CN109715701A - 具有拒水性的基材 - Google Patents
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Abstract
本发明的目的在于提供一种即使在暴露于紫外线的环境下长期使用其拒水性也不容易降低的基材。本发明涉及一种基材，其特征在于，其具有表面处理层，在下述条件下实施的加速耐候性试验进行400小时后的水静态接触角为100度以上。<加速耐候性试验的条件>使用UVB‑313灯(在波长310nm的辐照度为0.63W/m2)，设灯与基材的表面处理层的距离为5cm，每照射24小时将表面处理层用水和乙醇擦拭并弄干。
Description
技术领域
本发明涉及具有拒水性的基材。
背景技术
作为具有拒水性的基材，已知有下述技术。
专利文献1中记载了一种包含(A)涂布组合物的套件，其是用于使基材的表面成为拒水性的套件，该涂布组合物实质上由a)选自具有通式Rf-(CH2)2-SiCl3(式中，Rf为具有3～18个烷基碳原子的全氟烷基自由基)的化合物中的至少1种全氟烷基三氯硅烷；b)全氟聚醚羧酸；以及c)至少1种氟化溶剂构成。
专利文献2中记载了一种拒水性物品的制造方法，其是在基材上具有拒水层的拒水性物品的制造方法，其特征在于，该拒水层是在该基材上依序涂布含有重均分子量为1000以上的具有反应性甲硅烷基的拒水性化合物的涂布液、以及含有重均分子量小于1000的具有反应性甲硅烷基的拒水性化合物的涂布液而形成的。
专利文献3中记载了一种带拒水膜的基板，该带拒水膜的基板具备基板和拒水膜，所述拒水膜在上述基板的主表面的至少一部分具有从上述基板侧依次形成的中间层和最外层，其中，上述中间层使用包含含氟硅烷化合物(a)(其是下述通式(a1)所表示的水解性硅烷化合物和/或其部分水解缩合物)作为总固体成分的主成分的中间层用涂布组合物形成，上述最外层使用相对于总固体成分包含70质量％以上的含氟硅烷化合物(b)(其是具有末端的全氟烷基的碳原子数为1～6的全氟聚醚基的水解性硅烷化合物和/或其部分水解缩合物)的最外层用涂布组合物形成。
RF1-Q1-SiR1 (3-m1)X1 m1···(a1)
其中，式(a1)中的符号如下。
RF1：表示碳原子数为1～6的在碳-碳原子间不包含醚性氧原子的全氟烷基。
Q1：表示碳原子数为1～6的不含氟原子的2价有机基团。
X1：表示碳原子数为1～10的烷氧基、碳原子数为2～10的氧基烷氧基、碳原子数为2～10的酰氧基、碳原子数为2～10的烯氧基、卤原子或异氰酸酯基。m1个X1相互可以相同也可以不同。
R1：表示氢原子或者氢原子的一部分或全部可以被取代的不含氟原子的碳原子数为1～8的一价烃基。3-m1个R1相互可以相同也可以不同。
m1：表示1～3的整数。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特表2011-518231号公报
专利文献2：日本特开2010-260193号公报
专利文献3：日本特开2014-024288号公报
发明内容
发明所要解决的课题
但是，现有的具有拒水性的基材对紫外线的耐久性不充分，若在室外持续使用，则具有拒水性降低的问题。
因此，鉴于上述现状，本发明的目的在于提供一种即使在暴露于紫外线的环境下长期使用其拒水性也不容易降低的基材。即，本发明的目的在于，即使在暴露于紫外线的环境下长期使用，也可长期维持防污性。
用于解决课题的手段
本发明涉及一种基材，其特征在于，其具有表面处理层，在下述条件下实施的加速耐候性试验进行400小时后的水静态接触角为100度以上(下文中也称为“第1基材”)。
<加速耐候性试验的条件>
使用UVB-313灯(在波长310nm的辐照度为0.63W/m2)，设灯与基材的表面处理层的距离为5cm，每照射24小时将表面处理层用水和乙醇擦拭并弄干。
本发明还涉及一种基材，其特征在于，其具有表面处理层，在下述条件下实施的加速耐候性试验进行250小时后的水静态接触角为110度以上(下文中也称为“第2基材”)。
<加速耐候性试验的条件>
使用UVB-313灯(在波长310nm的辐照度为0.63W/m2)，设灯与基材的表面处理层的距离为5cm，每照射24小时将表面处理层用水和乙醇擦拭并弄干。
本发明的第1和第2基材优选在下述条件下实施的钢丝绒摩擦耐久性评价进行6000次后的水静态接触角为100度以上。
<钢丝绒摩擦耐久性评价的条件>
使钢丝绒(支数#0000、尺寸5mm×10mm×10mm)与基材的表面处理层接触，对其上赋予1,000gf的负荷，在施加负荷的状态下使钢丝绒以140毫米/秒的速度往返。将一次往返记为1次。
本发明还涉及一种基材，其特征在于，其具有表面处理层，表面处理层包含式(1)所表示的化合物，
式(1)：
[化1]
(式中，R1表示式R3-(OR2)a-L-((OR2)a为聚醚链，R3为烷基或氟代烷基，L为单键或二价连接基团)所表示的一价有机基团，X1表示一价含Si基团，X2表示一价基团，上述聚醚链为由式：
-(OC6F12)m11-(OC5F10)m12-(OC4F8)m13-(OC3X10 6)m14-(OC2F4)m15-(OCF2)m16-(式中，m11、m12、m13、m14、m15和m16独立地为0或1以上的整数，X10独立地为H、F或Cl，各重复单元的存在顺序为任意的)所表示的链)(下文中也称为“第3基材”)。
优选L为-C2H4-、-C3H6-、-CO-O-CH2-CH(OH)-CH2-、-(CF2)n-(n为0～4的整数)、-CH2-、-C4H8-或-(CF2)n-(CH2)m-(n、m独立，均为0～4的整数)，
X1为具有能够水解的基团的一价含Si基团。
基材优选为玻璃基材。
玻璃基材优选为蓝宝石玻璃基材、碱石灰玻璃基材、碱铝硅酸盐玻璃基材、硼硅酸玻璃基材、无碱玻璃基材、晶质玻璃基材或石英玻璃基材。
发明的效果
本发明的基材即使在暴露于紫外线的环境下长期使用，其拒水性也不容易降低。即，防污性不容易降低。
具体实施方式
以下对本发明进行具体说明。
本发明的第1基材的特征在于，其具有表面处理层，在特定条件下实施的加速耐候性试验进行400小时后的水静态接触角为100度以上。作为上述水静态接触角，优选为105度以上，可以为120度以下。上述水静态接触角使用接触角测定装置(协和界面科学公司制造)用2μL水进行测定。上述水静态接触角为上述表面处理层的水静态接触角。
本发明的第2基材的特征在于，其具有表面处理层，在特定条件下实施的加速耐候性试验进行250小时后的水静态接触角为110度以上。
上述加速耐候性试验如下进行：使用Q-Lab公司制造的UVB-313灯(在波长310nm的辐照度为0.63W/m2)，设灯与基材的表面处理层的距离为5cm，每照射24小时将表面处理层用水和乙醇擦拭并弄干。
上述加速耐候性试验的试验时间优选为408小时、更优选为250小时。
本发明的第1和第2基材在特定条件下实施的钢丝绒摩擦耐久性评价进行6000次后的水静态接触角为100度以上时，耐磨耗性也优异，因而优选。作为上述水静态接触角，优选为100度以上，可以为120度以下。上述水静态接触角使用接触角测定装置(协和界面科学公司制造)用2μL水进行测定。
上述钢丝绒摩擦耐久性评价如下进行：使钢丝绒(支数#0000、尺寸5mm×10mm×10mm)与基材的表面处理层接触，对其上赋予1,000gf的负荷，在施加负荷的状态下使钢丝绒以140毫米/秒的速度往返。将一次往返记为1次。上述水静态接触角是上述表面处理层的水静态接触角。
本发明的基材均可由玻璃、金属、树脂、陶瓷等金属氧化物、半导体(硅、锗等)、纤维(织物、无纺布等)、毛皮、皮革、木材、石材、陶磁器、建筑部件等任意适当的材料构成，其中，出于透明性优异、能够长期维持优异的拒水性的原因，优选玻璃基材。
作为上述玻璃基材，可以举出无机玻璃基材；有机玻璃基材；碱铝硅酸盐玻璃基材、碱石灰玻璃基材等的含碱玻璃基材；硼硅酸玻璃基材等无碱玻璃基材；蓝宝石玻璃基材；晶质玻璃基材；石英玻璃基材等。上述玻璃基材可以在表面具有羟基、氨基、巯基等官能团。上述玻璃基材可以为夹层玻璃、强化玻璃等。作为玻璃基材，优选蓝宝石玻璃基材、碱石灰玻璃基材、碱铝硅酸盐玻璃基材、硼硅酸玻璃基材、无碱玻璃基材、晶质玻璃基材或石英玻璃基材。
作为上述金属，可以举出铁、铜、铝、不锈钢、镍、铬、钼等，可以为金属单质或它们的合金等复合体。
