的基团，即，是指能够通过水解反应从化合物的主骨架脱离的基团。作为水解性基团的例子，可以列举－ORj、－OCORj、－O－N＝CRj 2、－NRj 2、－NHRj、－NCO、卤素(这些式子中，Rj表示取代或非取代的碳原子数1～4的烷基)等，优选为－ORj(即烷氧基)。Rj的例子包括：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基等的非取代烷基；氯甲基等的取代烷基。这些之中，优选烷基，特别优选非取代烷基，更优选甲基或乙基。
(叠层体)
本发明的叠层体具有基材、配置于基材上的基底层、和配置于基底层上的表面处理层。上述基底层为由(A)下述式(P)所示的聚硅氮烷或(B)下述式(Q)所示的氨基硅烷形成的层。
[式中，
R61为氢原子或C1－6烷基，
R62为氢原子、C1－6烷基或具有官能团的基团，
R63为氢原子、C1－6烷基或具有官能团的基团，
n为2～100的整数。]
N(R71-SiR72 3)mR73 3-m (Q)
[式中，
R71分别独立地为C1－6亚烷基，
R72分别独立地为水解性基团，
R73为氢原子或C1－6烷基，
m为2或3。]上述表面处理层为由含氟硅烷化合物形成的层。
本发明的叠层体通过在基材与表面处理层之间具有由式(A)所示的聚硅氮烷或式(B)所示的氨基硅烷形成的基底层，表面处理层的耐紫外线性提高。并且，表面处理层的摩擦耐久性提高。
(基材)
构成本发明的叠层体中使用的基材的材料没有特别限定，例如选自树脂、金属、金属氧化物、陶瓷和玻璃。构成上述基材的材料优选为金属、陶瓷或玻璃，更优选为玻璃。
作为上述树脂，没有特别限定，例如可以列举丙烯酸系树脂、聚碳酸酯系树脂、ABS(丙烯腈－丁二烯－苯乙烯)树脂、聚酯系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚酰胺系树脂、聚烯烃系等。
作为上述金属，没有特别限定，例如可以列举铝、铜、铁、不锈钢、它们的合金等。
作为上述金属氧化物，没有特别限定，例如可以列举ITO(氧化铟锡)、阳极氧化铝等。
作为上述陶瓷，没有特别限定，例如可以列举氧化铝、氧化硅、锆等。
作为上述玻璃，没有特别限定，例如优选钠钙玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃、硼硅酸玻璃、无碱玻璃、水晶玻璃、石英玻璃，可以列举经过化学强化的钠钙玻璃、经过化学强化的碱性铝硅酸盐玻璃、经过化学结合的硼硅酸玻璃等。
上述基材的形状没有特别限定，例如可以为膜状、板状。
(聚硅氮烷)
形成本发明的叠层体的基底层所使用的聚硅氮烷由下述式(P)表示。
[式中，
R61为氢原子或C1－6烷基，
R62为氢原子、C1－6烷基或具有官能团的基团，
R63为氢原子、C1－6烷基或具有官能团的基团，
n为2～100的整数。]
在一个方式中，R61为氢原子。
在另一方式中，R61为C1－6烷基。
在一个方式中，R62为氢原子。
在另一方式中，R62为C1－6烷基。
在又一个方式中，R62为具有官能团的基团。
在一个方式中，R63为氢原子。
在另一方式中，R63为C1－6烷基。
在又一个方式中，R63为具有官能团的基团。
上述C1－6烷基可以为直链，也可以为支链。上述C1－6烷基优选为直链。
上述C1－6烷基优选为C1－4烷基，更优选为甲基或乙基，进一步优选为甲基。
上述具有官能团的基团优选为－R64－R65。R64为单键或2价有机基团，R65为官能团。
R64中的2价有机基团优选为C1－6烷基。
上述官能团优选为羰基、羧基或羟基。
在一个方式中，R61为氢原子或C1－6烷基，R62为氢原子或C1－6烷基，R63为氢原子。
在优选的方式中，R61为氢原子或C1－6烷基，R62为氢原子，R63为氢原子。
在更优选的方式中，R61为氢原子，R62为氢原子，R63为氢原子。
n优选为5～80的整数，更优选为10～50的整数。
上述聚硅氮烷的数均分子量优选为1000～10000，更优选为2000～8000，进一步优选为3000～6000。
上述聚硅氮烷的数均分子量能够通过GPC(凝胶渗透色谱)测定。
由上述聚硅氮烷形成的基底层可以通过使用包含聚硅氮烷的组合物(A)对基材表面进行处理而形成。例如可以通过在基材上涂布组合物(A)，形成组合物(A)的膜，静置或进行加热处理，使组合物(A)的膜固化，从而得到基底层。
上述组合物(A)可以包含溶剂。
作为上述溶剂，例如可以列举THF(四氢呋喃)、四氢吡喃、二噁烷等的环状醚类、二乙醚、二异丙基醚、二丁基醚、单甘醇二甲醚、二甘醇二甲醚、三甘醇二甲醚等的非环式醚类、HMPA(六甲基磷酰胺)、DMPU(二甲基丙烯)、TMEDA(四甲基乙二胺)、甲苯、二甲苯、三氟甲苯等的芳香族化合物、N，N－二甲基甲酰胺、N，N－二甲基乙酰胺、N－甲基吡咯烷酮等的酰胺类或它们的混合物。
上述组合物(A)中的聚硅氮烷的浓度相对于组合物整体可以优选为0.1质量％～20质量％，更优选为0.2质量％～10质量％，进一步优选为0.5质量％～5质量％。
上述组合物(A)可以包含催化剂。
作为上述催化剂，可以列举酸(例如乙酸、三氟乙酸等)、碱(例如氨、三乙胺、二乙胺等)、过渡金属(例如Ti、Ni、Sn等)、金属螯合物(例如三(2，4－戊二酮)铝(III))等。
上述聚硅氮烷可以使用市售品，也可以使用合成品。例如作为上述组合物(A)，可以列举Durazane(注册商标)系列等。
组合物(A)的膜形成可以通过对基材的表面以覆盖该表面的方式应用上述组合物(A)来实施。
上述覆盖方法没有特别限定，例如可以列举浸涂、旋涂、流涂、喷涂、辊涂、凹版涂敷以及类似的方法。
上述静置的时间在室温下例如可以为1分钟～12小时，优选为5分钟～5小时。
上述加热处理的温度例如可以为50℃～500℃，优选为100℃～300℃。加热时间例如可以为1分钟～6小时，优选为5分钟～3小时。
(氨基硅烷)
形成本发明的叠层体的基底层所使用的氨基硅烷由下述式(Q)表示。
式(Q)：
N(R71-SiR72 3)mR73 3-m
[式中，
R71分别独立地为C1－6亚烷基，
R72分别独立地为水解性基团，
R73为氢原子或C1－6烷基，
m为2或3。]
上述C1－6亚烷基可以为直链，也可以为支链。上述C1－6亚烷基优选为直链。
上述C1－6亚烷基优选为C2－6亚烷基，更优选为C2－4亚烷基。
R72优选为－ORj，Rj为取代或非取代的碳原子数1～4的烷基。R72优选为－OCH3或－OC2H5，更优选为－OCH3。
在一个方式中，R73为氢原子。
在一个方式中，R73为C1－6烷基。
R73中的C1－6烷基可以为直链，也可以为支链。上述C1－6烷基优选为直链。
R73中的C1－6烷基优选为C1－4烷基，更优选为甲基或乙基，进一步优选为甲基。
m优选为2。
在优选的方式中，氨基硅烷为下述式(Q－1)所示的化合物。
式(Q－1)：
HN(R71-SiR72 3)2
[式中，
R71分别独立地为C1－6亚烷基，优选为C2－6亚烷基，更优选为C2－4亚烷基，
R72分别独立地为水解性基团，优选为－ORj(式中，Rj为取代或非取代的碳原子数1～4的烷基)，更优选为－OCH3或－OC2H5，进一步优选为－OCH3。]
由上述氨基硅烷形成的基底层可以通过使用包含氨基硅烷的组合物(B)对基材表面进行处理而形成。例如可以通过在基材上涂布组合物(B)，形成组合物(B)的膜，从而得到基底层。
上述组合物(B)可以包含溶剂。
作为上述溶剂，例如可以列举THF(四氢呋喃)、四氢吡喃、二噁烷等的环状醚类、二乙醚、二异丙基醚、二丁基醚、单甘醇二甲醚、二甘醇二甲醚、三甘醇二甲醚等的非环式醚类、HMPA(六甲基磷酰胺)、DMPU(二甲基丙烯)、TMEDA(四甲基乙二胺)、甲苯、二甲苯、三氟甲苯等的芳香族化合物、N，N－二甲基甲酰胺、N，N－二甲基乙酰胺、N－甲基吡咯烷酮等的酰胺类或它们的混合物。
上述组合物(B)中的氨基硅烷的浓度相对于组合物整体可以优选为0.1质量％～20质量％，更优选为0.2质量％～10质量％，进一步优选为0.5质量％～5质量％。
上述组合物(B)可以包含催化剂。
作为上述催化剂，可以列举酸(例如乙酸、三氟乙酸等)、碱(例如氨、三乙胺、二乙胺等)、过渡金属(例如Ti、Ni、Sn等)等。
组合物(B)的膜形成可以通过对基材的表面以覆盖该表面的方式应用上述组合物(B)来实施。
上述覆盖方法没有特别限定，例如可以列举浸涂、旋涂、流涂、喷涂、辊涂、凹版涂敷以及类似的方法。
形成膜后，优选在室温下静置例如1分钟～12小时、优选5分钟～5小时。
(含氟硅烷化合物)
形成本发明的叠层体的表面处理层所使用的含氟硅烷化合物是包含含氟基和水解性硅烷基的化合物。
在一个方式中，上述含氟硅烷化合物为下述式(A1)或(A2)所示的含氟硅烷化合物。
RF1 α1-XA-RSi β1 (A1)
RSi γ1-XA-RF2-XA-RSi γ1 (A2)
[式中，
RF1分别独立地为Rf1－或Rf1－RF－Oq－，
RF2为－Rf2－或－Rf2 p－RF－Oq－，
RF分别独立地为2价的氟代聚醚基，
Rf1分别独立地为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1－16烷基，
Rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1－6亚烷基，
p为0或1，
q分别独立地为0或1，
RSi分别独立地为包含键合有羟基、水解性基团、氢原子或1价有机基团的Si原子的1价基团，
至少1个RSi为包含键合有羟基或水解性基团的Si原子的1价基团，
XA分别独立地为单键或2～10价有机基团，
α1为1～9的整数，
β1为1～9的整数，
γ1分别独立地为1～9的整数。]
在上述式(A1)中，RF1分别独立地为Rf1－或Rf1－RF－Oq－。
在优选的方式中，RF1分别独立地为Rf1－RF－Oq－。
在上述式(A2)中，RF2为－Rf2－或－Rf2 p－RF－Oq－。
在优选的方式中，RF2为－Rf2 p－RF－Oq－。
在上述式中，Rf1分别独立地为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1－16烷基。
上述可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1－16烷基中的“C1－16烷基”可以为直链，也可以为支链，优选为直链或支链的C1－6烷基、特别是C1－3烷基，更优选为直链的C1－6烷基、特别是C1－3烷基。
Rf1优选为被1个或1个以上的氟原子取代的C1－16烷基，更优选为CF2H－C1－15全氟亚烷基，进一步优选为C1－16全氟烷基。
上述C1－16全氟烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链或支链的C1－6全氟烷基、特别是C1－3全氟烷基，更优选为直链的C1－6全氟烷基、特别是C1－3全氟烷基，具体为－CF3、－CF2CF3或－CF2CF2CF3。
在上述式中，Rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1－6亚烷基。
上述可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1－6亚烷基中的“C1－6亚烷基”可以为直链，也可以为支链，优选为直链或支链的C1－3亚烷基，更优选为直链的C1－3亚烷基。
Rf2优选为被1个或1个以上的氟原子取代的C1－6亚烷基，更优选为C1－6全氟亚烷基，进一步优选为C1－3全氟亚烷基。
上述C1－6全氟亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链或支链的C1－3全氟亚烷基，更优选为直链的C1－3全氟亚烷基，具体为－CF2－、－CF2CF2－或－CF2CF2CF2－。
在上述式中，p为0或1。在一个方式中，p为0。在另一方式中，p为1。
在上述式中，q分别独立地为0或1。在一个方式中，q为0。在另一方式中，q为1。
在上述式(A1)和(A2)中，RF分别独立地为2价的氟代聚醚基。
RF优选为下式所示的基团：
－(OC6F12)a－(OC5F10)b－(OC4F8)c－(OC3RFa 6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－。
[式中，
RFa分别独立地为氢原子、氟原子或氯原子，
a、b、c、d、e和f分别独立地为0～200的整数，a、b、c、d、e与f之和为1以上。标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。其中，在所有的RFa为氢原子或氯原子的情况下，a、b、c、e和f的至少1个为1以上。]
RFa优选为氢原子或氟原子，更优选为氟原子。其中，在所有的RFa为氢原子或氯原子的情况下，a、b、c、e和f的至少1个为1以上。
a、b、c、d、e和f可以优选分别独立地为0～100的整数。
a、b、c、d、e与f之和优选为5以上，更优选为10以上，例如可以为15以上或20以上。a、b、c、d、e与f之和优选为200以下，更优选为100以下，进一步优选为60以下，例如可以为50以下或30以下。
这些重复单元可以为直链状，也可以为支链状，还可以包含环结构。例如－(OC6F12)－可以为－(OCF2CF2CF2CF2CF2CF2)－、－(OCF(CF3)CF2CF2CF2CF2)－、－(OCF2CF(CF3)CF2CF2CF2)－、－(OCF2CF2CF(CF3)CF2CF2)－、－(OCF2CF2CF2CF(CF3)CF2)－、－(OCF2CF2CF2CF2CF(CF3))－等。－(OC5F10)－可以为－(OCF2CF2CF2CF2CF2)－、－(OCF(CF3)CF2CF2CF2)－、－(OCF2CF(CF3)CF2CF2)－、－(OCF2CF2CF(CF3)CF2)－、－(OCF2CF2CF2CF(CF3))－等。－(OC4F8)－可以为－(OCF2CF2CF2CF2)－、－(OCF(CF3)CF2CF2)－、－(OCF2CF(CF3)CF2)－、－(OCF2CF2CF(CF3))－、－(OC(CF3)2CF2)－、－(OCF2C(CF3)2)－、－(OCF(CF3)CF(CF3))－、－(OCF(C2F5)CF2)－和－(OCF2CF(C2F5))－的任意一种。－(OC3F6)－(即上述式中RFa为氟原子)可以为－(OCF2CF2CF2)－、－(OCF(CF3)CF2)－和－(OCF2CF(CF3))－的任意一种。－(OC2F4)－可以为－(OCF2CF2)－和－(OCF(CF3))－的任意一种。