作为上述树脂，可以举出例如三乙酰纤维素(TAC)等纤维素系树脂、聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(EVA)等聚烯烃、环状聚烯烃、改性聚烯烃、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚苯乙烯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚碳酸酯、聚-(4-甲基戊烯-1)、离聚物、丙烯酸系树脂、聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸-苯乙烯共聚物(AS树脂)、丁二烯-苯乙烯共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物(EVOH)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚对苯二甲酸环己烷二甲酯(PCT)等聚酯、聚醚、聚醚酮(PEK)、聚醚醚酮(PEEK)、聚醚酰亚胺、聚缩醛(POM)、聚苯醚、改性聚苯醚、聚芳酯、芳香族聚酯(液晶聚合物)、聚四氟乙烯、聚偏二氟乙烯、其他氟系树脂、苯乙烯系、聚烯烃系、聚氯乙烯系、聚氨酯系、氟橡胶系、氯化聚乙烯系等各种热塑性弹性体、环氧树脂、酚树脂、脲树脂、三聚氰胺树脂、不饱和聚酯、聚硅氧烷树脂、聚氨酯等或者以它们为主成分的共聚物、共混物、聚合物合金等，可以使用它们中的1种或将2种以上组合(例如作为2层以上的层积体)使用。
另外，例如在本发明的基材为光学部件的情况下，构成基材的表面的材料可以为光学部件用材料、例如玻璃或透明塑料等。另外，在本发明的基材为光学部件的情况下，在基材的表面(最外层)可以形成任何层(或膜)，例如硬涂层、抗反射层等。抗反射层可以使用单层抗反射层和多层抗反射层中的任一种。作为能够在抗反射层中使用的无机物的示例，可以举出SiO2、SiO、ZrO2、TiO2、TiO、Ti2O3、Ti2O5、Al2O3、Ta2O5、CeO2、MgO、Y2O3、SnO2、WO3等。这些无机物可以单独或将它们2种以上组合(例如作为混合物)使用。作为多层抗反射层的情况下，在其最外层优选使用SiO2和/或SiO。本发明的基材为触控面板用的光学玻璃部件的情况下，在基材(玻璃)的表面的一部分可以具有透明电极、例如具有使用了氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌等的薄膜。另外，基材根据其具体的规格等可以具有绝缘层、粘合层、保护层、装饰框层(I-CON)、雾化膜层、硬涂膜层、偏光膜、相位差膜以及液晶显示模块等。另外，本发明的基材为车载照相机或监视器用照相机等的光学透镜部件的情况下，也同样地可以将上述能够在抗反射层中使用的无机物单独使用或组合它们中的2种以上使用。上述的抗反射层的膜厚从0.001～1.0μm的范围中选择，优选为0.01～0.2μm。
上述基材的形状没有特别限定。另外，要形成表面处理层的基材的表面区域为基材表面的至少一部分即可，可以根据本发明的基材的用途和具体的规格等适宜地决定，优选表面处理层位于最外表面。
作为上述基材，可以为至少其表面部分由原本具有羟基的材料构成的基材。作为上述材料，可以举出玻璃，还可以举出在表面会形成自然氧化膜或热氧化膜的金属(特别是贱金属)、陶瓷、半导体等。或者在像树脂等那样尽管具有羟基但还不充分的情况下或原本不具有羟基的情况下，可以通过对基材施加某些前处理而在基材的表面导入羟基或使羟基增加。作为上述前处理的示例，可以举出等离子体处理(例如电晕放电)、离子束照射。等离子体处理可在基材表面导入羟基或使羟基增加、并且将基材表面净化(除去异物等)，因而也能够适合利用。另外，作为上述前处理的其他示例，可以举出将具有碳-碳不饱和键的表面吸附剂利用LB法(朗缪尔-布洛杰特(langmuir-blodgett)法)或化学吸附法等预先在基材表面以单分子膜的形态形成、之后在含有氧或氮等的气氛下使不饱和键断裂的方法。
或者，作为上述基材，可以为至少其表面部分由包含具有1个以上其他反应性基团(例如Si-H基)的聚硅氧烷化合物或烷氧基硅烷的材料构成的基材。
上述表面处理层优选包含式(1)所表示的化合物。
式(1)：
[化2]
(式中，R1表示式：R3-(OR2)a-L-((OR2)a为聚醚链，R3为烷基或氟代烷基，L为单键或二价连接基团)所表示的一价有机基团，X1表示一价含Si基团，X2表示一价基团，上述聚醚链为
式：-(OC6F12)m11-(OC5F10)m12-(OC4F8)m13-(OC3X10 6)m14-(OC2F4)m15-(OCF2)m16-
(式中，m11、m12、m13、m14、m15和m16独立地为0或1以上的整数，X10独立地为H、F或Cl，各重复单元的存在顺序为任意的)所表示的链)
本发明的第3基材的特征在于，其具有表面处理层，表面处理层包含式(1)所表示的化合物。
本发明人进行了深入研究，结果令人惊讶地发现，利用包含式(1)所表示的化合物的上述表面处理层能够对上述基材赋予即使在暴露于紫外线的环境下长期使用其拒水性也不容易降低的功能。关于这一点，据推测，通过上述聚醚链表现出拒水性，通过上述一价含Si基团使上述化合物与上述基材牢固地粘接，进而通过上述聚醚链和上述一价含Si基团与异氰脲骨架牢固地连结，即使在紫外线入射的情况下，上述表面处理层也不会发生分解或从上述基材剥离，可维持长期的拒水性。
作为X1，优选具有能够水解的基团的一价含Si基团。
上述“能够水解的基团”在本说明书中使用的情况下意味着能够通过水解反应而从化合物的主骨架脱离的基团。作为能够水解的基团的示例，可以举出-OR、-OCOR、-O-N＝CR2、-NR2、-NHR、卤素(这些式中，R表示取代或非取代的碳原子数为1～4的烷基)等，优选为-OR(即烷氧基)。R的示例中包含甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基等非取代烷基；氯甲基等取代烷基。这些基团中，优选烷基、特别是非取代烷基，更优选甲基或乙基。
作为X2，可以举出包含聚醚链的一价有机基团、一价含Si基团、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、环氧基、缩水甘油基、氧杂环丁烷基、异氰酸酯基、乙烯基、烯丙基、乙烯基氧基、羧基、巯基、氨基、羟基、膦酰基、环状酸酐基、内酯基、内酰胺基、-OC(O)Cl基、三嗪基、咪唑基、共轭烯烃基、乙炔基、重氮基、醛基、酮基、烷基硼基、烷基铝基、烷基锡基、烷基锗基、烷基锆基、H、烷基、卤化烷基、烷基酯基、卤化烷基酯基、烷基醚基、卤化烷基醚基、烷基酰胺基、卤化烷基酰胺基、尿基(ウリル基)、卤化尿基、脲基、卤化脲基、-OCOORj(Rj为烷基或卤化烷基)、-CONRkCORl(Rk和Rl独立地为H、烷基或卤化烷基)、包含糖链的基团、亚烷基聚醚基、芳烃基、卤化芳烃基、包含杂环的基团、芳基、卤化芳基、聚硅氧烷残基(其中不包括具有反应性基团的聚硅氧烷残基)、倍半硅氧烷残基(其中不包括具有反应性基团的倍半硅氧烷残基)以及包含这些基团中的任一种的一价基团。
作为X2，其中优选为选自由包含聚醚链的一价有机基团以及一价含Si基团组成的组中的至少一种，出于能够长期维持优异的拒水性的原因，优选一价含Si基团。这种情况下，X1的一价含Si基团和X2的一价含Si基团可以相同也可以不同，从上述化合物的制造容易的方面出发，优选相同。
作为R1，为包含聚醚链的一价有机基团(其中不包括包含氨基甲酸酯键的一价有机基团)。
作为X10，优选F。
m11～m16分别优选为0～200的整数、更优选为0～100的整数。m11～m16合计优选为1以上的整数、更优选为5以上的整数、进一步优选为10以上的整数。m11～m16合计优选为200以下的整数、更优选为100以下的整数。m11～m16合计优选为10～200的整数、更优选为10～100的整数。
上述聚醚链中，各重复单元可以为直链状、也可以为支链状，优选为直链状。例如，-(OC6F12)-可以为-(OCF2CF2CF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF2CF2CF(CF3))-等，优选为-(OCF2CF2CF2CF2CF2CF2)-。-(OC5F10)-可以为-(OCF2CF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF2CF(CF3))-等，优选为-(OCF2CF2CF2CF2CF2)-。-(OC4F8)-可以为-(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-、-(OCF(CF3)CF(CF3))-、-(OCF(C2F5)CF2)-和-(OCF2CF(C2F5))-中的任一种，优选为-(OCF2CF2CF2CF2)-。-(OC3F6)-可以为-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2)-和-(OCF2CF(CF3))-中的任一种，优选为-(OCF2CF2CF2)-。另外，-(OC2F4)-可以为-(OCF2CF2)-和-(OCF(CF3))-中的任一种，优选为-(OCF2CF2)-。
在一个方式中，上述聚醚链为-(OC3F6)m14-(式中，m14为1～200的整数)所表示的链。上述聚醚链优选为-(OCF2CF2CF2)m14-(式中，m14为1～200的整数)所表示的链或-(OCF(CF3)CF2)m14-(式中，m14为1～200的整数)所表示的链，更优选为-(OCF2CF2CF2)m14-(式中，m14为1～200的整数)所表示的链。m14优选为5～200的整数，更优选为10～200的整数。
在另一方式中，上述聚醚链为-(OC4F8)m13-(OC3F6)m14-(OC2F4)m15-(OCF2)m16-(式中，m13和m14分别为0～30的整数，m15和m16分别为1～200的整数。m13～m16合计为5以上的整数。各重复单元的存在顺序为任意的)所表示的链。m15和m16分别优选为5～200的整数，更优选为10～200的整数。m13～m16合计优选为10以上的整数。上述聚醚链优选为-(OCF2CF2CF2CF2)m13-(OCF2CF2CF2)m14-(OCF2CF2)m15-(OCF2)m16-。在一个方式中，上述聚醚链可以为-(OC2F4)m15-(OCF2)m16-(式中，m15和m16分别为1～200的整数。各重复单元的存在顺序为任意的)所表示的链。m15和m16分别优选为5～200的整数，更优选为10～200的整数。
在又一方式中，上述聚醚链为-(Rm1-Rm2)m17-所表示的基团。式中，Rm1为OCF2或OC2F4，优选为OC2F4。式中，Rm2为选自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12中的基团或者为从这些基团中独立选择的2种或3种基团的组合。优选的是，Rm1为选自OC2F4、OC3F6和OC4F8中的基团、选自OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12中的基团或者从这些基团中独立选择的2种或3种基团的组合。作为从OC2F4、OC3F6和OC4F8中独立选择的2种或3种基团的组合没有特别限定，可以举出例如-OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC4F8-、-OC3F6OC2F4-、-OC3F6OC3F6-、-OC3F6OC4F8-、-OC4F8OC4F8-、-OC4F8OC3F6-、-OC4F8OC2F4-、-OC2F4OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC2F4OC4F8-、-OC2F4OC3F6OC2F4-、-OC2F4OC3F6OC3F6-、-OC2F4OC4F8OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC3F6-、-OC3F6OC3F6OC2F4-、和-OC4F8OC2F4OC2F4-等。上述m17为2以上的整数、优选为3以上的整数、更优选为5以上的整数，为100以下的整数、优选为50以下的整数。上述式中，OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12可以为直链或支链的任一种，优选为直链。在该方式中，聚醚链优选为-(OC2F4-OC3F6)m17-或-(OC2F4-OC4F8)m17-。
上述聚醚链中，m15相对于m16之比(下文中称为“m15/m16比”)为0.1～10、优选为0.2～5、更优选为0.2～2、进一步优选为0.2～1.5、进而更优选为0.2～0.85。通过使m15/m16比为10以下，表面处理层的平滑性、摩擦耐久性和耐化学性(例如对人工汗的耐久性)进一步提高。m15/m16比越进一步减小，上述表面处理层的平滑性和摩擦耐久性越进一步提高。另一方面，通过使m15/m16比为0.1以上，能够进一步提高化合物的稳定性。m15/m16比越进一步增大，化合物的稳定性越进一步提高。
上述聚醚链可以为选自由
式：-(OCF2CF2CX11 2)n11(OCF2CF(CF3))n12(OCF2CF2)n13(OCF2)n14(OC4F8)n15-
(式中，n11、n12、n13、n14和n15独立地为0或1以上的整数，X11独立地为H、F或Cl，各重复单元的存在顺序为任意的)所表示的链以及
式：-(OC2F4-R11)f-
(式中，R11为选自OC2F4、OC3F6和OC4F8中的基团，f为2～100的整数)所表示的链组成的组中的至少一种链。
作为X11，优选F。
n11～n15分别优选为0～200的整数。n11～n15合计优选为2以上的整数、更优选为5～300的整数、进一步优选为10～200的整数、特别优选为10～100的整数。
R11为选自OC2F4、OC3F6和OC4F8中的基团或从这些基团中独立选择的2种或3种基团的组合。作为从OC2F4、OC3F6和OC4F8中独立选择的2种或3种基团的组合没有特别限定，可以举出例如-OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC4F8-、-OC3F6OC2F4-、-OC3F6OC3F6-、-OC3F6OC4F8-、-OC4F8OC4F8-、-OC4F8OC3F6-、-OC4F8OC2F4-、-OC2F4OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC2F4OC4F8-、-OC2F4OC3F6OC2F4-、-OC2F4OC3F6OC3F6-、-OC2F4OC4F8OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC3F6-、-OC3F6OC3F6OC2F4-、和-OC4F8OC2F4OC2F4-等。上述f为2～100的整数、优选为2～50的整数。上述式中，OC2F4、OC3F6和OC4F8可以为直链或支链中的任一种，优选为直链。在该方式中，式：-(OC2F4-R11)f-优选为式：-(OC2F4-OC3F6)f-或式：-(OC2F4-OC4F8)f-。
式(1)所表示的化合物中，聚醚链部分的数均分子量没有特别限定，例如为500～30,000、优选1,500～30,000、更优选为2,000～10,000。上述数均分子量采用由19F-NMR测定的值。
在另一方式中，聚醚链部分的数均分子量可以为500～30,000、优选为1,000～20,000、更优选为2,000～15,000、进而更优选为2,000～10,000、例如为3,000～6,000。
在另一方式中，聚醚链部分的数均分子量可以为4,000～30,000、优选为5,000～10,000、更优选为6,000～10,000。
作为R3的碳原子数，优选为1～16、更优选为1～8。
作为R3，可以为直链、也可以为支链，优选直链或支链的碳原子数为1～16的烷基或氟代烷基，更优选直链或支链的碳原子数为1～8的烷基或氟代烷基，进一步优选直链或支链的碳原子数为1～6的烷基或氟代烷基，进而更优选直链或支链的碳原子数为1～3的烷基或氟代烷基，特别优选直链的碳原子数为1～3的烷基或氟代烷基。
R3优选为碳原子数为1～16的氟代烷基，更优选为CF2H-C1-15氟代亚烷基或碳原子数为1～16的全氟烷基，进一步优选为碳原子数为1～16的全氟烷基。
碳原子数为1～16的全氟烷基可以为直链、也可以为支链，优选直链或支链的碳原子数为1～6、特别是碳原子数为1～3的全氟烷基，更优选直链的碳原子数为1～3的全氟烷基，具体为-CF3、-CF2CF3或-CF2CF2CF3。
L是与式(1)的环直接键合的单键或二价连结基团。作为L，优选单键、亚烷基或包含酯键的二价基团，更优选单键、碳原子数为1～10的亚烷基或包含酯键的碳原子数为1～10的二价烃基。
作为L，更优选
式：-(CX121X122)o-(L1)p-(CX123X124)q-
(式中，X121～X124独立地为H、F、OH或-OSi(OR121)3(3个R121独立地为碳原子数为1～4的烷基)，L1为-C(＝O)O-或-NHC(＝O)NH-(各键的左侧与CX121X122键合)，o为0～10的整数，p为0或1，q为1～10的整数)所表示的基团。
作为L，特别优选
式：-(CF2)m17-(CH2)m18-
(式中，m17为1～3的整数、m18为1～3的整数)所表示的基团。
作为L，具体地说，可以举出-C2H4-、-C3H6-、-CO-O-CH2-CH(OH)-CH2-、-(CF2)n-(n为0～4的整数)、-CH2-、-C4H8-、-(CF2)n-(CH2)m-(n、m独立，均为0～4的整数)等。作为L，优选-C2H4-、-C3H6-、-CO-O-CH2-CH(OH)-CH2-、-(CF2)n-(n为0～4的整数)、-CH2-、-C4H8-或-(CF2)n-(CH2)m-(n、m独立，均为0～4的整数)。
作为上述含Si基团，优选为选自由含硅烷反应性交联基团、聚硅氧烷残基、倍半硅氧烷残基和硅氮烷基组成的组中的至少一种基团。
作为上述含Si基团，其中，出于能够长期维持优异的拒水性的原因，优选为选自由-L2-SiR5 3、-L2-Si(OR6)3、-L2-Si(NR6 2)3以及-L2-Si(OCOR6)3(各式中，L2为单键或二价连接基团，R5为卤原子，R6独立地为碳原子数为1～4的烷基)组成的组中的至少一种，更优选-L2-Si(OR6)3(式中，L2为单键或二价连接基团，R6独立地为碳原子数为1～4的烷基)。