上述环结构可以为下述三元环、四元环、五元环或六元环。
[式中，＊表示键合位置。]
上述环结构优选为四元环、五元环或六元环，更优选为四元环或六元环。
具有环结构的重复单元可以优选为下列单元。
[式中，＊表示键合位置。]
在一个方式中，上述重复单元为直链状。通过使上述重复单元为直链状，能够提高表面处理层的表面滑动性、摩擦耐久性等。
在一个方式中，上述重复单元为支链状。通过使上述重复单元为支链状，能够增大表面处理层的动摩擦系数。
在一个方式中，RF分别独立地为下述式(f1)～(f6)的任意一个所示的基团。
－(OC3F6)d－(OC2F4)e－ (f1)
[式中，d为1～200的整数，e为0或1。]
－(OC4F8)c－(OC3F6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－ (f2)
[式中，c和d分别独立地为0以上30以下的整数，e和f分别独立地为1以上200以下的整数，
c、d、e与f之和为2以上，
标注下标c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]
－(R6－R7)g－ (f3)
[式中，R6为OCF2或OC2F4，
R7为选自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12中的基团，或者为从这些基团中独立地选择的2个或3个基团的组合，
g为2～100的整数。]
－(R6－R7)g－Rr－(R7′－R6′)g′－ (f4)
[式中，R6为OCF2或OC2F4，
R7为选自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12中的基团，或者为从这些基团中独立地选择的2个或3个基团的组合，
R6′为OCF2或OC2F4，
R7′为选自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12中的基团，或者为从这些基团中独立地选择的2个或3个基团的组合，
g为2～100的整数，
g′为2～100的整数，
Rr为
(式中，＊表示键合位置。)]
－(OC6F12)a－(OC5F10)b－(OC4F8)c－(OC3F6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－ (f5)
[式中，e为1以上200以下的整数，a、b、c、d和f分别独立地为0以上200以下的整数，并且标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]
－(OC6F12)a－(OC5F10)b－(OC4F8)c－(OC3F6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－ (f6)
[式中，f为1以上200以下的整数，a、b、c、d和e分别独立地为0以上200以下的整数，并且标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]
在上述式(f1)中，d优选为5～200，更优选为10～100，进一步优选为15～50，例如为25～35的整数。在一个方式中，e为1。在另一方式中，e为0。上述式(f1)中的(OC3F6)优选为(OCF2CF2CF2)、(OCF2CF(CF3))或(OCF(CF3)CF2)所示的基团，更优选为－(OCF2CF2CF2)d－所示的基团。上述式(f1)中的(OC2F4)优选为(OCF2CF2)或(OCF(CF3))所示的基团，更优选为(OCF2CF2)所示的基团。
在上述式(f2)中，e和f分别独立地优选为5～200、更优选为10～200的整数。另外，c、d、e与f之和优选为5以上，更优选为10以上，例如可以为15以上或20以上。在一个方式中，上述式(f2)优选为－(OCF2CF2CF2CF2)c－(OCF2CF2CF2)d－(OCF2CF2)e－(OCF2)f－所示的基团。在另一方式中，式(f2)可以为－(OC2F4)e－(OCF2)f－所示的基团。
在上述式(f3)中，R6优选为OC2F4。在上述(f3)中，R7优选为选自OC2F4、OC3F6和OC4F8中的基团，或者为从这些基团中独立地选择的2个或3个基团的组合，更优选为选自OC3F6和OC4F8的基团。作为从OC2F4、OC3F6和OC4F8中独立地选择的2个或3个基团的组合，没有特别限定，例如可以列举－OC2F4OC3F6－、－OC2F4OC4F8－、－OC3F6OC2F4－、－OC3F6OC3F6－、－OC3F6OC4F8－、－OC4F8OC4F8－、－OC4F8OC3F6－、－OC4F8OC2F4－、－OC2F4OC2F4OC3F6－、－OC2F4OC2F4OC4F8－、－OC2F4OC3F6OC2F4－、－OC2F4OC3F6OC3F6－、－OC2F4OC4F8OC2F4－、－OC3F6OC2F4OC2F4－、－OC3F6OC2F4OC3F6－、－OC3F6OC3F6OC2F4－和－OC4F8OC2F4OC2F4－等。在上述式(f3)中，g优选为3以上、更优选为5以上的整数。上述g优选为50以下的整数。在上述式(f3)中，OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12可以为直链或支链的任意一种，优选为直链。在该方式中，上述式(f3)优选为－(OC2F4－OC3F6)g－或－(OC2F4－OC4F8)g－。
在上述式(f4)中，R6、R7和g的含义与上述式(f3)的记载相同，具有同样的方式。R6′、R7′和g′的含义分别与上述式(f3)中记载的R6、R7和g相同，具有同样的方式。Rr优选为
[式中，＊表示键合位置。]
更优选为
[式中，＊表示键合位置。]
在上述式(f5)中，e优选为1以上100以下、更优选为5以上100以下的整数。a、b、c、d、e与f之和优选为5以上，更优选为10以上，例如为10以上100以下。
在上述式(f6)中，f优选为1以上100以下、更优选为5以上100以下的整数。a、b、c、d、e与f之和优选为5以上，更优选为10以上，例如为10以上100以下。
在一个方式中，上述RF为上述式(f1)或(f2)所示的基团。
在一个方式中，上述RF为上述式(f1)所示的基团。
在一个方式中，上述RF为上述式(f2)所示的基团。
在一个方式中，上述RF为上述式(f3)或(f4)所示的基团。
在一个方式中，上述RF为上述式(f3)所示的基团。
在一个方式中，上述RF为上述式(f4)所示的基团。
在一个方式中，上述RF为上述式(f5)所示的基团。
在一个方式中，上述RF为上述式(f6)所示的基团。
在RF中，e相对于f之比(以下称为“e/f比”)为0.1～10，优选为0.2～5，更优选为0.2～2，进一步优选为0.2～1.5，更进一步优选为0.2～0.85。通过使e/f比为10以下，由该化合物得到的表面处理层的滑动性、摩擦耐久性和耐化学性(例如对人工汗的耐久性)进一步提高。e/f比越小，表面处理层的滑动性和摩擦耐久性越高。另一方面，通过使e/f比为0.1以上，能够进一步提高化合物的稳定性。e/f比越大，化合物的稳定性越高。
在一个方式中，上述e/f比优选为0.2～0.95，更优选为0.2～0.9。
在一个方式中，从耐热性的观点出发，上述e/f比优选为1.0以上，更优选为1.0～2.0。
在上述含氟硅烷化合物中，RF1和RF2部分的数均分子量没有特别限定，例如为500～30,000，优选为1,500～30,000，更优选为2,000～10,000。在本说明书中，RF1和RF2的数均分子量是通过19F－NMR测得的值。
在另一方式中，RF1和RF2部分的数均分子量为500～30,000，优选为1,000～20,000，更优选为2,000～15,000，更进一步优选为2,000～10,000，例如可以为3,000～6,000。
在另一方式中，RF1和RF2部分的数均分子量可以为4,000～30,000，优选为5,000～10,000，更优选为6,000～10,000。
在上述式(A1)和(A2)中，RSi分别独立地为包含键合有羟基、水解性基团、氢原子或1价有机基团的Si原子的1价基团，至少1个RSi为包含键合有羟基或水解性基团的Si原子的1价基团。
在优选的方式中，RSi为包含键合有羟基或水解性基团的Si原子的1价基团，更优选为包含键合有水解性基团的Si原子的1价基团。
在优选的方式中，RSi为下述式(S1)、(S2)、(S3)、(S4)或(S5)所示的基团。
-SiR11 n1R12 3-n1 (S2)
-SiRa1 k1Rb1 11Rc1 m1 (S3)
-CRd1 k2Re1 12Rf1 m2 (S4)
-NRg1Rh1 (S5)
上述式中，R11分别独立地为羟基或水解性基团。
R11优选分别独立地为水解性基团。
R11优选分别独立地为-ORj、-OCORj、-O-N＝CRj 2、-NRj 2、-NHRj、-NCO或卤素(这些式子中，Rj表示取代或非取代的C1-4烷基)，更优选为-ORj(即烷氧基)。作为Rj，可以列举：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基等的非取代烷基；氯甲基等的取代烷基。这些之中，优选烷基，特别优选非取代烷基，更优选甲基或乙基。在一个方式中，Rj为甲基，在另一方式中，Rj为乙基。
上述式中，R12分别独立地为氢原子或1价有机基团。该1价有机基团是除上述水解性基团之外的1价有机基团。
在R12中，1价有机基团优选为C1-20烷基，更优选为C1-6烷基，进一步优选为甲基。
上述式中，n1在每个(SiR11 n1R12 3-n1)单元中分别独立地为0～3的整数。其中，在RSi为式(S1)或(S2)所示的基团的情况下，式(A1)和式(A2)的末端的RSi部分(以下也简称为式(A1)和式(A2)的“末端部分”)中，至少存在1个n1为1～3的(SiR11 n1R12 3-n1)单元。即，在该末端部分，所有的n1不同时为0。换言之，在式(A1)和式(A2)的末端部分，至少存在1个键合有羟基或水解性基团的Si原子。
n1在每个(SiR11 n1R12 3－n1)单元中分别独立地优选为1～3的整数，更优选为2～3，进一步优选为3。
上述式中，X11分别独立地为单键或2价有机基团。该2价有机基团优选为－R28－Ox－R29－(式中，R28和R29分别独立地为单键或C1－20亚烷基，x为0或1)。该C1－20亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。该C1－20亚烷基优选为C1－10亚烷基，更优选为C1－6亚烷基，进一步优选为C1－3亚烷基。
在一个方式中，X11分别独立地为－C1－6亚烷基－O－C1－6亚烷基－或－O－C1－6亚烷基－。
在优选的方式中，X11分别独立地为单键或直链的C1－6亚烷基，优选为单键或直链的C1－3亚烷基，更优选为单键或直链的C1－2亚烷基，进一步优选为直链的C1－2亚烷基。
上述式中，R13分别独立地为氢原子或1价有机基团。该1价有机基团优选为C1－20烷基。该C1－20烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。
在优选的方式中，R13分别独立地为氢原子或直链的C1－6烷基，优选为氢原子或直链的C1－3烷基，优选为氢原子或甲基。
上述式中，t分别独立地为2以上的整数。
在优选的方式中，t分别独立地为2～10的整数，优选为2～6的整数。
上述式中，R14分别独立地为氢原子、卤原子或－X11－SiR11 n1R12 3－n1。该卤原子优选为碘原子、氯原子或氟原子，更优选为氟原子。在优选的方式中，R14为氢原子。
上述式中，R15在每次出现时分别独立地为单键、氧原子、碳原子数1～6的亚烷基或碳原子数1～6的亚烷氧基。
在一个方式中，R15在每次出现时分别独立地为氧原子、碳原子数1～6的亚烷基或碳原子数1～6的亚烷氧基。
在优选的方式中，R15为单键。
在一个方式中，式(S1)为下述式(S1－a)。
[式中，
R11、R12、R13、X11和n1的含义与上述式(S1)的记载相同，
t1和t2分别独立地为1以上的整数，优选为1～10的整数，更优选为2～10的整数，例如为1～5的整数或2～5的整数，
标注t1和t2并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]
在优选的方式中，式(S1)为下述式(S1－b)。
[式中，R11、R12、R13、X11、n1和t的含义与上述式(S1)的记载相同。]
上述式中，Ra1分别独立地为－Z1－SiR21 p1R22 q1R23 r1。
上述Z1分别独立地为氧原子或2价有机基团。此外，以下记作Z1的结构的右侧键合于(SiR21 p1R22 q1R23 r1)。
在优选的方式中，Z1为2价有机基团。
在优选的方式中，Z1不包括与Z1所键合的Si原子形成硅氧烷键的基团。优选在式(S3)中(Si－Z1－Si)不含硅氧烷键。
上述Z1优选为C1－6亚烷基、－(CH2)z1－O－(CH2)z2－(式中，z1为0～6的整数，例如为1～6的整数，z2为0～6的整数，例如为1～6的整数)或－(CH2)z3－亚苯基－(CH2)z4－(式中，z3为0～6的整数，例如为1～6的整数，z4为0～6的整数，例如为1～6的整数)。该C1－6亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。这些基团例如可以被选自氟原子、C1－6烷基、C2－6烯基和C2－6炔基中的1个或1个以上的取代基取代，但优选非取代。
在优选的方式中，Z1为C1－6亚烷基或－(CH2)z3－亚苯基－(CH2)z4－，优选为－亚苯基－(CH2)z4－。在Z1为上述基团的情况下，耐光性、特别是耐紫外线性进一步提高。
在另一优选的方式中，上述Z1为C1－3亚烷基。在一个方式中，Z1可以为－CH2CH2CH2－。在另一方式中，Z1可以为－CH2CH2－。
R21分别独立地为－Z1′－SiR21′ p1′R22′ q1′R23′ r1′。
上述Z1′分别独立地为氧原子或2价有机基团。此外，以下记作Z1′的结构的右侧键合于(SiR21′ p1′R22′ q1′R23′ r1′)。
在优选的方式中，Z1′为2价有机基团。
在优选的方式中，Z1′不包括与Z1′所键合的Si原子形成硅氧烷键的基团。优选在式(S3)中(Si－Z1′－Si)不含硅氧烷键。
上述Z1′优选为C1－6亚烷基、－(CH2)z1′－O－(CH2)z2′－(式中，z1′为0～6的整数，例如为1～6的整数，z2′为0～6的整数，例如为1～6的整数)或－(CH2)z3′－亚苯基－(CH2)z4′－(式中，z3′为0～6的整数，例如为1～6的整数，z4′为0～6的整数，例如为1～6的整数)。该C1－6亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。这些基团例如可以被选自氟原子、C1－6烷基、C2－6烯基和C2－6炔基中的1个或1个以上的取代基取代，但优选非取代。
在优选的方式中，Z1′为C1－6亚烷基或－(CH2)z3′－亚苯基－(CH2)z4′－，优选为－亚苯基－(CH2)z4′－。在Z1′为上述基团的情况下，耐光性、特别是耐紫外线性进一步提高。
在另一优选的方式中，上述Z1′为C1－3亚烷基。在一个方式中，Z1′可以为－CH2CH2CH2－。在另一方式中，Z1′可以为－CH2CH2－。
R21′分别独立地为－Z1″－SiR22″ q1″R23″ r1″。
上述Z1″分别独立地为氧原子或2价有机基团。此外，以下记作Z1″的结构的右侧键合于(SiR22″ q1″R23″ r1″)。
在优选的方式中，Z1″为2价有机基团。
在优选的方式中，Z1″不包括与Z1″所键合的Si原子形成硅氧烷键的基团。优选在式(S3)中(Si－Z1″－Si)不含硅氧烷键。
上述Z1″优选为C1－6亚烷基、－(CH2)z1″－O－(CH2)z2″－(式中，z1″为0～6的整数，例如为1～6的整数，z2″为0～6的整数，例如为1～6的整数)或－(CH2)z3″－亚苯基－(CH2)z4″－(式中，z3″为0～6的整数，例如为1～6的整数，z4″为0～6的整数，例如为1～6的整数)。该C1－6亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。这些基团例如可以被选自氟原子、C1－6烷基、C2－6烯基和C2－6炔基中的1个或1个以上的取代基取代，但优选非取代。
在优选的方式中，Z1″为C1－6亚烷基或－(CH2)z3″－亚苯基－(CH2)z4″－，优选为－亚苯基－(CH2)z4″－。在Z1″为上述基团的情况下，耐光性、特别是耐紫外线性进一步提高。
在另一优选的方式中，上述Z1″为C1－3亚烷基。在一个方式中，Z1″可以为－CH2CH2CH2－。在另一方式中，Z1″可以为－CH2CH2－。
R22″分别独立地为羟基或水解性基团。
R22″优选分别独立地为水解性基团。
R22″优选分别独立地为－ORj、－OCORj、－O－N＝CRj 2、－NRj 2、－NHRj、－NCO或卤素(这些式子中，Rj表示取代或非取代的C1－4烷基)，更优选为－ORj(即烷氧基)。作为Rj，可以列举：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基等的非取代烷基；氯甲基等的取代烷基。这些之中，优选烷基，特别优选非取代烷基，更优选甲基或乙基。在一个方式中，Rj为甲基，在另一方式中，Rj为乙基。
R23″分别独立地为氢原子或1价有机基团。该1价有机基团是除上述水解性基团之外的1价有机基团。
在一个方式中，1价有机基团为C1－20烷基，更优选为C1－6烷基，进一步优选为甲基。
q1″分别独立地为0～3的整数，上述r1″分别独立地为0～3的整数。此外，q1″和r1″的合计在(SiR22″ q1″R23″ r1″)单元中为3。
上述q1″在每个(SiR22″ q1″R23″ r1″)单元中分别独立地优选为1～3的整数，更优选为2～3，进一步优选为3。
R22′分别独立地为羟基或水解性基团。
R22′优选分别独立地为水解性基团。
R22′优选分别独立地为－ORj、－OCORj、－O－N＝CRj 2、－NRj 2、－NHRj、－NCO或卤素(这些式子中，Rj表示取代或非取代的C1－4烷基)，更优选为－ORj(即烷氧基)。作为Rj，可以列举：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基等的非取代烷基；氯甲基等的取代烷基。这些之中，优选烷基，特别优选非取代烷基，更优选甲基或乙基。在一个方式中，Rj为甲基，在另一方式中，Rj为乙基。
R23′分别独立地为氢原子或1价有机基团。该1价有机基团是除上述水解性基团之外的1价有机基团。
在一个方式中，1价有机基团为C1－20烷基，更优选为C1－6烷基，进一步优选为甲基。
上述p1′分别独立地为0～3的整数，q1′分别独立地为0～3的整数，r1′分别独立地为0～3的整数。此外，p′、q1′与r1′的合计在(SiR21′ p1′R22′ q1′R23′ r1′)单元中为3。
在一个方式中，p1′为0。
在一个方式中，p1′在每个(SiR21′ p1′R22′ q1′R23′ r1′)单元中分别独立地为1～3的整数、2～3的整数或3。在优选的方式中，p1′为3。
在一个方式中，q1′在每个(SiR21′ p1′R22′ q1′R23′ r1′)单元中分别独立地为1～3的整数，优选为2～3的整数，更优选为3。
在一个方式中，p1′为0，q1′在每个(SiR21′ p1′R22′ q1′R23′ r1′)单元中分别独立地为1～3的整数，优选为2～3的整数，进一步优选为3。
R22分别独立地为羟基或水解性基团。
R22优选分别独立地为水解性基团。
R22优选分别独立地为－ORj、－OCORj、－O－N＝CRj 2、－NRj 2、－NHRj、－NCO或卤素(这些式子中，Rj表示取代或非取代的C1－4烷基)，更优选为－ORj(即烷氧基)。作为Rj，可以列举：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基等的非取代烷基；氯甲基等的取代烷基。这些之中，优选烷基，特别优选非取代烷基，更优选甲基或乙基。在一个方式中，Rj为甲基，在另一方式中，Rj为乙基。
R23分别独立地为氢原子或1价有机基团。该1价有机基团是除上述水解性基团之外的1价有机基团。
在一个方式中，1价有机基团为C1－20烷基，更优选为C1－6烷基，进一步优选为甲基。
上述p1分别独立地为0～3的整数，q1分别独立地为0～3的整数，r1分别独立地为0～3的整数。此外，p1、q1与r1的合计在(SiR21 p1R22 q1R23 r1)单元中为3。
在一个方式中，p1为0。
在一个方式中，p1在每个(SiR21 p1R22 q1R23 r1)单元中分别独立地为1～3的整数、2～3的整数或3。在优选的方式中，p1为3。
在一个方式中，q1在每个(SiR21 p1R22 q1R23 r1)单元中分别独立地为1～3的整数，优选为2～3的整数，更优选为3。
在一个方式中，p1为0，q1在每个(SiR21 p1R22 q1R23 r1)单元中分别独立地为1～3的整数，优选为2～3的整数，进一步优选为3。
上述式中，Rb1分别独立地为羟基或水解性基团。
Rb1优选分别独立地为水解性基团。
Rb1优选分别独立地为－ORj、－OCORj、－O－N＝CRj 2、－NRj 2、－NHRj、－NCO或卤素(这些式子中，Rj表示取代或非取代的C1－4烷基)，更优选为－ORj(即烷氧基)。作为Rj，可以列举：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基等的非取代烷基；氯甲基等的取代烷基。这些之中，优选烷基，特别优选非取代烷基，更优选甲基或乙基。在一个方式中，Rj为甲基，在另一方式中，Rj为乙基。
上述式中，Rc1分别独立地为氢原子或1价有机基团。该1价有机基团是除上述水解性基团之外的1价有机基团。
在一个方式中，1价有机基团为C1－20烷基，更优选为C1－6烷基，进一步优选为甲基。
上述k1分别独立地为0～3的整数，l1分别独立地为0～3的整数，m1分别独立地为0～3的整数。此外，k1、l1与m1的合计在(SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1)单元中为3。
在一个方式中，k1在每个(SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1)单元中分别独立地为1～3的整数，优选为2或3，更优选为3。在优选的方式中，k1为3。
在上述式(A1)和(A2)中，在RSi为式(S3)所示的基团的情况下，优选在式(A1)和式(A2)的末端部分至少存在2个键合有羟基或水解性基团的Si原子。
在优选的方式中，式(S3)所示的基团具有－Z1－SiR22 q1R23 r1(式中，q1为1～3的整数，优选为2或3，更优选为3，r1为0～2的整数)、－Z1′－SiR22′ q1′R23′ r1′(式中，q1′为1～3的整数，优选为2或3，更优选为3，r1′为0～2的整数)或－Z1″－SiR22″ q1″R23″ r1″(式中，q1″为1～3的整数，优选为2或3，更优选为3，r1″为0～2的整数)的任意一个。Z1、Z1′、Z1″、R22、R23、R22′、R23′、R22″和R23″的含义同上。
在优选的方式中，在式(S3)中存在R21′的情况下，至少1个、优选全部的R21′中，q1″为1～3的整数，优选为2或3，更优选为3。
在优选的方式中，在式(S3)中存在R21的情况下，至少1个、优选全部的R21中，p1′为0，q1′为1～3的整数，优选为2或3，更优选为3。
在优选的方式中，在式(S3)中存在Ra1的情况下，至少1个、优选全部的Ra1中，p1为0，q1为1～3的整数，优选为2或3，更优选为3。
在优选的方式中，在式(S3)中，k1为2或3，优选为3，p1为0，q1为2或3，优选为3。
Rd1分别独立地为－Z2－CR31 p2R32 q2R33 r2。
Z2分别独立地为单键、氧原子或2价有机基团。此外，以下记作Z2的结构的右侧键合于(CR31 p2R32 q2R33 r2)。
在优选的方式中，Z2为2价有机基团。
上述Z2优选为C1－6亚烷基、－(CH2)z5－O－(CH2)z6－(式中，z5为0～6的整数，例如为1～6的整数，z6为0～6的整数，例如为1～6的整数)或－(CH2)z7－亚苯基－(CH2)z8－(式中，z7为0～6的整数，例如为1～6的整数，z8为0～6的整数，例如为1～6的整数)。该C1－6亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。这些基团例如可以被选自氟原子、C1－6烷基、C2－6烯基和C2－6炔基中的1个或1个以上的取代基取代，但优选非取代。
在优选的方式中，Z2为C1－6亚烷基或－(CH2)z7－亚苯基－(CH2)z8－，优选为－亚苯基－(CH2)z8－。在Z2为上述基团的情况下，耐光性、特别是耐紫外线性进一步提高。
在另一优选的方式中，上述Z2为C1－3亚烷基。在一个方式中，Z2可以为－CH2CH2CH2－。在另一方式中，Z2可以为－CH2CH2－。
R31分别独立地为－Z2′－CR32′ q2′R33′ r2′。
Z2′分别独立地为单键、氧原子或2价有机基团。此外，以下记作Z2′的结构的右侧键合于(CR32′ q2′R33′ r2′)。
上述Z2′优选为C1－6亚烷基、－(CH2)z5′－O－(CH2)z6′－(式中，z5′为0～6的整数，例如为1～6的整数，z6′为0～6的整数，例如为1～6的整数)或－(CH2)z7′－亚苯基－(CH2)z8′－(式中，z7′为0～6的整数，例如为1～6的整数，z8′为0～6的整数，例如为1～6的整数)。该C1－6亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。这些基团例如可以被选自氟原子、C1－6烷基、C2－6烯基和C2－6炔基中的1个或1个以上的取代基取代，但优选非取代。
在优选的方式中，Z2′为C1－6亚烷基或－(CH2)z7′－亚苯基－(CH2)z8′－，优选为－亚苯基－(CH2)z8′－。在Z2′为上述基团的情况下，耐光性、特别是耐紫外线性进一步提高。
在另一优选的方式中，上述Z2′为C1－3亚烷基。在一个方式中，Z2′可以为－CH2CH2CH2－。在另一方式中，Z2′可以为－CH2CH2－。
R32′分别独立地为－Z3－SiR34 n2R35 3－n2。
上述Z3分别独立地为单键、氧原子或2价有机基团。此外，以下记作Z3的结构的右侧键合于(SiR34 n2R35 3－n2)。
在一个方式中，Z3为氧原子。
在一个方式中，Z3为2价有机基团。
上述Z3优选为C1－6亚烷基、－(CH2)z5″－O－(CH2)z6″－(式中，z5″为0～6的整数，例如为1～6的整数，z6″为0～6的整数，例如为1～6的整数)或－(CH2)z7″－亚苯基－(CH2)z8″－(式中，z7″为0～6的整数，例如为1～6的整数，z8″为0～6的整数，例如为1～6的整数)。该C1－6亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。这些基团例如可以被选自氟原子、C1－6烷基、C2－6烯基和C2－6炔基中的1个或1个以上的取代基取代，但优选非取代。
在优选的方式中，Z3为C1－6亚烷基或－(CH2)z7″－亚苯基－(CH2)z8″－，优选为－亚苯基－(CH2)z8″－。在Z3为上述基团的情况下，耐光性、特别是耐紫外线性进一步提高。
在另一优选的方式中，上述Z3为C1－3亚烷基。在一个方式中，Z3可以为－CH2CH2CH2－。在另一方式中，Z3可以为－CH2CH2－。