作为上述含硅烷反应性交联基团，优选
式：-L2-{Si(Ra)s(Rb)t(Rc)u(Rd)v}n
(式中，L2为单键或二价连接基团，Ra、Rb和Rc相同或不同，为氢、卤素、碳原子数为1～10的烷氧基、碳原子数为1～10的氨基、碳原子数为1～10的乙酰氧基、碳原子数为3～10的烯丙基或碳原子数为3～10的缩水甘油基。Rd相同或不同，为-O-、-NH-、-C≡C-或硅烷键。s、t和u相同或不同、为0或1，v为0～3的整数，n为1～20的整数。n为1的情况下，s+t+u为3、v为0。n为2～20的情况下，s+t+u相同或不同、为0～2，v相同或不同、为0～2，v为1以上的整数的情况下，至少2个Si藉由Rd键合成直链、梯状、环状或多环状)所表示的基团。Ra、Rb和Rc为与Si键合的1价基团。Rd为与2个Si键合的2价基团。
Ra、Rb和Rc相同或不同，至少1者为氢、卤素、碳原子数为1～10的烷氧基或碳原子数为1～10的氨基，除此以外优选为碳原子数为1～10的乙酰氧基、碳原子数为3～10的烯丙基或碳原子数为3～10的缩水甘油基，进一步优选为碳原子数为1～4的烷氧基。n为2～20的情况下，优选s+t+u相同或不同、为0～2，v为0～2。
Ra、Rb和Rc中，作为卤素，优选Cl、Br或I，更优选Cl。
Ra、Rb和Rc中，烷氧基的碳原子数优选为1～5。上述烷氧基可以为链状、可以为环状、也可以带支链。另外，氢原子可以被氟原子等取代。作为烷氧基，优选甲氧基、乙氧基、丙氧基或丁氧基，更优选甲氧基或乙氧基。
Rd相同或不同，为-O-、-NH-、-C≡C-或硅烷键。作为Rd，优选-O-、-NH-或-C≡C-。Rd是与2个Si键合的2价基团，利用Rd，可以将2以上的硅原子藉由Rd键合成直链、梯状、环状或多环状。n为2以上的整数的情况下，硅原子可以彼此键合。
Rd也相同或不同，可以为-Z-SiRd1 p’Rd2 q’Rd3 r’所表示的基团。
式中，Z相同或不同，表示单键或二价连接基团。
作为Z，具体地说，可以举出-C2H4-、-C3H6-、-CO-O-CH2-CH(OH)-CH2-、-CH2-、-C4H8-等。
式中，Rd1相同或不同，表示Rd’。Rd’与Rd含义相同。
Rd中，藉由Z基连结成直链状的Si最多为5个。即，上述Rd中，存在至少1个Rd1时，在Rd中存在2个以上的藉由Z基连结成直链状的Si原子，该藉由Z基连结成直链状的Si原子的数目最多为5个。需要说明的是，“Rd中的藉由Z基连结成直链状的Si原子的数目”与Rd中的连结成直链状的-Z-Si-的重复数相等。
例如，下面示出在Rd中Si原子藉由Z基连结的一例。
[化3]
上述式中，＊是指与主链的Si键合的部位，…是指键合有ZSi以外的特定基团的情况，即，在Si原子的3个连接键全部为…的情况下，是指ZSi的重复的结束位置。另外，Si的右上角的数字是指从＊起计数的藉由Z基连结成直链状的Si的出现数。即，以Si2结束ZSi重复的链中，“Rd中的藉由Z基连结成直链状的Si原子的数目”为2个，同样地，以Si3、Si4和Si5结束ZSi重复的链中，“Rd中的藉由Z基连结成直链状的Si原子的数目”分别为3、4和5个。需要说明的是，由上述式可知，Rd中存在多条ZSi链，但这些链不必全部为相同的长度，可以分别为任意的长度。
在优选的方式中，如下所述，“Rd中的藉由Z基连结成直链状的Si原子的数目”在所有的链中为1个(左式)或2个(右式)。
[化4]
在一个方式中，Rd中的藉由Z基连结成直链状的Si原子的数目为1个或2个、优选为1个。
式中，Rd2相同或不同，表示羟基或能够水解的基团。羟基没有特别限定，可以为能够水解的基团经水解而生成的羟基。
优选Rd2为-OR(式中，R表示取代或非取代的C1-3烷基、更优选表示甲基)。
式中，Rd3相同或不同，表示氢原子或低级烷基。该低级烷基优选为碳原子数为1～20的烷基、更优选为碳原子数为1～6的烷基、进一步优选为甲基。
式中，p相同或不同，为0～3的整数；q相同或不同，为0～3的整数；r相同或不同，为0～3的整数。其中，p’、q’和r’之和为3。
在优选的方式中，Rd中的末端的Rd’(Rd’不存在的情况下为Rd)中，上述q’优选为2以上、例如2或3，更优选为3。
在优选的方式中，Rd在末端部可以具有至少1个-Si(-Z-SiRd2 q’Rd3 r’)2或-Si(-Z-SiRd2 q’Rd3 r’)3、优选具有-Si(-Z-SiRd2 q’Rd3 r’)3。式中，(-Z-SiRd2 q’Rd3 r’)的单元优选为(-Z-SiRd2 3)。在进一步优选的方式中，Rd的末端部可以优选全部为-Si(-Z-SiRd2 q’Rd3 r’)3、更优选为-Si(-Z-SiRd2 3)3。
上述含硅烷反应性交联基团还优选具有碳原子数为1～5的烯丙基、碳原子数为1～5的缩水甘油基、丙烯酰基或甲基丙烯酰基。即，上述含硅烷反应性交联基团中，Ra、Rb和Rc中的至少1者优选为碳原子数为1～5的烯丙基、碳原子数为1～5的缩水甘油基、丙烯酰基或甲基丙烯酰基。
L2为与式(1)的环直接键合的单键或二价连结基团。作为L2，优选单键、亚烷基或者包含选自由醚键和酯键组成的组中的至少一种键的二价基团，更优选单键、碳原子数为1～10的亚烷基或者包含选自由醚键和酯键组成的组中的至少一种键的碳原子数为1～10的二价烃基。
作为L2，具体地说，可以举出-C2H4-、-C3H6-、-CO-O-CH2-CH(OH)-CH2-、-CH2-、-C4H8-等。
作为上述含硅烷反应性交联基团，可以举出-L2-SiR5 3、-L2-Si(OR6)3、-L2-Si(NR6 2)3、-L2-Si(OCOR6)3(各式中，L2如上所述，R5为卤原子，R6独立地为碳原子数为1～4的烷基)。
作为上述聚硅氧烷残基，可以举出下述基团。
[化5]
[化6]
[化7]
[化8]
[化9]
(各式中，L2为单键或二价连接基团，n为1～20的整数，m为0～10的整数，R31各自独立地为一价基团，各基团所具有的R31之中，至少1个为反应性基团)
各基团中包含的2个以上的R31各自独立地为一价基团，可以为上述反应性基团、也可以为上述反应性基团以外的基团。但是，各基团中包含的2个以上的R31之中，至少1个为上述反应性基团。
作为上述反应性基团，优选为H、卤原子或选自由-OR32(R32为碳原子数为1～4的烷基或碳原子数为6～20的芳基)、-L3-SiR5 3(L3为单键或碳原子数为1～10的亚烷基、R5为卤原子)、-L3-Si(OR6)3(L3如上所述、R6独立地为碳原子数为1～4的烷基)、-L3-Si(NR6 2)3(L3和R6如上所述)、-L3-Si(OCOR6)3(L3和R6如上所述)和包含这些基团中的任一种的基团组成的组中的至少一种。
作为上述反应性基团以外的基团，优选为选自由烷基、卤化烷基、烷基酯基、卤化烷基酯基、烷基醚基、卤化烷基醚基、烷基酰胺基、卤化烷基酰胺基、尿基、卤化尿基、脲基、卤化脲基、-CONRkCORl(Rk和Rl独立地为H、烷基或卤化烷基)、包含糖链的基团、亚烷基聚醚基、芳烃基、卤化芳烃基、包含杂环的基团、芳基以及卤化芳基组成的组中的至少一种。
L2是与式(1)的环直接键合的单键或二价连结基团。作为L2适宜的基团如上所述。
作为上述聚硅氧烷残基，还可以举出下述基团。
[化10]
[化11]
[化12]
[化13]
[化14]
[化15]
[化16]
[化17]
[化18]
(各式中，L2为单键或二价连接基团，R34各自独立地为一价基团，各基团所具有的R34之中，至少1个为反应性基团)
各基团中包含的2个以上的R34各自独立地为一价基团，可以为上述反应性基团、也可以为上述反应性基团以外的基团。但是，各基团中包含的2个以上的R34之中，至少1个为上述反应性基团。
作为上述反应性基团，优选为选自由-H、-OR35(R35为碳原子数为1～4的烷基)、卤原子、-OH、-O-CR35＝CH2(R35如上所述)、-OCOR35(R35如上所述)、-OCOORj(Rj为烷基或卤化烷基)、-NR35 2(R35如上所述)和包含这些基团中的任一种的基团组成的组中的至少一种。
作为上述反应性基团以外的基团，优选为选自由烷基、卤化烷基、烷基酯基、卤化烷基酯基、烷基醚基、卤化烷基醚基、烷基酰胺基、卤化烷基酰胺基、尿基、卤化尿基、脲基、卤化脲基、-CONRkCORl(Rk和Rl独立地为H、烷基或卤化烷基)、包含糖链的基团、亚烷基聚醚基、芳烃基、卤化芳烃基、包含杂环的基团、芳基以及卤化芳基组成的组中的至少一种。
L2为与式(1)的环直接键合的单键或二价连结基团。作为L2适宜的基团如上所述。
作为上述倍半硅氧烷残基，可以举出下述基团。
[化19]
[化20]
[化21]
[化22]
[化23]
(各式中，L2为单键或二价连接基团，R37各自独立地为一价基团，各基团所具有的R37之中，至少1个为反应性基团，p独立地为0～5000的整数)
各基团中包含的2个以上的R37各自独立地为一价基团，可以为上述反应性基团、也可以为上述反应性基团以外的基团。但是，各基团中包含的2个以上的R37之中，至少1个为上述反应性基团。