R34分别独立地为羟基或水解性基团。
R34优选分别独立地为水解性基团。
R34优选分别独立地为－ORj、－OCORj、－O－N＝CRj 2、－NRj 2、－NHRj、－NCO或卤素(这些式子中，Rj表示取代或非取代的C1－4烷基)，更优选为－ORj(即烷氧基)。作为Rj，可以列举：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基等的非取代烷基；氯甲基等的取代烷基。这些之中，优选烷基，特别优选非取代烷基，更优选甲基或乙基。在一个方式中，Rj为甲基，在另一方式中，Rj为乙基。
R35分别独立地为氢原子或1价有机基团。该1价有机基团是除上述水解性基团之外的1价有机基团。
在R35中，1价有机基团优选为C1－20烷基，更优选为C1－6烷基，进一步优选为甲基。
上述式中，n2在每个(SiR34 n2R35 3－n2)单元中分别独立地为0～3的整数。其中，在RSi为式(S4)所示的基团的情况下，在式(A1)和式(A2)的末端部分至少存在1个n2为1～3的(SiR34 n2R35 3－n2)单元。即，在该末端部分，所有的n2不同时为0。换言之，在式(A1)和式(A2)的末端部分至少存在1个键合有羟基或水解性基团的Si原子。
n2在每个(SiR34 n2R35 3－n2)单元中分别独立地优选为1～3的整数，更优选为2～3，进一步优选为3。
R33′分别独立地为氢原子、羟基或1价有机基团。该1价有机基团是除上述水解性基团之外的1价有机基团。
在R33′中，1价有机基团可以优选为C1－20烷基或R41′－(OR42′)y1′－Oy2′－(式中，R41′为氢原子或C1－6烷基，R42′分别独立地为C1－6亚烷基，y1′为1～30的整数，y2′为0或1)所示的基团。
在一个方式中，R41′为氢原子。
在另一方式中，R41′为C1－6烷基，优选为C1－3烷基。
R42′分别独立地为C1－6亚烷基，优选为C1－3亚烷基，更优选为C2－3亚烷基。
y1′为1～30的整数，优选为1～20的整数，更优选为1～10的整数，更进一步优选为2～10的整数，例如为2～6的整数、2～4的整数、3～6的整数或4～6的整数。
在一个方式中，R33′为羟基。
在另一方式中，R33′为C1－20烷基，更优选为C1－6烷基。
在另一方式中，R33′为R41′－(OR42′)y1′－Oy2′－。
上述q2′分别独立地为0～3的整数，上述r2′分别独立地为0～3的整数。此外，q2′与r2′的合计在(CR32′ q2′R33′ r2′)单元中为3。
q2′在每个(CR32′ q2′R33′ r2′)单元中分别独立地优选为1～3的整数，更优选为2～3，进一步优选为3。
R32分别独立地为－Z3－SiR34 n2R35 3－n2。该－Z3－SiR34 n2R35 3－n2的含义与上述R32′中的记载相同。
R33分别独立地为氢原子、羟基或1价有机基团。该1价有机基团是除上述水解性基团之外的1价有机基团。
在R33中，1价有机基团可以优选为C1－20烷基或R41－(OR42)y1－Oy2－(式中，R41为氢原子或C1－6烷基，R42分别独立地为C1－6亚烷基，y1为1～30的整数，y2为0或1)所示的基团。
在一个方式中，R41为氢原子。
在另一方式中，R41为C1－6烷基，优选为C1－3烷基。
R42分别独立地为C1－6亚烷基，优选为C1－3亚烷基，更优选为C2－3亚烷基。
y1为1～30的整数，优选为1～20的整数，更优选为1～10的整数，更进一步优选为2～10的整数，例如为2～6的整数、2～4的整数、3～6的整数或4～6的整数。
在一个方式中，R33为羟基。
在另一方式中，R33为C1－20烷基，更优选为C1－6烷基。
在另一方式中，R33为R41－(OR42)y1－Oy2－。
上述p2分别独立地为0～3的整数，q2分别独立地为0～3的整数，r2分别独立地为0～3的整数。此外，p2、q2与r2的合计在(CR31 p2R32 q2R33 r2)单元中为3。
在一个方式中，p2为0。
在一个方式中，p2在每个(CR31 p2R32 q2R33 r2)单元中可以分别独立地为1～3的整数、2～3的整数或3。在优选的方式中，p2为3。
在一个方式中，q2在每个(CR31 p2R32 q2R33 r2)单元中分别独立地为1～3的整数，优选为2～3的整数，更优选为3。
在一个方式中，p2为0，q2在每个(CR31 p2R32 q2R33 r2)单元中分别独立地为1～3的整数，优选为2～3的整数，进一步优选为3。
Re1分别独立地为－Z3－SiR34 n2R35 3－n2。该－Z3－SiR34 n2R35 3－n2的含义与上述R32′的记载相同。
Rf1分别独立地为氢原子、羟基或1价有机基团。该1价有机基团是除上述水解性基团之外的1价有机基团。
在Rf1中，1价有机基团可以优选为C1－20烷基或R43－(OR44)y3－Oy4－(式中，R43为氢原子或C1－6烷基，R44分别独立地为C1－6亚烷基，y3为1～30的整数，y4为0或1)所示的基团。
在一个方式中，R43为氢原子。
在另一方式中，R43为C1－6烷基，优选为C1－3烷基。
R44分别独立地为C1－6亚烷基，优选为C1－3亚烷基，更优选为C2－3亚烷基。
y3为1～30的整数，优选为1～20的整数，更优选为1～10的整数，更进一步优选为2～10的整数，例如为2～6的整数、2～4的整数、3～6的整数或4～6的整数。
在一个方式中，Rf1为羟基。
在另一方式中，Rf1为C1－20烷基，更优选为C1－6烷基。
在另一方式中，Rf1为R43－(OR44)y3－Oy4－。
上述k2分别独立地为0～3的整数，l2分别独立地为0～3的整数，m2分别独立地为0～3的整数。此外，k2、l2与m2的合计在(CRd1 k2Re1 l2Rf1 m2)单元中为3。
在上述式(A1)和(A2)中，在RSi为式(S4)所示的基团的情况下，优选在式(A1)和式(A2)的末端部分至少存在2个键合有羟基或水解性基团的Si原子。
在一个方式中，在RSi为式(S4)所示的基团的情况下，n2为1～3、优选为2或3、更优选为3的(SiR34 n2R35 3－n2)单元在式(A1)和式(A2)的各末端部分存在2个以上、例如2～27个、优选2～9个、更优选2～6个、进一步优选2～3个、特别优选3个。
在优选的方式中，在式(S4)中存在R32′的情况下，至少1个、优选全部的R32′中，n2为1～3的整数，优选为2或3，更优选为3。
在优选的方式中，在式(S4)中存在R32的情况下，至少1个、优选全部的R32中，n2为1～3的整数，优选为2或3，更优选为3。
在优选的方式中，在式(S4)中存在Re1的情况下，至少1个、优选全部的Ra1中，n2为1～3的整数，优选为2或3，更优选为3。
在优选的方式中，在式(S4)中，k2为0，l2为2或3，优选为3，n2为2或3，优选为3。
Rg1和Rh1分别独立地为－Z4－SiR11 n1R12 3－n1、－Z4－SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1、－Z4－CRd1 k2Re1 l2Rf1 m2。其中，R11、R12、Ra1、Rb2、Rc1、Rd1、Re1、Rf1、n1、k1、l1、m1、k2、l2和m2的含义同上。
在优选的方式中，Rg1和Rh1分别独立地为－Z4－SiR11 n1R12 3－n1。
上述Z4分别独立地为单键、氧原子或2价有机基团。此外，以下记作Z4的结构的右侧键合于(SiR11 n1R12 3－n1)。
在一个方式中，Z4为氧原子。
在一个方式中，Z4为2价有机基团。
上述Z4优选为C1－6亚烷基、－(CH2)z5″－O－(CH2)z6″－(式中，z5″为0～6的整数，例如为1～6的整数，z6″为0～6的整数，例如为1～6的整数)或－(CH2)z7″－亚苯基－(CH2)z8″－(式中，z7″为0～6的整数，例如为1～6的整数，z8″为0～6的整数，例如为1～6的整数)。该C1－6亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。这些基团例如可以被选自氟原子、C1－6烷基、C2－6烯基和C2－6炔基中的1个或1个以上的取代基取代，但优选非取代。
在优选的方式中，Z4为C1－6亚烷基或－(CH2)z7″－亚苯基－(CH2)z8″－，优选为－亚苯基－(CH2)z8″－。在Z3为上述基团的情况下，耐光性、特别是耐紫外线性进一步提高。
在另一优选的方式中，上述Z4为C1－3亚烷基。在一个方式中，Z4可以为－CH2CH2CH2－。在另一方式中，Z4可以为－CH2CH2－。
在一个方式中，RSi为式(S2)、(S3)、(S4)或(S5)所示的基团。这些化合物能够形成具有高表面滑动性的表面处理层。
在一个方式中，RSi为式(S1)、(S3)、(S4)或(S5)所示的基团。这些化合物由于在一个末端具有多个水解性基团，所以能够强力地与基材密合，能够形成具有高摩擦耐久性的表面处理层。
在一个方式中，RSi为式(S1)、(S3)或(S4)所示的基团。这些化合物由于在一个末端具有多个水解性基团，所以能够强力地与基材密合，能够形成具有高摩擦耐久性的表面处理层。
在一个方式中，RSi为式(S3)或(S4)所示的基团。这些化合物由于在一个末端具有从一个Si原子或C原子分支出来的多个水解性基团，所以能够形成具有更高的摩擦耐久性的表面处理层。
在一个方式中，RSi为式(S1)所示的基团。
在一个方式中，RSi为式(S2)所示的基团。
在一个方式中，RSi为式(S3)所示的基团。
在一个方式中，RSi为式(S4)所示的基团。
在一个方式中，RSi为式(S5)所示的基团。
在上述式(A1)和(A2)中，XA可以被理解为将主要提供拨水性和表面滑动性等的氟代聚醚部(RF1和RF2)和提供与基材的结合能的部位(RSi)连结的连接部。因此，只要式(A1)和(A2)所示的化合物能够稳定存在，该XA可以为单键，也可以为任意的基团。
在上述式(A1)中，α1为1～9的整数，β1为1～9的整数。这些α1和β1可以根据XA的价数而变化。α1与β1之和与XA的价数相等。例如在XA为10价有机基团的情况下，α1与β1之和为10，例如可以α1为9且β1为1、α1为5且β1为5、或者α1为1且β1为9。另外，在XA为2价有机基团的情况下，α1和β1为1。
在上述式(A2)中，γ为1～9的整数。γ可以根据XA的价数而变化。即，γ是XA的价数减去1后的值。
XA分别独立地为单键或2～10价有机基团。
在一个方式中，XA不含硅氧烷键(－Si－O－Si－)。
上述XA中的2～10价有机基团优选为2～8价有机基团。在一个方式中，该2～10价有机基团优选为2～4价有机基团，更优选为2价有机基团。在另一方式中，该2～10价有机基团优选为3～8价有机基团，更优选为3～6价有机基团。
在一个方式中，XA为单键或2价有机基团，α1为1，β1为1。
在一个方式中，XA为单键或2价有机基团，γ为1。
在一个方式中，XA为3～6价有机基团，α1为1，β1为2～5。
在一个方式中，XA为3～6价有机基团，γ为2～5。
在一个方式中，XA为3价有机基团，α1为1，β1为2。
在一个方式中，XA为3价有机基团，γ为2。
在XA为单键或2价有机基团的情况下，式(A1)和(A2)由下述式(A1′)和(A2′)表示。
RF1-XA-RSi (A1')
RSi-XA-RF2-XA-RSi (A2’)
在一个方式中，XA为单键。
在另一方式中，XA为2价有机基团。
在一个方式中，作为XA，例如可以列举单键或下述式：－(R51)p5－(X51)q5－所示的2价有机基团。
[式中，
R51表示单键、－(CH2)s5－或者邻亚苯基、间亚苯基或对亚苯基，优选为－(CH2)s5－，
s5为1～20的整数，优选为1～6的整数，更优选为1～3的整数，更进一步优选为1或2，
X51表示－(X52)l5－，
X52分别独立地表示选自－O－、－S－、－CO－、－NR54－、－(CH2)n5－、邻亚苯基、间亚苯基或对亚苯基、－COO－、－OCO－、－CONR54－、－NR54CO－、－O－CONR54－、－NR54CO－O－、－Si(R53)2－和－(Si(R53)2O)m5－Si(R53)2－中的基团，
R53分别独立地表示苯基、C1－6烷基或C1－6烷氧基，优选为苯基或C1－6烷基，更优选为甲基，
R54分别独立地表示氢原子、苯基或C1－6烷基(优选为甲基)，
m5在每次出现时分别独立地为1～100的整数，优选为1～20的整数，
n5在每次出现时分别独立地为1～20的整数，优选为1～6的整数，更优选为1～3的整数，
l5为1～10的整数，优选为1～5的整数，更优选为1～3的整数，
p5为0或1，
q5为0或1，
其中，p5和q5的至少一方为1，标注p5或q5并用括号括起来的各重复单元的存在顺序是任意的，
右侧键合于RSi。]
在优选的方式中，XA为单键或下述式：－(R51)p5－(X51)q5－所示的2价有机基团。
[式中，
R51为单键或－(CH2)s5－，
s5为1～20的整数，
X51为－(X52)l5－，
X52分别独立地为选自－O－、－S－、－CO－、－NR54－、－(CH2)n5－、－COO－、－OCO－、－CONR54－、－NR54CO－、－O－CONR54－、－NR54CO－O－、－Si(R53)2－和－(Si(R53)2O)m5－Si(R53)2－中的基团，
R53分别独立地为苯基、C1－6烷基或C1－6烷氧基，
R54分别独立地为氢原子、苯基或C1－6烷基，
m5分别独立地为1～100的整数，
n5分别独立地为1～20的整数，
l5为1～10的整数，
p5为0或1，
q5为0或1，
其中，p5和q5的至少一方为1，标注p5或q5并用括号括起来的各重复单元的存在顺序是任意的，
右侧键合于RSi。]
优选上述XA可以分别独立地为：
单键、
C1－20亚烷基、
－R51－X53－R52－、或
－X54－R5－。
[式中，R51和R52的含义同上，
X53表示：
－O－、
－S－、
－C(O)O－、
－CONR54－、
－O－CONR54－、
－Si(R53)2－、
－(Si(R53)2O)m5－Si(R53)2－、
－O－(CH2)u5－(Si(R53)2O)m5－Si(R53)2－、
－O－(CH2)u5－Si(R53)2－O－Si(R53)2－CH2CH2－Si(R53)2－O－Si(R53)2－、
－O－(CH2)u5－Si(OCH3)2OSi(OCH3)2－、
－CONR54－(CH2)u5－(Si(R53)2O)m5－Si(R53)2－、或
－CONR54－(CH2)u5－N(R54)－，
(式中，R53、R54和m5的含义同上，
u5为1～20的整数，优选为2～6的整数，更优选为2～3的整数。)
X54表示：
－S－、
－C(O)O－、
－CONR54－、
－O－CONR54－、
－CONR54－(CH2)u5－(Si(R54)2O)m5－Si(R54)2－、或
－CONR54－(CH2)u5－N(R54)－。
(式中，各记号的含义同上。)]
更优选上述XA分别独立地为：
单键、
C1－20亚烷基、
－(CH2)s5－X53－、
－(CH2)s5－X53－(CH2)t5－
－X54－、或
－X54－(CH2)t5－。
[式中，X53、X54、s5和t5的含义同上。]
更优选上述XA可以分别独立地为：
单键、
C1－20亚烷基、
－(CH2)s5－X53－(CH2)t5－、或
－X54－(CH2)t5－。
[式中，各符号的含义同上。]
在优选的方式中，上述XA可以分别独立地为：
单键、
C1－20亚烷基、
－(CH2)s5－X53－、或
－(CH2)s5－X53－(CH2)t5－。
[式中，
X53为－O－、－CONR54－或－O－CONR54－，
R54分别独立地表示氢原子、苯基或C1－6烷基，
s5为1～20的整数，
t5为1～20的整数。]
在优选的方式中，上述XA可以分别独立地为：
－(CH2)s5－O－(CH2)t5－、
－CONR54－(CH2)t5－。
[式中，
R54分别独立地表示氢原子、苯基或C1－6烷基，
s5为1～20的整数，
t5为1～20的整数。]
在一个方式中，上述XA分别独立地为：
单键、
C1－20亚烷基、
－(CH2)s5－O－(CH2)t5－、
－(CH2)s5－(Si(R53)2O)m5－Si(R53)2－(CH2)t5－、
－(CH2)s5－O－(CH2)u5－(Si(R53)2O)m5－Si(R53)2－(CH2)t5－、或
－(CH2)s5－O－(CH2)t5－Si(R53)2－(CH2)u5－Si(R53)2－(CvH2v)－。
[式中，R53、m5、s5、t5和u5的含义同上，v5为1～20的整数，优选为2～6的整数，更优选为2～3的整数。]
上述式中，－(CvH2v)－可以为直链，也可以为支链，例如可以为－CH2CH2－、－CH2CH2CH2－、－CH(CH3)－、－CH(CH3)CH2－。
XA(典型地XA的氢原子)分别独立地可以被选自氟原子、C1－3烷基和C1－3氟代烷基(优选C1－3全氟烷基)中的1个或1个以上的取代基取代。在优选的方式中，XA为非取代。
在一个方式中，XA可以分别独立地为－O－C1－6亚烷基以外。
在另一方式中，作为XA，例如可以列举下列基团：
/>
[式中，R41分别独立地为氢原子、苯基、碳原子数1～6的烷基或C1－6烷氧基，优选为甲基，
D为选自下列基团的基团：
－CH2O(CH2)2－、
－CH2O(CH2)3－、
－CF2O(CH2)3－、
－(CH2)2－、
－(CH2)3－、
－(CH2)4－、
－CONH－(CH2)3－、
－CON(CH3)－(CH2)3－、
－CON(Ph)－(CH2)3－(式中，Ph表示苯基)、和
(式中，R42分别独立地表示氢原子、C1－6的烷基或C1－6的烷氧基，优选表示甲基或甲氧基，更优选表示甲基)，
E为－(CH2)n－(n为2～6的整数)，
D键合于分子主链的RF1或RF2，E键合于RSi。]
作为上述XA的具体例，可以列举例如：
单键、
－CH2OCH2－、
－CH2O(CH2)2－、
－CH2O(CH2)3－、
－CH2O(CH2)4－、
－CH2O(CH2)5－、
－CH2O(CH2)6－、
－CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2－、
－CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2－、
－CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2－、
－CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2－、
－CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2－、
－CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2－、
－CH2OCF2CHFOCF2－、
－CH2OCF2CHFOCF2CF2－、
－CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2－、
－CH2OCH2CF2CF2OCF2－、
－CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2－、
－CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2CF2－、
－CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2－、
－CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2－、
－CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2－、
－CH2OCH2CHFCF2OCF2－、
－CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2－、
－CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2CF2－、
－CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2－、
－CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2－、
－CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2－、
－CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2－C(O)NH－CH2－、
－CH2OCH2(CH2)7CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2－、
－CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)3－、
－CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)3－、
－CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2－、
－CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)2－、
－(CH2)2－Si(CH3)2－(CH2)2－、
－CH2－、
－(CH2)2－、
－(CH2)3－、
－(CH2)4－、
－(CH2)5－、
－(CH2)6－、
－CO－、
－CONH－、
－CONH－CH2－、
－CONH－(CH2)2－、
－CONH－(CH2)3－、
－CONH－(CH2)4－、
－CONH－(CH2)5－、
－CONH－(CH2)6－、
－CON(CH3)－CH2－、
－CON(CH3)－(CH2)2－、
－CON(CH3)－(CH2)3－、
－CON(CH3)－(CH2)4－、
－CON(CH3)－(CH2)5－、
－CON(CH3)－(CH2)6－、
－CONH－(CH2)2NH(CH2)3－、
－CONH－(CH2)6NH(CH2)3－、
－CH2O－CONH－(CH2)3－、
－CH2O－CONH－(CH2)6－、
－S－(CH2)3－、
－(CH2)2S(CH2)3－、
－CONH－(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2－、
－CONH－(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2－、
－CONH－(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2－、
－CONH－(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2－、
－CONH－(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2－、
－CONH－(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2－、
－C(O)O－(CH2)3－、
－C(O)O－(CH2)6－、
－CH2－O－(CH2)3－Si(CH3)2－(CH2)2－Si(CH3)2－(CH2)2－、
－CH2－O－(CH2)3－Si(CH3)2－(CH2)2－Si(CH3)2－CH(CH3)－、
－CH2－O－(CH2)3－Si(CH3)2－(CH2)2－Si(CH3)2－(CH2)3－、
－CH2－O－(CH2)3－Si(CH3)2－(CH2)2－Si(CH3)2－CH(CH3)－CH2－、
－OCH2－、
－O(CH2)3－、
－OCFHCF2－、
等。
在又一方式中，XA分别独立地为式：－(R16)x1－(CFR17)y1－(CH2)z1－所示的基团。式中，x1、y1和z1分别独立地为0～10的整数，x1、y1与z1之和为1以上，用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。
上述式中，R16分别独立地为氧原子、亚苯基、亚咔唑基、－NR18－(式中，R18表示氢原子或有机基团)或2价有机基团。优选R18为氧原子或2价极性基团。
作为上述“2价极性基团”，没有特别限定，可以列举－C(O)－、－C(＝NR19)－和－C(O)NR19－(这些式子中，R19表示氢原子或低级烷基)。该“低级烷基”例如为碳原子数1～6的烷基，例如甲基、乙基、正丙基，它们可以被1个或1个以上的氟原子取代。
上述式中，R17分别独立地为氢原子、氟原子或低级氟代烷基，优选为氟原子。该“低级氟代烷基”例如为碳原子数1～6、优选碳原子数1～3的氟代烷基，优选为碳原子数1～3的全氟烷基，更优选为三氟甲基、五氟乙基，进一步优选为三氟甲基。
此外，上述XA的各式的左侧键合于RF1或RF2，右侧键合于RSi。
在又一方式中，作为XA的例子，可以列举下列基团：
[式中，
R41分别独立地为氢原子、苯基、碳原子数1～6的烷基或C1－6烷氧基，优选为甲基，
在各XA基中，T中的任意几个为与分子主链的RF1或RF2键合的下列基团：
－CH2O(CH2)2－、
－CH2O(CH2)3－、
－CF2O(CH2)3－、
－(CH2)2－、
－(CH2)3－、
－(CH2)4－、
－CONH－(CH2)3－、
－CON(CH3)－(CH2)3－、
－CON(Ph)－(CH2)3－(式中，Ph表示苯基)、或
[式中，R42分别独立地表示氢原子、C1－6的烷基或C1－6的烷氧基，优选表示甲基或甲氧基，更优选表示甲基。]
另外的几个T与分子主链的RSi键合，在存在的情况下，其余的T分别独立地为甲基、苯基、C1－6烷氧基或者自由基捕获基或紫外线吸收基。
自由基捕获基只要是能够捕获因光照射而产生的自由基的基团就没有特别限定，可以列举例如二苯甲酮类、苯并三唑类、苯甲酸酯类、水杨酸苯酯类、巴豆酸类、丙二酸酯类、有机丙烯酸酯类、受阻胺类、受阻酚类或三嗪类的残基。
紫外线吸收基只要是能够吸收紫外线的基团就没有特别限定，可以列举例如苯并三唑类、羟基二苯甲酮类、取代和未取代苯甲酸或水杨酸化合物的酯类、丙烯酸酯或烷氧基肉桂酸酯类、草酰胺类、草酰替苯胺类、苯并噁嗪酮类、苯并噁唑类的残基。
在优选的方式中，作为优选的自由基捕获基或紫外线吸收基，可以列举：
在该方式中，XA可以分别独立地为3～10价有机基团。
在又一方式中，作为XA的例子，可以列举以下基团：
[式中，R25、R26和R27分别独立地为2～6价有机基团，
R25与至少1个RF1键合，R26和R27分别与至少1个RSi键合。]
在一个方式中，R25为单键、C1－20亚烷基、C3－20亚环烷基、C5－20亚芳基、－R57－X58－R59－、－X58－R59－或－R57－X58－。上述R57和R59分别独立地为单键、C1－20亚烷基、C3－20亚环烷基或C5－20亚芳基。上述X58为－O－、－S－、－CO－、－O－CO－或－COO－。
在一个方式中，R26和R27分别独立地为烃基、或烃的端部或主链中具有选自N、O和S中的至少1个原子的基团，优选列举C1－6烷基、－R36－R37－R36－、－R36－CHR38 2－等。在此，R36分别独立地为单键或碳原子数1～6的烷基，优选为碳原子数1～6的烷基。R37为N、O或S，优选为N或O。R38为－R45－R46－R45－、－R46－R45－或－R45－R46－。其中，R45分别独立地为碳原子数1～6的烷基。R46为N、O或S，优选为O。
在该方式中，XA可以分别独立地为3～10价有机基团。
在又一方式中，XA为下式所示的基团：
[式中，Xa为单键或2价有机基团。]
上述Xa为与异氰脲酸环直接键合的单键或二价连结基团。作为Xa，优选单键、亚烷基或包含选自醚键、酯键、酰胺键和硫醚键中的至少1种键的二价基团，更优选单键、碳原子数1～10的亚烷基或包含选自醚键、酯键、酰胺键和硫醚键中的至少1种键的碳原子数1～10的二价烃基。