作为上述反应性基团，优选为选自由-H、-OR35(R35为碳原子数为1～4的烷基)、卤原子、-OH、-O-CR35＝CH2(R35如上所述)、-OCOR35(R35如上所述)、-OCOORj(Rj为烷基或卤化烷基)、-NR35 2(R35如上所述)和包含这些基团中的任一种的基团组成的组中的至少一种。
作为上述反应性基团以外的基团，优选为选自由烷基、卤化烷基、烷基酯基、卤化烷基酯基、烷基醚基、卤化烷基醚基、烷基酰胺基、卤化烷基酰胺基、尿基、卤化尿基、脲基、卤化脲基、-CONRkCORl(Rk和Rl独立地为H、烷基或卤化烷基)、包含糖链的基团、亚烷基聚醚基、芳烃基、卤化芳烃基、包含杂环的基团、芳基以及卤化芳基组成的组中的至少一种。
L2为与式(1)的环直接键合的单键或二价连结基团。作为L2适宜的基团如上所述。
式(1)所表示的化合物中，R1的平均分子量没有特别限定，为500～30,000、优选1,500～30,000、更优选为2,000～10,000。
式(1)所表示的化合物没有特别限定，可以具有5×102～1×105的平均分子量。其中，从耐UV性和摩擦耐久性的方面出发，优选具有优选为2,000～30,000、更优选为2,500～12,000的平均分子量。需要说明的是，本发明中的“平均分子量”是指数均分子量，“平均分子量”采用通过19F-NMR测定得到的值。
式(1)所表示的化合物为新型化合物，例如通过下述制造方法制造。
上述化合物可以通过使式：
[化24]
(式中，X1和X2如上所述，L4为单键或二价连接基团)所表示的异氰脲酸衍生物化合物与式：R41-COOH(式中，R41为与-COO-CH2CH(OH)-L4-一起构成上述R1的一价有机基团)反应来制造。
由于R41与-COO-CH2CH(OH)-L4-一起构成上述R1，因而当然包含上述聚醚链。通过该反应生成R41-COO-CH2CH(OH)-L4-所表示的一价有机基团。作为R41，优选R3-(OR2)a-L5-((OR2)a为上述聚醚链，R3为烷基或氟代烷基，L5为与-COO-CH2CH(OH)-L4-一起构成上述L的单键或二价连接基团)所表示的一价有机基团。
上述化合物还可以通过使式：
[化25]
(式中，X1和X2如上所述，L6为单键或二价连接基团)所表示的异氰脲酸衍生物化合物与式：R42-O-SO2R43(式中，R42为与-L6-一起构成上述R1的一价有机基团，R43为烷基或氟代烷基)或R42-X26(式中，R42如上所述，X26为Cl、Br或I)反应来制造。
由于R42与-L6-一起构成上述R1，因而当然包含上述聚醚链。通过该反应生成R42-L6-所表示的一价有机基团。作为R42，更优选R3-(OR2)a-L7-((OR2)a为上述聚醚链，R3为烷基或氟代烷基，L7为与-L6-一起构成上述L的单键或二价连接基团)所表示的一价有机基团。
另外，例如，在上述任一种制造方法中，在导入含有双键的基团(优选烯丙基)作为相当于X1和/或X2的基团后，使上述的双键与式：H-{Si(Ra)s(Rb)t(Rc)u(Rd)v}n(式中，Ra、Rb、Rc、Rd、s、t、u、v和n如上所述)所表示的化合物反应，向化合物中导入式：-L2-{Si(Ra)s(Rb)t(Rc)u(Rd)v}n(式中，L2、Ra、Rb、Rc、Rd、s、t、u、v和n如上所述)所表示的结构，由此能够导入上述含硅烷反应性交联基团或选自由-L2-SiR5 3、-L2-Si(OR6)3、-L2-Si(NR6 2)3以及-L2-Si(OCOR6)3(各式中，L2为单键或二价连接基团，R5为卤原子，R6独立地为碳原子数为1～4的烷基)组成的组中的至少一种作为X1和/或X2。
上述表面处理层可以为单层、也可以为多层。
本发明的基材均可以为光学材料。
作为光学材料，除了后述例示的涉及显示屏等的光学材料以外，还优选可以举出各种各样的光学材料：例如阴极射线管(CRT；例如TV、个人电脑显示器)、液晶显示屏、等离子体显示屏、有机EL显示屏、无机薄膜EL点矩阵显示屏、背面投影型显示屏、荧光显示管(VFD)、场发射显示屏(FED；Field Emission Display)等显示屏或这些显示屏的保护板、或者对它们的表面实施防反射膜处理而得到的材料。
本发明的基材均没有特别限定，但是可以为光学部件。光学部件的示例中可以举出下述部件：眼镜等的镜片；PDP、LCD等显示屏的前面保护板、防反射板、偏光片、防眩光板；便携电话、便携信息终端等设备的触控面板片；蓝光(Blu-ray(注册商标))光盘、DVD光盘、CD-R、MO等光盘的光盘面；光纤等。
另外，本发明的基材均可以为医疗设备或医疗材料。
表面处理层的厚度没有特别限定。本发明的基材为光学部件的情况下，从耐UV性、光学性能、表面平滑性、摩擦耐久性和防污性的方面出发，优选表面处理层的厚度为1～50nm、更优选为1～30nm、特别优选为1～15nm的范围。
另外，对于车辆用窗玻璃、建筑用窗玻璃来说，通常希望在其表面不附着水滴、污垢等妨碍视野的物质。例如，在车辆用窗玻璃的表面附着雨滴、尘埃、污垢等或者水分受到大气中的湿度或温度的影响而发生冷凝时，透明性、透视性变差，会对汽车等车辆的行驶运转带来障碍。因此，附着于汽车用窗玻璃的水滴通过使用刮水器或用手擦去等物理手段除去。因此，对于这些车辆用窗玻璃、建筑用窗玻璃中所使用的玻璃，要求优异的拒水性、防污性，并且要求这些特性长期持续的耐候性、耐磨耗性。本发明的基材均能够适当地用于上述的车辆用窗玻璃、建筑用窗玻璃中。
从在应用于车辆用窗玻璃或建筑用窗玻璃时能够得到优异的透明性的方面出发，优选本发明的基材在可见光区域的平均透过率为85％以上、优选为90％以上，并且雾度为8.0％以下。
本发明中所说的在可见光区域的平均透过率被定义为，至少每隔5nm对于400～700nm为止的可见光区域的透过率进行测定，将所求出的可见光域的各透过率累计，求出其平均值作为该平均透过率。各测定波长下的透过率可以使用现有公知的测定仪器，例如可以通过使用岛津制作所株式会社制造的分光光度计UVIDFC-610、日立制作所株式会社制造的330型自记分光光度计、U-3210型自记分光光度计、U-3410型自记分光光度计、U-4000型自记分光光度计等进行测定来求出上述透过率。
本发明的基材也均能够适当地用于大厦用的内部或外部窗、眼镜、车辆的挡风玻璃、侧窗玻璃、后窗玻璃、侧围玻璃、侧镜、手表和游泳用护目镜等的玻璃或镜片、装置和设备的玻璃罩、摩托车头盔或头盔用的视窗罩、望远镜透镜或照相机镜头等的玻璃透镜、玻璃安全屏或喷溅防护壁等透明的分离装置、以及化学反应通风橱、生物学或医疗通风橱、培养器、实验台、微波炉、烘箱烤面包机、或者冰箱等装置或设备用的玻璃门或窗等的玻璃或塑料窗、橱窗玻璃、防盗玻璃、不锈钢制造的自来水管用的水龙头、喷淋头等。
术语“车辆”意味着轿车、厢式货车、小型厢旅车、公共汽车、SUV(运动型多用途车)、卡车、半挂式卡车、火车、市街电车、拖拉机、摩托车、拖车、小型卡车、推土机、起重机汽车和挖土机等大型车辆运输车、飞机、舟、船、火箭以及其他形式的传输机等车辆。
挡风玻璃可以固定于车辆上，并且能够从车辆拆下或者能够进行装卸。挡风玻璃代表性地能够由强化玻璃、塑料等聚合物材料、或者聚合物材料增强或层积玻璃制造。汽车的代表性的挡风玻璃可以具有在其间层积有塑料层的2层以上的玻璃片。侧窗玻璃或后窗玻璃、侧围窗玻璃等车辆的其他窗也可以为本发明的基材。为了使经透过看到的视野良好，车辆的挡风玻璃需要为拒水性的，因此雨滴、水花或尘埃不容易附着于挡风玻璃。
另外，本发明的基材为上述基材中说明的车载玻璃、建筑部件、石材等的情况下，从耐UV性、表面平滑性、摩擦耐久性和防污性的方面出发，优选表面处理层的厚度为1nm～20μm、更优选为3nm～1μm、特别优选为5～100nm的范围。
本发明的基材为挡风玻璃的情况下，从维持玻璃的强度的方面出发，基材的厚度可以为2～30mm，可以为3mm以上20mm以下，更优选为4mm以上且8mm以下。另外，本发明的基材为侧窗玻璃和后窗玻璃的情况下，基材的厚度可以为3～15mm，优选为4～7mm。
上述基材在上述表面处理层与上述基材之间可以具有中间层，也可以在上述基材上直接设置上述表面处理层，出于可充分发挥出上述基材本身所具有的特性、制造容易、经济上也有利的原因，优选在上述基材上直接设置上述表面处理层。
上述表面处理层可以进一步包含抗氧化剂、增稠剂、流平剂、消泡剂、抗静电剂、防雾剂、紫外线吸收剂、颜料、染料、氧化硅等无机微粒、铝粉糊、滑石、玻璃粉、金属粉等填充剂、丁基化羟基甲苯(BHT)、吩噻嗪(PTZ)等阻聚剂等等。
上述表面处理层的形成可以通过将式(1)所表示的化合物按照覆盖基材的表面的方式应用于该表面来实施。作为上述表面处理层的形成方法没有特别限定。例如可以使用湿润被覆法和干燥被覆法。
作为湿润被覆法的示例，可以举出浸涂、旋转涂布、流涂、喷涂、辊涂、凹印涂布和类似的方法。
作为干燥被覆法的示例，可以举出蒸镀(通常为真空蒸镀)、溅射、CVD和类似的方法。作为蒸镀法(通常为真空蒸镀法)的具体例，可以举出电阻加热、电子束、使用微波等的高频加热、离子束和类似的方法。作为CVD方法的具体例，可以举出等离子体-CVD、光学CVD、热CVD和类似的方法。