作为Xa，更优选下述式：－(CX121X122)x1－(Xa1)y1－(CX123X124)z1－所示的基团。
(式中，X121～X124分别独立地为H、F、OH或－OSi(OR121)3(式中，3个R121分别独立地为碳原子数1～4的烷基)，
上述Xa1为－C(＝O)NH－、－NHC(＝O)－、－O－、－C(＝O)O－、－OC(＝O)－、－OC(＝O)O－或－NHC(＝O)NH－(各键的左侧与CX121X122键合)，
x1为0～10的整数，y1为0或1，z1为1～10的整数。)
作为上述Xa1，优选－O－或－C(＝O)O－。
作为上述Xa，特别优选下述式：－(CF2)m11－(CH2)m12－O－(CH2)m13－(式中，m11为1～3的整数，m12为1～3的整数，m13为1～3的整数)所示的基团、
－(CF2)m14－(CH2)m15－O－CH2CH(OH)－(CH2)m16－(式中，m14为1～3的整数，m15为1～3的整数，m16为1～3的整数)所示的基团、
－(CF2)m17－(CH2)m18－(式中，m17为1～3的整数，m18为1～3的整数)所示的基团、
－(CF2)m19－(CH2)m20－O－CH2CH(OSi(OCH3)3)－(CH2)m21－(式中，m19为1～3的整数，m20为1～3的整数，m21为1～3的整数)所示的基团、或
－(CH2)m22－(式中，m22为1～3的整数)所示的基团。
作为上述Xa，没有特别限定，具体可以列举：
－CH2－、－C2H4－、－C3H6－、－C4H8－、－C4H8－O－CH2－、－CO－O－CH2－CH(OH)－CH2－、－(CF2)n5－(n5为0～4的整数)、－(CF2)n5－(CH2)m5－(n5和m5分别独立地为0～4的整数)、－CF2CF2CH2OCH2CH(OH)CH2－、－CF2CF2CH2OCH2CH(OSi(OCH3)3)CH2－等。
在该方式中，XA可以分别独立地为2价或3价有机基团。
在一个方式中，式(A1)或式(A2)所示的含氟硅烷化合物不含硅氧烷键(－Si－O－Si－)。
上述式(A1)或式(A2)所示的含氟硅烷化合物可以具有5×102～1×105的平均分子量，但没有特别限定。在该范围中，从摩擦耐久性的观点出发，优选具有2,000～32,000、更优选2,500～12,000的平均分子量。其中，该“平均分子量”是指数均分子量，“平均分子量”是通过19F－NMR测得的值。
上述表面处理层可以通过使用包含含氟硅烷化合物的表面处理剂对基材表面进行处理而形成。例如可以通过在基材上涂布表面处理剂，形成表面处理剂的膜，静置或者进行加热处理，使表面处理剂的膜固化，从而得到表面处理层。
在一个方式中，上述表面处理剂中，含氟硅烷化合物是式(A1)所示的化合物。
在另一方式中，上述表面处理剂中，含氟硅烷化合物是式(A2)所示的化合物。
在另一方式中，上述表面处理剂中，含氟硅烷化合物是式(A1)所示的化合物和式(A2)所示的化合物。
上述表面处理剂中，相对于式(A1)所示的化合物与式(A2)所示的化合物的合计，式(A2)所示的化合物优选为0.1摩尔％以上35摩尔％以下。相对于式(A1)所示的化合物与式(A2)所示的化合物的合计，式(A2)所示的化合物的含量的下限优选为0.1摩尔％，更优选为0.2摩尔％，进一步优选为0.5摩尔％，更进一步优选为1摩尔％，特别优选为2摩尔％，特别可以为5摩尔％。相对于式(A1)所示的化合物与式(A2)所示的化合物的合计，式(A2)所示的化合物的含量的上限优选为35摩尔％，更优选为30摩尔％，进一步优选为20摩尔％，更进一步优选可以为15摩尔％或10摩尔％。相对于式(A1)所示的化合物与式(A2)所示的化合物的合计，式(A2)所示的化合物优选为0.1摩尔％以上30摩尔％以下，更优选为0.1摩尔％以上20摩尔％以下，进一步优选为0.2摩尔％以上10摩尔％以下，更进一步优选为0.5摩尔％以上10摩尔％以下，特别优选为1摩尔％以上10摩尔％以下，例如为2摩尔％以上10摩尔％以下或5摩尔％以上10摩尔％以下。通过使式(A2)所示的化合物在上述范围，能够进一步提高摩擦耐久性。
成分(A)可以是上述式(A1)或式(A2)所示的化合物与这些化合物的一部分发生缩合而得到的化合物的混合物。
上述表面处理剂可以含有溶剂、醇类、能够理解为含氟油的(非反应性的)氟代聚醚化合物、优选全氟聚醚化合物(以下统称为“含氟油”)、能够理解为硅油的(非反应性的)有机硅化合物(以下称为“硅油”)、增容剂、催化剂、表面活性剂、阻聚剂、敏化剂等。
作为上述溶剂，例如可以列举：己烷、环己烷、庚烷、辛烷、壬烷、癸烷、十一烷、十二烷、矿油精等脂肪族烃类；苯、甲苯、二甲苯、萘、溶剂石脑油等芳香族烃类；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丙酯、乙酸异丁酯、乙酸溶纤剂、丙二醇甲醚乙酸酯、乙酸卡必醇酯、草酸二乙酯、丙酮酸乙酯、乙基－2－羟基丁酸酯、乙酰乙酸乙酯、乙酸戊酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、3－甲氧基丙酸甲酯、3－甲氧基丙酸乙酯、2－羟基异丁酸甲酯、2－羟基异丁酸乙酯等酯类；丙酮、甲基丁基酮、甲基异丁基酮、2－己酮、环己酮、甲基氨基酮、2－庚酮等酮类；乙基溶纤剂、甲基溶纤剂、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单丁醚乙酸酯、二丙二醇二甲醚、乙二醇单烷基醚等二醇醚类；甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、叔丁醇、仲丁醇、3－戊醇、辛醇、3－甲基－3－甲氧基丁醇、叔戊醇等醇类；乙二醇、丙二醇等二醇类；四氢呋喃、四氢吡喃、二噁烷等环状醚类；N，N－二甲基甲酰胺、N，N－二甲基乙酰胺等酰胺类；甲基溶纤剂、溶纤剂、异丙基溶纤剂、丁基溶纤剂、二乙二醇单甲醚等醚醇类；二乙二醇单乙醚乙酸酯；1，1，2－三氯－1，2，2－三氟乙烷、1，2－二氯－1，1，2，2－四氟乙烷、二甲基亚砜、1，1－二氯－1，2，2，3，3－五氟丙烷(HCFC225)、1，1，2，2，3，3，4－七氟环戊烷(例如Zeorora H)、全氟丁基甲基醚(C4F9OCH3)(例如HFE7100)、全氟丁基乙基醚(C4F9OC2H5)(例如HFE7200)、全氟己基甲基醚(C2F5CF(OCH3)C3F7)(例如HFE7300)、CF3CH2OH、CF3CF2CH2OH、(CF3)2CHOH等含氟溶剂等。或者可以列举它们的2种以上的混合溶剂等。
作为上述醇类，例如可以列举可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1～6的醇、例如甲醇、乙醇、异丙醇、叔丁醇、CF3CH2OH、CF3CF2CH2OH、(CF3)2CHOH、H(CF2CF2)CH2OH、H(CF2CF2)2CH2OH、H(CF2CF2)3CH2OH。通过在表面处理剂中添加这些醇类，能够使表面处理剂的稳定性提高，并且，能够改善成分(A)和成分(B)与溶剂的相容性。
在优选的方式中，上述表面处理剂含有溶剂和醇。
相对于溶剂和醇的合计，醇的含量优选为0.1～50质量％，更优选为0.5～30质量％，进一步优选为1.0～20质量％，更进一步优选为2.0～10质量％。
作为含氟油，没有特别限定，例如可以列举以下通式(3)所示的化合物(全氟聚醚化合物)。
Rf5－(OC4F8)a′－(OC3F6)b′－(OC2F4)c′－(OCF2)d′－Rf6···(3)
式中，Rf5表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1～16烷基(优选为C1―16的全氟烷基)，Rf6表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1～16烷基(优选为C1－16全氟烷基)、氟原子或氢原子，Rf5和Rf6更优选分别独立地为C1－3全氟烷基。
a′、b′、c′和d′分别表示构成聚合物的主骨架的全氟聚醚的4种重复单元数，彼此独立地为0以上300以下的整数，a′、b′、c′与d′之和至少为1，优选为1～300，更优选为20～300。标注角标a′、b′、c′或d′并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。在这些重复单元中，－(OC4F8)－可以为－(OCF2CF2CF2CF2)－、－(OCF(CF3)CF2CF2)－、－(OCF2CF(CF3)CF2)－、－(OCF2CF2CF(CF3))－、－(OC(CF3)2CF2)－、－(OCF2C(CF3)2)－、－(OCF(CF3)CF(CF3))－、－(OCF(C2F5)CF2)－和(OCF2CF(C2F5))－的任一种，优选为－(OCF2CF2CF2CF2)－。－(OC3F6)－可以为－(OCF2CF2CF2)－、－(OCF(CF3)CF2)－和(OCF2CF(CF3))－的任一种，优选为－(OCF2CF2CF2)－。－(OC2F4)－可以为－(OCF2CF2)－和(OCF(CF3))－的任一种，优选为－(OCF2CF2)－。
作为上述通式(3)所示的全氟聚醚化合物的例子，可以列举以下通式(3a)和(3b)的任一式所示的化合物(可以为1种或2种以上的混合物)。
Rf5－(OCF2CF2CF2)b″－Rf6···(3a)
Rf5－(OCF2CF2CF2CF2)a″－(OCF2CF2CF2)b″－(OCF2CF2)c″－(OCF2)d″－Rf6···(3b)
这些式中，Rf5和Rf6如上所述；在式(3a)中，b″为1以上100以下的整数；在式(3b)中，a″和b″分别独立地为0以上30以下的整数，c″和d″分别独立地为1以上300以下的整数。标注角标a″、b″、c″、d″并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。
另外，从另外的观点出发，含氟油可以为通式Rf3－F(式中，Rf3为C5－16全氟烷基)所示的化合物。另外，还可以为氯三氟乙烯低聚物。
上述含氟油可以具有500～10000的平均分子量。含氟油的分子量可以使用GPC测定。
相对于上述表面处理剂，含氟油例如可以含有0～50质量％、优选为0～30质量％、更优选为0～5质量％。在一个方式中，上述表面处理剂实质上不含含氟油。实质上不含含氟油是指完全不含含氟油、或者可以含有极微量的含氟油。
在一个方式中，可以使含氟油的平均分子量大于含氟硅烷化合物的平均分子量。通过这样设计平均分子量，特别是在利用真空蒸镀法形成表面处理层时，能够获得更优异的摩擦耐久性和表面滑动性。
在一个方式中，可以使含氟油的平均分子量小于含氟硅烷化合物的平均分子量。通过这样设计平均分子量，能够抑制由该化合物得到的表面处理层的透明性下降，并且能够形成具有高摩擦耐久性和高表面滑动性的固化物。
含氟油有助于提高由上述表面处理剂形成的层的表面滑动性。
作为上述硅油，例如可以使用硅氧烷键为2000以下的直链状或环状的硅油。直链状的硅油可以是所谓的普通硅油和改性硅油。作为普通硅油，可以列举二甲基硅油、甲基苯基硅油、甲基含氢硅油。作为改性硅油，可以列举利用烷基、芳烷基、聚醚、高级脂肪酸酯、氟代烷基、氨基、环氧基、羧基、醇等将普通硅油改性而形成的硅油。环状的硅油例如可以列举环状二甲基硅氧烷油等。
上述表面处理剂中，相对于上述本发明的含氟硅烷化合物的合计100质量份(2种以上时为它们的合计，下同)，该硅油例如可以含有0～300质量份、优选50～200质量份。
硅油有助于提高表面处理层的表面滑动性。
作为上述增容剂，可以列举2，2，2－三氟乙醇、2，2，3，3，3－五氟－1－丙醇或2，2，3，3，4，4，5，5－八氟－1－戊醇等的氟取代醇，优选末端为CF2H的氟取代醇、1，3－双(三氟甲基)苯等的氟取代芳基、优选氟取代苯等。
作为上述催化剂，可以列举酸(例如乙酸、三氟乙酸等)、碱(例如氨、三乙胺、二乙胺等)、过渡金属(例如Ti、Ni、Sn等)等。
催化剂促进本发明的含氟硅烷化合物的水解和脱水缩合，促进由上述表面处理剂形成的层的形成。
作为其它成分，除了上述以外，例如还可以列举四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、3－氨基丙基三甲氧基硅烷、3－环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、甲基三乙酰氧基硅烷等。
上述表面处理剂可以浸渗在多孔物质例如多孔的陶瓷材料、金属纤维例如钢丝绒固定成棉状的材料中，制成粒料。该粒料例如能够用于真空蒸镀。
上述表面处理剂中，除了上述成分之外，还可以含有微量的作为杂质的例如Pt、Rh、Ru、1，3－二乙烯基四甲基二硅氧烷、三苯基膦、NaCl、KCl、硅烷的缩合物等。
上述表面处理剂的层形成能够通过将上述表面处理剂应用在基底层上而实施。应用方法没有特别限定。例如可以使用湿润覆盖法和干燥覆盖法。
作为湿润覆盖法的例子，可以列举浸涂、旋涂、流涂、喷涂、辊涂、凹版涂敷以及类似的方法。
作为干燥覆盖法的例子，可以列举蒸镀(通常为真空蒸镀)、溅射、CVD以及类似的方法。作为蒸镀法(通常为真空蒸镀法)的具体例，可以列举电阻加热、电子束、使用微波等的高频加热、离子束以及类似的方法。作为CVD方法的具体例，可以列举等离子体－CVD、光学CVD、热CVD以及类似的方法。
另外，还可以利用常压等离子体法实施覆盖。
在使用湿润覆盖法的情况下，上述表面处理剂可以利用溶剂稀释后再应用于基材表面。从本发明的组合物的稳定性和溶剂的挥发性的观点出发，优选使用以下溶剂：碳原子数5～12的全氟脂肪族烃(例如全氟己烷、全氟甲基环己烷和全氟－1，3－二甲基环己烷)；多氟芳香族烃(例如双(三氟甲基)苯)；多氟脂肪族烃(例如C6F13CH2CH3(例如旭硝子株式会社生产的ASAHIKLIN(注册商标)AC－6000)、1，1，2，2，3，3，4－七氟环戊烷(例如日本瑞翁株式会社生产的Zeorora(注册商标)H)；氢氟醚(HFE)(例如全氟丙基甲基醚(C3F7OCH3)(例如住友3M株式会社生产的Novec(商标)7000)、全氟丁基甲基醚(C4F9OCH3)(例如住友3M株式会社生产的Novec(商标)7100)、全氟丁基乙基醚(C4F9OC2H5)(例如住友3M株式会社生产的Novec(商标)7200)、全氟己基甲基醚(C2F5CF(OCH3)C3F7)(例如住友3M株式会社生产的Novec(商标)7300)等的烷基全氟烷基醚(全氟烷基和烷基可以为直链或支链状)、或者CF3CH2OCF2CHF2(例如旭硝子株式会社生产的ASAHIKLIN(注册商标)AE－3000))等。这些溶剂可以单独使用或以2种以上的混合物的形式使用。其中，优选氢氟醚，特别优选全氟丁基甲基醚(C4F9OCH3)和/或全氟丁基乙基醚(C4F9OC2H5)。