进而，还能够利用常压等离子体法进行被覆。
式(1)所表示的化合物可以浸渗在多孔质物质(例如多孔质的陶瓷材料)、将金属纤维(例如钢丝绒)集中成绵状的物质中，制成粒料。该粒料例如能够用于真空蒸镀。
在使用湿润被覆法的情况下，上述表面处理层可以通过将包含式(1)所表示的化合物以及溶剂的组合物应用至基材来形成。
作为上述溶剂，可以举出含氟有机溶剂或不含氟有机溶剂。
作为上述含氟有机溶剂，可以举出例如全氟己烷、全氟辛烷、全氟甲基环己烷、全氟二甲基环己烷、全氟十氢化萘、全氟烷基乙醇、全氟苯、全氟甲苯、全氟烷基胺(Fluorinert(商品名)等)、全氟烷基醚、全氟丁基四氢呋喃、多氟脂肪族烃(AsahiklinAC6000(商品名))、氢氯氟碳(Asahiklin AK-225(商品名)等)、氢氟醚(Novec(商品名)、HFE-7100(商品名)、HFE-7200(商品名)、HFE-7300(商品名)、HFE-7000(商品名)、AsahiklinAE-3000(商品名)等)、1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷、1,1,1,3,3-五氟丁烷、含氟醇、全氟烷基溴、全氟烷基碘、全氟聚醚(Krytox(商品名)、Demnum(商品名)、Fomblin(商品名)等)、1,3-双三氟甲基苯、甲基丙烯酸2-(全氟烷基)乙酯、丙烯酸2-(全氟烷基)乙酯、全氟烷基乙烯、氟利昂134a以及六氟丙烯低聚物、1,2-二氯-1,3,3,3-四氟-1-丙烯等。
作为上述不含氟有机溶剂，可以举出例如丙酮、甲基异丁基酮、环己酮、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单丁醚乙酸酯、二丙二醇二甲醚戊烷、己烷、庚烷、辛烷、十六烷、二氯甲烷、氯仿、四氯化碳、二氯乙烷、二硫化碳、苯、甲苯、二甲苯、硝基苯、二乙醚、二甲氧基乙烷、二甘醇二甲醚、三甘醇二甲醚、乙酸乙酯、乙酸丁酯、二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、2-丁酮、乙腈、苯甲腈、丁醇、1-丙醇、2-丙醇、乙醇、甲醇和二丙酮醇。
其中，作为上述溶剂，优选为甲基异丁基酮、丙二醇单甲醚、十六烷、乙酸丁酯、丙酮、2-丁酮、环己酮、乙酸乙酯、二丙酮醇或2-丙醇。
上述溶剂可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上，在使用上述不含氟有机溶剂的情况下，优选与上述含氟有机溶剂组合使用。
上述溶剂在上述组合物中优选以1～99.99质量％的范围使用。该范围更优选为10～99.9质量％、进一步优选为50～99质量％。
上述组合物中，除了式(1)所表示的化合物以及溶剂以外，还可以含有抗氧化剂、增稠剂、流平剂、消泡剂、抗静电剂、防雾剂、紫外线吸收剂、颜料、染料、氧化硅等无机微粒、铝粉糊、滑石、玻璃粉、金属粉等填充剂、丁基化羟基甲苯(BHT)、吩噻嗪(PTZ)等阻聚剂、催化剂、其他成分等。
作为上述催化剂，可以举出酸(例如乙酸、三氟乙酸等)、碱(例如氨、三乙胺、二乙胺等)、过渡金属(例如Ti、Ni、Sn等)等。
作为上述催化剂的含量，相对于式(1)所表示的化合物为1质量ppm～5质量％、优选为5～5000质量ppm、更优选为10～1000质量ppm。
催化剂促进式(1)所表示的化合物的水解和脱水缩合，促进表面处理层的形成。
另外，作为其他成分，除上述成分以外，还可以举出例如四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、甲基三乙酰氧基硅烷等。作为这种情况下的含量，相对于式(1)所表示的化合物为10质量ppm～20质量％、优选为3质量ppm～5质量％、更优选为10质量ppm～1质量％。作为其他成分，进一步可以举出其他表面处理化合物、可以理解为含氟油的(非反应性的)氟聚醚化合物、优选全氟(聚)醚化合物(以下称为“含氟油”)、可以理解为硅油的(非反应性的)聚硅氧烷化合物(以下称为“硅油”)等。
作为其他表面处理化合物没有特别限定，例如可以举出下述通式(1A)、(2A)、(1B)、(2B)、(1C)、(2C)、(1D)和(2D)中的任一种所表示的至少一种含全氟(聚)醚基的硅烷化合物：
[化26]
[式中：
PFPE3相同或不同，为式：
-(OC6F12)a1-(OC5F10)b1-(OC4F8)c1-(OC3F6)d1-(OC2F4)e1-(OCF2)f1-
(式中，a1、b1、c1、d1、e1和f1各自独立地为0以上200以下的整数，a1、b1、c1、d1、e1和f1之和至少为1，附以a1、b1、c1、d1、e1或f1并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。)所表示的基团；
Rf3相同或不同，表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数为1～16的烷基；
R53相同或不同，表示羟基或能够水解的基团；
R54相同或不同，表示氢原子或碳原子数为1～22的烷基；
R51相同或不同，表示氢原子或卤原子；
R52相同或不同，表示氢原子或低级烷基；
n3在每个(-SiR51 n3R52 3-n3)单元中独立，为0～3的整数；
其中，式(1A)、(2A)、(1B)和(2B)中，至少1个n3为1～3的整数；
X4各自独立地表示单键或2～10价有机基团；
X5相同或不同，表示单键或2价有机基团；
t相同或不同，表示1～10的整数；
α1各自独立地为1～9的整数；
α1’各自独立地为1～9的整数；
X6各自独立地表示单键或2～10价有机基团；
β1各自独立地为1～9的整数；
β1’各自独立地为1～9的整数；
X7各自独立地表示单键或2～10价有机基团；
γ1各自独立地为1～9的整数；
γ1’各自独立地为1～9的整数；
Ra3相同或不同，表示-Z3-SiR61 p1R62 q1R63 r1；
Z3相同或不同，表示氧原子或2价有机基团；
R61相同或不同，表示Ra3’；
Ra3’与Ra3含义相同；
Ra3中，藉由Z3基连结成直链状的Si最多为5个；
R62相同或不同，表示羟基或能够水解的基团；
R63相同或不同，表示氢原子或低级烷基；
p1相同或不同，为0～3的整数；
q1相同或不同，为0～3的整数；
r1相同或不同，为0～3的整数；
其中，式(1C)和(2C)中，至少1个q1为1～3的整数；
Rb3相同或不同，表示羟基或能够水解的基团；
Rc3相同或不同，表示氢原子或低级烷基；
k1相同或不同，为1～3的整数；
l1相同或不同，为0～2的整数；
m1相同或不同，为0～2的整数；
X9各自独立地表示单键或2～10价有机基团；
δ1各自独立地为1～9的整数；
δ1’各自独立地为1～9的整数；
Rd3相同或不同，表示-Z4-CR71 p2R72 q2R73 r2；
Z4相同或不同，表示氧原子或2价有机基团；
R71相同或不同，表示Rd3’；
Rd3’与Rd3含义相同；
Rd3中，藉由Z4基结合成直链状的C最多为5个；
R72相同或不同，表示-Y-SiR74 n2R75 3-n2；
Y相同或不同，表示2价有机基团；
R74相同或不同，表示羟基或能够水解的基团；
R75相同或不同，表示氢原子或低级烷基；
n2在每个(-Y-SiR74 n2R75 3-n2)单元中独立，表示1～3的整数；
其中，式(1D)和(2D)中，至少1个n2为1～3的整数；
R73相同或不同，表示氢原子或低级烷基；
p2相同或不同，为0～3的整数；
q2相同或不同，为0～3的整数；
r2相同或不同，为0～3的整数；
Re3相同或不同，表示-Y-SiR74 n2R75 3-n2；
Rf3相同或不同，表示氢原子或低级烷基；
k2相同或不同，为0～3的整数；
l2相同或不同，为0～3的整数；
m2相同或不同，为0～3的整数；
其中，式(1D)和(2D)中，至少1个q2为2或3、或者至少1个l2为2或3]。
作为上述含氟油没有特别限定，例如可以举出下述通式(3)所表示的化合物(全氟(聚)醚化合物)。
Rf5-(OC4F8)a’-(OC3F6)b’-(OC2F4)c’-(OCF2)d’-Rf6···(3)
式中，Rf5表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数为1～16烷基(优选C1-16的全氟烷基)，Rf6表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数为1～16烷基(优选C1-16全氟烷基)、氟原子或氢原子，Rf5和Rf6更优选各自独立地为C1-3全氟烷基。