在使用干燥覆盖法的情况下，上述表面处理剂可以直接供于干燥覆盖法，或者也可以在利用上述溶剂稀释后供于干燥覆盖法。
表面处理剂的层形成优选以上述表面处理剂与用于水解和脱水缩合的催化剂一起存在于层中的方式实施。简便起见，在利用湿润覆盖法的情况下，可以将上述表面处理剂用溶剂稀释后、即将应用于基材表面之前，在上述表面处理剂的稀释液中添加催化剂。在利用干燥覆盖法的情况下，可以利用添加了催化剂的上述表面处理剂直接进行蒸镀(通常为真空蒸镀)处理、或者使用在铁或铜等的金属多孔体中浸渗有添加了催化剂的上述表面处理剂的颗粒状物质进行蒸镀(通常为真空蒸镀)处理。
催化剂能够使用任意适当的酸或碱。作为酸催化剂，例如能够使用乙酸、甲酸、三氟乙酸等。另外，作为碱催化剂，例如能够使用氨、有机胺类等。
上述表面处理层的厚度没有特别限定。在光学部件的情况下，从光学性能、摩擦耐久性和防污性的观点来看，优选上述层的厚度为1～200nm、优选为1～100nm、更优选为1～50nm、例如1～30nm的范围。
(物品)
本发明提供包括本发明的叠层体的物品。
本发明的物品可以为车辆用、船舶用或飞机用的玻璃或镜面玻璃，例如汽车用玻璃、汽车用门镜(door mirror)或汽车用外后视镜(Fender mirror)等、或者用于车载摄像头的玻璃。此外，也可以为用于监控摄像头的玻璃或曲面镜等的室外玻璃。
本发明的物品还可以为光学部件。光学部件的例子可以列举如下：眼镜等的镜片；PDP、LCD等的显示器；便携式电话、便携式信息终端等设备的触摸面板；蓝光(Blu－ray(注册商标))光盘、DVD光盘、CD－R、MO等的光盘；光纤；钟表的显示面等。
另外，本发明的物品还可以为医疗器械或医疗材料。
以上，对本发明的叠层体和物品进行了详细说明。但本发明的叠层体和物品等并不限定于上述例示。
实施例
以下，在实施例中说明本发明的叠层体，但本发明不限定于以下的实施例。此外，在本实施例中，构成氟代聚醚的重复单元的存在顺序是任意的，以下所示的化学式表示平均组成。
作为基底层形成用组合物，准备药液(A)～(F)。
(含聚硅氮烷组合物)
(A)：将聚硅氮烷(Merck公司生产、Durazane 2800)以浓度成为0.2质量％的方式溶解在二丁基醚(东京化成工业株式会社生产)中，制成药液(A)。
(B)：将聚硅氮烷(Merck公司生产、Durazane2800)以浓度成为0.5质量％的方式溶解在二丁基醚(东京化成工业株式会社生产)中，制成药液(B)。
(C)：将聚硅氮烷(Merck公司生产、Durazane2800)以浓度成为5.0质量％的方式溶解在二丁基醚(东京化成工业株式会社生产)中，制成药液(C)。
(含氨基硅烷组合物)
(D)：将双3三甲氧基甲硅烷基丙胺(东京化成工业株式会社生产)以浓度成为0.2质量％的方式溶解在氢氟醚(3M公司生产、Novec HFE7200)中，制成药液(D)。
(E)：将双3三甲氧基甲硅烷基丙胺(东京化成工业株式会社生产)以浓度成为0.5质量％的方式溶解在氢氟醚(3M公司生产、Novec HFE7200)中，制成药液(E)。
(F)：将双3三甲氧基甲硅烷基丙胺(东京化成工业株式会社生产)以浓度成为5.0质量％的方式溶解在氢氟醚(3M公司生产、Novec HFE7200)中，制成药液(F)。
作为表面处理层形成用组合物，准备下述拨水液(1)～(6)。
(1)：将以下的化合物(1)以浓度成为0.1质量％的方式溶解在氢氟醚(3M公司生产、Novec HFE7200)中，制成拨水液(1)。
(2)：将以下的化合物(2)以浓度成为0.1质量％的方式溶解在氢氟醚(3M公司生产、Novec HFE7200)中，制成拨水液(2)。
(3)：将以下的化合物(3)以浓度成为0.1质量％的方式溶解在氢氟醚(3M公司生产、Novec HFE7200)中，制成拨水液(3)。
(4)：将以下的化合物(4)以浓度成为0.1质量％的方式溶解在氢氟醚(3M公司生产、Novec HFE7200)中，制成拨水液(4)。
(5)：将以下的化合物(5)以浓度成为0.1质量％的方式溶解在氢氟醚(3M公司生产、Novec HFE7200)中，制成拨水液(5)。
(6)：将以下的化合物(6)以浓度成为0.1质量％的方式溶解在氢氟醚(3M公司生产、Novec HFE7200)中，制成拨水液(6)。
化合物(1)：
(上述式中，PFPE为CF3CF2CF2－(OCF2CF2CF2)25－OCF2CF2－。)
化合物(2)：
(上述式中，PFPE为CF3－(OCF2CF2)22(OCF2)20－。)
化合物(3)：
(上述式中，PFPE为CF3－(OCF2CF2)22(OCF2)20－。)
化合物(4)：
CF3CF2CF2－(OCF2CF2CF2)25－OCF2CF2－CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3
化合物(5)：
C6F13－ph－Si(OMe)3
化合物(6)：
C6F13－CH2CH2－Si(OMe)3
(上述式中，Me为甲基，ph为亚苯基。)
(基材)
将厚度2.0mm的浮法玻璃(透明)基板(平面尺寸70mm×150mm)的上表面(top面)用水和乙醇清洗，进行干燥，得到玻璃基材。
再使用大气压等离子体放电处理装置(Creating Nano Tech.Inc.制、Si-PlasmaR)以下述条件对玻璃基材的上表面进行大气压等离子体处理，进行清洗和活化。
＜气体条件＞
放电气体：氩气(Ar)、反应气体：氧气(O2)
＜等离子体照射条件＞
等离子体功率(Plasma power)：744W(控制输出在740～750W的范围)
Ar流：34L/分钟(控制流量在30～40L/分钟)
O2流：34L/分钟(控制流量在30～40L/分钟)
PCW(冷却水)：2.6L/分钟(控制流量在2.0～3.0L/分钟)
等离子体照射面与基材的上表面的距离设在0.5～3.0mm的范围内，进行等离子体照射。
(基底层的形成)
使用上述准备好的药液(A)～(F)，在玻璃基材上形成基底层。具体而言，将上述制得的药液(A)～(F)分别在独立的容器中加入300mL。接着，在容器中的各组合物浸渍玻璃基材20秒。然后，将基材以20mm/秒提起，将处理基材在室温静置3小时，形成基底层处理基材(A)～(F)。
(表面处理层的形成)
实施例1
对于基底层处理基材(A)，使用市售的搭载有2流体喷嘴的喷涂装置，将上述制得的拨水液(1)以喷头速度70mm/秒向基材的表面均匀地喷涂。以作为拨水液(1)的涂布量相对于基材的每单位m2为60g的方式进行处理。然后，取出基材，在大气中在室温静置24小时，由此得到拨水基材(1A)。
实施例2
代替基底层处理基材(A)，使用基底层处理基材(B)，除此以外，与实施例1同样操作，得到拨水基材(1B)。
实施例3
代替基底层处理基材(A)，使用基底层处理基材(C)，除此以外，与实施例1同样操作，得到拨水基材(1C)。
实施例4
代替基底层处理基材(A)，使用基底层处理基材(D)，除此以外，与实施例1同样操作，得到拨水基材(1D)。
实施例5
代替基底层处理基材(A)，使用基底层处理基材(E)，除此以外，与实施例1同样操作，得到拨水基材(1E)。
实施例6
代替基底层处理基材(A)，使用基底层处理基材(F)，除此以外，与实施例1同样操作，得到拨水基材(1F)。
实施例7
对于基底层处理基材(B)，使用市售的搭载有2流体喷嘴的喷涂装置，将上述制得的拨水液(2)以喷头速度70mm/秒均匀地向基材的表面喷涂。以作为拨水液(2)的涂布量相对于基材的每单位m2为60g的方式进行处理。然后，取出基材，在大气中在室温静置24小时，由此得到拨水基材(2B)。
实施例8
代替基底层处理基材(B)，使用基底层处理基材(E)，除此以外，与实施例6同样操作，得到拨水基材(2E)。
实施例9
对于基底层处理基材(B)，使用市售的搭载有2流体喷嘴的喷涂装置，将上述制得的拨水液(3)以喷头速度70mm/秒均匀地向基材的表面喷涂。以作为拨水液(3)的涂布量相对于基材的每单位m2为60g的方式进行处理。然后，取出基材，在大气中在室温静置24小时，由此得到拨水基材(3B)。
比较例1
对于没有进行基底层处理的玻璃基材，使用市售的搭载有2流体喷嘴的喷涂装置，将上述制得的拨水液(1)以喷头速度70mm/秒均匀地向基材的表面喷涂。以作为拨水液(1)的涂布量相对于基材的每单位m2为50g的方式进行处理。然后，取出基材，在大气中在室温静置24小时，由此得到拨水基材(1)。
比较例2
代替拨水液(1)，使用拨水液(2)，除此以外，与比较例1同样操作，得到拨水基材(2)。
比较例3
代替拨水液(1)，使用拨水液(3)，除此以外，与比较例1同样操作，得到拨水基材(3)。
比较例4
代替拨水液(1)，使用拨水液(4)，除此以外，与比较例1同样操作，得到拨水基材(4)。
比较例5
代替拨水液(1)，使用拨水液(5)，除此以外，与比较例1同样操作，得到拨水基材(5)。
比较例6
代替拨水液(1)，使用拨水液(6)，除此以外，与比较例1同样操作，得到拨水基材(6)。
(评价)
对上述所得到的拨水基材1A～1F、2B、2E、3B和1～6，进行下述评价。
·水的静态接触角的测定
使用全自动接触角计DropMaster700(协和界面科学株式会社制)测定水的静态接触角。具体而言，由微量注射器向水平放置的基板滴加水2μL，用视频显微镜拍摄滴加1秒后的静止画面，由此求出静态接触角。关于水的静态接触角的测定值，测定基材的表面处理层的不同的5点，计算并使用其平均值。
·促进耐候性的评价
对上述所得到的拨水基材1A～1F、2B、2E、3B和1～6，进行促进耐候性试验。将(1)UV24小时照射、(2)离子交换水5分钟照射、(3)将基材在暗处放置1小时，重复3次作为1个循环(75小时)，每一次循环测定水的静态接触角。UV照射使用UVB－313灯(Q－Lab公司制，在310nm、辐射照度0.63W/m2)，将灯与基材的表面处理层的距离设为5cm，将载置有基材的板的温度设为63℃进行。在水的静态接触角的测定时，将基材暂时取出，将表面处理层用擦拭纸Kim wipe(商品名，十条Kimberly株式会社制)来回擦拭5次。然后立即测定水的静态接触角。将试验例1的结果作为循环数0，将实施各循环数后的水的静态接触角表示于表1。
[表1]
产业上的可利用性
本发明的叠层体能够合适地利用于各种各样的用途、特别是室外用途的物品。

Claims (17)

1.一种叠层体，其特征在于：
其为具有基材、配置于基材上的基底层、和配置于基底层上的表面处理层的叠层体，
所述基底层为由(A)下述式(P)所示的聚硅氮烷或(B)下述式(Q)所示的氨基硅烷形成的层，
所述表面处理层为由含氟硅烷化合物形成的层，
式(P)：
式(P)中，
R61为氢原子或C1-6烷基，
R62为氢原子、C1-6烷基或具有官能团的基团，
R63为氢原子、C1-6烷基或具有官能团的基团，
n为2～100的整数；
式(Q)：
N(R71-SiR72 3)mR73 3-m
式(Q)中，
R71分别独立地为C1-6亚烷基，
R72分别独立地为水解性基团，
R73为氢原子或C1-6烷基，
m为2或3。
2.如权利要求1所述的叠层体，其特征在于：
所述含氟硅烷化合物为下述式(A1)或(A2)所示的化合物，
RF1 α1-XA-RSi β1 (A1)
RSi γ1-XA-RF2-XA-RSi γ1 (A2)
式中，
RF1分别独立地为Rf1-或Rf1-RF-Oq-，
RF2为-Rf2-或-Rf2 p-RF-Oq-，
RF分别独立地为2价的氟代聚醚基，
Rf1分别独立地为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1-16烷基，
Rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1-6亚烷基，
p为0或1，
q分别独立地为0或1，
RSi分别独立地为包含键合有羟基、水解性基团、氢原子或1价有机基团的Si原子的1价基团，
至少1个RSi为包含键合有羟基或水解性基团的Si原子的1价基团，
XA分别独立地为单键或2～10价有机基团，
α1为1～9的整数，
β1为1～9的整数，
γ1分别独立地为1～9的整数。
3.如权利要求2所述的叠层体，其特征在于：
Rf1分别独立地为C1-16全氟烷基，
Rf2分别独立地为C1-6全氟亚烷基。
4.如权利要求2或3所述的叠层体，其特征在于：
RF1分别独立地为Rf1-RF-Oq-，
RF2为-Rf2 p-RF-Oq-。
5.如权利要求2～4中任一项所述的叠层体，其特征在于：
RF分别独立地为式：-(OC6F12)a-(OC5F10)b-(OC4F8)c-(OC3RFa 6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－所示的基团，
式中，
RFa分别独立地为氢原子、氟原子或氯原子，
a、b、c、d、e和f分别独立地为0～200的整数，a、b、c、d、e与f之和为1以上，标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，其中，在所有的RFa为氢原子或氯原子的情况下，a、b、c、e和f至少1个为1以上。
6.如权利要求5所述的叠层体，其特征在于：
RFa为氟原子。
7.如权利要求2～6中任一项所述的叠层体，其特征在于：
RF分别独立地为下述式(f1)、(f2)、(f3)、(f4)、(f5)或(f6)所示的基团，
－(OC3F6)d－(OC2F4)e－ (f1)
式(f1)中，d为1～200的整数，e为0或1，