a’、b’、c’和d’分别表示构成聚合物的主骨架的全氟(聚)醚的4种重复单元的数目，它们相互独立，为0以上300以下的整数，a’、b’、c’和d’之和至少为1、优选为1～300、更优选为20～300。附以标注a’、b’、c’或d’并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中为任意的。这些重复单元中，-(OC4F8)-可以为-(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-、-(OCF(CF3)CF(CF3))-、-(OCF(C2F5)CF2)-和-(OCF2CF(C2F5))-中的任一种，优选为-(OCF2CF2CF2CF2)-。-(OC3F6)-可以为-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2)-和-(OCF2CF(CF3))-中的任一种，优选为-(OCF2CF2CF2)-。-(OC2F4)-可以为-(OCF2CF2)-和-(OCF(CF3))-中的任一种，优选为-(OCF2CF2)-。
作为上述通式(3)所表示的全氟(聚)醚化合物的示例，可以举出下述通式(3a)和(3b)中的任一者所表示的化合物(可以为1种或2种以上的混合物)。
Rf5-(OCF2CF2CF2)b”-Rf6···(3a)
Rf5-(OCF2CF2CF2CF2)a”-(OCF2CF2CF2)b”-(OCF2CF2)c”-(OCF2)d”-Rf6···(3b)
这些式中，Rf5和Rf6如上所述；式(3a)中，b”为1以上100以下的整数；式(3b)中，a”和b”各自独立地为1以上30以下的整数，c”和d”各自独立地为1以上300以下的整数。附以标注a”、b”、c”、d”并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中为任意的。
上述含氟油可以具有1,000～30,000的平均分子量。由此能够得到高表面平滑性。
上述组合物中，相对于上述的合计100质量份(分别为2种以上的情况下为它们的合计，以下也相同)，可以以例如0～400质量份、优选为0～200质量份、更优选为0.1～50质量份含有含氟油。
含氟油有助于在维持耐UV性的同时提高表面处理层的表面平滑性。
上述组合物可以进一步包含式(2)所表示的化合物：
[化27]
(式中，X1和X2如上所述，R4表示包含聚醚链的二价有机基团，上述聚醚链为选自由
式：-(OCF2CF2CX21 2)n21(OCF2CF(CF3))n22(OCF2CF2)n23(OCF2)n24(OC4F8)n25-
(式中，n21、n22、n23、n24和n25独立地为0或1以上的整数，X21独立地为H、F或Cl，各重复单元的存在顺序为任意的)所表示的链以及
式：-(OC2F4-R27)f’-
(式中，R27为选自OC2F4、OC3F6和OC4F8中的基团，f’为2～100的整数)所表示的链组成的组中的至少一种链)。
上述组合物中，相对于上述的合计100质量份(分别为2种以上的情况下为它们的合计、以下也相同)，可以以例如0～100质量份、优选为0～50质量份、更优选为0～25质量份含有式(2)所表示的化合物。
在使用干燥被覆法的情况下，上述表面处理层可以通过将式(1)所表示的化合物直接应用于干燥被覆法来形成，另外也可以通过将上述组合物应用于干燥被覆法来形成。
表面处理层的形成优选按照在表面处理层中式(1)所表示的化合物与用于水解和脱水缩合的催化剂共同存在的方式来实施。简便地，在利用湿润被覆法的情况下，可以在将式(1)所表示的化合物用溶剂稀释后，在即将应用于基材表面之前向式(1)所表示的化合物的稀释液中添加催化剂。在利用干燥被覆法的情况下，可以对添加了催化剂的本发明的表面处理剂直接进行蒸镀(通常为真空蒸镀)处理、或者使用将含浸有添加了催化剂的式(1)所表示的化合物的粒状物质在铁或铜等的金属多孔体上进行蒸镀(通常为真空蒸镀)处理。
接着，根据需要对表面处理层进行后处理。该后处理没有特别限定，例如可以逐步实施水分供给和干燥加热，更详细地说，可以如下实施。
如上所述，在基材表面形成上述表面处理层后，向该表面处理层(以下也称为“前体层”)供给水分。水分的供给方法没有特别限定，例如可以使用因前体层(以及基材)与周围气氛的温度差所致的结露、吹喷水蒸气(steam)等方法。
水分的供给可以在例如0～250℃、优选为60℃以上、进一步优选为100℃以上、优选为180℃以下、进一步优选为150℃以下的气氛下实施。通过在这样的温度范围供给水分，能够使水解进行。此时的压力没有特别限定，为了简便，可以设为常压。
之后，将该前体层在该基材的表面在超过60℃的干燥气氛下进行加热。干燥加热方法没有特别限定，可以将前体层与基材一起配置在大于60℃、优选大于100℃的温度且在例如250℃以下、优选180℃以下的温度，并且在不饱和水蒸气压的气氛下。此时的压力没有特别限定，为了简便，可以设为常压。
在这样的气氛下，在式(1)所表示的化合物之间，水解后的与Si键合的基团相互迅速地脱水缩合。另外，在该化合物与基材之间，该化合物的水解后的与Si键合的基团与存在于基材表面的反应性基团之间迅速反应，在基材表面所存在的反应性基团为羟基的情况下发生脱水缩合。其结果，式(1)所表示的化合物与基材之间形成键。
上述的水分供给和干燥加热也可以通过使用过热水蒸气而连续地实施。
可以如上所述实施后处理。上述后处理是为了维持高耐UV性并进一步提高摩擦耐久性而实施的，但请注意该后处理对于制造本发明的基材并不是必须的。例如，也可以在基材表面形成上述表面处理层后仅直接静置。
如上所述，在基材的表面形成表面处理层，制造本发明的基材。由此得到的表面处理层具有良好的耐UV性。另外，该表面处理层不仅具有良好的耐UV性，而且根据所使用的组合物的组成，还可以具有拒水性、拒油性、防污性(例如防止指纹等污垢的附着)、表面平滑性(或者润滑性、例如指纹等污垢的擦去性或者对于手指的优异触感)、高摩擦耐久性等，可以适当地用作功能性薄膜。
实施例
接下来举出实施例对本发明进行说明，但本发明并不仅限定于所述实施例。需要说明的是，在本实施例中，以下所示的化学式全部为平均组成，构成全氟聚醚的重复单元((CF2CF2CF2O)、(CF2CF2O)、(CF2O))的存在顺序为任意的。
合成例1含全氟聚醚(PFPE)的化合物(A)的制造方法
将1,3-二烯丙基-异氰脲酸2.0g溶解在间六氟二甲苯与二甲基甲酰胺的混合溶剂中。加入碳酸钾1.0g，在搅拌下进行加热。加入溶解在间六氟二甲苯中的CF3CF2CF2O-(CF2CF2CF2O)23-CF2CF2CH2-三氟甲基磺酸酯4.0g，进一步继续进行加热、搅拌。反应的终点利用19F-NMR和1H-NMR确认。向反应液中加入纯水，通过进行分液得到下述的含PFPE化合物(A)。
含PFPE化合物(A)：
[化28]
合成例2含全氟聚醚(PFPE)的化合物(B)的制造方法
投入含PFPE化合物(A)10.1g、间六氟二甲苯40g、三乙酰氧基甲基硅烷0.04g、三氯硅烷1.93g，在10℃下搅拌30分钟。接着加入包含1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷的Pt络合物(2％)的二甲苯溶液0.115ml，之后加热搅拌4小时。之后在减压下蒸馏除去挥发成分后，加入甲醇0.23g与原甲酸三甲酯6.1g的混合溶液，然后加热搅拌3小时。之后通过进行精制得到在末端具有三甲氧基甲硅烷基的下述的含PFPE化合物(B)9.9g。
含PFPE化合物(B)：
[化29]
合成例3含全氟聚醚(PFPE)的化合物(C)和(D)的制造方法
将1,3-二烯丙基-异氰脲酸2.0g溶解在间六氟二甲苯和二甲基甲酰胺的混合溶剂中。加入碳酸钾1.0g，在搅拌下进行加热。加入溶解在间六氟二甲苯中的CF3O-(CF2CF2O)m(CF2O)nCF2CF2CH2-三氟甲基磺酸酯(m＝22,n＝19)4.0g，进一步继续加热、搅拌。反应的终点利用19F-NMR和1H-NMR确认。向反应液中加入纯水，通过进行分液得到下述的含PFPE化合物(C)。
含PFPE化合物(C)：
[化30]
接着，除了将合成例2的含PFPE化合物(A)变更为含PFPE化合物(C)以外，与合成例2同样地得到在末端具有三甲氧基甲硅烷基的下述的含PFPE化合物(D)9.8g。
含PFPE化合物(D)：
[化31]
合成例4含全氟聚醚(PFPE)的化合物(I)和(J)的制造方法
投入含PFPE化合物(C)10.0g、间六氟二甲苯45g、三乙酰氧基甲基硅烷0.04g、二氯甲基硅烷1.41g，在10℃下搅拌30分钟。接着加入包含1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷的Pt络合物(2％)的二甲苯溶液0.136ml，之后进行加热搅拌。之后在蒸馏除去挥发成分后，加入乙烯基氯化镁(1.6M的THF溶液)15ml，在室温下搅拌。之后通过进行精制得到在末端具有甲基二乙烯基甲硅烷基的下述的含PFPE化合物(I)9.5g。
含PFPE化合物(I)：
[化32]
接着，投入含PFPE化合物(I)9.5g、间六氟二甲苯42g、三乙酰氧基甲基硅烷0.04g、三氯硅烷2.30g，在10℃下搅拌30分钟。接着加入包含1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷的Pt络合物(2％)的二甲苯溶液0.230ml后，加热搅拌4小时。之后在蒸馏除去挥成分后加入甲醇0.30g与原甲酸三甲酯7.56g的混合溶液，之后进行加热搅拌。之后通过进行精制得到在末端具有三甲氧基甲硅烷基的下述的含PFPE化合物(J)9.6g。
含PFPE化合物(J)：
[化33]
实施例1
将合成例2中得到的含PFPE化合物(B)按浓度20wt％溶解在氢氟醚(3M公司制造，Novec HFE7200)中，制备表面处理剂1。
将表面处理剂1真空蒸镀在化学强化玻璃(Corning公司制造，“大猩猩”玻璃、厚度0.7mm)上。真空蒸镀的处理条件中，设压力为3.0×10-3Pa，首先将二氧化硅以7nm的厚度蒸镀在该化学强化玻璃的表面，形成二氧化硅膜，接着对每1片(55mm×100mm)化学强化玻璃蒸镀表面处理剂2mg(即，含有化合物(B)0.4mg)。之后将带蒸镀膜的化学强化玻璃在大气下在恒温槽内于140℃加热30分钟。由此，蒸镀膜发生固化，得到具有表面处理层的基材(1)。
实施例2
使用合成例3中得到的含PFPE化合物(D)进行与实施例1相同的处理，得到基材(2)。
实施例3
使用合成例4中得到的含PFPE化合物(J)进行与实施例1相同的处理，得到基材(3)。
比较例1～4
使用对照化合物(E)、(F)、(G)、(H)来代替含PFPE化合物(B)，除此以外与实施例1同样地制备基材(4)～(7)。
对照化合物(E)
[化34]
对照化合物(F)
[化35]
对照化合物(G)
[化36]
对照化合物(H)
[化37]
(加速耐候性试验评价)
对于实施例1、2、3和比较例1～4中制备的基材(1)～(7)进行加速耐候性试验。加速耐候性试验为进行如下UVB照射的试验。UVB照射使用UVB-313灯(Q-Lab公司制造，在310nm的辐照度为0.63W/m2)，设灯与基材的表面处理层的距离为5cm，在载置有基材的板的温度为63℃下进行。UVB照射连续地进行，但在测定水静态接触角时，暂时将基材取出，在Kimwipe(商品名，十条Kimberly公司制造)中充分渗入纯水对表面处理层往返擦拭5次后，进一步在另外的Kimwipe中充分渗入乙醇往返擦拭5次，使其干燥。之后立即进行水静态接触角的测定。
<水静态接触角的测定方法>
水静态接触角使用全自动接触角计DropMaster 700(协和界面科学公司制造)按下述方法进行测定。从微量注射器中向水平放置的基板上滴加2μL的水，用视频显微镜拍摄滴加1秒后的静止图像，由此求出水静态接触角。关于水静态接触角的测定值，测定基材上的表面处理层的UVB照射位置不同的5点，计算出其平均值来使用。
实施例的各数值通过以下的方法测定。
首先，作为初期评价，对于表面处理层形成后的基材在UVB照射前测定水静态接触角(UV照射时间0小时)。之后，对于照射了规定时间的UVB之后的表面处理层，分别测定水静态接触角。从开始UVB照射起每24小时进行评价直至水静态接触角低于80度、或者直至累积照射时间为600小时。将结果示于表1中。
[表1]
由表1的结果可以理解，与比较例1～4的具有使用硅烷化合物形成的表面处理层的基材相比，可知在实施例1、2和3的具有使用含PFPE化合物形成的表面处理层的基材中，接触角随着UV照射的降低得到了显著抑制，可长期维持高拒水性。这被认为是由于，在实施例1、2和3中所形成的基材中，因UV照射所引起的表面处理层的分解得到了抑制。
实施例4、5、6、比较例5、6、7、8
钢丝绒摩擦耐久性评价
对于实施例1、2、3和比较例1～4中形成了表面处理层的基材(1)～(7)，首先，作为初期评价，在表面处理层形成后，在尚未对其表面进行任何碰触的状态下，进行水静态接触角的测定(摩擦次数零次)。之后实施钢丝绒摩擦耐久性评价。具体地说，将形成了表面处理层的基材水平配置，使钢丝绒(支数#0000、尺寸5mm×10mm×10mm)与基材的表面处理层接触，对其上赋予1,000gf的负荷，之后在施加负荷的状态下使钢丝绒以140毫米/秒的速度往返。每往返次数2000次进行水静态接触角(度)的测定，在接触角的测定值小于100度的时刻停止评价。将结果作为实施例4、5、6、比较例5、6、7、8示于表2中(表中，符号“-”为未测定)。
[表2]
由表2的结果可以理解，在实施例4、5和6的具有使用含有全氟聚醚基的硅烷化合物形成的表面处理层的基材中，确认到了摩擦耐久性提高。
工业实用性
本发明的基材均能够适当地用于挡风玻璃、侧窗玻璃、后窗玻璃、镜、传感器照相机镜头等车载用途、显示屏等信息终端用途、窗玻璃等建材用途、室外的防盗照相机、监控摄像机、自来水管的水龙头或喷淋头等。另外，本发明的基材均除了具有高耐UV性以外还具有拒水性、拒油性、防污性、防水性、高摩擦耐久性，因而可适当地用于要求室外的耐候性的用途，尽管没有特别限定，但是可适当地用作防污性涂布基材或防水性涂布基材。
本发明的基材还均能够适当地用于光学部件、触控面板用的光学玻璃部件、车载照相机或监视器用照相机等光学透镜部件、光学材料、光学部件、医疗设备、医疗材料等。
作为光学材料，除了后述例示的涉及显示屏等的光学材料以外，还优选可以举出各种各样的光学材料：例如阴极射线管(CRT；例如TV、个人电脑显示器)、液晶显示屏、等离子体显示屏、有机EL显示屏、无机薄膜EL点矩阵显示屏、背面投影型显示屏、荧光显示管(VFD)、场发射显示屏(FED；Field Emission Display)等显示屏或这些显示屏的保护板、或者对它们的表面实施防反射膜处理而得到的材料。
在光学部件的示例中可以举出下述部件：眼镜等的镜片；PDP、LCD等显示屏的前面保护板、防反射板、偏光片、防眩光板；便携电话、便携信息终端等设备的触控面板片；蓝光(Blu-ray(注册商标))光盘、DVD光盘、CD-R、MO等光盘的光盘面；光纤等。
另外，本发明的基材均能够适当地用于车辆用窗玻璃、建筑用窗玻璃。
作为车辆用窗玻璃，可以举出车辆的挡风玻璃、侧窗玻璃、后窗玻璃、侧围窗玻璃、侧镜、侧围窗玻璃、侧镜等。
作为建材用窗玻璃，可以举出大厦用的内部或外部窗玻璃等。
另外，本发明的基材还均能够适当地用于眼镜、手表和游泳用护目镜等的玻璃或镜片、装置和设备的玻璃罩、摩托车头盔或头盔用的视窗罩、望远镜透镜或照相机镜头等的玻璃透镜、玻璃安全屏或喷溅防护壁等透明的分离装置、以及化学反应通风橱、生物学或医疗通风橱、培养器、实验台、微波炉、烘箱烤面包机、或者冰箱等装置或设备用的玻璃门或窗等的玻璃或塑料窗、橱窗玻璃、防盗玻璃等。
Claims (7)
1.一种基材，其特征在于，其具有表面处理层，在下述条件下实施的加速耐候性试验进行400小时后的水静态接触角为100度以上，
<加速耐候性试验的条件>
使用UVB-313灯，设灯与基材的表面处理层的距离为5cm，每照射24小时将表面处理层用水和乙醇擦拭并弄干，其中所述灯在波长310nm的辐照度为0.63W/m2。
2.一种基材，其特征在于，其具有表面处理层，在下述条件下实施的加速耐候性试验进行250小时后的水静态接触角为110度以上，
<加速耐候性试验的条件>
使用UVB-313灯，设灯与基材的表面处理层的距离为5cm，每照射24小时将表面处理层用水和乙醇擦拭并弄干，其中所述灯在波长310nm的辐照度为0.63W/m2。
3.如权利要求1或2所述的基材，其中，在下述条件下实施的钢丝绒摩擦耐久性评价进行6000次后的水静态接触角为100度以上，
<钢丝绒摩擦耐久性评价的条件>
使支数#0000、尺寸5mm×10mm×10mm的钢丝绒与基材的表面处理层接触，对其上赋予1,000gf的负荷，在施加负荷的状态下使钢丝绒以140毫米/秒的速度往返，将一次往返记为1次。
4.一种基材，其特征在于，其具有表面处理层，表面处理层包含式(1)所表示的化合物，
式(1)：
[化1]
式中，R1表示式R3-(OR2)a-L-所示的一价有机基团，其中(OR2)a为聚醚链，R3为烷基或氟代烷基，L表示单键或二价连接基团；X1表示一价含Si基团；X2表示一价基团；所述聚醚链为式：
-(OC6F12)m11-(OC5F10)m12-(OC4F8)m13-(OC3X10 6)m14-(OC2F4)m15-(OCF2)m16-
所表示的链，式中m11、m12、m13、m14、m15和m16独立地为0或1以上的整数，X10独立地为H、F或Cl，各重复单元的存在顺序为任意的。
5.如权利要求4所述的基材，其中，
L为-C2H4-、-C3H6-、-CO-O-CH2-CH(OH)-CH2-、-(CF2)n-、-CH2-、-C4H8-或-(CF2)n-(CH2)m-，-(CF2)n-中的n为0～4的整数，-(CF2)n-(CH2)m-中的n、m独立，均为0～4的整数；
X1为具有能够水解的基团的一价含Si基团。
6.如权利要求1、2、3、4或5所述的基材，其中，基材为玻璃基材。
7.如权利要求6所述的基材，其中，玻璃基材为蓝宝石玻璃基材、碱石灰玻璃基材、碱铝硅酸盐玻璃基材、硼硅酸玻璃基材、无碱玻璃基材、晶质玻璃基材或石英玻璃基材。
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