－(OC4F8)c－(OC3F6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－ (f2)
式(f2)中，c和d分别独立地为0～30的整数，
e和f分别独立地为1～200的整数，
c、d、e与f之和为10～200的整数，
标注下标c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，
－(R6－R7)g－ (f3)
式(f3)中，R6为OCF2或OC2F4，
R7为选自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12中的基团，或者为从这些基团中选择的2个或3个基团的组合，
g为2～100的整数，
－(R6－R7)g－Rr－(R7′－R6′)g′－ (f4)
式(f4)中，R6为OCF2或OC2F4，
R7为选自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12中的基团，或者为从这些基团中独立地选择的2个或3个基团的组合，
R6′为OCF2或OC2F4，
R7′为选自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12中的基团，或者为从这些基团中独立地选择的2个或3个基团的组合，
g为2～100的整数，
g′为2～100的整数，
Rr为
式中，＊表示键合位置；
－(OC6F12)a－(OC5F10)b－(OC4F8)c－(OC3F6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－ (f5)
式(f5)中，e为1以上200以下的整数，a、b、c、d和f分别独立地为0以上200以下的整数，并且标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，
－(OC6F12)a－(OC5F10)b－(OC4F8)c－(OC3F6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－ (f6)
式(f6)中，f为1以上200以下的整数，a、b、c、d和e分别独立地为0以上200以下的整数，并且标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。
8.如权利要求2～7中任一项所述的叠层体，其特征在于：
RSi为下述式(S1)、(S2)、(S3)、(S4)或(S5)所示的基团，
-SiR11 n1R12 3-n1 (S2)
-SiRa1 k1Rb1 11Rc1 m1 (S3)
-CRd1 k2Re1 2Rf1 m2 (S4)
-NRg1Rh1 (S5)
式中，
R11分别独立地为羟基或水解性基团，
R12分别独立地为氢原子或1价有机基团，
n1在每个(SiR11 n1R12 3-n1)单元中分别独立地为0～3的整数，
X11分别独立地为单键或2价有机基团，
R13分别独立地为氢原子或1价有机基团，
t分别独立地为2以上的整数，
R14分别独立地为氢原子、卤原子或-X11-SiR11 n1R12 3-n1，
R15在每次出现时分别独立地为单键、氧原子、碳原子数1～6的亚烷基或碳原子数1～6的亚烷氧基；
Ra1分别独立地为-Z1-SiR21 p1R22 q1R23 r1；
Z1分别独立地为氧原子或2价有机基团，
R21分别独立地为-Z1′-SiR21′ p1′R22′ q1′R23′ r1′；
R22分别独立地为羟基或水解性基团，
R23分别独立地为氢原子或1价有机基团，
p1分别独立地为0～3的整数，
q1分别独立地为0～3的整数，
r1分别独立地为0～3的整数，
p1、q1和r1的合计在(SiR21 p1R22 q1R23 r1)单元中为3，
Z1′分别独立地为氧原子或2价有机基团，
R21′分别独立地为－Z1″－SiR22″ q1″R23″ r1″；
R22′分别独立地为羟基或水解性基团，
R23′分别独立地为氢原子或1价有机基团，
p1′分别独立地为0～3的整数，
q1′分别独立地为0～3的整数，
r1′分别独立地为0～3的整数，
p1′、q1′和r1′的合计在(SiR21′ p1′R22′ q1′R23′ r1′)单元中为3，
Z1″分别独立地为氧原子或2价有机基团，
R22″分别独立地为羟基或水解性基团，
R23″分别独立地为氢原子或1价有机基团，
q1″分别独立地为0～3的整数，
r1″分别独立地为0～3的整数，
q1″和r1″的合计在(SiR22″ q1″R23″ r1″)单元中为3，
Rb1分别独立地为羟基或水解性基团，
Rc1分别独立地为氢原子或1价有机基团，
k1分别独立地为0～3的整数，
l1分别独立地为0～3的整数，
m1分别独立地为0～3的整数，
k1、l1和m1的合计在(SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1)单元中为3，
Rd1分别独立地为－Z2－CR31 p2R32 q2R33 r2；
Z2分别独立地为单键、氧原子或2价有机基团；
R31分别独立地为－Z2′－CR32′ q2′R33′ r2′；
R32分别独立地为－Z3－SiR34 n2R35 3－n2，
R33分别独立地为氢原子、羟基或1价有机基团，
p2分别独立地为0～3的整数，
q2分别独立地为0～3的整数，
r2分别独立地为0～3的整数，
p2、q2和r2的合计在(CR31 p2R32 q2R33 r2)单元中为3，
Z2′分别独立地为单键、氧原子或2价有机基团；
R32′分别独立地为－Z3－SiR34 n2R35 3－n2，
R33′分别独立地为氢原子、羟基或1价有机基团，
q2′分别独立地为0～3的整数，
r2′分别独立地为0～3的整数，
q2′和r2′的合计在(CR32′ q2′R33′ r2′)单元中为3，
Z3分别独立地为单键、氧原子或2价有机基团；
R34分别独立地为羟基或水解性基团，
R35分别独立地为氢原子或1价有机基团，
n2分别独立地为0～3的整数，
Re1分别独立地为－Z3－SiR34 n2R35 3－n2，
Rf1分别独立地为氢原子、羟基或1价有机基团，
k2分别独立地为0～3的整数，
l2分别独立地为0～3的整数，
m2分别独立地为0～3的整数，
k2、l2和m2的合计在(CRd1 k2Re1 l2Rf1 m2)单元中为3，
Rg1和Rh1分别独立地为－Z4－SiR11 n1R12 3－n1、－Z4－SiRa1 k1Rb1 l1Rc1 m1或－Z4－CRd1 k2Re1 l2Rf1 m2，
Z4分别独立地为单键、氧原子或2价有机基团，
其中，式(S1)、(S2)、(S3)、(S4)和(S5)中，至少存在1个键合有羟基或水解性基团的Si原子。
9.如权利要求2～8中任一项所述的叠层体，其特征在于：
α1、β1和γ1为1。
10.如权利要求2～9中任一项所述的叠层体，其特征在于：
XA为单键或下述式所示的2价有机基团，
－(R51)p5－(X51)q5－
式中，
R51为单键或－(CH2)s5－，
s5为1～20的整数，
X51为－(X52)l5－，
X52分别独立地为选自－O－、－S－、－CO－、－NR54－、－(CH2)n5－、－COO－、－OCO－、－CONR54－、－NR54CO－、－O－CONR54－、－NR54CO－O－、－Si(R53)2－和－(Si(R53)2O)m5－Si(R53)2－中的基团，
R53分别独立地为苯基、C1－6烷基或C1－6烷氧基，
R54分别独立地为氢原子、苯基或C1－6烷基，
m5分别独立地为1～100的整数，
n5分别独立地为1～20的整数，
l5为1～10的整数，
p5为0或1，
q5为0或1，
其中，p5和q5的至少一方为1，标注p5或q5并用括号括起来的各重复单元的存在顺序是任意的，
右侧与RSi键合。
11.如权利要求2～8中任一项所述的叠层体，其特征在于：
XA为下述式所示的基团，
式中，Xa为单键或2价有机基团。
12.如权利要求1～11中任一项所述的叠层体，其特征在于：
所述聚硅氮烷由R61为氢原子、R62为氢原子且R63为氢原子的式(P)表示。
13.如权利要求1～12中任一项所述的叠层体，其特征在于：
所述聚硅氮烷的数均分子量为1000～10000。
14.如权利要求1～13中任一项所述的叠层体，其特征在于：所述氨基硅烷由下述式(Q-1)表示，
式(Q一1)：
HN(R71-SiR72 3)2
式中，
R71分别独立地为C1-6亚烷基，
R72分别独立地为水解性基团。
15.如权利要求1～14中任一项所述的叠层体，其特征在于：
所述基材为玻璃、金属或陶瓷。
16.一种物品，其特征在于：
包括权利要求1～15中任一项所述的叠层体。
17.如权利要求16所述的物品，其特征在于：
所述物品为汽车玻璃、室外玻璃、显示器。
CN202210801338.1A 2022-07-08 2022-07-08 叠层体 Pending CN117401910A (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210801338.1A CN117401910A (zh) 2022-07-08 2022-07-08 叠层体
PCT/JP2023/024465 WO2024009914A1 (ja) 2022-07-08 2023-06-30 積層体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210801338.1A CN117401910A (zh) 2022-07-08 2022-07-08 叠层体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN117401910A true CN117401910A (zh) 2024-01-16

Family

ID=89453504

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210801338.1A Pending CN117401910A (zh) 2022-07-08 2022-07-08 叠层体

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN117401910A (zh)
WO (1) WO2024009914A1 (zh)

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102741048B (zh) * 2010-01-19 2014-09-03 旭硝子株式会社 拒水性基体及其制造方法
EP3492259A4 (en) * 2016-07-29 2020-04-22 Daikin Industries, Ltd. SURFACE TREATMENT AGENT AND ARTICLE COMPRISING A LAYER FORMED FROM A SURFACE TREATMENT AGENT
CN109715701B (zh) * 2016-09-23 2021-07-27 大金工业株式会社 具有拒水性的基材
CN112770849B (zh) * 2018-09-28 2022-09-13 大金工业株式会社 表面处理方法和表面处理物品
WO2020230618A1 (ja) * 2019-05-14 2020-11-19 信越化学工業株式会社 撥水撥油部材及び撥水撥油部材の製造方法
KR102640005B1 (ko) * 2019-05-22 2024-02-27 다이킨 고교 가부시키가이샤 방오 기재
JP2021128337A (ja) * 2020-02-17 2021-09-02 住友化学株式会社 積層体及びフレキシブル表示装置
JPWO2023013476A1 (zh) * 2021-08-05 2023-02-09

Also Published As

Publication number Publication date
WO2024009914A1 (ja) 2024-01-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108495907B (zh) 表面处理剂
CN113905883B (zh) 防污基材
JP6801804B2 (ja) フルオロポリエーテル基含有化合物
CN112739789A (zh) 表面处理剂
TWI767203B (zh) 含有氟聚醚基之化合物
WO2023074410A1 (ja) 表面処理剤
CN114402047A (zh) 表面处理剂
EP3950779A1 (en) Fluoropolyether group-containing compound
CN113728034B (zh) 表面处理剂
EP4001364A1 (en) Surface treatment agent
CN117401910A (zh) 叠层体
CN116635494A (zh) 表面处理剂
TW202108669A (zh) 表面處理劑
JP7273352B2 (ja) 表面処理剤
JP7277838B2 (ja) 表面処理用液状組成物
JP7495649B2 (ja) 表面処理剤
JP7473851B2 (ja) 防汚性物品
TW202417246A (zh) 疊層體
JP7252500B2 (ja) 表面処理剤
WO2018181141A1 (ja) パーフルオロポリエーテル基含有化合物を含む表面処理剤
CN116640498A (zh) 表面处理剂
CN116529322A (zh) 含有含氟代聚醚基的硅烷化合物的组合物
WO2023210654A1 (ja) フルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物
CN117813362A (zh) 表面处理剂
WO2023210651A1 (ja) 表面処理剤

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication